JP2003066597A - Black photosensitive resin composition for forming black matrix - Google Patents

Black photosensitive resin composition for forming black matrix

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JP2003066597A
JP2003066597A JP2001259240A JP2001259240A JP2003066597A JP 2003066597 A JP2003066597 A JP 2003066597A JP 2001259240 A JP2001259240 A JP 2001259240A JP 2001259240 A JP2001259240 A JP 2001259240A JP 2003066597 A JP2003066597 A JP 2003066597A
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Japan
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acid
resin composition
black
photosensitive resin
trichloromethyl
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JP2001259240A
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Hideyuki Nakai
英之 中井
Seiji Muro
誠治 室
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Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a black photosensitive resin composition containing a resin coated carbon black and having satisfactory resolution. SOLUTION: The black photosensitive resin composition comprises (A) resin coated carbon black, (B) a binder resin, (C) an addition polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond and (D) a photopolymerization initiator and the content of (B) the binder resin is 1.5-5 times (by mass) the content of (C) the addition polymerizable compound. When a layer (3) comprising the black photosensitive resin composition is formed on a substrate (4), exposed and developed, a black matrix (2BM) is formed and a color filter can be produced.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は黒色感光性樹脂組成
物に関し、詳しくはカラーフィルターを構成するブラッ
クマトリックスの形成に好適に用いられる黒色感光性樹
脂組成物に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a black photosensitive resin composition, and more particularly to a black photosensitive resin composition which is preferably used for forming a black matrix which constitutes a color filter.

【０００２】[0002]

【従来の技術】黒色感光性樹脂組成物は、黒色顔料によ
って黒色に着色されている感光性樹脂組成物（レジス
ト）であって、カラーフィルターのブラックマトリック
スを形成するための原材料として有用である。ここでカ
ラーフィルター(１)とは、液晶表示装置などによって表
示される画像をカラー化するために用いられ、例えば光
の３原色（赤、緑、青）または３補色（シアン、マゼン
タ、イエロー）にそれぞれ着色された透明な色画素(２)
からなる光学素子である（図１）。ブラックマトリック
ス(２ＢＭ)は、各色画素の境界に設けられた黒色で不透
明な層であり、可視光を遮蔽して各色画素(２)を区画し
表示画像を鮮明なものとすると共に、液晶表示装置の液
晶駆動用の電極や薄膜トランジスタ（ＴＦＴ、Ｔhin Ｆ
ilm Ｔransistor）を遮光する。かかるブラックマトリ
ックス(２ＢＭ)は、例えば黒色感光性樹脂組成物からな
る層(３)を基板(４)の上に形成し（図２(a)）、該層
(３)にフォトマスク(５)を介して光線(６)を照射して露
光し（図２(b)）、次いで現像することによって光線未
照射領域(３１)を除去する方法によって形成される（図
２(c)）。2. Description of the Related Art A black photosensitive resin composition is a photosensitive resin composition (resist) colored black with a black pigment and is useful as a raw material for forming a black matrix of a color filter. Here, the color filter (1) is used for colorizing an image displayed by a liquid crystal display device or the like, for example, three primary colors of light (red, green, blue) or three complementary colors (cyan, magenta, yellow). Transparent colored pixels (2)
(Fig. 1). The black matrix (2BM) is a black and opaque layer provided at the boundary of each color pixel and blocks visible light to partition each color pixel (2) to make a display image clear and a liquid crystal display device. LCD driving electrodes and thin film transistors (TFT, Thin F)
ilm Transistor) is shielded from light. The black matrix (2BM) is obtained by forming a layer (3) made of, for example, a black photosensitive resin composition on a substrate (4) (FIG. 2 (a)).
It is formed by a method of irradiating (3) with a light beam (6) through a photomask (5) to expose it (FIG. 2 (b)), and then developing it to remove the light unirradiated region (31). (Fig. 2 (c)).

【０００３】かかる黒色感光性樹脂組成物として、
（Ａ）黒色顔料、（Ｂ）バインダー樹脂、（Ｃ）エチレ
ン性不飽和結合を有し付加重合可能な化合物、（Ｄ）光
重合開始剤を含有するものが知られており、（Ａ）黒色
顔料としてカーボンブラックを用いたものも知られてい
る。かかる黒色感光性樹脂組成物において、カーボンブ
ラックをそのままで用いたのでは、形成されるブラック
マトリックス(２ＢＭ)の電気抵抗が低くなるという問題
があった。電気抵抗の低いブラックマトリックスは、液
晶表示装置の電極からの漏電、ＴＦＴの動作不良などの
原因となる。As such a black photosensitive resin composition,
It is known that (A) a black pigment, (B) a binder resin, (C) a compound having an ethylenically unsaturated bond and capable of addition polymerization, and (D) a photopolymerization initiator, and (A) black. It is also known to use carbon black as a pigment. In such a black photosensitive resin composition, if carbon black is used as it is, there is a problem that the electric resistance of the formed black matrix (2BM) becomes low. The black matrix having a low electric resistance causes electric leakage from the electrodes of the liquid crystal display device, malfunction of the TFT, and the like.

【０００４】かかる問題を解決するものとして、表面が
樹脂で被覆された絶縁性の樹脂被覆カーボンブラックを
用いた黒色感光性樹脂組成物からブラックマトリックス
を形成する方法が提案されている。In order to solve such a problem, a method of forming a black matrix from a black photosensitive resin composition using an insulating resin-coated carbon black whose surface is coated with a resin has been proposed.

【０００５】しかし、かかる従来の黒色感光性組成物に
は、解像度が低くなるという問題があった。黒色感光性
樹脂組成物の解像度が低くなると、これを用いて形成し
得るブラックマトリックスを細かいものとすることが困
難となる。However, such a conventional black photosensitive composition has a problem of low resolution. When the resolution of the black photosensitive resin composition becomes low, it becomes difficult to make the black matrix finer using the black photosensitive resin composition.

【０００６】[0006]

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明者は、表
面が樹脂で被覆されたカーボンブラックを含有し、十分
な解像度を示す黒色感光性樹脂組成物を開発するべく鋭
意検討した結果、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有し付
加重合可能な化合物に対する（Ｂ）バインダー樹脂の含
有量を１．５質量倍以上５質量倍以下とすることで、解
像度よくブラックマトリックスを形成し得ることを見出
し、本発明に至った。Therefore, the present inventor has diligently studied to develop a black photosensitive resin composition containing a carbon black whose surface is coated with a resin and exhibiting a sufficient resolution. ) It has been found that a black matrix can be formed with good resolution by setting the content of the binder resin (B) to 1.5 mass times or more and 5 mass times or less with respect to the addition-polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond. The present invention has been reached.

【０００７】[0007]

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、
（Ａ）樹脂被覆カーボンブラック、（Ｂ）バインダー樹
脂、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有し付加重合可能な
化合物、（Ｄ）光重合開始剤を含有し、（Ｃ）エチレン
性不飽和結合を有し付加重合可能な化合物に対する
（Ｂ）バインダー樹脂の含有量が１．５質量倍以上５質
量倍以下であることを特徴とする黒色感光性樹脂組成物
を提供するものである。That is, the present invention is as follows.
(A) resin-coated carbon black, (B) binder resin, (C) ethylenically unsaturated bond-containing compound capable of addition polymerization, (D) photopolymerization initiator-containing (C) ethylenically unsaturated bond The present invention provides a black photosensitive resin composition, wherein the content of the binder resin (B) with respect to the compound capable of undergoing addition polymerization is 1.5 times by mass or more and 5 times by mass or less.

【０００８】[0008]

【発明の実施の形態】本発明の黒色感光性樹脂組成物
は、（Ａ）カーボンブラックを含有する。かかるカーボ
ンブラックとしては、ファーネスブラック、チャンネル
ブラック、アセチレンブラック、ランプブラックなどが
挙げられ、好ましくはファーネスブラックである。かか
るカーボンブラックの粒径は通常２０μｍ以下であり、
５μｍ以下、さらには１μｍ以下であることが好まし
い。かかる粒径は通常０．０１μｍ以上である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The black photosensitive resin composition of the present invention contains (A) carbon black. Examples of such carbon black include furnace black, channel black, acetylene black, lamp black and the like, and furnace black is preferable. The particle size of such carbon black is usually 20 μm or less,
It is preferably 5 μm or less, more preferably 1 μm or less. The particle size is usually 0.01 μm or more.

【０００９】かかるカーボンブラックは、樹脂被覆カー
ボンブラックであり、表面が樹脂で被覆されている。カ
ーボンブラックの表面を被覆する樹脂としては、例えば
エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、キシレ
ン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、グリプタル樹脂、ア
ルキルベンゼン樹脂などの熱硬化性樹脂、ポリスチレ
ン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、
ポリブチレンテレフタレート、変性ポリフェニレンオキ
サイド、ポリスルフォン、ポリパラフェニレンテレフタ
ルアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリアミノ
ビスマレイミド、ポリエーテルスルフォポリフェニレン
スルフォン、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケ
トンなどの熱可塑性樹脂などの合成樹脂などが挙げら
れ、好ましくはエポキシ樹脂である。エポキシ樹脂とし
ては、例えばグリシルアミン系エポキシ樹脂、トリフェ
ニルグリシジメタン系エポキシ樹脂、テトラフェニルグ
リシジメタン系エポキシ樹脂、アミノフェノール型エポ
キシ樹脂、ジアミドジフェニルメタン型エポキシ樹脂、
フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾー
ル型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡノボラック型エポ
キシ樹脂などの多官能型エポキシ樹脂が挙げられる。The carbon black is a resin-coated carbon black, the surface of which is coated with a resin. Examples of the resin for coating the surface of carbon black include epoxy resins, phenol resins, melamine resins, xylene resins, diallyl phthalate resins, glyptal resins, thermosetting resins such as alkylbenzene resins, polystyrene, polycarbonate, polyethylene terephthalate,
Polybutylene terephthalate, modified polyphenylene oxide, polysulfone, polyparaphenylene terephthalamide, polyamideimide, polyimide, polyaminobismaleimide, synthetic resin such as thermoplastic resin such as polyethersulfopolyphenylene sulfone, polyarylate, polyetheretherketone, etc. And an epoxy resin is preferable. Examples of the epoxy resin include glycylamine-based epoxy resin, triphenylglycididimethane-based epoxy resin, tetraphenylglycididimethane-based epoxy resin, aminophenol-type epoxy resin, diamidediphenylmethane-type epoxy resin,
Examples thereof include polyfunctional epoxy resins such as phenol novolac type epoxy resin, orthocresol type epoxy resin, and bisphenol A novolac type epoxy resin.

【００１０】かかる樹脂被覆カーボンブラックは、例え
ばカーボンブラックに樹脂のエマルジョンを被覆する方
法で製造することができる。樹脂としてエポキシ樹脂を
用いる場合には、硬化剤と共にエポキシ樹脂のエマルジ
ョンをカーボンブラックに被覆することが好ましい。硬
化剤としては、例えば２−メチルイミダゾール、２−エ
チル−４−メチルイミダゾール、２−ウンデシルイミダ
ゾール、２−ヘプタデシルイミダゾール、２−フェニル
イミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾー
ル、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、２，
４ジアミノ−６−[２−メチルイミダゾリル−（１）]−
エチルＳ−トリアジンなどが挙げられ、その使用量はエ
ポキシ樹脂と硬化剤との合計量に対して質量分率で通常
１％以上３０％以下、好ましくは５％以上２５％以下、
さらに好ましくは１０％以上２０％である。The resin-coated carbon black can be produced, for example, by a method of coating the carbon black with a resin emulsion. When an epoxy resin is used as the resin, it is preferable to coat the carbon black with an emulsion of the epoxy resin together with a curing agent. Examples of the curing agent include 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-phenylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl- 2-methylimidazole, 2,
4 diamino-6- [2-methylimidazolyl- (1)]-
Ethyl S-triazine and the like are used, and the amount thereof is usually 1% or more and 30% or less, preferably 5% or more and 25% or less in terms of mass fraction with respect to the total amount of the epoxy resin and the curing agent.
More preferably, it is 10% or more and 20%.

