JP2003169646A - 真空マイクロ波解凍機、及び真空マイクロ波解凍方法 - Google Patents

真空マイクロ波解凍機、及び真空マイクロ波解凍方法

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JP2003169646A JP2001372928A JP2001372928A JP2003169646A JP 2003169646 A JP2003169646 A JP 2003169646A JP 2001372928 A JP2001372928 A JP 2001372928A JP 2001372928 A JP2001372928 A JP 2001372928A JP 2003169646 A JP2003169646 A JP 2003169646A
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信雄 伊藤
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芳喜 杉山
Takashi Asahara
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 被解凍物の複数箇所の表面温度を検出して、
被解凍物の局部加熱が生じないように加熱操作すること
ができ、ドリップの発生しない良好な状態の解凍仕上が
りを実現することができる真空マイクロ波解凍機、及び
これを使用して行う真空マイクロ波解凍方法を提供す
る。 【解決手段】 減圧工程と復圧工程とを繰り返し行いな
がらマイクロ波を照射して被解凍物73を加熱し解凍を
行う真空マイクロ波解凍機1であって、被解凍物73を
収容するチャンバー10内に、被解凍物73の複数箇所
の表面温度を検出し、各検出箇所の温度検出値a、b、
c、d…をそれぞれ出力する非接触型温度センサー70
を配している。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、減圧状態でマイク
ロ波を照射して被解凍物の加熱解凍を行う真空マイクロ
波解凍機、及び該解凍機により実施する真空マイクロ波
解凍方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の真空マイクロ波解凍機は、減圧工
程と復圧工程とを繰り返し行いながら、減圧工程におい
てマイクロ波を照射して被解凍物を加熱し解凍を行う装
置であり、この種の真空マイクロ波解凍機には、被解凍
物を収容するチャンバーと、該チャンバー内を減圧する
真空ポンプと、該真空ポンプにより減圧したチャンバー
内を復圧する復圧手段と、上記減圧工程においてチャン
バー内へマイクロ波を照射するマイクロ波発生器とが備
えられている。
【0003】この種の真空マイクロ波解凍機では、真空
ポンプにより一定の吸引力を与えて、この時の単位時間
当たりの減圧変化を真空センサーにより検出し、減圧変
化が少なくなって平衡状態になったとみなせるときの圧
力から被解凍物の温度を推測し、この推測温度が解凍終
了温度に到達すると解凍作業を終了していた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の真空マ
イクロ波解凍機では、被解凍物の温度を直接検出してい
ないので、加熱むらにより被解凍物が局部的に加熱され
ていても、被解凍物の平均温度として推測しているた
め、解凍作業の終了時には、例えば被解凍物の一部分が
0℃以上となり、ドリップの発生する状態の悪い解凍仕
上がりとなる可能性があった。
【0005】この様に、従来の真空マイクロ波解凍機で
は、被解凍物の部位による温度のばらつきに対して対処
することができなかった。
【0006】そこで、本発明は、被解凍物の複数箇所の
表面温度を検出して、被解凍物の局部加熱が生じないよ
うに加熱操作することができ、ドリップの発生しない良
好な状態の解凍仕上がりを実現することができる真空マ
