JP2003097939A - 形状測定装置、形状測定方法、形状測定用コンピュータプログラムを記憶する記憶媒体及び形状測定用コンピュータプログラム、形状修正加工方法、形状転写用の型、成型品及び光学システム - Google Patents
形状測定装置、形状測定方法、形状測定用コンピュータプログラムを記憶する記憶媒体及び形状測定用コンピュータプログラム、形状修正加工方法、形状転写用の型、成型品及び光学システムInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 被測定面における狙いの個所を正確に測定
し、測定精度を向上させる。 【解決手段】 接触式のプローブ１０１の微小変位を測
定して被測定面１０２の形状を測定する形状測定装置に
おける制御として、目標接触点ＬＭから被測定面１０２
の法線方向にプローブ１０１の先端径の長さだけオフセ
ットさせた位置情報をプロセッサの演算処理により求
め、その演算処理によって求めた位置情報によって特定
される位置にプローブ１０１の先端径の中心を位置決め
するようにプローブ１０１と被測定面１０２とを相対的
に移動させる移動機構を駆動制御する。これにより、被
測定面１０２における狙いの個所を正確に測定すること
ができる。
し、測定精度を向上させる。 【解決手段】 接触式のプローブ１０１の微小変位を測
定して被測定面１０２の形状を測定する形状測定装置に
おける制御として、目標接触点ＬＭから被測定面１０２
の法線方向にプローブ１０１の先端径の長さだけオフセ
ットさせた位置情報をプロセッサの演算処理により求
め、その演算処理によって求めた位置情報によって特定
される位置にプローブ１０１の先端径の中心を位置決め
するようにプローブ１０１と被測定面１０２とを相対的
に移動させる移動機構を駆動制御する。これにより、被
測定面１０２における狙いの個所を正確に測定すること
ができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、接触式プローブを
用いて、物体の形状を高精度に測定する形状測定装置、
形状測定方法、形状測定用コンピュータプログラムを記
憶する記憶媒体及び形状測定用コンピュータプログラム
に関する。本発明は、また、形状測定方法を利用した形
状修正加工方法、形状転写用の型、この型を利用した成
型品及びこの成型品を用いた光学システムに関する。
用いて、物体の形状を高精度に測定する形状測定装置、
形状測定方法、形状測定用コンピュータプログラムを記
憶する記憶媒体及び形状測定用コンピュータプログラム
に関する。本発明は、また、形状測定方法を利用した形
状修正加工方法、形状転写用の型、この型を利用した成
型品及びこの成型品を用いた光学システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、レーザプリンタやデジタル複写機
の分野において、画質に対する要求が年々厳しさを増し
ており、それにつれて、レンズやミラー等の光学素子の
品質、特に形状精度への要求が高度化してきている。一
方で、コスト目標も同時に満足する必要があることか
ら、安価で高精度なプラスチック光学素子への期待が高
まっている。このような安価で高精度なプラスチック光
学素子の製作に当たっては、プラスチック光学素子の形
状を正確に測定する工程と、測定した形状情報を基にし
たプラスチック成型用型の形状修正工程とが実施され
る。
の分野において、画質に対する要求が年々厳しさを増し
ており、それにつれて、レンズやミラー等の光学素子の
品質、特に形状精度への要求が高度化してきている。一
方で、コスト目標も同時に満足する必要があることか
ら、安価で高精度なプラスチック光学素子への期待が高
まっている。このような安価で高精度なプラスチック光
学素子の製作に当たっては、プラスチック光学素子の形
状を正確に測定する工程と、測定した形状情報を基にし
たプラスチック成型用型の形状修正工程とが実施され
る。
【０００３】ここで、形状測定工程においては、自由曲
面のような複雑な形状の測定が可能で、しかも急峻な勾
配をもつ面形状が測定可能であるという理由から、接触
式プローブを用いた形状測定装置が広く用いられてい
る。
面のような複雑な形状の測定が可能で、しかも急峻な勾
配をもつ面形状が測定可能であるという理由から、接触
式プローブを用いた形状測定装置が広く用いられてい
る。
【０００４】プラスチック成型用型の形状修正工程を実
施するには、一般に、高い加工精度を得るためにＮＣ旋
盤等の数値制御による自動工作機械（以下、型加工機と
いう）が用いられる。一例として、図１１に示される型
加工機では、Ｙ軸回りに一定速度で回転する工具スピン
ドル１の外周面に単結晶ダイヤモンド工具２が保持され
ており、また、型部材３は図示しない移動ステージによ
ってＸ、Ｙ、Ｚの３軸方向に移動可能となっている。型
部材３が型加工機の所定位置にセットされると、図示し
ない制御装置の指示に従い工具スピンドル１が一定速度
で回転し、単結晶ダイヤモンド工具２によって、まず、
ＸＺ同時２軸制御により最初の加工ライン４に沿った切
削加工が行われる。最初の加工ライン４の加工が終了す
ると、次に型部材をＹ方向に一定ピッチだけ移動させて
次の加工ラインの加工を行なう。このような動作を繰り
返すことにより、設定された表面形状が型部材表面に形
成されることになる。
施するには、一般に、高い加工精度を得るためにＮＣ旋
盤等の数値制御による自動工作機械（以下、型加工機と
いう）が用いられる。一例として、図１１に示される型
加工機では、Ｙ軸回りに一定速度で回転する工具スピン
ドル１の外周面に単結晶ダイヤモンド工具２が保持され
ており、また、型部材３は図示しない移動ステージによ
ってＸ、Ｙ、Ｚの３軸方向に移動可能となっている。型
部材３が型加工機の所定位置にセットされると、図示し
ない制御装置の指示に従い工具スピンドル１が一定速度
で回転し、単結晶ダイヤモンド工具２によって、まず、
ＸＺ同時２軸制御により最初の加工ライン４に沿った切
削加工が行われる。最初の加工ライン４の加工が終了す
ると、次に型部材をＹ方向に一定ピッチだけ移動させて
次の加工ラインの加工を行なう。このような動作を繰り
返すことにより、設定された表面形状が型部材表面に形
成されることになる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】図１２は、接触式プロ
ーブを用いた形状測定装置におけるプローブと被測定面
との関係を示す模式図である。
ーブを用いた形状測定装置におけるプローブと被測定面
との関係を示す模式図である。
【０００６】接触式プローブを用いた形状測定装置は、
プローブの先端が有限の曲率を持つことから、リニアエ
ンコーダ等の測長器によって測定されるプローブ中心座
標と、実際の接触点とが一致しないため、狙いの測定位
置を正確に測定できないという問題がある。例えば、図
１２において、被測定物１１の頂点Ｘａを通るＹ方向断
面を狙いの測定断面とした場合には、プローブ１２の中
心を含む駆動経路のＸ座標についてはＸａでよいが、Ｘ
ｂ断面を狙いの測定断面としてプローブ１２の中心を含
む駆動経路のＸ座標をＸｂとしてしまうと、実際にはＸ
ｂ’断面が測定されてしまうという問題がある。
プローブの先端が有限の曲率を持つことから、リニアエ
ンコーダ等の測長器によって測定されるプローブ中心座
標と、実際の接触点とが一致しないため、狙いの測定位
置を正確に測定できないという問題がある。例えば、図
１２において、被測定物１１の頂点Ｘａを通るＹ方向断
面を狙いの測定断面とした場合には、プローブ１２の中
心を含む駆動経路のＸ座標についてはＸａでよいが、Ｘ
ｂ断面を狙いの測定断面としてプローブ１２の中心を含
む駆動経路のＸ座標をＸｂとしてしまうと、実際にはＸ
ｂ’断面が測定されてしまうという問題がある。
【０００７】このため、プラスチック成型用型の誤差形
状を相殺するように形状修正を行う際、図１２に示す加
工ライン４に沿った形状測定データに基づいて型の誤差
形状を求めたいという要求があるのに対して、狙いの測
定位置を正確に測定することができないことから、型の
正確な誤差形状を求めることができないという問題があ
る。
状を相殺するように形状修正を行う際、図１２に示す加
工ライン４に沿った形状測定データに基づいて型の誤差
形状を求めたいという要求があるのに対して、狙いの測
定位置を正確に測定することができないことから、型の
正確な誤差形状を求めることができないという問題があ
る。
【０００８】本発明の目的は、被測定面における狙いの
個所を正確に測定し、測定精度を向上させることであ
る。
個所を正確に測定し、測定精度を向上させることであ
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
接触式のプローブの微小変位を測定して被測定面の形状
を測定する形状測定装置において、前記プローブと前記
被測定面とを相対的に移動させる移動機構と、目標接触
点から前記被測定面の法線方向に前記プローブの先端径
の長さだけオフセットさせた位置情報をプロセッサの演
算処理により求める位置情報算出手段と、前記位置情報
算出手段の演算処理によって求めた前記位置情報によっ
て特定される位置に前記プローブの先端径の中心を位置
決めするように前記移動機構を駆動制御する位置決め制
御手段と、を具備する。
接触式のプローブの微小変位を測定して被測定面の形状
を測定する形状測定装置において、前記プローブと前記
被測定面とを相対的に移動させる移動機構と、目標接触
点から前記被測定面の法線方向に前記プローブの先端径
の長さだけオフセットさせた位置情報をプロセッサの演
算処理により求める位置情報算出手段と、前記位置情報
算出手段の演算処理によって求めた前記位置情報によっ
て特定される位置に前記プローブの先端径の中心を位置
決めするように前記移動機構を駆動制御する位置決め制
御手段と、を具備する。
【００１０】したがって、被測定面の法線方向を考慮し
てプローブの走査経路が定められるので、被測定面にお
ける狙いの個所の正確な測定が可能となる。
てプローブの走査経路が定められるので、被測定面にお
ける狙いの個所の正確な測定が可能となる。
【００１１】請求項２記載の発明は、請求項１記載の形
状測定装置において、前記位置情報算出手段によって求
めた前記位置情報を記憶部に記憶し、前記位置決め制御
手段は、前記記憶部に記憶された前記位置情報に基づい
て前記プローブの先端径の中心を位置決めするように前
記移動機構を駆動制御する。
状測定装置において、前記位置情報算出手段によって求
めた前記位置情報を記憶部に記憶し、前記位置決め制御
手段は、前記記憶部に記憶された前記位置情報に基づい
て前記プローブの先端径の中心を位置決めするように前
記移動機構を駆動制御する。
【００１２】したがって、記憶部に記憶された位置情報
に基づいてプローブの先端径の中心が位置決めされるの
で、処理速度の向上が図られる。
に基づいてプローブの先端径の中心が位置決めされるの
で、処理速度の向上が図られる。
【００１３】請求項３記載の発明は、請求項１又は２記
載の形状測定装置において、前記プローブの接触荷重が
一定になるように制御する荷重制御手段を備える。
載の形状測定装置において、前記プローブの接触荷重が
一定になるように制御する荷重制御手段を備える。
【００１４】したがって、プローブの被測定面に対する
接触力を一定に維持しながら、Ｚ方向に広い測定レンジ
が確保されるので、Ｚ方向への湾曲度が大きな被測定面
の測定が可能となる。
接触力を一定に維持しながら、Ｚ方向に広い測定レンジ
が確保されるので、Ｚ方向への湾曲度が大きな被測定面
の測定が可能となる。
【００１５】請求項４記載の発明は、請求項１、２又は
３記載の形状測定装置において、前記プローブの先端形
状は、円弧断面形状である。
３記載の形状測定装置において、前記プローブの先端形
状は、円弧断面形状である。
【００１６】したがって、狙いの測定経路を測定するた
めのプローブの走査経路を簡単な式によって求めること
が可能となる。