【００１１】カーボンブラックに樹脂のエマルジョンを
被覆するには、例えばカーボンブラックを分散媒体に分
散させた状態で、樹脂のエマルジョンを添加すればよ
い。樹脂としてエポキシ樹脂を用い、硬化剤と共にカー
ボンブラック被覆する場合には、カーボンブラックを分
散媒体に分散させた状態で、樹脂のエマルジョンと硬化
剤とを添加すればよい。To coat the carbon black with the resin emulsion, for example, the resin emulsion may be added in a state where the carbon black is dispersed in a dispersion medium. When an epoxy resin is used as the resin and carbon black is coated with a curing agent, the resin emulsion and the curing agent may be added in a state where the carbon black is dispersed in the dispersion medium.

【００１２】かくして得られる樹脂被覆カーボンブラッ
クにおける樹脂の割合は、質量分率で通常５％以上４０
％以下、好ましくは７％以上２０％以下である。５％未
満ではブラックマトリックスの電気抵抗が低くなる傾向
にあり、４０％を超えると黒色感光性樹脂組成物やブラ
ックマトリックス中に樹脂被覆カーボンブラックを均一
に分散させることが困難となるおそれがある。The resin content of the resin-coated carbon black thus obtained is usually 5% or more and 40% by mass.
% Or less, preferably 7% or more and 20% or less. If it is less than 5%, the electrical resistance of the black matrix tends to be low, and if it exceeds 40%, it may be difficult to uniformly disperse the resin-coated carbon black in the black photosensitive resin composition or the black matrix.

【００１３】かかる樹脂被覆カーボンブラックの含有量
は、黒色感光性樹脂組成物から揮発成分が揮発したのち
の固形分に対して質量分率で通常２０％以上６０％以下
であり、３０％以上であってもよい。The content of the resin-coated carbon black is usually 20% or more and 60% or less, and 30% or more by mass fraction, based on the solid content after the volatile components are volatilized from the black photosensitive resin composition. It may be.

【００１４】（Ｂ）バインダー樹脂は、黒色感光性樹脂
組成物からなる層(３)に、その光線未照射領域(３１)が
現像液に溶解する性質を付与する成分であり、また黒色
感光性樹脂組成物層(３)やブラックマトリックス(２Ｂ
Ｍ)において樹脂被覆カーボンブラックを分散させる分
散媒として機能するものである。The binder resin (B) is a component that imparts a property of dissolving the unirradiated region (31) in the developing solution to the layer (3) composed of the black photosensitive resin composition, and also the black photosensitive property. Resin composition layer (3) and black matrix (2B
In M), it functions as a dispersion medium for dispersing the resin-coated carbon black.

【００１５】かかるバインダー樹脂としては、例えば式
（Ｉ）Examples of the binder resin include those represented by the formula (I)

【化３】 〔式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に水素原子、炭素
数１〜５のアルキル基またはハロゲン原子を示し、Ｒ3
は置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキレ
ン基を示し、Ｒ4は水素原子またはメチル基を示し、Ｘ
は式（Ｉ−１）〜（Ｉ−６）[Chemical 3] Wherein R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or a halogen atom having 1 to 5 carbon atoms, R 3
Represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent, R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group, X
Are formulas (I-1) to (I-6)

【化４】 のいずれかで示される２価の残基を示し、ｍは０〜５の
整数を示し、ｎは１〜１０の整数を示す。〕で示される
化合物と多塩基酸との縮重合物（特開平４−３５５４５
０号公報、特開平９−４０７４５号公報、特開平０９−
３２５４９４号公報、特開２０００−２８１７３８公
報）であってもよいし、アクリル系共重合体であっても
よい。[Chemical 4] Represents a divalent residue, m represents an integer of 0 to 5, and n represents an integer of 1 to 10. ] The polycondensation product of the compound shown by these and a polybasic acid (JP-A-4-35545).
No. 0, JP-A-9-40745, JP-A 09-
No. 325494, JP 2000-281738 A), or an acrylic copolymer.

【００１６】式（Ｉ）で示される化合物と多塩基酸との
縮重合物は、例えば式（Ｉ）で示される化合物と多塩基
酸とを縮重合させて得られる生成物、または式（Ｉ）で
示される化合物と多塩基酸無水物とを縮重合させて得ら
れる生成物である。多塩基酸としては、例えばマレイン
酸、コハク酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフ
タル酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチルエンドメチレン
テトラヒドロフタル酸、クロレンド酸、メチルテトラヒ
ドロフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ベン
ゾフェノンテトラカルボン酸、４，４’−ジフタル酸を
はじめとするビフェニルテトラカルボン酸、ビフェニル
エーテルテトラカルボン酸などが挙げられる。多塩基酸
無水物としては、上記多塩基酸の無水物などが挙げられ
る。かかる多塩基酸またはその無水物はそれぞれ単独で
または２種以上を混合して用いることができる。The polycondensation product of the compound represented by the formula (I) and the polybasic acid is, for example, the product obtained by polycondensing the compound represented by the formula (I) and the polybasic acid, or the formula (I ) Is a product obtained by polycondensing a compound represented by the formula (4) and a polybasic acid anhydride. Examples of the polybasic acid include maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, methylendomethylenetetrahydrophthalic acid, chlorendic acid, methyltetrahydrophthalic acid, trimellitic acid, and pyromellitic acid. , Benzophenone tetracarboxylic acid, biphenyl tetracarboxylic acid such as 4,4′-diphthalic acid, and biphenyl ether tetracarboxylic acid. Examples of polybasic acid anhydrides include anhydrides of the above polybasic acids. Such polybasic acids or their anhydrides can be used alone or in admixture of two or more.

【００１７】縮重合における多塩基酸または多塩基酸無
水物の使用量は、式（Ｉ）で示される化合物と多塩基酸
または多塩基酸無水物との合計量に対して物質量比（モ
ル比）で５％以上９５％以下、さらには１０％以上９０
％以下程度であることが好ましい。縮重合物の酸価は７
０〜１７０程度、さらには８０〜１４０程度であること
が好ましい。ここで酸価は縮重合物１ｇを中和するに必
要な水酸化カリウムの量（ｍｇ）として測定される値で
あり、通常は水酸化カリウム水溶液を用いて滴定するこ
とにより求めることができる。The amount of polybasic acid or polybasic acid anhydride used in the polycondensation is based on the total amount of the compound represented by the formula (I) and the polybasic acid or polybasic acid anhydride in a substance amount ratio (mol 5% or more and 95% or less, further 10% or more 90
% Or less is preferable. Acid value of polycondensation product is 7
It is preferably about 0 to 170, and more preferably about 80 to 140. Here, the acid value is a value measured as an amount (mg) of potassium hydroxide necessary for neutralizing 1 g of a polycondensation product, and can usually be determined by titration with an aqueous potassium hydroxide solution.

【００１８】バインダー樹脂として使用し得るアクリル
系共重合体としては、例えばカルボキシル基含有モノマ
ーおよびこれと共重合可能な他のモノマーとの共重合体
などが挙げられる。Examples of the acrylic copolymer that can be used as the binder resin include a carboxyl group-containing monomer and a copolymer with another monomer copolymerizable therewith.

【００１９】カルボキシル基含有モノマーとしては、例
えば不飽和モノカルボン酸や、不飽和ジカルボン酸、不
飽和トリカルボン酸などの不飽和多価カルボン酸などの
分子中に少なくとも１個のカルボキシル基を有する不飽
和カルボン酸が挙げられる。ここで、不飽和モノカルボ
ン酸としては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロ
トン酸、α−クロルアクリル酸、けい皮酸などが挙げら
れる。不飽和ジカルボン酸としては、例えばマレイン
酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸
などが挙げられる。不飽和多価カルボン酸は、その酸無
水物、具体的には無水マレイン酸、無水イタコン酸、無
水シトラコン酸などであってもよい。また、不飽和多価
カルボン酸は、そのモノ（２−メタクリロイロキシアル
キル）エステルであってもよく、具体的には、例えばこ
はく酸モノ（２−アクリロイロキシエチル）、こはく酸
モノ（２−メタクリロイロキシエチル）、フタル酸モノ
（２−アクリロイロキシエチル）、フタル酸モノ（２−
メタクリロイロキシエチル）などであってもよい。不飽
和多価カルボン酸は、その両末端ジカルボキシポリマー
のモノ（メタ）アクリレートであってもよく、具体的に
はω−カルボキシポリカプロラクトンモノアクリレー
ト、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノメタクリレ
ートなどであってもよい。かかるカルボキシル基含有モ
ノマーは、それぞれ単独でまたは２種以上を混合して用
いることができる。Examples of the carboxyl group-containing monomer include unsaturated monocarboxylic acids, unsaturated polycarboxylic acids such as unsaturated dicarboxylic acids and unsaturated tricarboxylic acids, and other unsaturated compounds having at least one carboxyl group in the molecule. Examples thereof include carboxylic acids. Here, examples of the unsaturated monocarboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, α-chloroacrylic acid, and cinnamic acid. Examples of unsaturated dicarboxylic acids include maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, mesaconic acid and the like. The unsaturated polycarboxylic acid may be an acid anhydride thereof, specifically maleic anhydride, itaconic anhydride, citraconic anhydride, or the like. Further, the unsaturated polycarboxylic acid may be its mono (2-methacryloyloxyalkyl) ester, and specifically, for example, monosuccinic acid (2-acryloyloxyethyl), monosuccinic acid (2 -Methacryloyloxyethyl), phthalic acid mono (2-acryloyloxyethyl), phthalic acid mono (2-
Methacryloyloxyethyl) and the like. The unsaturated polycarboxylic acid may be a mono (meth) acrylate of a dicarboxy polymer at both ends thereof, specifically, ω-carboxypolycaprolactone monoacrylate or ω-carboxypolycaprolactone monomethacrylate. Good. These carboxyl group-containing monomers can be used alone or in admixture of two or more.

