JP2003251101A - 晶析装置 - Google Patents

晶析装置

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JP2003251101A
JP2003251101A JP2002058556A JP2002058556A JP2003251101A JP 2003251101 A JP2003251101 A JP 2003251101A JP 2002058556 A JP2002058556 A JP 2002058556A JP 2002058556 A JP2002058556 A JP 2002058556A JP 2003251101 A JP2003251101 A JP 2003251101A
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健司 清水
Kaoru Ogawa
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Satake Chemical Equipment Mfg Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 結晶軸方向の一致する結晶が容易に得られる
晶析装置を提供する。 【解決手段】 蒸発部1からの導入管3を晶析部2の容
器2aの中心部の下方部へ導入連通すると共に、該容器
2aの側壁から前記蒸発部1へリターン管4により連結
し、該リターン管4の中間に原料液の供給管5を連通接
続し、前記容器2aの側壁の外方に電磁石からなる磁力
発生手段6を設け、原料液は、前記供給管5とリターン
管4を経て前記蒸発部1に流入して蒸発されながら前記
導入管3を経て前記晶析部2に流入し、該晶析部2にお
いて過飽和状態になり、前記磁力発生手段6による磁場
力作用により結晶軸方向が一致するように成長形成した
結晶が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は医療品関係、食品関
係、光学品関係、電気デバイス素材、テープフィラー素
材等の材料関係等において適用される晶析装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】この種の従来の晶析装置として、図6の
如く上方に配設した蒸発部aとその下方に配設した晶析
部bとからなり、該蒸発部aから該晶析部b内へ導入管
cにより連結されていると共に、該晶析部bから該蒸発
部aへリターン管dにより連結されており、かつ該晶析
部bから分級脚eが垂下し、前記リターン管dへ供給管
fより供給された原料液は前記蒸発部aにおいて一部蒸
発し、濃縮された原料液は前記導入管cを経て前記晶析
部bにおいて過飽和状態となって結晶化されていき、残
った原料液はリターン管dを経て前記蒸発部aへ戻ると
共に供給管fより原料液が補充され、晶析部bにおいて
形成された結晶は前記分級脚eより得ることができる装
置が知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】この従来の晶析装置に
よれば、晶析部bにおいて単に過飽和状態の原料液から
結晶を成長形成させているので、得られた成長結晶の配
向は図7の如く種々にわたり、薬理効果の高い均一な薬
品等が得られない問題点があった。
【0004】本発明はこのような問題点を解消し配向性
即ち結晶軸方向が一致した結晶が得られる晶析装置を提
供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】この目的を達成すべく本
発明は晶析部に磁力発生手段を設けたことを特徴とす
る。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明の第1の実施の形態を図1
により説明する。
【0007】1は蒸発部、2は晶析部を示し、該蒸発部
1は容器にヒータ等の加熱手段を具備して形成され、該
蒸発部1からその下方に位置する前記晶析部2の容器2
a内の中心部の下方部に垂下する導入管3を設けて該導
入管3により前記蒸発部1と前記晶析部2との間を連結
した。
【0008】又、前記晶析部2の容器2aの側壁の上方
部から前記蒸発部1に至るリターン管4を連通連結し、
該リターン管4の途中に原料液の供給管5を連通接続し
た。
【0009】6は磁力発生手段を示し、該磁力発生手段
6は円筒状の電磁石からなり、前記晶析部2の容器2a
の側壁の外方にこれを囲繞するように設けられている。
【0010】7は結晶を流下させる管状の分級脚を示
し、該分級脚7は該晶析部2の容器2aの底面から垂下
するように設けられている。
【0011】次に前記第1の実施の形態の作用を説明す
る。
【0012】供給管5から原料液を供給すると、該原料
液は、リターン管4を経て蒸発部1に至り、該蒸発部1
において一部が蒸発して濃縮される。
【0013】そして濃縮された原料液は導入管3より晶
析部2の容器2aの中心部の下方部に流出する。
【0014】該容器2a内において、濃縮された原料液
は周囲の溶液によって冷却され過飽和状態となって徐々
に上方へ流動し、この上方への流動中に晶析化しながら
結晶が成長形成する。このときに、容器2aが外方の電
磁石6により発生する該容器2a内の磁場力作用により
結晶は図2の如く結晶軸方向が一致して成長形成する。
即ち磁場力による磁化率が最小となる磁場方向に結晶は
その結晶軸方向が平行となって成長する。
【0015】このように結晶化された後の残りの原料液
はリターン管4により帰還されて蒸発部1に戻される。
このとき該リターン管4へ供給管5より原料液が補充さ
れ、又、容器2a内で形成された結晶軸方向が一致した
結晶は分級脚7より外部へ取り出される。
【0016】ここで、発明者はL−アラニンの液を晶析
部の容器内に入れて過飽和の状態にし、電磁石による磁
場の強さを種々変更して配向率Rを求めた結果が図3の
グラフである。
【0017】同グラフにおいて横軸を磁場の強さテラス
(T)とし、縦軸を配向率(R)とすると、配向率Rは となり、それぞれの結晶の配向即ち結晶軸方向の角度差
θが3°より小である析出結晶の測定全析出結晶に対す
る割合は、磁場の強さが1T以上になると約100%と
なることが判明した。
【0018】尚、このグラフの曲線は他の原料液につい
ても同様の傾向がみられた。又、この実施の形態では、
磁力発生手段6を容器2aの外側に設けたが、該磁力発
生手段6を該容器2aの内側に設けてもよい。
【0019】図4は本発明の第2の実施の形態を示し、
この実施の形態においては、蒸発部1と晶析部2とを共
通の容器8とすると共に該晶析部2の個所の容器8bが
前記蒸発部1の個所の容器8aより大径に形成して該蒸
発部1の個所の容器8aの側壁の下方部が前記晶析部2
の個所の容器8b内の途中まで下方に延長して仕切壁9
に形成し、該仕切壁9によりその内方の結晶形成部2a
と外方の微小結晶除去部2bとに仕切り、該仕切壁9内
の中央部にドラフトチューブ10を設けた。又、リター
ン管4aは前記容器8bの側壁の下方部より該容器8b
の底面のドラフトチューブ10の下方位置に連結すると
共に該リターン管4aの途中に原料液の供給管5を連通
接続した。
【0020】かくて、供給管5からの原料液はリターン
管4aからの戻り液と共に加熱されて晶析部2の容器8
b内へ、その底面から流入し、ドラフトチューブ10内
を上昇してから該ドラフトチューブ10の外側を流下
し、その流下した原料液の一部が該ドラフトチューブ1
0内を上昇すると共に残りの原料液は仕切壁9の外方の
微小結晶除去部2bを上昇してリターン管4aに至り、
該リターン管4aの途中で供給管5より原料液が補充さ
れて前記容器8b内へ流入する。
【0021】容器8内における原料液の前述の流動中、
蒸発部1の容器8a内において原料液の液面が蒸発して
該原料液が過飽和状態となって結晶化され、この結晶の
結晶化過程に電磁石6の磁場力作用によって結晶軸方向
が一致してくる。
【0022】そしてこの第2の実施の形態においては前
記ドラフトチューブ10によりその内外で原料液の流れ
が整流分化されて磁場力の作用を受けて晶析化されるの
で、効率よく結晶軸方向が一致した結晶が得られる。
尚、本実施の形態の図4では円筒状の磁力発生手段6を
容器8bの外側に設けたが、これは容器8bの内側に設
けるようにしてもよい。
【0023】図5は本発明の第3の実施の形態を示し、
この実施の形態においては磁力発生手段6が容器8内の
仕切壁9に設けられ、第2の実施の形態と比べて磁場の
強さが効率的に大となる。ここで前記磁力発生手段6
は、前記仕切壁9の内側に設けても又は外側に設けるよ
うにしてもよい。
【0024】尚、磁力発生手段6として、電磁石以外に
永久磁石或いは超電導磁石を用いてもよい。又、これら
磁力発生手段6にはコーティングを施して液封に形成す
るとよい。
【0025】又前記実施の形態では、本発明を蒸発式晶
析装置に適用した例を示したが、本発明を冷却式晶析装
置等の他の方式の晶析装置に適用してもよい。
【0026】
【発明の効果】このように本発明によると、晶析部に磁
力発生手段を設けたので、結晶軸方向が一致した結晶が
得られ、かくて薬理効果の向上した医療材料素材や光透
過性や光信号伝達などの特性が向上した光学的材料素材
等がろ過性もよく容易に得られる効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態の説明図である。
【図2】本発明の結晶の成長形成状態を示す説明図であ
る。
【図3】磁場の強さと結晶の配向率の関係を示すグラフ
である。
【図4】本発明の第2の実施の形態の説明図である。
【図5】本発明の第3の実施の形態の説明図である。
【図6】従来の晶析装置の説明図である。
【図7】従来の晶析装置による結晶の成長形成状態を示
す説明図である。
【符号の説明】
1 蒸発部 2 晶析部 2a 容器 6 磁力発生手段 9 仕切壁 10 ドラフトチューブ
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B01D 9/02 605 B01D 9/02 605 609 609B 611 611Z 621 621 (72)発明者 小川 薫 岩手県盛岡市高松四丁目17−19−102

