JP2003238454A - 重合前のスチレンモノマー供給原料の精製法 - Google Patents

重合前のスチレンモノマー供給原料の精製法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 スチレンモノマー供給原料中のフェニルアセ
チレンの効率的な除去。 【解決手段】 スチレンモノマー供給物流中のフェニル
アセチレン量を減少させる方法が開示され、その方法は
フェニルアセチレン還元反応器の直ぐ上流でスチレンモ
ノマー供給物流中に注入された、ヒドロキシルアミンの
ような通常のスチレン重合禁止剤添加物を使用する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する分野】本発明はモノビニル芳香族化合物
の精製および重合の分野に関し、より具体的にはスチレ
ンのポリスチレンへの重合の前に粗スチレン供給原料中
のフェニルアセチレン汚染物の還元方法を開示する。
【０００２】
【従来の技術】
【０００３】
【特許文献１】 米国特許第５,１５６,８１６号
【０００４】
【特許文献２】 米国特許第５,２８２,９５７号
【０００５】
【特許文献３】 米国特許第５,３９６,００４号
【０００６】
【特許文献４】 米国特許第５,４２６,２５７号
【０００７】
【特許文献５】 米国特許第６,０２４,９０４号
【０００８】
【特許文献６】 欧州特許第０ ５９４３４１ Ａ１
号
【０００９】
【特許文献７】 欧州特許第０ ２４０２９７ Ａ１
号
【００１０】
【特許文献８】 米国特許第５,２２１,４９８号
【００１１】
【特許文献９】 米国特許第５,２２１,４６１号
【００１２】
【特許文献１０】 米国特許第４,９２９,７７８号
【００１３】
【特許文献１１】 米国特許第５,２２１,７６４号
【００１４】
【特許文献１２】 欧州特許出願第５９４４３１号
【００１５】
【特許文献１３】 欧州特許出願第８７３０２７６５号
【００１６】
【特許文献１４】 カナダ特許第２０６３２９３号 今日製造されるすべての熱可塑性樹脂のなかで、もっと
も用途の広い、もっとも広範に利用される材料の群は恐
らくポリスチレン、重合アルファ−メチルスチレン、お
よび環−置換スチレンのポリマーのような重合モノビニ
ル芳香族化合物である。
【００１７】これらの化合物（ひとまとめにして、しば
しば「スチレン」もしくは「ポリスチレン」と呼称され
る）のもっとも一般的な用途の幾つかは食品および飲料
の容器、食品包装材並びに幼児の玩具の製造に対するも
のである。ポリスチレンのこれらの使用に伴なう一つの
欠点はポリマー中の残留モノマーおよび他の汚染物であ
り、それらは異味、臭い、褪色およびポリマーの品質の
他の不純化もしくは劣化の原因になることがある。
【００１８】ポリスチレンにおけるこれらの望ましくな
い特性を伴なう、特に不快な汚染物は未反応のビニル芳
香族モノマー、通常スチレンモノマーである。未反応モ
ノマーの原因の一つは重合反応器システム中に侵入する
スチレン供給原料中のフェニルアセチレンの存在に直接
関連する。
【００１９】モノビニル芳香族ポリマー化合物の製造に
おいて、そしてより具体的にはポリスチレン（ＰＳ）の
製造において、ベンゼンがエチレンと反応してエチルベ
ンゼン（ＥＢ）を生成する。次に、この分子化合物がＥ
Ｂ脱水素、もしくは「デヒドロ」ユニット中で脱水素し
て、粗スチレン生成物を生成する。次に、粗スチレン生
成物を精製して、スチレンモノマー生成物を製造する。
次にスチレンモノマーを通常、重合開始剤もしくは触媒
の存在下で重合させて、最終的ポリスチレン原料を生成
させる。
【００２０】不幸なことには、ＥＢが１段階向うまで脱
水素されると、ＥＢデヒドロユニットの望ましくない副
産物の一つのフェニルアセチレンが生成する。その結
果、デヒドロユニットからの生成物流はスチレン、ＥＢ
および痕跡のフェニルアセチレンを含有する。ＥＢは通
常の蒸留のような慣用の方法により容易に除去されて、
スチレンモノマーおよびフェニルアセチレンが残る。フ
ェニルアセチレンの除去は蒸留のような簡単なもしくは
慣用の方法により達成することができず、これまで困難
な、非常に経費のかかる方法であった。
【００２１】スチレンモノマー中のフェニルアセチレン
の存在は利用された重合法がアニオン重合又はフリーラ
ジカル重合であるかにかかわらず、望ましくない結果を
有する。アニオン重合時には、僅かに酸性のフェニルア
