JP2833250B2 - 減圧高周波加熱装置 - Google Patents
減圧高周波加熱装置Info
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- JP2833250B2 JP2833250B2 JP6634591A JP6634591A JP2833250B2 JP 2833250 B2 JP2833250 B2 JP 2833250B2 JP 6634591 A JP6634591 A JP 6634591A JP 6634591 A JP6634591 A JP 6634591A JP 2833250 B2 JP2833250 B2 JP 2833250B2
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- pressure
- heated
- heating chamber
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- Electric Ovens (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はマイクロ波を加熱源と
し、減圧下で加熱を行う加熱装置に関するものである。
し、減圧下で加熱を行う加熱装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】マイクロ波による加熱は、外部からの熱
伝導による雰囲気加熱や輻射加熱と異なり、水分を含む
被加熱物を内部から直接に加熱するため、被加熱物だけ
を効率よく加熱できる。このためマイクロ波を熱源とし
た加熱装置として、例えば電子レンジが広く利用されて
いる。
伝導による雰囲気加熱や輻射加熱と異なり、水分を含む
被加熱物を内部から直接に加熱するため、被加熱物だけ
を効率よく加熱できる。このためマイクロ波を熱源とし
た加熱装置として、例えば電子レンジが広く利用されて
いる。
【0003】また、このような電子レンジをより便利に
利用できるよう自動化も積極的に図られており、種々の
センサが実用に供されている。これらのセンサの中で
は、加熱の進行とともに食品から発生する水蒸気やさま
ざまなガスに反応する湿度センサやガスセンサが汎用さ
れている。
利用できるよう自動化も積極的に図られており、種々の
センサが実用に供されている。これらのセンサの中で
は、加熱の進行とともに食品から発生する水蒸気やさま
ざまなガスに反応する湿度センサやガスセンサが汎用さ
れている。
【0004】湿度センサを用いた自動加熱において、仕
上がり具合の調整を可能にした先行技術としては特公昭
54−42694号公報がある。これは被加熱物から発
生する湿度の変化を検出し、それがある設定値に達した
時点を蒸気検出時点とするものであり、そこに到達する
までに要した加熱時間T1 を求めこれと別に定めた被加
熱物との固有の係数k0 との積を算出し、T1とk0 T1
との和を全加熱時間とするとともに、この全加熱時間
を±ΔkT1 だけ外部操作によって調整できるように構
成したものである。
上がり具合の調整を可能にした先行技術としては特公昭
54−42694号公報がある。これは被加熱物から発
生する湿度の変化を検出し、それがある設定値に達した
時点を蒸気検出時点とするものであり、そこに到達する
までに要した加熱時間T1 を求めこれと別に定めた被加
熱物との固有の係数k0 との積を算出し、T1とk0 T1
との和を全加熱時間とするとともに、この全加熱時間
を±ΔkT1 だけ外部操作によって調整できるように構
成したものである。
【0005】すなわち全加熱時間T0 は次式で示され
る。 T0 =T1 +k0 T1 ±ΔkT1 外部操作は可変抵抗の設定により行われ、使用者の好み
に応じて加熱調理の仕上がり具合の調整が可能な調理器
用タイマ装置を実現している。
る。 T0 =T1 +k0 T1 ±ΔkT1 外部操作は可変抵抗の設定により行われ、使用者の好み
に応じて加熱調理の仕上がり具合の調整が可能な調理器
用タイマ装置を実現している。
【0006】ところで、食品からの水蒸気の発生は、加
熱の進行とともに被加熱物の温度が70℃を過ぎるあた
りから活発になり、80〜90℃で大量に放出される。
このため湿度センサやガスセンサを用いた自動化では食
品の温度を100℃近くまで上昇させ、これを一定時間
保持する野菜のゆでものや煮込みなどの調理では極めて
安定な検知性能が得られ、上記公報に記載の制御法を採