めのプローブの走査経路を簡単な式によって求めること
が可能となる。
【００１７】請求項５記載の発明は、接触式のプローブ
の微小変位を測定して被測定面の形状を測定する形状測
定方法において、目標接触点から前記被測定面の法線方
向に前記プローブの先端径の長さだけオフセットさせた
位置情報をプロセッサの演算処理により求める位置情報
算出ステップと、前記位置情報算出手段の演算処理によ
って求めた前記位置情報によって特定される位置に前記
プローブの先端径の中心を位置決めするように、前記プ
ローブと前記被測定面とを相対的に移動させる移動機構
を駆動制御する位置決め制御ステップと、を具備する。
の微小変位を測定して被測定面の形状を測定する形状測
定方法において、目標接触点から前記被測定面の法線方
向に前記プローブの先端径の長さだけオフセットさせた
位置情報をプロセッサの演算処理により求める位置情報
算出ステップと、前記位置情報算出手段の演算処理によ
って求めた前記位置情報によって特定される位置に前記
プローブの先端径の中心を位置決めするように、前記プ
ローブと前記被測定面とを相対的に移動させる移動機構
を駆動制御する位置決め制御ステップと、を具備する。
【００１８】したがって、被測定面の法線方向を考慮し
てプローブの走査経路が定められるので、被測定面にお
ける狙いの個所の正確な測定が可能となる。
てプローブの走査経路が定められるので、被測定面にお
ける狙いの個所の正確な測定が可能となる。
【００１９】請求項６記載の発明は、請求項５記載の形
状測定方法において、前記位置情報算出ステップによっ
て求めた前記位置情報を記憶部に記憶し、前記位置決め
制御ステップは、前記記憶部に記憶された前記位置情報
に基づいて前記プローブの先端径の中心を位置決めする
ように前記移動機構を駆動制御する。
状測定方法において、前記位置情報算出ステップによっ
て求めた前記位置情報を記憶部に記憶し、前記位置決め
制御ステップは、前記記憶部に記憶された前記位置情報
に基づいて前記プローブの先端径の中心を位置決めする
ように前記移動機構を駆動制御する。
【００２０】したがって、記憶部に記憶された位置情報
に基づいてプローブの先端径の中心が位置決めされるの
で、処理速度の向上が図られる。
に基づいてプローブの先端径の中心が位置決めされるの
で、処理速度の向上が図られる。
【００２１】請求項７記載の発明は、請求項５又は６記
載の形状測定方法において、前記プローブの接触荷重が
一定になるように制御する。
載の形状測定方法において、前記プローブの接触荷重が
一定になるように制御する。
【００２２】したがって、プローブの被測定面に対する
接触力を一定に維持しながら、Ｚ方向に広い測定レンジ
が確保されるので、Ｚ方向への湾曲度が大きな被測定面
の測定が可能となる。
接触力を一定に維持しながら、Ｚ方向に広い測定レンジ
が確保されるので、Ｚ方向への湾曲度が大きな被測定面
の測定が可能となる。
【００２３】請求項８記載の発明は、請求項５、６又は
７記載の形状測定方法において、前記プローブの先端形
状は、円弧断面形状である。
７記載の形状測定方法において、前記プローブの先端形
状は、円弧断面形状である。
【００２４】したがって、狙いの測定経路を測定するた
めのプローブの走査経路を簡単な式によって求めること
が可能となる。
めのプローブの走査経路を簡単な式によって求めること
が可能となる。
【００２５】請求項９記載の発明は、接触式のプローブ
の微小変位を測定して被測定面の形状を測定する形状測
定装置を制御するコンピュータにインストールされる形
状測定用コンピュータプログラムを記憶する記憶媒体で
あって、前記形状測定用コンピュータプログラムは、前
記コンピュータに、目標接触点から前記被測定面の法線
方向に前記プローブの先端径の長さだけオフセットさせ
た位置情報をプロセッサの演算処理により求める位置情
報算出機能と、前記位置情報算出手段の演算処理によっ
て求めた前記位置情報によって特定される位置に前記プ
ローブの先端径の中心を位置決めするように前記移動機
構を駆動制御する信号を出力する位置決め制御機能と、
を実行させる。
の微小変位を測定して被測定面の形状を測定する形状測
定装置を制御するコンピュータにインストールされる形
状測定用コンピュータプログラムを記憶する記憶媒体で
あって、前記形状測定用コンピュータプログラムは、前
記コンピュータに、目標接触点から前記被測定面の法線
方向に前記プローブの先端径の長さだけオフセットさせ
た位置情報をプロセッサの演算処理により求める位置情
報算出機能と、前記位置情報算出手段の演算処理によっ
て求めた前記位置情報によって特定される位置に前記プ
ローブの先端径の中心を位置決めするように前記移動機
構を駆動制御する信号を出力する位置決め制御機能と、
を実行させる。
【００２６】したがって、被測定面の法線方向を考慮し
てプローブの走査経路が定められるので、被測定面にお
ける狙いの個所の正確な測定が可能となる。
てプローブの走査経路が定められるので、被測定面にお
ける狙いの個所の正確な測定が可能となる。
【００２７】請求項１０記載の発明は、請求項９記載の
形状測定用コンピュータプログラムを記憶する記憶媒体
において、前記位置情報算出機能によって求めた前記位
置情報を記憶部に記憶し、前記位置決め制御機能は、前
記記憶部に記憶された前記位置情報に基づいて前記プロ
ーブの先端径の中心を位置決めするように前記移動機構
を駆動制御する信号を出力する。
形状測定用コンピュータプログラムを記憶する記憶媒体
において、前記位置情報算出機能によって求めた前記位
置情報を記憶部に記憶し、前記位置決め制御機能は、前
記記憶部に記憶された前記位置情報に基づいて前記プロ
ーブの先端径の中心を位置決めするように前記移動機構
を駆動制御する信号を出力する。
【００２８】したがって、記憶部に記憶された位置情報
に基づいてプローブの先端径の中心が位置決めされるの
で、処理速度の向上が図られる。
に基づいてプローブの先端径の中心が位置決めされるの
で、処理速度の向上が図られる。
【００２９】請求項１１記載の発明は、請求項９又は１
０記載の形状測定用コンピュータプログラムを記憶する
記憶媒体において、前記コンピュータが制御する前記形
状測定装置における前記プローブの先端形状は円弧断面
形状である。
０記載の形状測定用コンピュータプログラムを記憶する
記憶媒体において、前記コンピュータが制御する前記形
状測定装置における前記プローブの先端形状は円弧断面
形状である。
【００３０】したがって、狙いの測定経路を測定するた
めのプローブの走査経路を簡単な式によって求めること
が可能となる。
めのプローブの走査経路を簡単な式によって求めること
が可能となる。
【００３１】請求項１２記載の発明は、接触式のプロー
ブの微小変位を測定して被測定面の形状を測定する形状
測定装置を制御するコンピュータにインストールされる
形状測定用コンピュータプログラムであって、この形状
測定用コンピュータプログラムは、前記コンピュータ
に、目標接触点から前記被測定面の法線方向に前記プロ
ーブの先端径の長さだけオフセットさせた位置情報をプ
ロセッサの演算処理により求める位置情報算出機能と、
前記位置情報算出手段の演算処理によって求めた前記位
置情報によって特定される位置に前記プローブの先端径
の中心を位置決めするように前記移動機構を駆動制御す
る信号を出力する位置決め制御機能と、を実行させる。
ブの微小変位を測定して被測定面の形状を測定する形状
測定装置を制御するコンピュータにインストールされる
形状測定用コンピュータプログラムであって、この形状
測定用コンピュータプログラムは、前記コンピュータ
に、目標接触点から前記被測定面の法線方向に前記プロ
ーブの先端径の長さだけオフセットさせた位置情報をプ
ロセッサの演算処理により求める位置情報算出機能と、
前記位置情報算出手段の演算処理によって求めた前記位
置情報によって特定される位置に前記プローブの先端径
の中心を位置決めするように前記移動機構を駆動制御す
る信号を出力する位置決め制御機能と、を実行させる。
【００３２】したがって、被測定面の法線方向を考慮し
てプローブの走査経路が定められるので、被測定面にお
ける狙いの個所の正確な測定が可能となる。
てプローブの走査経路が定められるので、被測定面にお
ける狙いの個所の正確な測定が可能となる。
【００３３】請求項１３記載の発明は、請求項１２記載
の形状測定用コンピュータプログラムにおいて、前記位
置情報算出機能によって求めた前記位置情報を記憶部に
記憶し、前記位置決め制御機能は、前記記憶部に記憶さ
れた前記位置情報に基づいて前記プローブの先端径の中
心を位置決めするように前記移動機構を駆動制御する信
号を出力する。
の形状測定用コンピュータプログラムにおいて、前記位
置情報算出機能によって求めた前記位置情報を記憶部に
記憶し、前記位置決め制御機能は、前記記憶部に記憶さ
れた前記位置情報に基づいて前記プローブの先端径の中
心を位置決めするように前記移動機構を駆動制御する信
号を出力する。
【００３４】したがって、記憶部に記憶された位置情報
に基づいてプローブの先端径の中心が位置決めされるの
で、処理速度の向上が図られる。
に基づいてプローブの先端径の中心が位置決めされるの
で、処理速度の向上が図られる。
【００３５】請求項１４記載の発明は、請求項１２又は
１３記載の形状測定用コンピュータプログラムにおい
て、前記コンピュータが制御する前記形状測定装置にお
ける前記プローブの先端形状は円弧断面形状である。
１３記載の形状測定用コンピュータプログラムにおい
て、前記コンピュータが制御する前記形状測定装置にお
ける前記プローブの先端形状は円弧断面形状である。
【００３６】したがって、狙いの測定経路を測定するた
めのプローブの走査経路を簡単な式によって求めること
が可能となる。
めのプローブの走査経路を簡単な式によって求めること
が可能となる。
【００３７】請求項１５記載の形状修正加工方法の発明
は、請求項１、２、３又は４記載の形状測定装置を用い
て被測定面の形状を測定し形状誤差を求めるステップ
と、形状誤差を低減するように前記被測定面の形状を修
正加工するステップと、を具備する。
は、請求項１、２、３又は４記載の形状測定装置を用い
て被測定面の形状を測定し形状誤差を求めるステップ
と、形状誤差を低減するように前記被測定面の形状を修
正加工するステップと、を具備する。
【００３８】したがって、狙いの測定経路で測定された
データを用いて被測定面が修正加工されるので、被測定
面に高精度な面形状が得られる。しかも、成型品の形状
精度を確保するために、成型条件設定に膨大な時間と労
力をかけるのでなく、型形状を修正加工してこれを達成
するので、生産の効率化、省力化につながる。
データを用いて被測定面が修正加工されるので、被測定
面に高精度な面形状が得られる。しかも、成型品の形状
精度を確保するために、成型条件設定に膨大な時間と労
力をかけるのでなく、型形状を修正加工してこれを達成
するので、生産の効率化、省力化につながる。
【００３９】請求項１６記載の形状修正加工方法の発明
は、請求項１、２、３又は４記載の形状測定装置を用い
て被測定面の形状を測定し形状誤差を求めるステップ
と、形状誤差を低減するように前記被測定面の創生に用
いた形状転写用の型の形状を修正加工するステップと、
を具備する。
は、請求項１、２、３又は４記載の形状測定装置を用い
て被測定面の形状を測定し形状誤差を求めるステップ
と、形状誤差を低減するように前記被測定面の創生に用
いた形状転写用の型の形状を修正加工するステップと、
を具備する。
【００４０】したがって、狙いの測定経路で測定された
データを用いて被測定面が修正加工されるので、被測定
面に高精度な面形状が得られる。しかも、成型品の形状
精度を確保するために、成型条件設定に膨大な時間と労
力をかけるのでなく、型形状を修正加工してこれを達成
するので、生産の効率化、省力化につながる。
データを用いて被測定面が修正加工されるので、被測定
面に高精度な面形状が得られる。しかも、成型品の形状