セチレンが化学量論的量の、ブチルリチウムのような触
媒を消費し、ここで１分子のブチルリチウムがフェニル
アセチレン１分子により重合工程から除去される。触媒
のこのロスは経費を上昇させ、触媒濃度の制御を困難に
させる。これが順次、ポリスチレンの分子量を制御困難
にさせ、低分子量ポリマーの濃度増加をもたらし、ポリ
スチレン中に未反応スチレンを残留させることさえあ
る。
【００２２】フリーラジカル重合時には、フェニルアセ
チレンの存在はそれが弱い連鎖移動剤であるので、鎖長
および重合率に悪影響を有することがある。その結果、
膨脹ポリスチレン（ＥＰＳ）もしくは「発泡」ポリスチ
レンを製造するために使用されるポリスチレンビーズの
製造において、有意な量の残留スチレンがビーズ中に残
留する。スチレンはポリマー中にごく僅かな量で存在す
る時ですら、望ましくない味、色および臭いを生成す
る。
【００２３】従って、スチレンモノマー中のフェニルア
セチレンの存在は価格、重合工程の制御および生成する
ポリスチレンの純度に悪影響を有する。ポリスチレン中
のフェニルアセチレンの存在はまた、ポリマー主鎖にオ
レフィン結合をもたらし、それは架橋を増加し、ポリマ
ーのより早急な酸化を誘起させることがあり、それら双
方ともポリマーを著しく劣化させる。
【００２４】スチレンのフリーラジカル重合において
は、重合工程中にスチレン濃度が減少するに従って、フ
ェニルアセチレンの相対的濃度が当然上昇する。フェニ
ルアセチレンは重合禁止剤として働くので、重合工程は
悪影響を受ける。
【００２５】スチレンモノマー流中のフェニルアセチレ
ン濃度を減少するための触媒による試みは、フェニルア
セチレンをスチレンに還元するために、モノマー中に高
濃度の水素ガスの注入を伴なった。化学量論的に過剰な
フェニルアセチレンが存在する流れ中に添加されたあら
ゆる水素は有意な量のスチレンをエチルベンゼンに転化
させ、スチレン濃度および転化率を低下させる。フェニ
ルアセチレンの有意な減少はスチレンのＥＢへの転化率
およびそれに従うスチレン生産のロスの犠牲においての
み達成された。
【００２６】フェニルアセチレン還元（ＰＡＲ）のため
の水素ガスの使用に関連した一つの特許は１９９２年、
１０月２０日にＢｕｔｌｅｒ等に許可された
【特許文献１】であり、それは多段階水素注入を伴なう
触媒床の使用、窒素、二酸化炭素および一酸化炭素のよ
うな希釈剤による水素の希釈、水素および希釈剤組み合
わせ物を供給するためにＥＢ換気ガスを使用すること並
びに複数の触媒床反応器もしくは水素化を達成するため
の複数の反応器を使用すること、に基づいたＰＡＲ法を
教示している。その記載された説明および図面が、引用
することにより本明細書中にそれらの全体が包含される
この特許において、脱水素反応に好ましい触媒はアルミ
ナ担体上のパラジウムであった。
【００２７】
【発明が解決しようとする課題】前記の、包含されたＰ
ＡＲ法による一つの問題はフェニルアセチレンを脱水素
するためにＰＡＲ反応器中に使用されたＰｄ／Ａｌ触媒
が、ＰＡのスチレンへの転化率が許容できない程度に低
下して、触媒を除去して新規の触媒と交換しなければな
らなくなるまで、アルミナ担体からパラジウムを連続的
に喪失するであろうことである。ＰＡのスチレンへの転
化率を増加させ、スチレンを転化することからＰＡを転
化することに触媒の選択性を増加させるための様々な添
加剤を使用する試みはごく最低の成功を見たのみであ
り、パラジウムストリッピングの問題は解決していな
い。
【００２８】
【課題を解決するための手段】本発明は、通常のＰＡＲ
システムに添加した時に、ＰＡ転化率のレベルを増加す
るのみならずまた、触媒を安定化し、アルミナ基材から
のパラジウムのストリッピングを防止する添加剤を提供
することにより先行技術の問題点を解決する。添加剤は
ヒドロキシルアミンから成る禁止剤の群のなかで、スチ
レン重合禁止剤として通常使用されるであろうもの、な
らびにフェニレンジアミンおよびオキシム化合物とヒド
ロキシルアミンとの組み合わせである。
【００２９】本発明は図面の説明と関連して考察される
とより明快に理解することができる。図面には通常のス
チレンの精製および重合工程が開示されている。この工
程はＢｕｔｌｅｒ等に対する、前記の包含された特許に
開示され、完全に記載されたものに基本的に類似してい
る。図中で、エチルベンゼンの脱水素から製造された粗
スチレンが弁Ｖ１で供給され、そこから粗製物貯蔵タン