イクロ波解凍機、及びこれを使用して行う真空マイクロ
波解凍方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記に鑑み提
案されたもので、請求項1に記載のものは、被解凍物を
収容するチャンバーと、該チャンバー内を減圧する真空
ポンプと、上記チャンバー内を復圧する調圧弁と、上記
チャンバー内へマイクロ波を照射するマイクロ波発生器
と、上記真空ポンプ、調圧弁、及びマイクロ波発生器を
制御する制御装置とを有し、該制御装置の制御の下で減
圧工程と復圧工程とを繰り返し行いながらマイクロ波を
照射して被解凍物を加熱し解凍を行う真空マイクロ波解
凍機において、上記チャンバー内に、被解凍物の複数箇
所の表面温度を検出し、各検出箇所の温度検出値をそれ
ぞれ出力する非接触型温度センサーを設け、該非接触型
温度センサーからの温度信号を制御装置に入力して被解
凍物の温度を複数箇所で管理することを特徴とする真空
マイクロ波解凍機である。
【0008】請求項2に記載のものは、前記制御装置
が、温度検出値の平均が基準値に到達するとマイクロ波
発生器の出力を停止するとともに、減圧を停止してチャ
ンバー内を大気開放する構成であることを特徴とする請
求項1に記載の真空マイクロ波解凍機である。
【0009】請求項3に記載のものは、前記制御装置
が、温度検出値の平均が前記基準値よりも低い温度であ
って、かつ検出箇所間の温度差が、予め設定した所定温
度以上であるときは、マイクロ波発生器の出力を低下お
よび/または照射時間を短縮して解凍サイクルを継続
し、前記温度検出値の平均が基準値に到達するとマイク
ロ波発生器の出力を停止するとともに、減圧を停止して
チャンバー内を大気開放する構成であることを特徴とす
る請求項1に記載の真空マイクロ波解凍機である。
【0010】請求項4に記載のものは、前記制御装置
が、温度検出値の平均が前記基準値よりも低い温度であ
って、かつ検出箇所間の温度差が、予め設定した所定温
度を超えると、マイクロ波の出力を停止して解凍作業を
中断する構成であることを特徴とする請求項1に記載の
真空マイクロ波解凍機である。
【0011】請求項5に記載のものは、減圧工程と復圧
工程とを繰り返し行いながらマイクロ波を照射して被解
凍物を加熱し解凍を行う真空マイクロ波解凍方法におい
て、被解凍物の複数箇所の表面温度を検出し、該温度検
出値の平均が基準値に到達するとマイクロ波の出力を停
止すると共に、減圧を停止して被解凍物を収容するチャ
ンバー内を大気開放し、解凍作業を終了することを特徴
とする真空マイクロ波解凍方法である。
【0012】請求項6に記載のものは、前記温度検出値
の平均が基準値よりも低い温度であり、かつ検出箇所間
の温度差が所定温度以上であるときは、マイクロ波の出
力を低下および/または照射時間を短縮して解凍サイク
ルを継続し、前記温度検出値の平均が基準値に到達する
と解凍作業を終了することを特徴とする請求項5に記載
の真空マイクロ波解凍方法である。
【0013】請求項7に記載のものは、減圧工程と復圧
工程とを繰り返し行いながらマイクロ波を照射して被解
凍物を加熱し解凍を行う真空マイクロ波解凍方法におい
て、被解凍物の複数箇所の表面温度を検出し、該温度検
出値の検出箇所間の温度差が予め設定した所定温度を超
えるときは、マイクロ波の出力を停止して解凍作業を中
断することを特徴とする真空マイクロ波解凍方法であ
る。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。図1は、本実施形態の真空マイク
ロ波解凍機の外観を示す正面図である。図2は、本実施
形態の真空マイクロ波解凍機の右側面における内部構造
を示す概略図である。
【0015】図1に示すように、本実施形態の真空マイ
クロ波解凍機1は、筐体2上部に、冷凍食品等の被解凍
物を収容する食品収容部3が配設され、下部には後述す
る駆動モータや真空ポンプ等を収納する機械収納部4が
配設され、最上部には制御装置を収納する制御部5が備
えられており、この制御部5の前面パネルには、被解凍
物の重量や解凍時間等を表示する表示部6と、電源のオ
ン/オフや各種の設定値等を入力する操作部7とが設け
られている。また、真空マイクロ波解凍機1の筐体2の
下面には、本解凍機1の移動を容易にするためのキャス
ター8が設けられている。
【0016】図1及び図2に示すように、本実施形態の
真空マイクロ波解凍機1における食品収容部3の本体は
前面に開口部を有する中空箱体状のチャンバー10によ
って構成され、該チャンバー10は電磁波を遮断しうる
内壁構造を有する金属製耐圧気密容器として形成されて
いる。このチャンバー10の前面開口部には、チャンバ
ー10内を密閉状態で閉成しうるドア11が正面右側端
部のヒンジ部を介して開閉自在に取り付けられており、
該ドア11の開放側となる前面左側にはその開閉操作の
際に把持する把手12が取り付けられ、該ドア11とチ
ャンバー10との間には電磁波が外部へ洩れるのを防止
するための金属網紐製の電磁波シール材とチャンバー1
0内の気密性を維持する気密シール材とが装着されてい
る。
【0017】チャンバー10内の底部には、回転軸13
が軸受14に支承されて起立した状態で回転自在に設け
られており、この回転軸13の上端部には上記チャンバ
ー10内で被解凍物を載置して回転するターンテーブル
15が着脱自在に取り付けられ、この回転軸13の基端
部には減速機構を介してテーブル駆動モータ16が接続
されている。
【0018】チャンバー10の背面中央部には、該チャ
ンバー10内に連通した直状導波管20及びレジューサ
導波管21を介して、該チャンバー10内へマイクロ波
を照射して上記ターンテーブル15上に載置された被解
凍物を加熱するためのマイクロ波発生器22が接続され
ている。本実施形態では、マイクロ波発生器22として
マグネトロンが採用されており、直状導波管20とレジ
ューサ導波管21とのフランジ接続部23にはマイクロ
波を透過し易いガラス板製の圧力隔壁が介設されてい
る。
【0019】チャンバー10の背面上部には、マイクロ
波の照射によりチャンバー10内で放電が生じた場合
に、これを検出する放電検出センサー30が設けられて
おり、この放電検出センサー30としては放電現象の有
無を紫外線(UV)の検出により判定するUVセンサー
が採用されている。また、チャンバー10の上部前方に
は、チャンバー10内の圧力を検出する真空圧力センサ
ー31が設けられている。
【0020】チャンバー10の上部には、チャンバー1
0内の圧力を大気開放する大気開放弁40、及びチャン
バー10内の圧力を調整する調圧弁41が備えられてい
る。また、チャンバー10の背面には、チャンバー10
内を減圧する減圧系43が接続され、この減圧系43に
は逆止弁44を介してポンプ駆動モータ45により駆動
される真空ポンプ46が接続されている。上記大気開放
弁40及び調圧弁41は、上記制御部5に収納された制
御装置による開閉制御を可能とするため、例えば電磁弁
によって構成されている。
【0021】また、チャンバー10内の天井面部には、
ターンテーブル15上に載置された被解凍物の複数箇所
の表面温度を検出する非接触型温度センサー70が設け
られており、この温度センサー70には、例えば温度検
出素子71として赤外線素子を備えた赤外線式温度セン
サー等が好適である。本実施形態では、非接触型温度セ
ンサー70として、図2及び図3に示すように、複数の
温度検出素子71を内包してワンユニット化した非接触
型温度センサーを採用しているが、これに限るものでは
ない。例えば、単一の温度検出素子を備えた非接触型温
度センサーを個別に複数配設してもよい。なお、各温度
検出素子71が検出する箇所の温度検出値(温度信号)
を後述する制御装置50により演算処理して解凍操作の
制御を行うため、例えば、図3においてa、b、c、d
…に示すように、温度検出値をそれぞれ出力することが
望ましい。
【0022】なお、図2及び図3では、便宜上から、単
一の非接触型温度センサー70に4個の温度検出素子7
1を配したように図示しているが、その数は温度検出素
子71の指向性や検出能力等に応じて適宜設定されるも
のであり、また非接触型温度センサー70を取り付ける
位置も本実施形態のようにチャンバー10内の天井面部
に限るものではなく、被解凍物の温度を検出し得る位置
であればよい。例えば、チャンバー10内の背面部、側
面部などでもよい。
【0023】図4は、本実施形態の真空マイクロ波解凍
機1における制御系を示すブロック図である。この制御
装置50は前記した制御部5に収納され、例えばROM
51に記録した制御プログラムを実行するマイクロコン
ピュータ等により構成されている。そして、この制御装
置50には、ターンテーブル15を回転駆動するテーブ
ル駆動モータ16の電源制御系52と、上記真空ポンプ
46を駆動するポンプ駆動モータ45の電源制御系53
と、上記大気開放弁40の開閉制御系54と、上記調圧
弁41の開閉制御系55と、上記マイクロ波発生器22
の電源制御系56と、上記放電検出センサー30の検出
値入力系57と、上記真空圧力センサー31の検出値入
力系58と、上記非接触型温度センサー70の検出値入
力系72と、上記操作部7の設定値等の入力系59と、
上記表示部6の表示出力系60とが接続されており、前
記した操作部7の設定値や、上記放電検出センサー3
0、真空圧力センサー31、及び非接触型温度センサー
70の各検出値等に基づいて、ROMに記録された制御
プログラムに従って上記ポンプ駆動モータ45やマイク
ロ波発生器22等の各機器を駆動制御する。
【0024】次に、以上のような真空マイクロ波解凍機
1を用いて実施する本実施形態の真空マイクロ波解凍方
法について説明する。図5は、本実施形態の真空マイク
ロ波解凍機1における解凍サイクルを示す説明図であ
る。
【0025】図5に示すように、本実施形態の真空マイ
クロ波解凍機1は、制御装置50の制御の下で減圧工程
G、G′、G″…と復圧工程F、F′…とを繰り返し行
いながらマイクロ波を照射M、M′…して被解凍物を加
熱し解凍を行う装置である。なお、真空ポンプ46は減
圧工程は勿論のこと復圧工程中も作動し続ける。
【0026】解凍の準備段階として、まず、正面のドア
11を開放してターンテーブル15上に冷凍食品等の被
解凍物を載置し、再びドア11を閉成して密閉状態と
し、チャンバー10内に被解凍物を収容する。なお、大
気開放弁40及び調圧弁41は閉成状態とする。
【0027】次に、ポンプ駆動モータ45を駆動して真
空ポンプ46を作動させ、減圧系43を介してチャンバ
ー10内の減圧を開始する。すると、大気圧の101.
3kPa(760Torr)からA点を経て徐々に減圧
度が減少し、減圧平衡域Bまで減圧工程Gが行われ、こ
の減圧工程Gにおいて被解凍物の予備乾燥がなされる。
【0028】ここで、減圧平衡域とは、一定時間に対す
る減圧度が極めて低下する領域であり、例えば30秒間
(Δt)における減圧度(ΔP)がΔP/Δt<13.
3Pa(0.1Torr)となったときに減圧平衡域に
達したと把握するが、該減圧平衡域における平衡圧力は
チャンバー10内の飽和蒸気圧により上下する。なお、
この減圧平衡域に到達したか否かは、真空圧力センサー
31からの圧力信号に基づいて制御装置50が演算して
判断する。
【0029】上記減圧平衡域Bまで減圧工程Gを行った
後、上記調圧弁41を後述する所定の開度で開放して復
圧工程Fへと移行し、復圧工程Fの減圧度が真空放電を
起こさない下限値P1〔本実施形態では多少余裕を見て
1.33kPa(10Torr)に設定〕を超えた後の
C点のときに、上記マグネトロン22によるマイクロ波
の照射Mを開始し、予め設定した復圧上限値Dまで復圧
したときに真空圧力センサー31からの圧力信号に基づ
いて制御装置50が上記調圧弁41を閉成し、その後再
度減圧工程G′へ移行する。そして、その減圧度が真空
放電を起こさない下限値P1に達する手前のA′点まで
上記マグネトロン22によるマイクロ波の照射Mを継続
して被解凍物を加熱し、このA′点においてマイクロ波
の照射を停止する。