【００２０】かかるカルボキシル基含有モノマーと共重
合可能な他のモノマーとしては、例えばスチレン、α−
メチルスチレン、ｏ−ビニルトルエン、ｍ−ビニルトル
エン、ｐ−ビニルトルエン、ｐ−クロルスチレン、ｏ−
メトキシスチレン、ｍ−メトキシスチレン、ｐ−メトキ
シスチレン、ｏ−ビニルベンジルメチルエーテル、ｍ−
ビニルベンジルメチルエーテル、ｐ−ビニルベンジルメ
チルエーテル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテ
ル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニ
ルベンジルグリシジルエーテル、インデンなどの芳香族
ビニル化合物、メチルアクリレート、メチルメタクリレ
ート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、ｎ
−プロピルアクリレート、ｎ−プロピルメタクリレー
ト、ｉ−プロピルアクリレート、ｉ−プロピルメタクリ
レート、ｎ−ブチルアクリレート、ｎ−ブチルメタクリ
レート、ｉ−ブチルアクリレート、ｉ−ブチルメタクリ
レート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチル
メタクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、ｔ−ブチル
メタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、
２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシ
プロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタク
リレート、３−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−
ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシブ
チルアクリレート、２−ヒドロキシブチルメタクリレー
ト、３−ヒドロキシブチルアクリレート、３−ヒドロキ
シブチルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリ
レート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、アリル
アクリレート、アリルメタクリレート、ベンジルアクリ
レート、ベンジルメタクリレート、シクロヘキシルアク
リレート、シクロヘキシルメタクリレート、フェニルア
クリレート、フェニルメタクリレート、２−メトキシエ
チルアクリレート、２−メトキシエチルメタクリレー
ト、２−フェノキシエチルアクリレート、２−フェノキ
シエチルメタクリレート、メトキシジエチレングルコー
ルアクリレート、メトキシジエチレングルコールメタク
リレート、メトキシトリエチレングルコールアクリレー
ト、メトキシトリエチレングルコールメタクリレート、
メトキシプロピレングルコールアクリレート、メトキシ
プロピレングルコールメタクリレート、メトキシジプロ
ピレングルコールアクリレート、メトキシジプロピレン
グルコールメタクリレート、イソボルニルアクリレー
ト、イソボルニルメタクリレート、ジシクロペンタジエ
ニルアクリレート、ジシクロペンタジエニルメタクリレ
ート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリ
レート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルメタ
クリレート、グリセロールモノアクリレート、グリセロ
ールモノメタクリレートなどの不飽和カルボン酸エステ
ル類、２−アミノエチルアクリレート、２−アミノエチ
ルメタクリレート、２−ジメチルアミノエチルアクリレ
ート、２−ジメチルアミノエチルメタクリレート、２−
アミノプロピルアクリレート、２−アミノプロピルメタ
クリレート、２−ジメチルアミノプロピルアクリレー
ト、２−ジメチルアミノプロピルメタクリレート、３−
アミノプロピルアクリレート、３−アミノプロピルメタ
クリレート、３−ジメチルアミノプロピルアクリレー
ト、３−ジメチルアミノプロピルメタクリレートなどの
不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル類、グリシジ
ルアクリレート、グリシジルメタクリレートなどの不飽
和カルボン酸グリシジルエステル類、酢酸ビニル、プロ
ピオン酸ビニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニルなどのカ
ルボン酸ビニルエステル類、ビニルメチルエーテル、ビ
ニルエチルエーテル、アリルグリシジルエーテルなどの
不飽和エーテル類、アクリロニトリル、メタクリロニト
リル、α−クロロアクリロニトリル、シアン化ビニリデ
ンなどのシアン化ビニル化合物、アクリルアミド、メタ
クリルアミド、α−クロロアクリルアミド、Ｎ−２−ヒ
ドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−２−ヒドロキシエ
チルメタクリルアミドなどの不飽和アミド類、マレイミ
ド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレ
イミドなどの不飽和イミド類、１，３−ブタジエン、イ
ソプレン、クロロプレンなどの脂肪族共役ジエン類、ポ
リスチレン、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタ
クリレート、ポリ−ｎ−ブチルアクリレート、ポリ−ｎ
−ブチルメタクリレート、ポリシロキサンの重合体分子
鎖の末端にモノアクリロイル基あるいはモノメタクリロ
イル基を有するマクロモノマー類などを挙げることがで
きる。これらのモノマーは、それぞれ単独でまたは２種
以上を混合して使用することができる。Other monomers copolymerizable with the carboxyl group-containing monomer include, for example, styrene and α-
Methylstyrene, o-vinyltoluene, m-vinyltoluene, p-vinyltoluene, p-chlorostyrene, o-
Methoxystyrene, m-methoxystyrene, p-methoxystyrene, o-vinylbenzyl methyl ether, m-
Aromatic vinyl compounds such as vinylbenzyl methyl ether, p-vinylbenzyl methyl ether, o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinylbenzyl glycidyl ether, p-vinylbenzyl glycidyl ether, indene, methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, Ethyl methacrylate, n
-Propyl acrylate, n-propyl methacrylate, i-propyl acrylate, i-propyl methacrylate, n-butyl acrylate, n-butyl methacrylate, i-butyl acrylate, i-butyl methacrylate, sec-butyl acrylate, sec-butyl methacrylate, t -Butyl acrylate, t-butyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate,
2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 3-
Hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 3-hydroxybutyl acrylate, 3-hydroxybutyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, allyl acrylate, allyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl Methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, phenyl acrylate, phenyl methacrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, 2-phenoxyethyl acrylate, 2-phenoxyethyl methacrylate, methoxydiethylene glycol acrylate, methoxydiethylene glycol methacrylate, Methoxy Triethylene glycol acrylate, methoxy triethylene glycol dimethacrylate,
Methoxypropylene glycol acrylate, methoxypropylene glycol methacrylate, methoxydipropylene glycol acrylate, methoxydipropylene glycol methacrylate, isobornyl acrylate, isobornyl methacrylate, dicyclopentadienyl acrylate, dicyclopentadienyl methacrylate, Unsaturated carboxylic acid esters such as 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl methacrylate, glycerol monoacrylate, glycerol monomethacrylate, 2-aminoethyl acrylate, 2-aminoethyl methacrylate, 2- Dimethylaminoethyl acrylate, 2-dimethylaminoethyl methacrylate, 2-
Aminopropyl acrylate, 2-aminopropyl methacrylate, 2-dimethylaminopropyl acrylate, 2-dimethylaminopropyl methacrylate, 3-
Unsaturated carboxylic acid aminoalkyl esters such as aminopropyl acrylate, 3-aminopropyl methacrylate, 3-dimethylaminopropyl acrylate and 3-dimethylaminopropyl methacrylate, unsaturated carboxylic acid glycidyl esters such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate, acetic acid Carboxylic acid vinyl esters such as vinyl, vinyl propionate, vinyl butyrate and vinyl benzoate, unsaturated ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether and allyl glycidyl ether, acrylonitrile, methacrylonitrile, α-chloroacrylonitrile, cyan Vinyl cyanide compounds such as vinylidene chloride, acrylamide, methacrylamide, α-chloroacrylamide, N-2-hydroxyethyl acrylate Lamide, unsaturated amides such as N-2-hydroxyethylmethacrylamide, maleimide, N-phenylmaleimide, unsaturated imides such as N-cyclohexylmaleimide, and aliphatic conjugated dienes such as 1,3-butadiene, isoprene and chloroprene Class, polystyrene, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, poly-n-butyl acrylate, poly-n
Examples include macromonomers having a monoacryloyl group or a monomethacryloyl group at the terminal of the polymer molecular chain of -butyl methacrylate and polysiloxane. These monomers can be used alone or in admixture of two or more.

【００２１】かかる共重合体におけるカルボキシル基含
有モノマー単位の含有量は、質量分率で通常１０〜５０
％程度、好ましくは１５〜４０％程度である。かかるア
クリル系重合体としては、例えば（メタ）アクリル酸／
メチル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリ
ル酸／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、（メ
タ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリ
レート／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、（メ
タ）アクリル酸／メチル（メタ）アクリレート／ポリス
チレンマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／
メチル（メタ）アクリレート／ポリメチルメタクリレー
トマクロモノマー共重合体、（メタ）アクリル酸／ベン
ジル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマ
ー共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジル（メタ）ア
クリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー
共重合体、（メタ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート
／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、（メタ）アク
リル酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／
ベンジル（メタ）アクリレート／ポリメチルメタクリレ
ートマクロモノマー共重合体、メタクリル酸／スチレン
／ベンジル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイ
ミド共重合体、（メタ）アクリル酸／こはく酸モノ（２
−アクリロイロキシエチル）／スチレン／ベンジル（メ
タ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体、
（メタ）アクリル酸／こはく酸モノ（２−アクリロイロ
キシエチル）／スチレン／アリル（メタ）アクリレート
／Ｎ−フェニルマレイミド共重合体（メタ）アクリル酸
／ベンジル（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイ
ミド／スチレン／グリセロールモノ（メタ）アクリレー
ト共重合体などが挙げられる。なお、（メタ）アクリレ
ートとは、アクリレートまたはメタクリレートであるこ
とを示す。The content of the carboxyl group-containing monomer unit in such a copolymer is usually 10 to 50 in terms of mass fraction.
%, Preferably about 15-40%. Examples of such an acrylic polymer include (meth) acrylic acid /
Methyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate copolymer, (meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate copolymer, (meth ) Acrylic acid / methyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid /
Methyl (meth) acrylate / polymethylmethacrylate macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polymethylmethacrylate macro Monomer copolymer, (meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, (meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate /
Benzyl (meth) acrylate / polymethylmethacrylate macromonomer copolymer, methacrylic acid / styrene / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer, (meth) acrylic acid / succinic acid mono (2
-Acryloyloxyethyl) / styrene / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer,
(Meth) acrylic acid / mono (2-acryloyloxyethyl) succinate / styrene / allyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide / Examples thereof include styrene / glycerol mono (meth) acrylate copolymer. In addition, (meth) acrylate shows that it is an acrylate or a methacrylate.

【００２２】中でもベンジルメタクリレート／メタクリ
ル酸共重合体、ベンジルメタクリレート／メタクリル酸
／スチレン共重合体、メチルメタクリレート／メタクリ
ル酸共重合体、メチルメタクリレート／メタクリル酸／
スチレン共重合体などが好ましい。Among them, benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, benzyl methacrylate / methacrylic acid / styrene copolymer, methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, methyl methacrylate / methacrylic acid /
A styrene copolymer and the like are preferable.

【００２３】かかるアクリル系重合体は、そのポリスチ
レン換算重量平均分子量が３，０００〜４００，０００
の範囲であることが好ましく、より好ましくは５，００
０〜１００，０００の範囲である。また、酸価は３０〜
２５０が好ましく、より好ましくは６０〜１８０の範囲
である。ここで酸価はアクリル系重合体１ｇを中和する
に必要な水酸化カリウムの量（ｍｇ）として測定される
値であり、通常は水酸化カリウム水溶液を用いて滴定す
ることにより求めることができる。The acrylic polymer has a polystyrene-reduced weight average molecular weight of 3,000 to 400,000.
The range is preferably, and more preferably 5,000
It is in the range of 0 to 100,000. The acid value is 30 to
It is preferably 250, more preferably 60 to 180. Here, the acid value is a value measured as the amount (mg) of potassium hydroxide necessary to neutralize 1 g of the acrylic polymer, and can be usually obtained by titration with an aqueous potassium hydroxide solution. .

【００２４】かかるバインダー樹脂の中でも、式（Ｉ）
で示される化合物と多塩基酸との縮重合物が好ましく、
さらには式（Ｉ）におけるＸが式（Ｉ−１）で示される
２価の残基である化合物と多塩基酸との縮重合物が好ま
しい。Among such binder resins, among formula (I)
A polycondensation product of a compound represented by and a polybasic acid is preferable,
Furthermore, a polycondensation product of a compound in which X in the formula (I) is a divalent residue represented by the formula (I-1) and a polybasic acid is preferable.

【００２５】かかるバインダー樹脂は、黒色感光性樹脂
組成物の固形分に対して質量分率で通常５％以上９０％
以下、好ましくは１０％以上６０％以下の範囲で用いら
れる。The binder resin is usually 5% or more and 90% or less by mass fraction with respect to the solid content of the black photosensitive resin composition.
Below, it is preferably used in the range of 10% to 60%.

【００２６】（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有し付加重
合可能な化合物としては、例えば末端にエチレン性不飽
和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化
合物から選ばれ、モノマーであってもよいし、２量体、
３量体およびオリゴマーなどのプレポリマーであっても
よいし、それらの混合物やそれらの共重合体などであっ
てもよい。The compound (C) having an ethylenically unsaturated bond and capable of addition polymerization is, for example, selected from compounds having at least one, preferably two or more ethylenically unsaturated bonds at the terminal, and is a monomer. Good, dimer,
It may be a prepolymer such as a trimer or an oligomer, a mixture thereof or a copolymer thereof.

【００２７】モノマーとしては、例えばアクリル酸、メ
タクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン
酸、マレイン酸などの不飽和カルボン酸と脂肪族多価ア
ルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪
族多価アミン化合物とのアミドなどがあげられる。Examples of the monomer include esters of unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid and maleic acid with aliphatic polyhydric alcohol compounds, unsaturated carboxylic acids and aliphatic polycarboxylic acids. Examples thereof include amides with divalent amine compounds.

【００２８】不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール
化合物とのエステルとしては、例えばエチレングリコー
ルジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレ
ート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テトラ
メチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコ
ールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリ
レート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ト
リメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピ
ル）エ一テル、トリメチロールエタントリアクリレー
ト、へキサンジオールジアクリレート、１，４−シクロ
ヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリ
コールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリ
レート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリス
リトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソル
ビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアク
リレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ（ア
クリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリエス
テルアクリレートオリゴマーなどのアクリル酸エステ
ル、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリ
エチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグ
リコールジメタクリレート、トリメチロールプロパント
リメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリ
レート、エチレングリコールジメタクリレート、１，３
−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオール
ジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペン
タエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリ
スリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレー
ト、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−
（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）
フェニル〕ジメチルメタン、ビスー〔ｐ−（メタクリル
オキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタンなどのメタ
クリル酸エステル、エチレングリコールジイタコネー
ト、プロピレングリコールジイタコネート、１，３−ブ
タンジオールジイタコネート、１，４ーブタンジオール
ジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネ
ート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビト
ールテトライタコネートなどのイタコン酸エステル、エ
チレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリ
コールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロト
ネート、ソルビトールテトラジクロトネートのクロトン
酸エステル、エチレングリコールジイソクロトネート、
ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトー
ルテトライソクロトネートなどのイソクロトン酸エステ
ル、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリ
コールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、
ソルビトールテトラマレートなどのマレイン酸エステル
などが挙げられる。Examples of the ester of unsaturated carboxylic acid and aliphatic polyhydric alcohol compound include ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate. Acrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene Glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol te Laacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, acrylic ester such as polyester acrylate oligomer, tetra Methylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3
-Butanediol dimethacrylate, hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p-
(3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy)
Methacrylic acid esters such as phenyl] dimethylmethane, bis- [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethylmethane, ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4- Itaconic acid esters such as butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate, sorbitol tetriitaconate, ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, sorbitol tetra Crotonic acid ester of dicrotonate, ethylene glycol diisocrotonate,
Pentaerythritol diisocrotonate, isocrotonic acid ester such as sorbitol tetraisocrotonate, ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate,
Examples thereof include maleic acid esters such as sorbitol tetramaleate.

【００２９】不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合
物とのアミドとしては、例えばメチレンビス−アクリル
アミド、メチレンビス−メタクリルアミド、１，６−ヘ
キサメチレンビス−アクリルアミド、１，６−ヘキサメ
チレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミン
トリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミ
ド、キシリレンビスメタクリルアミドなどが挙げられ
る。Examples of amides of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyvalent amine compounds include methylenebis-acrylamide, methylenebis-methacrylamide, 1,6-hexamethylenebis-acrylamide, 1,6-hexamethylenebis-methacrylamide. , Diethylenetriamine trisacrylamide, xylylenebisacrylamide, xylylenebismethacrylamide and the like.

【００３０】モノマーの他の例としては、例えば１分子
に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネ
ート化合物に式（II）As another example of the monomer, for example, a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule is represented by the formula (II)

【化５】 〔式中、Ｒ21およびＲ22はそれぞれ独立に水素原子また
はメチル基を示す。〕で示されるビニルモノマーを付加
させて得られるビニルウレタン化合物などが挙げられ
る。かかるビニルウレタン化合物は、１分子中に２個以
上の重合性ビニル基を含有する化合物である（特公昭４
８−４１７０８号公報）。特開昭５１−３７１９３号に
記載されているようなウレタンアクリレート類、特開昭
４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公
昭５２−３０４９０号各公報に記載されているようなポ
リエステルアクリレート類等の多官能のアクリレートや
メタクリレートも挙げられる。日本接着協会誌Ｖｏｌ．
２０、Ｎo．７、３００〜３０８ページ（１９８４年）
に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されて
いるものも使用することができる。[Chemical 5] [In the formula, R 21 and R 22 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group. ] The vinyl urethane compound etc. which are obtained by adding the vinyl monomer shown by these are mentioned. Such a vinyl urethane compound is a compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule (Japanese Patent Publication No. 4).
8-41708). Urethane acrylates as described in JP-A-51-37193, polyester acrylates as described in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191 and JP-B-52-30490. Examples include polyfunctional acrylates and methacrylates such as the class. Japan Adhesive Association Magazine Vol.
20, No. 7, pages 300-308 (1984)
Those introduced as photo-curable monomers and oligomers can also be used.

【００３１】かかるエチレン性不飽和結合を有し付加重
合可能な化合物の使用量は、組成物の固形分に対して質
量分率で通常０．５％以上５０％以下、好ましくは１％
以上４０％以下であり、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を
有し付加重合可能な化合物に対する（Ｂ）バインダー樹
脂の含有量が１．５質量倍以上５質量倍以下となるよう
に選択される。バインダー樹脂の含有量が１．５質量倍
未満では形成されたブラックマトリックスが基板から剥
離しやすくなる傾向にあり、また５質量倍を超えると解
像度の点で不利である。The amount of the compound having an ethylenically unsaturated bond and capable of addition polymerization is usually 0.5% or more and 50% or less, preferably 1% by mass fraction with respect to the solid content of the composition.
The content is not less than 40% and not more than 40%, and the content of the binder resin (B) with respect to the addition-polymerizable compound (C) having an ethylenic unsaturated bond is selected to be not less than 1.5 times and not more than 5 times by mass. . When the content of the binder resin is less than 1.5 times by mass, the formed black matrix tends to peel off from the substrate, and when it exceeds 5 times by mass, it is disadvantageous in resolution.

【００３２】（Ｄ）光重合開始剤としては、エチレン性
不飽和結合を有し付加重合可能な化合物の重合を開始さ
せうる化合物であれば、特に限定されるものではなく、
アセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開
始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、チオキサントン
系光重合開始剤、トリアジン系光重合開始剤、オキサジ
アゾール系光重合開始剤などを用いることができる。The photopolymerization initiator (D) is not particularly limited as long as it is a compound having an ethylenically unsaturated bond and capable of initiating polymerization of a compound capable of addition polymerization.
An acetophenone photopolymerization initiator, a benzoin photopolymerization initiator, a benzophenone photopolymerization initiator, a thioxanthone photopolymerization initiator, a triazine photopolymerization initiator, an oxadiazole photopolymerization initiator, or the like can be used.

【００３３】アセトフェノン系光重合開始剤としては、
例えばジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２
−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジル
ジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−
〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン
−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケ
トン、２−メチル−（４−メチルチオフェニル）−２−
モルフォリノ−１−プロパン−１−オン、２−メチル−
２−モルホリノ−１−（４−メチルチオフェニル）プロ
パン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−
１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、２
−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビ
ニル）フェニル〕プロパン−１−オンのオリゴマーなど
が挙げられる。As the acetophenone photopolymerization initiator,
For example, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2
-Methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethylketal, 2-hydroxy-2-methyl-1-
[4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] propan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl- (4-methylthiophenyl) -2-
Morpholino-1-propan-1-one, 2-methyl-
2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-
1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2
Examples thereof include an oligomer of -hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propan-1-one.

【００３４】ベンゾイン系光重合開始剤としては、例え
ばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
エチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベ
ンゾインイソブチルエーテルなどが挙げられる。Examples of the benzoin-based photopolymerization initiator include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether and the like.

【００３５】ベンゾフェノン系光重合開始剤としては、
例えばベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチ
ル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−
４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，
４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニ
ル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフ
ェノンなどが挙げられる。As the benzophenone photopolymerization initiator,
For example, benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-
4'-methyldiphenyl sulfide, 3,3 ', 4
4′-Tetra (tert-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone and the like can be mentioned.

【００３６】チオキサントン系光重合開始剤としては、
例えば２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロ
ピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサント
ン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４
−プロポキシチオキサントンなどが挙げられる。As the thioxanthone photopolymerization initiator,
For example, 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4
-Propoxythioxanthone and the like.

【００３７】トリアジン系光重合開始剤としては、例え
ば２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−ｐ−メトキ
シスチリル−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロ
ロメチル）−６−（１−ｐ−ジメチルアミノフェニル−
１，３−ブタジエニル）−ｓ−トリアジン、２−トリク
ロロメチル−４−アミノ−６−ｐ−メトキシスチリル−
ｓ−トリアジン、２−（ナフト−１−イル）−４，６−
ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２−（４−
メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリク
ロロメチル−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシ−ナ
フト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−
ｓ−トリアジン、２−（４−ブトキシ−ナフト−１−イ
ル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジ
ン、２−〔４−（２−メトキシエチル）−ナフト−１−
イル〕−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリア
ジン、２−〔４−（２−エトキシエチル）−ナフト−１
−イル〕−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリ
アジン、２−〔４−（２−ブトキシエチル）−ナフト−
１−イル〕−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−ト
リアジン、２−（２−メトキシ−ナフト−１−イル）−
４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２
−（６−メトキシ−５−メチル−ナフト−２−イル）−
４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２
−（６−メトキシ−ナフト−２−イル）−４，６−ビス
−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２−（５−メト
キシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロ
メチル−ｓ−トリアジン、２−（４，７−ジメトキシ−
ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル
−ｓ−トリアジン、２−（６−エトキシ−ナフト−２−
イル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリア
ジン、２−（４，５−ジメトキシ−ナフト−１−イル）
−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−トリアジン、
４−〔ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）ア
ミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ
−トリアジン、４−〔ｏ−メチル−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エ
トキシカルボニルメチル）アミノフェニル〕−２，６−
ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｐ−
Ｎ，Ｎ−ジ（クロロエチル）アミノフェニル〕−２，６
−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｏ
−メチル−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（クロロエチル）アミノフェ
ニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、４−（ｐ−Ｎ−クロロエチルアミノフェニル）−
２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４
−（ｐ−Ｎ−エトキシカルボニルメチルアミノフェニ
ル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジ
ン、４−〔ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（フェニル）アミノフェニ
ル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジ
ン、４−（ｐ−Ｎ−クロロエチルカルボニルアミノフェ
ニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、４−〔ｐ−Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）カルボ
ニルアミノフェニル〕２，６−ジ（トリクロロメチル）
−ｓ−トリアジン、４−〔ｍ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカ
ルボニルメチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリ
クロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｍ−ブロモ−
ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノフ
ェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリ
アジン、４−〔ｍ−クロロ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシ
カルボニルメチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（ト
リクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｍ−フロロ
−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）アミノ
フェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−ト
リアジン、４−〔ｏ−ブロモ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキ
シカルボニルメチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｏ−ク
ロロ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）ア
ミノフェニル−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−
トリアジン、４−〔ｏ−フロロ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エト
キシカルボニルメチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｏ−ブ
ロモ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（クロロエチル）アミノフェニ
ル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジ
ン、４−〔ｏ−クロロ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（クロロエチ
ル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｏ−フロロ−ｐ−Ｎ，Ｎ
−ジ（クロロエチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｍ−ブ
ロモ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（クロロエチル）アミノフェニ
ル〕−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジ
ン、４−〔ｍ−クロロ−ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（クロロエチ
ル）アミノフェニル〕−２，６−ジ（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、４−〔ｍ−フロロ−ｐ−Ｎ，Ｎ
−ジ（クロロエチル）アミノフェニル〕−２，６−ジ
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｍ−ブ
ロモ−ｐ−Ｎ−エトキシカルボニルメチルアミノフェニ
ル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジ
ン、４−（ｍ−クロロ−ｐ−Ｎ−エトキシカルボニルメ
チルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、４−（ｍ−フロロ−ｐ−Ｎ−エ
トキシカルボニルメチルアミノフェニル）−２，６−ジ
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｏ−ブ
ロモ−ｐ−Ｎ−エトキシカルボニルメチルアミノフェニ
ル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジ
ン、４−（ｏ−クロロ−ｐ−Ｎ−エトキシカルボニルメ
チルアミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、４−（ｏ−フロロ−ｐ−Ｎ−エ
トキシカルボニルメチルアミノフェニル）−２，６−ジ
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｍ−ブ
ロモ−ｐ−Ｎ−クロロエチルアミノフェニル）−２，６
−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−（ｍ
−クロロ−ｐ−Ｎ−クロロエチルアミノフェニル）−
２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４
−（ｍ−フロロ−ｐ−Ｎ−クロロエチルアミノフェニ
ル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジ
ン、４−（ｏ−ブロモ−ｐ−Ｎ−クロロエチルアミノフ
ェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリ
アジン、４−（ｏ−クロロ−ｐ−Ｎ−クロロエチルアミ
ノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−
トリアジン、４−（ｏ−フロロ−ｐ−Ｎ−クロロエチル
アミノフェニル）−２，６−ジ（トリクロロメチル）−
ｓ−トリアジンなどが挙げられる。Examples of the triazine-based photopolymerization initiator include 2,4-bis (trichloromethyl) -6-p-methoxystyryl-s-triazine and 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (1-p -Dimethylaminophenyl-
1,3-Butadienyl) -s-triazine, 2-trichloromethyl-4-amino-6-p-methoxystyryl-
s-triazine, 2- (naphth-1-yl) -4,6-
Bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (4-
Methoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (4-ethoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-
s-Triazine, 2- (4-butoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- [4- (2-methoxyethyl) -naphth-1-
Il] -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- [4- (2-ethoxyethyl) -naphtho-1
-Yl] -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- [4- (2-butoxyethyl) -naphtho-
1-yl] -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (2-methoxy-naphth-1-yl)-
4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2
-(6-Methoxy-5-methyl-naphth-2-yl)-
4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2
-(6-Methoxy-naphth-2-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (5-methoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s -Triazine, 2- (4,7-dimethoxy-
Naphtho-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (6-ethoxy-naphth-2-
Yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (4,5-dimethoxy-naphth-1-yl)
-4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine,
4- [p-N, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s
-Triazine, 4- [o-methyl-p-N, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-
Di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [p-
N, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6
-Di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o
-Methyl-p-N, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (p-N-chloroethylaminophenyl)-
2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4
-(P-N-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [p-N, N-di (phenyl) aminophenyl] -2,6-di ( Trichloromethyl) -s-triazine, 4- (p-N-chloroethylcarbonylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [p-N- (p-methoxyphenyl) carbonyl Aminophenyl] 2,6-di (trichloromethyl)
-S-triazine, 4- [m-N, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-bromo-
p-N, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-chloro-pN, N-di (ethoxycarbonylmethyl) amino Phenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-fluoro-p-N, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl)- s-triazine, 4- [o-bromo-p-N, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-chloro-p- N, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl-2,6-di (trichloromethyl) -s-
Triazine, 4- [o-fluoro-p-N, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-bromo-p-N, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-chloro-p-N, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (Trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-fluoro-p-N, N
-Di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-bromo-p-N, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di ( Trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-chloro-p-N, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-fluoro- p-N, N
-Di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m-bromo-p-N-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -S-triazine, 4- (m-chloro-p-N-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m-fluoro-p-N-ethoxycarbonyl) Methylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-bromo-p-N-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine 4- (o-chloro-p-N-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, -(O-fluoro-p-N-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m-bromo-p-N-chloroethylaminophenyl) -2, 6
-Di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m
-Chloro-p-N-chloroethylaminophenyl)-
2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4
-(M-Fluoro-p-N-chloroethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-bromo-p-N-chloroethylaminophenyl) -2,6 -Di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-chloro-p-N-chloroethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-
Triazine, 4- (o-fluoro-p-N-chloroethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl)-
Examples thereof include s-triazine.

【００３８】オキサジアゾール系光重合開始剤として
は、例えば２−トリクロロメチル−５−スチリル−１，
３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５
−（ｐ−シアノスチリル）−１，３，４−オキサジアゾ
ール、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−メトキシスチ
リル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロ
ロメチル−５−（ｐ−ブトキシスチリル）−１，３，４
−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（ｐ
−ヒドロキシスチリル）−１，３，４−オキサジアゾー
ル、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−クロロスチリ
ル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロ
メチル−５−（ｐ−メトキシフェニル）−１，３，４−
オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−
ブトキシフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、
２−トリクロロメチル−５−（２−ナフチル）−１，
３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５
−（β−（２−ベンゾフリル）ビニル）−１，３，４−
オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（β−
（６−メトキシ−２−ベンゾフリル）ビニル）−１，
３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５
−（２−ベンゾフリル）−１，３，４−オキサジアゾー
ルなどが挙げられる。Examples of the oxadiazole photopolymerization initiator include 2-trichloromethyl-5-styryl-1,
3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5
-(P-Cyanostyryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (p-methoxystyryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- ( p-butoxystyryl) -1,3,4
-Oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (p
-Hydroxystyryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (p-chlorostyryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (p-methoxy) Phenyl) -1,3,4-
Oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (p-
Butoxyphenyl) -1,3,4-oxadiazole,
2-trichloromethyl-5- (2-naphthyl) -1,
3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5
-(Β- (2-benzofuryl) vinyl) -1,3,4-
Oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (β-
(6-Methoxy-2-benzofuryl) vinyl) -1,
3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5
Examples include-(2-benzofuryl) -1,3,4-oxadiazole and the like.

【００３９】また、光重合開始剤として、例えば２，
４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオ
キサイド、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−
４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイ
ミダゾール、１０−ブチル−２−クロロアクリドン、２
−エチルアントラキノン、ベンジル、９，１０−フェナ
ンスレンキノン、カンファーキノン、フェニルグリオキ
シル酸メチル、チタノセン化合物などを用いることもで
きる。As the photopolymerization initiator, for example, 2,
4,6-Trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,2'-bis (o-chlorophenyl)-
4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 10-butyl-2-chloroacridone, 2
-Ethylanthraquinone, benzyl, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, methyl phenylglyoxylate, titanocene compounds and the like can also be used.

【００４０】かかる光重合開始剤の中でも、トリクロロ
メチル基などのトリハロメチル基を有する化合物、例え
ばトリハロメチルトリアジン系化合物、トリハロメチル
オキサジアゾール系化合物などが好ましく用いられる。Among such photopolymerization initiators, compounds having a trihalomethyl group such as trichloromethyl group, for example, trihalomethyltriazine compounds and trihalomethyloxadiazole compounds are preferably used.

【００４１】トリハロメチルトリアジン系化合物として
は、例えば２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−
（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、
２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキ
シナフチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス
（トリクロロメチル）−６−ピペロニル−１，３，５−
トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−
（４−メトキシスチリル）−１，３，５−トリアジン、
２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（５−
メチルフラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−ト
リアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−
〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−
トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−
〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エ
テニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（ト
リクロロメチル）−６−〔２−（３，４−ジメトキシフ
ェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジンなどが挙
げられる。Examples of trihalomethyltriazine compounds include 2,4-bis (trichloromethyl) -6-
(4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine,
2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-
Triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-
(4-methoxystyryl) -1,3,5-triazine,
2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-
Methylfuran-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-
[2- (furan-2-yl) ethenyl] -1,3,5-
Triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-
[2- (4-Diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl]- 1,3,5-triazine and the like can be mentioned.

【００４２】トリハロメチルオキサジアゾール系化合物
としては、例えば２−トリクロロメチル−５−スチリル
−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチ
ル−５−（ｐ−シアノスチリル）−１，３，４−オキサ
ジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−メトキ
シスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−ト
リクロロメチル−５−（ｐ−ブトキシスチリル）−１，
３，４−オキサジアゾール、、２−トリクロロメチル−
５−（β−（２−ベンゾフリル）ビニル）−１，３，４
−オキサジアゾールなどが挙げられる。Examples of the trihalomethyloxadiazole compound include 2-trichloromethyl-5-styryl-1,3,4-oxadiazole and 2-trichloromethyl-5- (p-cyanostyryl) -1,3. , 4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (p-methoxystyryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (p-butoxystyryl) -1,
3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-
5- (β- (2-benzofuryl) vinyl) -1,3,4
-Oxadiazole and the like.

【００４３】かかる光重合開始剤は、それぞれ単独でま
たは２種以上組み合わせて使用することができる。These photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more kinds.

【００４４】本発明の黒色感光性樹脂組成物は、光重合
開始助剤を含有していてもよい。光重合開始助剤として
は、例えばトリエタノールアミン、メチルジエタノール
アミン、トリイソプロパノールアミン、４−ジメチルア
ミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチ
ル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメ
チルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、安息香酸２−
ジメチルアミノエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルパラトルイジ
ン、４，４′−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン
（通称ミヒラーズケトン）、４，４′−ビス（ジエチル
アミノ）ベンゾフェノン、９，１０−ジメトキシアント
ラセン、２−エチル−９，１０−ジメトキシアントラセ
ン、９，１０−ジエトキシアントラセン、２−エチル−
９，１０−ジエトキシアントラセンなどが挙げられる。
これら光重合開始助剤はそれぞれ単独でまたは２種以上
組み合わせて用いることができる。The black photosensitive resin composition of the present invention may contain a photopolymerization initiation aid. Examples of the photopolymerization initiation aid include triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, and 4-dimethylaminobenzoic acid. 2-ethylhexyl, benzoic acid 2-
Dimethylaminoethyl, N, N-dimethylparatoluidine, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone (commonly called Michler's ketone), 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl- 9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-
Examples thereof include 9,10-diethoxyanthracene.
These photopolymerization initiation assistants can be used alone or in combination of two or more kinds.

【００４５】かかる光重合開始助剤を用いる場合、その
使用量は光重合開始剤１モルに対して通常は０．０１モ
ル以上１０モル以下である。光重合開始剤および光重合
開始助剤の合計使用量は、黒色感光性樹脂組成物の固形
分に対して質量分率で通常１％以上５０％以下、好まし
くは３％以上３０％以下であり、光重合開始助剤を含有
しない場合には、光重合開始剤の含有量が黒色感光性樹
脂組成物の固形分に対して質量分率で通常１％以上５０
％以下、好ましくは３％以上３０％以下となる。When such a photopolymerization initiator auxiliary agent is used, the amount thereof used is usually 0.01 mol or more and 10 mol or less with respect to 1 mol of the photopolymerization initiator. The total amount of the photopolymerization initiator and the photopolymerization initiation assistant used is usually 1% or more and 50% or less, preferably 3% or more and 30% or less in terms of mass fraction with respect to the solid content of the black photosensitive resin composition. When the photopolymerization initiation aid is not contained, the content of the photopolymerization initiator is usually 1% or more by mass 50 with respect to the solid content of the black photosensitive resin composition.
% Or less, preferably 3% or more and 30% or less.