用すれば自在な仕上がり調整が行えた。
熱の進行とともに被加熱物の温度が70℃を過ぎるあた
りから活発になり、80〜90℃で大量に放出される。
このため湿度センサやガスセンサを用いた自動化では食
品の温度を100℃近くまで上昇させ、これを一定時間
保持する野菜のゆでものや煮込みなどの調理では極めて
安定な検知性能が得られ、上記公報に記載の制御法を採
用すれば自在な仕上がり調整が行えた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、湿度セ
ンサあるいはガスセンサを用いた再加熱(温め直し)の
自動化では、乾燥を防ぐために食品にラップをした場合
や、ラップがなくとも一部のメニューにおいて仕上がり
が熱すぎるという不満が根強くあった。
ンサあるいはガスセンサを用いた再加熱(温め直し)の
自動化では、乾燥を防ぐために食品にラップをした場合
や、ラップがなくとも一部のメニューにおいて仕上がり
が熱すぎるという不満が根強くあった。
【0008】食品にラップをした場合には、食品から発
生した蒸気がある程度の量に達してラップを突き破るま
でセンサに蒸気が到達しないので、食品の種類や量によ
っては検知時点ですでに熱くなりすぎるケースがあっ
た。
生した蒸気がある程度の量に達してラップを突き破るま
でセンサに蒸気が到達しないので、食品の種類や量によ
っては検知時点ですでに熱くなりすぎるケースがあっ
た。
【0009】また、冷ごはんの再加熱では、ごはんの一
粒一粒の表面層が内部の水分を保持する強固な皮膜とな
り、たとえラップをしなくともごはんが90℃を越えな
いと大量の蒸気が発生しない。
粒一粒の表面層が内部の水分を保持する強固な皮膜とな
り、たとえラップをしなくともごはんが90℃を越えな
いと大量の蒸気が発生しない。
【0010】このため前述の被加熱物に固有の係数k0
をゼロとしても、すでにセンサの検知自体が遅いので適
温を越えてしまう。また、熱くならないはずの食器も被
加熱物の熱が伝導し、熱くなってもてなくなってしま
う。もちろん係数Δkをマイナスに設定することは、検
知前に加熱を終了させることになり、物理的に不可能で
ある。
をゼロとしても、すでにセンサの検知自体が遅いので適
温を越えてしまう。また、熱くならないはずの食器も被
加熱物の熱が伝導し、熱くなってもてなくなってしま
う。もちろん係数Δkをマイナスに設定することは、検
知前に加熱を終了させることになり、物理的に不可能で
ある。
【0011】そこで、本発明は安定な検知性能が得られ
る湿度センサあるいはガスセンサを用いて、仕上がり温
度を自在に調整できる自動加熱を実現することを目的と
している。
る湿度センサあるいはガスセンサを用いて、仕上がり温
度を自在に調整できる自動加熱を実現することを目的と
している。
【0012】
【課題を解決するための手段】そこで前記の目的を達成
するために、本発明は制御部に被加熱物の種類を指令す
る加熱指令手段と、前記制御部に被加熱物の加熱状態の
強弱を指令する加熱補正指令手段と、前記加熱室を減圧
する減圧手段と、前記加熱室あるいは前記減圧手段の圧
力を検出して前記制御部へ出力する圧力検出手段と、被
加熱物より発生する水蒸気あるいはガスを検出して前記
制御部へ出力する気体検出手段を備えるものである。
するために、本発明は制御部に被加熱物の種類を指令す
る加熱指令手段と、前記制御部に被加熱物の加熱状態の
強弱を指令する加熱補正指令手段と、前記加熱室を減圧
する減圧手段と、前記加熱室あるいは前記減圧手段の圧
力を検出して前記制御部へ出力する圧力検出手段と、被
加熱物より発生する水蒸気あるいはガスを検出して前記
制御部へ出力する気体検出手段を備えるものである。
【0013】
【作用】本発明の減圧高周波加熱装置は、加熱指令手段
のいずれかが操作されれば制御部がこれを解読し、指定
された被加熱物の種類に対応するある沸点が得られるよ
うな加熱室内圧を設定し、かつ加熱補正指令手段の操作
があればかかる加熱室内圧値を所定値だけ補正し、圧力
検出手段を用いながら減圧手段を制御して設定された加
熱室内圧が得られるよう減圧手段を用いて加熱室内を減
圧し、かつマイクロ波発生手段への給電を行い、気体検
出手段により被加熱物から所定の水蒸気あるいはガスが
検出されるまでの時間を計数するとともに、この計数さ
れた時間と操作された加熱指令手段に対応するある係数
との積を算出し、これに基づいてマイクロ波発生手段へ
の給電を制御するので、被加熱物の仕上がり温度を好み
