JP2003096400A - コーティング組成物、その塗膜、反射防止膜、反射防止フィルム、画像表示装置、及びコーティング組成物の調製方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ３０ｎｍ以下の一次粒子径の金属酸化物微粒
子を用いても塗工液の分散性に優れ、塗膜とした場合
に、透明性に優れる（ヘイズ値が小さい）コーティング
組成物、該コーティング組成物を用いて形成された塗
膜、反射防止膜、反射防止フィルム、コーティング組成
物の製造方法を提供する。 【解決手段】 コーティング組成物は、少なくとも、１
〜３０ｎｍの範囲の一次粒子径を有する金属酸化物微粒
子、電離放射線硬化性のバインダー成分、アニオン性の
極性基を有する分散剤、有機溶剤、並びに、チタネート
系又はアルミニウム系のカップリング剤を含む。カップ
リング剤以外の成分を最初に混合してなじませ、次いで
カップリング剤を添加して混合するとよい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、１〜３０ｎｍの範
囲の一次粒子径を有する金属酸化物微粒子の凝集を抑制
して分散させたコーティング組成物に関し、特に、中屈
折率層乃至高屈折率層を形成するのに適した、１〜３０
ｎｍの範囲の一次粒子径を有する金属酸化物微粒子の分
散性を実現したコーティング組成物、該コーティング組
成物を用いて形成した透明性に優れた塗膜の層を有する
反射防止膜、及び該反射防止膜を適用した反射防止フィ
ルム、画像表示装置及びコーティング組成物の製造方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶ディスプレー（ＬＣＤ）や陰極管表
示装置（ＣＲＴ）等の画像表示装置の表示面は、その視
認性を高めるために、蛍光燈などの外部光源から照射さ
れた光線の反射が少ないことが求められる。

【０００３】透明な物体の表面を屈折率の小さい透明皮
膜で被覆することにより反射率が小さくなることが従来
から知られており、画像表示装置の表示面に高屈折率層
または中屈折率層を形成し、さらにその上に低屈折率層
を形成することにより、反射防止効果を向上させること
が知られている。

【０００４】このような反射防止膜の高屈折率層または
中屈折率層を形成する方法は、一般に気相法と塗布法に
大別され、気相法には真空蒸着法、スパッタリング法等
の物理的方法と、ＣＶＤ法等の化学的方法とがあり、塗
布法にはロールコート法、グラビアコート法、スライド
コート法、スプレー法、浸漬法、及び、スクリーン印刷
法等がある。

【０００５】気相法による場合には、高機能且つ高品質
な薄膜の高屈折率層及び中屈折率層を形成することが可
能だが、高真空系での精密な雰囲気の制御が必要であ
り、また、特殊な加熱装置又はイオン発生加速装置が必
要であり、そのために製造装置が複雑で大型化するため
に必然的に製造コストが高くなるという問題がある。ま
た、高屈折率層及び中屈折率層の薄膜を大面積化したり
或いは複雑な形状を持つフィルム等の表面に薄膜を均一
な膜厚に形成することが困難である。

【０００６】一方、塗布法のうちスプレー法による場合
には、塗工液の利用効率が悪く、成膜条件の制御が困難
である等の問題がある。ロールコート法、グラビアコー
ト法、スライドコート法、浸漬法及びスクリーン印刷法
等による場合には、成膜原料の利用効率が良く、大量生
産や設備コスト面での有利さがあるが、一般的に、塗布
法により得られる高屈折率層及び中屈折率層は、気相法
により得られるものと比較して機能及び品質が劣るとい
う問題点がある。

【０００７】近年、優れた品質を有する高屈折率層及び
中屈折率層の薄膜を形成し得る塗布法として、有機物か
らなるバインダーの溶液中に酸化チタンや酸化スズ等の
屈折率の高い金属酸化物微粒子を分散させた塗工液を基
板上に塗布し、高屈折率塗膜或いは中屈折率塗膜を形成
する方法が提案されている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】上記した高屈折率乃至
中屈折率の金属酸化物微粒子を含んだ塗工液により塗膜
を形成する場合に、粒径ができるだけ小さい金属酸化物
微粒子が均一に分散した塗工液を用いることが、透明性
に優れた高屈折率塗膜或いは中屈折率塗膜を形成するた
めに望ましい。しかしながら、金属酸化物微粒子は、粒
子径が小さいほど、粒子間相互作用が大きくなり、塗工
液中では凝集し易いため、特に、３０ｎｍ未満の一次粒
子径の金属酸化物微粒子は、塗工液中においては分散が
困難であった。

【０００９】従来の高屈折率層及び中屈折率層の塗膜を
形成するための塗工液中に含まれる金属酸化物微粒子の
粒子径は、分散性の良好な範囲とされる、３０ｎｍより
大であるため、得られる塗膜は透明性に問題があり、特
に、硬化後の膜厚が０．２〜１０．０μｍである厚膜と
した高屈折率層及び中屈折率層は透明性が低いという問
題があった。

【００１０】本発明の目的は、上記問題点を鑑み、３０
ｎｍ以下の一次粒子径の金属酸化物微粒子を用いても塗
工液の分散性に優れ、塗膜とした場合に、透明性に優れ
る（ヘイズ値が小さい）コーティング組成物、該コーテ
ィング組成物を用いて形成された塗膜、反射防止膜、反
射防止フィルム、コーティング組成物の製造方法を提供
することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明のコーティング組成物は、少なくとも、（１）
１〜３０ｎｍの範囲の一次粒子径を有する金属酸化物微
粒子、（２）電離放射線硬化性のバインダー成分、
（３）アニオン性の極性基を有する分散剤、（４）有機
溶剤、並びに、（５）チタネート系又はアルミニウム系
のカップリング剤を含むことを特徴とする。

【００１２】前記本発明のコーティング組成物を被塗工
体の表面に塗布し硬化させることにより得られる本発明
の塗膜は、硬化後膜厚が０．２〜１０．０μｍ、好まし
くは３．０〜８．０μｍの時に屈折率が１．６０〜２．
００で、且つ、ＪＩＳ−Ｋ７３６１−１に規定されるヘ
イズ値が基材だけのヘイズ値と変わらないか又は基材だ
けのヘイズ値との差が１％以内であることを特徴とする
透明性に優れた、中屈折率乃至高屈折率塗膜である。

