JP2003128430A - 無鉛ガラス組成物 - Google Patents
無鉛ガラス組成物Info
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- JP2003128430A JP2003128430A JP2001322955A JP2001322955A JP2003128430A JP 2003128430 A JP2003128430 A JP 2003128430A JP 2001322955 A JP2001322955 A JP 2001322955A JP 2001322955 A JP2001322955 A JP 2001322955A JP 2003128430 A JP2003128430 A JP 2003128430A
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- free glass
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/24—Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions, i.e. for use as seals between dissimilar materials, e.g. glass and metal; Glass solders
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- Organic Chemistry (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】酸化物基準の質量％表示でＢｉ2Ｏ3：５〜７５
％、Ｂ2Ｏ3：５〜３５％、ＺｎＯ：９．５〜２４．５
％、ＳｉＯ2：０〜２０％、Ａｌ2Ｏ3：０〜１０％、Ｂ
ａＯ：０〜３５％、ＣａＯ：０〜３５％、ＳｒＯ：０〜
３５％、ＢａＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ：４〜４５％、Ｒ
2Ｏ：０〜１０％（但しＲ2ＯとはＬｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ、Ｋ
2Ｏ、Ｃｓ2Ｏの少なくとも１つ）の組成を有しＰｂＯを
含有しないことを特徴とする無鉛ガラス組成物。 【効果】鉛成分を含有しないことから、作業環境の改善
につながり、さらに廃棄物処理に困らない効果がある。
％、Ｂ2Ｏ3：５〜３５％、ＺｎＯ：９．５〜２４．５
％、ＳｉＯ2：０〜２０％、Ａｌ2Ｏ3：０〜１０％、Ｂ
ａＯ：０〜３５％、ＣａＯ：０〜３５％、ＳｒＯ：０〜
３５％、ＢａＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ：４〜４５％、Ｒ
2Ｏ：０〜１０％（但しＲ2ＯとはＬｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ、Ｋ
2Ｏ、Ｃｓ2Ｏの少なくとも１つ）の組成を有しＰｂＯを
含有しないことを特徴とする無鉛ガラス組成物。 【効果】鉛成分を含有しないことから、作業環境の改善
につながり、さらに廃棄物処理に困らない効果がある。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、無鉛ガラス組成物に関
し、詳しくはプラズマディスプレイパネル（以下ＰＤＰ
と略称する）の前面ガラス基板に形成する誘電体層、背
面ガラス基板に形成する誘電体層及び隔壁に使用される
無鉛ガラス組成物に関する。
し、詳しくはプラズマディスプレイパネル（以下ＰＤＰ
と略称する）の前面ガラス基板に形成する誘電体層、背
面ガラス基板に形成する誘電体層及び隔壁に使用される
無鉛ガラス組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来からのＣＲＴに代わるディスプレイ
として、大型で薄型のＰＤＰが開発されてきている。図
１はこの様なＰＤＰの基本構造を示したものである。
として、大型で薄型のＰＤＰが開発されてきている。図
１はこの様なＰＤＰの基本構造を示したものである。
【０００３】ＰＤＰの２枚の前面ガラス基板１および背
面ガラス基板２の内表面には、互いに直交する表示電極
３およびバス電極４とアドレス電極８が配置され、それ
ぞれの電極は誘電体層５で被覆されている。さらに前面
ガラス基板１の内表面の誘電体層５にはプラズマを安定
に形成させるために、保護膜６をスパッタ法を用いてコ
ーティングしてある。
面ガラス基板２の内表面には、互いに直交する表示電極
３およびバス電極４とアドレス電極８が配置され、それ
ぞれの電極は誘電体層５で被覆されている。さらに前面
ガラス基板１の内表面の誘電体層５にはプラズマを安定
に形成させるために、保護膜６をスパッタ法を用いてコ
ーティングしてある。
【０００４】背面ガラス基板２には高さが約１００μｍ
の隔壁７が縦方向に配置され、隔壁７の間に蛍光体９が
形成されている。そして前面ガラス基板１と背面ガラス
基板２の周辺を封止材で気密封止した後、Ｎｅ−Ｘｅ等
のガスが封入される。
の隔壁７が縦方向に配置され、隔壁７の間に蛍光体９が
形成されている。そして前面ガラス基板１と背面ガラス
基板２の周辺を封止材で気密封止した後、Ｎｅ−Ｘｅ等
のガスが封入される。
【０００５】ＰＤＰの誘電体層は電極上に形成されるこ
とから、高い絶縁特性を有すること、消費電力を押さえ
るため低い誘電率を有すること、剥がれやクラックが入
らないようにガラス基板と熱膨脹係数がマッチングして
いることが求められている。さらに前面ガラス基板に形
成される誘電体層は蛍光体から発せられた光を効率よく
表示光として利用する目的で可視域透過率の高い非晶質
ガラスが求められている。
とから、高い絶縁特性を有すること、消費電力を押さえ
るため低い誘電率を有すること、剥がれやクラックが入
らないようにガラス基板と熱膨脹係数がマッチングして
いることが求められている。さらに前面ガラス基板に形