に応じて自在に設定し、自動的に加熱することができ
る。
のいずれかが操作されれば制御部がこれを解読し、指定
された被加熱物の種類に対応するある沸点が得られるよ
うな加熱室内圧を設定し、かつ加熱補正指令手段の操作
があればかかる加熱室内圧値を所定値だけ補正し、圧力
検出手段を用いながら減圧手段を制御して設定された加
熱室内圧が得られるよう減圧手段を用いて加熱室内を減
圧し、かつマイクロ波発生手段への給電を行い、気体検
出手段により被加熱物から所定の水蒸気あるいはガスが
検出されるまでの時間を計数するとともに、この計数さ
れた時間と操作された加熱指令手段に対応するある係数
との積を算出し、これに基づいてマイクロ波発生手段へ
の給電を制御するので、被加熱物の仕上がり温度を好み
に応じて自在に設定し、自動的に加熱することができ
る。
【0014】また、本発明の減圧高周波加熱装置は、加
熱指令手段が操作されれば指令された被加熱物の種類に
対応するある沸点が得られるような加熱室内圧を設定
し、圧力検出手段を用いながら減圧手段を制御して設定
された加熱室内圧が得られよう減圧手段を用いて加熱室
内を減圧し、かつマイクロ波発生手段への給電を行い、
気体検出手段により被加熱から所定の水蒸気あるいはガ
スが検出されるまでの時間を計数するとともに、操作さ
れた加熱指令手段に対応するある係数を設定し、かつ加
熱補正指令手段の操作があれば所定値だけこの係数を補
正し、計数された時間と設定および補正された係数との
積を算出し、これに基づいてマイクロ波発生手段への給
電を制御するので、被加熱物の加熱時間を好みに応じて
自在に設定し、自動的に加熱することができる。
熱指令手段が操作されれば指令された被加熱物の種類に
対応するある沸点が得られるような加熱室内圧を設定
し、圧力検出手段を用いながら減圧手段を制御して設定
された加熱室内圧が得られよう減圧手段を用いて加熱室
内を減圧し、かつマイクロ波発生手段への給電を行い、
気体検出手段により被加熱から所定の水蒸気あるいはガ
スが検出されるまでの時間を計数するとともに、操作さ
れた加熱指令手段に対応するある係数を設定し、かつ加
熱補正指令手段の操作があれば所定値だけこの係数を補
正し、計数された時間と設定および補正された係数との
積を算出し、これに基づいてマイクロ波発生手段への給
電を制御するので、被加熱物の加熱時間を好みに応じて
自在に設定し、自動的に加熱することができる。
【0015】
【実施例】以下本発明の一実施例における減圧高周波加
熱装置について図面とともに説明する。
熱装置について図面とともに説明する。
【0016】図2は本発明の一実施例である減圧高周波
加熱装置の正面斜視図であり、本体1の前面開口には扉
体2が開閉自在に軸支され、さまざまな加熱指令手段た
る加熱指令キー3および被加熱物の加熱具合を補正する
加熱補正指令手段たる仕上がり調節キー4を配した操作
盤5が設けられている。
加熱装置の正面斜視図であり、本体1の前面開口には扉
体2が開閉自在に軸支され、さまざまな加熱指令手段た
る加熱指令キー3および被加熱物の加熱具合を補正する
加熱補正指令手段たる仕上がり調節キー4を配した操作
盤5が設けられている。
【0017】図3は本発明の一実施例である減圧高周波
加熱装置の構成を示すブロック図であり、上記の加熱指
令キー3としては「再加熱」「牛乳」「酒のかん」「野
菜のゆでもの」キーが、仕上がり調節キー4としては
「強め」「弱め」キーが並んでいる。
加熱装置の構成を示すブロック図であり、上記の加熱指
令キー3としては「再加熱」「牛乳」「酒のかん」「野
菜のゆでもの」キーが、仕上がり調節キー4としては
「強め」「弱め」キーが並んでいる。
【0018】加熱室6には被加熱物7が収容され、加熱
室の内部は扉体2の周縁に配したパッキン8を介して密
封される。マイクロ波発生手段たるマグネトロン9は、
導波管10により加熱室6に結合されており、開口部は
合成樹脂またはセラミックなどの誘電体11がシリコン
パテなどで封止されている。
室の内部は扉体2の周縁に配したパッキン8を介して密
封される。マイクロ波発生手段たるマグネトロン9は、
導波管10により加熱室6に結合されており、開口部は
合成樹脂またはセラミックなどの誘電体11がシリコン
パテなどで封止されている。
【0019】被加熱部7はマイクロ波の定在波による加
熱ムラを解消するために、回転する載置台12の上に載
置される。載置台12は加熱室6内を密封する目的で一
対の磁石13と13’、および駆動手段14とにより非
