JP2003170969A - 収納容器 - Google Patents

収納容器

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JP2003170969A JP2001372700A JP2001372700A JP2003170969A JP 2003170969 A JP2003170969 A JP 2003170969A JP 2001372700 A JP2001372700 A JP 2001372700A JP 2001372700 A JP2001372700 A JP 2001372700A JP 2003170969 A JP2003170969 A JP 2003170969A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 汚れた流体が物品に直接接触するのを抑制
し、フィルタに大量の流体が一度に流入しても塵埃が新
たに生じるおそれの少ない収納容器を提供する。 【解決手段】 精密基板Wを整列収納する容器本体1
と、容器本体1の開口正面をガスケット11を介し嵌合
閉鎖する着脱自在の蓋体10と、容器本体1の底部前方
の貫通孔2に装着されるフィルタ20と、フィルタ20
と最下位の精密基板Wの間に介在する制御体30とを備
える。フィルタ20を通過した塵埃を含む気流は、制御
体30に衝突して遮断・分散され、容器本体1の内部背
面側下方に流速を低下させながら拡散する。気流の流速
低下により、塵埃は、飛散が抑制され、精密基板Wに付
着することなく容器本体1の内面に付着する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウェーハや
マスクガラスからなる精密基板等を収納、保管、運搬す
る収納容器に関し、より詳しくは、収納容器のフィルタ
からの気流を遮断・拡散させる制御体に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】精密基板収納容器である従来の収納容器
は、図9に示すように、複数枚の精密基板Wを上下に整
列収納するフロントオープンボックスタイプの容器本体
1と、この容器本体1の開口正面をガスケット11を介
し嵌合閉鎖する着脱自在の蓋体10とから構成される。
【0003】ところで、収納容器は、周囲の圧力や温度
が変化する環境で精密基板Wの輸送に使用されるが、こ
の際、塵埃を含む気流(図9の矢印参照)が流入すること
により、精密基板Wが塵埃により汚染されるという問題
がある。例えば、収納容器を航空機で輸送したり、高速
搬送するときの急激な圧力の変動、あるいは輸送中や保
管中の温度変化により、収納容器の外圧が内圧よりも高
くなる場合がある。この場合、収納容器外の汚染された
気流が収納容器内に流入することとなる。また、収納容
器の空気をチッ素、不活性ガス、あるいは乾燥空気等に
置換する場合、ガスや空気の注入時に塵埃も一緒に収納
容器内に流入することとなる。
【0004】このように従来においては、塵埃を含む気
流の収納容器への流入に伴い、精密基板Wの汚染される
おそれが少なくない。そこで、特開平11‐59778
号公報は、容器本体1の底部開口側に貫通孔2を穿孔し
てこの貫通孔2にはフィルタ20を嵌着し、このフィル
タ20で流入する気流中の塵埃を除去し、清浄な気流を
流入させる内圧調整機構付きの収納容器を提案してい
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来の収納容器は、以
上のようにフィルタ20により気流中の塵埃を除去する
が、フィルタ20の性能やフィルタ20自体の清浄度が
必ずしも完全ではないので、フィルタ20で気流中の塵
埃を完全には除去することができない。また、容器本体
1の内面から塵埃を完全に除去することもきわめて困難
なので、気流が流入してくると、容器本体1に残存した
塵埃が気流で巻き上げられ、この汚れた気流が精密基板
Wに直接吹き付けて汚染させるという大きな問題があ
る。さらに、フィルタ20に大量の気流が一度に流入す
ると、この気流が精密基板Wに直接的に強く衝突して振
動し、新たな塵埃やパーティクルの生じるおそれが少な
くない。
【0006】本発明は、上記に鑑みなされたもので、汚
れた流体が物品に直接接触するのを抑制し、例えフィル