クＣＳＴ中に流入する。貯蔵タンクから粗スチレンはス
チレンの温度を上昇させるために換気ガス熱交換器ＶＧ
ＨＥをとおってフローラインＦ１を通過し、そこから、
任意の予熱器ＰＨ中に流入する。予熱器から、粗スチレ
ンはフェニルアセチレン還元システムＰＡＲＳ中に流入
し、そこから、包含されたＢｕｔｌｅｒ等の特許中によ
り具体的に記載されたように、水素ガスの存在下でそれ
をパラジウム／アルミナ触媒上を流すことにより粗スチ
レン中のフェニルアセチレンが許容量まで減少する。
【００３０】本工程の通常の適用においては通常、予熱
器ＰＨの後方で、そしてＢＴカラムの直前でスチレン重
合禁止剤ＳＰＩがスチレン供給物に添加されるであろ
う。これは図面でＳＰＩと記載の供給ラインに示されて
いる。添加剤は通常スチレン重合禁止剤として知られて
いるので、ＢＴカラムの前のいかなる地点でもこのよう
な物質を添加することは実際的もしくは正常であるとは
考えられないであろう。例えば、この種の禁止剤は水溶
性であるので、大部分の添加剤は粗スチレンタンクＣＳ
Ｔ中のスチレンモノマーから通常分離される水中に溶解
するであろうため、弁Ｖ１のような早期にシステムにそ
れを添加することは禁止剤物質の浪費となるであろう。
通常のシステムに添加されるスチレン重合禁止剤の通常
の量は約５０〜５００ｐｐｍの範囲内である。
【００３１】しかし、本発明においては、ＰＡＣで表わ
したフェニルアセチレン触媒フローラインを通り、フェ
ニルアセチレン還元反応器の直前のスチレン重合システ
ムに特定のスチレン重合禁止剤を添加することにより、
このようなシステムの化学につきこれまで知られたいか
なる物によっても予期することができない、通常と異
る、有利な結果が得られることが予期されずに発見され
た。実際、スチレン重合システムのいかなる部分におい
てもスチレン重合禁止剤の使用によりフェニルアセチレ
ン還元に関与する結果を得ることはだれも期待しなかっ
たであろう。通常は重合禁止剤と関連しない地点で、フ
ローラインＰＡＣを通りスチレン禁止剤を添加すること
により得られた予期しない結果はフェニルアセチレン転
化率の増加およびＰＡＲ触媒上のパラジウムの安定化で
ある。
【００３２】ＰＡＲＳの直前の供給物流中に挿入するた
めに特に有利な添加剤は４６３６Ｓｏｍｅｒｔｏｎ Ｒ
ｏａｄ，Ｔｒｅｖｏｓｅ，ＰＡ １９０５３に存在する
ＢｅｔｚＤｅａｒｂｏｒｎ社により市販されているヒド
ロキシルアミン禁止剤のＳｔｙｒｅｘ３１０である。こ
の禁止剤はより具体的には、
【特許文献２】、
【特許文献３】、
【特許文献４】および
【特許文献５】、
【特許文献６】および
【特許文献７】に記載されている。禁止剤に関連するそ
の他の特許は
【特許文献８】、
【特許文献９】、
【特許文献１０】、
【特許文献１１】、
【特許文献１２】および
【特許文献１３】並びに
【特許文献１４】である。
【００３３】本発明の一態様において、本禁止剤は約１
００ＰＰＭの量でＰＡＲＳの直前にスチレン供給物流に
添加され、通常の工程より３３％のＰＡ転化率の増加お
よび、添加剤を使用しない通常の工程に伴なうロスの２
５％未満への、触媒からのパラジウムストリッピングの
減少をもたらした。以下の実施例は通常と異る方法でス
チレン流中に注入された前記の添加剤を使用することに
より伴なった利点を示す。
【００３４】
【実施例】以下のパラメーターを使用して、実験室規模
の反応器システム中で実験を実施した。 モード 逆流(up flow) 圧力 １２５ＰＳＩ 触媒 ０．３重量％Ａｌ上Ｐｄ 触媒容量 ２０ｍｌ、全押し出し物 反応器 １”ＯＤ、９／１６”ＩＤ、１／４”サーモウェル 水素速度 １６／１モル水素／ＰＡ１３ｓｃｃｍ 新規供給物 ６０：４０ Ｓｔｙｒｅｎｅ：ＥＢ 新規供給物速度 １８ｍｌ／分 供給物組成 全反応器供給物中２００ＰＰＭのＰＡ 添加剤 Ｓｔｙｒｅｘ３１０、活性物質として１００ＰＰＭ 温度 華氏１５０度（摂氏６５．５度） 前記の実験室規模の反応器を使用する反応器実験は各添
加剤に対するＰＡＲ触媒からのパラジウムのロスを決定
するために様々な添加剤を用いて実施した。多数の実験
室の実験を実施して、スチレンモノマー中のフェニルア
セチレンの量を減少させ、触媒上パラジウムを安定化さ
せる点における異る禁止剤の有効性を決定した。以下の