接触で加熱室外より駆動され被加熱物7を回動させる。
熱ムラを解消するために、回転する載置台12の上に載
置される。載置台12は加熱室6内を密封する目的で一
対の磁石13と13’、および駆動手段14とにより非
接触で加熱室外より駆動され被加熱物7を回動させる。
【0020】加熱室6内の空気は、加熱室6の一壁面に
設けられた排気孔15から減圧手段たる真空ポンプ16
により排出される。17はその排気を冷却する冷却手
段、18は排気中に含まれる水分を除去する水分捕獲手
段である。圧力検出手段たる圧力センサ19は、加熱室
6の一壁面もしくは排気系のいずれかに配置されるが、
本実施例では水分捕獲手段の後方の排気系に設けた。。
設けられた排気孔15から減圧手段たる真空ポンプ16
により排出される。17はその排気を冷却する冷却手
段、18は排気中に含まれる水分を除去する水分捕獲手
段である。圧力検出手段たる圧力センサ19は、加熱室
6の一壁面もしくは排気系のいずれかに配置されるが、
本実施例では水分捕獲手段の後方の排気系に設けた。。
【0021】気体検出手段たる湿度センサもしくはガス
センサ20は、加熱室6の一壁面もしくは排気系のいず
れかに配置されるが、本実施例では水分捕獲手段18の
前方の排気系に設けた。。
センサ20は、加熱室6の一壁面もしくは排気系のいず
れかに配置されるが、本実施例では水分捕獲手段18の
前方の排気系に設けた。。
【0022】制御部21はこの圧力センサ19の信号を
検知回路22を介して監視し、また湿度センサもしくは
ガスセンサ20の信号を検知回路23を介して監視す
る。そしてマグネトロン9や真空ポンプ16、駆動手段
14などへの給電や作動をそれぞれドライバ24、2
5、26を介して制御する。
検知回路22を介して監視し、また湿度センサもしくは
ガスセンサ20の信号を検知回路23を介して監視す
る。そしてマグネトロン9や真空ポンプ16、駆動手段
14などへの給電や作動をそれぞれドライバ24、2
5、26を介して制御する。
【0023】次に図1の加熱中の加熱室内の圧力と食品
からの発生蒸気の推移との関係を示したタイムチャート
を用いて制御部の動作について説明する。
からの発生蒸気の推移との関係を示したタイムチャート
を用いて制御部の動作について説明する。
【0024】図1(a)は加熱中の圧力の推移を示して
おり、これは圧力センサによって検出される出力でもあ
る。加熱が開始されると、まず真空ポンプが加熱室内の
空気を排出し、減圧していく(減圧サイクル)。この
間、制御部は圧力センサにより加熱室内の圧力を監視
し、加熱室の内圧がPa に達した時点で、制御部は所定
値Pa を維持するよう真空ポンプへの給電を制御する。
そして、加熱室の内圧が所定値Pa に達した時点で、図
1(b)に示すようにマグネトロンへの給電が始まる
(加熱サイクル)。
おり、これは圧力センサによって検出される出力でもあ
る。加熱が開始されると、まず真空ポンプが加熱室内の
空気を排出し、減圧していく(減圧サイクル)。この
間、制御部は圧力センサにより加熱室内の圧力を監視
し、加熱室の内圧がPa に達した時点で、制御部は所定
値Pa を維持するよう真空ポンプへの給電を制御する。
そして、加熱室の内圧が所定値Pa に達した時点で、図
1(b)に示すようにマグネトロンへの給電が始まる
(加熱サイクル)。
【0025】このように減圧サイクルでマグネトロンへ
の給電をひかえるのは、加熱の開始当初からマイクロ波
を照射すると、被加熱物が小さい場合には水蒸気の発生
が早く、所定値Pa に達するまでに所望の温度を越える
可能性があること、水蒸気の発生が多くなると真空ポン
プの能力によっては所定値Pa まで引けなくなることが
あること、の理由による。なお、マイクロ波の照射は加
熱室の内圧がPa 値に達するまで待たずに若干早い時期
から照射して時間短縮を図る構成は当然可能である。
の給電をひかえるのは、加熱の開始当初からマイクロ波
を照射すると、被加熱物が小さい場合には水蒸気の発生
が早く、所定値Pa に達するまでに所望の温度を越える
可能性があること、水蒸気の発生が多くなると真空ポン
プの能力によっては所定値Pa まで引けなくなることが
あること、の理由による。なお、マイクロ波の照射は加
熱室の内圧がPa 値に達するまで待たずに若干早い時期
から照射して時間短縮を図る構成は当然可能である。
【0026】Pa 値は加熱指令キーごとにふさわしい値
が選ばれる。
が選ばれる。
【0027】
【表1】