【００４６】本発明の黒色感光性樹脂組成物は、熱重合
防止剤、充填剤、バインダー樹脂以外の高分子化合物、
界面活性剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、
凝集防止剤などの添加剤を含有していてもよい。The black photosensitive resin composition of the present invention comprises a polymer compound other than a thermal polymerization inhibitor, a filler and a binder resin,
Surfactant, adhesion promoter, antioxidant, ultraviolet absorber,
You may contain additives, such as an aggregation prevention agent.

【００４７】熱重合防止剤は、例えば黒色感光性樹脂組
成物の保存中に（Ｃ）１個以上のエチレン性不飽和結合
を有し付加重合可能な化合物が熱重合を開始してしまう
ことを防止するために含有される。かかる熱重合防止剤
としては、例えばハロイドキノン、ｐ−メトキシフェノ
ール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロー
ル、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４′−
チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、
２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシアミン
第一セリウム塩等が挙げられる。熱重合防止剤を含有す
る場合、その含有量は、着色感光性樹脂組成物の全量に
対して質量分率で通常０．０１％以上５％以下程度であ
る。The thermal polymerization inhibitor is, for example, (C) a compound which has one or more ethylenically unsaturated bonds and is capable of addition polymerization during the storage of the black photosensitive resin composition, may initiate thermal polymerization. Included to prevent. Examples of the thermal polymerization inhibitor include haloid quinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-.
Thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol),
2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxyamine primary cerium salt and the like can be mentioned. When the thermal polymerization inhibitor is contained, its content is usually 0.01% or more and 5% or less by mass fraction with respect to the total amount of the colored photosensitive resin composition.

【００４８】充填剤としては、例えばガラス、アルミナ
などが挙げられる。バインダー樹脂以外の高分子化合物
としては、例えばポリビニルアルコール、ポリアクリル
酸、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポ
リフロロアルキルアクリレートなどが挙げられる。Examples of the filler include glass and alumina. Examples of the polymer compound other than the binder resin include polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, and polyfluoroalkyl acrylate.

【００４９】界面活性剤は、ノニオン系界面活性剤、カ
チオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤のいずれで
あってもよい。密着促進剤としては、例えばビニルトリ
メトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルト
リス（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミ
ノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラ
ン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルト
リメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２
−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメト
キシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラ
ン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプ
トプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。The surface active agent may be any of nonionic surface active agents, cationic surface active agents and anionic surface active agents. Examples of the adhesion promoter include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, and N- (2-aminoethyl). ) -3-Aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane,
3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2
-(3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane and the like can be mentioned. .

【００５０】酸化防止剤としては、例えば２，２−チオ
ビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，
６−ジ−ｔ−ブチルフェノールなどが挙げられる。紫外
線吸収剤としては、例えば２−（３−ｔ−ブチル−５−
メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾ
トリアゾール、アルコキシベンゾフェノンなどが挙げら
れる。凝集防止剤としては、例えばポリアクリル酸ナト
リウムなどが挙げられる。Examples of the antioxidant include 2,2-thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2,2
6-di-t-butylphenol and the like can be mentioned. Examples of the ultraviolet absorber include 2- (3-t-butyl-5-
Examples include methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole and alkoxybenzophenone. Examples of the aggregation preventing agent include sodium polyacrylate.

【００５１】着色感光性樹脂組成物は、有機カルボン
酸、有機アミノ化合物などを含有していてもよい。The colored photosensitive resin composition may contain an organic carboxylic acid, an organic amino compound or the like.

【００５２】有機カルボン酸としては、例えばギ酸、酢
酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、カプロン
酸、ジエチル酢酸、エナント酸、カプリル酸などの脂肪
族モノカルボン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グ
ルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼ
ライン酸、セバシン酸、ブラシル酸、メチルマロン酸、
エチルマロン酸、ジメチルマロン酸、メチルコハク酸、
テトラメチルコハク酸、シトラコン酸などの脂肪族ジカ
ルボン酸、トリカルバリル酸、アコニット酸、カンホロ
ン酸などの脂肪族トリカルボン酸、安息香酸、トルイル
酸、クミン酸、ヘメリト酸、メシチレン酸などの芳香族
モノカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル
酸、トリメリト酸、トリメシン酸、メロファン酸、ピロ
メリト酸などの芳香族ポリカルボン酸、フェニル酢酸、
ヒドロアトロパ酸、ヒドロケイ皮酸、マンデル酸、フェ
ニルコハク酸、アトロパ酸、ケイ皮酸、ケイ皮酸メチ
ル、ケイ皮酸ベンジル、シンナミリデン酢酸、クマル
酸、ウンベル酸などの分子量１０００以下の低分子量有
機カルボン酸などが挙げられる。Examples of the organic carboxylic acid include formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, pivalic acid, caproic acid, diethyl acetic acid, enanthic acid, caprylic acid, and other aliphatic monocarboxylic acids, oxalic acid, malonic acid, Succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, brassic acid, methylmalonic acid,
Ethylmalonic acid, dimethylmalonic acid, methylsuccinic acid,
Aliphatic dicarboxylic acids such as tetramethylsuccinic acid and citraconic acid, aliphatic tricarboxylic acids such as tricarballylic acid, aconitic acid and camphoronic acid, aromatic monocarboxylic acids such as benzoic acid, toluic acid, cumic acid, hemeritic acid and mesitylene acid. Aromatic polycarboxylic acids such as acids, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, trimesic acid, melophanoic acid, pyromellitic acid, phenylacetic acid,
Low molecular weight organic carboxylic acids with a molecular weight of 1000 or less, such as hydroatropic acid, hydrocinnamic acid, mandelic acid, phenylsuccinic acid, atropic acid, cinnamic acid, methyl cinnamate, benzyl cinnamate, cinnamylidene acetic acid, coumaric acid, and umbellic acid. And so on.

【００５３】有機アミノ化合物としては通常、分子量１
０００以下の低分子量有機アミノ化合物が用いられ、例
えばｎ−プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブ
チルアミン、イソブチルアミン、ｔ−ブチルアミン、ｎ
−ペンチルアミン、ｎ−ヘキシルアミン、ｎ−ヘプチル
アミン、ｎ−オクチルアミン、ｎ−ノニルアミン、ｎ−
デシルアミン、ｎ−ウンデシルアミン、ｎ−ドデシルア
ミン、シクロヘキシルアミン、ｏ−メチルシクロヘキシ
ルアミン、ｍ−メチルシクロヘキシルアミン、ｐ−メチ
ルシクロヘキシルアミン、ｏ−エチルシクロヘキシルア
ミン、ｍ−エチルシクロヘキシルアミン、ｐ−エチルシ
クロヘキシルアミンなどのモノ（シクロ）アルキルアミ
ン類、メチル・エチルアミン、ジエチルアミン、メチル
・ｎ−プロピルアミン、エチル・ｎ−プロピルアミン、
ジ−ｎ−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジ−
ｎ−ブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジ−ｔ−ブチ
ルアミン、ジ−ｎ−ペンチルアミン、ジ−ｎ−ヘキシル
アミン、メチル・シクロヘキシルアミン、エチル・シク
ロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミンなどのジ
（シクロ）アルキルアミン類、ジメチル・エチルアミ
ン、メチル・ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジメ
チル・ｎ−プロピルアミン、ジエチル・ｎ−プロピルア
ミン、メチル・ジ−ｎ−プロピルアミン、エチル・ジ−
ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ
イソプロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリイ
ソブチルアミン、トリ−ｔ−ブチルアミン、トリ−ｎ−
ペンチルアミン、トリ−ｎ−ヘキシルアミン、ジメチル
・シクロヘキシルアミン、ジエチル・シクロヘキシルア
ミン、メチル・ジシクロヘキシルアミン、エチル・ジシ
クロヘキシルアミン、トリシクロヘキシルアミンなどの
トリ（シクロ）アルキルアミン類、２−アミノエタノー
ル、３−アミノ−１−プロパノール、１−アミノ−２−
プロパノール、４−アミノ−１−ブタノール、５−アミ
ノ−１−ペンタノール、６−アミノ−１−ヘキサノー
ル、４−アミノ−１−シクロヘキサノールなどのモノ
（シクロ）アルカノールアミン類、ジエタノールアミ
ン、ジ−ｎ−プロパノールアミン、ジイソプロパノール
アミン、ジ−ｎ−ブタノールアミン、ジイソブタノール
アミン、ジ−ｎ−ペンタノールアミン、ジ−ｎ−ヘキサ
ノールアミン、ジ（４−シクロヘキサノール）アミンな
どのジ（シクロ）アルカノールアミン類、トリエタノー
ルアミン、トリ−ｎ−プロパノールアミン、トリイソプ
ロパノールアミン、トリ−ｎ−ブタノールアミン、トリ
イソブタノールアミン、トリ−ｎ−ペンタノールアミ
ン、トリ−ｎ−ヘキサノールアミン、トリ（４−シクロ
ヘキサノール）アミンなどのトリ（シクロ）アルカノー
ルアミン、３−アミノ−１，２−プロパンジオール、２
−アミノ−１，３−プロパンジオール、４−アミノ−
１，２−ブタンジオール、４−アミノ−１，３−ブタン
ジオール、４−アミノ−１，２−シクロヘキサンジオー
ル、４−アミノ−１，３−シクロヘキサンジオール、３
−ジメチルアミノ−１，２−プロパンジオール、３−ジ
エチルアミノ−１，２−プロパンジオール、２−ジメチ
ルアミノ−１，３−プロパンジオール、２−ジエチルア
ミノ−１，３−プロパンジオールなどのアミノ（シク
ロ）アルカンジオール類、１−アミノシクロペンタンメ
タノール、４−アミノシクロペンタンメタノール、１−
アミノシクロヘキサンメタノール、４−アミノシクロヘ
キサンメタノール、４−ジメチルアミノシクロペンタン
メタノール、４−ジエチルアミノシクロペンタンメタノ
ール、４−ジメチルアミノシクロヘキサンメタノール、
４−ジエチルアミノシクロヘキサンメタノールなどのア
ミノ基含有シクロアルカンメタノール類、β−アラニ
ン、２−アミノ酪酸、３−アミノ酪酸、４−アミノ酪
酸、２−アミノイソ酪酸、３−アミノイソ酪酸、２−ア
ミノ吉草酸、５−アミノ吉草酸、６―アミノカプロン
酸、１―アミノシクロプロパンカルボン酸、１―アミノ
シクロヘキサンカルボン酸、４―アミノシクロヘキサン
カルボン酸などのアミノカルボン酸類などが挙げられ
る。The organic amino compound usually has a molecular weight of 1
000 or less low molecular weight organic amino compounds are used, for example, n-propylamine, isopropylamine, n-butylamine, isobutylamine, t-butylamine, n.
-Pentylamine, n-hexylamine, n-heptylamine, n-octylamine, n-nonylamine, n-
Decylamine, n-undecylamine, n-dodecylamine, cyclohexylamine, o-methylcyclohexylamine, m-methylcyclohexylamine, p-methylcyclohexylamine, o-ethylcyclohexylamine, m-ethylcyclohexylamine, p-ethylcyclohexyl Mono (cyclo) alkylamines such as amines, methyl / ethylamine, diethylamine, methyl / n-propylamine, ethyl / n-propylamine,
Di-n-propylamine, diisopropylamine, di-
Di (cyclo) alkylamines such as n-butylamine, diisobutylamine, di-t-butylamine, di-n-pentylamine, di-n-hexylamine, methyl cyclohexylamine, ethyl cyclohexylamine and dicyclohexylamine, dimethyl -Ethylamine, methyl diethylamine, triethylamine, dimethyl n-propylamine, diethyl n-propylamine, methyl di-n-propylamine, ethyl di-
n-propylamine, tri-n-propylamine, triisopropylamine, tri-n-butylamine, triisobutylamine, tri-t-butylamine, tri-n-
Tri (cyclo) alkylamines such as pentylamine, tri-n-hexylamine, dimethyl cyclohexylamine, diethyl cyclohexylamine, methyl dicyclohexylamine, ethyl dicyclohexylamine, tricyclohexylamine, 2-aminoethanol, 3- Amino-1-propanol, 1-amino-2-
Mono (cyclo) alkanolamines such as propanol, 4-amino-1-butanol, 5-amino-1-pentanol, 6-amino-1-hexanol, 4-amino-1-cyclohexanol, diethanolamine, di-n -Di (cyclo) alkanolamines such as propanolamine, diisopropanolamine, di-n-butanolamine, diisobutanolamine, di-n-pentanolamine, di-n-hexanolamine, di (4-cyclohexanol) amine , Triethanolamine, tri-n-propanolamine, triisopropanolamine, tri-n-butanolamine, triisobutanolamine, tri-n-pentanolamine, tri-n-hexanolamine, tri (4-cyclohexanol) ) Amine etc. Tri (cyclo) alkanolamines, 3-amino-1,2-propanediol, 2
-Amino-1,3-propanediol, 4-amino-
1,2-butanediol, 4-amino-1,3-butanediol, 4-amino-1,2-cyclohexanediol, 4-amino-1,3-cyclohexanediol, 3
-Amino (cyclo) such as dimethylamino-1,2-propanediol, 3-diethylamino-1,2-propanediol, 2-dimethylamino-1,3-propanediol, 2-diethylamino-1,3-propanediol Alkanediols, 1-aminocyclopentanemethanol, 4-aminocyclopentanemethanol, 1-
Aminocyclohexanemethanol, 4-aminocyclohexanemethanol, 4-dimethylaminocyclopentanemethanol, 4-diethylaminocyclopentanemethanol, 4-dimethylaminocyclohexanemethanol,
Amino group-containing cycloalkanemethanols such as 4-diethylaminocyclohexanemethanol, β-alanine, 2-aminobutyric acid, 3-aminobutyric acid, 4-aminobutyric acid, 2-aminoisobutyric acid, 3-aminoisobutyric acid, 2-aminovaleric acid, Examples thereof include aminocarboxylic acids such as 5-aminovaleric acid, 6-aminocaproic acid, 1-aminocyclopropanecarboxylic acid, 1-aminocyclohexanecarboxylic acid and 4-aminocyclohexanecarboxylic acid.