精度を確保するために、成型条件設定に膨大な時間と労
力をかけるのでなく、型形状を修正加工してこれを達成
するので、生産の効率化、省力化につながる。
【００４１】請求項１７記載の発明は、被測定面の創生
に用いる形状転写用の型において、請求項１、２、３又
は４記載の形状測定装置を用いて被測定面の形状を測定
し形状誤差を求めるステップと、形状誤差を低減するよ
うに前記被測定面の創生に用いた形状転写用の型の形状
を修正加工するステップと、を経て修正加工されてい
る。
に用いる形状転写用の型において、請求項１、２、３又
は４記載の形状測定装置を用いて被測定面の形状を測定
し形状誤差を求めるステップと、形状誤差を低減するよ
うに前記被測定面の創生に用いた形状転写用の型の形状
を修正加工するステップと、を経て修正加工されてい
る。
【００４２】したがって、狙いの測定経路で測定された
データを用いて被測定面が修正加工されるので、被測定
面に高精度な面形状が得られる。しかも、成型品の形状
精度を確保するために、成型条件設定に膨大な時間と労
力をかけるのでなく、型形状を修正加工してこれを達成
するので、生産の効率化、省力化につながる。
データを用いて被測定面が修正加工されるので、被測定
面に高精度な面形状が得られる。しかも、成型品の形状
精度を確保するために、成型条件設定に膨大な時間と労
力をかけるのでなく、型形状を修正加工してこれを達成
するので、生産の効率化、省力化につながる。
【００４３】請求項１８記載の成型品の発明は、請求項
１７記載の形状転写用の型を用い、その型が備えるキャ
ビティ側の表面形状を成型素材に転写して成型されてい
る。
１７記載の形状転写用の型を用い、その型が備えるキャ
ビティ側の表面形状を成型素材に転写して成型されてい
る。
【００４４】したがって、狙いの測定経路で測定された
データを用いて修正加工された被測定面がキャビティ側
の表面形状となることから、この表面形状を成型素材に
転写されて形成された成型品について、高精度な面形状
が得られる。しかも、成型品の形状精度を確保するため
に、成型条件設定に膨大な時間と労力をかけるのでな
く、型形状を修正加工してこれを達成するので、生産の
効率化、省力化につながる。
データを用いて修正加工された被測定面がキャビティ側
の表面形状となることから、この表面形状を成型素材に
転写されて形成された成型品について、高精度な面形状
が得られる。しかも、成型品の形状精度を確保するため
に、成型条件設定に膨大な時間と労力をかけるのでな
く、型形状を修正加工してこれを達成するので、生産の
効率化、省力化につながる。
【００４５】請求項１９記載の発明は、請求項１８記載
の成型品において、成型品は光学素子である。
の成型品において、成型品は光学素子である。
【００４６】したがって、狙いの測定経路で測定された
データを用いて修正加工された被測定面がキャビティ側
の表面形状となることから、この表面形状を成型素材に
転写されて形成された成型品である光学素子について、
高精度な面形状が得られる。しかも、成型品である光学
素子の形状精度を確保するために、成型条件設定に膨大
な時間と労力をかけるのでなく、型形状を修正加工して
これを達成するので、生産の効率化、省力化につなが
る。
データを用いて修正加工された被測定面がキャビティ側
の表面形状となることから、この表面形状を成型素材に
転写されて形成された成型品である光学素子について、
高精度な面形状が得られる。しかも、成型品である光学
素子の形状精度を確保するために、成型条件設定に膨大
な時間と労力をかけるのでなく、型形状を修正加工して
これを達成するので、生産の効率化、省力化につなが
る。
【００４７】請求項２０記載の光学システムの発明は、
光源からの光を走査対象物に対して走査する光走査系を
含む光学システムにおいて、前記光源からの光を所定の
角度範囲内で偏向する偏向手段と、前記偏向手段から前
記走査対象物に至る光路上に配置された請求項１９記載
の成型品である光学素子を含む光学系と、を具備する。
光源からの光を走査対象物に対して走査する光走査系を
含む光学システムにおいて、前記光源からの光を所定の
角度範囲内で偏向する偏向手段と、前記偏向手段から前
記走査対象物に至る光路上に配置された請求項１９記載
の成型品である光学素子を含む光学系と、を具備する。
【００４８】したがって、光学システムの光学系を構成
する光学素子が高精度に構成されているので、高精度な
光学走査が行なわれる。
する光学素子が高精度に構成されているので、高精度な
光学走査が行なわれる。
【００４９】請求項２１記載の発明は、請求項２０記載
の光学システムにおいて、光に反応して静電潜像を形成
する像担持体に前記偏向手段及び前記光学系を介して前
記光源からの光を照射して静電潜像を形成し、この静電
潜像を現像して転写紙に転写するようにした。
の光学システムにおいて、光に反応して静電潜像を形成
する像担持体に前記偏向手段及び前記光学系を介して前
記光源からの光を照射して静電潜像を形成し、この静電
潜像を現像して転写紙に転写するようにした。
【００５０】したがって、光学システムの光学系を構成
する光学素子が高精度に構成されているので、光学シス
テムが適用されるレーザプリンタやデジタル複写機等に
おいて、高品位な出力画像が得られる。
する光学素子が高精度に構成されているので、光学シス
テムが適用されるレーザプリンタやデジタル複写機等に
おいて、高品位な出力画像が得られる。
【００５１】
【発明の実施の形態】本発明の第一の実施の形態を図１
ないし図６に基づいて説明する。
ないし図６に基づいて説明する。
【００５２】図１は、接触式プローブを用いた形状測定
装置の概要を示す模式図である。図中、矢印で示す方向
をそれぞれＸ軸、Ｚ軸とし、紙面と垂直方向をＹ軸とす
る。
装置の概要を示す模式図である。図中、矢印で示す方向
をそれぞれＸ軸、Ｚ軸とし、紙面と垂直方向をＹ軸とす
る。
【００５３】接触式のプローブ１０１は、被測定面１０
２との間で、Ｘ、Ｙ、Ｚの各方向に相対的に移動自在に
支持されている。そのための構造として、Ｘ軸ステージ
１０３、Ｙ軸ステージ１０４及びＺ軸ステージ１０５が
それぞれ設けられている（移動機構）。各軸ステージ１
０３、１０４、１０５は、それぞれ、駆動用モータ１０
６、１０７、１０８によって駆動され、プローブ１０１
と被測定面１０２とをＸ、Ｙ、Ｚ方向に相対移動させ
る。また、Ｘ、Ｙ、Ｚ軸ステージ１０３、１０４、１０
５には、それぞれ、Ｘ軸ステージ１０３、Ｙ軸ステージ
１０４及びＺ軸ステージ１０５のそれぞれの移動軌跡を
検出するためのリニアエンコーダ１０９、１１０、１１
１が設けられている。
２との間で、Ｘ、Ｙ、Ｚの各方向に相対的に移動自在に
支持されている。そのための構造として、Ｘ軸ステージ
１０３、Ｙ軸ステージ１０４及びＺ軸ステージ１０５が
それぞれ設けられている（移動機構）。各軸ステージ１
０３、１０４、１０５は、それぞれ、駆動用モータ１０
６、１０７、１０８によって駆動され、プローブ１０１
と被測定面１０２とをＸ、Ｙ、Ｚ方向に相対移動させ
る。また、Ｘ、Ｙ、Ｚ軸ステージ１０３、１０４、１０
５には、それぞれ、Ｘ軸ステージ１０３、Ｙ軸ステージ
１０４及びＺ軸ステージ１０５のそれぞれの移動軌跡を
検出するためのリニアエンコーダ１０９、１１０、１１
１が設けられている。
【００５４】このような形状測定装置では、各駆動用モ
ータ１０６、１０７、１０８に対して、それぞれの駆動
装置、つまり、ＸＹ軸駆動装置１１２及びＺ軸駆動装置
１１３から駆動制御信号に基づく電力供給がなされるこ
とで、各駆動用モータ１０６、１０７、１０８が駆動さ
れる。そして、ＸＹ軸駆動装置１１２及びＺ軸駆動装置
１１３は、制御／解析用コンピュータ１１４からの駆動
制御信号に応じて動作する。
ータ１０６、１０７、１０８に対して、それぞれの駆動
装置、つまり、ＸＹ軸駆動装置１１２及びＺ軸駆動装置
１１３から駆動制御信号に基づく電力供給がなされるこ
とで、各駆動用モータ１０６、１０７、１０８が駆動さ
れる。そして、ＸＹ軸駆動装置１１２及びＺ軸駆動装置
１１３は、制御／解析用コンピュータ１１４からの駆動
制御信号に応じて動作する。
【００５５】制御／解析用コンピュータ１１４は、マイ
クロコンピュータであり、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ（全
て図示せず）等を主体として構成されるプロセッサ１１
５と、ＨＤＤやその他の記憶手段等によって構成される
記憶部１１６とによって構築される。このような制御／
解析用コンピュータ１１４には、形状測定用コンピュー
タプログラムがインストールされており、この形状測定
用コンピュータプログラムに従いプローブ１０１を用い
た形状測定のための各種の処理を実行する。このような
形状測定用コンピュータプログラムは、プロセッサ１１
５が内蔵する図示しないＲＯＭに格納されて使用されて
も、記憶部１１６に記憶されて必要に応じてプロセッサ
１１５が内蔵する図示しないＲＡＭに書き込まれて使用
されても、いずれでも良い。また、形状測定用コンピュ
ータプログラムが記憶部１１６に記憶されているとする
と、この記憶部１１６に記憶される前の形状測定用コン
ピュータプログラムは、例えばＣＤ−ＲＯＭやＤＶ−Ｒ
ＯＭ、ＤＶＤ−ＲＡＭ等のような光学的な記憶媒体、磁
気テープのような磁気的な記憶媒体等、可搬性を有する
記憶媒体に保存しておき、必要に応じて記憶部１１６に
インストールするような形態をとることが可能である。
クロコンピュータであり、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ（全
て図示せず）等を主体として構成されるプロセッサ１１
５と、ＨＤＤやその他の記憶手段等によって構成される
記憶部１１６とによって構築される。このような制御／
解析用コンピュータ１１４には、形状測定用コンピュー
タプログラムがインストールされており、この形状測定
用コンピュータプログラムに従いプローブ１０１を用い
た形状測定のための各種の処理を実行する。このような
形状測定用コンピュータプログラムは、プロセッサ１１
５が内蔵する図示しないＲＯＭに格納されて使用されて
も、記憶部１１６に記憶されて必要に応じてプロセッサ
１１５が内蔵する図示しないＲＡＭに書き込まれて使用
されても、いずれでも良い。また、形状測定用コンピュ
ータプログラムが記憶部１１６に記憶されているとする
と、この記憶部１１６に記憶される前の形状測定用コン
ピュータプログラムは、例えばＣＤ−ＲＯＭやＤＶ−Ｒ
ＯＭ、ＤＶＤ−ＲＡＭ等のような光学的な記憶媒体、磁
気テープのような磁気的な記憶媒体等、可搬性を有する
記憶媒体に保存しておき、必要に応じて記憶部１１６に
インストールするような形態をとることが可能である。
【００５６】図１に示すように、接触式のプローブ１０
１は、被測定面１０２との接触力を検出する機能を有
し、接触力の大きさに応じた接触力信号が出力される。
接触力信号は、制御／解析用コンピュータ１１４に取り
込まれる。そして、制御／解析用コンピュータ１１４で
は、接触力信号を常に一定に保つような駆動信号を生成
し、これをＺ軸駆動装置１１３へ送る。これにより、Ｚ
軸駆動装置１１３から駆動用モータ１０８に駆動電力が
供給され、この駆動用モータ１０８によってＺ軸ステー
ジ１０５が駆動されてプローブ１０１と被測定面１０２
との接触力を一定に維持する。また、制御／解析用コン
ピュータ１１４は、内部の記憶部１１６に記憶するＸ、
Ｙ座標に基づく駆動信号をＸＹ軸駆動装置１１２へ送
る。これにより、ＸＹ軸駆動装置１１２から駆動用モー
タ１０６、１０７に駆動電力が供給され、これらの駆動
用モータ１０６、１０７によってＸ軸ステージ１０３及
びＹ軸ステージ１０４が駆動されてプローブ１０１と被
測定面１０２とがＸ、Ｙ方向に位置制御される。
１は、被測定面１０２との接触力を検出する機能を有
し、接触力の大きさに応じた接触力信号が出力される。
接触力信号は、制御／解析用コンピュータ１１４に取り
込まれる。そして、制御／解析用コンピュータ１１４で
は、接触力信号を常に一定に保つような駆動信号を生成