【0028】(表1)はかかる制御圧とその圧力におけ
る沸点を示す一例である。この(表1)において,再加
熱は湿度センサーやガスセンサによる自動化では、k値
をゼロにしてもやや仕上がりがオーバー気味なので、セ
ンサによる検知を早めるために沸点が若干下がるようP
a 値を設定している。牛乳や酒のかんでは適温が得られ
るまでで沸点を低下させるため、かなり低い値にまで加
熱室の内圧を低下させている。一方野菜のゆでものでは
大気圧下でも検知が十分早く、大きなk値を乗じて全加
熱時間を制御しており、また食品の温度が100℃に達
しても何ら問題がないため減圧制御はしない。
る沸点を示す一例である。この(表1)において,再加
熱は湿度センサーやガスセンサによる自動化では、k値
をゼロにしてもやや仕上がりがオーバー気味なので、セ
ンサによる検知を早めるために沸点が若干下がるようP
a 値を設定している。牛乳や酒のかんでは適温が得られ
るまでで沸点を低下させるため、かなり低い値にまで加
熱室の内圧を低下させている。一方野菜のゆでものでは
大気圧下でも検知が十分早く、大きなk値を乗じて全加
熱時間を制御しており、また食品の温度が100℃に達
しても何ら問題がないため減圧制御はしない。
【0029】さて、加熱サイクルに入ると図1(c)に
示すように加熱室の内圧がPa 値に減じられているた
め、食品はかかるPa 値で定まる沸点に近い値で多量に
蒸気を発生する。このとき、仕上がり調節キーの指令に
従ってセンサによる検出しきい値Δh0 を±hだけ補正
すれば、すなわち、「強め」「弱め」キーが数段階に渡
り設定可能とし、指定された仕上がりレベルに応じてh
を可変とすれば、検知点を自在に早くしたり遅らせたり
できる。
示すように加熱室の内圧がPa 値に減じられているた
め、食品はかかるPa 値で定まる沸点に近い値で多量に
蒸気を発生する。このとき、仕上がり調節キーの指令に
従ってセンサによる検出しきい値Δh0 を±hだけ補正
すれば、すなわち、「強め」「弱め」キーが数段階に渡
り設定可能とし、指定された仕上がりレベルに応じてh
を可変とすれば、検知点を自在に早くしたり遅らせたり
できる。
【0030】もし減圧しなければ、食品からの発生蒸気
は図1(c)の破線で示すような推移をする。つまり、
しきい値Δh0 ’を設定しうる最小値としてもなおセン
サによる検知は減圧下におけるT1 に比べT1 ’と大幅
に遅れ、検知時点ですでに食品の温度が適温を越えてし
まうことになる図1(d)は本発明の別な実施例を示す
タイムチャートであり、本実施例ではセンサの検知しき
い値を一定として、仕上がり調節キーの指令に応じてk
0 値を±Δkだけ補正する構成としている。かかる構成
では、センサの検知時点は減圧した分だけ常圧よりは早
くなり、加熱補正指令によって検知後の加熱を調整する
ことになる。
は図1(c)の破線で示すような推移をする。つまり、
しきい値Δh0 ’を設定しうる最小値としてもなおセン
サによる検知は減圧下におけるT1 に比べT1 ’と大幅
に遅れ、検知時点ですでに食品の温度が適温を越えてし
まうことになる図1(d)は本発明の別な実施例を示す
タイムチャートであり、本実施例ではセンサの検知しき
い値を一定として、仕上がり調節キーの指令に応じてk
0 値を±Δkだけ補正する構成としている。かかる構成
では、センサの検知時点は減圧した分だけ常圧よりは早
くなり、加熱補正指令によって検知後の加熱を調整する
ことになる。
【0031】もちろん図1(c)と図1(d)の両者を
組み合わせる構成、すなわち検知しきい値とk値の両方
を補正する構成も当然可能である。
組み合わせる構成、すなわち検知しきい値とk値の両方
を補正する構成も当然可能である。
【0032】このように本発明によれば低めの仕上がり
温度としたい被加熱物をも、操作者の好みの仕上がり状
態に自在に自動加熱することができる。
温度としたい被加熱物をも、操作者の好みの仕上がり状
態に自在に自動加熱することができる。
【0033】図4は制御部の動作を示すフローチャート
ある。加熱指令や加熱補正指令がまず解読され(a)、
次いで加熱指令に対応する検知しきい値Δh0が設定さ
れ(b)、加熱補正があればかかるしきい値がhだけ補
正される。
ある。加熱指令や加熱補正指令がまず解読され(a)、
次いで加熱指令に対応する検知しきい値Δh0が設定さ
れ(b)、加熱補正があればかかるしきい値がhだけ補
正される。
【0034】加熱が開始されるとまずポンプが起動され
(d)、圧力センサにより内圧Pが所定値Pa に達した