タに大量の流体が一度に流入しても塵埃が新たに生じる
おそれの少ない収納容器を提供することを目的としてい
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明にお
いては、上記課題を達成するため、物品を収納する容器
本体の開口部を着脱自在の蓋体で嵌合閉鎖したものであ
って、上記容器本体と上記蓋体の少なくともいずれか一
方に取り付けられるフィルタと、このフィルタと該容器
本体内の物品との間に介在する制御体とを含み、該フィ
ルタを通過して該容器本体内に流入してきた流体の流れ
を制御体により変更し、該容器本体の下方に該流体を導
くようにしたことを特徴としている。
【0008】なお、上記制御体を略板形に形成してその
フィルタに対向する対向面には、リブ、凹凸、あるいは
吸着剤層を設けることができる。また、上記容器本体の
底部に貫通孔を設けて当該貫通孔には、上記フィルタ用
の収納筒を取り付け、上記制御体を略筒形に形成して該
収納筒の上部に接続し、該制御体の側壁には流出口を形
成することができる。
【0009】ここで、特許請求の範囲における物品に
は、少なくとも半導体ウェーハやマスクガラスからなる
単数複数の精密基板、機械、電気、電子、半導体製造、
材料化学、雑貨の分野で使用されるものが含まれる。容
器本体は、フロントオープンボックスタイプが主である
が、トップオープンボックスタイプ等でも良い。また、
フィルタと制御体とは単数複数いずれでも良い。制御体
は、I字形、J字形、L字形、U字形等に形成でき、水
平、垂直、傾斜状態に設けることができる。この制御体
を着脱自在の構成にする場合には、単数複数の係止部を
形成すると良い。また、流体には、少なくとも空気、チ
ッ素、不活性ガス、あるいは乾燥空気等の気体が含まれ
る。さらに、容器本体の貫通孔にフィルタ用の収納筒を
取り付ける場合には、直接間接に取り付けることができ
る。
【0010】本発明によれば、流体は、塵埃等からなる
異物の一部がフィルタにより除去されるが、異物の残部
が除去されないまま蓋体で閉鎖された容器本体の内部に
流れ込む。しかし、この異物を含む流体は、制御体に衝
突し、物品に悪影響を及ぼさない方向に拡散する。これ
により、異物は、飛散が抑制されて容器本体の内部に付
着し、物品の汚染が抑制される。また、流体の速度が低
下するので、容器本体内に残存した異物の巻き上がりが
減少する。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の好
ましい実施形態を説明すると、本実施形態における精密
基板収納容器である収納容器は、図1に示すように、複
数枚の精密基板Wを収納する容器本体1と、この容器本
体1の開口正面をエンドレスのガスケット11を介しシ
ール状態に嵌合閉鎖する着脱自在の蓋体10と、容器本
体1に装着されるフィルタ20と、このフィルタ20と
精密基板Wとの間に介在する制御体30とを備え、フィ
ルタ20を通過して容器本体1内に流入してきた気流
(矢印参照)の流れを制御体30により容器本体1の内部
背面側方向に変更し、容器本体1の下方に気流を導くよ
うにしている。
【0012】容器本体1は、例えばポリカーボネート、
ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、環
状オレフィン樹脂等の熱可塑性樹脂を使用してフロント
オープンボックスタイプに成形され、複数枚(例えば、
25枚又は26枚)の精密基板Wを上下に並べて整列収
納する。この容器本体1は、底部正面側(底部開口側で
もある)に気圧調整用の丸い貫通孔2が単数複数穿孔さ
れ、開口正面が幅広のリム部3に膨出形成されており、
このリム部3の内周上下には、図示しない複数の凹み穴
が所定の間隔をおいてそれぞれ穿孔される。
【0013】蓋体10は、例えばポリカーボネート、ポ
リエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、環状
オレフィン樹脂等の熱可塑性樹脂を使用して正面略長方
形を呈した中空構造に形成される。この蓋体10は、内
部に図示しない施錠・解錠用の係止機構が内蔵され、こ
の係止機構を構成する複数の係止爪が外部からの操作に
基づき、容器本体1の凹み穴に嵌入係止することによ
り、容器本体1を嵌合閉鎖した状態で強固に施錠し、容
器本体1と外部とを遮断する。
【0014】フィルタ20としては、例えばHEPA、
ULPA等の塵埃除去用フィルタ、各種のケミカルフィ
ルタ(例えば、活性炭、アニオンフィルタ、カチオンフ
ィルタ)等からなり、一種又は複数種が使用される。こ
のフィルタ20は、薄い円板形に形成され、容器本体1
の貫通孔2に着脱自在に嵌合されており、収納容器の内
外圧力を均等にするよう機能する。なお、本実施形態で
は円板形のフィルタ20を示すが、このフィルタ20の
大きさや外形寸法については、特に限定されるものでは
なく、貫通孔2の大きさや外形寸法に応じて変更され
る。
【0015】制御体30は、所定の材料を使用して直線
的な板形に成形され、蓋体10に水平に装着されてお
り、蓋体10の嵌合閉鎖時に下方のフィルタ20と最下
位に位置する精密基板Wの前部との間に介在する。この
制御体30の材料としては、透明又は着色無地のPE、
PP等のポリオレフィン、ABS、PS、PC、PBT
等の熱可塑性樹脂及びポリエステル系、ポリオレフィン
系、ポリスチレン等の熱可塑性エラストマー等が用いら
れる。
【0016】制御体30は、少なくともフィルタ20の
開口面積と同等以上、好ましくは3倍以上の面積に形成
され、蓋体10の内面下部に着脱自在あるいは固定状態
に支持されており、フィルタ20との間に1〜30mm
の間隔を形成する。制御体30の下面、換言すれば、フ
ィルタ20に対向する対向面31は、通常平坦面に形成
されるが、単数複数のリブ、凹凸、あるいは活性炭やセ
ラミックス等からなる吸着剤層が必要に応じて適宜形成
される。なお、本実施形態では直線的な板形の制御体3
0を示すが、なんらこれに限定されるものではない。例
えば、制御体30を波形や塵埃がトラップし易い多孔質
形状等に形成しても良い。
【0017】上記構成において、収納容器の外圧が内圧
よりも高くなると、気流は、フィルタ20を通過して容
器本体1の内部に高速で流入し、内外の気圧を一定に保
とうとする。この際、気流は、フィルタ20により塵埃
の一部が除去されるが、塵埃の残部が除去されないまま
容器本体1の内部に流入する。
【0018】しかしながら、この塵埃を含む気流は、直
上の制御体30に衝突して遮断・均等分散され、精密基
板Wに悪影響を及ぼさない方向、換言すれば、容器本体
1の内部背面側の下方に流速を低下させながら拡散して
導かれる。この気流の流速低下により、塵埃は、飛散が
抑制防止され、精密基板Wに付着することなく容器本体
1の内面に付着し、精密基板Wの汚染がきわめて有効に
抑制防止される。また、気流の流速が低下するので、容
器本体1に残存した塵埃が気流で巻き上げられることが
なく、汚れた気流が精密基板Wに直接吹き付けて汚染さ
せるおそれがない。さらに、例えフィルタ20に大量の
気流が一度に流入しても、制御体30に遮断・偏向され
るので、制御体30上方の精密基板Wが振動することが
なく、パーティクル等の新たな塵埃が生じるおそれもな
い。
【0019】上記構成によれば、制御体30により汚れ
た気流が精密基板Wに直接吹き付けるのをきわめて有効
に抑制防止することができる。これにより、一定の条件
下で精密基板Wの汚染を75〜85%低減することがで
きる。また、例えフィルタ20に大量の気流が一度に流
入しても塵埃が新たに生じるおそれが実に少ない。さら
に、制御体30に、リブ、連続した凹凸、吸着剤層を形
成したり、あるいは制御体30を波形、多孔質形状に形
成すれば、塵埃を静電気力等で捕捉することができる。
この点を詳しく説明すると、塵埃粒子の大きさにもよる
が、制御体30に気流が衝突する際、制御体30の表面
に塵埃を静電気力等で捕捉することができる。したがっ
て、制御体30に、リブ、凹凸、吸着剤層を形成した
り、制御体30を波形、多孔質形状に形成すれば、係る
捕捉効果を得ることができる。
【0020】次に、図2は本発明の第2の実施形態を示
すもので、この場合には、容器本体1の底部背面側に単
数複数の貫通孔2を穿孔し、この貫通孔2にフィルタ2
0を着脱自在に嵌合し、容器本体1の内部背面下方に
は、下方のフィルタ20と最下位に位置する精密基板W
の後部との間に介在する板形の制御体30を略水平に支
持させるようにしている。その他の部分については、上
記実施形態と同様であるので説明を省略する。本実施形
態においても上記実施形態と同様の作用効果が期待で
き、しかも、容器本体1の内部正面側の下方に気流を導
くので、容器本体1の内部背面側の下方に気流を導くの
に問題が生じたり、蓋体10に制御体30を支持させる
のが困難な場合等に有意義である。
【0021】次に、図3は本発明の第3の実施形態を示
すもので、この場合には、蓋体10に単数複数の貫通孔
2を穿孔し、この貫通孔2にフィルタ20を着脱自在に
嵌合し、蓋体10の内面上部には、フィルタ20と上方
に位置する精密基板Wの前部との間に介在する断面略逆
L字形の制御体30を一体形成するようにしている。そ
の他の部分については、上記実施形態と同様であるので
説明を省略する。本実施形態においても上記実施形態と
同様の作用効果が期待でき、しかも、容器本体1の内部
正面側の下方に気流を導くので、容器本体1の内部背面
側の下方に気流を導くのに問題が生じたり、容器本体1
に制御体30を支持させるのが困難な場合等に便利であ
る。
【0022】次に、図4ないし図8は本発明の第4の実
施形態を示すもので、この場合には、容器本体1の底部
における前後両側に貫通孔2をそれぞれ穿孔し、各貫通
孔2には、フィルタ20を収納する収納筒43をシール
用のOリング45を介して密嵌螺合し、前方に位置する
一対のフィルタ20を気流流入用とするとともに、後方
に位置する一対のフィルタ20を流出用とし、制御体3
0を筒形に形成して前方の各収納筒43の上部に一体成
形し、各制御体30の開口部である流出口32を略ラッ
パ形に拡開して容器本体1の内部背面側の下方に向ける
ようにしている。
【0023】容器本体1の円筒形を呈した各貫通孔2に
は図8に示すように、円筒形のジョイント41が下方か
ら密嵌され、このジョイント41の内周面には雌螺子4
2が螺刻されており、このジョイント41の雌螺子42
に収納筒43が雄螺子44を介して螺合される。各収納
筒43は、ジョイント41よりも長い円筒形に成形さ
れ、開口上部に薄い円板形のフィルタ20が保持カラー
46を介して嵌合される。この収納筒43の上部周面の
内外にはフランジ47・48がそれぞれ半径方向に突出
形成され、内側のフランジ47が保持カラー46の上部
との間にフィルタ20をシール用のOリング45Aを介
して挟持し、外側のフランジ48が貫通孔2の上部周縁
に係止する。
【0024】各保持カラー46は、収納筒43よりも短
いリングに成形される。この保持カラー46は、上部が
縮径に形成されてその段差部には、収納筒43の内周面
に圧接するOリング45Aが嵌合され、外周面下部には
複数の係止凸部49が所定の間隔で周方向に突出形成さ
れており、各係止凸部49が収納筒43の内周面に形成
された係止凹部50に嵌合係止する。
【0025】制御体30は、基本的には内部が空洞な円
筒形に成形され、一端部が収納筒43に接続され、上方
に設けられる流出口32部分が平面略漏斗形に成形され
る。この制御体30の流出口32は、フィルタ20を介
して流入する気流の流れを制御体30の空洞部の内壁、
特に天面に当てながら気流の流れを約90°曲げて排出
するため、制御体30の周壁に形成される。流出口32
は、中心部から半径方向に1°〜180°の角度、好ま
しくは60°〜90°の角度で拡開すると良い。
【0026】これらジョイント41、収納筒43、保持
カラー46、制御体30の材料としては、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ABS、ポリスチレン、ポリカー
ボネート、ポリブチレンテレフタレート等の熱可塑性樹
脂、ポリエステル系、ポリオレフィン系、ポリスチレン
系等の熱可塑性エラストマーが用いられる。その他の部
分については、上記実施形態と同様であるので説明を省
略する。
【0027】上記構成において、収納容器の外圧が内圧
よりも高くなると、気流は、気流流入用のフィルタ20
を通過して容器本体1の内部に高速で流入し、内外の気
圧を一定に調整しようとする。この際、気流は、気流流
入用のフィルタ20により塵埃の一部が除去されるが、
塵埃の残部が除去されないまま容器本体1の内部に流入
する。
【0028】しかし、塵埃を含む気流は、ダクトである
制御体30に衝突して遮断・分散され、精密基板Wに悪
影響を及ぼさない方向、すなわち、容器本体1の内部背
面側の下方に流速を低下させながら拡散して導かれる。
この流速低下により、塵埃は、飛散が抑制防止され、精
密基板Wに付着することなく気流流出用のフィルタ20
を通過して容器本体1の外部に流出し、精密基板Wの汚
染がきわめて有効に抑制防止されるとともに、容器本体
1内のエアが短時間で効率的に置換される。
【0029】また、気流の流速が低下するので、容器本
体1に僅かに残存した塵埃が気流で巻き上げられること
がなく、汚れた気流が精密基板Wに直接吹き付けて汚染
させるおそれがない。さらに、例えフィルタ20に大量
の気流が一度に流入しても、制御体30に遮断・偏向さ
れるので、制御体30上方の精密基板Wが振動すること
がなく、新たな塵埃が生じるおそれもない。
【0030】本実施形態においても上記実施形態と同様
の作用効果が期待でき、しかも、容器本体1の貫通孔2
に収納筒43を直接ではなく、ジョイント41を介して
取り付けるとともに、ジョイント41に収納筒43を螺
子を介して取り付けるので、貫通孔2に螺子を螺刻する
必要が全くない。したがって、容器本体1の生産性の大
幅な向上が大いに期待できる。また、収納筒43にフィ
ルタ20を直接ではなく、保持カラー46を介して嵌合
するので、フィルタ20の落下を有効に抑制防止するこ
とができる。さらに、収納筒43に保持カラー46を単
に嵌合するのではなく、係止凸部49の凹凸摩擦嵌合に
より取り付けるので、保持カラー46の強固な嵌合が大
いに期待できる。
【0031】なお、上記実施形態では容器本体1と蓋体
10のいずれか一方に、フィルタ20と制御体30とを
設けたが、なんらこれに限定されるものではない。例え
ば、容器本体1と蓋体10にフィルタ20と制御体30
とをそれぞれ設けても良い。また、制御体30は収納容
器の内部を不活性ガスやドライエアー等とガス置換する
際にも有効であるので、外部から制御体30の下部開口
を介してガスを注入し、収納容器の内部にダクトを介し
て一定方向に指向する置換ガスの流れを生じさせるとと
もに、これを整流板等で収納容器の内部に循環させ、排
気孔から内部の気体を順次排気するようにしても良い。
この場合、精密基板Wを汚染することなく、短時間で効
率良くガス置換を行うことができる。さらに、制御体3
0や排気孔の位置、設置数は、特に限定されるものでは
なく、適宜変更可能であるが、精密基板Wの容器本体1
底面への投影部分以外に設置するのが好ましい。
【0032】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、汚れた流
体が物品に直接接触するのを有効に抑制し、例えフィル
タに大量の流体が一度に流入しても、塵埃が新たに生じ
るおそれが少ないという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る収納容器の実施形態を示す断面側
面図である。
【図2】本発明に係る収納容器の第2の実施形態を示す
断面側面図である。
【図3】本発明に係る収納容器の第3の実施形態を示す
断面側面図である。
【図4】本発明に係る収納容器の第4の実施形態を示す
断面平面図である。
【図5】本発明に係る収納容器の第4の実施形態を示す
断面側面図である。
【図6】本発明に係る収納容器の第4の実施形態を示す
要部平面図である。
【図7】本発明に係る収納容器の第4の実施形態を示す
要部正面図である。
【図8】本発明に係る収納容器の第4の実施形態を示す
要部拡大断面図である。
【図9】従来の収納容器を示す断面側面図である。
【符号の説明】
1 容器本体 2 貫通孔 10 蓋体 11 ガスケット 20 フィルタ 30 制御体 31 対向面 32 流出口(開口部) 41 ジョイント 43 収納筒 46 保持カラー W 精密基板(物品)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3E067 AA12 AA13 AB40 AB41 AB99 AC03 BA02A BB14A BB30A BC06A BC07A CA30 EA32 EC36 EE29 EE60 GB02 GD10 3E096 AA06 BA15 BA16 BA17 BA20 BA24 BB03 BB04 BB05 CA02 CA08 CB03 DA03 DA17 DA26 DA30 DB06 DC02 EA02X EA02Y EA10Y EA20Y FA03 FA15 FA40 GA04 GA05 GA07 GA20 5F031 CA02 CA05 DA08 EA02 EA14 EA18 NA02 NA04 NA16

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 物品を収納する容器本体の開口部を着脱
    自在の蓋体で嵌合閉鎖した収納容器であって、 上記容器本体と上記蓋体の少なくともいずれか一方に取
    り付けられるフィルタと、このフィルタと該容器本体内
    の物品との間に介在する制御体とを含み、該フィルタを
    通過して該容器本体内に流入してきた流体の流れを制御
    体により変更し、該容器本体の下方に該流体を導くよう
    にしたことを特徴とする収納容器。
  2. 【請求項2】 上記制御体を略板形に形成してそのフィ
    ルタに対向する対向面には、リブ、凹凸、あるいは吸着
    剤層を設けた請求項1記載の収納容器。
  3. 【請求項3】 上記容器本体の底部に貫通孔を設けて当
    該貫通孔には、上記フィルタ用の収納筒を取り付け、上
    記制御体を略筒形に形成して該収納筒の上部に接続し、
    該制御体の側壁には流出口を形成した請求項1記載の収
    納容器。
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Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005115033A (ja) * 2003-10-08 2005-04-28 Toppan Printing Co Ltd フォトマスク収納容器
JP2007091296A (ja) * 2005-09-29 2007-04-12 Hoya Corp マスクブランク収納容器、マスクブランクの収納方法及びマスクブランク収納体
JP2007532435A (ja) * 2004-04-18 2007-11-15 インテグリス・インコーポレーテッド 粒子状物質収集構造を有するウェハーコンテナドア
KR100794904B1 (ko) * 2005-04-22 2008-01-14 가부시키가이샤 다이하치카세이 정밀기판 수납용기의 개스킷
JP2009206156A (ja) * 2008-02-26 2009-09-10 Shin Etsu Polymer Co Ltd 基板収納容器の排出用ポート
JP2009227305A (ja) * 2008-03-24 2009-10-08 E-Sun Precision Industrial Co Ltd マスク移載容器の遮蔽式入出気構造
JP2009277688A (ja) * 2008-05-12 2009-11-26 Gold Eight Co Ltd 精密基板収納容器
US7658290B2 (en) 2002-10-25 2010-02-09 Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. Substrate storage container
JP2011181561A (ja) * 2010-02-26 2011-09-15 Tdk Corp 基板収納ポッドおよびその蓋部材並びに基板の処理装置
JP2011187866A (ja) * 2010-03-11 2011-09-22 Tdk Corp 処理基板収納ポッド
JP2012165030A (ja) * 2012-06-06 2012-08-30 Tdk Corp 基板収納ポッドおよびその蓋部材並びに基板の処理装置
JP2014107346A (ja) * 2012-11-26 2014-06-09 Shin Etsu Polymer Co Ltd 基板収納容器
JP2015170752A (ja) * 2014-03-07 2015-09-28 信越ポリマー株式会社 基板収納容器
JP2016015421A (ja) * 2014-07-02 2016-01-28 ミライアル株式会社 基板収納容器
KR20180031849A (ko) * 2016-09-19 2018-03-29 세메스 주식회사 기판 처리 장치
WO2018226800A1 (en) * 2017-06-09 2018-12-13 Entegris, Inc. Substrate container with particle mitigation feature
JP2019021717A (ja) * 2017-07-14 2019-02-07 信越ポリマー株式会社 基板収納容器
JP7421939B2 (ja) 2020-01-30 2024-01-25 信越ポリマー株式会社 基板収納容器

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7658290B2 (en) 2002-10-25 2010-02-09 Shin-Etsu Polymer Co., Ltd. Substrate storage container
JP4539068B2 (ja) * 2003-10-08 2010-09-08 凸版印刷株式会社 フォトマスク収納容器
JP2005115033A (ja) * 2003-10-08 2005-04-28 Toppan Printing Co Ltd フォトマスク収納容器
KR101264938B1 (ko) * 2004-04-18 2013-05-15 엔테그리스, 아이엔씨. 미립자 수집 구조물을 구비한 웨이퍼 콘테이너 도어
JP2007532435A (ja) * 2004-04-18 2007-11-15 インテグリス・インコーポレーテッド 粒子状物質収集構造を有するウェハーコンテナドア
KR100794904B1 (ko) * 2005-04-22 2008-01-14 가부시키가이샤 다이하치카세이 정밀기판 수납용기의 개스킷
JP2007091296A (ja) * 2005-09-29 2007-04-12 Hoya Corp マスクブランク収納容器、マスクブランクの収納方法及びマスクブランク収納体
JP2009206156A (ja) * 2008-02-26 2009-09-10 Shin Etsu Polymer Co Ltd 基板収納容器の排出用ポート
JP2009227305A (ja) * 2008-03-24 2009-10-08 E-Sun Precision Industrial Co Ltd マスク移載容器の遮蔽式入出気構造
JP2009277688A (ja) * 2008-05-12 2009-11-26 Gold Eight Co Ltd 精密基板収納容器
JP2011181561A (ja) * 2010-02-26 2011-09-15 Tdk Corp 基板収納ポッドおよびその蓋部材並びに基板の処理装置
US8893753B2 (en) 2010-02-26 2014-11-25 Tdk Corporation Substrate storage pod and lid member thereof, and processing apparatus for a substrate
JP2011187866A (ja) * 2010-03-11 2011-09-22 Tdk Corp 処理基板収納ポッド
JP2012165030A (ja) * 2012-06-06 2012-08-30 Tdk Corp 基板収納ポッドおよびその蓋部材並びに基板の処理装置
JP2014107346A (ja) * 2012-11-26 2014-06-09 Shin Etsu Polymer Co Ltd 基板収納容器
JP2015170752A (ja) * 2014-03-07 2015-09-28 信越ポリマー株式会社 基板収納容器
JP2016015421A (ja) * 2014-07-02 2016-01-28 ミライアル株式会社 基板収納容器
KR20180031849A (ko) * 2016-09-19 2018-03-29 세메스 주식회사 기판 처리 장치
KR101870655B1 (ko) 2016-09-19 2018-08-03 세메스 주식회사 기판 처리 장치
WO2018226800A1 (en) * 2017-06-09 2018-12-13 Entegris, Inc. Substrate container with particle mitigation feature
JP2019021717A (ja) * 2017-07-14 2019-02-07 信越ポリマー株式会社 基板収納容器
JP7421939B2 (ja) 2020-01-30 2024-01-25 信越ポリマー株式会社 基板収納容器

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