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 晶析部に磁力発生手段を設けた晶析装
    置。
  2. 【請求項2】 蒸発部と該蒸発部に連通する晶析部とか
    らなる晶析装置の該晶析部に磁力発生手段を設けた晶析
    装置。
  3. 【請求項3】 前記晶析部の容器の壁面に前記磁力発生
    手段を設けた請求項1又は請求項2に記載の晶析装置。
  4. 【請求項4】 前記晶析部の容器内に円筒状の仕切壁を
    介して中央部の結晶形成部と周辺部の微小結晶除去部を
    形成し、前記仕切壁に前記磁力発生手段を設けた請求項
    2に記載の晶析装置。
  5. 【請求項5】 前記仕切壁内に略円筒形状のドラフトチ
    ューブを設けた請求項3又は請求項4に記載の晶析装
    置。
  6. 【請求項6】 前記磁力発生手段は電磁石又は永久磁石
    からなる請求項1乃至請求項5のいずれか1に記載の晶
    析装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998037938A1 (fr) * 1997-02-27 1998-09-03 Ajinomoto Co., Inc. Appareil et procede de cristallisation
JP2000516527A (ja) * 1996-08-13 2000-12-12 リーラ,ミシェル 理化学反応に対し触媒として作用する磁界を発生するための磁界発生装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000516527A (ja) * 1996-08-13 2000-12-12 リーラ,ミシェル 理化学反応に対し触媒として作用する磁界を発生するための磁界発生装置
WO1998037938A1 (fr) * 1997-02-27 1998-09-03 Ajinomoto Co., Inc. Appareil et procede de cristallisation

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
清水健司: "機能性結晶材料の取り組みについて", 化学工学会第66年会(2001)研究発表講演要旨集, JPN7008004505, 2 March 2001 (2001-03-02), JP, pages 106 - 107, ISSN: 0001053347 *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105727584A (zh) * 2016-03-16 2016-07-06 武汉艾力拓科技有限公司 一种结晶干扰仪

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