かどうか、すなわちP≦Pa が判別される(e)。内圧
が所定値Pa よりも高い間はかかる動作「減圧サイク
ル」が繰り返される。
(d)、圧力センサにより内圧Pが所定値Pa に達した
かどうか、すなわちP≦Pa が判別される(e)。内圧
が所定値Pa よりも高い間はかかる動作「減圧サイク
ル」が繰り返される。
【0035】そして、内圧がPa よりも低くなればマイ
クロ波発生手段への給電が開始され(f)、ポンプは停
止される(g)。「加熱サイクル」の開始である。加熱
サイクルでは湿度センサあるいはガスセンサにより、所
定の蒸気量が検出されたかどうかがチェックされる
(h)。蒸気の発生が検出されるまでは、T1 時間が計
数され(i)、再び内圧が監視されて(j)、Pa が維
持されるようポンプの起動(k)と停止(g)が繰り返
される。
クロ波発生手段への給電が開始され(f)、ポンプは停
止される(g)。「加熱サイクル」の開始である。加熱
サイクルでは湿度センサあるいはガスセンサにより、所
定の蒸気量が検出されたかどうかがチェックされる
(h)。蒸気の発生が検出されるまでは、T1 時間が計
数され(i)、再び内圧が監視されて(j)、Pa が維
持されるようポンプの起動(k)と停止(g)が繰り返
される。
【0036】もし減圧しなければ、食品からの発生蒸気
は図1(c)の破線で示すような推移をする。つまり、
しきい値Δh0 ’を設定しうる最小値としてもなおセン
サによる検知は減圧下におけるT1 に比べT1’と大幅
に遅れ、検知時点ですでに食品の温度が適温を越えてし
まうことになる図1(d)は本発明の別な実施例を示す
タイムチャートであり、本実施例ではセンサの検知しき
い値を一定として、仕上がり調節キーの指令に応じてk
0 値を±Δkだけ補正する構成としている。かかる構成
では、センサの検知時点は減圧した分だけ常圧よりは早
くなり、加熱補正指令によって検知後の加熱を調整する
ことになる。
は図1(c)の破線で示すような推移をする。つまり、
しきい値Δh0 ’を設定しうる最小値としてもなおセン
サによる検知は減圧下におけるT1 に比べT1’と大幅
に遅れ、検知時点ですでに食品の温度が適温を越えてし
まうことになる図1(d)は本発明の別な実施例を示す
タイムチャートであり、本実施例ではセンサの検知しき
い値を一定として、仕上がり調節キーの指令に応じてk
0 値を±Δkだけ補正する構成としている。かかる構成
では、センサの検知時点は減圧した分だけ常圧よりは早
くなり、加熱補正指令によって検知後の加熱を調整する
ことになる。
【0037】もちろん図1(c)と図1(d)の両者を
組み合わせる構成、すなわち検知しきい値とk値の両方
を補正する構成も当然可能である。
組み合わせる構成、すなわち検知しきい値とk値の両方
を補正する構成も当然可能である。
【0038】このように本発明によれば低めの仕上がり
温度としたい被加熱物をも、操作者の好みの仕上がり状
態に自在に自動加熱することができる。
温度としたい被加熱物をも、操作者の好みの仕上がり状
態に自在に自動加熱することができる。
【0039】図4は制御部の動作を示すフローチャート
ある。加熱指令や加熱補正指令がまず解読され(a)、
次いで加熱指令に対応する検知しきい値Δh0 が設定さ
れ(b)、加熱補正があればかかるしきい値がhだけ補
正される。
ある。加熱指令や加熱補正指令がまず解読され(a)、
次いで加熱指令に対応する検知しきい値Δh0 が設定さ
れ(b)、加熱補正があればかかるしきい値がhだけ補
正される。
【0040】加熱が開始されるとまずポンプが起動され
(d)、圧力センサにより内圧Pが所定値Pa に達した
かどうか、すなわちP≦Pa が判別される(e)。内圧
が所定値Pa よりも高い間はかかる動作「減圧サイク
ル」が繰り返される。
(d)、圧力センサにより内圧Pが所定値Pa に達した
かどうか、すなわちP≦Pa が判別される(e)。内圧
が所定値Pa よりも高い間はかかる動作「減圧サイク
ル」が繰り返される。
【0041】そして、内圧がPa よりも低くなればマイ
クロ波発生手段への給電が開始され(f)、ポンプは停
止される(g)。「加熱サイクル」の開始である。加熱
サイクルでは湿度センサあるいはガスセンサにより、所
定の蒸気量が検出されたかどうかがチェックされる
(h)。蒸気の発生が検出されるまでは、T1 時間が計
数され(i)、再び内圧が監視されて(j)、Pa が維
持されるようポンプの起動(k)と停止(g)が繰り返