【００５４】また、例えば、アミノ基が直接フェニル基
に結合した化合物、アミノ基が炭素鎖を介してフェニル
基に結合した化合物なども挙げられる。アミノ基が直接
フェニル基に結合した化合物としては、例えばアニリ
ン、ｏ−メチルアニリン、ｍ−メチルアニリン、ｐ−メ
チルアニリン、ｐ−エチルアニリン、ｐ−ｎ−プロピル
アニリン、ｐ−イソプロピルアニリン、ｐ−ｎ−ブチル
アニリン、ｐ−ｔ−ブチルアニリン、１−ナフチルアミ
ン、２−ナフチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、
Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、ｐ−メチル−Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアニリンなどの芳香族アミン類、ｏ−アミノベンジ
ルアルコール、ｍ−アミノベンジルアルコール、ｐ−ア
ミノベンジルアルコール、ｐ−ジメチルアミノベンジル
アルコール、ｐ−ジエチルアミノベンジルアルコールな
どのアミノベンジルアルコール類、ｏ−アミノフェノー
ル、ｍ−アミノフェノール、ｐ−アミノフェノール、ｐ
−ジメチルアミノフェノール、ｐ−ジエチルアミノフェ
ノールなどのアミノフェノール類、ｍ−アミノ安息香
酸、ｐ−アミノ安息香酸、ｐ−ジメチルアミノ安息香
酸、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸などのアミノ安息香酸
（誘導体）類などが挙げられる。かかる有機カルボン
酸、有機アミノ化合物は、それぞれ単独でまたは２種以
上を混合して使用される。かかる有機カルボン酸、有機
アミノ化合物を用いる場合、着色感光性樹脂組成物にお
けるその含有量は通常、着色感光性樹脂組成物に対して
質量分率で通常０．００１％以上１５％以下、好ましく
は０．０１％以上１０％以下である。Further, for example, a compound in which an amino group is directly bonded to a phenyl group, a compound in which an amino group is bonded to a phenyl group through a carbon chain, and the like can be mentioned. Examples of the compound having an amino group directly bonded to a phenyl group include aniline, o-methylaniline, m-methylaniline, p-methylaniline, p-ethylaniline, pn-propylaniline, p-isopropylaniline, p- n-butylaniline, pt-butylaniline, 1-naphthylamine, 2-naphthylamine, N, N-dimethylaniline,
Aromatic amines such as N, N-diethylaniline, p-methyl-N, N-dimethylaniline, o-aminobenzyl alcohol, m-aminobenzyl alcohol, p-aminobenzyl alcohol, p-dimethylaminobenzyl alcohol, p -Aminobenzyl alcohols such as diethylaminobenzyl alcohol, o-aminophenol, m-aminophenol, p-aminophenol, p
-Aminophenols such as dimethylaminophenol and p-diethylaminophenol, aminobenzoic acid (derivatives) such as m-aminobenzoic acid, p-aminobenzoic acid, p-dimethylaminobenzoic acid and p-diethylaminobenzoic acid Can be mentioned. These organic carboxylic acids and organic amino compounds may be used alone or in admixture of two or more. When such an organic carboxylic acid or an organic amino compound is used, its content in the colored photosensitive resin composition is usually 0.001% or more and 15% or less by mass fraction with respect to the colored photosensitive resin composition, preferably It is 0.01% or more and 10% or less.

【００５５】本発明の黒色感光性樹脂組成物は通常、
（Ｅ）溶剤で希釈された状態で製造され、保存される。
溶剤としては、例えばエステル類、エーテル類、ケトン
類、芳香族炭化水素類などが挙げられる。The black photosensitive resin composition of the present invention is usually
(E) It is manufactured and stored in a state of being diluted with a solvent.
Examples of the solvent include esters, ethers, ketones, aromatic hydrocarbons and the like.

【００５６】エステル類としては、例えば酢酸エチル、
酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸
イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪
酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、アルキルエ
ステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチ
ル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢
酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、
エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−オキシ
プロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチルな
どの３−オキシプロピオン酸アルキルエステル類、３−
メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン
酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エト
キシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸メチ
ル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピ
オン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２
−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオ
ン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−
エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチル
プロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオ
ン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メ
チル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、
ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロ
ピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキ
ソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチルなどが挙
げられる。エーテル類としては、例えばジエチレングリ
コールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール
モノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エ
チルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロ
ピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレ
ングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレング
リコールプロピルエーテルアセテートなどが挙げられ
る。Examples of the esters include ethyl acetate,
-N-Butyl acetate, isobutyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, isobutyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, alkyl esters, methyl lactate, ethyl lactate, methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate, oxy Butyl acetate, Methyl methoxyacetate, Ethyl methoxyacetate, Butyl methoxyacetate,
3-Oxypropionic acid alkyl esters such as methyl ethoxyacetate, ethyl ethoxyacetate, methyl 3-oxypropionate and ethyl 3-oxypropionate, 3-
Methyl methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 2-oxypropionate, ethyl 2-oxypropionate, propyl 2-oxypropionate, 2-methoxy Methyl propionate, 2
-Ethyl methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionate, methyl 2-ethoxypropionate, 2-
Ethyl ethoxypropionate, methyl 2-oxy-2-methylpropionate, ethyl 2-oxy-2-methylpropionate, methyl 2-methoxy-2-methylpropionate, ethyl 2-ethoxy-2-methylpropionate,
Methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, methyl 2-oxobutanoate, ethyl 2-oxobutanoate and the like can be mentioned. Examples of ethers include diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol methyl ether acetate, propylene. Examples thereof include glycol ethyl ether acetate and propylene glycol propyl ether acetate.

【００５７】ケトン類としては、例えばメチルエチルケ
トン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタ
ノンなどが挙げられる。芳香族炭化水素類としては、例
えばトルエン、キシレンなどが挙げられる。Examples of the ketones include methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone and the like. Examples of aromatic hydrocarbons include toluene and xylene.

【００５８】かかる溶剤の中でも、３−エトキシプロピ
オン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エチ
ルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリ
コールジメテルエーテル、酢酸ブチル、３−メトキシプ
ロピオン酸メチル、２−ヘプタノン、シクロヘキサノ
ン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトー
ルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルア
セテートなどが好ましく用いられる。Among such solvents, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimeter ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2-heptanone, cyclohexanone, Ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol methyl ether acetate and the like are preferably used.

【００５９】かかる溶剤は、それぞれ単独でまたは２種
以上を混合して用いられ、その使用量は、黒色感光性樹
脂組成物における固形分の濃度が質量分率で通常２％以
上５０％以下の範囲となるように選択される。These solvents may be used alone or in admixture of two or more, and the amount of the solvent used is such that the solid content concentration in the black photosensitive resin composition is usually 2% or more and 50% or less by mass fraction. Selected to be a range.

【００６０】本発明の黒色感光性樹脂組成物は、ブラッ
クマトリックス形成用の黒色感光性樹脂組成物として有
用である。かかる黒色感光性樹脂組成物を用いてブラッ
クマトリックス(２ＢＭ)を形成するには、例えば本発明
の黒色感光性樹脂組成物からなる層(３)を基板(４)の上
に形成し（図２(a)）、該層(３)を露光したのち（図２
(b)）、現像すればよい（図２(c)）。The black photosensitive resin composition of the present invention is useful as a black photosensitive resin composition for forming a black matrix. To form a black matrix (2BM) using such a black photosensitive resin composition, for example, a layer (3) made of the black photosensitive resin composition of the present invention is formed on a substrate (4) (see FIG. 2). (a)), after exposing the layer (3) (Fig. 2)
(b)), development may be performed (FIG. 2 (c)).

【００６１】黒色感光性樹脂組成物からなる層(３)を基
板(４)の上に形成するには、例えば回転塗布法（スピン
コート法）、流延塗布法、ロール塗布法などの通常の塗
布方法で、溶剤で希釈された状態の黒色感光性樹脂組成
物を基板上に塗布すればよい。基板(４)としては、例え
ばガラス基板、シリコン基板などのほか、ポリカーボネ
ート基板、ポリエステル基板、芳香族ポリアミド基板、
ポリアミドイミド基板、ポリイミド基板などの樹脂基板
を用いることができる。かかる基板は、シランカップリ
ング剤などの薬品による薬品処理、プラズマ処理、イオ
ンプレーティング処理、スパッタリング処理、気相反応
処理、真空蒸着処理などの前処理が施されていてもよ
い。また、基板には液晶表示装置の電極、ＴＦＴなどが
形成されていてもよい。黒色感光性樹脂組成物をに塗布
後、乾燥して溶剤を揮発させることで、基板(４)上に黒
色感光性樹脂組成物層(３)を形成することができる（図
２(a)）。該層は、黒色感光性樹脂組成物の固形分から
なる層であり、その厚さは、通常０．１μｍ〜１０μ
ｍ、好ましくは０．２μｍ〜５．０μｍ、特に好ましく
は０．２μｍ〜３．０μｍである。To form the layer (3) composed of the black photosensitive resin composition on the substrate (4), for example, a spin coating method (spin coating method), a casting coating method, a roll coating method and the like are used. The black photosensitive resin composition diluted with a solvent may be applied onto the substrate by a coating method. Examples of the substrate (4) include a glass substrate, a silicon substrate, a polycarbonate substrate, a polyester substrate, an aromatic polyamide substrate, and the like.
A resin substrate such as a polyamide-imide substrate or a polyimide substrate can be used. Such a substrate may be subjected to a pretreatment such as a chemical treatment with a chemical such as a silane coupling agent, a plasma treatment, an ion plating treatment, a sputtering treatment, a vapor phase reaction treatment, or a vacuum vapor deposition treatment. Further, electrodes of the liquid crystal display device, TFTs and the like may be formed on the substrate. The black photosensitive resin composition layer (3) can be formed on the substrate (4) by applying the black photosensitive resin composition on the substrate and then drying it to volatilize the solvent (FIG. 2 (a)). . The layer is a layer made of a solid content of the black photosensitive resin composition, and the thickness thereof is usually 0.1 μm to 10 μm.
m, preferably 0.2 μm to 5.0 μm, particularly preferably 0.2 μm to 3.0 μm.