成される誘電体層は蛍光体から発せられた光を効率よく
表示光として利用する目的で可視域透過率の高い非晶質
ガラスが求められている。
【０００６】誘電体層はガラス粉末、バインダー、有機
溶剤、場合によっては無機充填剤、無機顔料を添加混練
しペースト状として、スクリーン印刷等でガラス基板に
塗布し、乾燥、焼成して形成される。ＰＤＰに使用され
るガラス基板は安価、入手のし易さから、ソーダライム
ガラスが一般的に使用されるため、ガラス基板の変形が
おきない６００℃以下で焼成される。
溶剤、場合によっては無機充填剤、無機顔料を添加混練
しペースト状として、スクリーン印刷等でガラス基板に
塗布し、乾燥、焼成して形成される。ＰＤＰに使用され
るガラス基板は安価、入手のし易さから、ソーダライム
ガラスが一般的に使用されるため、ガラス基板の変形が
おきない６００℃以下で焼成される。
【０００７】ＰＤＰの隔壁にはガラス基板が変形しない
温度で焼成できること、剥がれやクラックが入らないよ
うにガラス基板と熱膨脹係数がマッチングしていること
が求められている。
温度で焼成できること、剥がれやクラックが入らないよ
うにガラス基板と熱膨脹係数がマッチングしていること
が求められている。
【０００８】この隔壁の形成方法は各種提案されている
が、近年の主流はサンドブラスト法と呼ばれる方法であ
る。サンドブラスト法とは、ガラス粉末、バインダー、
有機溶剤、場合によっては無機充填剤、無機顔料を添加
混練しペースト状としガラス基板に所定厚みに塗布し、
乾燥後、その上に耐ブラスト性を有する感光性ドライフ
ィルムを重ね合わせる。
が、近年の主流はサンドブラスト法と呼ばれる方法であ
る。サンドブラスト法とは、ガラス粉末、バインダー、
有機溶剤、場合によっては無機充填剤、無機顔料を添加
混練しペースト状としガラス基板に所定厚みに塗布し、
乾燥後、その上に耐ブラスト性を有する感光性ドライフ
ィルムを重ね合わせる。
【０００９】次いで隔壁形状にパターニングした後、研
磨粉を噴きつけてフィルムのない部分を削りとり、焼成
を行い隔壁を形成する方法である。この方法で高精細な
隔壁を形成することが可能である。
磨粉を噴きつけてフィルムのない部分を削りとり、焼成
を行い隔壁を形成する方法である。この方法で高精細な
隔壁を形成することが可能である。
【００１０】これらＰＤＰに使用される誘電体層、隔壁
はガラス基板が変形を起こさない温度で焼成する必要が
あることから、比較的低融点のガラスが用いられてい
る。現在主流で使用されているものは、ＰｂＯを５０質
量％以上含有するＰｂＯ-ＳｉＯ2系のガラスである。
はガラス基板が変形を起こさない温度で焼成する必要が
あることから、比較的低融点のガラスが用いられてい
る。現在主流で使用されているものは、ＰｂＯを５０質
量％以上含有するＰｂＯ-ＳｉＯ2系のガラスである。
【００１１】前記の如くＰＤＰの誘電体層、隔壁は鉛含
有ガラスが使用されているが、近年鉛含有ガラスに対し
て環境上の問題が指摘されてきている。このため作業環
境および廃棄物処理に問題のない無鉛系のガラスが求め
られている。
有ガラスが使用されているが、近年鉛含有ガラスに対し
て環境上の問題が指摘されてきている。このため作業環
境および廃棄物処理に問題のない無鉛系のガラスが求め
られている。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述したＰ
ＤＰ部材用ガラスに求められる特性を満足し、作業環境
および廃棄物処理に問題のない無鉛系のガラス組成物を
提供することを目的とする。また、この無鉛ガラス組成
物を用いたＰＤＰの各種部材を提供することを目的とす
る。
ＤＰ部材用ガラスに求められる特性を満足し、作業環境
および廃棄物処理に問題のない無鉛系のガラス組成物を
提供することを目的とする。また、この無鉛ガラス組成
物を用いたＰＤＰの各種部材を提供することを目的とす
る。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記課題を達成するため
に、作業環境および廃棄物処理に問題のないＢｉ2Ｏ3、
ＺｎＯ、Ｂ2Ｏ3等の酸化物に着目し、鋭意研究の結果、
鉛系ガラスと同等な特性を持つ安定なガラス組成物を見
いだした。
に、作業環境および廃棄物処理に問題のないＢｉ2Ｏ3、
ＺｎＯ、Ｂ2Ｏ3等の酸化物に着目し、鋭意研究の結果、
鉛系ガラスと同等な特性を持つ安定なガラス組成物を見
いだした。
【００１４】すなわち、本発明の無鉛ガラス組成物は、
酸化物基準の質量％表示でＢｉ2Ｏ3：５〜７５％、Ｂ2
Ｏ3：５〜３５％、ＺｎＯ：９．５〜２４．５％、Ｓｉ
Ｏ2：０〜２０％、Ａｌ2Ｏ3：０〜１０％、ＢａＯ：０
〜３５％、ＣａＯ：０〜３５％、ＳｒＯ：０〜３５％、
Ｒ2Ｏ：０〜１０％、（但しＲ2ＯとはＬｉ2Ｏ、Ｎａ
2Ｏ、Ｋ2Ｏ、Ｃｓ2Ｏの少なくとも１つ）の組成を有し
ＰｂＯを含有しないものである。
酸化物基準の質量％表示でＢｉ2Ｏ3：５〜７５％、Ｂ2
Ｏ3：５〜３５％、ＺｎＯ：９．５〜２４．５％、Ｓｉ
Ｏ2：０〜２０％、Ａｌ2Ｏ3：０〜１０％、ＢａＯ：０
〜３５％、ＣａＯ：０〜３５％、ＳｒＯ：０〜３５％、
Ｒ2Ｏ：０〜１０％、（但しＲ2ＯとはＬｉ2Ｏ、Ｎａ
2Ｏ、Ｋ2Ｏ、Ｃｓ2Ｏの少なくとも１つ）の組成を有し
ＰｂＯを含有しないものである。
【００１５】Ｂｉ2Ｏ3は無鉛ガラス組成物の主要成分で
あり軟化点を下げる効果がある。その含有量は５〜７５
％（以下％とは特に断りのない限り質量％を意味する）
である。Ｂｉ2Ｏ3の含有量が７５％を超えると結晶化し
易くなり安定したガラスが得られなく、５％未満では軟
化温度が高くなり所定の温度での焼成が困難となる。Ｂ
ｉ2Ｏ3の好ましい範囲は１０〜５０％である。
あり軟化点を下げる効果がある。その含有量は５〜７５
％（以下％とは特に断りのない限り質量％を意味する）
である。Ｂｉ2Ｏ3の含有量が７５％を超えると結晶化し
易くなり安定したガラスが得られなく、５％未満では軟
化温度が高くなり所定の温度での焼成が困難となる。Ｂ
ｉ2Ｏ3の好ましい範囲は１０〜５０％である。