し、これをＺ軸駆動装置１１３へ送る。これにより、Ｚ
軸駆動装置１１３から駆動用モータ１０８に駆動電力が
供給され、この駆動用モータ１０８によってＺ軸ステー
ジ１０５が駆動されてプローブ１０１と被測定面１０２
との接触力を一定に維持する。また、制御／解析用コン
ピュータ１１４は、内部の記憶部１１６に記憶するＸ、
Ｙ座標に基づく駆動信号をＸＹ軸駆動装置１１２へ送
る。これにより、ＸＹ軸駆動装置１１２から駆動用モー
タ１０６、１０７に駆動電力が供給され、これらの駆動
用モータ１０６、１０７によってＸ軸ステージ１０３及
びＹ軸ステージ１０４が駆動されてプローブ１０１と被
測定面１０２とがＸ、Ｙ方向に位置制御される。
【００５７】こうして、予め設定された経路に従い、被
測定面１０２の表面が走査される。走査中、各軸ステー
ジ１０３、１０４、１０５に備えられたリニアエンコー
ダ１０９、１１０、１１１の信号は、制御／解析用コン
ピュータ１１４によって適切なサンプリング間隔で逐次
測定され、被測定面１０２の表面形状データがＸ、Ｙ、
Ｚ座標点群データとして取得される。さらに詳しくは、
取得されたＸ、Ｙ、Ｚに対して後述するデータ処理を施
して表面形状データとする。
測定面１０２の表面が走査される。走査中、各軸ステー
ジ１０３、１０４、１０５に備えられたリニアエンコー
ダ１０９、１１０、１１１の信号は、制御／解析用コン
ピュータ１１４によって適切なサンプリング間隔で逐次
測定され、被測定面１０２の表面形状データがＸ、Ｙ、
Ｚ座標点群データとして取得される。さらに詳しくは、
取得されたＸ、Ｙ、Ｚに対して後述するデータ処理を施
して表面形状データとする。
【００５８】図２は、接触式のプローブ１０１の縦断側
面図である。プローブ１０１は、先端部に先端球１１７
を備える直動スライダ１１８をハウジング１１９に収納
し、その直動スライダ１１８を静圧空気軸受１２０によ
って非接触状態で支持する構造を有する。これにより、
直動スライダ１１８の水平方向の運動が拘束され、直動
スライダ１１８は上下方向に摺動抵抗なく運動する。ま
た、直動スライダ１１８の荷重は、ハウジング１１９内
でコイルばね１２１によって受けられている。このよう
な基本構造のもと、ハウジング１１９内には、直動スラ
イダ１１８の後端に対面させて変位計１２２が備えられ
ており、この変位計１２２の出力によって直動スライダ
１１８の変位を検出し、これによって被測定面１０２を
トレースする先端球１１７の変位を検出するものであ
る。この際、形状測定の際の動作としては、先端球１１
７が被測定面１０２に押しつけられると、コイルばね１
２１が変形し、変位計１２２の出力が変化する。そこ
で、Ｚ軸ステージ１１１を駆動して変位計１２２の出力
が一定になるように制御することにより、先端球１１７
の接触荷重を一定に保つ。このような接触荷重制御を行
なうことで、Ｚ軸方向に大きく湾曲した被測定面１０２
の面も測定が可能となる。
面図である。プローブ１０１は、先端部に先端球１１７
を備える直動スライダ１１８をハウジング１１９に収納
し、その直動スライダ１１８を静圧空気軸受１２０によ
って非接触状態で支持する構造を有する。これにより、
直動スライダ１１８の水平方向の運動が拘束され、直動
スライダ１１８は上下方向に摺動抵抗なく運動する。ま
た、直動スライダ１１８の荷重は、ハウジング１１９内
でコイルばね１２１によって受けられている。このよう
な基本構造のもと、ハウジング１１９内には、直動スラ
イダ１１８の後端に対面させて変位計１２２が備えられ
ており、この変位計１２２の出力によって直動スライダ
１１８の変位を検出し、これによって被測定面１０２を
トレースする先端球１１７の変位を検出するものであ
る。この際、形状測定の際の動作としては、先端球１１
７が被測定面１０２に押しつけられると、コイルばね１
２１が変形し、変位計１２２の出力が変化する。そこ
で、Ｚ軸ステージ１１１を駆動して変位計１２２の出力
が一定になるように制御することにより、先端球１１７
の接触荷重を一定に保つ。このような接触荷重制御を行
なうことで、Ｚ軸方向に大きく湾曲した被測定面１０２
の面も測定が可能となる。
【００５９】図３は、接触式のプローブ１０１の先端球
１１７と曲面形状を有する被測定面１０２との接触の様
子を示す模式図である。図３に示すように、接触式のプ
ローブ１０１は、その先端に半径Ｒの先端球１１７を有
している。このため、図１に示すリニアエンコーダ１０
９、１１０、１１１で測定される量は、プローブ１０１
の先端に位置する先端球１１７の中心座標の移動量と考
えることができる。これに対して、被測定面１０２に対
するプローブ１０１の実際の接触点は、図３より明らか
なように、プローブ１０１の中心座標からＲだけオフセ
ットした位置に存在するので、制御／解析用コンピュー
タ１１４を使ってプローブ中心座標から接触点座標を求
める。具体的には、リニアエンコーダ１０９、１１０、
１１１で測定されたＸ、Ｙ、Ｚ座標点群データを使っ
て、制御／解析用コンピュータ１１４の内部で法線方向
が計算され、法線方向に半径Ｒ分オフセットさせて新た
に得られる座標点群データＸ’Ｙ’Ｚ’をもって、実際
の接触点座標の近似値とする。
１１７と曲面形状を有する被測定面１０２との接触の様
子を示す模式図である。図３に示すように、接触式のプ
ローブ１０１は、その先端に半径Ｒの先端球１１７を有
している。このため、図１に示すリニアエンコーダ１０
９、１１０、１１１で測定される量は、プローブ１０１
の先端に位置する先端球１１７の中心座標の移動量と考
えることができる。これに対して、被測定面１０２に対
するプローブ１０１の実際の接触点は、図３より明らか
なように、プローブ１０１の中心座標からＲだけオフセ
ットした位置に存在するので、制御／解析用コンピュー
タ１１４を使ってプローブ中心座標から接触点座標を求
める。具体的には、リニアエンコーダ１０９、１１０、
１１１で測定されたＸ、Ｙ、Ｚ座標点群データを使っ
て、制御／解析用コンピュータ１１４の内部で法線方向
が計算され、法線方向に半径Ｒ分オフセットさせて新た
に得られる座標点群データＸ’Ｙ’Ｚ’をもって、実際
の接触点座標の近似値とする。
【００６０】図４は、接触式のプローブ１０１の先端球
１１７と曲面形状を有する被測定面１０２とのと接触の
様子を示す斜視図である。図４において、Ｚ＝ｆ(Ｘ，
Ｙ)は被測定面１０２の理論形状を与える理論式、Ｌｍ
は被測定面１０２に設定された狙いの測定経路、Ｓはプ
ローブ１０１の先端球１１７を示している。またＬｐ
は、測定経路Ｌｍ上の座標点を、個々の座標点における
法線方向にプローブ１０１の先端半径の分だけオフセッ
トさせたときのプローブ走査経路を表す。
１１７と曲面形状を有する被測定面１０２とのと接触の
様子を示す斜視図である。図４において、Ｚ＝ｆ(Ｘ，
Ｙ)は被測定面１０２の理論形状を与える理論式、Ｌｍ
は被測定面１０２に設定された狙いの測定経路、Ｓはプ
ローブ１０１の先端球１１７を示している。またＬｐ
は、測定経路Ｌｍ上の座標点を、個々の座標点における
法線方向にプローブ１０１の先端半径の分だけオフセッ
トさせたときのプローブ走査経路を表す。
【外１】
【００６１】被測定面１０２の測定に際しては、図４に
示すように、プローブ１０１の先端球１１７の中心を、
上記手順で求めたプローブ走査経路Ｌｐに沿って走査
し、所定のサンプリング間隔でプローブ１０１の先端球
１１７の中心座標を測定する。次に、図示しない第２の
走査経路に沿って走査し、所定のサンプリング間隔でプ
ローブ１０１の先端球１１７の中心座標を測定する。こ
の動作を繰り返すことによって、被測定面１０２である
Ｚ＝ｆ(Ｘ，Ｙ)の全体を、法線方向にオフセットした面
の点群データとして測定することができる。
示すように、プローブ１０１の先端球１１７の中心を、
上記手順で求めたプローブ走査経路Ｌｐに沿って走査
し、所定のサンプリング間隔でプローブ１０１の先端球
１１７の中心座標を測定する。次に、図示しない第２の
走査経路に沿って走査し、所定のサンプリング間隔でプ
ローブ１０１の先端球１１７の中心座標を測定する。こ
の動作を繰り返すことによって、被測定面１０２である
Ｚ＝ｆ(Ｘ，Ｙ)の全体を、法線方向にオフセットした面
の点群データとして測定することができる。
【００６２】次に、測定された点群データから、実際の
接触点の点群データを推定する手順を、図６に示すフロ
ーチャートを参照しながら説明する。
接触点の点群データを推定する手順を、図６に示すフロ
ーチャートを参照しながら説明する。
【００６３】初めに、ステップＳ２０１において、測定
された点群データを、ＸＹに関するＭ×ｎ次多項式であ
る
された点群データを、ＸＹに関するＭ×ｎ次多項式であ
る
【外２】
に最小自乗近似する。
【００６４】次に、ステップＳ２０２において、ステッ
プＳ２０１で求めたｍ×ｎ次近似多項式から、偏微分
値、ＴＸ、ＴＹを、次式（５）及び（６）より求める。
但し、ＴＸ、ＴＹは、それぞれ、Ｘ、Ｙについての偏微
分を表す。
プＳ２０１で求めたｍ×ｎ次近似多項式から、偏微分
値、ＴＸ、ＴＹを、次式（５）及び（６）より求める。
但し、ＴＸ、ＴＹは、それぞれ、Ｘ、Ｙについての偏微
分を表す。
【外３】
【００６５】
【外４】
【００６６】ここに、位置情報算出手段（位置情報算出
ステップ）の機能（位置情報算出機能）が実行される。
ステップ）の機能（位置情報算出機能）が実行される。
【００６７】ここで、本実施の形態では、制御／解析用
コンピュータ１１４が備える記憶部１１６に、図５のフ
ローチャートで例示する手順によって求められたプロー
ブ走査経路Ｌｐ上の座標群を記憶する。ＸＹ軸駆動装置
１１２は、記憶部１１６に記憶された座標群に従って、
Ｘ軸ステージ１０３用の駆動用モータ１０６及びＹ軸ス
テージ１０４用の駆動用モータ１０７を駆動する。そし
て、プローブ１０１の走査中、所定のサンプリング間隔
でプローブ１０１の先端球１１７の中心座標を測定し、
その測定後、図６のフローチャートに例示する手順で求
められたプローブ接触点の座標を求めることによって、
被測定面１０２の形状が測定される。
コンピュータ１１４が備える記憶部１１６に、図５のフ
ローチャートで例示する手順によって求められたプロー
ブ走査経路Ｌｐ上の座標群を記憶する。ＸＹ軸駆動装置
１１２は、記憶部１１６に記憶された座標群に従って、
Ｘ軸ステージ１０３用の駆動用モータ１０６及びＹ軸ス
テージ１０４用の駆動用モータ１０７を駆動する。そし
て、プローブ１０１の走査中、所定のサンプリング間隔
でプローブ１０１の先端球１１７の中心座標を測定し、
その測定後、図６のフローチャートに例示する手順で求
められたプローブ接触点の座標を求めることによって、
被測定面１０２の形状が測定される。
【００６８】また、本実施の形態では、図５のフローチ
ャートに例示する手順で走査経路Ｌｐ上の座標群を求め
る際に、専用の演算装置を使用するのではなく、形状測
定装置が内蔵する制御／解析用コンピュータ１１４が備
えるプロセッサ１１５を利用する。この際、記憶部１１
６に、プローブ先端径Ｒ、測定経路の座標群、被測定面
１０２の理論形状情報を予め記憶しておく。プロセッサ
１１５は、これらの記憶情報に基づいて、図５のフロー
チャートに従いプローブ走査経路を計算する。そして、
プロセッサ１１５は、計算したプローブ走査経路の座標
群を再び記憶部１１６に記憶し、この情報に基づいてＸ
軸ステージ１０３及びＹ軸ステージ１０４を駆動させる
信号を駆動用モータ１０６、１０７に出力し、これによ
ってプローブ１０１をＸ、Ｙ方向に移動させる。ここ
に、位置決め制御手段（位置決め制御方法）の機能（位
置決め制御機能）が実行され。
ャートに例示する手順で走査経路Ｌｐ上の座標群を求め
る際に、専用の演算装置を使用するのではなく、形状測
定装置が内蔵する制御／解析用コンピュータ１１４が備
えるプロセッサ１１５を利用する。この際、記憶部１１
６に、プローブ先端径Ｒ、測定経路の座標群、被測定面
１０２の理論形状情報を予め記憶しておく。プロセッサ
１１５は、これらの記憶情報に基づいて、図５のフロー