【００１３】本発明の反射防止膜は、光透過性を有し且
つ互いに屈折率が異なる光透過層を二層以上積層してな
り、該光透過層のうちの少なくとも一つが前記中屈折率
乃至高屈折率塗膜であることを特徴とする。

【００１４】本発明の反射防止フィルムは、光透過性を
有する基材フィルムの少なくとも一面側に、光透過性を
有し且つ互いに屈折率が異なる光透過層を二層以上積層
してなり、前記光透過層のうちの少なくともひとつが前
記本発明の中屈折率乃至高屈折率塗膜であることを特徴
とする。

【００１５】本発明の画像表示装置は、前記反射防止膜
により表示面を被覆していることを特徴とする。

【００１６】本発明のコーティング組成物の製造方法
は、（１）電離放射線硬化性のバインダー成分、アニオ
ン性の極性基を有する分散剤、有機溶剤、チタネート系
又はアルミニウム系カップリング剤を混合撹拌すること
により、カップリング剤とバインダー成分を良くなじま
せた混合物とし、（２）前記混合物に１〜３０ｎｍの範
囲の一次粒子径を有する金属酸化物微粒子を加え、分散
させることを特徴とする。

【００１７】本発明のコーティング組成物において、チ
タネート系又はアルミニウム系カップリング剤は、金属
酸化物微粒子の表面エネルギーを減少させると共に、金
属酸化物微粒子とバインダー樹脂との界面で濡れ性を改
善する働きがある。したがって、チタネート系又はアル
ミニウム系カップリング剤は、金属酸化物微粒子の表面
を疎水化し、バインダー樹脂との界面との親和性を強く
し、コーティング組成物中において金属酸化物微粒子の
分散性を向上させ、その結果、金属酸化物微粒子とバイ
ンダー樹脂との空隙が減少し、得られた塗膜の透明性を
上昇させる。該塗膜を反射防止膜とする場合には、透明
性の高い反射防止膜となる。また、該反射防止膜を光透
過性を有する基材フィルムの少なくとも一面側に設けた
反射防止フィルムは、透明性の高い反射防止フィルムと
なる。また、該反射防止膜により表示面を被覆している
画像表示装置は、透明性の高い表示面となる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下において本発明を詳しく説明
する。

【００１９】金属酸化物微粒子 上記必須成分のうち金属酸化物微粒子は、本発明のコー
ティング組成物を用いて形成する塗膜の屈折率を所望の
値に調節するための主要成分である。前記した金属酸化
物微粒子は何れも屈折率が中屈折率乃至高屈折率と高
く、且つ、無色であるか又はほとんど着色していないの
で、屈折率を調節するための成分として適している。

【００２０】金属酸化物微粒子は、塗膜の透明性を低下
させないために、いわゆる超微粒子サイズのものを用い
る。本発明における金属酸化物微粒子の一次粒子径は、
１〜３０ｎｍである。好ましくは３０ｎｍ以下のものを
用いる。平均粒子径が１ｎｍ未満のものは、コーティン
グ組成物中に均一に分散させることが困難であり、ひい
ては、金属酸化物微粒子を均一に分散させた塗膜が得ら
れなくなる。また、平均粒子径が３０ｎｍ超のものは、
塗膜の透明性を損なうので、本発明の目的とするもので
はない。

【００２１】金属酸化物微粒子の一次粒子径は、走査型
電子顕微鏡（ＳＥＭ）等により目視計測してもよいし、
動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等
により機械計測してもよい。金属酸化物微粒子の一次粒
子径が上記範囲内であれば、その粒子形状が球状であっ
ても針状であっても、その他どのような形状であっても
本発明に用いることができる。

【００２２】本発明で使用できる金属酸化物微粒子とし
て、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化
錫、酸化セリウム、酸化アンチモン、インジウム錫混合
酸化物及びアンチモン錫混合酸化物が挙げられる。

【００２３】金属酸化物微粒子の好ましい例としての酸
化チタンには、ルチル型、アナターゼ型、アモルファス
型があるが、本発明においてはアナターゼ型やアモルフ
ァス型と比べてルチル型酸化チタンが屈折率が高いので
好ましく使用できる。

【００２４】バインダー成分 本発明のコーティング組成物中の電離放射線硬化性のバ
インダー成分は、本発明のコーティング組成物に、成膜
性や、基材或いは隣接する層に対する密着性等の機能を
付与するために、必須成分として配合される。電離放射
線硬化性のバインダー成分は、コーティング組成物中に
おいて重合していないモノマー又はオリゴマーの状態で
存在しているので、コーティング組成物の塗工適性に優
れ、均一な大面積薄膜を形成しやすい。また、塗膜中の
バインダー成分を塗工後に重合、硬化させることにより
十分な塗膜強度が得られる。

【００２５】電離放射線硬化性のバインダー成分として
は、紫外線や電子線のような電離放射線の照射により直
接、又は開始剤の作用を受けて間接的に重合反応を生じ
る官能基を有するモノマー又はオリゴマーを用いること
ができる。本発明においては、主に、エチレン性二重結
合を有するラジカル重合性のモノマーやオリゴマーを用
いることができ、必要に応じて光開始剤が組み合わせら
れる。しかしながら、その他の電離放射線硬化性のバイ
ンダー成分を用いることも可能であり、例えば、エポキ
シ基含有化合物のような光カチオン重合性のモノマーや
オリゴマーを用いてもよい。光カチオン重合性のバイン
ダー成分には、必要に応じて光カチオン重合開始剤が組
み合わせて用いられる。バインダー成分の分子間で架橋
結合が生じるように、バインダー成分であるモノマー又
はオリゴマーは、重合性官能基を2 個以上有する多官能
性のバインダー成分であることが好ましい。

【００２６】エチレン性二重結合を有するラジカル重合
性のモノマー及びオリゴマーとしては、具体的には、２
−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロ
キシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル
アクリレート、2 −ヒドロキシ−３−フエノキシプロピ
ルアクリレート、カルボキシポリカプロラクトンアクリ
レート、アクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド等
の単官能（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトール
トリアクリレート、エチレングリコールジアクリレー
ト、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレ
ート等のジアクリレート；トリメチロールプロパントリ
アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート
等のトリ（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトール
テトラアクリレート誘導体やジペンタエリスリトールペ
ンタアクリレート等の多官能（メタ）アクリレート、或
いは、これらのラジカル重合性モノマーが重合したオリ
ゴマーを例示することができる。ここで「（メタ）アク
リレート」とは、アクリレート及び／又はメタクリレー
トを意味する。