【００１６】Ｂ2Ｏ3はガラス形成成分として無鉛ガラス
組成物の必須成分であり、その含有量は５〜３５％であ
る。Ｂ2Ｏ3の含有量が３５％を超えるとガラスの軟化温
度が高くなり所定の温度での焼成が困難となり、５％未
満ではガラスが不安定になって失透し易くなる。Ｂ2Ｏ3
の好ましい範囲は１０〜３０％である。
組成物の必須成分であり、その含有量は５〜３５％であ
る。Ｂ2Ｏ3の含有量が３５％を超えるとガラスの軟化温
度が高くなり所定の温度での焼成が困難となり、５％未
満ではガラスが不安定になって失透し易くなる。Ｂ2Ｏ3
の好ましい範囲は１０〜３０％である。
【００１７】ＺｎＯは、無鉛ガラス組成物の主要成分で
ありガラスを安定化させるのに効果があり、その含有量
は９．５〜２４．５％である。ＺｎＯの含有量が２４．
５％を超えると結晶化し易く安定したガラスが得られな
くなり、９．５％未満ではガラスの安定性がなく失透し
易くなる。ＺｎＯの好ましい範囲は１０〜２４％であ
る。
ありガラスを安定化させるのに効果があり、その含有量
は９．５〜２４．５％である。ＺｎＯの含有量が２４．
５％を超えると結晶化し易く安定したガラスが得られな
くなり、９．５％未満ではガラスの安定性がなく失透し
易くなる。ＺｎＯの好ましい範囲は１０〜２４％であ
る。
【００１８】ＳｉＯ2は、ガラスの安定化に効果があ
り、その含有量は２０％まで、好ましくは１８％まで添
加することができる。但し２０％を超えると軟化温度が
高くなり所定の温度での焼成が困難となる。
り、その含有量は２０％まで、好ましくは１８％まで添
加することができる。但し２０％を超えると軟化温度が
高くなり所定の温度での焼成が困難となる。
【００１９】Ａｌ2Ｏ3は、任意成分であるが、ガラスの
安定化に効果があり、その含有量は１０％まで、好まし
くは８％まで添加することができる。但し１０％を超え
ると軟化温度が高くなり所定の温度での焼成が困難とな
る。
安定化に効果があり、その含有量は１０％まで、好まし
くは８％まで添加することができる。但し１０％を超え
ると軟化温度が高くなり所定の温度での焼成が困難とな
る。
【００２０】ＢａＯ、ＣａＯ、ＳｒＯのアルカリ土類金
属酸化物は任意成分であるが、ガラスの安定化に効果が
ある。その含有量はそれぞれ３５％まで、好ましくは２
０％まで添加することができる。ＢａＯ、ＣａＯ、Ｓｒ
Ｏそれぞれの含有量が３５％を超えると軟化温度が高く
なり所定の温度での焼成が困難となる。また、上記した
ように、アルカリ土類金属酸化物はガラスの安定化に効
果があるので、ＢａＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯで４〜４５％含
有させてもよい。好ましくは、４〜３０％である。
属酸化物は任意成分であるが、ガラスの安定化に効果が
ある。その含有量はそれぞれ３５％まで、好ましくは２
０％まで添加することができる。ＢａＯ、ＣａＯ、Ｓｒ
Ｏそれぞれの含有量が３５％を超えると軟化温度が高く
なり所定の温度での焼成が困難となる。また、上記した
ように、アルカリ土類金属酸化物はガラスの安定化に効
果があるので、ＢａＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯで４〜４５％含
有させてもよい。好ましくは、４〜３０％である。
【００２１】Ｒ2Ｏ、すなわちＬｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ、Ｋ
2Ｏ、Ｃｓ2Ｏのアルカリ金属酸化物は任意成分である
が、ガラスの軟化温度を下げる効果がある。その含有量
はそれぞれ１０％まで、好ましくは３％まで添加するこ
とができる。Ｒ2Ｏの含有量が１０％を超えるとガラス
の電気絶縁特性が悪くなり好ましくない。
2Ｏ、Ｃｓ2Ｏのアルカリ金属酸化物は任意成分である
が、ガラスの軟化温度を下げる効果がある。その含有量
はそれぞれ１０％まで、好ましくは３％まで添加するこ
とができる。Ｒ2Ｏの含有量が１０％を超えるとガラス
の電気絶縁特性が悪くなり好ましくない。
【００２２】なお上記成分以外にも、ガラスの粘性や熱
膨脹係数の調整のために、ＭｇＯ、Ｌａ2Ｏ5、Ｔｉ
Ｏ2、ＺｒＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、ＭｏＯ3、ＷＯ3、ＴｅＯ2、
Ａｇ2Ｏ等を添加することが可能である。
膨脹係数の調整のために、ＭｇＯ、Ｌａ2Ｏ5、Ｔｉ
Ｏ2、ＺｒＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、ＭｏＯ3、ＷＯ3、ＴｅＯ2、
Ａｇ2Ｏ等を添加することが可能である。
【００２３】本発明の無鉛ガラス組成物は、ＰＤＰのガ
ラス基板の誘電体層として使用できる。ＰＤＰに使用さ
れるガラス基板には、一般に入手が容易な窓板ガラスで
あるソーダライムガラスやＰＤＰ用に開発された高歪点
ガラスがあり、６００℃までの耐熱性、７５〜８５×１
０-7/℃の熱膨脹係数を持っている。
ラス基板の誘電体層として使用できる。ＰＤＰに使用さ
れるガラス基板には、一般に入手が容易な窓板ガラスで
あるソーダライムガラスやＰＤＰ用に開発された高歪点
ガラスがあり、６００℃までの耐熱性、７５〜８５×１
０-7/℃の熱膨脹係数を持っている。
【００２４】ＰＤＰガラス基板の誘電体層はガラス基板
にガラス組成物を塗布後、焼成し形成するためガラス基
板の軟化変形が起こらない６００℃以下で熱処理する必
要がある。またガラス基板の反り、誘電体層の剥がれや
クラックがないようにするために、ガラス組成物の熱膨
脹係数を０〜２０×１０-7/℃だけガラス基板より小さ
くしておく必要がある。さらに誘電体層の誘電率が高い
と電極に流れる電流が多くなり、ＰＤＰの消費電力が多
くなり好ましくない。
にガラス組成物を塗布後、焼成し形成するためガラス基
板の軟化変形が起こらない６００℃以下で熱処理する必
要がある。またガラス基板の反り、誘電体層の剥がれや
クラックがないようにするために、ガラス組成物の熱膨
脹係数を０〜２０×１０-7/℃だけガラス基板より小さ