表はそれらの実験の結果を示す。添加剤 濃度（活性物質のＰＰＭ）１４日後の％ＰＤロス ＰＡ転化率重量％ なし ０ １９．６ ６０〜６５ ＴＢＣ ７ １８．０ ＴＢＣ ２０ ２１．２ ＴＢＣ １００ ５３．３ ４−Ｏｘｏ− ＴＥＭＰＯ １００ ６８．０ フェニレンジアミン １００ ５４．１ ニトロキシドラジカル １００ ５９．６ ＤＮＢＰ １００ ３４．９ フェニルキノンメチド １００ ４２．７ Ｓｔｙｒｅｘ３１０ １００ ４．８ ７７〜８４ ＴＢＣはｔｅｒｔ−ブチルカテコールであり、ＤＮＢＰ
は２−ｓｅｃ−ブチル−４，６−ジニトトフェノールで
ある 前記の表から好ましい添加剤はスチレン中のフェニルア
セチレンの極めて高い転化を与えるのみならずさらに、
他の添加剤によるよりもはるかに低い、触媒からのパラ
ジウムロスをもたらすことが明白である。ＰＡＲ反応器
の前に添加剤を全く注入しない時には、通常のロスレベ
ルの２５％未満までパラジウムロスを減少さえさせる。
これは明らかに、得ることができるポリスチレン製品の
より高い品質並びにさらに触媒再生および交換の必要性
の減少による節約における著しい利益により、著しく有
意な利点である。前記の表において、パラジウムロスは
ヒドロキシルアミン（Ｓｔｙｒｅｘ３１０）以外のすべ
ての添加剤においては許容できないほど高かったので、
それらに対する転化値は記されていない。しかし、添加
剤を含まないフェニルアセチレンの転化率は僅か６０〜
６５重量パーセントの範囲内にあり、他方ヒドロキシル
アミンの実験の転化率は７７〜８４重量パーセントの範
囲内にあり、本発明を使用しない通常の率に対して、本
発明を使用すると、約３０パーセントのＰＡ転化率の平
均増加であったことを表から認めることができる。
【００３５】本発明の特に好ましい態様は前記の詳細な
説明および図面に説明されたが、それらは制限するより
むしろ、説明する為であると認められるべきであるの
で、その説明は本明細書中に開示された具体的な形もし
くは態様に本発明を限定することを意図されず、本発明
がそのように限定されないことは当業者に明白であろ
う。例えば、本発明中に使用のために特定のフェニレン
ジアミン／ヒドロキシルアミン添加剤が開示されている
が、同様な成分を使用している他の類似の添加剤および
類似体を使用することは容易であろう。従って、本発明
は本発明の精神および範囲からの逸脱を形成しない、説
明の目的のために本明細書中に開示された、本発明の具
体的な実施例のすべての変更および変形を保護すること
が宣言される。
【００３６】
【発明の効果】本発明によれば、粗スチレン原料中に存
在するフェニルアセチレン等の汚染物を効率良く除去す
ることができる。
【００３７】本発明の特徴および態様を以下に示す。 １． スチレン流がその流れ中のフェニルアセチレンを
水素化することにより還元するためにフェニルアセチレ
ン反応器システムを通して処理されるスチレン精製工程
において、前記フェニルアセチレン反応器システムへ入
いる直前にスチレン流に添加剤を添加する段階を含んで
成る改良方法であって、ここで、前記添加剤がスチレン
重合禁止剤化合物を含んで成る方法。 ２． 前記添加剤がヒドロキシルアミンを含んで成る、
第１項の方法。 ３． 前記添加剤がフェニルアミンジアミン／ヒドロキ
シルアミン組み合わせ物を含んで成る、第１項の方法。 ４． 前記添加剤が約１〜約３００ｐｐｍの量で添加さ
れる第１項の方法。 ５． 前記添加剤が約１〜約３００ｐｐｍの量で添加さ
れる第２項の方法。 ６． 前記添加剤がヒドロキシルアミン／オキシム組み
合わせ物を含んで成る第１項の方法。 ７． 前記添加剤が約１〜約３００ｐｐｍの量で添加さ
れる第２項の方法。 ８． フェニルアセチレンをスチレンに還元するために
水素注入を利用する、フェニルアセチレン還元反応器を
有するスチレン製造システム中で使用するためのフェニ
ルアセチレン還元方法であって、前記フェニルアセチレ
ン還元反応器の直ぐ上流で前記製造システム中に有効量
のスチレン重合禁止剤を注入することを含んで成る還元
方法。 ９． 前記と禁止剤がヒドロキシルアミン並びにオキシ
ムおよびフェニレンジアミンとのヒドロキシルアミンの
組み合わせ物から成る群から選択された化合物を含んで
成る、請求項８のフェニルアセチレン還元方法。
【図面の簡単な説明】
【図１】図はパラジウム／アルミナ触媒を有するフェニ
ルアセチレン還元システムを利用し、本明細書に開示さ
れ、請求された本発明の工程を包含している典型的なス
チレン精製および重合工程の概略図から成る。