【００２７】電離放射線硬化性のバインダー成分のうち
でも、分子中に水酸基を残したバインダー成分を用いる
のが好ましい。水酸基もアニオン性の極性基であること
から、当該バインダー成分は金属酸化物微粒子との親和
性が高く、分散助剤として作用する。従って、該バイン
ダー成分を用いると、コーティング組成物中および塗膜
中での金属酸化物微粒子の分散性が向上し、また、分散
剤の使用量を減らす効果がある。分散剤はバインダーと
しては機能しないので、分散剤の配合割合を減らすこと
によって塗膜強度の向上を図ることができる。

【００２８】分子中に水酸基を残したバインダー成分と
しては、ペンタエリスリトール多官能（メタ）アクリレ
ートまたはジペンタエリスリトール多官能（メタ）アク
リレートをバインダー樹脂の骨格とし、該分子中に水酸
基を残したものを用いることができる。すなわち、その
ようなバインダー成分は、一分子のペンタエリスリトー
ル又はジペンタエリスリトールに２分子以上の（メタ）
アクリル酸がエステル結合しているが、ペンタエリスリ
トール又はジペンタエリスリトールの分子中にもともと
ある水酸基の一部はエステル化されないまま残っている
ものであり、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリ
レートを例示することができる。ペンタエリスリトール
多官能アクリレート及びジペンタエリスリトール多官能
アクリレートは、一分子中にエチレン性二重結合を２個
以上有するので、重合時に架橋反応を起こし、高い塗膜
強度が得られる。

【００２９】光開始剤 ラジカル重合を開始させる光開始剤としては、例えば、
１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、
２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−
モルフオリノプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケ
トン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ
−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２
−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４
−イソプロピルフェニル）−2 −ヒドロキシ−２−メチ
ルプロパン−１−オン、ペンゾフエノン等を例示でき
る。これらのうちでも、１−ヒドロキシーシクロヘキシ
ル−フェニル−ケトン、及び、2 −メチル−１ [４−
（メチルチオ）フェニル］−２−モルフオリノプロパン
−１−オンは、少量でも電離放射線の照射による重合反
応を開始し促進するので、本発明において好ましく用い
られる。これらは、いずれか一方を単独で、又は、両方
を組み合わせて用いることができる。これらは市販品に
も存在し、例えば、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−
フェニル−ケトンはイルガキュアー １８４（Ｉｒｇａ
ｃｕｒｅ １８４）の商品名で日本チバガイギー社から
入手できる。

【００３０】分散剤 アニオン性の極性基を有する分散剤は、金属酸化物微粒
子、特に、酸化チタン微粒子に対して親和性の高いアニ
オン性の極性基を有しており、本発明のコーティング組
成物における金属酸化物微粒子に対して分散性を付与す
るために配合される。アニオン性の極性基としては、例
えば、カルボキシル基、リン酸基、水酸基などが該当す
る。

【００３１】アニオン性の極性基を有する分散剤として
は、具体的には、ビックケミー・ジャパン社がディスパ
ービックの商品名で供給する製品群、すなわち、Disper
byk−1 11，Disperbyk −110 ，Disperbyk −116 ，Dis
perbyk −140 ，Disperbyk−161 ，Disperbyk −162 ，
Disperbyk −163 ，Disperbyk −164 ，Disperbyk−170
，Disperbyk −171 ，Disperbyk −174 ，Disperbyk
−180 ，Disperbyk−182 等を例示することができる。

【００３２】これらのうちでも、エチレンオキサイド鎖
の骨格を有する主鎖に、上記したようなアニオン性の極
性基からなる側鎖又はアニオン性の極性基を有する側鎖
が結合した分子構造を有し、数平均分子量が２，０００
から２０，０００の化合物を用いると、特に良好な分散
性が得られ好ましい。数平均分子量は、ＧＰＣ（ゲル浸
透クロマトグラフィー）法により測定することができ
る。このような条件に合うものとして、上記ディスパー
ビックシリーズの中ではディスパービック163 （Disper
byk-163 ）が挙げられる。

【００３３】有機溶剤 本発明のコーティング組成物の固形成分を溶解分散する
ための有機溶剤は特に制限されず、種々のもの、例え
ば、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール
等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチ
ル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素；
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；或いはこれら
の混合物を用いることができる。

【００３４】本発明においては、ケトン系の有機溶剤を
用いるのが好ましい。本発明のコーティング組成物をケ
トン系溶剤を用いて調製すると、基材表面に容易に薄く
均一に塗布することができ、且つ、塗工後において溶剤
の蒸発速度が適度で乾燥むらを起こし難いので、均一な
薄さの大面積塗膜を容易に得ることができる。ケトン系
溶剤としては、１種のケトンからなる単独溶剤、２種以
上のケトンからなる混合溶剤、及び、１種又は２種以上
のケトンと共に他の溶剤を含有しケトン溶剤としての性
質を失っていないものを用いることができる。好ましく
は、溶剤の７０重量％以上、特に８０重量％以上を１種
又は２種以上のケトンで占められているケトン系溶剤が
用いられる。

【００３５】有機溶剤としてケトン系溶剤を用い、金属
酸化物微粒子の表面を上記したような有機化合物及び／
又は有機金属化合物で被覆することにより、特に塗工適
性に優れたコーティング組成物が得られ、均一な大面積
薄膜を容易に形成できるようになる。この場合でも、ア
ニオン性の極性基を有する分散剤として上記したような
エチレンオキサイド系の分散剤、すなわち、エチレンオ
キサイド鎖の骨格を有する主鎖に、アニオン性の極性基
からなる側鎖又はアニオン性の極性基を有する側鎖が結
合した分子構造を有し、数平均分子量が２，０００から
２０，０００の化合物を用いると、さらに好ましい。