くしておく必要がある。さらに誘電体層の誘電率が高い
と電極に流れる電流が多くなり、ＰＤＰの消費電力が多
くなり好ましくない。
【００２５】このため、本発明の無鉛ガラス組成物をＰ
ＤＰガラス基板の誘電体層に使用する場合、前述した範
囲の組成で、軟化点が６００℃以下、熱膨脹係数が６５
〜８５×１０-7/℃、誘電率が１４以下となる無鉛ガラ
ス組成物を用いるのが好ましい。また無鉛ガラス組成物
に無機充填剤、無機顔料を添加して、上記の熱膨脹係数
と誘電率の好ましい範囲内に調節して使用しても良い。
ＤＰガラス基板の誘電体層に使用する場合、前述した範
囲の組成で、軟化点が６００℃以下、熱膨脹係数が６５
〜８５×１０-7/℃、誘電率が１４以下となる無鉛ガラ
ス組成物を用いるのが好ましい。また無鉛ガラス組成物
に無機充填剤、無機顔料を添加して、上記の熱膨脹係数
と誘電率の好ましい範囲内に調節して使用しても良い。
【００２６】ＰＤＰの隔壁は、その強度を向上させる等
の機能特性向上のため無機ガラス組成物、に無機充填剤
や無機顔料を添加して使用するのが一般的である。本発
明の無機ガラス組成物にも無機充填剤および無機顔料の
少なくとも一種を添加し、ＰＤＰの隔壁としての機能、
特性を向上させるために、必要な材料を必要な量だけ選
択して使用する。
の機能特性向上のため無機ガラス組成物、に無機充填剤
や無機顔料を添加して使用するのが一般的である。本発
明の無機ガラス組成物にも無機充填剤および無機顔料の
少なくとも一種を添加し、ＰＤＰの隔壁としての機能、
特性を向上させるために、必要な材料を必要な量だけ選
択して使用する。
【００２７】例えば、隔壁の強度を向上させるために
は、アルミナ、ジルコニア等を用い、隔壁の熱膨張係数
を調整するためには、ジルコン、コージェライト、ムラ
イト、石英、アルミナ、フォルステライト、α―クオー
ツ、螢石等を用い、隔壁の色調を白色にするためには、
酸化チタン、アルミナ等の無機顔料を用い、隔壁の色調
を黒にするためには，Ｃｕ―Ｃｒ系，Ｃｕ―Ｃｒ―Ｍｎ
系等の無機顔料を用いれば良い。
は、アルミナ、ジルコニア等を用い、隔壁の熱膨張係数
を調整するためには、ジルコン、コージェライト、ムラ
イト、石英、アルミナ、フォルステライト、α―クオー
ツ、螢石等を用い、隔壁の色調を白色にするためには、
酸化チタン、アルミナ等の無機顔料を用い、隔壁の色調
を黒にするためには，Ｃｕ―Ｃｒ系，Ｃｕ―Ｃｒ―Ｍｎ
系等の無機顔料を用いれば良い。
【００２８】さらに、これらの無機充填剤および無機顔
料の少なくとも一種の含有量によって、焼成時の収縮率
と緻密性を調整することができる。すなわち、無鉛ガラ
ス組成物１００質量部に対して無機充填剤および無機顔
料の少なくとも一種を５〜２５質量部配合することによ
って、内部に気泡のほとんどない緻密な隔壁を得ること
ができるが、収縮率は大きくなる。また無機充填剤およ
び（または）無機顔料を２６〜２００質量部配合するこ
とによって、隔壁内部は緻密になり難いが収縮率の小さ
い隔壁を得ることができる。
料の少なくとも一種の含有量によって、焼成時の収縮率
と緻密性を調整することができる。すなわち、無鉛ガラ
ス組成物１００質量部に対して無機充填剤および無機顔
料の少なくとも一種を５〜２５質量部配合することによ
って、内部に気泡のほとんどない緻密な隔壁を得ること
ができるが、収縮率は大きくなる。また無機充填剤およ
び（または）無機顔料を２６〜２００質量部配合するこ
とによって、隔壁内部は緻密になり難いが収縮率の小さ
い隔壁を得ることができる。
【００２９】また、ＰＤＰの隔壁成形工程においても誘
電体層形成と同様に、その焼成温度はガラス基板の軟化
変形を考慮して一般に６００℃以下で行う必要がある。
この焼成温度で隔壁が緻密に成形されるためには、隔壁
材に使用されるガラスの軟化温度を６００℃以下にする
ことが好ましい。６００℃より高い軟化点を持つガラス
を使用した場合、流動性が悪くなり、緻密に成形され
ず、またガラス基板との接着性も悪くなる。
電体層形成と同様に、その焼成温度はガラス基板の軟化
変形を考慮して一般に６００℃以下で行う必要がある。
この焼成温度で隔壁が緻密に成形されるためには、隔壁
材に使用されるガラスの軟化温度を６００℃以下にする
ことが好ましい。６００℃より高い軟化点を持つガラス
を使用した場合、流動性が悪くなり、緻密に成形され
ず、またガラス基板との接着性も悪くなる。
【００３０】本発明の無鉛ガラス組成物を使用する誘電
体層の用途では、多くの場合、無鉛ガラス組成物を粉末
としバインダーならびに有機溶媒、場合によっては無機
充填剤や無機顔料との混合物であるペーストとされ印刷
等により成形される。
体層の用途では、多くの場合、無鉛ガラス組成物を粉末
としバインダーならびに有機溶媒、場合によっては無機
充填剤や無機顔料との混合物であるペーストとされ印刷
等により成形される。
【００３１】ＰＤＰの誘電体層は焼成後の緻密化、透明
性を得るため、隔壁は焼成後の緻密化を得るため、無鉛
ガラス組成物や無機充填剤と無機顔料の粒子径は極めて
小さい粒子径を有することが重要である。このため上記
の用途に使用する場合は、最大の粒子径で２０μｍを超
えないこと、好ましくは１５μｍ以下が適当である。
性を得るため、隔壁は焼成後の緻密化を得るため、無鉛
ガラス組成物や無機充填剤と無機顔料の粒子径は極めて
小さい粒子径を有することが重要である。このため上記
の用途に使用する場合は、最大の粒子径で２０μｍを超
えないこと、好ましくは１５μｍ以下が適当である。
【００３２】しかしながら、すべての粒子径が０．５μ
ｍ未満では粒子表面積が増大し、有機溶剤を増量しない
とペーストとしたときの粘度が高くなりすぎ印刷が困難
となる。バインダーを増量すると乾燥時にクラックが発
生し焼成後変形や泡の原因となるので、すべての粒子径
が０．５μｍ未満であることは好ましくない。
ｍ未満では粒子表面積が増大し、有機溶剤を増量しない
とペーストとしたときの粘度が高くなりすぎ印刷が困難
となる。バインダーを増量すると乾燥時にクラックが発
生し焼成後変形や泡の原因となるので、すべての粒子径