される。
クロ波発生手段への給電が開始され(f)、ポンプは停
止される(g)。「加熱サイクル」の開始である。加熱
サイクルでは湿度センサあるいはガスセンサにより、所
定の蒸気量が検出されたかどうかがチェックされる
(h)。蒸気の発生が検出されるまでは、T1 時間が計
数され(i)、再び内圧が監視されて(j)、Pa が維
持されるようポンプの起動(k)と停止(g)が繰り返
される。
【0042】やがて、水蒸気が所定量だけ検出されると
(h)、計数されたT1 時間に基づいて加熱指令キーに
固有のk値を乗じてkT1 時間が算出される(l)。そ
して以後は湿度センサやガスセンサによらずにかかるk
T1 時間が経過したかどうかが監視される(m)。すな
わち、タイマ加熱が行われる。
(h)、計数されたT1 時間に基づいて加熱指令キーに
固有のk値を乗じてkT1 時間が算出される(l)。そ
して以後は湿度センサやガスセンサによらずにかかるk
T1 時間が経過したかどうかが監視される(m)。すな
わち、タイマ加熱が行われる。
【0043】かかる時間が経過すれば、ポンプは停止さ
れ(n)、マイクロ波の照射も終了し(o)、減圧加熱
は自動的に完了する(q)。
れ(n)、マイクロ波の照射も終了し(o)、減圧加熱
は自動的に完了する(q)。
【0044】図5は別な実施例での制御部の動作を示す
フローチャートである。加熱指令や加熱補正指令がまず
解読され(a)、次いで加熱指令に対応するk0 値が設
定され(b)、加熱補正指令があればかかるk0 値がΔ
kだけ補正される(c)。以降の動作上記した実施例と
同様である。
フローチャートである。加熱指令や加熱補正指令がまず
解読され(a)、次いで加熱指令に対応するk0 値が設
定され(b)、加熱補正指令があればかかるk0 値がΔ
kだけ補正される(c)。以降の動作上記した実施例と
同様である。
【0045】
【発明の効果】以上のように本発明の減圧高周波加熱装
置においては、加熱室内を所望の内圧に制御することに
より、安定な検知性能が得られる湿度センサあるいはガ
スセンサを用いて、低めの仕上がり温度としたい被加熱
物をも、操作者の好みの仕上がり状態に自在に自動加熱
することができる。
置においては、加熱室内を所望の内圧に制御することに
より、安定な検知性能が得られる湿度センサあるいはガ
スセンサを用いて、低めの仕上がり温度としたい被加熱
物をも、操作者の好みの仕上がり状態に自在に自動加熱
することができる。
【0046】また、湿度センサあるいはガスセンサが何
らかの原因で機能を損ねても、食品の温度が適温を越え
ることはなく、発火しにくく安全である。
らかの原因で機能を損ねても、食品の温度が適温を越え
ることはなく、発火しにくく安全である。
【図1】(a)本発明の一実施例である減圧高周波加熱
装置の加熱中の加熱室内の圧力の推移を示す線図 (b)本発明の一実施例である減圧高周波加熱装置の加
熱中のマイクロ波発生手段への給電の様子を示す線図 (c)本発明の一実施例である減圧高周波加熱装置の加
熱中の食品からの発生蒸気の推移を示す線図 (d)本発明の別の実施例である減圧高周波加熱装置の
加熱中の食品からの発生蒸気の推移を示す線図
装置の加熱中の加熱室内の圧力の推移を示す線図 (b)本発明の一実施例である減圧高周波加熱装置の加
熱中のマイクロ波発生手段への給電の様子を示す線図 (c)本発明の一実施例である減圧高周波加熱装置の加
熱中の食品からの発生蒸気の推移を示す線図 (d)本発明の別の実施例である減圧高周波加熱装置の
加熱中の食品からの発生蒸気の推移を示す線図
【図2】本発明の一実施例である減圧高周波加熱装置の
正面斜視図
正面斜視図
【図3】本発明の一実施例である減圧高周波加熱装置の
構成を示すブロック図
構成を示すブロック図
【図4】本発明の一実施例である減圧高周波加熱装置の
制御部の動作を示すフローチャート
制御部の動作を示すフローチャート
【図5】本発明の別の実施例である減圧高周波加熱装置
の制御部の動作を示すフローチャート
の制御部の動作を示すフローチャート
3 加熱指令キー 4 仕上がり調節キー 6 加熱室 9 マグネトロン 16 真空ポンプ 19 圧力センサ 20 湿度センサまたはガスセンサ 21 制御部
Claims (2)
- 【請求項1】 被加熱物を収容し密封する加熱室と、前
記加熱室に結合された高周波発生手段と、前記高周波発
生手段への給電を制御する制御部と、前記制御部に被加
熱物の種類を指令する加熱指令手段と、前記制御部に被