【００３６】チタネート系又はアルミニウム系のカップ
リング剤 チタネート系、アルミニウム系カップリング剤の一般的
な機能は、金属酸化物微粒子の分散性の向上及びコーテ
ィング組成物の粘度低下、加工性の向上、金属酸化物微
粒子の高充填化、界面空隙の減少（凝集塊の低下）があ
る。

【００３７】チタネート系又はアルミニウム系のカップ
リング剤の種類としては、カルボキシル型、ピロホスフ
ェイト型、ホスファイト型、アミノ型が挙げられ、この
順に疎水性から親水性に移行する性質がある。どの型の
カップリング剤を選択するかは、使用する金属酸化物微
粒子表面（表面処理物）の性質による。

【００３８】チタネート系、アルミニウム系カップリン
グ剤を含むコーティング組成物は、水分存在下では長時
間放置すると加水分解により金属酸化物微粒子から離脱
して分散性機能を失うので塗料として用いるには加水分
解速度の遅いものが望ましい。

【００３９】チタネート系カップリング剤としては、金
属酸化物微粒子と相互作用するＴｉを含む親水基と、樹
脂または溶剤マトリックスと相互作用する疎水基とを持
つものであり、例えば、味の素（株）社がチタネート系
カップリング剤プレンアクトの商品名で提供する製品
群、すなわち、ＫＲ−ＴＴＳ、ＫＲ−４６Ｂ、ＫＲ−５
５、ＫＲ−４１Ｂ、ＫＲ−３８Ｓ、ＫＲ−１３８Ｓ、Ｋ
Ｒ−２３８Ｓ、３３８Ｘ、ＫＲ−４４、ＫＲ９ＳＡが挙
げられる。例えば、アルキルチタネートの場合、アルキ
ル鎖が長いもの、安定な錯体を形成するもの、ポリマー
では高分子量のものが望ましい。

【００４０】アルミニウム系カップリング剤としては、
アルミニウムイソプロピレート、モノｓｅｃ−ブトキシ
アルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムｓｅｃ
−ブチレート、アルミニウムエチレート、エチルアセト
アセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニ
ウムトリス（エチルアセトアセテート）、アルキルアセ
トアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミ
ニウムモノアセチルアセトネートビス（エチルアセトア
セテート）、アルミニウムトリス（アセチルアセトネー
ト）、アルミニウム＝モノイソプロポキシモノオレオキ
シエチルアセトアセテート、環状アルミニウムオキサイ
ドイソプロピレートが挙げられる。

【００４１】その他の成分 本発明のコーティング組成物は、上記の必須成分以外
に、必要に応じて電離放射線硬化性のバインダー成分の
重合開始剤を含有するが、さらに、その他の成分を配合
してもよい。例えば、必要に応じて紫外線遮蔽剤、紫外
線吸収剤、表面調整剤（レベリング剤）などを用いるこ
とができる。

【００４２】各成分の配合割合 本発明のコーティング組成物において、全固形分に対し
て前記カップリング剤が１〜１５重量％含まれることが
望ましく、さらに好ましくは３〜１０重量％である。カ
ップリング剤が１重量％未満であるとカップリング剤が
バインダー成分に対して有効な働きをしないため、分散
性が向上しない。カップリング剤が１５重量％を超える
と塗膜強度を低下させる。

【００４３】また、本発明のコーティング組成物におい
て全固形分０．５〜５０重量部に対して、有機溶剤が５
０〜９９．５重量部の割合で配合されていることが望ま
しい。有機溶剤が５０重量％未満であると顔料やバイン
ダー成分を安定、且つ均一に分散することができず、有
機溶剤が９９．５重量％を超えると顔料分散液としての
意味をなさない。

【００４４】金属酸化物微粒子は全固形分に対し、３０
〜６５重量％が望ましい。３０重量％以下であると、所
望の屈折率に達せず、６５重量％以上であると安定な分
散液を得ることが困難になり、また塗膜にした際の機械
的強度が弱くなる。

【００４５】分散剤は全固形分に対し、１０〜２０重量
％が望ましい。１０重量％以下であると、安定な分散液
を得ることが困難になり、２０重量％以上であると、塗
膜にした際の機械的強度が弱くなる。

【００４６】バインダー成分は全固形分に対し、２０〜
６０重量％が望ましい。２０重量％以下であると塗膜に
した際の機械的強度が弱くなり、６０重量％以上になる
と、所望の屈折率が得られない。

【００４７】コーティング液の調製 上記各成分を用いて本発明のコーティング組成物を調製
するには、塗工液の一般的な調製法に従って分散処理す
ればよい。例えば、各必須成分及び各所望成分を任意の
順序で混合し、得られた混合物にビーズ等の媒体を投入
し、ペイントシェーカーやビーズミル等で適切に分散処
理することにより、コーティング組成物が得られる。

【００４８】本発明のコーティング組成物の好ましい製
造方法は、電離放射線硬化性のバインダー成分、アニオ
ン性の極性基を有する分散剤、有機溶剤、チタネート系
又はアルミニウム系カップリング剤を混合撹拌すること
により、カップリング剤とバインダー成分を良くなじま
せた混合物とし、次いで、前記混合物に１〜３０ｎｍの
範囲の一次粒子径を有する金属酸化物微粒子を加え、分
散させて、コーティング組成物とする方法である。

【００４９】コーティング組成物の特徴 このようにして得られた本発明のコーティング組成物
は、必須成分として、１〜３０ｎｍの範囲の極めて小さ
い一次粒子径を有する金属酸化物微粒子が、チタネート
系又はアルミニウム系のカップリング剤を用いることに
より、均一に分散することを可能にしている。

【００５０】したがって、本発明のコーティング組成物
は、透明性に優れた、極めて小さい一次粒子径、即ち、
１〜３０ｎｍの範囲の一次粒子径を有する金属酸化物微
粒子を用い、加えて、透明性の阻害要因となる金属酸化
物微粒子を均一に分散させたコーティング組成物として
いるので、塗膜としたときにヘイズ値が非常に小さくな
る特徴がある。すなわち、本発明のコーティング組成物
中の金属酸化物微粒子の配合量をコントロールして屈折
率を調節し、当該コーティング組成物を基材等の被塗工
体の表面に塗布し、乾燥、硬化させることによって、所
定の屈折率を有し、透明性が高く、ヘイズ値の小さい塗
膜が得られる。