が０．５μｍ未満であることは好ましくない。
【００３３】本発明のペースト組成物に使用されるバイ
ンダーならびに有機溶媒は、特に限定されることなく、
従来からのペースト製造において使用されてきた公知の
ものが使用できる。
ンダーならびに有機溶媒は、特に限定されることなく、
従来からのペースト製造において使用されてきた公知の
ものが使用できる。
【００３４】例えば、バインダーであれば、メチルセル
ロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロー
ス、ヒドロキシエチル・エチルセルロース、ニトロセル
ロースのようなセルロース系材料、ポリビニルブチラー
ル、ポリビニルアセテート、ポリブチルアルコール等が
用いられる。有機溶媒であれば、α―テルピネオール、
ブチルカルビトールアセテート、２，２，４―トリメチ
ルー１，３―ペンタンシオールモノイソブチレート等が
用いられる。
ロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロー
ス、ヒドロキシエチル・エチルセルロース、ニトロセル
ロースのようなセルロース系材料、ポリビニルブチラー
ル、ポリビニルアセテート、ポリブチルアルコール等が
用いられる。有機溶媒であれば、α―テルピネオール、
ブチルカルビトールアセテート、２，２，４―トリメチ
ルー１，３―ペンタンシオールモノイソブチレート等が
用いられる。
【００３５】
【実施の形態】本発明の無鉛ガラスは、酸化物基準の質
量％表示でＢｉ2Ｏ3：５〜７５％、Ｂ 2Ｏ3：５〜３５
％、ＺｎＯ：９．５〜２４．５％、ＳｉＯ2：０〜２０
％、Ａｌ2Ｏ3：０〜１０％、ＢａＯ：０〜３５％、Ｃａ
Ｏ：０〜３５％、ＳｒＯ：０〜３５％、Ｒ2Ｏ：０〜１
０％（Ｒ2０はＬｉ2Ｏ，Ｎａ2Ｏ，Ｋ2Ｏ，Ｃｓ2Ｏの少
なくとも１つ）の組成となるように原料を混合して、こ
の原料を白金ルツボに入れ１２００〜１４００℃で２時
間加熱溶融させた後に、ガラスブロックに成形した。そ
してボールミルを用いてこのガラスブロックを粉砕して
得られた。
量％表示でＢｉ2Ｏ3：５〜７５％、Ｂ 2Ｏ3：５〜３５
％、ＺｎＯ：９．５〜２４．５％、ＳｉＯ2：０〜２０
％、Ａｌ2Ｏ3：０〜１０％、ＢａＯ：０〜３５％、Ｃａ
Ｏ：０〜３５％、ＳｒＯ：０〜３５％、Ｒ2Ｏ：０〜１
０％（Ｒ2０はＬｉ2Ｏ，Ｎａ2Ｏ，Ｋ2Ｏ，Ｃｓ2Ｏの少
なくとも１つ）の組成となるように原料を混合して、こ
の原料を白金ルツボに入れ１２００〜１４００℃で２時
間加熱溶融させた後に、ガラスブロックに成形した。そ
してボールミルを用いてこのガラスブロックを粉砕して
得られた。
【００３６】無鉛ガラスフリットは、この無鉛ガラスに
上記の無機充填剤や無機顔料を混合することにより得ら
れる。この無機充填剤や無機顔料の混合割合は、無鉛ガ
ラス１００質量％に対して、５〜２００質量％である。
上記の無機充填剤や無機顔料を混合することにより得ら
れる。この無機充填剤や無機顔料の混合割合は、無鉛ガ
ラス１００質量％に対して、５〜２００質量％である。
【００３７】無鉛ペーストは、無鉛ガラスまたは無鉛ガ
ラスフリットに上記のバインダーおよび有機溶剤を加え
３本ロールミル等で混練することで得られる。
ラスフリットに上記のバインダーおよび有機溶剤を加え
３本ロールミル等で混練することで得られる。
【００３８】
【実施の形態１】この実施の形態１は無鉛ガラスに関す
るものであり、以下の表１に示す組成となるように、上
記実施の形態に示す方法で無鉛ガラスを得たものであ
る。表１には実施例１〜８を示した。
るものであり、以下の表１に示す組成となるように、上
記実施の形態に示す方法で無鉛ガラスを得たものであ
る。表１には実施例１〜８を示した。
【００３９】
【表１】
【００４０】この表１の組成で得られたガラスの軟化点
は４５８〜５９７℃となり、すべて６００℃以下で軟化
するガラスとなり、ＰＤＰの隔壁形成材や誘電体形成材
に使用することが可能なものであった。
は４５８〜５９７℃となり、すべて６００℃以下で軟化
するガラスとなり、ＰＤＰの隔壁形成材や誘電体形成材
に使用することが可能なものであった。
【００４１】熱膨脹係数は７７〜９９×１０-7/℃であ
り、実施例２および７が６５〜８５×１０-7/℃の範囲
を外れているので、この実施例については、無鉛ガラス
に熱膨脹係数を調整する無機充填剤を混合させれば、使
用することが可能となる。詳細は以下の実施の形態４に
示す。
り、実施例２および７が６５〜８５×１０-7/℃の範囲
を外れているので、この実施例については、無鉛ガラス
に熱膨脹係数を調整する無機充填剤を混合させれば、使
用することが可能となる。詳細は以下の実施の形態４に
示す。
【００４２】誘電率は９．８〜２１．５となり実施例
１、２および７が１４を超えていたので、この実施例に
ついても熱膨脹係数のときと同様に、無鉛ガラスに無機
充填剤を混合させ誘電率を調整することで使用すること
が可能となる。詳細は以下の実施の形態４に示す。
１、２および７が１４を超えていたので、この実施例に
ついても熱膨脹係数のときと同様に、無鉛ガラスに無機
充填剤を混合させ誘電率を調整することで使用すること
が可能となる。詳細は以下の実施の形態４に示す。
【００４３】比較例１として鉛ガラスを、比較例２とし
て本発明の組成範囲を外れたものを示した。この比較例
２はＢ2Ｏ3およびＺｎＯの含有量が本発明の組成範囲か
ら外れていたので、ガラス化しなかった。
て本発明の組成範囲を外れたものを示した。この比較例
２はＢ2Ｏ3およびＺｎＯの含有量が本発明の組成範囲か
ら外れていたので、ガラス化しなかった。
【００４４】この表１中の転移点、軟化点は、無鉛ガラ
スを粉末とし、示差熱分析装置を用いて、昇温速度１０
℃/分でそれぞれの温度を測定した。熱膨脹係数は、示
差膨脹計により昇温速度１０℃/分で３０〜３００℃ま
での平均熱膨脹係数を示した。誘電率は、ガラスブロッ
ク状に形成した無鉛ガラスを切り出し、研磨加工後５０
ｍｍ×５０ｍｍ×２ｍｍの形状に成形しこの板材の両面
に直径２０ｍｍの電極を形成しＬＣＲメーターを用いて