チャートに従いプローブ走査経路を計算する。そして、
プロセッサ１１５は、計算したプローブ走査経路の座標
群を再び記憶部１１６に記憶し、この情報に基づいてＸ
軸ステージ１０３及びＹ軸ステージ１０４を駆動させる
信号を駆動用モータ１０６、１０７に出力し、これによ
ってプローブ１０１をＸ、Ｙ方向に移動させる。ここ
に、位置決め制御手段（位置決め制御方法）の機能（位
置決め制御機能）が実行され。
【００６９】次いで、本発明の第二の実施の形態を説明
する。第一の実施の形態と同一部分は同一符号で示し説
明も省略する。
する。第一の実施の形態と同一部分は同一符号で示し説
明も省略する。
【００７０】第一の実施の形態では、プローブ１０１を
構成する直動スライダ１１８の先端に球面形状を有する
先端球１１７が設けられている一例を示したが、要求さ
れる測定精度に対して先端の球面形状誤差が大きなプロ
ーブ１０１で被測定面１０２を測定する場合、すなわ
ち、プローブ先端形状をもはや球形とみなすことができ
ないために、真球度誤差の補正が必要な場合であって
も、本発明の適用は可能である。このことを、以下に説
明する。
構成する直動スライダ１１８の先端に球面形状を有する
先端球１１７が設けられている一例を示したが、要求さ
れる測定精度に対して先端の球面形状誤差が大きなプロ
ーブ１０１で被測定面１０２を測定する場合、すなわ
ち、プローブ先端形状をもはや球形とみなすことができ
ないために、真球度誤差の補正が必要な場合であって
も、本発明の適用は可能である。このことを、以下に説
明する。
【外５】
【００７１】次に、測定された点群データから、実際の
接触点の点群データを推定する手順を説明する。プロー
ブ１０１の先端部形状を球面とみなすことができる場合
は、図６のフローチャートのステップＳ２０４におい
て、式（１０）を適用したのに対して、真球度誤差の補
正が必要な場合には、式（１２）を適用する。この点の
みが異なる点である。
接触点の点群データを推定する手順を説明する。プロー
ブ１０１の先端部形状を球面とみなすことができる場合
は、図６のフローチャートのステップＳ２０４におい
て、式（１０）を適用したのに対して、真球度誤差の補
正が必要な場合には、式（１２）を適用する。この点の
みが異なる点である。
【外６】
【００７２】本実施の形態の形状測定装置、形状測定方
法及び形状測定用コンピュータプログラムを利用する形
状修正加工方法及び形状転写用の型について次に説明す
る。
法及び形状測定用コンピュータプログラムを利用する形
状修正加工方法及び形状転写用の型について次に説明す
る。
【００７３】被測定面１０２の形状誤差を相殺するよう
に被測定面１０２自体、あるいは被測定面１０２に形状
を転写するための型を修正加工する際、まず、加工ライ
ン上の座標群を定め、それらの座標群を狙いの測定経路
Ｌｍとみなして本実施の形態の測定方法を実施すること
で、加工ラインに沿った形状を正確に測定することが可
能となる。そこで、そのような測定結果を利用し、被測
定面１０２あるいは被測定面１０２に形状を転写するた
めの型の修正加工を実施する。
に被測定面１０２自体、あるいは被測定面１０２に形状
を転写するための型を修正加工する際、まず、加工ライ
ン上の座標群を定め、それらの座標群を狙いの測定経路
Ｌｍとみなして本実施の形態の測定方法を実施すること
で、加工ラインに沿った形状を正確に測定することが可
能となる。そこで、そのような測定結果を利用し、被測
定面１０２あるいは被測定面１０２に形状を転写するた
めの型の修正加工を実施する。
【００７４】ここで、成型用型の修正加工方法の一例を
説明する。ここでは、修正加工量が小さい場合に適した
加工工具として、図７に例示するような研磨工具３０１
を用いた金型加工機による修正加工について説明する。
説明する。ここでは、修正加工量が小さい場合に適した
加工工具として、図７に例示するような研磨工具３０１
を用いた金型加工機による修正加工について説明する。
【００７５】まず、本実施の形態の形状測定装置（形状
測定方法）による測定値に基づいて修正量を算出し、こ
の修正量をＸＹ平面内の高さデータＺＸＹ（Ｚマップ）
３０２に変換する。ここで、添え字のＸＹは、Ｘ軸方向
及びＹ軸方向の加工位置をそれぞれ示している。
測定方法）による測定値に基づいて修正量を算出し、こ
の修正量をＸＹ平面内の高さデータＺＸＹ（Ｚマップ）
３０２に変換する。ここで、添え字のＸＹは、Ｘ軸方向
及びＹ軸方向の加工位置をそれぞれ示している。
【００７６】次いで、図８に示すように、こうして得た
高さデータＺＸＹ（Ｚマップ）３０２を研磨工具３０１
の滞留時間ＷＸＹ（Ｗマップ）３０３に変換する。ここ
での変換は、同一条件（金型の材質、研磨工具３０１の
種類、研磨工具３０１の回転数等）のもとでの実測デー
タに基づいて作成された変換テーブルを参照しながら行
なわれる。これは、研磨工具３０１による研磨量が研磨
時間、すなわち研磨工具３０１の滞留時間ＷＸＹに関係
しているという知見に基づいている。
高さデータＺＸＹ（Ｚマップ）３０２を研磨工具３０１
の滞留時間ＷＸＹ（Ｗマップ）３０３に変換する。ここ
での変換は、同一条件（金型の材質、研磨工具３０１の
種類、研磨工具３０１の回転数等）のもとでの実測デー
タに基づいて作成された変換テーブルを参照しながら行
なわれる。これは、研磨工具３０１による研磨量が研磨
時間、すなわち研磨工具３０１の滞留時間ＷＸＹに関係
しているという知見に基づいている。
【００７７】次に、型部材が金型加工機の所定に位置に
セットされると、図９に示すように、回転している研磨
工具３０１を型部材の最初の加工位置Ｐ１１に点接触さ
せる。ここでの研磨工具３０１の滞留時間がＷ１１にな
ると、図９に示すように、研磨工具３０１の接触位置が
Ｐ１２になるように研磨工具３０１又は型部材を移動さ
せ、その位置に時間Ｗ１２だけ滞留させる。このように
して、全ての位置についてＷマップ３０３に基づいて滞
留時間を変えながら加工を行なうことで、研磨工具３０
１による修正加工が完了する。なお、加工位置は、Ｘ方
向及びＹ方向ともに等間隔（０．１ｍｍ〜０．２ｍｍ）
に規定されている。
セットされると、図９に示すように、回転している研磨
工具３０１を型部材の最初の加工位置Ｐ１１に点接触さ
せる。ここでの研磨工具３０１の滞留時間がＷ１１にな
ると、図９に示すように、研磨工具３０１の接触位置が
Ｐ１２になるように研磨工具３０１又は型部材を移動さ
せ、その位置に時間Ｗ１２だけ滞留させる。このように
して、全ての位置についてＷマップ３０３に基づいて滞
留時間を変えながら加工を行なうことで、研磨工具３０
１による修正加工が完了する。なお、加工位置は、Ｘ方
向及びＹ方向ともに等間隔（０．１ｍｍ〜０．２ｍｍ）
に規定されている。
【００７８】こうして形状修正された型は、成型に際し
て成型品の形状誤差を減少させることが可能な成型用型
となる。つまり、本実施形態の型形状修正方法によれ
ば、形状精度に優れた成型品を成型するのに好適な型を
製作することが可能となる。
て成型品の形状誤差を減少させることが可能な成型用型
となる。つまり、本実施形態の型形状修正方法によれ
ば、形状精度に優れた成型品を成型するのに好適な型を
製作することが可能となる。
【００７９】本実施の形態の形状測定装置、形状測定方
法及び形状測定用コンピュータプログラムを利用する形
状修正加工方法及び形状転写用の型に基づく成型品及び
光学システムについて次に説明する。
法及び形状測定用コンピュータプログラムを利用する形
状修正加工方法及び形状転写用の型に基づく成型品及び
光学システムについて次に説明する。
【００８０】図１０は、本実施の形態の光学システムの
概略構成を示す斜視図である。この光学システムは、光
源としての半導体レーザ４０１、この半導体レーザ４０
１からの光を等角速度的に偏向する偏向手段としての回
転多面鏡４０２、この回転多面鏡４０２で偏向された光
を等速度的な光に変換するためのレーザ走査光学系４０
３、このレーザ走査光学系４０３からの光を反射して走
査対象である感光体４０４に入射させるための折り返し
ミラー４０５等を備えている。レーザ走査光学系４０３
は、前述した成型用型によって成型された光学素子とし
てのレンズ４０３ａ、４０３ｂによって構成されてい
る。
概略構成を示す斜視図である。この光学システムは、光
源としての半導体レーザ４０１、この半導体レーザ４０
１からの光を等角速度的に偏向する偏向手段としての回
転多面鏡４０２、この回転多面鏡４０２で偏向された光
を等速度的な光に変換するためのレーザ走査光学系４０
３、このレーザ走査光学系４０３からの光を反射して走
査対象である感光体４０４に入射させるための折り返し
ミラー４０５等を備えている。レーザ走査光学系４０３
は、前述した成型用型によって成型された光学素子とし
てのレンズ４０３ａ、４０３ｂによって構成されてい
る。
【００８１】本実施の形態に係る光学システムが例えば
デジタル複写機に使用された場合には、半導体レーザ４
０１から照射された光が複写画像に対応する画像情報に
よって強度変調されて感光体４０４に照射され、感光体
４０４上に静電潜像が形成される。この場合、レーザ走
査光学系４０３における光走査の等速性などの走査精度
が複写品質に大きな影響を与えることから、各レンズ４
０３ａ、４０３ｂの形状精度が複写品質に大きな影響を
与える。
デジタル複写機に使用された場合には、半導体レーザ４
０１から照射された光が複写画像に対応する画像情報に
よって強度変調されて感光体４０４に照射され、感光体
４０４上に静電潜像が形成される。この場合、レーザ走
査光学系４０３における光走査の等速性などの走査精度
が複写品質に大きな影響を与えることから、各レンズ４
０３ａ、４０３ｂの形状精度が複写品質に大きな影響を
与える。
【００８２】これに対して、本実施の形態に係る光学シ
ステムでは、各レンズ４０３ａ、４０３ｂは、前述した
成型用型に基づいて、例えば射出成型により成型されて
いるため、形状精度に優れており、回転多面鏡４０２に
よって等角速度的に偏向された光を精度良く等速度的な
走査光に変換することができるため、複写すべき情報を
正確に再現することができる。
ステムでは、各レンズ４０３ａ、４０３ｂは、前述した
成型用型に基づいて、例えば射出成型により成型されて
いるため、形状精度に優れており、回転多面鏡４０２に
よって等角速度的に偏向された光を精度良く等速度的な
走査光に変換することができるため、複写すべき情報を
正確に再現することができる。
【００８３】
【発明の効果】請求項１記載の発明は、接触式のプロー
ブの微小変位を測定して被測定面の形状を測定する形状
測定装置において、前記プローブと前記被測定面とを相
対的に移動させる移動機構と、目標接触点から前記被測
定面の法線方向に前記プローブの先端径の長さだけオフ
セットさせた位置情報をプロセッサの演算処理により求
める位置情報算出手段と、前記位置情報算出手段の演算
処理によって求めた前記位置情報によって特定される位
置に前記プローブの先端径の中心を位置決めするように
前記移動機構を駆動制御する位置決め制御手段と、を具
備するので、被測定面の法線方向を考慮してプローブの
走査経路が定められることから、被測定面における狙い
の個所を正確に測定することができる。
ブの微小変位を測定して被測定面の形状を測定する形状
測定装置において、前記プローブと前記被測定面とを相
対的に移動させる移動機構と、目標接触点から前記被測
定面の法線方向に前記プローブの先端径の長さだけオフ
セットさせた位置情報をプロセッサの演算処理により求
める位置情報算出手段と、前記位置情報算出手段の演算
処理によって求めた前記位置情報によって特定される位
置に前記プローブの先端径の中心を位置決めするように
前記移動機構を駆動制御する位置決め制御手段と、を具
備するので、被測定面の法線方向を考慮してプローブの
走査経路が定められることから、被測定面における狙い
の個所を正確に測定することができる。
【００８４】請求項２記載の発明は、請求項１記載の形
状測定装置において、前記位置情報算出手段によって求