【００５１】本発明のコーティング組成物は、反射防止
膜を構成する１又は２以上の層を形成するのに適してお
り、特に、金属酸化物微粒子の配合量を変えて調節でき
る屈折率の範囲から考えて、中屈折率層乃至高屈折率層
を形成するのに適している。

【００５２】また、本発明のコーティング組成物は、長
期間に渡る分散安定性にも優れているのでポットライフ
が長く、長期間保存した後に使用する場合でも透明性が
高く且つヘイズ値の小さい塗膜を形成することができ
る。

【００５３】さらに、本発明のコーティング組成物は、
塗工適性に優れ、被塗工体の表面に、容易に薄く広く且
つ均一に塗布することができ、均一な大面積薄膜を形成
できる。特に、ケトン系溶剤を用いると蒸発速度が適度
で、塗膜の乾燥むらが生じ難いので、均一な大面積薄膜
を特に形成しやすい。

【００５４】本発明のコーティング組成物を基材等の被
塗工体の表面に塗布し、乾燥し、電離放射線硬化させる
ことによって、実質的に無色透明でヘイズ値の小さい塗
膜を形成することができる。

【００５５】被塗物 本発明のコーティング組成物を塗布する基材は特に制限
されない。好ましい基材としては、例えば、ガラス板、
トリアセテートセルロース（ＴＡＣ）、ポリエチレンテ
レフタレート（ＰＥＴ）、ジアセチルセルロース、アセ
テートブチレートセルロース、ポリエーテルサルホン、
アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル、
ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、トリ
メチルペンテン、ポリエーテルケトン、（メタ）アクリ
ロニトリル等の各種樹脂で形成したフィルム等を例示す
ることができる。基材の厚さは、通常２５μｍ〜１００
０μｍ程度である。

【００５６】塗膜形成方法 本発明のコーティング組成物は、例えば、スピンコート
法、デイップ法、スプレー法、スライドコート法、バー
コート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、
フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコーター法
等の各種方法で基材上に塗布することができる。

【００５７】本発明のコーティング組成物を基材等の被
塗工体の表面に所望の塗工量で塗布した後、通常は、オ
ーブン等の加熱手段で加熱乾燥し、その後、紫外線や電
子線等の電離放射線を放射して硬化させることにより塗
膜が形成される。

【００５８】塗膜の特徴 上記のようにして得られた塗膜は、金属酸化物微粒子が
均一に分散している。そのために、塗膜のヘイズ値の上
昇を抑制することができる。

【００５９】本発明の塗膜は、反射防止膜を構成する１
又は２以上の層として好適に利用することができ、特
に、金属酸化物超微粒子の種類及び配合量を変えて調節
できる屈折率の範囲から考えて、中屈折率層乃至高屈折
率層を形成するのに適している。本発明の塗膜は、光透
過性を有し且つ互いに屈折率の異なる層（光透過層）を
二層以上積層してなる多層型反射防止膜のうちの少なく
とも一層を形成するのに用いることができる。なお、本
明細書では、多層型反射防止膜の中で最も屈折率の高い
層を高屈折率層と称し、最も屈折率の低い層を低屈折率
層と称し、それ以外の中間的な屈折率を有する層を中屈
折率層と称している。

【００６０】本発明の硬化後の塗膜は、その膜厚が０．
２〜１０．０μｍの時に屈折率が１．６０〜２．００
で、且つ、ＪＩＳ−Ｋ７３６１の規定に従って基材と一
体の状態で測定したヘイズ値が、前記基材だけのヘイズ
値と変わらないか又は前記基材だけのヘイズ値との差が
１％以内に抑制することが可能である。

【００６１】また、反射防止膜で被覆する面、例えば画
像表示装置の表示面に、本発明の塗膜をただ一層設けた
だけでも、被覆面自体の屈折率と本発明の塗膜の屈折率
のバランスが丁度良い場合には反射防止効果が得られ
る。従って、本発明の塗膜は、単層の反射防止膜として
も有効に機能する場合がある。

【００６２】本発明の塗膜は、特に、液晶表示装置（Ｌ
ＣＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプ
レイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディ
スプレイ（ＥＬＤ）等の画像表示装置の表示面を被覆す
る多層型反射防止膜の少なくとも一層、特に中屈折率層
を形成するのに好適に用いられる。

【００６３】塗膜の適用例 図１は、本発明の塗膜を光透過層として含んだ多層型反
射防止膜により表示面を被覆した液晶表示装置１０１の
一例の断面を模式的に示したものである。液晶表示装置
１０１は、表示面側のガラス基板１の一面にＲＧＢの画
素部２（２Ｒ、２Ｇ、２Ｂ）とブラックマトリックス層
３を形成してなるカラーフィルター４を準備し、当該カ
ラーフィルター４の画素部２上に透明電極層５を設け、
背面側のガラス基板６の一面に透明電極層７を設け、背
面側のガラス基板６とカラーフィルター４とを、透明電
極層５、７同士が向き合うようにして所定のギャップを
空けて対向させ、周囲をシール材８で接着し、ギャップ
に液晶Ｌを封入し、背面側のガラス基板６の外面に配向
膜９を形成し、表示面側のガラス基板１の外面に偏光フ
ィルム１０を貼り付け、後方にバックライトユニット１
１を配置したものである。

【００６４】図２は、表示面側のガラス基板１の外面に
貼り付けた偏光フィルム１０の断面を模式的に示したも
のである。偏光フィルム１０は、ポリビニルアルコール
（ＰＶＡ）等からなる偏光素子１２の両面をトリアセチ
ルセルロース（ＴＡＣ）等からなる保護フィルム１３、
１４で被覆し、その裏面側に接着剤層１５を設け、その
鑑賞側にハードコート層１６と多層型反射防止膜１７を
順次形成したものであり、接着剤層１５を介して表示面
側のガラス基板１に貼着されている。

【００６５】液晶表示装置１０１の内部から射出する光
を拡散させて眩しさを低減させるために、ハードコート
層１６の表面を凹凸形状に形成したり或いはハードコー
ト層１６の内部に無機や有機のフイラーを分散させてハ
ードコート層１６内部で光を散乱させる機能を持たせた
防眩層（アンチグレア層）を兼ねてもよい。

【００６６】多層型反射防止膜１７の部分は、バックラ
イトユニット１１側から鑑賞側に向かって中屈折率層１
８、高屈折率層１９、低屈折率層２０が順次積層された
３層構造を有している。多層型反射防止膜１７は、高屈
折率層１９と低屈折率層２０が順次積層された２層構造
であってもよい。なお、ハードコート層１６の表面が凹
凸形状に形成される場合には、その上に形成される多層
型反射防止膜１７も図２に示すように凹凸形状となるこ
とが一般的である。

【００６７】低屈折率層２０は、例えば、シリカやフツ
化マグネシウム等の無機物、フツ素系樹脂等を含有する
塗工液から得られる屈折率１．４６以下の塗工膜を用い
て形成することができる。また、中屈折率層１８及び高
屈折率層１９は、本発明のコーティグ組成物を塗工して
形成することができ、中屈折率層１８には屈折率１．４
６〜１．８０の範囲の光透過層、高屈折率層１９には屈
折率１．６５以上の光透過層が使用される。

【００６８】この多層型反射防止膜１７の作用により、
外部光源から照射された光の反射率が低減するので、景
色や蛍光燈の映り込みが少なくなり、表示の視認性が向
上する。また、ハードコート層１６は防眩層を兼ねたも
のとすることができるので、内部からの直進光及び外光
が散乱されるために、反射のぎらつき感が軽減し、表示
の視認性がさらに向上する。

【００６９】図１に示す液晶表示装置１０１には、偏光
素子１２と保護フィルム１３、１４からなる積層体に本
発明のコーティング組成物を塗布して屈折率を１．４６
〜１．８０の範囲で調節した中屈折率層１８と屈折率を
１．６５以上に調節した高屈折率層１９を形成し、さら
に低屈折率層２０を設けることができる。そして、多層
型反射防止膜１７を含む偏光フィルム１０を接着剤層１
５を介して表示面側のガラス基板１上に貼着することが
できる。

【００７０】これに対し、ＣＲＴの表示面には偏光フィ
ルム１０を貼着しないので、反射防止膜を直接設ける必
要がある。しかしながら、ＣＲＴの表示面に本発明のコ
ーティング組成物を塗布するのは煩雑な作業である。こ
のような場合には、本発明の塗膜を含んでいる反射防止
フィルムを作製し、それを表示面に貼着すれば反射防止
膜が形成されるので、表示面に本発明のコーティング組
成物を塗布しなくて済む。

【００７１】光透過性を有する基材フィルムの一面側又
は両面に、光透過性を有し且つ互いに屈折率が異なる光
透過層を二層以上積層してなり、該光透過層のうちの少
なくとも一層を本発明の塗膜で形成することにより、反
射防止フィルムが得られる。基材フィルム及び光透過層
は、反射防止フィルムの材料として使用できる程度の光
透過性を有する必要があり、できるだけ透明に近いもの
が好ましい。

【００７２】図３は、本発明の塗膜を含んだ反射防止フ
ィルム１０２の一例の断面を模式的に示したものであ
る。反射防止フィルム１０２は、光透過性を有する基材
フィルム２１の一面側に、本発明のコーティング組成物
を塗布して高屈折率層２２を形成し、さらに高屈折率層
２２の上に低屈折率層２３を設けたものである。この例
では、互いに屈折率の異なる光透過層は高屈折率層２２
と低屈折率層２３の二層だけだが、光透過層を三層以上
設けてもよい。その場合には、高屈折率層２２だけでな
く中屈折率層２３も、本発明のコーティング組成物を塗
布して形成することができる。

【００７３】

【実施例】〔実施例１〕一次粒子径１０〜１３ｎｍのチタニア超微粒子をチタネ
ートカップリング剤を用いて分散した場合 １）チタニア超微粒子分散液の調製 高屈折率の金属酸化物としてルチル型酸化チタンを用い
た。Ａｌ₂ Ｏ₃ ，水酸化アルミニウムおよびステアリン
酸で表面処理し、ルチル型酸化チタン含量が７３％で、
一次粒径１０〜１３ｎｍで、比表面積が６０〜８０ｍ²
／ｇで、表面が撥水性のルチル型酸化チタン（ＭＴ−０
１、テイカ社製）を用意した。電離放射線硬化性バイン
ダー成分として、ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト（ＰＥＴ３０：商品名、日本化薬社製）を用意した。
アニオン性の極性基を有する分散剤としては、顔料に親
和性のあるブロック共重合体（ディスパービック １６
３：商品名、ビックケミー・ジャパン社製）を用意し
た。チタネートカップリング剤としては、テトラノルマ
ルブチルチタネート（オルガチックスＴＡ−２５：商品
名、松本交商社製）を用意した。光重合剤としては、１
−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（イ
ルガキュアー １８４：商品名、日本チバガイギー社
製）を用意した。有機溶剤としては、メチルイソブチル
ケトンを用意した。

【００７４】まず、テトラノルマルブチルチタネート、
ペンタエリスリトールトリアクリレート、分散剤（ディ
スパービック １６３：商品名、ビックケミー・ジャパ
ン社製）をメチルイソブチルケトン中に添加し、スター
ラーで３０分攪拌を行い溶解させた。

【００７５】次に、前記工程で得られた溶液にルチル型
酸化チタンを加え、マヨネーズ瓶に入れ、混合物の約４
倍量のジルコニアビーズ（φ０．３ｍｍ）を媒体に用い
てペイントシェーカーで１０時間攪拌し、攪拌後に光開
始剤（イルガギュアー １８４：商品名、日本チバガイ
ギー社製）を加えて下記組成のコーティング組成物を得
た。

【００７６】 （コーティング組成物の組成） ルチル型酸化チタン：ＭＴ−０１（商品名、テイカ社製） １０重量部 分散剤：ディスパービック１６３（商品名、ビックケミー・ジャパン社製） ２重量部 光硬化性樹脂：ＰＥＴ３０（商品名、日本化薬社製） ４重量部 チタネートカップリング剤：ＴＡ−２５（商品名、松本交商社製）1.28重量部 光開始剤：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４（商品名、日本チバガイギー社製） ０．２重量部 メチルイソブチルケトン １７．４８重量部

【００７７】２）塗膜の形成方法 前記工程１）で得られた調製直後のコーティング組成物
を、厚さ８０μｍの表面無処理ＴＡＣ基材（ＦＴ−Ｔ８
０ＵＺ：商品名、富士フィルム社製）上にバーコーター
＃１６で塗工し、６０℃で１分間加熱乾燥した後、ＵＶ
照射装置（フュージョンＵＶシステムズジャパン（株）
製）のＨバルブを光源に用いて５００ｍＪ／ｃｍ² の照
射量で硬化させ、硬化後膜厚が８．０μｍの透明膜を形
成した。

【００７８】前記工程１）で得られた調製直後のコーテ
ィング組成物それぞれから形成した硬化後膜厚が８．０
μｍの透明膜について、ヘイズと屈折率を測定した。ヘ
イズは、濁度計ＮＤＨ２０００（商品名、日本電色工業
社製）を用いて測定した。また、硬化後の塗膜の屈折率
は、分光エリプソメーター（ＵＶＳＥＬ：商品名、ジョ
バン−イーボン社製）を用い、ヘリウムレーザー光の波
長６３３ｎｍでの屈折率を測定した。

【００７９】その結果を下記の表１に示す。本実施例１
によれば、本実施例１のコーティング組成物は分散性も
良好で、厚膜時の透明性も基材とほぼ同等と良好な結果
を示した。また屈折率は１．８０であった。

【００８０】〔比較例１〕チタニア微粒子をチタネートカップリング剤抜きで分散
した場合 分散液の調製方法はチタネートカップリング剤を添加し
ないこと以外は前記実施例１と同様にして塗膜を形成し
た。その結果を下記の表１に示す。比較例１によれば、
比較例１のコーティング組成物は分散性が悪くゲル化し
易い。

【００８１】〔比較例２〕粒径の大きいチタニア微粒子を分散した場合 粒径の大きいルチル型酸化チタンとして、平均一次粒径
５０ｎｍのルチル型酸化チタンを用意した。ルチル型酸
化チタン含量が８５％で、Ａｌ₂ Ｏ₃ およびジルコニア
で表面処理し、平均一次粒径５０ｎｍで、比表面積が４
０〜６０ｍ² ／ｇで、表面が親水性のルチル型酸化チタ
ン（ＭＴ−７００ＨＤ：商品名、テイカ社製）を用意し
た。バインダー、分散剤、光開始剤については前記実施
例１と同様のものを用いて、前記実施例１と同様にして
塗膜を形成した。本比較例２のコーティング組成物に用
いたルチル型酸化チタンの粒径は、本発明の範囲（１〜
３０ｎｍ）より大きく、表面エネルギーも小さいため、
分散する際にチタネートカップリング剤を添加しなくと
も分散できた。その結果を下記の表１に示す。比較例２
によれば、分散性は良好だが、粒径が大きいため厚膜に
した際のヘイズ値が高い。屈折率は酸化チタン含量が多
いため、前記実施例１と比較して高くなる。

【００８２】

【表１】

【００８３】〔実施例２〕前記実施例１で得られたチタニア分散液（コーティング
組成物）を中屈折率ハードコート層として用いた場合 前記実施例１で得た屈折率１．８０のチタニア分散液１
０部に対して、ジペンタエリスリトールペンタアクリル
ペースト（ＳＲ３９９Ｅ：商品名、日本化薬社製）を１
部加え、屈折率１．７６のチタニア分散液を調製した。

【００８４】ＴＡＣ基材上に上記チタニア分散液を８μ
ｍ塗布し、ＵＶでタックの残らないレベルに硬化後、得
られた塗膜上ににシリコン含有ポリフッ化ビニリデン共
重合体からなる屈折率１．４０の低屈折率層を９０ｎｍ
にコーティングし、ＵＶで完全に硬化することによっ
て、人間が最も眩しさを感じやすい５５０ｎｍ波長での
反射率が０．４％の反射防止フィルムを得ることができ
た。このフィルムは、２Ｈの鉛筆硬度を有する。

【００８５】〔実施例３〕前記実施例１で得られたチタニア分散液（コーティング
組成物）を高屈折率化した防眩層として用いた場合 前記実施例１で得た屈折率１．８０のチタニア分散液に
アクリルペースト（ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート／粒径３．５μｍのスチレンビーズ＝６／４）、セ
ルロースアセテートプロピオネート（酢酸エチル溶液、
固形分１０％）、トルエン、光重合開始剤（ＩＲＧＡＣ
ＵＲＥ６５１：商品名、日本チバガイギー社製）を添加
して、下記表２の配合比の屈折率１．７６のマットハー
ドコート材料を調製した。

【００８６】ＴＡＣ基材上に上記マットハードコート材
料を５μｍ塗布し、ＵＶでタックの残らないレベルに硬
化後、得られた塗膜上にシリコン含有ポリフッ化ビニリ
デン共重合体からなる屈折率１．４０の低屈折率層を９
０ｎｍにコーティングし、ＵＶで完全に硬化することに
よって、人間が最も眩しさを感じやすい５５０ｎｍ波長
での反射率が０．６％の反射防止フィルムを得ることが
できた。このフィルムは、２Ｈの鉛筆硬度を有する。

【００８７】

【表２】

【００８８】

【発明の効果】本発明のコーティング組成物は、１〜３
０ｎｍの範囲の一次粒子径を有する金属酸化物微粒子を
用いているにも関わらず、塗工液としての分散性、分散
安定性に優れ、保存性に優れ、塗工適正にも優れてお
り、本発明のコーティング組成物を用いて形成した塗膜
は、１〜３０ｎｍの範囲の一次粒子径を有する金属酸化
物微粒子を用いているので、ヘイズ値が小さい。

【００８９】本発明は、硬化後膜厚が厚膜（０．２〜１
０．０μｍ）であっても、屈折率が１．６０〜２．００
で、且つ、ＪＩＳ−Ｋ７３６１−１に規定されるヘイズ
値が基材だけのヘイズ値と変わらないか又は基材だけの
ヘイズ値との差が１％以内の透明性に優れた反射防止
膜、反射防止フィルム、或いは該反射防止膜を適用した
画像表示装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の塗膜を光透過層として含んだ多層型反
射防止膜により表示面を被覆した液晶表示装置の一例で
あり、その断面を模式的に示した図である。