【0030】また本実施形態では、上記真空放電を起こ
さない減圧度の下限値P1は、上述したように、1.3
3kPa(10Torr)に設定されている。即ち、復
圧工程Fにおける減圧度が1.33kPa(10Tor
r)を超えた後のC点のときに、上記マグネトロン22
によるマイクロ波の照射Mを開始し、予め設定した復圧
上限値Dまで復圧した後に再度減圧工程G′へ移行する
と共に、その減圧度が1.33kPa(10Torr)
に達する手前のA′点まで上記マグネトロンによるマイ
クロ波の照射Mを継続して被解凍物を加熱する。このよ
うに復圧工程Fの途中から減圧工程G′にわたってマイ
クロ波の照射Mを行っているため、減圧工程でのみ照射
する従来に比較して、復圧工程と減圧工程とからなる1
解凍サイクルにおける照射時間を充分に確保することが
できる。
【0031】上記復圧上限値Dは、マイクロ波を照射す
るマグネトロン22の出力と真空ポンプ46の減圧能力
とチャンバー10の容積によって設定される可変な圧力
値であり、本実施形態では、調圧弁41の絞り弁41´
の絞りを調整することにより、6.66kPa(50T
orr)に設定されている。したがって、6.66kP
a(50Torr)まで復圧すると、調圧弁41からの
リークと真空ポンプ46の吸引能力がバランスして、調
圧弁41を閉じない限り6.66kPa(50Tor
r)を維持して圧力上昇はしない。
【0032】本実施形態では、このように復圧上限値D
の圧力値が、マイクロ波を照射するマグネトロン22の
出力と真空ポンプ46の減圧能力とチャンバー10の容
積に応じて適宜設定されるので、真空放電発生域に入る
までに過不足のないマイクロ波の照射時間を採ることが
でき、しかも効率良く減圧できる。
【0033】なお、復圧上限値Dに到達したことを検知
する手段として、本実施形態では真空圧力センサー31
からの信号により検知し、これにより制御装置50が調
圧弁43を閉じて減圧工程に移行するように構成した
が、本発明はこれに限らず、タイマー制御により停止し
てもよい。
【0034】マイクロ波照射の停止後、A′点から減圧
平衡域B′までの減圧過程において、被解凍物を昇華冷
却する。このように減圧工程G′におけるA′点までマ
イクロ波を照射して被解凍物を加熱した後、A′点から
減圧平衡域B′までの減圧過程において被解凍物を昇華
冷却するのは、マイクロ波を照射して被解凍物を加熱す
ると、被解凍物の表面部分の温度が中心部分の温度より
も高くなり、そのまま加熱を継続すると表面部分にドリ
ップが発生するなどの不都合が生じるからであり、昇華
により表面部分を冷却して内外の温度差を縮めるためで
ある。
【0035】すなわち、昇華が始まると気化潜熱が奪わ
れて表面部分の温度が低下していくとともに、表面部分
の熱が中心部分に移動(熱伝導)して中心部分を昇温す
る。これにより被解凍物の温度が均一化されて、全体と
して被解凍物の温度が上昇し解凍が促進されることにな
る。また、被解凍物の温度が均一化されながら、全体と
して被解凍物の解凍が促進されるので、部分的に解凍が
進行してドリップが発生したり、このドリップにマイク
ロ波が集中する不都合を防止することができる。
【0036】本実施形態は、復圧工程Fへ移行し、復圧
工程Fの減圧度が真空放電を起こさない下限値P1であ
る1.33kPa(10Torr)を超えた後のC点の
ときにマイクロ波の照射Mを開始し、予め設定した復圧
上限値Dである6.66kPa(50Torr)まで復
圧した後に再度減圧工程G′へ移行すると共に、その減
圧度が真空放電を起こさない下限値P1であるA′の
1.33kPa(10Torr)に達する手前までマイ
クロ波の照射Mを継続して加熱し、マイクロ波の照射M
の停止後に、減圧平衡域B′までの減圧過程において昇
華冷却する解凍サイクルを1サイクルとして、この解凍
サイクルを繰り返し行う。
【0037】即ち、図5において、減圧平衡域B′まで
減圧工程G′を行った後復圧工程F′へ移行し、復圧工
程F′の減圧度が真空放電を起こさない下限値P1であ
る1.33kPa(10Torr)を超えた後のC′点
のときにマイクロ波の照射M′を再び開始し、予め設定
した復圧上限値D′である6.66kPa(50Tor
r)まで復圧した後に再度減圧工程G″へ移行すると共
に、その減圧度が真空放電を起こさない下限値P1であ
るA″の1.33kPa(10Torr)に達する手前
までマイクロ波の照射M′を継続して加熱し、マイクロ
波照射を再度停止した後、減圧平衡域B″までの減圧過
程において昇華冷却する解凍サイクルを2サイクル目と
して行う。各復圧工程F、F′…における復圧特性は、
復圧弁41の絞り弁41′の設定に依存しているので、
各解凍サイクルにおいて一定、即ち、復圧曲線のカーブ
が各解凍サイクルにおいて一定であり、これにより安定
した解凍を行うことができる。
【0038】このような解凍サイクルを繰り返して解凍
操作を行うが、図3に示したように、上記チャンバー1
0内の天井面部に配設された非接触型温度センサー70
が、常時、被解凍物73の複数箇所の表面温度を検出し
ている。この温度センサー70の各温度検出素子71の
各検出箇所における温度検出値の出力a、b、c、d…
は、それぞれ検出値入力系72を介して制御装置50へ
と入力され、演算処理される。そして、温度検出値の平
均が基準値(例えば、約−3℃)に到達すると、解凍作
業の終了を決定する。
【0039】一方、温度検出値の平均が基準値(例え
ば、約−3℃)よりも低い温度であり、かつ検出箇所間
の温度差(例えば、図3におけるa、b、c、d間の温
度差)が所定温度以上(例えば、1℃以上)であるとき
は、制御装置50がマグネトロン22のマイクロ波出力
を低下し、および/またはマイクロ波の照射時間を短縮
して解凍サイクルをそのまま継続し、その後、温度検出
値の平均が基準値(例えば、約−3℃)に到達すると、
上述したように解凍作業の終了を決定する。
【0040】この様に、被解凍物の部位によって所定温
度以上の温度差があった場合にマイクロ波の出力を低下
したり、照射時間を短縮すると、緩やかな加熱に移行で
きるので、その間に被解凍物内においては、高温部分か
ら低温部分に熱伝導が行われて温度の均一化が図られ
る。したがって、被解凍物に局部的な温度上昇を回避で
き、これにより全体が均等に解凍されることとなり、ド
リップの発生も防止できる。
【0041】また、温度検出値の検出箇所間の温度差
(例えば、図3におけるa、b、c、d間の温度差)が
所定温度範囲(例えば、2℃以内)を超えるときは、マ
グネトロン22のマイクロ波出力を停止して解凍作業を
中断するようにしてもよい。この場合、真空ポンプ46
による減圧を停止して、被解凍物73を収容するチャン
バー10内を大気開放し、ターンテーブル15上におけ
る被解凍物73の位置を変更するなどすることにより、
被解凍物73の局部加熱が進行しないうちに解凍操作を
調整することができる。
【0042】制御装置50において解凍サイクルの終了
が決定されると、大気開放弁40が開放されると共に、
ポンプ駆動モータ45の電源を遮断して真空ポンプ46
が停止され、収納室9内が大気圧に戻るとドア11の開
放が可能となり、チャンバー10内から基準値である約
−3℃に解凍された被解凍物73を取り出すことができ
る。
【0043】このように本実施形態では、被解凍物73
の複数箇所の温度を検出し、該温度検出値の平均が基準
値である約−3℃に到達すると、マイクロ波の出力を停
止すると共に、減圧を停止して被解凍物73を収容する
チャンバー10内を大気開放し、解凍作業を終了するの
で、被解凍物73の加熱むらがなく、ドリップの発生し
ない良好な状態の解凍仕上がりを実現することができ
る。
【0044】さらに、温度検出値の平均が基準値である
約−3℃よりも低い温度であり、かつ検出箇所間の温度
差が所定温度以上(例えば、1℃以上)であるときは、
マイクロ波の出力を低下し、および/またはマイクロ波
の照射時間を短縮して解凍サイクルを継続し、その後、
温度検出値の平均が基準値である約−3℃に到達すると
解凍作業を終了するので、被加熱物(被解凍物)の加熱
むら生じている場合でも、最終的にはドリップの発生し
ない良好な状態の解凍仕上がりを実現することができる
ものである。
【0045】なお、前記実施形態においては、赤外線式
温度センサーを例に挙げて説明したが、本発明の非接触
型温度センサーは、非解凍物に接触することなく温度を
検出することができればどのような構成の温度センサー
でもよい。そして、マイクロ波照射を緩めたり、或いは
停止させる前記温度差は、前記実施形態では1℃、2℃
として説明したが、この設定は適宜設定値を設計変更す
ることができる。しかしながら、冷凍食品にあっては−
3℃が解凍適温であり、ドリップの発生を防止するため
には、前記設定温度は3℃以内、望ましくは1℃以内で
ある。
【0046】また、前記実施形態では、被解凍物を冷凍
食品として説明したが、本発明で解凍する被解凍物は食
品に限定されるものではなく、血液、血清、***、薬品
などでもよい。
【0047】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の真空マイクロ波解凍機によれば、以下のような優れた
効果を奏する。即ち、非接触型温度センサーにより被解
凍物の複数箇所の温度を検出すると、平衡状態から被解
凍物の温度を推測するよりも温度管理を高い精度で行う
ことができる。そして、解凍終了となる基準値よりも低
い温度であって、且つ検出箇所の温度差が所定温度以上
であるときは、マイクロ波加熱を弱くして解凍を継続す
ると、被解凍物の局部加熱が生じないように加熱操作す
ることができ、ドリップの発生しない良好な状態の解凍
仕上がりを実現することができ、しかも効率良く行うこ
とができる。
【0048】また、被解凍物の複数箇所の温度を検出
し、該温度検出値の検出箇所間の温度差が所定温度範囲
を超えるときは、マイクロ波の出力を停止して解凍作業
を中断するように構成すると、ターンテーブル上におけ
る被解凍物の配置を変更するなどして、被解凍物の局部
加熱が進行しないうちに解凍操作を調整することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施形態の真空マイクロ波解凍機の外観を示
す正面図である。
【図2】本実施形態の真空マイクロ波解凍機の右側面に
おける内部構造を示す概略図である。
【図3】本実施形態の真空マイクロ波解凍機における非
接触型温度センサーを示す概略図である。
【図4】本実施形態の真空マイクロ波解凍機における制
御系を示すブロック図である。
【図5】本実施形態の真空マイクロ波解凍機における解
凍サイクルを示す説明図である。
【符号の説明】
1 真空マイクロ波解凍機 2 筐体 3 食品収容部 4 機械収納部 5 制御部 6 表示部 7 操作部 8 キャスター 10 チャンバー 11 ドア 12 把手 13 回転軸 14 軸受 15 ターンテーブル 16 テーブル駆動モータ 20 直状導波管 21 レジューサ導波管 22 マイクロ波発生器(マグネトロン) 23,24 フランジ継手 25 圧力隔壁 26 減圧領域 27 非減圧領域 28 弾性体 29 ボルト・ナット 30 放電検出センサー 31 真空圧力センサー 40 大気開放弁 41 調圧弁 43 減圧系 44 逆止弁 45 ポンプ駆動モータ 46 真空ポンプ 50 制御装置 51 ROM 52 テーブル駆動モータの電源制御系 53 ポンプ駆動モータの電源制御系 54 大気開放弁の開閉制御系 55 調圧弁の開閉制御系 56 マイクロ波発生器の電源制御系 57 放電検出センサーの検出値入力系 58 真空圧力センサーの検出値入力系 59 操作部の設定値等の入力系 60 表示部の表示出力系 70 非接触型温度センサー 71 温度検出素子 72 非接触型温度センサーの検出値入力系 73 被解凍物
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 杉山 芳喜 静岡県田方郡大仁町神島字日之前244番地 東静電気株式会社内 (72)発明者 浅原 崇 静岡県田方郡大仁町神島字日之前244番地 東静電気株式会社内 Fターム(参考) 3K086 AA07 BA08 BB02 CA04 CB04 CC01 CC02 CD11 CD27 DA02 DA13 4B022 LB01 LQ06 LQ07 LT07

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被解凍物を収容するチャンバーと、該チ
    ャンバー内を減圧する真空ポンプと、上記チャンバー内
    を復圧する調圧弁と、上記チャンバー内へマイクロ波を
    照射するマイクロ波発生器と、上記真空ポンプ、調圧
    弁、及びマイクロ波発生器を制御する制御装置とを有
    し、該制御装置の制御の下で減圧工程と復圧工程とを繰
    り返し行いながらマイクロ波を照射して被解凍物を加熱
    し解凍を行う真空マイクロ波解凍機において、 上記チャンバー内に、被解凍物の複数箇所の表面温度を
    検出し、各検出箇所の温度検出値をそれぞれ出力する非
    接触型温度センサーを設け、該非接触型温度センサーか
    らの温度信号を制御装置に入力して被解凍物の温度を複
    数箇所で管理することを特徴とする真空マイクロ波解凍
    機。
  2. 【請求項2】 前記制御装置は、温度検出値の平均が基
    準値に到達するとマイクロ波発生器の出力を停止すると
    ともに、減圧を停止してチャンバー内を大気開放する構
    成であることを特徴とする請求項1に記載の真空マイク
    ロ波解凍機。
  3. 【請求項3】 前記制御装置は、温度検出値の平均が前
    記基準値よりも低い温度であって、かつ検出箇所間の温
    度差が、予め設定した所定温度以上であるときは、マイ
    クロ波発生器の出力を低下および/または照射時間を短
    縮して解凍サイクルを継続し、前記温度検出値の平均が
    基準値に到達するとマイクロ波発生器の出力を停止する
    とともに、減圧を停止してチャンバー内を大気開放する
    構成であることを特徴とする請求項1に記載の真空マイ
    クロ波解凍機。
  4. 【請求項4】 前記制御装置は、温度検出値の平均が前
    記基準値よりも低い温度であって、かつ検出箇所間の温
    度差が、予め設定した所定温度を超えると、マイクロ波
    の出力を停止して解凍作業を中断する構成であることを
    特徴とする請求項1に記載の真空マイクロ波解凍機。
  5. 【請求項5】 減圧工程と復圧工程とを繰り返し行いな
    がらマイクロ波を照射して被解凍物を加熱し解凍を行う
    真空マイクロ波解凍方法において、 被解凍物の複数箇所の表面温度を検出し、該温度検出値
    の平均が基準値に到達するとマイクロ波の出力を停止す
    ると共に、減圧を停止して被解凍物を収容するチャンバ
    ー内を大気開放し、解凍作業を終了することを特徴とす
    る真空マイクロ波解凍方法。
  6. 【請求項6】 前記温度検出値の平均が基準値よりも低
    い温度であり、かつ検出箇所間の温度差が所定温度以上
    であるときは、マイクロ波の出力を低下および/または
    照射時間を短縮して解凍サイクルを継続し、前記温度検
    出値の平均が基準値に到達すると解凍作業を終了するこ
    とを特徴とする請求項5に記載の真空マイクロ波解凍方
    法。
  7. 【請求項7】 減圧工程と復圧工程とを繰り返し行いな
    がらマイクロ波を照射して被解凍物を加熱し解凍を行う
    真空マイクロ波解凍方法において、 被解凍物の複数箇所の表面温度を検出し、該温度検出値
    の検出箇所間の温度差が予め設定した所定温度を超える
    ときは、マイクロ波の出力を停止して解凍作業を中断す
    ることを特徴とする真空マイクロ波解凍方法。
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