JP2003209183A5 - - Google Patents

Claims (10)

1. スパイラルインダクタ（１２２）を製造するための方法であって、
   基板（１１２）を設けるステップと、
   基板（１１２）上にインダクタ誘電体層（１１４）を形成するステップと、
   インダクタ誘電体層（１１４）内にスパイラル開口部を形成するステップと、
   スパイラル開口部内にスパイラルインダクタ（１２２）を形成するステップとを含み、スパイラルインダクタは、
   スパイラルインダクタの断面に複数のバイアを含み、複数のバイアは、それぞれ上部または底部で共通に接続されて底部または上部で接続されておらず、スパイラルインダクタ（１２２）の中央から近い端部および中央から遠い端部でともに接続される平行なスパイラルバイア（１４４）（１４８）を規定する、スパイラルインダクタを製造するための方法。
2. スパイラルインダクタ（１２２）を形成するステップは、
   スパイラル開口部内にスパイラルライン（１４２）を形成するステップと、
   スパイラルライン（１４２）上に、かつそれと一体化するように複数の平行なスパイラルバイア（１４４）を形成するステップとを含む、請求項１に記載の方法。
3. スパイラルインダクタ（１２２）を形成するステップは、複数の平行なスパイラルバイア（１４８）上に、かつそれらと一体化するようにスパイラルライン（１５０）を形成するステップを含む、請求項１に記載の方法。
4. 第１の接続部分（１３０）を形成するステップと、
   第１の接続部分（１３０）とスパイラルインダクタ（１２２）の中央から近い端部との間に接続バイア（１３２）を形成するステップと、
   スパイラルインダクタ（１２２）の中央から遠い端部に接続される第２の接続部分（１３４）を形成するステップとを含む、請求項１に記載の方法。
5. スパイラル開口部を形成するステップは、方形のスパイラル、矩形のスパイラル、およ
   び円形のスパイラルからなる群より多数の巻きのスパイラルを形成する、請求項１に記載の方法。
6. スパイラルインダクタ（１２２）であって、
   基板（１１２）と、
   スパイラル開口部が設けられた基板（１１２）上のインダクタ誘電体層（１１４）と、
   スパイラル開口部内のスパイラルインダクタ（１２２）とを含み、スパイラルインダクタ（１２２）は、
   スパイラルインダクタの断面に複数のバイアを含み、複数のバイアは、それぞれ上部または底部で共通に接続されて底部または上部で接続されておらず、スパイラルインダクタ（１２２）の中央から近い端部および中央から遠い端部でともに接続される平行なスパイラルバイア（１４４）（１４８）を規定する、スパイラルインダクタ。
7. スパイラルインダクタ（１２２）は、
   スパイラル開口部内のスパイラルライン（１４２）と、
   スパイラルライン（１４２）上にあり、かつそれと一体化する複数の平行なスパイラルバイア（１４４）とを含む、請求項６に記載のスパイラルインダクタ（１２２）。
8. スパイラルインダクタ（１２２）は、
   複数の平行なスパイラルバイア（１４８）上にあり、かつそれらと一体化するスパイラルライン（１５０）を含む、請求項６に記載のスパイラルインダクタ（１２２）。
9. 第１の接続部分（１３０）と、
   第１の接続部分（１３０）と、スパイラルインダクタ（１２２）の中央から近い端部との間の接続バイア（１３２）と、
   スパイラルインダクタ（１２２）の中央から遠い端部に接続される第２の接続部分（１３４）とを含む、請求項６に記載のスパイラルインダクタ（１２２）。
10. スパイラル開口部は、方形スパイラル、矩形スパイラル、および円形スパイラルからなる群より多数の巻きのスパイラルを形成する、請求項６に記載のスパイラルインダクタ（１２２）。