【図２】図１の液晶表示装置における表示面側のガラス
基板の外面に貼り付けた偏光フィルムの断面を模式的に
示した図である。

【図３】本発明の塗膜を含んだ反射防止フィルムの一例
であり、その断面を模式的に示した図である。

【符号の説明】

１ 表示面側のガラス基板 ２ 画素部 ３ ブラックマトリックス層 ４ カラーフィルター ５，７ 透明電極層 ６ 背面側のガラス基板 ８ シール材 ９ 配向膜 １０ 偏光フィルム １１ バックライトユニット １２ 偏光素子 １３、１４ 保護フィルム １５ 接着剤層 １６ ハードコート層 １７ 多層型反射防止膜 １８ 中屈折率層 １９、２２ 高屈折率層 ２０、２３ 低屈折率層 ２１ 基材フィルム １０１ 液晶表示装置 １０２ 反射防止フィルム

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０９Ｄ 5/00 Ｃ０９Ｄ 5/00 Ｚ ５Ｇ４３５ 7/12 7/12 Ｇ０２Ｂ 1/11 Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０１ Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０１ 7/085 7/085 Ｇ０９Ｆ 9/00 ３１３ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３１３ ３３８ ３３８ ３４２Ｚ ３４２ Ｈ０４Ｎ 5/72 Ａ Ｈ０４Ｎ 5/72 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AB14 AC01 AD01 BC13 BC43 BC82 BC86 CA04 CA28 CB45 CC03 CC06 CC20 DA34 2K009 AA02 AA12 BB02 BB28 CC03 CC09 DD02 4F100 AA17B AA19B AA21B AA25B AA27B AA28B AA29B AA33B AH10B AJ06 AK25B AK54B AL05B AR00C AT00A BA03 BA07 BA10A BA10B CA30B DE01B EJ67B GB41 JA07B JB14B JN01 JN06 JN08C JN18 JN30 4J038 DF002 FA151 GA03 HA216 JA32 JC38 KA03 KA06 KA09 KA20 NA19 PA17 PB08 PB09 PC08 5C058 DA01 DA03 5G435 AA02 AA17 FF04 HH02 HH05 KK05 KK07

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも、（１）１〜３０ｎｍの範囲
   の一次粒子径を有する金属酸化物微粒子、 （２）電離放射線硬化性のバインダー成分、 （３）アニオン性の極性基を有する分散剤、 （４）有機溶剤、並びに、 （５）チタネート系又はアルミニウム系のカップリング
   剤を含むことを特徴とするコーティング組成物。
2. 【請求項２】 前記金属酸化物微粒子は、酸化チタン、
   酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化セリウム、
   酸化アンチモン、インジウム錫混合酸化物及びアンチモ
   ン錫混合酸化物からなる高屈折率の金属酸化物微粒子の
   群から選ばれる一種又は二種以上であることを特徴とす
   る請求項１記載のコーティング組成物。
3. 【請求項３】 前記分散剤は、エチレンオキサイド鎖の
   骨格を有する主鎖に、アニオン性の極性基からなる側鎖
   又はアニオン性の極性基を有する側鎖が結合した分子構
   造を有し、数平均分子量が２，０００から２０，０００
   の化合物であることを特徴とする請求項１記載のコーテ
   ィング組成物。
4. 【請求項４】 前記バインダー成分は、分子中に水酸基
   を残したバインダー成分であることを特徴とする請求項
   １記載のコーティング組成物。
5. 【請求項５】 分子中に水酸基を残した前記バインダー
   成分が、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジ
   ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリ
   スリトール多官能メタクリレート、及び、ジペンタエリ
   スリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれ
   る一種又は二種以上の成分であることを特徴とする請求
   項４記載のコーティング組成物。
6. 【請求項６】 前記有機溶剤は、ケトン系溶剤であるこ
   とを特徴とする請求項１記載のコーティング組成物。
7. 【請求項７】 請求項１記載のコーティング組成物に、
   光開始剤として、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フ
   ェニル−ケトン、及び／又は、２−メチル−１〔４−
   （メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノプロパン
   −１−オンをさらに含有することを特徴とするコーティ
   ング組成物。
8. 【請求項８】 全固形分に対して前記ガップリング剤が
   １〜１５重量％含まれることを特徴とする請求項１記載
   のコーティング組成物。
9. 【請求項９】 コーティング組成物中の全固形分０．５
   〜５０重量部に対して、前記有機溶剤が５０〜９９．５
   重量部の割合で配合されていることを特徴とする請求項
   １記載のコーティング組成物。
10. 【請求項１０】 請求項１乃至９のいずれか１項に記載
    のコーティング組成物を被塗工体の表面に塗布し硬化さ
    せることにより得られ、硬化後膜厚が０．２〜１０．０
    μｍの時に屈折率が１．６０〜２．００で、且つ、ＪＩ
    Ｓ−Ｋ７３６１−１に規定されるヘイズ値が基材だけの
    ヘイズ値と変わらないか又は基材だけのヘイズ値との差
    が１％以内であることを特徴とする塗膜。
11. 【請求項１１】 光透過性を有し且つ互いに屈折率が異
    なる光透過層を二層以上積層してなり、前記光透過層の
    うちの少なくとも一つが請求項１０記載の塗膜であるこ
    とを特徴とする反射防止膜。
12. 【請求項１２】 光透過性を有する基材フィルムの少な
    くとも一面側に、光透過性を有し且つ互いに屈折率が異
    なる光透過層を二層以上積層してなり、前記光透過層の
    うちの少なくとも一つが請求項１０記載の塗膜であるこ
    とを特徴とする反射防止フィルム。
13. 【請求項１３】 請求項１１記載の反射防止膜により表
    示面を被覆したことを特徴とする画像表示装置。
14. 【請求項１４】 （１）電離放射線硬化性のバインダー
    成分、アニオン性の極性基を有する分散剤、有機溶剤、
    チタネート系又はアルミニウム系カップリング剤を混合
    撹拌することにより、カップリング剤とバインダー成分
    を良くなじませた混合物とし、 （２）前記混合物に１〜３０ｎｍの範囲の一次粒子径を
    有する金属酸化物微粒子を加え、分散させることを特徴
    とするコーティング組成物の製造方法。