測定した。
スを粉末とし、示差熱分析装置を用いて、昇温速度１０
℃/分でそれぞれの温度を測定した。熱膨脹係数は、示
差膨脹計により昇温速度１０℃/分で３０〜３００℃ま
での平均熱膨脹係数を示した。誘電率は、ガラスブロッ
ク状に形成した無鉛ガラスを切り出し、研磨加工後５０
ｍｍ×５０ｍｍ×２ｍｍの形状に成形しこの板材の両面
に直径２０ｍｍの電極を形成しＬＣＲメーターを用いて
測定した。
【００４５】
【実施の形態２】この実施の形態２は、ＰＤＰの誘電体
形成材に使用したときのものであり、特に前面ガラス基
板の内面に形成するものに関する。
形成材に使用したときのものであり、特に前面ガラス基
板の内面に形成するものに関する。
【００４６】前面ガラス基板内面に形成する誘電体は光
を透過させなければならないので、無鉛ガラス自体で熱
膨脹係数および誘電率の特性を満足したものでなければ
使用することはできない。したがって、表１の実施例の
中では、実施例３、４、５、６、８を使用することがで
きる。
を透過させなければならないので、無鉛ガラス自体で熱
膨脹係数および誘電率の特性を満足したものでなければ
使用することはできない。したがって、表１の実施例の
中では、実施例３、４、５、６、８を使用することがで
きる。
【００４７】この実施の形態２では、実施例４および５
の無鉛ガラスにバインダーとしてエチルセルロースを、
有機溶剤としてαテルピネオールを混合してそれぞれの
粘度を１２０、１４０Ｐａ・ｓとした無鉛ペーストと
し、実施例９および１０とした。
の無鉛ガラスにバインダーとしてエチルセルロースを、
有機溶剤としてαテルピネオールを混合してそれぞれの
粘度を１２０、１４０Ｐａ・ｓとした無鉛ペーストと
し、実施例９および１０とした。
【００４８】
【表２】
【００４９】この無鉛ペーストを熱膨脹係数８４×１０
-7/℃のガラス基板にスクリーン印刷で塗布し、１２５
℃・１０分で乾燥後、焼成し前面誘電体を形成した。な
お、実施例９では焼成温度が５９０℃となり、実施例１
０では５６０℃であった。また、前面誘電体に必要な可
視域（４００〜７００ｎｍ）の透過率は、実施例９では
全域において８０％以上を有し、実施例１０では全域で
８５％以上を有していた。ガラス基板に形成した誘電体
層をＪＩＳ Ｚ ２３４３の浸透探傷試験で評価したとこ
ろ、誘電体層の剥がれやクラックは生じていなかった。
-7/℃のガラス基板にスクリーン印刷で塗布し、１２５
℃・１０分で乾燥後、焼成し前面誘電体を形成した。な
お、実施例９では焼成温度が５９０℃となり、実施例１
０では５６０℃であった。また、前面誘電体に必要な可
視域（４００〜７００ｎｍ）の透過率は、実施例９では
全域において８０％以上を有し、実施例１０では全域で
８５％以上を有していた。ガラス基板に形成した誘電体
層をＪＩＳ Ｚ ２３４３の浸透探傷試験で評価したとこ
ろ、誘電体層の剥がれやクラックは生じていなかった。
【００５０】表２中には記載しなかったが、その他の実
施例３、６、８についても５６０〜６００℃の範囲で焼
成ができ、可視域の透過率も８０％以上であり、かつ誘
電体層の剥がれやクラックも生じなかった。
施例３、６、８についても５６０〜６００℃の範囲で焼
成ができ、可視域の透過率も８０％以上であり、かつ誘
電体層の剥がれやクラックも生じなかった。
【００５１】
【実施の形態３】この実施の形態３は、ＰＤＰの誘電体
形成材に使用したときのものであり、特に背面ガラス基
板の内面に形成するものに関する。
形成材に使用したときのものであり、特に背面ガラス基
板の内面に形成するものに関する。
【００５２】背面ガラス基板内面に形成する誘電体は、
光の反射率を上げるために白色でなければならないの
で、無鉛ガラスに白色無機顔料を混合する必要がある。
そして、無鉛ガラス自体で熱膨脹係数および誘電率の特
性を満足していなくても、無機顔料の混合率を調整して
熱膨脹係数および誘電率の特性を満足させて、使用する
ことができる。勿論上記混合物に無機充填剤を合せて使
用して、所望の熱膨脹係数および誘電率の特性に調整し
て使用することができる。したがって、表１の実施例は
すべて背面用の誘電体形成材に使用することができる。
光の反射率を上げるために白色でなければならないの
で、無鉛ガラスに白色無機顔料を混合する必要がある。
そして、無鉛ガラス自体で熱膨脹係数および誘電率の特
性を満足していなくても、無機顔料の混合率を調整して
熱膨脹係数および誘電率の特性を満足させて、使用する
ことができる。勿論上記混合物に無機充填剤を合せて使
用して、所望の熱膨脹係数および誘電率の特性に調整し
て使用することができる。したがって、表１の実施例は
すべて背面用の誘電体形成材に使用することができる。
【００５３】この実施の形態３では、実施例６の無鉛ガ
ラスに白色顔料として酸化チタンを混合した無鉛ガラス
フリットに、バインダーとしてエチルセルロースを、有
機溶剤としてαテルピネオールを混合してその粘度を１
７０Ｐａ・ｓとした無鉛ペーストを作り、実施例１１と
した。この実施例１１で使用した無鉛ガラスフリットは
８１×１０-7/℃の熱膨脹係数を有し、１３の誘電率を
有するものであった。
ラスに白色顔料として酸化チタンを混合した無鉛ガラス
フリットに、バインダーとしてエチルセルロースを、有
機溶剤としてαテルピネオールを混合してその粘度を１
７０Ｐａ・ｓとした無鉛ペーストを作り、実施例１１と
した。この実施例１１で使用した無鉛ガラスフリットは
８１×１０-7/℃の熱膨脹係数を有し、１３の誘電率を
有するものであった。
【００５４】この実施例１１の無鉛ペーストを熱膨脹係
数８４×１０-7/℃のガラス基板にスクリーン印刷で塗
布し、１２５℃・１０分で乾燥後、５８０℃で焼成し背
面誘電体を形成した。この背面誘電体を実施の形態２と
同様な評価により、誘電体層を評価したが、誘電体層に
剥がれやクラックは発生しなかった。
数８４×１０-7/℃のガラス基板にスクリーン印刷で塗
布し、１２５℃・１０分で乾燥後、５８０℃で焼成し背
面誘電体を形成した。この背面誘電体を実施の形態２と