加熱物の加熱状態の強弱を指令する加熱補正指令手段
と、前記加熱室を減圧する減圧手段と、前記加熱室ある
いは前記減圧手段の圧力を検出して前記制御部へ出力す
る圧力検出手段と、被加熱物より発生する水蒸気あるい
はガスを検出して前記制御部へ出力する気体検出手段よ
り成り、前記制御部は前記加熱指令手段により指令され
た被加熱物の種類に対応する沸点が得られる加熱室内圧
を設定する手段と、前記加熱補正指令手段の操作に応じ
て設定された加熱室内圧値を補正する手段と、前記圧力
検出手段の検出値が設定された加熱室内圧となるように
前記減圧手段を制御する手段と、前記圧力検出手段の検
出値が所定値になったとき前記高周波発生手段への給電
を介しする手段と、前記気体検出手段により被加熱物か
ら所定の水蒸気あるいはガスが検出されるまでの時間を
計数し、この計数された時間と加熱指令手段の指令に対
応する係数との積に基づいて前記高周波発生手段への給
電を制御する手段とからなる減圧高周波加熱装置。 - 【請求項2】 被加熱物を収容し密封する加熱室と、前
記加熱室に結合された高周波発生手段と、前記高周波発
生手段への給電を制御する制御部と、前記制御部に被加
熱物の種類を指令する加熱指令手段と、前記制御部に被
加熱物の加熱状態の強弱を指令する加熱補正指令手段
と、前記加熱室を減圧する減圧手段と、前記加熱室ある
いは前記減圧手段の圧力を検出して前記制御部へ出力す
る圧力検出手段と、被加熱物より発生する水蒸気あるい
はガスを検出して前記制御部へ出力する気体検出手段よ
り成り、前記制御部は前記加熱指令手段により指令され
た被加熱物の種類に対応する沸点が得られる加熱室内圧
を設定する手段と、前記圧力検出手段の検出値が設定さ
れた加熱室内圧となるように前記減圧手段を制御する手
段と、前記圧力検出手段の検出値が所定値になったとき
前記高周波発生手段への給電を開始する手段と、前記気
体検出手段により被加熱物から所定の水蒸気あるいはガ
スが検出されるまでの時間を計数し、この計数された時
間と加熱指令手段の指令に対応するある係数との積に基
づいて前記高周波発生手段への給電を制 御する手段と、
前記加熱補正指令手段の操作があれば所定値だけこの計
数を補正する手段からなる減圧高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6634591A JP2833250B2 (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | 減圧高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6634591A JP2833250B2 (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | 減圧高周波加熱装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04301390A JPH04301390A (ja) | 1992-10-23 |
JP2833250B2 true JP2833250B2 (ja) | 1998-12-09 |
Family
ID=13313177
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6634591A Expired - Fee Related JP2833250B2 (ja) | 1991-03-29 | 1991-03-29 | 減圧高周波加熱装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2833250B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ITMO20040193A1 (it) * | 2004-07-23 | 2004-10-23 | Angelo Grandi Cucine Spa | Sistema e sonda per la rivealzione di un parametro |
-
1991
- 1991-03-29 JP JP6634591A patent/JP2833250B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH04301390A (ja) | 1992-10-23 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |