JP2003236970A - Antireflection layer with reinforced surface, antireflection material, and antireflection article - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To simultaneously realize antireflection properties, coating film hardness and strength when an antireflection material or an antireflection article is to be made by forming a low reflective-index layer with a coating method. <P>SOLUTION: The antireflection material 1 with reinforced surface provides the solution against the problem by laminating the antireflaction layer consisting of the low reflective-index layer 3 and a hard-coat thinner layer 4 via a hard- coat layer 5 when required on a transparent base material 2. The material without the transparent base material 2 is, also, applicable to various base article. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、種々の物品の表面
に適用して光の反射を防止することが可能で、しかも表
面が強化された反射防止層に関するものである。本発明
はまた、表面が強化された反射防止層を透明基材と積層
し、他の物品に適用可能とした反射防止材や、表面が強
化された反射防止層を直接、種々の基体に積層した反射
防止体に関するものでもある。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an antireflection layer which can be applied to the surface of various articles to prevent light reflection and has a reinforced surface. The present invention also laminates an antireflection layer having a reinforced surface with a transparent substrate, and an antireflection material which can be applied to other articles or an antireflection layer having a reinforced surface is directly laminated on various substrates. It also relates to the antireflection body.

【０００２】[0002]

【従来の技術】ガラス板、プラスチックフィルム等は、
これらの透明性を利用して、透視の必要な建築物や車両
の窓、各種機器の計器や表示部の表面等に適用されてい
る。特に、データや映像を表示するディスプレイの表面
には、通常はディスプレイの一部を構成する表面材とし
て、それらが多用されている。2. Description of the Related Art Glass plates, plastic films, etc.
Utilizing these transparency, it is applied to the windows of buildings and vehicles that need to be seen through, and the surfaces of measuring instruments and display parts of various devices. In particular, on the surface of a display that displays data or video, they are often used as a surface material that normally constitutes a part of the display.

【０００３】ディスプレイの表面材には、透視性を確保
する意味で、透明性が高いことが求められると共に、室
内の照明や、屋外であれば太陽光等の外光の反射を防止
する反射防止性が求められる。The surface material of the display is required to have high transparency in order to ensure the transparency, and to prevent the reflection of outside light such as indoor lighting or sunlight when it is outdoors. Sex is required.

【０００４】従来、反射防止性を付与すべき表面に、そ
の表面よりも屈折率の低い低屈折率層を積層すること
や、最表面は低屈折率層としながらも、下層に高屈折率
層および低屈折率層を繰返し積層すること、もしくは、
最表面の低屈折率層の下層に高屈折率層、および中屈折
率層を順に積層する等により反射防止膜を形成して、反
射防止性を実現していた。Conventionally, a low refractive index layer having a lower refractive index than that of the surface to be provided with antireflection property is laminated, or a lower refractive index layer is used as the outermost surface, but a high refractive index layer is provided as a lower layer. And repeatedly stacking the low refractive index layer, or
An antireflection film is formed by sequentially laminating a high refractive index layer and a medium refractive index layer under the outermost low refractive index layer to realize antireflection property.

【０００５】上記のような種々の屈折率の層を積層する
方法としては、大別して気相法と液相法とがある。気相
法には、真空蒸着法、スパッタリング法等の物理的気相
法（ＰＶＤ）と、化学的気相法（ＣＶＤ）とがあり、均
一で薄く、品質の優れた層を形成することができるもの
の、使用する装置が比較的特殊である上、真空系を必要
とし、成膜原料の利用効率が低く、連続処理や高速処理
が難しく、また、大面積の処理や複雑な形状のものの処
理に適した大型装置を得にくい不利がある。また、低屈
折率層を形成する場合に、気相法に適した素材として
は、ＭｇＦ₂（ｎ＝１．３８、ｎは屈折率）、ＣａＦ
₂（ｎ＝１．３６）等くらいしかなく、これらよりも屈
折率の低いものを得にくい。Methods for laminating the layers having various refractive indexes as described above are roughly classified into a vapor phase method and a liquid phase method. The vapor phase method includes a physical vapor phase method (PVD) such as a vacuum vapor deposition method and a sputtering method and a chemical vapor phase method (CVD), and it is possible to form a uniform, thin, and high quality layer. Although it is possible, the equipment used is relatively special, a vacuum system is required, the utilization efficiency of film forming raw materials is low, continuous processing and high-speed processing are difficult, and large area processing and processing of complicated shapes are performed. There is a disadvantage that it is difficult to obtain a large device suitable for. When forming the low refractive index layer, MgF ₂ (n = 1.38, n is the refractive index) and CaF are suitable materials for the vapor phase method.
₂ (n = 1.36) and so on, and it is difficult to obtain one having a lower refractive index than these.

【０００６】液相法には、メッキ法、陽極酸化、もしく
はゾル−ゲル法があるが、最も利用範囲の広いのは、コ
ーティング法である。コーティング法を利用すると、上
記の気相法を利用するのにくらべ、得られる層の品質は
若干劣るものの、使用する装置が複雑ではなく、成膜原
料の利用効率が高く、連続処理や高速処理にも向く利点
が得られる。The liquid phase method includes a plating method, an anodic oxidation method, and a sol-gel method, and the coating method is most widely used. When the coating method is used, the quality of the layer obtained is slightly inferior to the case of using the vapor phase method described above, but the equipment used is not complicated, the utilization efficiency of film forming raw materials is high, and continuous processing or high-speed processing is performed. There are advantages for

【０００７】コーティング法で低屈折率層を形成する際
の成膜材料のうち、樹脂成分としては、屈折率の低い、
フッ素原子を分子構造中に含むポリマーを用いることが
ある。しかし、フッ素原子を分子構造中に含むポリマー
においては、フッ素原子の含有量を増加させると屈折率
が低下する反面、得られる塗膜の表面の硬度、および強
度も低下する傾向があり、耐擦傷性が不十分である。あ
るいは、塗膜中に空隙、気泡、もしくは孔の形で屈折率
が１．０である空気を、膜の透明性を損なわない範囲で
存在させることにより、屈折率を下げる手法も提案され
ているが（特開昭５８−１６１９４５、特開昭６０−２
３５７４５、特開平３−２６１０４７、特開平６−３５
０１）、空気の存在が、本質的に塗膜の機械的な強度を
低下させるため、結果として耐擦傷性が不十分となる。Among the film-forming materials for forming the low refractive index layer by the coating method, the resin component has a low refractive index,
A polymer containing a fluorine atom in its molecular structure may be used. However, in a polymer containing a fluorine atom in its molecular structure, when the content of the fluorine atom is increased, the refractive index decreases, but the hardness and strength of the surface of the obtained coating film also tend to decrease, and scratch resistance The sex is insufficient. Alternatively, there has been proposed a method of lowering the refractive index by allowing air having a refractive index of 1.0 in the form of voids, bubbles, or pores in the coating film to exist within a range not impairing the transparency of the film. (JP-A-58-161945, JP-A-60-2)
35745, JP-A-3-261047, JP-A-6-35.
01), the presence of air essentially reduces the mechanical strength of the coating, resulting in poor scratch resistance.

【０００８】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明においては、上
記のようにコーティング法により低屈折率層を形成し、
反射防止材や反射防止体を得ようとする際に、反射防止
性と塗膜の硬度、および強度を同時に実現することを課
題とする。In the present invention, the low refractive index layer is formed by the coating method as described above,
When obtaining an antireflection material or an antireflection body, it is an object to simultaneously realize antireflection properties, coating film hardness, and strength.

【０００９】[0009]

【課題を解決する手段】発明者の検討により、コーティ
ング法により形成された低屈折率層の上に、高硬度でご
く薄い、好ましくは低屈折率層よりも薄い層を積層する
ことにより、表面の硬度が向上しながらも、そのために
反射防止性を損なうことのない反射防止層を得ることが
できた。According to the study of the inventor, the surface of a low refractive index layer formed by a coating method is laminated with a layer of high hardness and very thin, preferably thinner than the low refractive index layer. It was possible to obtain an antireflection layer which, while having improved hardness, does not impair the antireflection property.

【００１０】第１の発明は、反射防止層上に、前記反射
防止層の屈折率よりも高い屈折率のハードコート薄層が
積層されていることを特徴とする表面が強化された反射
防止層に関するものである。第２の発明は、第１の発明
において、前記反射防止層が低屈折率層からなることを
特徴とする表面が強化された反射防止層に関するもので
ある。第３の発明は、第１の発明において、前記反射防
止層が、前記ハードコート薄層側が低屈折率層からなる
複層からなることを特徴とする表面が強化された反射防
止層に関するものである。第４の発明は、第３の発明に
おいて、前記反射防止層が、前記低屈折率層と前記低屈
折率層の下層の高屈折率層との積層構造からなることを
特徴とする表面が強化された反射防止層に関するもので
ある。第５の発明は、第３の発明において、前記反射防
止層が、前記低屈折率層の下層側に高屈折率層、および
中屈折率層が順に積層された積層構造からなることを特
徴とする表面が強化された反射防止層に関するものであ
る。第６の発明は、第１〜第５いずれかの発明におい
て、前記低屈折率層は、屈折率が１．１０〜１．４６で
あり、かつ、厚みが３０〜１５０ｎｍであることを特徴
とする表面が強化された反射防止層に関するものであ
る。第７の発明は、第１〜第６いずれかの発明におい
て、前記ハードコート薄層は、屈折率が１．３０〜１．
６０であって、前記低屈折率層の屈折率よりも０．１４
〜０．２８大きく、かつ厚みが５〜５０ｎｍであって、
前記低屈折率層の厚みの１／２以下であることを特徴と
する表面が強化された反射防止層に関するものである。
第８の発明は、第１〜第７いずれかの発明において、前
記ハードコート薄層が、熱硬化性樹脂を含有する熱硬化
性樹脂組成物および／または電離放射線硬化性樹脂を含
有する電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる硬
化樹脂組成物で構成されていることを特徴とする表面が
強化された反射防止層に関するものである。第９の発明
は、第８の発明において、前記硬化樹脂組成物が、多官
能アクリレートを含有することを特徴とする表面が強化
された反射防止層に関するものである。第１０の発明
は、第９の発明において、前記硬化樹脂組成物が、ポリ
シロキサン成分を含有することを特徴とする表面が強化
された反射防止層に関するものである。第１１の発明
は、第９または第１０の発明において、前記硬化樹脂組
成物が、ウレタンアクリレートを含有することを特徴と
する表面が強化された反射防止層に関するものである。
第１２の発明は、第８〜第１１いずれかの発明におい
て、前記ハードコート薄層が、さらに無機質超微粒子を
含有するものであることを特徴とする表面が強化された
反射防止層に関するものである。第１３の発明は、第１
〜第１２いずれかの発明において、前記反射防止層の前
記ハードコート薄層が積層されているのとは反対側にハ
ードコート層がさらに積層されていることを特徴とする
表面が強化された反射防止層に関するものである。第１
４の発明は、第４または第５の発明において、前記反射
防止層を構成する最下層がハードコート層を兼ねている
ことを特徴とする表面が強化された反射防止層に関する
ものである。第１５の発明は、第１〜第１４いずれかの
発明の表面が強化された反射防止層の前記ハードコート
薄層が積層されているのとは反対側に透明基材が積層さ
れていることを特徴とする表面が強化された反射防止材
に関するものである。第１６の発明は、第１〜第１４い
ずれかの発明の表面が強化された反射防止層の前記ハー
ドコート薄層が積層されているのとは反対側に基体が積
層されていることを特徴とする表面が強化された反射防
止体に関するものである。A first invention is characterized in that a hard coat thin layer having a refractive index higher than that of the antireflection layer is laminated on the antireflection layer. It is about. A second aspect of the present invention relates to the surface-reinforced antireflection layer according to the first aspect, wherein the antireflection layer is a low refractive index layer. A third aspect of the present invention relates to the surface-enhanced antireflection layer as defined in the first aspect, wherein the antireflection layer is a multilayer having a low refractive index layer on the hard coat thin layer side. is there. In a fourth aspect based on the third aspect, the antireflection layer has a laminated structure of the low refractive index layer and a high refractive index layer below the low refractive index layer, and the surface is reinforced. The present invention relates to a coated antireflection layer. A fifth invention is characterized in that, in the third invention, the antireflection layer has a laminated structure in which a high refractive index layer and a medium refractive index layer are sequentially laminated on a lower layer side of the low refractive index layer. The present invention relates to an antireflection layer having a reinforced surface. A sixth invention is characterized in that, in any one of the first to fifth inventions, the low refractive index layer has a refractive index of 1.10 to 1.46 and a thickness of 30 to 150 nm. The present invention relates to an antireflection layer having a reinforced surface. In a seventh aspect based on any one of the first to sixth aspects, the hard coat thin layer has a refractive index of 1.30 to 1.
60, which is 0.14 more than the refractive index of the low refractive index layer.
~ 0.28 larger and 5-50 nm thick,
The present invention relates to an antireflection layer having a reinforced surface, which is ½ or less of the thickness of the low refractive index layer.
An eighth invention is the ionizing radiation according to any one of the first to seventh inventions, wherein the hard coat thin layer contains a thermosetting resin composition containing a thermosetting resin and / or an ionizing radiation curable resin. The present invention relates to an antireflection layer having a reinforced surface, which is composed of a cured resin composition composed of a cured product of a curable resin composition. A ninth aspect of the present invention relates to the surface-reinforced antireflection layer according to the eighth aspect, wherein the cured resin composition contains a polyfunctional acrylate. A tenth aspect of the present invention relates to the surface-reinforced antireflection layer according to the ninth aspect, wherein the cured resin composition contains a polysiloxane component. An eleventh invention relates to the surface-reinforced antireflection layer in the ninth or tenth invention, wherein the cured resin composition contains urethane acrylate.
A twelfth invention relates to the antireflection layer having a reinforced surface according to any one of the eighth to eleventh inventions, characterized in that the thin hard coat layer further contains ultrafine inorganic particles. is there. The thirteenth invention is the first
In any one of the twelfth invention, a surface-enhanced reflection characterized in that a hard coat layer is further laminated on the side opposite to the hard coat thin layer of the antireflection layer. It relates to the prevention layer. First
The invention of No. 4 relates to the antireflection layer having a strengthened surface, characterized in that, in the fourth or fifth invention, the lowermost layer constituting the antireflection layer also serves as a hard coat layer. A fifteenth invention is that a transparent base material is laminated on the opposite side of the surface-reinforced antireflection layer according to any one of the first to fourteenth inventions from the side where the hard coat thin layer is laminated. The present invention relates to an antireflection material having a reinforced surface. A sixteenth invention is characterized in that a substrate is laminated on the opposite side of the surface-enhanced antireflection layer of any one of the first to fourteenth inventions from the laminated hard coat thin layer. The present invention relates to an antireflection body having a reinforced surface.

【００１１】[0011]

【発明の実施の形態】図１は、本発明の反射防止層を適
用した反射防止材の代表的なものの積層構造を示す断面
図である。図１（ａ）に示すように、反射防止材１は、
例えば、透明基材２上に、低屈折率層３、およびハード
コート薄層４が順次積層された積層構造を有するもの
で、この場合、低屈折率層３、およびハードコート薄層
４とにより、表面が強化された反射防止層が構成されて
いる。なお、以降も含め、「上」とは観察側を指し、
「下」とは、観察側とは反対側を指すものとする。1 is a sectional view showing a laminated structure of a typical antireflection material to which an antireflection layer of the present invention is applied. As shown in FIG. 1A, the antireflection material 1 is
For example, it has a laminated structure in which the low refractive index layer 3 and the hard coat thin layer 4 are sequentially laminated on the transparent base material 2. In this case, the low refractive index layer 3 and the hard coat thin layer 4 are , An antireflection layer having a reinforced surface. In addition, including the following, "upper" refers to the observation side,
"Down" shall mean the side opposite to the viewing side.

【００１２】あるいは、図１（ｂ）に示すように、本発
明の反射防止材１は、透明基材２にハードコート層５が
積層されており、ハードコート層５上に、表面が強化さ
れた反射防止層が積層された、即ち、低屈折率層３、お
よびハードコート薄層４が順次積層された積層構造を有
するものであってもよい。Alternatively, as shown in FIG. 1B, in the antireflection material 1 of the present invention, a hard coat layer 5 is laminated on a transparent substrate 2, and the surface of the hard coat layer 5 is reinforced. The antireflection layer may be laminated, that is, the low refractive index layer 3 and the hard coat thin layer 4 may be sequentially laminated.

【００１３】反射防止性を発揮させるには、対象となる
表面よりも屈折率の低い層が積層されることが必要であ
り、図１（ａ）に示す積層構造においては、より詳しく
は、透明基材２の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈
折率層３が積層されたものである。ただ、透明基材２を
基準に見れば、低屈折率層３が反射防止層と見なせるの
で、以降も含め、原則として、透明基材２および最上層
のハードコート薄層４を除いた部分を反射防止層ととら
える。In order to exert the antireflection property, it is necessary to laminate a layer having a refractive index lower than that of the target surface. More specifically, in the laminated structure shown in FIG. The low refractive index layer 3 having a refractive index lower than that of the base material 2 is laminated. However, when the transparent substrate 2 is used as a reference, the low refractive index layer 3 can be regarded as an antireflection layer. Therefore, including the following, as a general rule, the portion excluding the transparent substrate 2 and the uppermost hard coat thin layer 4 is excluded. Considered as an antireflection layer.

【００１４】図２は、そのような意味での反射防止層６
のバリエーションを示す図である。いずれも、図の下側
には、図１（ａ）における透明基材２、もしくは図１
（ｂ）における透明基材２およびハードコート層５を伴
ない得るものであり、図の上側にはハードコート薄層４
を伴ない得るものである。FIG. 2 shows the antireflection layer 6 in that sense.
It is a figure which shows the variation of. In either case, the transparent base material 2 in FIG.
It may be accompanied by the transparent substrate 2 and the hard coat layer 5 in (b), and the hard coat thin layer 4 is shown on the upper side of the figure.
Can be accompanied by.

【００１５】図２（ａ）に示す反射防止層６は、低屈折
率層Ｌのみからなるものであり、これは、図１（ａ）に
示すものと同じである。The antireflection layer 6 shown in FIG. 2 (a) is composed of only the low refractive index layer L, which is the same as that shown in FIG. 1 (a).

【００１６】図２（ｂ）に示す反射防止層６は、下側か
ら高屈折率層Ｈ、および低屈折率層Ｌが積層した複層の
積層構造からなる。図示はしないが、下側から、高屈折
率層Ｈ、および低屈折率層Ｌがさらに繰返して、高屈折
率層Ｈ、低屈折率層Ｌ、高屈折率層Ｈ、低屈折率層Ｌ、
…のように繰返してもよい。ただし、最上層は必ず低屈
折率層Ｌとする。なお、最下層の高屈折率層Ｈは、ハー
ドコート層５と兼ねるものであってもよい。The antireflection layer 6 shown in FIG. 2 (b) has a multilayer structure in which a high refractive index layer H and a low refractive index layer L are laminated from the bottom. Although not shown, the high refractive index layer H and the low refractive index layer L are further repeated from the lower side, and the high refractive index layer H, the low refractive index layer L, the high refractive index layer H, the low refractive index layer L,
You may repeat like .... However, the uppermost layer is always the low refractive index layer L. The lowermost high refractive index layer H may also serve as the hard coat layer 5.

【００１７】図２（ｃ）に示す反射防止層６は、下側か
ら中屈折率層Ｍ、高屈折率層Ｈ、および低屈折率層Ｌが
積層した複層の積層構造からなっていてもよい。図示は
しないが、下側から、中屈折率層Ｍ、高屈折率層Ｈ、低
屈折率層Ｌ、中屈折率層Ｍ、高屈折率層Ｈ、低屈折率層
Ｌ、…のように繰返してもよい。ただし、ここでも、最
上層は必ず低屈折率層Ｌとする。また、最下層の中屈折
率層Ｍは、ハードコート層５と兼ねるものであってもよ
い。The antireflection layer 6 shown in FIG. 2C may have a multi-layered structure in which a middle refractive index layer M, a high refractive index layer H, and a low refractive index layer L are stacked from the bottom. Good. Although not shown, from the bottom, the medium refractive index layer M, the high refractive index layer H, the low refractive index layer L, the medium refractive index layer M, the high refractive index layer H, the low refractive index layer L, ... May be. However, again, the uppermost layer is always the low refractive index layer L. The lowermost middle refractive index layer M may also serve as the hard coat layer 5.

【００１８】従って、本発明の反射防止材１は、透明基
材２上に、ハードコート層５を介して、もしくは介さず
に、複層の積層構造であり得る反射防止層６、およびハ
ードコート薄層４が順に積層されたものであり、反射防
止層６は、ハードコート薄層４と接する側の表面が必ず
低屈折率層３（もしくはＬ）であるものである。従っ
て、図１（ａ）に示す積層構造のものが、最も簡素なも
のである。以降に、まず、図１（ａ）に示す積層構造の
反射防止材１について説明し、順次、その他の構造につ
いて説明する。Therefore, the antireflection material 1 of the present invention has the antireflection layer 6 and the hard coat, which may have a multilayer structure on the transparent substrate 2 with or without the hard coat layer 5 interposed therebetween. The thin layers 4 are laminated in this order, and the antireflection layer 6 is such that the surface on the side in contact with the hard coat thin layer 4 is always the low refractive index layer 3 (or L). Therefore, the laminated structure shown in FIG. 1A is the simplest. Hereinafter, first, the antireflection member 1 having the laminated structure shown in FIG. 1A will be described, and then the other structures will be sequentially described.

【００１９】透明基材２の素材としては、透明樹脂フィ
ルムもしくは透明樹脂シート、透明樹脂板（例；アクリ
ル樹脂板）や透明ガラス板があり得るが、工業的には、
連続加工が容易でフレキシブルな透明樹脂フィルムを使
用することが好ましい。透明基材２は、用途によっては
有色透明なものでもあり得るので、ここでは、透明と
は、無色透明および有色透明の両方を含むものとする。The material of the transparent substrate 2 may be a transparent resin film or a transparent resin sheet, a transparent resin plate (eg acrylic resin plate) or a transparent glass plate, but industrially,
It is preferable to use a flexible transparent resin film that can be easily processed continuously. Since the transparent substrate 2 may be colored and transparent depending on the application, the term “transparent” here includes both colorless and colored transparent.

【００２０】透明樹脂フィルムもしくは透明樹脂シート
としては、トリアセチルセルロース（略してＴＡＣ、セ
ルローストリアセテートとも言う。）、ジアセチルセル
ロース、アセテートブチレートセルロース、ポリエーテ
ルサルホン、アクリル系もしくはメタクリル系、ポリウ
レタン系、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステ
ル、ポリカーボネート、ポリサルホン、ポリエーテル、
トリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、（メタ）ア
クリロニトリル、ポリノルボルネン等の環状ポリオレフ
ィン、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、も
しくはポリシロキサン等の熱可塑性樹脂からなるものが
使用できる。なお、（メタ）の表示は、メタがあるもの
と、無い物の両方を指す意味で用いる。Examples of the transparent resin film or transparent resin sheet include triacetyl cellulose (abbreviated as TAC and cellulose triacetate), diacetyl cellulose, acetate butyrate cellulose, polyether sulfone, acrylic or methacrylic type, polyurethane type, Polyester such as polyethylene terephthalate, polycarbonate, polysulfone, polyether,
Cyclic polyolefins such as trimethylpentene, polyetherketone, (meth) acrylonitrile and polynorbornene, and thermoplastic resins such as polyimide, polyamide, polyamideimide or polysiloxane can be used. It should be noted that the term (meta) is used to mean both an item with meta and an item without meta.

【００２１】上記の熱可塑性樹脂からなるフィルムもし
くはシートは、フレキシブルで使いやすいが、取り扱い
時も含めて曲げる必要が全くなく、硬いものが望まれる
ときは、上記の樹脂の板やガラス板等の板状のものも使
用できる。透明基材２の厚みとしては、フレキシブルな
ものが望まれる場合、８〜１０００μｍ程度が好ましい
が、シート状物、もしくは板状物の場合には、この範囲
を超えてもよい。また、透明基材２は、通常は、平坦な
ものであるが、透明基材２が、種々の物品の表面材を構
成している場合、そのための凹凸形状や立体的形状を有
するものであってもよい。なお、透明基材２は、反射防
止層を積層する側の接着性を向上させる目的で、種々の
処理を施してあってもよい。また、反射防止層を積層す
る側ではない方の側に、種々の物品の表面材とするため
の加工が施してあってもよい。The above-mentioned film or sheet made of a thermoplastic resin is flexible and easy to use, but it does not need to be bent even during handling, and when a hard material is desired, a plate of the above resin or a glass plate is used. Plate-shaped ones can also be used. The thickness of the transparent substrate 2 is preferably about 8 to 1000 μm when a flexible one is desired, but may exceed this range in the case of a sheet-shaped product or a plate-shaped product. Further, the transparent base material 2 is usually flat, but when the transparent base material 2 constitutes a surface material of various articles, it has an uneven shape or a three-dimensional shape for that purpose. May be. The transparent substrate 2 may be subjected to various treatments for the purpose of improving the adhesiveness on the side on which the antireflection layer is laminated. Further, the side other than the side on which the antireflection layer is laminated may be processed to be a surface material for various articles.

【００２２】低屈折率層３は、適宜な塗料用の透明樹脂
と低屈折率の粒子、好ましくは超微粒子を含有する低屈
折率層形成用塗料組成物を用いたコーティングにより形
成された、樹脂組成物からなる。あるいは、低屈折率層
３は、自身の屈折率の低い低屈折率樹脂成分を、無機質
粒子、もしくは無機質超微粒子を伴なわないか、または
伴なって調製された塗料組成物を用いて形成された樹脂
組成物からなる。The low refractive index layer 3 is a resin formed by coating with a suitable transparent resin for paint and a low refractive index layer-forming coating composition containing low refractive index particles, preferably ultrafine particles. It consists of a composition. Alternatively, the low-refractive index layer 3 is formed by using a coating composition prepared with or without a low-refractive-index resin component having a low refractive index of its own, with inorganic particles or ultrafine inorganic particles. And a resin composition.