フロントページの続き Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC11 AD11 AD41 BA25 BA55 BA61 BD20 BD84 BE20 4H039 CA21 CB10

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 スチレン流がその流れ中のフェニルアセ
    チレンを水素化することにより還元するためにフェニル
    アセチレン反応器システムを通して処理されるスチレン
    精製工程において、前記フェニルアセチレン反応器シス
    テムへ入る直前にスチレン流に添加剤を添加する段階を
    含んで成る改良方法であって、ここで、前記添加剤がス
    チレン重合禁止剤化合物を含んで成る方法。
  2. 【請求項２】 フェニルアセチレンをスチレンに還元す
    るために水素注入を利用する、フェニルアセチレン還元
    反応器を有するスチレン製造システム中で使用するため
    のフェニルアセチレン還元方法であって、前記フェニル
    アセチレン還元反応器の直ぐ上流で前記製造システム中
    に有効量のスチレン重合禁止剤を注入することを含んで
    成る還元方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006016350A (ja) * 2004-07-02 2006-01-19 Hakuto Co Ltd スチレン製造における汚れ防止方法
JP2008536993A (ja) * 2005-04-21 2008-09-11 チバ ホールディング インコーポレーテッド 缶中用安定化剤ブレンド

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6689926B2 (en) * 2002-02-12 2004-02-10 Fina Technology, Inc. Process for purifying styrene monomer feedstock prior to polymerization
US8350106B2 (en) * 2008-06-30 2013-01-08 Uop Llc Selective hydrogenation of unsaturated aliphatic hydrocarbons in predominantly aromatic streams

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0853377A (ja) * 1994-06-30 1996-02-27 Betz Internatl Inc 芳香族ビニルモノマー用重合禁止剤組成物およびそれを用いた重合禁止方法
JPH09100245A (ja) * 1995-06-07 1997-04-15 Fina Technol Inc 重合抑制剤方法
JPH10330297A (ja) * 1997-03-20 1998-12-15 Ciba Specialty Chem Holding Inc 重合を抑制する方法

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5535368B2 (ja) * 1972-05-26 1980-09-12
US4466905A (en) 1983-04-11 1984-08-21 Cosden Technology, Inc. Polymerization inhibition process for vinyl aromatic compounds
EP0240297A1 (en) 1986-04-01 1987-10-07 Betz Europe, Inc. Inhibiting polymerization of vinyl aromatic compounds
US4929778A (en) 1989-06-05 1990-05-29 Betz Laboratories, Inc. Methods and compositions for inhibiting styrene polymerization
US5156816A (en) 1990-10-04 1992-10-20 Fina Technology, Inc. System for purifying styrene monomer feedstock using ethylbenzene dehydrogenation waste gas
US5221498A (en) 1991-07-22 1993-06-22 Betz Laboratories, Inc. Methods and compositions for inhibitoring polymerization of vinyl monomers
US5221764A (en) 1992-02-18 1993-06-22 Betz Laboratories, Inc. Methods and compositions for inhibiting acrylic acid polymerization
US5221461A (en) 1992-06-09 1993-06-22 Betz Laboratories, Inc. Antioxidant compositions and methods using catechol compounds and organic acid compounds
US5282957A (en) 1992-08-19 1994-02-01 Betz Laboratories, Inc. Methods for inhibiting polymerization of hydrocarbons utilizing a hydroxyalkylhydroxylamine
CA2099168A1 (en) 1992-10-21 1994-04-22 Betzdearborn Inc. Compositions and methods for inhibiting styrene polymerization
EP0594341B1 (en) 1992-10-21 1997-01-22 Betz Europe, Inc. Compositions and methods for inhibiting vinyl aromatic monomer polymerization
DE69316149T2 (de) 1992-10-23 1998-04-16 Matsushita Refrigeration Co., Higashiosaka, Osaka Kältemittelkompressor und Kältesystem mit diesem Kompressor
US5426257A (en) 1994-06-30 1995-06-20 Betz Laboratories, Inc. Compositions and methods for inhibiting vinyl aromatic monomer polymerization
US6024894A (en) 1998-03-25 2000-02-15 Betzdearborn Inc. Compositions and methods for inhibiting vinyl aromatic monomer polymerization
US6689926B2 (en) * 2002-02-12 2004-02-10 Fina Technology, Inc. Process for purifying styrene monomer feedstock prior to polymerization

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0853377A (ja) * 1994-06-30 1996-02-27 Betz Internatl Inc 芳香族ビニルモノマー用重合禁止剤組成物およびそれを用いた重合禁止方法
JPH09100245A (ja) * 1995-06-07 1997-04-15 Fina Technol Inc 重合抑制剤方法
JPH10330297A (ja) * 1997-03-20 1998-12-15 Ciba Specialty Chem Holding Inc 重合を抑制する方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006016350A (ja) * 2004-07-02 2006-01-19 Hakuto Co Ltd スチレン製造における汚れ防止方法
JP2008536993A (ja) * 2005-04-21 2008-09-11 チバ ホールディング インコーポレーテッド 缶中用安定化剤ブレンド

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