めた前記位置情報を記憶部に記憶し、前記位置決め制御
手段は、前記記憶部に記憶された前記位置情報に基づい
て前記プローブの先端径の中心を位置決めするように前
記移動機構を駆動制御するので、記憶部に記憶された位
置情報に基づいてプローブの先端径の中心が位置決めさ
れることから、処理速度の向上を図ることができる。
状測定装置において、前記位置情報算出手段によって求
めた前記位置情報を記憶部に記憶し、前記位置決め制御
手段は、前記記憶部に記憶された前記位置情報に基づい
て前記プローブの先端径の中心を位置決めするように前
記移動機構を駆動制御するので、記憶部に記憶された位
置情報に基づいてプローブの先端径の中心が位置決めさ
れることから、処理速度の向上を図ることができる。
【００８５】請求項３記載の発明は、請求項１又は２記
載の形状測定装置において、前記プローブの接触荷重が
一定になるように制御する荷重制御手段を備えるので、
プローブの被測定面に対する接触力を一定に維持しなが
ら、Ｚ方向に広い測定レンジを確保することができ、し
たがって、Ｚ方向への湾曲度が大きな被測定面の測定を
容易に行なうことができる。
載の形状測定装置において、前記プローブの接触荷重が
一定になるように制御する荷重制御手段を備えるので、
プローブの被測定面に対する接触力を一定に維持しなが
ら、Ｚ方向に広い測定レンジを確保することができ、し
たがって、Ｚ方向への湾曲度が大きな被測定面の測定を
容易に行なうことができる。
【００８６】請求項４記載の発明は、請求項１、２又は
３記載の形状測定装置において、前記プローブの先端形
状は、円弧断面形状であるので、狙いの測定経路を測定
するためのプローブの走査経路を簡単な式によって求め
ることができる。
３記載の形状測定装置において、前記プローブの先端形
状は、円弧断面形状であるので、狙いの測定経路を測定
するためのプローブの走査経路を簡単な式によって求め
ることができる。
【００８７】請求項５記載の発明は、接触式のプローブ
の微小変位を測定して被測定面の形状を測定する形状測
定方法において、目標接触点から前記被測定面の法線方
向に前記プローブの先端径の長さだけオフセットさせた
位置情報をプロセッサの演算処理により求める位置情報
算出ステップと、前記位置情報算出手段の演算処理によ
って求めた前記位置情報によって特定される位置に前記
プローブの先端径の中心を位置決めするように、前記プ
ローブと前記被測定面とを相対的に移動させる移動機構
を駆動制御する位置決め制御ステップと、を具備するの
で、被測定面の法線方向を考慮してプローブの走査経路
が定められることから、被測定面における狙いの個所を
正確に測定することができる。
の微小変位を測定して被測定面の形状を測定する形状測
定方法において、目標接触点から前記被測定面の法線方
向に前記プローブの先端径の長さだけオフセットさせた
位置情報をプロセッサの演算処理により求める位置情報
算出ステップと、前記位置情報算出手段の演算処理によ
って求めた前記位置情報によって特定される位置に前記
プローブの先端径の中心を位置決めするように、前記プ
ローブと前記被測定面とを相対的に移動させる移動機構
を駆動制御する位置決め制御ステップと、を具備するの
で、被測定面の法線方向を考慮してプローブの走査経路
が定められることから、被測定面における狙いの個所を
正確に測定することができる。
【００８８】請求項６記載の発明は、請求項５記載の形
状測定方法において、前記位置情報算出ステップによっ
て求めた前記位置情報を記憶部に記憶し、前記位置決め
制御ステップは、前記記憶部に記憶された前記位置情報
に基づいて前記プローブの先端径の中心を位置決めする
ように前記移動機構を駆動制御するので、記憶部に記憶
された位置情報に基づいてプローブの先端径の中心が位
置決めされることから、処理速度の向上を図ることがで
きる。
状測定方法において、前記位置情報算出ステップによっ
て求めた前記位置情報を記憶部に記憶し、前記位置決め
制御ステップは、前記記憶部に記憶された前記位置情報
に基づいて前記プローブの先端径の中心を位置決めする
ように前記移動機構を駆動制御するので、記憶部に記憶
された位置情報に基づいてプローブの先端径の中心が位
置決めされることから、処理速度の向上を図ることがで
きる。
【００８９】請求項７記載の発明は、請求項５又は６記
載の形状測定方法において、前記プローブの接触荷重が
一定になるように制御するので、プローブの被測定面に
対する接触力を一定に維持しながら、Ｚ方向に広い測定
レンジを確保することができ、したがって、Ｚ方向への
湾曲度が大きな被測定面の測定を容易に行なうことがで
きる。
載の形状測定方法において、前記プローブの接触荷重が
一定になるように制御するので、プローブの被測定面に
対する接触力を一定に維持しながら、Ｚ方向に広い測定
レンジを確保することができ、したがって、Ｚ方向への
湾曲度が大きな被測定面の測定を容易に行なうことがで
きる。
【００９０】請求項８記載の発明は、請求項５、６又は
７記載の形状測定方法において、前記プローブの先端形
状は、円弧断面形状であるので、狙いの測定経路を測定
するためのプローブの走査経路を簡単な式によって求め
ることができる。
７記載の形状測定方法において、前記プローブの先端形
状は、円弧断面形状であるので、狙いの測定経路を測定
するためのプローブの走査経路を簡単な式によって求め
ることができる。
【００９１】請求項９記載の発明は、接触式のプローブ
の微小変位を測定して被測定面の形状を測定する形状測
定装置を制御するコンピュータにインストールされる形
状測定用コンピュータプログラムを記憶する記憶媒体で
あって、前記形状測定用コンピュータプログラムは、前
記コンピュータに、目標接触点から前記被測定面の法線
方向に前記プローブの先端径の長さだけオフセットさせ
た位置情報をプロセッサの演算処理により求める位置情
報算出機能と、前記位置情報算出手段の演算処理によっ
て求めた前記位置情報によって特定される位置に前記プ
ローブの先端径の中心を位置決めするように前記移動機
構を駆動制御する信号を出力する位置決め制御機能と、
を実行させるので、被測定面の法線方向を考慮してプロ
ーブの走査経路が定められることから、被測定面におけ
る狙いの個所を正確に測定することができる。
の微小変位を測定して被測定面の形状を測定する形状測
定装置を制御するコンピュータにインストールされる形
状測定用コンピュータプログラムを記憶する記憶媒体で
あって、前記形状測定用コンピュータプログラムは、前
記コンピュータに、目標接触点から前記被測定面の法線
方向に前記プローブの先端径の長さだけオフセットさせ
た位置情報をプロセッサの演算処理により求める位置情
報算出機能と、前記位置情報算出手段の演算処理によっ
て求めた前記位置情報によって特定される位置に前記プ
ローブの先端径の中心を位置決めするように前記移動機
構を駆動制御する信号を出力する位置決め制御機能と、
を実行させるので、被測定面の法線方向を考慮してプロ
ーブの走査経路が定められることから、被測定面におけ
る狙いの個所を正確に測定することができる。
【００９２】請求項１０記載の発明は、請求項９記載の
形状測定用コンピュータプログラムを記憶する記憶媒体
において、前記位置情報算出機能によって求めた前記位
置情報を記憶部に記憶し、前記位置決め制御機能は、前
記記憶部に記憶された前記位置情報に基づいて前記プロ
ーブの先端径の中心を位置決めするように前記移動機構
を駆動制御する信号を出力するので、記憶部に記憶され
た位置情報に基づいてプローブの先端径の中心が位置決
めされることから、処理速度の向上を図ることができ
る。
形状測定用コンピュータプログラムを記憶する記憶媒体
において、前記位置情報算出機能によって求めた前記位
置情報を記憶部に記憶し、前記位置決め制御機能は、前
記記憶部に記憶された前記位置情報に基づいて前記プロ
ーブの先端径の中心を位置決めするように前記移動機構
を駆動制御する信号を出力するので、記憶部に記憶され
た位置情報に基づいてプローブの先端径の中心が位置決
めされることから、処理速度の向上を図ることができ
る。
【００９３】請求項１１記載の発明は、請求項９又は１
０記載の形状測定用コンピュータプログラムを記憶する
記憶媒体において、前記コンピュータが制御する前記形
状測定装置における前記プローブの先端形状は円弧断面
形状であるので、狙いの測定経路を測定するためのプロ
ーブの走査経路を簡単な式によって求めることができ
る。
０記載の形状測定用コンピュータプログラムを記憶する
記憶媒体において、前記コンピュータが制御する前記形
状測定装置における前記プローブの先端形状は円弧断面
形状であるので、狙いの測定経路を測定するためのプロ
ーブの走査経路を簡単な式によって求めることができ
る。
【００９４】請求項１２記載の発明は、接触式のプロー
ブの微小変位を測定して被測定面の形状を測定する形状
測定装置を制御するコンピュータにインストールされる
形状測定用コンピュータプログラムであって、この形状
測定用コンピュータプログラムは、前記コンピュータ
に、目標接触点から前記被測定面の法線方向に前記プロ
ーブの先端径の長さだけオフセットさせた位置情報をプ
ロセッサの演算処理により求める位置情報算出機能と、
前記位置情報算出手段の演算処理によって求めた前記位
置情報によって特定される位置に前記プローブの先端径
の中心を位置決めするように前記移動機構を駆動制御す
る信号を出力する位置決め制御機能と、を実行させるの
で、被測定面の法線方向を考慮してプローブの走査経路
が定められることから、被測定面における狙いの個所を
正確に測定することができる。
ブの微小変位を測定して被測定面の形状を測定する形状
測定装置を制御するコンピュータにインストールされる
形状測定用コンピュータプログラムであって、この形状
測定用コンピュータプログラムは、前記コンピュータ
に、目標接触点から前記被測定面の法線方向に前記プロ
ーブの先端径の長さだけオフセットさせた位置情報をプ
ロセッサの演算処理により求める位置情報算出機能と、
前記位置情報算出手段の演算処理によって求めた前記位
置情報によって特定される位置に前記プローブの先端径
の中心を位置決めするように前記移動機構を駆動制御す
る信号を出力する位置決め制御機能と、を実行させるの
で、被測定面の法線方向を考慮してプローブの走査経路
が定められることから、被測定面における狙いの個所を
正確に測定することができる。
【００９５】請求項１３記載の発明は、請求項１２記載
の形状測定用コンピュータプログラムにおいて、前記位
置情報算出機能によって求めた前記位置情報を記憶部に
記憶し、前記位置決め制御機能は、前記記憶部に記憶さ
れた前記位置情報に基づいて前記プローブの先端径の中
心を位置決めするように前記移動機構を駆動制御する信
号を出力するので、記憶部に記憶された位置情報に基づ
いてプローブの先端径の中心が位置決めされることか
ら、処理速度の向上を図ることができる。
の形状測定用コンピュータプログラムにおいて、前記位
置情報算出機能によって求めた前記位置情報を記憶部に
記憶し、前記位置決め制御機能は、前記記憶部に記憶さ
れた前記位置情報に基づいて前記プローブの先端径の中
心を位置決めするように前記移動機構を駆動制御する信
号を出力するので、記憶部に記憶された位置情報に基づ
いてプローブの先端径の中心が位置決めされることか
ら、処理速度の向上を図ることができる。
【００９６】請求項１４記載の発明は、請求項１２又は
１３記載の形状測定用コンピュータプログラムにおい
て、前記コンピュータが制御する前記形状測定装置にお
ける前記プローブの先端形状は円弧断面形状であるの
で、狙いの測定経路を測定するためのプローブの走査経
路を簡単な式によって求めることができる。
１３記載の形状測定用コンピュータプログラムにおい
て、前記コンピュータが制御する前記形状測定装置にお
ける前記プローブの先端形状は円弧断面形状であるの
で、狙いの測定経路を測定するためのプローブの走査経
路を簡単な式によって求めることができる。
【００９７】請求項１５記載の形状修正加工方法の発明
は、請求項１、２、３又は４記載の形状測定装置を用い
て被測定面の形状を測定し形状誤差を求めるステップ
と、形状誤差を低減するように前記被測定面の形状を修
正加工するステップと、を具備するので、被測定面に高
精度な面形状を得ることができ、しかも、成型品の形状
精度を確保するために、成型条件設定に膨大な時間と労
力をかけるのでなく、型形状を修正加工してこれを達成
するので、生産の効率化、省力化を図ることができる。
は、請求項１、２、３又は４記載の形状測定装置を用い
て被測定面の形状を測定し形状誤差を求めるステップ
と、形状誤差を低減するように前記被測定面の形状を修
正加工するステップと、を具備するので、被測定面に高
精度な面形状を得ることができ、しかも、成型品の形状
精度を確保するために、成型条件設定に膨大な時間と労
力をかけるのでなく、型形状を修正加工してこれを達成
するので、生産の効率化、省力化を図ることができる。
【００９８】請求項１６記載の形状修正加工方法の発明
は、請求項１、２、３又は４記載の形状測定装置を用い
て被測定面の形状を測定し形状誤差を求めるステップ
と、形状誤差を低減するように前記被測定面の創生に用
いた形状転写用の型の形状を修正加工するステップと、
を具備するので、被測定面に高精度な面形状を得ること
ができ、しかも、成型品の形状精度を確保するために、
成型条件設定に膨大な時間と労力をかけるのでなく、型
形状を修正加工してこれを達成するので、生産の効率
化、省力化を図ることができる。
は、請求項１、２、３又は４記載の形状測定装置を用い
て被測定面の形状を測定し形状誤差を求めるステップ
と、形状誤差を低減するように前記被測定面の創生に用
いた形状転写用の型の形状を修正加工するステップと、
を具備するので、被測定面に高精度な面形状を得ること
ができ、しかも、成型品の形状精度を確保するために、
成型条件設定に膨大な時間と労力をかけるのでなく、型
形状を修正加工してこれを達成するので、生産の効率
化、省力化を図ることができる。
【００９９】請求項１７記載の発明は、被測定面の創生
に用いる形状転写用の型において、請求項１、２、３又
は４記載の形状測定装置を用いて被測定面の形状を測定
し形状誤差を求めるステップと、形状誤差を低減するよ
うに前記被測定面の創生に用いた形状転写用の型の形状
を修正加工するステップと、を経て修正加工されている
ので、被測定面に高精度な面形状を得ることができ、し
かも、成型品の形状精度を確保するために、成型条件設
定に膨大な時間と労力をかけるのでなく、型形状を修正
加工してこれを達成するので、生産の効率化、省力化を
図ることができる。
に用いる形状転写用の型において、請求項１、２、３又
は４記載の形状測定装置を用いて被測定面の形状を測定
し形状誤差を求めるステップと、形状誤差を低減するよ
うに前記被測定面の創生に用いた形状転写用の型の形状
を修正加工するステップと、を経て修正加工されている
ので、被測定面に高精度な面形状を得ることができ、し
かも、成型品の形状精度を確保するために、成型条件設
定に膨大な時間と労力をかけるのでなく、型形状を修正
加工してこれを達成するので、生産の効率化、省力化を
図ることができる。
【０１００】請求項１８記載の成型品の発明は、請求項
１７記載の形状転写用の型を用い、その型が備えるキャ
ビティ側の表面形状を成型素材に転写して成型されてい
るので、狙いの測定経路で測定されたデータを用いて修
正加工された被測定面がキャビティ側の表面形状となる
ことから、この表面形状を成型素材に転写されて形成さ
れた成型品について、高精度な面形状を得ることがで
き、しかも、成型品の形状精度を確保するために、成型
条件設定に膨大な時間と労力をかけるのでなく、型形状
を修正加工してこれを達成するので、生産の効率化、省
力化を図ることができる。
１７記載の形状転写用の型を用い、その型が備えるキャ
ビティ側の表面形状を成型素材に転写して成型されてい
るので、狙いの測定経路で測定されたデータを用いて修
正加工された被測定面がキャビティ側の表面形状となる
ことから、この表面形状を成型素材に転写されて形成さ
れた成型品について、高精度な面形状を得ることがで
き、しかも、成型品の形状精度を確保するために、成型
条件設定に膨大な時間と労力をかけるのでなく、型形状
を修正加工してこれを達成するので、生産の効率化、省
力化を図ることができる。
【０１０１】請求項１９記載の発明は、請求項１８記載
の成型品において、成型品は光学素子であるので、狙い
の測定経路で測定されたデータを用いて修正加工された
被測定面がキャビティ側の表面形状となることから、こ
の表面形状を成型素材に転写されて形成された成型品で
ある光学素子について、高精度な面形状を得ることがで
き、しかも、成型品である光学素子の形状精度を確保す
るために、成型条件設定に膨大な時間と労力をかけるの
でなく、型形状を修正加工してこれを達成するので、生
産の効率化、省力化を図ることができる。
の成型品において、成型品は光学素子であるので、狙い
の測定経路で測定されたデータを用いて修正加工された
被測定面がキャビティ側の表面形状となることから、こ
の表面形状を成型素材に転写されて形成された成型品で
ある光学素子について、高精度な面形状を得ることがで
き、しかも、成型品である光学素子の形状精度を確保す
るために、成型条件設定に膨大な時間と労力をかけるの
でなく、型形状を修正加工してこれを達成するので、生
産の効率化、省力化を図ることができる。
【０１０２】請求項２０記載の光学システムの発明は、
光源からの光を走査対象物に対して走査する光走査系を
含む光学システムにおいて、前記光源からの光を所定の
角度範囲内で偏向する偏向手段と、前記偏向手段から前
記走査対象物に至る光路上に配置された請求項１９記載
の成型品である光学素子を含む光学系と、を具備するの
で、光学システムの光学系を構成する光学素子が高精度
に構成されているので、高精度な光学走査を行なうこと
ができる。
光源からの光を走査対象物に対して走査する光走査系を
含む光学システムにおいて、前記光源からの光を所定の
角度範囲内で偏向する偏向手段と、前記偏向手段から前
記走査対象物に至る光路上に配置された請求項１９記載
の成型品である光学素子を含む光学系と、を具備するの
で、光学システムの光学系を構成する光学素子が高精度
に構成されているので、高精度な光学走査を行なうこと
ができる。
【０１０３】請求項２１記載の発明は、請求項２０記載
の光学システムにおいて、光に反応して静電潜像を形成
する像担持体に前記偏向手段及び前記光学系を介して前
記光源からの光を照射して静電潜像を形成し、この静電
潜像を現像して転写紙に転写するようにしたので、光学
システムの光学系を構成する光学素子が高精度に構成さ
れているので、光学システムが適用されるレーザプリン
タやデジタル複写機等において高品位な出力画像を得る
ことができる。
の光学システムにおいて、光に反応して静電潜像を形成
する像担持体に前記偏向手段及び前記光学系を介して前
記光源からの光を照射して静電潜像を形成し、この静電
潜像を現像して転写紙に転写するようにしたので、光学
システムの光学系を構成する光学素子が高精度に構成さ
れているので、光学システムが適用されるレーザプリン
タやデジタル複写機等において高品位な出力画像を得る
ことができる。
【図１】本発明の第一の実施の形態として、接触式プロ
ーブを用いた形状測定装置の概要を示す模式図である。
ーブを用いた形状測定装置の概要を示す模式図である。
【図２】接触式のプローブの縦断側面図である。
【図３】接触式のプローブの先端球と曲面形状を有する
被測定物とのと接触の様子を示す模式図である。
被測定物とのと接触の様子を示す模式図である。
【図４】接触式のプローブの先端球と曲面形状を有する
被測定物とのと接触の様子を示す斜視図である。
被測定物とのと接触の様子を示す斜視図である。
【図５】狙いの測定経路上の座標点からプローブ走査経
路上の対応点を求める手順を示すフローチャートであ
る。
路上の対応点を求める手順を示すフローチャートであ
る。
【図６】実際に測定された座標点の点群データから実際
の接触点の点群データを推定する手順を示すフローチャ
ートである。
の接触点の点群データを推定する手順を示すフローチャ
ートである。
【図７】成型用型の修正加工方法に用いられる加工工具
の一例を示す斜視図である。
の一例を示す斜視図である。
【図８】形状測定装置によって測定されたＸＹ平面内の
高さデータ（Ｚマップ）を加工工具の滞留時間（Ｗマッ
プ）に変換する処理を説明するための模式図である。
高さデータ（Ｚマップ）を加工工具の滞留時間（Ｗマッ
プ）に変換する処理を説明するための模式図である。
【図９】修正加工対象である成型用型に対する加工工具
の移動軌跡を示す模式図である。
の移動軌跡を示す模式図である。
【図１０】光学システムの一例を示す模式図である。
【図１１】型加工機による型加工原理を示す斜視図であ
る。
る。
【図１２】接触式プローブを用いた形状測定装置におけ
るプローブと被測定面との関係を示す模式図である。
るプローブと被測定面との関係を示す模式図である。
１０１ プローブ
１０２ 被測定面
１０３、１０４、１０５ 移動機構（Ｘ軸ステー
ジ、Ｙ軸ステージ、Ｚ軸ステージ） １１５ プロセッサ ４０１ 光源（半導体レーザ） ４０２ 偏向手段（回転多面鏡） ４０３ 光学系（レーザ走査光学系） ４０３ａ，４０３ｂ 光学素子（レンズ） ４０４ 像担持体（感光体） ＬＭ 目標接触点（狙いの測定経路） ステップＳ１０１〜１０３ 位置情報算出手段、位
置情報算出ステップ、位置情報算出機能
ジ、Ｙ軸ステージ、Ｚ軸ステージ） １１５ プロセッサ ４０１ 光源（半導体レーザ） ４０２ 偏向手段（回転多面鏡） ４０３ 光学系（レーザ走査光学系） ４０３ａ，４０３ｂ 光学素子（レンズ） ４０４ 像担持体（感光体） ＬＭ 目標接触点（狙いの測定経路） ステップＳ１０１〜１０３ 位置情報算出手段、位
置情報算出ステップ、位置情報算出機能
Claims (21)
- 【請求項１】 接触式のプローブの微小変位を測定して
被測定面の形状を測定する形状測定装置において、 前記プローブと前記被測定面とを相対的に移動させる移
動機構と、 目標接触点から前記被測定面の法線方向に前記プローブ
の先端径の長さだけオフセットさせた位置情報をプロセ
ッサの演算処理により求める位置情報算出手段と、 前記位置情報算出手段の演算処理によって求めた前記位
置情報によって特定される位置に前記プローブの先端径
の中心を位置決めするように前記移動機構を駆動制御す
る位置決め制御手段と、を具備することを特徴とする形
状測定装置。 - 【請求項２】 前記位置情報算出手段によって求めた前
記位置情報を記憶部に記憶し、前記位置決め制御手段
は、前記記憶部に記憶された前記位置情報に基づいて前
記プローブの先端径の中心を位置決めするように前記移
動機構を駆動制御することを特徴とする請求項１記載の
形状測定装置。 - 【請求項３】 前記プローブの接触荷重が一定になるよ
うに制御する荷重制御手段を備えることを特徴とする請
求項１又は２記載の形状測定装置。 - 【請求項４】 前記プローブの先端形状は、円弧断面形
状であることを特徴とする請求項１、２又は３記載の形
状測定装置。 - 【請求項５】 接触式のプローブの微小変位を測定して
被測定面の形状を測定する形状測定方法において、 目標接触点から前記被測定面の法線方向に前記プローブ
の先端径の長さだけオフセットさせた位置情報をプロセ
ッサの演算処理により求める位置情報算出ステップと、 前記位置情報算出手段の演算処理によって求めた前記位
置情報によって特定される位置に前記プローブの先端径
の中心を位置決めするように、前記プローブと前記被測
定面とを相対的に移動させる移動機構を駆動制御する位
置決め制御ステップと、を具備することを特徴とする形
状測定方法。 - 【請求項６】 前記位置情報算出ステップによって求め
た前記位置情報を記憶部に記憶し、前記位置決め制御ス
テップは、前記記憶部に記憶された前記位置情報に基づ