同様な評価により、誘電体層を評価したが、誘電体層に
剥がれやクラックは発生しなかった。
【００５５】また、実施例８の無鉛ガラスに無機充填剤
としてアルミナを、白色顔料として酸化チタンを混合し
た無鉛ガラスフリットに、バインダーとしてニトロセル
ロースを、有機溶剤としてブチルカルビトールアセテー
トを混合してその粘度を１８０Ｐａ・ｓとした無鉛ペー
ストを作り、実施例１２とした。この実施例１２で使用
した無鉛ガラスフリットは８０×１０-7/℃の熱膨脹係
数を有し、１０の誘電率を有するものであった。
としてアルミナを、白色顔料として酸化チタンを混合し
た無鉛ガラスフリットに、バインダーとしてニトロセル
ロースを、有機溶剤としてブチルカルビトールアセテー
トを混合してその粘度を１８０Ｐａ・ｓとした無鉛ペー
ストを作り、実施例１２とした。この実施例１２で使用
した無鉛ガラスフリットは８０×１０-7/℃の熱膨脹係
数を有し、１０の誘電率を有するものであった。
【００５６】この実施例１２の無鉛ペーストを熱膨脹係
数８４×１０-7/℃のガラス基板にスクリーン印刷で塗
布し１２５℃・１０分で乾燥後、５８０℃で焼成し背面
誘電体を形成した。この背面誘電体実施の形態２と同様
な評価により、誘電体層を評価したが、誘電体層に剥が
れやクラックは発生しなかった。
数８４×１０-7/℃のガラス基板にスクリーン印刷で塗
布し１２５℃・１０分で乾燥後、５８０℃で焼成し背面
誘電体を形成した。この背面誘電体実施の形態２と同様
な評価により、誘電体層を評価したが、誘電体層に剥が
れやクラックは発生しなかった。
【００５７】
【実施の形態４】この実施の形態４は、ＰＤＰの隔壁材
に使用したときのものに関する。ＰＤＰの隔壁は低い収
縮率と高い緻密性を必要とするために無機充填剤を混合
し、光の反射率およびコントラストを向上させるために
無機顔料を混合して使用する。したがって、無機充填剤
によって熱膨脹係数および誘電率も調整することが可能
なので、表１の実施例はすべて隔壁形成材に使用するこ
とができる。
に使用したときのものに関する。ＰＤＰの隔壁は低い収
縮率と高い緻密性を必要とするために無機充填剤を混合
し、光の反射率およびコントラストを向上させるために
無機顔料を混合して使用する。したがって、無機充填剤
によって熱膨脹係数および誘電率も調整することが可能
なので、表１の実施例はすべて隔壁形成材に使用するこ
とができる。
【００５８】この実施の形態４では表１の実施例１〜３
の無鉛ガラスを使用している。実施例１３には実施例１
の無鉛ガラスに、無機充填剤としてアルミナ、無機顔料
としてＣｕ―Ｃｒ系顔料を混合した無鉛ガラスフリット
を使用する。実施例１４には実施例２の無鉛ガラスに、
無機充填剤としてジルコン、無機顔料としてＣｕ−Ｃｒ
−Ｍｎ系顔料を混合した無鉛ガラスフリットを使用す
る。実施例１５には実施例３の無鉛ガラスに、無機充填
剤としてアルミナ、無機顔料として酸化チタンを混合し
た無鉛ガラスフリットを使用する。
の無鉛ガラスを使用している。実施例１３には実施例１
の無鉛ガラスに、無機充填剤としてアルミナ、無機顔料
としてＣｕ―Ｃｒ系顔料を混合した無鉛ガラスフリット
を使用する。実施例１４には実施例２の無鉛ガラスに、
無機充填剤としてジルコン、無機顔料としてＣｕ−Ｃｒ
−Ｍｎ系顔料を混合した無鉛ガラスフリットを使用す
る。実施例１５には実施例３の無鉛ガラスに、無機充填
剤としてアルミナ、無機顔料として酸化チタンを混合し
た無鉛ガラスフリットを使用する。
【００５９】表２に記載した通り、実施例１３の無鉛ガ
ラスフリットの熱膨脹係数は８０×１０-7/℃となり、
誘電率は１４となった。実施例１４の無鉛ガラスフリッ
トの熱膨脹係数は８４×１０-7/℃となり、誘電率は１
３．５となった。実施例１５の無鉛ガラスフリットの熱
膨脹係数は７５×１０-7/℃となり、誘電率は１３とな
った。
ラスフリットの熱膨脹係数は８０×１０-7/℃となり、
誘電率は１４となった。実施例１４の無鉛ガラスフリッ
トの熱膨脹係数は８４×１０-7/℃となり、誘電率は１
３．５となった。実施例１５の無鉛ガラスフリットの熱
膨脹係数は７５×１０-7/℃となり、誘電率は１３とな
った。
【００６０】この無鉛ガラスフリットにバインダーとし
てエチルセルロースを、有機溶剤としてαテルピネオー
ルを混合してそれぞれの粘性を１７０、２００、１８０
Ｐａ・ｓの無鉛ペーストとし、実施例１３〜１５とし
た。
てエチルセルロースを、有機溶剤としてαテルピネオー
ルを混合してそれぞれの粘性を１７０、２００、１８０
Ｐａ・ｓの無鉛ペーストとし、実施例１３〜１５とし
た。
【００６１】この無鉛ペーストを実施の形態３で作成し
た背面誘電体上に塗布し、１２５℃・３０分で乾燥後サ
ンドブラスト法により形を整え、表２中に示す焼成温度
で焼成して隔壁を形成した。その後上記実施の形態２に
示した評価法により隔壁を評価したところ剥がれおよび
クラックは生じなかった。
た背面誘電体上に塗布し、１２５℃・３０分で乾燥後サ
ンドブラスト法により形を整え、表２中に示す焼成温度
で焼成して隔壁を形成した。その後上記実施の形態２に
示した評価法により隔壁を評価したところ剥がれおよび
クラックは生じなかった。
【００６２】また、本発明の無鉛ガラス組成物や無鉛ペ
ーストはＰＤＰに用いる以外に、蛍光表示管の封止材、
絶縁層の形成材、隔壁形成材に用いたり、磁気ヘッドの
コア同士や、コアとスライダーの封着材としても利用で
きる。さらに、セラミック基板の焼結助材、シーズヒー
ターの気密封口材、導体ペーストの添加材に用いること
により、作業環境と廃棄物処理に問題のないものとする
ことができる。
ーストはＰＤＰに用いる以外に、蛍光表示管の封止材、
絶縁層の形成材、隔壁形成材に用いたり、磁気ヘッドの
コア同士や、コアとスライダーの封着材としても利用で
きる。さらに、セラミック基板の焼結助材、シーズヒー
ターの気密封口材、導体ペーストの添加材に用いること
により、作業環境と廃棄物処理に問題のないものとする
ことができる。
【００６３】
【発明の効果】以上のように、本発明の無鉛ガラス組成
物は、鉛成分を含有しないことから、作業環境の改善に
つながり、さらに廃棄物処理に困らない効果が認められ
る。また、ＰＤＰの誘電体層、隔壁として用いた場合に
要求特性を満足するものであり好適である。
物は、鉛成分を含有しないことから、作業環境の改善に
つながり、さらに廃棄物処理に困らない効果が認められ
る。また、ＰＤＰの誘電体層、隔壁として用いた場合に
要求特性を満足するものであり好適である。
【図１】カラーＰＤＰの概略構成図である。
１…前面ガラス基板、２…背面ガラス基板、３…表示電
極、４…バス電極、５…誘電体層、６…保護膜、７…隔
壁、８…アドレス電極、９…蛍光体
極、４…バス電極、５…誘電体層、６…保護膜、７…隔
壁、８…アドレス電極、９…蛍光体
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フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｈ０１Ｊ 11/02 Ｂ
Ｆターム(参考） 4G062 AA08 AA09 BB01 DA01 DA02
DA03 DA04 DB01 DB02 DB03
DC03 DC04 DC05 DD01 DE03
DE04 DF01 EA01 EA02 EA03
EA10 EB01 EB02 EB03 EC01
EC02 EC03 ED01 EE01 EE02
EE03 EE04 EE05 EF01 EF02
EF03 EF04 EF05 EG01 EG02
EG03 EG04 EG05 FA01 FA10
FB01 FC01 FD01 FE01 FF01
FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01
GA03 GA04 GA05 GA06 GA07
GB01 GC01 GD01 GE01 HH01
HH02 HH03 HH05 HH07 HH09
HH11 HH13 HH15 HH17 HH20
JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10
KK01 KK03 KK05 KK07 KK10
MM08 MM25 NN29 NN40 PP01
PP03 PP12
5C040 FA01 GB03 GD07 GF18 JA12
JA15 JA17 KA09 KA10 KB19
KB28 KB30 MA30
Claims (7)
- 【請求項１】 酸化物基準の質量％表示でＢｉ2Ｏ3：５
〜７５％、Ｂ2Ｏ3：５〜３５％、ＺｎＯ：９．５〜２
４．５％、ＳｉＯ2：０〜２０％、Ａｌ2Ｏ3：０〜１０
％、ＢａＯ：０〜３５％、ＣａＯ：０〜３５％、Ｓｒ
Ｏ：０〜３５％、Ｒ 2Ｏ：０〜１０％（但しＲ2ＯとはＬ
ｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ、Ｋ２Ｏ、Ｃｓ2Ｏの少なくとも１つ）
を含有しＰｂＯを含まないことを特徴とする無鉛ガラス
組成物。 - 【請求項２】 酸化物基準の質量％表示でＢｉ2Ｏ3：１
０〜５０％、Ｂ2Ｏ3：１０〜３０％、ＺｎＯ：１０〜２
４％、ＳｉＯ2：１〜１８％、Ａｌ2Ｏ3：０〜８％、Ｂ
ａＯ：０〜２０％、ＣａＯ：０〜２０％、ＳｒＯ：０〜
２０％、ＢａＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ：４〜４５％、Ｒ
2Ｏ：０〜３％（但しＲ2ＯとはＬｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2
Ｏ、Ｃｓ2Ｏの少なくとも１つ）を含有しＰｂＯを含ま
ないことを特徴とする無鉛ガラス組成物。 - 【請求項３】 熱膨脹係数が６５〜８５×１０-7/℃、
軟化点が６００℃以下、誘電率が１４以下であることを
特徴とする請求項１または２記載の無鉛ガラス組成物。 - 【請求項４】 前記請求項１ないし３のいずれか１項記
載の無鉛ガラス組成物と、無機充填剤および無機顔料の
少なくとも一種と、バインダーおよび有機溶媒とを含有
することを特徴とする無鉛ペースト。 - 【請求項５】 前記請求項１ないし３のいずれか１項記
載の無鉛ガラス組成物にバインダーおよび有機溶媒を含
有してなることを特徴とする無鉛ペースト。 - 【請求項６】 前記請求項４項記載の無鉛ペーストで形
成された隔壁を有することを特徴とするプラズマディス
プレイパネル。 - 【請求項７】 前記請求項４または５項記載の無鉛ペー
ストで形成された誘電体層を有することを特徴とするプ
ラズマディスプレイパネル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001322955A JP3827987B2 (ja) | 2001-10-22 | 2001-10-22 | 無鉛ガラスフリット |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001322955A JP3827987B2 (ja) | 2001-10-22 | 2001-10-22 | 無鉛ガラスフリット |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003128430A true JP2003128430A (ja) | 2003-05-08 |
| JP3827987B2 JP3827987B2 (ja) | 2006-09-27 |
Family
ID=19139914
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001322955A Expired - Lifetime JP3827987B2 (ja) | 2001-10-22 | 2001-10-22 | 無鉛ガラスフリット |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3827987B2 (ja) |
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