【００２３】低屈折率の無機質粒子、もしくは無機質超
微粒子としては、例えば、ＬｉＦ、ＭｇＦ₂、３ＮａＦ
・ＡｌＦ₃もしくはＡｌＦ₃（以上、いずれもｎ＝１．
４）、Ｎａ₃ＡｌＦ₆（氷晶石、ｎ＝１．３３）、もしく
はＳｉＯ_x（１．５０≦ｘ≦２．００、ｎ＝１．３５〜
１．４８）等を挙げることができ、これらから選択され
た粒子、もしくは超微粒子を用いて塗料組成物を調整
し、透明基材２上に塗布し、乾燥させる等により固化さ
せて、低屈折率層３とすることができる。低屈折率の粒
子、もしくは超微粒子としては、例えば、フッ素樹脂や
シリコーン樹脂の単独、またはこれらの樹脂を含む樹脂
粒子を挙げることができる。これらは屈折率が１．３０
〜１．４６の範囲であれば、好ましく用いることができ
る。Examples of low-refractive-index inorganic particles or ultrafine inorganic particles include, for example, LiF, MgF ₂ , and 3NaF.
AlF ₃ or AlF ₃ (N = 1.
4), Na ₃ AlF ₆ (cryolite, n = 1.33), or SiO _x (1.50 ≦ x ≦ 2.00, n = 1.35)
1.48) and the like, and a coating composition is prepared using particles or ultrafine particles selected from the above, coated on the transparent substrate 2, and dried to solidify to obtain a low refractive index. The rate layer 3 can be used. Examples of low refractive index particles or ultrafine particles include fluororesin and silicone resin alone, or resin particles containing these resins. These have a refractive index of 1.30
It can be preferably used in the range of ˜1.46.

【００２４】しかしながら、一般的な塗料用の透明樹脂
は、屈折率があまり低くはなく、より好ましくは、フッ
素含有ポリマー、もしくはフッ素含有オリゴマー等を樹
脂成分として調製された塗料組成物を用いて低屈折率層
４を形成することが低屈折率を実現する意味で、好まし
い。However, the transparent resin for general paints does not have a very low refractive index, and it is more preferable to use a paint composition prepared by using a fluorine-containing polymer or a fluorine-containing oligomer as a resin component. Forming the refractive index layer 4 is preferable in terms of realizing a low refractive index.

【００２５】フッ素含有ポリマー、もしくはフッ素含有
オリゴマーは、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含
有モノマーの重合もしくは共重合によって得られるもの
である。エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノ
マーとしては、フルオロエチレン、ビニリデンフルオラ
イド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピ
レンエチレン、パーフルオロブタジエン、もしくはパー
フルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等
のフルオロオレフィン類や、アクリル酸もしくはメタク
リル酸の完全もしくは部分フッ素化されたアルキル、ア
ルケニル、またはアリールエステル（下記「化１」もし
くは「化２」）、さらには、完全もしくは部分フッ素化
ビニルエーテル類、完全もしくは部分フッ素化ビニルエ
ステル類、または完全もしくは部分フッ素化ビニルケト
ン等を挙げることができる。The fluorine-containing polymer or fluorine-containing oligomer is obtained by polymerizing or copolymerizing a fluorine-containing monomer having an ethylenically unsaturated bond. Examples of the fluorine-containing monomer having an ethylenically unsaturated bond include fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene ethylene, perfluorobutadiene, and perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole. Fluoroolefins, fully or partially fluorinated alkyl, alkenyl, or aryl esters of acrylic acid or methacrylic acid (“Chemical formula 1” or “Chemical formula 2” below), and further, fully or partially fluorinated vinyl ethers, complete Alternatively, partially fluorinated vinyl esters, completely or partially fluorinated vinyl ketone and the like can be mentioned.

【００２６】[0026]

【化１】 [Chemical 1]

【００２７】[0027]

【化２】 [Chemical 2]

【００２８】ただし、上式「化１」中、Ｒ¹は、水素原
子、炭素数が１〜３のアルキル基、もしくはハロゲン原
子を表す。Ｒ^fは、完全もしくは部分フッ素化されたア
ルキル基、アルケニル基、ヘテロ環、またはアリール基
を表す。Ｒ²およびＲ³は、それぞれ独立に、水素原子、
アルキル基、アルケニル基、ヘテロ基、アリール基、ま
たは上記Ｒ^fで定義される基を表す。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、お
よびＲ^fは、それぞれフッ素原子以外の置換基を有して
いてもよい。また、Ｒ²、Ｒ³、およびＲ^fに任意の二つ
以上の基が互いに結合して環構造を形成してもよい。However, in the above formula "Chemical formula 1", R ¹ represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or a halogen atom. R ^f represents a fully or partially fluorinated alkyl group, alkenyl group, heterocycle, or aryl group. R ² and R ³ are each independently a hydrogen atom,
It represents an alkyl group, an alkenyl group, a hetero group, an aryl group, or a group defined by the above R ^f . R ¹ , R ² , R ³ , and R ^f may each have a substituent other than a fluorine atom. Further, arbitrary two or more groups may be bonded to R ² , R ³ and R ^f to form a ring structure.

【００２９】また、上式「化２」中、Ａは、完全もしく
は部分フッ素化されたｎ価の有機基を表す。Ｒ⁴は、水
素原子、炭素数１〜３のアルキル基もしくはハロゲン原
子を表す。Ｒ⁴はフッ素原子以外の置換基を有していて
もよい。ｎは２〜８の整数を表す。）In the above formula "Chemical formula 2", A represents a completely or partially fluorinated n-valent organic group. R ⁴ represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, or a halogen atom. R ⁴ may have a substituent other than a fluorine atom. n represents an integer of 2-8. )

【００３０】互いに重合可能な重合性官能基を有するフ
ッ素含有ポリマーとフッ素含有モノマーおよび／または
オリゴマーとを組み合わせると、フッ素含有ポリマーに
より塗工用の塗料組成物の成膜性が向上すると共に、フ
ッ素含有モノマーおよび／またはオリゴマーにより架橋
密度と塗工適性が向上し、両成分のバランスによって、
塗膜の硬度および強度が実現されるので好ましい。特
に、フッ素含有ポリマーとして、数平均分子量が２０，
０００〜１００，０００のものと、フッ素含有モノマー
および／またはオリゴマーとして、数平均分子量が２
０，０００以下のものを組み合わせて用いることによ
り、塗工適性、成膜性、塗膜硬度、および塗膜強度等を
含めた諸物性のバランスが取り易いので、より好まし
い。フッ素ポリマーの屈折率が十分に低い場合は、フッ
素を含有しないモノマーおよび／またはオリゴマーとを
組合せた方が、塗膜の強度をより容易に向上させること
ができるため好ましい。フッ素を含有しないモノマー、
オリゴマーとしては、ハードコート薄層４を構成するた
めの素材として後に挙げるエチレン性不飽和結合を有す
るラジカル重合性のモノマー、オリゴマーを挙げること
ができる。When a fluorine-containing polymer having a polymerizable functional group capable of polymerizing with each other and a fluorine-containing monomer and / or oligomer are combined, the fluorine-containing polymer improves the film-forming property of the coating composition for coating, Crosslink density and coating suitability are improved by the contained monomer and / or oligomer, and the balance of both components makes
It is preferable because the hardness and strength of the coating film are realized. In particular, the fluorine-containing polymer has a number average molecular weight of 20,
000 to 100,000 and a number average molecular weight of 2 as a fluorine-containing monomer and / or oligomer.
It is more preferable to use a combination of 10,000 or less because it is easy to balance various physical properties including coating suitability, film-forming property, coating film hardness, coating film strength and the like. When the refractive index of the fluoropolymer is sufficiently low, it is preferable to combine with a monomer and / or oligomer not containing fluorine because the strength of the coating film can be more easily improved. Fluorine-free monomer,
Examples of the oligomer include radically polymerizable monomers and oligomers having an ethylenically unsaturated bond, which will be mentioned later as a material for forming the hard coat thin layer 4.

【００３１】上記において、フッ素含有モノマーまたは
オリゴマーとしては、上記したようなフッ素含有モノマ
ーから選択された一種もしくは二種以上からなる単独重
合体もしくは共重合体、または、上記したようなフッ素
含有モノマーから選択された一種もしくは二種以上と、
フッ素を含有しないフッ素非含有モノマーの一種もしく
は二種以上との共重合体を用いることができる。In the above, as the fluorine-containing monomer or oligomer, a homopolymer or copolymer composed of one or more selected from the above-mentioned fluorine-containing monomers, or a fluorine-containing monomer as described above is used. With one or more selected types,
A copolymer with one or more fluorine-free monomers that do not contain fluorine can be used.

【００３２】また、重合性官能基を有しないフッ素含有
モノマーも使用することができ、具体的には、ポリテト
ラフルオロエチレン、４−フルオロエチレン−６−フル
オロプロピレン共重合体、４−フルオロエチレン−パー
フルオロアルキルビニルエーテル共重合体、４−フルオ
ロエチレン−エチレン共重合体、ポリビニルフルオライ
ド、ポリビニリデンフルオライド、アクリル酸もしくは
メタクリル酸の完全もしくは部分フッ素化されたアルキ
ル、アルケニル、もしくはアリールエステル（例えば、
前記「化１」もしくは「化２」）の重合体もしくは共重
合体、フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエーテル共
重合体、またはフッ素変性されたエポキシ、ポリウレタ
ン、セルロース系、フェノール、ポリイミド、もしくは
シリコーン等の樹脂を挙げることができる。この他に
も、非晶質透明フッ素樹脂（旭硝子（株）製の商品名；
「サイトップ」等）も使用することができる。低屈折率
層３の機械的強度を向上させるためには、低屈折率層３
と下層との密着性を向上させることが有効であり、その
ためには、低屈折率層形成用塗料組成物を構成する樹脂
成分のいずれかが、水酸基、カルボキシル基、アミノ
基、もしくはアミド基等の極性基を導入されたものであ
ることが好ましい。Fluorine-containing monomers having no polymerizable functional group can also be used. Specifically, polytetrafluoroethylene, 4-fluoroethylene-6-fluoropropylene copolymer, 4-fluoroethylene- Perfluoroalkyl vinyl ether copolymer, 4-fluoroethylene-ethylene copolymer, polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, fully or partially fluorinated alkyl, alkenyl, or aryl ester of acrylic acid or methacrylic acid (for example,
Polymers or copolymers of the above "Chemical formula 1" or "Chemical formula 2", fluoroethylene-hydrocarbon vinyl ether copolymers, or fluorine-modified epoxy, polyurethane, cellulosic, phenol, polyimide, or silicone Resin can be mentioned. In addition, amorphous transparent fluororesin (trade name of Asahi Glass Co., Ltd .;
"Cytop" etc.) can also be used. In order to improve the mechanical strength of the low refractive index layer 3, the low refractive index layer 3
It is effective to improve the adhesion between the lower layer and the lower layer, and for that purpose, any of the resin components constituting the coating composition for forming a low refractive index layer has a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, an amide group, or the like. It is preferable that the polar group of is introduced.

【００３３】上記のフッ素含有ポリマー、もしくはフッ
素含有オリゴマー等を樹脂成分として調製された塗料組
成物を用いて低屈折率層３を形成する際にも、既に述べ
た低屈折率の粒子を用いることができる。より透明性を
確保する意味では、超微粒子を含有させることがより好
ましい。When the low refractive index layer 3 is formed using the coating composition prepared by using the above-mentioned fluorine-containing polymer, fluorine-containing oligomer or the like as a resin component, the particles having the low refractive index described above should be used. You can From the viewpoint of ensuring more transparency, it is more preferable to contain ultrafine particles.

【００３４】ここで、超微粒子とは、一般的に微粒子と
呼ばれている数μｍから数１００μｍの粒子径を有する
ものよりも小さいものである。本発明において用いる超
微粒子の具体的な粒子径は、用途により要求される光学
性能が異なるので、一概には言い難いが、一次粒子径が
１ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であることが好ましい。一次
粒子径が１ｎｍ未満のものを使用しても、塗膜の硬度お
よび強度の向上が見られない。また、一次粒子径が５０
０ｎｍを超えると、塗膜の透明性が損なわれ、用途によ
っては全く使用できないこともある。なお、超微粒子と
しては、樹脂中への均一な分散が可能で、塗膜の硬度お
よび強度を確保できれば、球状、針状、もしくはその他
のいかなる形状のものであってもよい。Here, the ultrafine particles are smaller than those generally called fine particles having a particle diameter of several μm to several 100 μm. The specific particle size of the ultrafine particles used in the present invention is different from the optical performance required depending on the application, so it is difficult to say unconditionally, but the primary particle size is preferably in the range of 1 nm to 500 nm. Even if a primary particle size of less than 1 nm is used, the hardness and strength of the coating film are not improved. The primary particle size is 50
If it exceeds 0 nm, the transparency of the coating film is impaired, and it may not be used at all depending on the application. The ultrafine particles may be spherical, needle-like, or any other shape as long as they can be uniformly dispersed in the resin and the hardness and strength of the coating film can be secured.

【００３５】上記の低屈折率層３は、屈折率としては、
１．１０〜１．４６であることが好ましく、厚みとして
は、３０〜１５０ｎｍであることが好ましい。The low refractive index layer 3 has a refractive index of
The thickness is preferably 1.10 to 1.46, and the thickness is preferably 30 to 150 nm.

【００３６】ハードコート薄層４は、反射防止層６の表
面に積層して、反射防止層の表面の硬度および強度を向
上させるためのものである。ハードコート薄層４は、主
として樹脂成分からなるか、より好ましくは樹脂成分と
無機質超微粒子とからなる。ハードコート薄層４を構成
するための樹脂成分は、要求の度合いによっては、熱可
塑性樹脂でもよいが、硬度および強度を確保する意味
で、熱硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性樹脂であ
ることがより好ましい。ここで、「ハードコート薄層」
とは、塗料組成物のコーティングによって得られ、表面
硬度がＪＩＳ Ｋ５４００で示される鉛筆硬度試験で、
少なくともＨ以上の硬度を示し、厚みのごく薄い、例え
ば数ｎｍ〜数１０ｎｍのものを指す。The hard coat thin layer 4 is laminated on the surface of the antireflection layer 6 to improve the hardness and strength of the surface of the antireflection layer. The hard coat thin layer 4 mainly comprises a resin component, or more preferably comprises a resin component and inorganic ultrafine particles. The resin component for forming the hard coat thin layer 4 may be a thermoplastic resin depending on the degree of demand, but is a thermosetting resin or an ionizing radiation curable resin in the sense of ensuring hardness and strength. Is more preferable. Where "hard coat thin layer"
Is a pencil hardness test obtained by coating a coating composition and having a surface hardness of JIS K5400,
It indicates a hardness of at least H or more and a very thin thickness, for example, a few nm to a few tens nm.

【００３７】熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、
尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グ
アナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン
樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン
−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を
使用することができる。これらの樹脂は、必要に応じ
て、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶
剤、粘度調整剤等を加えて使用する。As the thermosetting resin, phenol resin,
A urea resin, a diallyl phthalate resin, a melamine resin, a guanamine resin, an unsaturated polyester resin, a polyurethane resin, an epoxy resin, an aminoalkyd resin, a melamine-urea co-condensation resin, a silicon resin, a polysiloxane resin and the like can be used. These resins are used by adding a crosslinking agent, a curing agent such as a polymerization initiator, a polymerization accelerator, a solvent, a viscosity modifier, etc., if necessary.

【００３８】電離放射線硬化性樹脂としては、反応エネ
ルギーの点では、光重合、もしくは熱重合のいずれに属
するものであってもよく、また、活性種の点では、ラジ
カル重合、カチオン重合、もしくはアニオン重合のいず
れに属するものであってもよい。エチレン性不飽和結合
を含有する場合には、光ラジカル重合および熱ラジカル
重合が、また、エポキシ基を含有する場合には、熱硬化
および光カチオン重合が可能である。特に、エチレン性
不飽和結合を含有する場合には、可視光、または電離放
射線（紫外線もしくは電子線等）、その他の不可視光の
照射により直接に、もしくは開始剤の作用を受けて間接
に、重合するので、光硬化の場合におけるように、塗布
から硬化に至る取扱いが容易になり、特に好ましい。The ionizing radiation-curable resin may be any one of photopolymerization and thermal polymerization in terms of reaction energy, and radical polymerization, cationic polymerization, or anion in terms of active species. It may belong to any of the polymerizations. When it contains an ethylenically unsaturated bond, photoradical polymerization and thermal radical polymerization are possible, and when it contains an epoxy group, thermosetting and photocationic polymerization are possible. In particular, when it contains an ethylenically unsaturated bond, it is polymerized directly by irradiation with visible light, ionizing radiation (ultraviolet rays or electron beams), other invisible light, or indirectly by the action of an initiator. Therefore, as in the case of photo-curing, handling from application to curing becomes easy, which is particularly preferable.

【００３９】エチレン性不飽和結合を含有するものとし
ては、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリ
レート、ポリメタクリレート、ポリオレフィン、ポリス
チロール、ポリアミド、ポリイミド、ポリ塩化ビニル、
ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、もしく
はポリカーボネートのような重合性官能基を持たない非
反応性ポリマーに、エチレン性不飽和結合を導入した反
応硬化性ポリマーを例示することができる。As those containing an ethylenically unsaturated bond, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyacrylate, polymethacrylate, polyolefin, polystyrene, polyamide, polyimide, polyvinyl chloride,
An example of the reaction-curable polymer is an unreactive polymer having no polymerizable functional group, such as polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, or polycarbonate, into which an ethylenically unsaturated bond is introduced.

【００４０】また、エチレン性不飽和結合を含有するも
のとしては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒ
ドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フ
ェノキシプロピルアクリレート、カルボキシポリカプロ
ラクトン（メタ）アクリレート、アクリル酸、メタクリ
ル酸、もしくはアクリルアミド等の単官能（メタ）アク
リレート、エチレングリコールジアクリレート、もしく
はペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレー
ト等のジアクリレート、トリメチロールプロパントリア
クリレート、もしくはペンタエリスリトールトリアクリ
レート等のトリアクリレート、または、ペンタエリスリ
トールテトラアクリレート等の多官能アクリレート等の
ラジカル重合性モノマー、あるいはこれらの重合性モノ
マーが重合したオリゴマーを例示することができる。特
に架橋密度を向上させる意味で、多官能アクリレートを
用いる事がより好ましい。また、（メタ）アクリロイル
基を導入したポリマーやシリコーン樹脂等のポリマーも
ハードコート薄層４の物性を低下させない範囲で好まし
く使用することができる。Further, those containing an ethylenically unsaturated bond include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate and carboxy. Monofunctional (meth) acrylates such as polycaprolactone (meth) acrylate, acrylic acid, methacrylic acid, or acrylamide, ethylene glycol diacrylate, or diacrylates such as pentaerythritol diacrylate monostearate, trimethylolpropane triacrylate, or penta. Radical polymerizable compounds such as triacrylates such as erythritol triacrylate and polyfunctional acrylates such as pentaerythritol tetraacrylate. Mer, or it can be exemplified oligomers these polymerizable monomers are polymerized. In particular, it is more preferable to use a polyfunctional acrylate in order to improve the crosslink density. Further, a polymer having a (meth) acryloyl group introduced therein and a polymer such as a silicone resin can also be preferably used as long as the physical properties of the hard coat thin layer 4 are not deteriorated.

【００４１】エチレン性不飽和結合を有する、上記のラ
ジカル重合性のオリゴマーもしくはモノマーを使用する
際には、必要に応じ、光ラジカル重合開始剤を配合す
る。光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン
類、ベンゾフェノン類、ケタール類、アントラキノン
類、チオキサントン類、アゾ化合物、下酸化物、２，３
−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、
チウラム化合物、もしくはフルオロアミン化合物等を用
いることができ、上記のラジカル重合性のオリゴマーお
よびモノマー１００に対し、３〜８（質量比）を配合す
るとよい。When the above radical-polymerizable oligomer or monomer having an ethylenically unsaturated bond is used, a photo-radical polymerization initiator is added, if necessary. As the photo-radical polymerization initiator, acetophenones, benzophenones, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, lower oxides, 2,3
-Dialkyldione compounds, disulfide compounds,
A thiuram compound, a fluoroamine compound, or the like can be used, and 3 to 8 (mass ratio) is preferably added to the above radically polymerizable oligomer and monomer 100.

【００４２】光ラジカル重合開始剤の具体例としては、
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン
（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製、商品
名；イルガキュア１８４として入手可能）、２−メチル
−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリ
ノプロパン−１−オン（チバ・スペシャリティ・ケミカ
ルズ（株）製、商品名；イルガキュア９０７として入手
可能）、ベンジルジメチルケトン、１−（４−ドデシル
フェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１
−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプ
ロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）
−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、も
しくはベンゾフェノン等を例示することができ、一種も
しくは二種以上組み合わせて用いることができる。Specific examples of the radical photopolymerization initiator include:
1-Hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., trade name; available as Irgacure 184), 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane- 1-one (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., trade name; available as Irgacure 907), benzyl dimethyl ketone, 1- (4-dodecylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropane-1
-One, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl)
2-Hydroxy-2-methylpropan-1-one, benzophenone and the like can be exemplified, and one kind or a combination of two or more kinds can be used.

【００４３】電離放射線硬化性樹脂組成物および熱硬化
性樹脂組成物には、ポリシロキサン成分、より具体的に
は、次のような幾つかのタイプの有機反応性ケイ素化合
物を併用してもよい。有機反応性ケイ素化合物を併用す
ると、塗膜の硬度および強度が維持されると共に塗膜表
面のすべり性が増して、耐擦傷性が向上し、また、表面
に離型性を与えるので、防汚性が向上する利点がある。
なお、電離放射線硬化性樹脂組成物および熱硬化性樹脂
組成物のいずれにおいても、樹脂成分として、水酸基、
カルボキシル基、アミノ基、もしくはアミド基等の極性
基を導入されたものを用いる方が、有機反応性ケイ素化
合物との間で共有結合を形成し、塗膜の硬度および強度
のさらなる向上が可能となるため、より好ましい。The ionizing radiation curable resin composition and the thermosetting resin composition may be used in combination with a polysiloxane component, more specifically, several types of organic reactive silicon compounds such as the following. . When an organic reactive silicon compound is used in combination, the hardness and strength of the coating film are maintained, the slipperiness of the coating film surface increases, scratch resistance is improved, and the release property is imparted to the surface. There is an advantage that the property is improved.
In any of the ionizing radiation curable resin composition and the thermosetting resin composition, a hydroxyl group as a resin component,
It is possible to further improve the hardness and strength of the coating film by using a product introduced with a polar group such as a carboxyl group, an amino group, or an amide group because it forms a covalent bond with the organic reactive silicon compound. Therefore, it is more preferable.

【００４４】有機ケイ素化合物の１は、一般式Ｒ_mＳｉ
（ＯＲ’）_nで表せるもので、ＲおよびＲ’は炭素数１
〜１０のアルキル基を表し、Ｒの添え字ｍとＯＲ’の添
え字ｎとは、各々が、ｍ＋ｎ＝４の関係を満たす整数で
ある。One of the organosilicon compounds has the general formula R _m Si
(OR ') _n , where R and R'have 1 carbon
Each of the subscript m of R and the subscript n of OR ′ represents an alkyl group of 10 to 10 and is an integer satisfying the relationship of m + n = 4.

【００４５】具体的には、テトラメトキシシラン、テト
ラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラ
ン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブト
キシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ
−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシ
ラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テト
ラペンタ−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−
ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラ
ン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチル
トリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メ
チルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、
ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、
ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、
ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メ
チルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等
が挙げられる。Specifically, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert-butoxysilane. , Tetrapentaethoxysilane, tetrapenta-iso-propoxysilane, tetrapenta-n-propoxysilane, tetrapenta-n-
Butoxysilane, tetrapenta-sec-butoxysilane, tetrapenta-tert-butoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane,
Dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane,
Dimethylmethoxysilane, dimethylpropoxysilane,
Examples thereof include dimethylbutoxysilane, methyldimethoxysilane, methyldiethoxysilane and hexyltrimethoxysilane.

【００４６】電離放射線硬化性樹脂組成物および熱硬化
性樹脂組成物に併用し得る有機ケイ素化合物の２は、シ
ランカップリング剤である。The organosilicon compound 2 which can be used in combination with the ionizing radiation curable resin composition and the thermosetting resin composition is a silane coupling agent.

【００４７】具体的には、γ−（２−アミノエチル）ア
ミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエ
チル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ
−メタクリロキシプロピルメトキシシラン、Ｎ−β−
（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロ
ピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシ
シラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプト
プロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリ
メトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリ
ス（β−メトキシエトキシ）シラン、オクタデシルジメ
チル［３−（トリメトキシシリル）プロピル］アンモニ
ウムクロライド、メチルトリクロロシラン、ジメチルジ
クロロシラン等が挙げられる。Specifically, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane, β-
(3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ
-Methacryloxypropyl methoxysilane, N-β-
(N-Vinylbenzylaminoethyl) -γ-aminopropylmethoxysilane hydrochloride, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, aminosilane, methylmethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ- Examples thereof include chloropropyltrimethoxysilane, hexamethyldisilazane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, octadecyldimethyl [3- (trimethoxysilyl) propyl] ammonium chloride, methyltrichlorosilane and dimethyldichlorosilane.

【００４８】電離放射線硬化性樹脂組成物および熱硬化
性樹脂組成物に併用し得る有機ケイ素化合物の３は、電
離放射線硬化性ケイ素化合物である。具体的には、電離
放射線の照射によって反応し架橋する複数の官能基、例
えば、重合性二重結合基を有する分子量５，０００以下
の有機ケイ素化合物が挙げられ、より具体的には、片末
端ビニル官能性ポリシラン、両末端ビニル官能性ポリシ
ラン、片末端ビニル官能ポリシロキサン、両末端ビニル
官能ポリシロキサン、又はこれらの化合物を反応させた
ビニル官能性ポリシラン、もしくはビニル官能性ポリシ
ロキサン等が挙げられる。より具体的には、次のような
化合物である。The organosilicon compound 3, which can be used in combination with the ionizing radiation curable resin composition and the thermosetting resin composition, is an ionizing radiation curable silicon compound. Specific examples thereof include a plurality of functional groups that react and crosslink upon irradiation with ionizing radiation, for example, an organosilicon compound having a molecular weight of 5,000 or less and having a polymerizable double bond group, and more specifically, one end thereof. Examples thereof include vinyl-functional polysilanes, vinyl-functional polysilanes at both ends, vinyl-functional polysiloxanes at both ends, vinyl-functional polysiloxanes at both ends, or vinyl-functional polysilanes obtained by reacting these compounds, or vinyl-functional polysiloxanes. More specifically, they are the following compounds.

【００４９】[0049]

【化３】 [Chemical 3]

【００５０】電離放射線硬化性樹脂組成物および熱硬化
性樹脂組成物には、上記のような有機反応性ケイ素化合
物以外に、一般式Ａ_nＭＢ_x-nで表される有機金属化合物
を併用してもよい。なお、この一般式において、Ａは加
水分解可能な官能基、もしくは加水分解可能な官能基を
有する炭化水素基、Ｍは金属原子、Ｂは金属原子Ｍに共
有結合もしくはイオン結合した原子団を表す。また、Ｂ
の添え字ｘ−ｎにおけるｘは金属原子Ｍの原子価であ
り、Ａの添え字でもあるｎは２以上ｘ以下の整数を表
す。加水分解可能な官能基Ａとしては、例えば、アルコ
キシ基、塩素原子等のハロゲン、エステル基、もしくは
アミド基を例示することができる。In the ionizing radiation curable resin composition and the thermosetting resin composition, an organometallic compound represented by the general formula A _n MB _xn may be used in combination with the above-mentioned organic reactive silicon compound. Good. In this general formula, A represents a hydrolyzable functional group or a hydrocarbon group having a hydrolyzable functional group, M represents a metal atom, and B represents an atomic group covalently or ionically bonded to the metal atom M. . Also, B
X in the subscript x-n of is the valence of the metal atom M, and n which is also the subscript of A represents an integer of 2 or more and x or less. Examples of the hydrolyzable functional group A include an alkoxy group, a halogen such as chlorine atom, an ester group, or an amide group.

【００５１】本発明においては、上記の一般式で表され
る金属化合物のうち、金属原子に直接結合したアルコキ
シ基を二以上有するアルコキシド、もしくはそのキレー
ト化物を用いることが好ましく、取り扱いやすさおよび
材料コストの点から、チタンアルコキシド、ジルコニウ
ムアルコキシド、もしくはアルミニウムアルコキシド、
またはこれらの対応キレート化物を用いることがより好
ましい。In the present invention, among the metal compounds represented by the above general formula, it is preferable to use an alkoxide having two or more alkoxy groups directly bonded to a metal atom, or a chelate thereof, because it is easy to handle and materials. From the viewpoint of cost, titanium alkoxide, zirconium alkoxide, or aluminum alkoxide,
Alternatively, it is more preferable to use a corresponding chelate thereof.

【００５２】チタンアルコキシドとしては、一般式Ｔｉ
（ＯＲ）₄で表されるもので、Ｒがアルキル基、好まし
くは炭素数が１〜１０のアルキル基であるものである。
具体的には、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチ
タン、テトラ−ｎ−プロポキシチタン、テトラ−ｉｓｏ
−プロポキシチタン、テトラ−ｎ−ブトキシチタン、テ
トラ−ｓｅｃ−ブトキシチタン、もしくはテトラ−ｔｅ
ｒｔ−ブトキシチタン等を挙げることができる。The titanium alkoxide has the general formula Ti
It is represented by (OR) ₄ , and R is an alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
Specifically, tetramethoxy titanium, tetraethoxy titanium, tetra-n-propoxy titanium, tetra-iso.
-Propoxy titanium, tetra-n-butoxy titanium, tetra-sec-butoxy titanium, or tetra-te
Examples thereof include rt-butoxy titanium.

【００５３】ジルコニウムアルコキシドは、一般式Ｚｒ
（ＯＲ）₄で表されるもので、Ｒがアルキル基、好まし
くは炭素数が１〜１０のアルキル基であるものである。
具体的には、テトラメトキシジルコニウム、テトラエト
キシジルコニウム、テトラ−ｎ−プロポキシジルコニウ
ム、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシジルコニウム、テトラ
−ｎ−ブトキシジルコニウム、テトラ−ｓｅｃ−ブトキ
シジルコニウム、もしくはテトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシ
ジルコニウム等を挙げることができる。Zirconium alkoxide has the general formula Zr
It is represented by (OR) ₄ , and R is an alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
Specifically, tetramethoxy zirconium, tetraethoxy zirconium, tetra-n-propoxy zirconium, tetra-iso-propoxy zirconium, tetra-n-butoxy zirconium, tetra-sec-butoxy zirconium, or tetra-tert-butoxy zirconium. Can be mentioned.

【００５４】アルミニウムアルコキシドは、一般式Ａｌ
（ＯＲ）₃で表されるもので、Ｒがアルキル基、好まし
くは炭素数が１〜１０のアルキル基であるものである。
具体的には、トリメトキシアルミニウム、トリエトキシ
アルミニウム、トリ−ｎ−プロポキシアルミニウム、ト
リ−ｉｓｏ−プロポキシアルミニウム、トリ−ｎ−ブト
キシアルミニウム、トリ−ｓｅｃ−ブトキシアルミニウ
ム、もしくはトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルミニウム等
を挙げることができる。Aluminum alkoxide has the general formula Al
It is represented by (OR) ₃ and R is an alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
Specifically, trimethoxyaluminum, triethoxyaluminum, tri-n-propoxyaluminum, tri-iso-propoxyaluminum, tri-n-butoxyaluminum, tri-sec-butoxyaluminum, tri-tert-butoxyaluminum, or the like is used. Can be mentioned.

【００５５】上記のチタンアルコキシド、ジルコニウム
アルコキシド、もしくはアルミニウムアルコキシドの対
応キレート化物を形成するのに好ましいキレート化剤と
しては、ジエタノールアミン、もしくはトリエタノール
アミン等のアルカノールアミン類、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、もしくはジプロピレングリ
コール等のグリコール類、アセチルアセトン、またはア
セト酢酸エチル等であって、分子量が１万以下のものを
例示することができ、これらのキレート化剤を配位させ
る遊離の金属化合物の金属原子１モル当たり０．１モル
〜２モルの割合で用いることが好ましい。キレート剤の
割合が０．１モル未満では安定化の効果が不足し、ま
た、キレート化剤の割合が２モルを超えると、キレート
化物の形成に消費されないキレート化剤が残留し、電離
放射線硬化性樹脂組成物中に配合した際に、有機物の不
純物として存在するため、得られる塗膜の強度や透明性
が低下しやすい。これらのキレート化剤を用いることに
より、水分の混入等に対しても安定で、塗膜の補強効果
にも優れるキレート化物を形成することができる。Preferred chelating agents for forming the corresponding chelate of the above-mentioned titanium alkoxide, zirconium alkoxide, or aluminum alkoxide are alkanolamines such as diethanolamine or triethanolamine, ethylene glycol, diethylene glycol, or dipropylene. Glycols such as glycol, acetylacetone, ethyl acetoacetate and the like, which have a molecular weight of 10,000 or less, can be exemplified, and per mol of metal atom of a free metal compound for coordinating these chelating agents. It is preferably used in a proportion of 0.1 mol to 2 mol. When the ratio of the chelating agent is less than 0.1 mol, the stabilizing effect is insufficient, and when the ratio of the chelating agent exceeds 2 mol, the chelating agent which is not consumed for the formation of the chelate remains and the ionizing radiation cures. Since it exists as an impurity of an organic substance when it is blended in the functional resin composition, the strength and transparency of the obtained coating film are likely to decrease. By using these chelating agents, it is possible to form a chelated product which is stable against the inclusion of water and has an excellent reinforcing effect on the coating film.

【００５６】電離放射線硬化性樹脂組成物には、ウレタ
ンアクリレート、特に、ポリウレタンアクリレートを併
用してもよい。一般的に言ってアクリレート類、特に多
官能アクリレートは硬度の優れた塗膜を与える反面、塗
膜の耐衝撃性が低くなり脆くなる欠点が見られが、ポリ
ウレタンアクリレートを加えることにより、耐衝撃性が
改善され、塗膜が柔軟性を帯びるようになるからであ
る。A urethane acrylate, particularly polyurethane acrylate, may be used in combination with the ionizing radiation curable resin composition. Generally speaking, acrylates, especially polyfunctional acrylates, give coating films with excellent hardness, but on the other hand, the impact resistance of the coating film becomes low and it becomes brittle. However, by adding polyurethane acrylate, impact resistance is improved. Is improved and the coating film becomes flexible.

【００５７】ハードコート薄層４には、上記した樹脂成
分を主成分として構成し得るが、さらに、無機質微粒
子、もしくは無機質超微粒子を含有することがより好ま
しく、それらを構成する無機質としては、一般的に屈折
率の高いチタニア（屈折率ｎ＝１．９〜２．３）、ジル
コニア（ｎ＝１．６〜２．０）、酸化亜鉛（ｎ＝１．６
〜２．０）、アルミナ（ｎ＝１．５〜１．７）、酸化ス
ズ（ｎ＝１．７〜２．０）、インジウムドープ酸化スズ
（＝ＩＴＯ、ｎ＝１．６〜１．９）、アンチモンドープ
酸化スズ（＝ＡＴＯ、ｎ＝１．６〜１．９）、アルミニ
ウムドープ酸化亜鉛（＝ＡＺＯ、ｎ＝１．７〜２．０）
等もハードコート薄層４に必要とされる屈折率の範囲内
であれば、使用することができる。また、これら、屈折
率が高い無機質微粒子、もしくは無機質超微粒子が導電
性を示す場合は、ハードコート薄層４を導電層とするこ
とができ、ひいては、反射防止層の表面層、さらには反
射防止材に導電性を付与し、結果として、帯電防止性能
を付与することができ、好ましい。The hard coat thin layer 4 may contain the above-mentioned resin component as a main component, but it is more preferable that the hard coat thin layer 4 further contains inorganic fine particles or inorganic ultrafine particles. Which has a high refractive index (refractive index n = 1.9 to 2.3), zirconia (n = 1.6 to 2.0), zinc oxide (n = 1.6).
.About.2.0), alumina (n = 1.5 to 1.7), tin oxide (n = 1.7 to 2.0), indium-doped tin oxide (= ITO, n = 1.6 to 1.9). ), Antimony-doped tin oxide (= ATO, n = 1.6 to 1.9), aluminum-doped zinc oxide (= AZO, n = 1.7 to 2.0).
Etc. can be used as long as they are within the range of the refractive index required for the hard coat thin layer 4. Further, when these inorganic fine particles having a high refractive index or inorganic ultrafine particles show conductivity, the hard coat thin layer 4 can be used as a conductive layer, and by extension, the surface layer of the antireflection layer, and further the antireflection. This is preferable because it can impart conductivity to the material and, as a result, impart antistatic performance.

【００５８】ハードコート薄層４は、上記した成分のほ
か、必要に応じて、溶剤、紫外線遮断剤、紫外線吸収
剤、表面調製剤（レベリング剤）、もしくはそのほかの
添加剤を添加して調製した塗料組成物を用いたコーティ
ングにより形成することができる。コーティング法とし
てはロールコート法、グラビアコート法、スライドコー
ト法、スプレーコート法、ディップコート法、もしくは
スクリーン印刷法等を利用でき、る。The hard coat thin layer 4 is prepared by adding a solvent, an ultraviolet blocking agent, an ultraviolet absorbing agent, a surface preparation agent (leveling agent), or other additives, if necessary, in addition to the above-mentioned components. It can be formed by coating with a coating composition. As a coating method, a roll coating method, a gravure coating method, a slide coating method, a spray coating method, a dip coating method, a screen printing method, or the like can be used.

【００５９】上記のハードコート薄層４は、屈折率とし
ては、１．３０〜１．６０であることが好ましく、厚み
としては、５〜５０ｎｍであることが好ましい。厚みが
５ｎｍ未満では、表面の硬度および強度が十分得られ
ず、また、厚みが５０ｎｍを超えると、反射防止性が低
下するからである。なお、ハードコート薄層４と下層の
低屈折率層３とは、各々の層の厚み、屈折率を規定する
のに加え、層の厚みに関しては、ハードコート薄層４の
厚みが低屈折率層３の厚みの１／２以下であることが好
ましく、また屈折率に関しては、ハードコート薄層４の
屈折率が、低屈折率層３の屈折率よりも０．１４〜０．
２８大きいことが好ましい。The hard coat thin layer 4 preferably has a refractive index of 1.30 to 1.60 and a thickness of 5 to 50 nm. If the thickness is less than 5 nm, the surface hardness and strength cannot be sufficiently obtained, and if the thickness exceeds 50 nm, the antireflection property is deteriorated. The hard coat thin layer 4 and the lower low-refractive index layer 3 not only define the thickness and refractive index of each layer, but also the thickness of the hard coat thin layer 4 has a low refractive index. It is preferable that the thickness is 1/2 or less of the thickness of the layer 3, and the refractive index of the hard coat thin layer 4 is 0.14 to 0.
28 is preferable.

【００６０】本発明においては、本来、低反射性を実現
する、最表面の低屈折率層３上に、さらに、低屈折率層
３よりも屈折率の高いハードコート薄層４を積層したの
で、一見、反射防止性が損なわれるように考えられやす
い。しかし、実際、低屈折率層３にハードコート薄層４
を積層したものを反射性の対象に積層して、光の反射率
を測定してみると、ハードコート薄層４の無いものにく
らべ、波長が４５０ｎｍ未満、特に紫外域での反射率が
高くなる傾向があるものの、可視域では、反射率の上昇
が実質上見られず、見た目にもまぶしくない。一般に人
が反射光をまぶしく感じるのは可視光の反射に限られ、
特に目の感度が高い波長が５５０ｎｍ付近での反射性が
問題となるので、紫外域での反射率の上昇があっても、
人が見たときのまぶしさにはつながらないからである。
また、このような反射防止を施す対象として、特に注目
すべきディスプレイ関係においては、ディスプレイの寿
命の向上の意味で、紫外線をシャットアウトすることが
必要であり、他の対象においても紫外線の透過は好まし
くないことから、紫外域での反射率の上昇は、むしろ好
ましいと言える。In the present invention, the hard coat thin layer 4 having a refractive index higher than that of the low refractive index layer 3 is further laminated on the outermost low refractive index layer 3 which originally realizes low reflectivity. At first glance, it seems that antireflection properties are impaired. However, in practice, the low refractive index layer 3 and the hard coat thin layer 4 are
When the light reflectance is measured by laminating a laminated object on a reflective object, the wavelength is less than 450 nm, and the reflectance is particularly high in the ultraviolet region as compared with the case without the hard coat thin layer 4. However, in the visible range, there is virtually no increase in reflectance, and the appearance is not dazzling. Generally, it is only the reflection of visible light that people feel glare at reflected light.
Especially, since the reflectance at a wavelength of 550 nm, which has high eye sensitivity, becomes a problem, even if the reflectance increases in the ultraviolet region,
This is because it does not lead to the glare seen by people.
In addition, as an object to be subjected to such antireflection, particularly in a display-related matter, it is necessary to shut out ultraviolet light in order to extend the life of the display, and other objects also do not transmit ultraviolet light. Since it is not preferable, it can be said that the increase of reflectance in the ultraviolet region is rather preferable.

【００６１】先に述べたように、本発明の反射防止材１
は、透明基材２と低屈折率層３との間、言い換えれば、
透明基材２と反射防止層６との間にハードコート層５が
介在していてもよい。反射防止層６が最も簡素な構成で
あるとき、反射防止材１は、透明基材２上に、ハードコ
ート層５、低屈折率層３、およびハードコート薄層４が
順に積層したものである。As described above, the antireflection material 1 of the present invention.
Is between the transparent substrate 2 and the low refractive index layer 3, in other words,
The hard coat layer 5 may be interposed between the transparent substrate 2 and the antireflection layer 6. When the antireflection layer 6 has the simplest configuration, the antireflection material 1 is a transparent substrate 2 on which a hard coat layer 5, a low refractive index layer 3, and a hard coat thin layer 4 are sequentially laminated. .

【００６２】このハードコート層５は、本来的には、透
明基材上に設ける反射防止層６の表面の硬度を向上させ
るためのものである。低屈折率層４が本発明におけるよ
うに液相法による場合には、気相法による場合にくら
べ、ハードコート層５の性質が反射防止層上に及ぼす影
響は小さくなる。The hard coat layer 5 is originally for improving the hardness of the surface of the antireflection layer 6 provided on the transparent substrate. When the low refractive index layer 4 is formed by the liquid phase method as in the present invention, the influence of the properties of the hard coat layer 5 on the antireflection layer is smaller than that in the case of the vapor phase method.

【００６３】ハードコート層５は、厚みを比較的厚く設
けることを除き、上記したハードコート薄層４と同様な
材料を用いて構成することができる。ハードコート層５
の厚みは一例として０．５μｍ以上であり、２０μｍ以
下であることが好ましい。The hard coat layer 5 can be formed by using the same material as that of the hard coat thin layer 4 described above except that the hard coat layer 5 is provided with a relatively large thickness. Hard coat layer 5
As an example, the thickness is 0.5 μm or more, and preferably 20 μm or less.

【００６４】ハードコート層５は、低屈折率層が、しば
しば屈折率層の低い樹脂成分を用いて構成されることと
比較すると、比較的屈折率が高い樹脂成分を用いて構成
され、また、無機質超微粒子を用いても、屈折率が低下
することが少ないので、屈折率の観点から見ると、低屈
折率層との相対的な関係では高屈折率層となることが多
い。勿論、屈折率の高い粒子、好ましくは超微粒子を含
有させることにより、より高屈折率の層とすることもで
きる。従って、ハードコート層５を形成する際の無機質
微粒子の屈折率および／または配合量を調整することに
より、屈折率の異なる二種類のハードコート層を形成す
ることができるので、下層側の屈折率を相対的に低く
し、上層側の屈折率を相対的に高くすることにより、下
層側から中屈折率層（ハードコート層とも見ることがで
きる。）、および高屈折率層の二層を形成することもで
きる。The hard coat layer 5 is composed of a resin component having a relatively high refractive index, as compared with a low refractive index layer which is often composed of a resin component of a low refractive index layer, and Even if the inorganic ultrafine particles are used, the refractive index is less likely to decrease. Therefore, from the viewpoint of the refractive index, it often becomes a high refractive index layer in relation to the low refractive index layer. Needless to say, a layer having a higher refractive index can be obtained by incorporating particles having a high refractive index, preferably ultrafine particles. Therefore, by adjusting the refractive index and / or the compounding amount of the inorganic fine particles when forming the hard coat layer 5, two kinds of hard coat layers having different refractive indexes can be formed, so that the refractive index on the lower layer side can be formed. Is relatively low and the refractive index of the upper layer is relatively high, thereby forming two layers of a medium refractive index layer (which can also be seen as a hard coat layer) and a high refractive index layer from the lower layer side. You can also do it.

【００６５】本発明の反射防止層６は、上記したよう
に、透明基材２上に形成して反射防止材、より卑近な例
としては、透明基材フィルムを基材として反射防止フィ
ルムとすることができる。このような反射防止材は、建
造物の窓、箱やケースに設けた窓部等に適用して、窓材
として用いることができる。また、各種のディスプレイ
の前面に配置するか、ディスプレイの全面の透明基材を
基材とすることにより、ディスプレイを視認する際の照
明光や太陽光等の外光の反射を防止して、ディスプレイ
の表示内容の視認性を向上させることができる。As described above, the antireflection layer 6 of the present invention is formed on the transparent base material 2 as an antireflection material. As a more common example, a transparent base film is used as a base material to form an antireflection film. be able to. Such an antireflection material can be applied to a window of a building, a window portion provided in a box or a case, and used as a window material. Also, by arranging it on the front surface of various displays or by using a transparent base material on the entire surface of the display as a base material, it is possible to prevent the reflection of external light such as illumination light or sunlight when visually recognizing the display. The visibility of the display content of can be improved.

【００６６】ところで、反射防止層６（ハードコート層
を伴ない得る。以降も同様。）は、透明基材２にのみ形
成するものではなく、必ずしも透明でない基材、むしろ
不透明な基材に適用することもできる。勿論、透明な基
材に反射防止層６を適用した反射防止材を、そのような
不透明な基材上に適用してもよいが、その不透明基材そ
のものを基材として、その基材が本来的に持つ表面の反
射を防止した反射防止体とすることもできる。言い換え
れば、本発明を、種々の物品を基体として反射防止層を
適用した反射防止体とすることもでき、基体は、透明基
材の場合と同様、凹凸形状や立体的形状を有するもので
あってもよい。By the way, the antireflection layer 6 (which may be accompanied by a hard coat layer, and the same hereinafter) is not formed only on the transparent substrate 2, but is applied to a substrate that is not necessarily transparent, or rather an opaque substrate. You can also do it. Of course, an antireflection material in which the antireflection layer 6 is applied to a transparent base material may be applied on such an opaque base material, but the opaque base material itself is used as a base material, and the base material is originally It is also possible to use an antireflection body in which the reflection of the surface that is normally held is prevented. In other words, the present invention can also be used as an antireflection body in which various articles are used as a base and an antireflection layer is applied, and the base has an uneven shape or a three-dimensional shape as in the case of a transparent base material. May be.

【００６７】反射防止層６は、層を形成する対象が必要
なことから、上記のような透明基材や透明とは限らない
基体を対象として形成することが通常であるが、表面が
剥離性の剥離性シートの剥離性面上に、ハードコート薄
層４、反射防止層６、必要に応じ、ハードコート層５や
接着剤層を順次積層した転写シートの構成として、適宜
な対象、例えば、透明基材、もしくは透明とは限らない
基体に適用することができる。The antireflection layer 6 is usually formed on the transparent base material or the base material which is not necessarily transparent as described above, because the layer formation target is required. As a constitution of the transfer sheet in which the hard coat thin layer 4, the antireflection layer 6, and, if necessary, the hard coat layer 5 and the adhesive layer are sequentially laminated on the peelable surface of It can be applied to a transparent substrate or a substrate that is not necessarily transparent.

【００６８】[0068]

【実施例】厚みが１８８μｍで、表面に易接着処理が施
されたポリエチレンテレフタレート樹脂（＝ＰＥＴ）フ
ィルムを準備して、その易接着処理面側に低屈折率層、
およびハードコート薄層を順次積層したものと、ハード
コート層、低屈折率層、およびハードコート薄層を順次
積層したものとを作成した。ハードコート層としては、
多官能アクリレート化合物の紫外線硬化型のものと、シ
リコーン系の熱硬化型のものの二通りを、低屈折率層と
しては、屈折率ｎが１．４３、および１．４１のものの
二通りを、またハードコート薄層としては、屈折率ｎが
１．４６、１．４３、１．５０、および１．６０のもの
の四通りを、下記のようにして作成し、これら各層の種
々の組み合わせにより、反射防止フィルムを作成した。Example A polyethylene terephthalate resin (= PET) film having a thickness of 188 μm and having a surface subjected to an easy-adhesion treatment was prepared, and a low refractive index layer was formed on the side of the easy-adhesion treatment.
And a hard coat thin layer sequentially laminated, and a hard coat layer, a low refractive index layer, and a hard coat thin layer sequentially laminated. As a hard coat layer,
The UV-curable polyfunctional acrylate compound and the thermosetting silicone-based compound are used. The low refractive index layer has two refractive indices n of 1.43 and 1.41. As the hard coat thin layer, four kinds having a refractive index n of 1.46, 1.43, 1.50 and 1.60 were prepared as follows, and reflected by various combinations of these layers. A protective film was created.

【００６９】（ハードコート層（１）の形成）下記組成
のハードコート層形成用組成物（１）を準備して、バー
コーティングし、乾燥して溶剤を除去してから、紫外線
照射装置（フュージョンＵＶシステムズジャパン（株）
製、光源；Ｈバルブ）を用い、照射線量；３００ｍＪの
条件で照射して硬化させ、膜厚が４μｍの透明なハード
コート層（１）を形成した。なお、部数、配合比は、以
降も含め、いずれも質量基準による。 （ハードコート層形成用組成物（１）） ・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ２０．０部 ・光重合開始剤 １．０部 （チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製、商品名；イルガキュア １８４） ・メチルイソブチルケトン ８０部(Formation of Hard Coat Layer (1)) A composition (1) for forming a hard coat layer having the following composition is prepared, bar-coated and dried to remove the solvent, and then an ultraviolet irradiation device (fusion) is used. UV Systems Japan Co., Ltd.
Manufactured by a light source; H bulb), and irradiated and cured under the condition of an irradiation dose of 300 mJ to form a transparent hard coat layer (1) having a film thickness of 4 μm. The number of parts and the blending ratio are based on the mass, including the following. (Composition (1) for forming hard coat layer) -Pentaerythritol tetraacrylate 20.0 parts-Photopolymerization initiator 1.0 part (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., trade name; Irgacure 184) -Methylisobutyl 80 parts of ketone

【００７０】（ハードコート層（２）の形成）シリコー
ン系熱硬化型透明塗料組成物（日本エーアールシー
（株）製、商品名；クリスタルコートＴＨ）をバーコー
ティングし、乾燥させて溶剤を除去してから、１００℃
の温度で２時間加熱して硬化させ、膜厚が４μｍの透明
なハードコート層（２）を形成した。(Formation of Hard Coat Layer (2)) A silicone-based thermosetting transparent coating composition (manufactured by Japan AR Co., Ltd., trade name: Crystal Coat TH) is bar-coated and dried to remove the solvent. And then 100 ℃
The mixture was heated at the temperature of 2 hours for curing to form a transparent hard coat layer (2) having a film thickness of 4 μm.

【００７１】（低屈折率層（１）の形成）テトラエトキ
シシラン、エチルアルコール、脱イオン水、および塩酸
をこの順で１／８０／３／０．２の配合比で混合し、室
温で４時間加水分解を行なわせたものをそのまま使用し
てバーコーティングし、乾燥して溶剤を除去してから、
１２０℃の温度で１時間加熱して硬化させ、屈折率が
１．４３の硬化塗膜からなる低屈折率層（１）を得た。(Formation of Low Refractive Index Layer (1)) Tetraethoxysilane, ethyl alcohol, deionized water, and hydrochloric acid were mixed in this order at a compounding ratio of 1/80/3 / 0.2, and the mixture was mixed at room temperature for 4 hours. Bar coating using the one that has been hydrolyzed as it is, drying to remove the solvent,
The coating was heated at a temperature of 120 ° C. for 1 hour for curing to obtain a low refractive index layer (1) composed of a cured coating film having a refractive index of 1.43.