いて前記プローブの先端径の中心を位置決めするように
前記移動機構を駆動制御することを特徴とする請求項５
記載の形状測定方法。 - 【請求項７】 前記プローブの接触荷重が一定になるよ
うに制御することを特徴とする請求項５又は６記載の形
状測定方法。 - 【請求項８】 前記プローブの先端形状は、円弧断面形
状であることを特徴とする請求項５、６又は７記載の形
状測定方法。 - 【請求項９】 接触式のプローブの微小変位を測定して
被測定面の形状を測定する形状測定装置を制御するコン
ピュータにインストールされ、このコンピュータに、 目標接触点から前記被測定面の法線方向に前記プローブ
の先端径の長さだけオフセットさせた位置情報をプロセ
ッサの演算処理により求める位置情報算出機能と、 前記位置情報算出手段の演算処理によって求めた前記位
置情報によって特定される位置に前記プローブの先端径
の中心を位置決めするように前記移動機構を駆動制御す
る信号を出力する位置決め制御機能と、を実行させる形
状測定用コンピュータプログラムを記憶する記憶媒体。 - 【請求項１０】 前記位置情報算出機能によって求めた
前記位置情報を記憶部に記憶し、前記位置決め制御機能
は、前記記憶部に記憶された前記位置情報に基づいて前
記プローブの先端径の中心を位置決めするように前記移
動機構を駆動制御する信号を出力する請求項９記載の形
状測定用コンピュータプログラムを記憶する記憶媒体。 - 【請求項１１】 前記コンピュータが制御する前記形状
測定装置における前記プローブの先端形状は円弧断面形
状である請求項９又は１０記載の形状測定用コンピュー
タプログラムを記憶する記憶媒体。 - 【請求項１２】 接触式のプローブの微小変位を測定し
て被測定面の形状を測定する形状測定装置を制御するコ
ンピュータにインストールされ、このコンピュータに、 目標接触点から前記被測定面の法線方向に前記プローブ
の先端径の長さだけオフセットさせた位置情報をプロセ
ッサの演算処理により求める位置情報算出機能と、 前記位置情報算出手段の演算処理によって求めた前記位
置情報によって特定される位置に前記プローブの先端径
の中心を位置決めするように前記移動機構を駆動制御す
る信号を出力する位置決め制御機能と、を実行させる形
状測定用コンピュータプログラム。 - 【請求項１３】 前記位置情報算出機能によって求めた
前記位置情報を記憶部に記憶し、前記位置決め制御機能
は、前記記憶部に記憶された前記位置情報に基づいて前
記プローブの先端径の中心を位置決めするように前記移
動機構を駆動制御する信号を出力する請求項１２記載の
形状測定用コンピュータプログラム。 - 【請求項１４】 前記コンピュータが制御する前記形状
測定装置における前記プローブの先端形状は円弧断面形
状である請求項１２又は１３記載の形状測定用コンピュ
ータプログラム。 - 【請求項１５】 請求項１、２、３又は４記載の形状測
定装置を用いて被測定面の形状を測定し形状誤差を求め
るステップと、 形状誤差を低減するように前記被測定面の形状を修正加
工するステップと、を具備する形状修正加工方法。 - 【請求項１６】 請求項１、２、３又は４記載の形状測
定装置を用いて被測定面の形状を測定し形状誤差を求め
るステップと、 形状誤差を低減するように前記被測定面の創生に用いた
形状転写用の型の形状を修正加工するステップと、を具
備する形状修正加工方法。 - 【請求項１７】 被測定面の創生に用いる形状転写用の
型において、請求項１、２、３又は４記載の形状測定装
置を用いて被測定面の形状を測定し形状誤差を求めるス
テップと、 形状誤差を低減するように前記被測定面の創生に用いた
形状転写用の型の形状を修正加工するステップと、を経
て修正加工されていることを特徴とする形状転写用の
型。 - 【請求項１８】 請求項１７記載の形状転写用の型を用
い、その型が備えるキャビティ側の表面形状を成型素材
に転写して成型されていることを特徴とする成型品。 - 【請求項１９】 光学素子であることを特徴とする請求
項１８記載の成型品。 - 【請求項２０】 光源からの光を走査対象物に対して走
査する光走査系を含む光学システムにおいて、 前記光源からの光を所定の角度範囲内で偏向する偏向手
段と、 前記偏向手段から前記走査対象物に至る光路上に配置さ
れた請求項１９記載の成型品である光学素子を含む光学
系と、を具備する光学システム。 - 【請求項２１】 光に反応して静電潜像を形成する像担
持体に前記偏向手段及び前記光学系を介して前記光源か
らの光を照射して静電潜像を形成し、この静電潜像を現
像して転写紙に転写するようにしたことを特徴とする請
求項２０記載の光学システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001289785A JP2003097939A (ja) | 2001-09-21 | 2001-09-21 | 形状測定装置、形状測定方法、形状測定用コンピュータプログラムを記憶する記憶媒体及び形状測定用コンピュータプログラム、形状修正加工方法、形状転写用の型、成型品及び光学システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001289785A JP2003097939A (ja) | 2001-09-21 | 2001-09-21 | 形状測定装置、形状測定方法、形状測定用コンピュータプログラムを記憶する記憶媒体及び形状測定用コンピュータプログラム、形状修正加工方法、形状転写用の型、成型品及び光学システム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003097939A true JP2003097939A (ja) | 2003-04-03 |
Family
ID=19112230
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001289785A Pending JP2003097939A (ja) | 2001-09-21 | 2001-09-21 | 形状測定装置、形状測定方法、形状測定用コンピュータプログラムを記憶する記憶媒体及び形状測定用コンピュータプログラム、形状修正加工方法、形状転写用の型、成型品及び光学システム |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003097939A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008196983A (ja) * | 2007-02-14 | 2008-08-28 | Mitsutoyo Corp | 接触式プローブの倣い制御方法及び接触式測定機 |
| JP2011085399A (ja) * | 2009-10-13 | 2011-04-28 | Mitsutoyo Corp | オフセット量校正方法および表面性状測定機 |
| JP2011085400A (ja) * | 2009-10-13 | 2011-04-28 | Mitsutoyo Corp | 表面性状測定機 |
| US8650939B2 (en) | 2009-10-13 | 2014-02-18 | Mitutoyo Corporation | Surface texture measuring machine and a surface texture measuring method |
| JP2014106158A (ja) * | 2012-11-28 | 2014-06-09 | Canon Inc | 測定装置、および物品の製造方法 |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04337409A (ja) * | 1991-05-14 | 1992-11-25 | Mitsutoyo Corp | 自由曲面測定方法 |
| JPH08285512A (ja) * | 1995-04-12 | 1996-11-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 微細表面形状測定装置 |
| JPH11271049A (ja) * | 1998-03-19 | 1999-10-05 | Ricoh Co Ltd | 形状測定装置 |
| JP2000161942A (ja) * | 1998-11-27 | 2000-06-16 | Mitsutoyo Corp | 測定機及びその移動パス決定方法 |
| JP2002116019A (ja) * | 2000-10-04 | 2002-04-19 | Olympus Optical Co Ltd | プローブ式形状測定装置 |
| JP2002267438A (ja) * | 2001-03-08 | 2002-09-18 | Toshiba Mach Co Ltd | 自由曲面形状測定方法 |
-
2001
- 2001-09-21 JP JP2001289785A patent/JP2003097939A/ja active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04337409A (ja) * | 1991-05-14 | 1992-11-25 | Mitsutoyo Corp | 自由曲面測定方法 |
| JPH08285512A (ja) * | 1995-04-12 | 1996-11-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 微細表面形状測定装置 |
| JPH11271049A (ja) * | 1998-03-19 | 1999-10-05 | Ricoh Co Ltd | 形状測定装置 |
| JP2000161942A (ja) * | 1998-11-27 | 2000-06-16 | Mitsutoyo Corp | 測定機及びその移動パス決定方法 |
| JP2002116019A (ja) * | 2000-10-04 | 2002-04-19 | Olympus Optical Co Ltd | プローブ式形状測定装置 |
| JP2002267438A (ja) * | 2001-03-08 | 2002-09-18 | Toshiba Mach Co Ltd | 自由曲面形状測定方法 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008196983A (ja) * | 2007-02-14 | 2008-08-28 | Mitsutoyo Corp | 接触式プローブの倣い制御方法及び接触式測定機 |
| JP2011085399A (ja) * | 2009-10-13 | 2011-04-28 | Mitsutoyo Corp | オフセット量校正方法および表面性状測定機 |
| JP2011085400A (ja) * | 2009-10-13 | 2011-04-28 | Mitsutoyo Corp | 表面性状測定機 |
| US8650939B2 (en) | 2009-10-13 | 2014-02-18 | Mitutoyo Corporation | Surface texture measuring machine and a surface texture measuring method |
| US8654351B2 (en) | 2009-10-13 | 2014-02-18 | Mitutoyo Corporation | Offset amount calibrating method and surface profile measuring machine |
| JP2014106158A (ja) * | 2012-11-28 | 2014-06-09 | Canon Inc | 測定装置、および物品の製造方法 |
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