【００７２】（低屈折率層（２）の形成）フッ素系紫外
線硬化型塗料組成物（ＪＳＲ（株）製、商品名；オプス
ターＪＭ５０１０）をバーコーティングし、乾燥して溶
剤を除去した後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシ
ステムズジャパン（株）製、光源；Ｈバルブ）を用い、
照射線量；３００ｍＪの条件で照射して硬化させ、屈折
率が１．４１の低屈折率層（２）を得た。(Formation of Low Refractive Index Layer (2)) Fluorine-based UV-curable coating composition (manufactured by JSR Corporation, trade name: OPSTAR JM5010) is bar-coated, dried to remove the solvent, and then UV-rayed. Using an irradiation device (Fusion UV Systems Japan KK, light source; H bulb),
Irradiation dose: 300 mJ was irradiated and cured to obtain a low refractive index layer (2) having a refractive index of 1.41.

【００７３】（ハードコート薄層（１）の形成）ポリシ
ラザン系熱硬化型塗料組成物（クラリアントジャパン
（株）製、商品名；ポリシラザンＬ１１０）を用いてバ
ーコーティングし、乾燥して溶剤を除去した後、１２０
℃の温度で１時間加熱して硬化させ、屈折率が１．４６
のハードコート薄層（１）を得た。(Formation of Hard Coat Thin Layer (1)) A polysilazane-based thermosetting coating composition (manufactured by Clariant Japan KK, trade name; polysilazane L110) was bar-coated and dried to remove the solvent. After 120
It is heated at a temperature of ℃ for 1 hour to cure, and the refractive index is 1.46.
A thin hard coat layer (1) was obtained.

【００７４】（ハードコート薄層（２）の形成）ポリシ
ロキサン系紫外線硬化型塗料組成物（ＧＥ東芝シリコー
ン（株）製、商品名；ＵＶＨＣ８５５８）を用いてバー
コーティングし、乾燥して溶剤を除去した後、紫外線照
射装置（フュージョンＵＶシステムズジャパン（株）
製、光源；Ｈバルブ）を用い、照射線量；３００ｍＪの
条件で照射して硬化させ、屈折率が１．４３の低屈折率
層（２）を得た。(Formation of Hard Coat Thin Layer (2)) Bar coating was performed using a polysiloxane-based UV curable coating composition (GE Toshiba Silicone Co., Ltd., trade name: UVHC8558), and the solvent was removed by drying. UV irradiation device (Fusion UV Systems Japan Co., Ltd.)
Manufactured by a light source; H bulb) and irradiated under the condition of an irradiation dose of 300 mJ and cured to obtain a low refractive index layer (2) having a refractive index of 1.43.

【００７５】（ハードコート薄層（３）の形成）多官能
アクリレート（日本化薬（株）製、商品名ＤＰＨＡ（ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート））／ウレタ
ンアクリレート（日本合成化学（株）製、商品名；ＵＶ
−１７００Ｂ）＝１／２の配合比で混合した紫外線硬化
型塗料組成物を用い、上記のハードコート薄層（２）の
形成と同様にして、屈折率が１．５０のハードコート薄
層（３）を得た。(Formation of Hard Coat Thin Layer (3)) Polyfunctional acrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate)) / urethane acrylate (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., product Name; UV
-1700B) = 1/2, and using the ultraviolet-curable coating composition mixed in a mixing ratio of 1, the hard coat thin layer having a refractive index of 1.50 was formed in the same manner as the formation of the above hard coat thin layer (2). 3) was obtained.

【００７６】（ハードコート薄層（４）の形成）多官能
アクリレート（日本化薬（株）製、商品名ＤＰＨＡ（ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート）／ウレタン
アクリレート（日本合成化学（株）製、商品名；ＵＶ−
１７００Ｂ）／チタニア超微粒子分散液（テイカ（株）
製、商品名；ＴＫＳ−２５１）＝１／２／１の配合比で
混合した紫外線硬化型塗料組成物を用い、上記のハード
コート薄層（２）の形成と同様にして、屈折率が１．６
０の低屈折率層（４）を得た。(Formation of hard coat thin layer (4)) Polyfunctional acrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name DPHA (dipentaerythritol hexaacrylate) / urethane acrylate (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., trade name) UV-
1700B) / titania ultrafine particle dispersion liquid (Taika Co., Ltd.)
Manufactured by the trade name; TKS-251) = 1/2/1, and using a UV-curable coating composition mixed in a mixing ratio of 1, the refractive index is 1 as in the formation of the hard coat thin layer (2). .6
A low refractive index layer (4) of 0 was obtained.

【００７７】なお、低屈折率層およびハードコート薄層
の膜厚は、分光光度計（島津製作所（株）製）を用いて
測定したときに、波長；５５０ｎｍ付近に反射率の極小
値が来るように設定した。The film thicknesses of the low refractive index layer and the hard coat thin layer, when measured using a spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation), have a minimum reflectance value near a wavelength of 550 nm. Was set.

【００７８】（低屈折率層およびハードコート薄層の密
着性）低屈折率層およびハードコート薄層の密着性を評
価した。上記した低屈折率層（１）および（２）を、そ
れぞれ、易接着ＰＥＴフィルムの易接着処理面に積層し
たもの、易接着ＰＥＴフィルムの易接着処理面にハード
コート層（１）を積層した上に積層したもの（基材がハ
ードコート層（１））、および易接着ＰＥＴフィルムの
易接着処理面にハードコート層（２）を積層した上に積
層したもの（基材がハードコート層（２））を準備し、
セロファンテープによる碁盤目剥離試験により密着性を
評価した結果を下記の「表１」に示す。「表１」中、◎
は剥離が全くないもの、○は僅かに剥離するもの、△は
剥離がやや目立つものである。(Adhesiveness of Low Refractive Index Layer and Hard Coat Thin Layer) Adhesiveness of the low refractive index layer and hard coat thin layer was evaluated. The low-refractive index layers (1) and (2) described above were laminated on the easy-adhesion treated surface of the easy-adhesion PET film, and the hard coat layer (1) was laminated on the easy-adhesion treated surface of the easy-adhesion PET film. What was laminated on top (the base material is the hard coat layer (1)), and what was laminated on top of the hard coat layer (2) was laminated on the surface of the easy adhesion PET film which was treated for easy adhesion (the base material was the hard coat layer ( 2)) is prepared,
The results of evaluation of adhesion by a cross-cut peeling test using cellophane tape are shown in "Table 1" below. In Table 1, ◎
Indicates no peeling, ○ indicates slight peeling, and Δ indicates slightly noticeable peeling.

【００７９】[0079]

【表１】 [Table 1]

【００８０】また、易接着ＰＥＴフィルムの易接着処理
面に上記の低屈折率層（１）、もしくは（２）を積層し
たものの低屈折率層上に、上記のハードコート薄層
（１）〜（４）をそれぞれ積層したものを準備し、セロ
ファンテープによる碁盤目剥離試験により密着性を評価
した結果を下記の「表２」に示す。表中、「ＨＣ薄層」
は、ハードコート薄層を示し、◎、○、および△の意味
は、「表１」におけるものと同じである。Further, the low-refractive index layer (1) or (2) laminated on the easy-adhesion treated surface of the easy-adhesion PET film, and the hard coat thin layers (1) to (1) to The results obtained by preparing a laminate of (4) and evaluating the adhesion by a cross-cut peeling test using cellophane tape are shown in "Table 2" below. In the table, "HC thin layer"
Indicates a hard coat thin layer, and the meanings of ⊚, ◯, and Δ are the same as those in “Table 1”.

【００８１】[0081]

【表２】 [Table 2]

【００８２】反射防止フィルムを、Ａ〜Ｃの各条件を組
み合わせて作成した。即ち、Ａ（基材）；ハードコート
層を伴なわないＰＥＴフィルム（表ではＰＥＴ）、ハー
ドコート層（１）を積層したもの（表ではＨＣ層
（１））、およびハードコート層（２）を積層したもの
（表ではＨＣ層（２））、Ｂ（低屈折率層、表では低ｎ
層）；低屈折率層（１）、もしくは（２）、Ｃ（ハード
コート薄層、表ではＨＣ薄層）；ハードコート薄層
（１）、（２）、（３）、もしくは（４）の各条件であ
る。これらの条件を組み合わせ、ＰＥＴフィルム、低屈
折率層、およびハードコート薄層が積層したもの、なら
びにＰＥＴフィルム、ハードコート層、低屈折率層、お
よびハードコート薄層が積層したものを作成し、評価を
行なった。An antireflection film was prepared by combining the respective conditions A to C. That is, A (base material); a PET film without a hard coat layer (PET in the table), a laminate of hard coat layers (1) (HC layer (1) in the table), and hard coat layer (2) (HC layer (2) in the table), B (low refractive index layer, low n in the table)
Layer); low refractive index layer (1), or (2), C (hard coat thin layer, HC thin layer in the table); hard coat thin layer (1), (2), (3), or (4) Under each condition. By combining these conditions, a PET film, a low refractive index layer, and a hard coat thin layer are laminated, and a PET film, a hard coat layer, a low refractive index layer, and a hard coat thin layer are laminated, An evaluation was performed.

【００８３】評価項目は、反射率および膜強度の二項目
である。反射率は、分光光度計（島津製作所（株）製）
を用いて測定した波長；５５０ｎｍにおけるものであ
り、用途にもよるが、反射率が１．２％以下であること
が好ましい。また、スチールウールの＃００００番のも
のを用いて、一定の荷重で２０回擦り、濁度計（日本電
色工業（株）製、商品名；ＮＤＨ２０００）で計測し
て、ヘイズが変化したときの荷重値のおもりの質量（単
位；ｇ）をもって、膜強度とした。この膜強度は、人の
手等に触れやすい用途では、２００ｇ以上であることが
好ましいが、２００未満であっても、人の手等に触れる
頻度の低い用途であれば、使用可能である。下記の「表
３」〜「表５」は、実施例に関するものであり、「表
６」は、比較例に関するものである。表中、低ｎ層およ
びＨＣ薄層の各欄の下段におけるかっこ付きの数字は、
それぞれの層の膜厚（単位；ｎｍ）である。The two evaluation items are reflectance and film strength. The reflectance is a spectrophotometer (made by Shimadzu Corporation)
Wavelength at 550 nm, which is measured by using, and the reflectance is preferably 1.2% or less, although it depends on the application. In addition, when the haze was changed by rubbing 20 times with a constant load using # 0000 of steel wool and measuring with a turbidimeter (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., trade name: NDH2000) The weight (unit: g) of the weight value of was used as the film strength. The film strength is preferably 200 g or more for applications where it is easily touched by human hands and the like, but even if it is less than 200, it can be used for applications in which it is infrequently touched by human hands and the like. The following "Table 3" to "Table 5" relate to Examples, and "Table 6" relates to Comparative Examples. In the table, the numbers in parentheses at the bottom of each column for low n layer and HC thin layer are
The film thickness (unit: nm) of each layer.

【００８４】[0084]

【表３】 [Table 3]

【００８５】[0085]

【表４】 [Table 4]

【００８６】[0086]

【表５】 [Table 5]

【００８７】[0087]

【表６】 [Table 6]

【００８８】[0088]

【発明の効果】請求項１の発明によれば、反射防止層上
に、それよりも屈折率の高いハードコート薄層が積層さ
れたことにより、反射防止性の低下が実質上、ほとんど
無く、表面の硬度および強度が高い、表面が強化された
反射防止層を提供することができる。請求項２の発明に
よれば、請求項１の発明の効果に加え、低屈折率層とハ
ードコート層との簡素は積層構造からなる、表面が強化
された反射防止層を提供することができる。請求項３の
発明によれば、請求項１の発明の効果に加え、反射防止
層が複層の積層構造からなる、表面が強化された反射防
止層を提供することができる。請求項４の発明によれ
ば、請求項３の発明の効果に加え、反射防止層が高屈折
率層、および低屈折率層の複層の積層構造からなる、表
面が強化された反射防止層を提供することができる。請
求項５の発明によれば、請求項３の発明の効果に加え、
反射防止層が中屈折率層、高屈折率層、および低屈折率
層の複層の積層構造からなる、表面が強化された反射防
止層を提供することができる。請求項６の発明によれ
ば、請求項１〜請求項５いずれかの発明の効果に加え、
ハードコート薄層の屈折率、および厚みを規定したの
で、反射防止性がより高い、表面が強化された反射防止
層を提供することができる。請求項７の発明によれば、
請求項１〜請求項６いずれかの発明の効果に加え、低屈
折率層の屈折率、および厚みを規定したので、反射防止
性がより確実な、表面が強化された反射防止層を提供す
ることができる。請求項８の発明によれば、請求項１〜
請求項７いずれかの発明の効果に加え、ハードコート薄
層が硬化樹脂組成物からなるので、表面の硬度および強
度がより高められた、表面が強化された反射防止層を提
供することができる。請求項９の発明によれば、請求項
８の発明の効果に加え、硬化樹脂組成物が多官能アクリ
レートを含有するので、架橋密度が高く、表面の硬度お
よび強度がよりなお一層高められた、表面が強化された
反射防止層を提供することができる。請求項１０の発明
によれば、請求項９の発明の効果に加え、硬化樹脂組成
物がポリシロキサンを含有するので、耐擦傷性、および
防汚性が向上した、表面が強化された反射防止層を提供
することができる。請求項１１の発明によれば、請求項
９または請求項１０の発明の効果に加え、硬化樹脂組成
物がウレタンアクリレートを含有するので、ハードコー
ト薄層の耐衝撃性および柔軟性のバランスのとれた、表
面が強化された反射防止層を提供することができる。請
求項１２の発明によれば、請求項８〜請求項１１いずれ
かの発明の効果に加え、ハードコート薄層が無機質超微
粒子を含有することにより硬度および表面強度が一層向
上した、表面が強化された反射防止層を提供することが
できる。請求項１３の発明によれば、請求項１〜請求項
１２いずれかの発明の効果に加え、反射防止層のハード
コート薄層の反対側にハードコート層が積層されている
ことによりハードコート薄層側の硬度および強度が高め
られた、表面が強化された反射防止層を提供することが
できる。請求項１４の発明によれば、請求項４または請
求項５の発明の効果に加え、ハードコート層が、複層の
反射防止層の最下層を兼ねているので、下層にハードコ
ート層を有しながらも、より簡略化された積層構造を有
する、表面が強化された反射防止層を提供することがで
きる。請求項１５の発明によれば、請求項１〜請求項１
４いずれかの発明の効果を有する表面が強化された反射
防止層が、透明基材上に積層されたことにより、全体が
透明であり、透視性を有する、表面が強化された反射防
止材を提供することができる。請求項１６の発明によれ
ば、請求項１〜請求項１４いずれかの発明の効果を有す
る表面が強化された反射防止層が、基体上に積層された
ことにより、基体表面の反射が防止された、表面が強化
された反射防止体を提供することができる。According to the invention of claim 1, since the hard coat thin layer having a higher refractive index than that is laminated on the antireflection layer, there is substantially no deterioration in the antireflection property. It is possible to provide a surface-reinforced antireflection layer having high surface hardness and strength. According to the invention of claim 2, in addition to the effect of the invention of claim 1, it is possible to provide a surface-reinforced antireflection layer having a simple laminated structure of a low refractive index layer and a hard coat layer. . According to the invention of claim 3, in addition to the effect of the invention of claim 1, it is possible to provide an antireflection layer having a reinforced surface, in which the antireflection layer has a multilayer structure. According to the invention of claim 4, in addition to the effect of the invention of claim 3, the antireflection layer having a strengthened surface, wherein the antireflection layer has a laminated structure of a plurality of layers of a high refractive index layer and a low refractive index layer. Can be provided. According to the invention of claim 5, in addition to the effect of the invention of claim 3,
It is possible to provide an antireflection layer having a reinforced surface, in which the antireflection layer has a laminated structure of multiple layers of a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer. According to the invention of claim 6, in addition to the effect of the invention of any one of claims 1 to 5,
Since the refractive index and the thickness of the hard coat thin layer are defined, it is possible to provide a surface-reinforced antireflection layer having higher antireflection properties. According to the invention of claim 7,
In addition to the effect of the invention of any one of claims 1 to 6, the refractive index and thickness of the low refractive index layer are defined, so that an antireflection layer having enhanced surface antireflection property is provided. be able to. According to the invention of claim 8, claim 1
In addition to the effect of any of the inventions of claim 7, since the hard coat thin layer is made of a cured resin composition, it is possible to provide a surface-reinforced antireflection layer having a higher surface hardness and strength. . According to the invention of claim 9, in addition to the effect of the invention of claim 8, since the cured resin composition contains a polyfunctional acrylate, the crosslink density is high, and the surface hardness and strength are further enhanced. A surface-reinforced antireflection layer can be provided. According to the invention of claim 10, in addition to the effect of the invention of claim 9, since the cured resin composition contains a polysiloxane, scratch resistance and antifouling property are improved, and the surface-reinforced antireflection. Layers can be provided. According to the invention of claim 11, in addition to the effect of the invention of claim 9 or claim 10, since the cured resin composition contains urethane acrylate, the impact resistance and flexibility of the hard coat thin layer can be balanced. Also, an antireflection layer having a reinforced surface can be provided. According to the invention of claim 12, in addition to the effect of any one of claims 8 to 11, the hard coat thin layer further contains inorganic ultrafine particles, whereby the hardness and the surface strength are further improved, and the surface is strengthened. An antireflection layer can be provided. According to the invention of claim 13, in addition to the effect of the invention of any one of claims 1 to 12, the hard coat layer is laminated on the opposite side of the hard coat thin layer of the antireflection layer. It is possible to provide a surface-reinforced antireflection layer having enhanced hardness and strength on the layer side. According to the invention of claim 14, in addition to the effect of the invention of claim 4 or claim 5, since the hard coat layer also serves as the lowermost layer of the multi-layered antireflection layer, the hard coat layer is provided as the lower layer. Nevertheless, it is possible to provide a surface-reinforced antireflection layer having a more simplified laminated structure. According to the invention of claim 15, claim 1 to claim 1
4. A surface-reinforced antireflection material having the effect of any one of the inventions is laminated on a transparent base material, thereby providing a surface-reinforced antireflection material that is entirely transparent and has transparency. Can be provided. According to the invention of claim 16, the surface-reinforced antireflection layer having the effect of any one of claims 1 to 14 is laminated on the substrate to prevent reflection on the surface of the substrate. Further, it is possible to provide an antireflection body having a reinforced surface.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】本発明の反射防止材を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing an antireflection material of the present invention.

【図２】本発明の反射層を示す層断面図である。FIG. 2 is a layer cross-sectional view showing a reflective layer of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１ 反射防止材 ２ 透明基材 ３またはＬ 低屈折率層 ４ ハードコート薄層 ５ ハードコート層 Ｍ 中屈折率層 Ｈ 高屈折率層 1 Antireflection material 2 transparent substrate 3 or L low refractive index layer 4 Hard coat thin layer 5 Hard coat layer M Middle refractive index layer H high refractive index layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2K009 AA04 AA05 AA06 AA15 BB14 BB24 BB25 BB28 CC03 CC06 CC09 CC24 CC26 CC42 CC45 DD02 4F100 AA00B AG00 AJ06 AK01B AK25B AK25J AK41 AK51B AK51J AK79B AL01B AR00A AR00C AR00D AR00E BA02 BA03 BA04 BA05 BA07 BA10B CC00B CC00E DE01B GB07 GB31 GB41 JB13B JB14B JM02B JM02E JN01E JN06A JN18A JN18B JN18C JN18D YY00A YY00B YY00C YY00D   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 2K009 AA04 AA05 AA06 AA15 BB14                       BB24 BB25 BB28 CC03 CC06                       CC09 CC24 CC26 CC42 CC45                       DD02                 4F100 AA00B AG00 AJ06 AK01B                       AK25B AK25J AK41 AK51B                       AK51J AK79B AL01B AR00A                       AR00C AR00D AR00E BA02                       BA03 BA04 BA05 BA07 BA10B                       CC00B CC00E DE01B GB07                       GB31 GB41 JB13B JB14B                       JM02B JM02E JN01E JN06A                       JN18A JN18B JN18C JN18D                       YY00A YY00B YY00C YY00D

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 反射防止層上に、前記反射防止層の屈折
率よりも高い屈折率のハードコート薄層が積層されてい
ることを特徴とする表面が強化された反射防止層。1. A surface-reinforced antireflection layer comprising a hardcoat thin layer having a refractive index higher than that of the antireflection layer laminated on the antireflection layer. 【請求項２】 前記反射防止層が低屈折率層からなるこ
とを特徴とする請求項１記載の表面が強化された反射防
止層。2. The surface-reinforced antireflection layer according to claim 1, wherein the antireflection layer comprises a low refractive index layer. 【請求項３】 前記反射防止層が、前記ハードコート薄
層側が低屈折率層からなる複層からなることを特徴とす
る請求項１記載の表面が強化された反射防止層。3. The surface-reinforced antireflection layer according to claim 1, wherein the antireflection layer is a multilayer having a low refractive index layer on the hard coat thin layer side. 【請求項４】 前記反射防止層が、前記低屈折率層と前
記低屈折率層の下層の高屈折率層との積層構造からなる
ことを特徴とする請求項３記載の表面が強化された反射
防止層。4. The surface of claim 3, wherein the antireflection layer has a laminated structure of the low refractive index layer and a high refractive index layer below the low refractive index layer. Antireflection layer. 【請求項５】 前記反射防止層が、前記低屈折率層の下
層側に高屈折率層、および中屈折率層が順に積層された
積層構造からなることを特徴とする請求項３記載の表面
が強化された反射防止層。5. The surface according to claim 3, wherein the antireflection layer has a laminated structure in which a high refractive index layer and a medium refractive index layer are sequentially laminated under the low refractive index layer. Anti-reflective layer reinforced with. 【請求項６】 前記低屈折率層は、屈折率が１．１０〜
１．４６であり、かつ、厚みが３０〜１５０ｎｍである
ことを特徴とする請求項１〜請求項５いずれか記載の表
面が強化された反射防止層。6. The low refractive index layer has a refractive index of 1.10 to 10.
The surface-reinforced antireflection layer according to claim 1, wherein the antireflection layer has a thickness of 1.46 and a thickness of 30 to 150 nm. 【請求項７】 前記ハードコート薄層は、屈折率が１．
３０〜１．６０であって、前記低屈折率層の屈折率より
も０．１４〜０．２８大きく、かつ厚みが５〜５０ｎｍ
であって、前記低屈折率層の厚みの１／２以下であるこ
とを特徴とする請求項１〜請求項６いずれか記載の表面
が強化された反射防止層。7. The hard coat thin layer has a refractive index of 1.
30 to 1.60, which is larger than the refractive index of the low refractive index layer by 0.14 to 0.28 and has a thickness of 5 to 50 nm.
The antireflection layer having a reinforced surface according to any one of claims 1 to 6, wherein the thickness is 1/2 or less of the thickness of the low refractive index layer. 【請求項８】 前記ハードコート薄層が、熱硬化性樹脂
を含有する熱硬化性樹脂組成物および／または電離放射
線硬化性樹脂を含有する電離放射線硬化性樹脂組成物の
硬化物からなる硬化樹脂組成物で構成されていることを
特徴とする請求項１〜請求項７いずれか記載の表面が強
化された反射防止層。8. A cured resin, wherein the hard coat thin layer comprises a cured product of a thermosetting resin composition containing a thermosetting resin and / or an ionizing radiation curable resin composition containing an ionizing radiation curable resin. The surface-reinforced antireflection layer according to any one of claims 1 to 7, which is composed of a composition. 【請求項９】 前記硬化樹脂組成物が、多官能アクリレ
ートを含有することを特徴とする請求項８記載の表面が
強化された反射防止層。9. The surface-reinforced antireflection layer according to claim 8, wherein the cured resin composition contains a polyfunctional acrylate. 【請求項１０】 前記硬化樹脂組成物が、ポリシロキサ
ン成分を含有することを特徴とする請求項９記載の表面
が強化された反射防止層。10. The surface-reinforced antireflection layer according to claim 9, wherein the cured resin composition contains a polysiloxane component. 【請求項１１】 前記硬化樹脂組成物が、ウレタンアク
リレートを含有することを特徴とする請求項９または請
求項１０記載の表面が強化された反射防止層。11. The surface-reinforced antireflection layer according to claim 9, wherein the cured resin composition contains urethane acrylate. 【請求項１２】 前記ハードコート薄層が、さらに無機
質超微粒子を含有するものであることを特徴とする請求
項８〜請求項１１いずれか記載の表面が強化された反射
防止層。12. The surface-reinforced antireflection layer according to claim 8, wherein the thin hard coat layer further contains inorganic ultrafine particles. 【請求項１３】 前記反射防止層の前記ハードコート薄
層が積層されているのとは反対側にハードコート層がさ
らに積層されていることを特徴とする請求項１〜請求項
１２記載の表面が強化された反射防止層。13. The surface according to claim 1, wherein a hard coat layer is further laminated on the side of the antireflection layer opposite to the side where the hard coat thin layer is laminated. Anti-reflective layer reinforced with. 【請求項１４】 前記反射防止層を構成する最下層がハ
ードコート層を兼ねていることを特徴とする請求項４ま
たは請求項５記載の表面が強化された反射防止層。14. The surface-reinforced antireflection layer according to claim 4, wherein the lowermost layer constituting the antireflection layer also serves as a hard coat layer. 【請求項１５】 請求項１〜請求項１４いずれか記載の
表面が強化された反射防止層の前記ハードコート薄層が
積層されているのとは反対側に透明基材が積層されてい
ることを特徴とする表面が強化された反射防止材。15. A transparent base material is laminated on the opposite side of the surface-enhanced antireflection layer according to claim 1 from which the hard coat thin layer is laminated. Anti-reflective material with a reinforced surface. 【請求項１６】 請求項１〜請求項１４いずれか記載の
表面が強化された反射防止層の前記ハードコート薄層が
積層されているのとは反対側に基体が積層されているこ
とを特徴とする表面が強化された反射防止体。16. A substrate is laminated on the opposite side of the surface-enhanced antireflection layer according to claim 1 from which the hard coat thin layer is laminated. Anti-reflective body with reinforced surface.