【００６２】次いで黒色感光性樹脂組成物層(３)を露光
する（図２(b)）。黒色感光性樹脂組成物層を露光する
には、フォトマスク(５)を介して光線(６)を照射すれば
よい（図２(b)）。フォトマスク(５)は、例えばガラス
板(５１)などの表面に遮光層(５２)が設けられてなるも
のである。遮光層によって光線(６)は遮蔽される。ガラ
ス板のうちの遮光層が設けられていない部分は透光部
(６３)であって、光線は該透光部を透過して黒色感光性
樹脂組成物層(３)に照射される。黒色感光性樹脂組成物
層(３)は、該透光部のパターンしたがって露光される。
光線(６)としては通常、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｉ線
（波長３６５ｎｍ）などの紫外線が用いられる。光線は
平行光となって黒色感光性樹脂組成物層(３)に照射され
ることが好ましく、通常はマスクアライナー（図示せ
ず）などを介して照射される。光線の照射量は、（Ａ）
樹脂被覆カーボンブラックの含有量、（Ｂ）バインダー
樹脂の種類や含有量、（Ｃ）１個以上のエチレン性不飽
和結合を有し付加重合可能な化合物の種類や含有量、
（Ｄ）光重合開始剤の種類や含有量などに応じて適宜選
択される。Next, the black photosensitive resin composition layer (3) is exposed (FIG. 2 (b)). To expose the black photosensitive resin composition layer, the light beam (6) may be irradiated through the photomask (5) (FIG. 2 (b)). The photomask (5) has a light shielding layer (52) provided on the surface of, for example, a glass plate (51). The light ray (6) is blocked by the light blocking layer. The part of the glass plate where the light shielding layer is not provided is the light transmitting part.
In the case of (63), the light ray is transmitted through the light-transmitting portion and applied to the black photosensitive resin composition layer (3). The black photosensitive resin composition layer (3) is exposed according to the pattern of the transparent portion.
As the light ray (6), ultraviolet rays such as g-line (wavelength 436 nm) and i-line (wavelength 365 nm) are usually used. It is preferable that the light rays are converted into parallel rays and applied to the black photosensitive resin composition layer (3), which is usually applied through a mask aligner (not shown). The irradiation amount of light is (A)
Content of resin-coated carbon black, (B) type and content of binder resin, (C) type and content of addition-polymerizable compound having one or more ethylenically unsaturated bonds,
(D) It is appropriately selected depending on the type and content of the photopolymerization initiator.

【００６３】露光後、現像する（図２(c)）。現像する
には、露光後の黒色感光性樹脂組成物層(３)を現像液に
接触させればよい。現像液に接触することによって、黒
色感光性樹脂組成物層のうちで光線が照射されなかった
光線未照射領域(３１)が現像液に溶解する。After exposure, development is performed (FIG. 2 (c)). For development, the black photosensitive resin composition layer (3) after exposure may be brought into contact with a developing solution. By contacting with the developing solution, the non-light-irradiated region (31) of the black photosensitive resin composition layer which is not irradiated with the light is dissolved in the developing solution.

【００６４】現像液としては、例えばアルカリ性水溶液
を用いることができる。アルカリ性水溶液としては、例
えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウ
ム，硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア
水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノー
ルアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テ
トラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロー
ル、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ−〔５，４，
０〕−７−ウンデセンなどの水溶性のアルカリ化合物の
水溶液が用いられ、その濃度はアルカリ性水溶液に対し
て質量分率で通常０．００１％以上１０％以下、好まし
くは０．０１％以上１％以下程度である。かかるアルカ
リ性水溶液は、メタノール、エタノールなどの水溶性の
有機溶剤、界面活性剤などを含有していてもよい。現像
液として有機溶剤を用いることもでき、例えば着色感光
性樹脂組成物を希釈するに用いる溶剤として前記したと
同様の有機溶剤を適宜組合わせて用いてもよい。As the developing solution, for example, an alkaline aqueous solution can be used. Examples of the alkaline aqueous solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium silicate, sodium metasilicate, aqueous ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, choline, Pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo- [5,4,
0] -7-undecene and the like, an aqueous solution of a water-soluble alkaline compound is used, and the concentration thereof is usually 0.001% or more and 10% or less, preferably 0.01% or more and 1% by mass fraction with respect to the alkaline aqueous solution. It is about the following. Such an alkaline aqueous solution may contain a water-soluble organic solvent such as methanol or ethanol, a surfactant and the like. An organic solvent may be used as the developing solution, and for example, the same organic solvent as described above may be appropriately combined and used as a solvent used for diluting the colored photosensitive resin composition.

【００６５】現像方法は、特に限定されるものではな
く、例えばディップ現像法（浸漬現像法）、シャワー現
像法、スプレー現像法、パドル現像法（液盛り現像法）
などの方法で現像することができる。現像温度は通常１
０℃〜４０℃の範囲であり、現像時間は通常１０秒〜３
００秒である。The developing method is not particularly limited and includes, for example, dip developing method (immersion developing method), shower developing method, spray developing method, paddle developing method (liquid pour developing method).
And the like. Development temperature is usually 1
The temperature is in the range of 0 ° C to 40 ° C, and the developing time is usually 10 seconds to 3
00 seconds.

【００６６】現像によって、着色感光性樹脂組成物層の
うちの光線が照射されなかった光線未照射領域(３１)は
現像液に溶解して除去される。その一方で光線が照射さ
れた光線照射領域(３２)は残って、ブラックマトリック
ス(２ＢＭ)を構成する。By the development, the light-unirradiated region (31) of the colored photosensitive resin composition layer which is not irradiated with the light is dissolved and removed in the developing solution. On the other hand, the light beam irradiation area 32 to which the light beam is irradiated remains, and constitutes the black matrix 2BM.

【００６７】現像後、乾燥することで、ブラックマトリ
ックス(２ＢＭ)が形成されるが（図２(c)）、現像液と
してアルカリ性水溶液を用いた場合には通常、現像後水
洗したのちに、乾燥する。乾燥後、さらに加熱処理して
もよい。After development, a black matrix (2BM) is formed by drying (FIG. 2 (c)), but when an alkaline aqueous solution is used as a developing solution, it is usually washed with water after development and then dried. To do. You may heat-process after drying.

【００６８】かくして本発明の黒色感光性樹脂組成物を
原料としてブラックマトリックスを形成することができ
るが、かかるブラックマトリックスから構成されるカラ
ーフィルターを製造するには、例えばブラックマトリッ
クス(２ＢＭ)が形成された基板(４)の上に、着色剤によ
って着色された感光性樹脂組成物からなる着色感光性樹
脂組成物層(３’)を形成し（図３(a)）、該層(３’)を
露光したのち（図３(b)）、現像することによって、色
画素(２’)を形成することができる（図３(c)）。図４
に示すように、この操作を色画素の種類の数だけ繰り返
し行なって、順次色画素(２”)を形成することで、目的
とするカラーフィルター(１)を製造することができる。
なお、図４では、簡便のために色画素は２種類とした
が、通常は光の３原色または３補色に対応する３種の色
画素が形成される。Thus, a black matrix can be formed by using the black photosensitive resin composition of the present invention as a raw material. For producing a color filter composed of such a black matrix, for example, a black matrix (2BM) is formed. A colored photosensitive resin composition layer (3 ′) made of a photosensitive resin composition colored with a colorant is formed on the substrate (4) (FIG. 3 (a)), and the layer (3 ′) is formed. After exposure (FIG. 3 (b)), the color pixel (2 ′) can be formed by developing (FIG. 3 (c)). Figure 4
As shown in FIG. 5, this operation is repeated for the number of kinds of color pixels to form the color pixels (2 ″) sequentially, whereby the desired color filter (1) can be manufactured.
In FIG. 4, two types of color pixels are used for the sake of simplicity, but normally three types of color pixels corresponding to the three primary colors or the three complementary colors of light are formed.

【００６９】かかるカラーフィルター(１)は、ブラック
マトリックス(２ＢＭ)が本発明の黒色感光性樹脂組成物
から形成されるので、解像度よくブラックマトリックス
を形成することができ、またその電気抵抗は十分に大き
いので、カラー液晶表示装置に好適に用いられる。In the color filter (1), since the black matrix (2BM) is formed from the black photosensitive resin composition of the present invention, the black matrix can be formed with good resolution and its electric resistance is sufficient. Since it is large, it is suitable for use in a color liquid crystal display device.

【００７０】[0070]

【発明の効果】本発明の黒色感光性樹脂組成物は、十分
な解像度を有しているので、細かなブラックマトリック
スを容易に形成し得、十分な電気抵抗を示す細かなブラ
ックマトリックスを有するカラーフィルターを容易に製
造することができる。Since the black photosensitive resin composition of the present invention has a sufficient resolution, a fine black matrix can be easily formed and a color having a fine black matrix exhibiting sufficient electric resistance. The filter can be easily manufactured.

【００７１】[0071]

【実施例】以下、実施例によって本発明をより詳細に説
明するが、本発明はかかる実施例によって限定されるも
のではない。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to examples below, but the present invention is not limited to these examples.

【００７２】実施例１ 〔黒色感光性樹脂組成物の調製〕 （Ａ）カーボンブラック（Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック
７）（１００質量部）にエポキシ樹脂（１２質量部）の
エマルジョンと２−エチル−４−メチルイミダゾール
（２質量部）とを被覆して得た樹脂被覆カーボンブラッ
ク（４４質量部）、（Ｂ）バインダー樹脂〔式（IV）Example 1 [Preparation of black photosensitive resin composition] (A) Carbon black (CI Pigment Black 7) (100 parts by mass) and epoxy resin (12 parts by mass) emulsion and 2-ethyl- Resin-coated carbon black (44 parts by mass) obtained by coating with 4-methylimidazole (2 parts by mass), (B) binder resin [formula (IV)

【化６】 で示される化合物３２質量部とテトラヒドロフタル酸無
水物１２質量部との縮重合物、重量平均分子量は５００
０、酸価は１００〕（２９質量部）、（Ｃ）エチレン性
不飽和結合を有し付加重合可能な化合物〔ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレート〕（９質量部）、（Ｄ）
光重合開始剤〔２，４−ビス（トリクロロメチル）−６
−ピペロニル−１，３，５−トリアジン〕（５質量
部）、分散剤（１３質量部）および（Ｅ）溶剤〔プロピ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート〕（３７
４質量部）を混合して黒色感光性樹脂組成物を得た。[Chemical 6] A polycondensation product of 32 parts by mass of the compound represented by and 12 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride, and a weight average molecular weight of 500
0, acid value 100] (29 parts by mass), (C) compound having an ethylenically unsaturated bond and capable of addition polymerization [dipentaerythritol hexaacrylate] (9 parts by mass), (D)
Photopolymerization initiator [2,4-bis (trichloromethyl) -6
-Piperonyl-1,3,5-triazine] (5 parts by mass), dispersant (13 parts by mass) and (E) solvent [propylene glycol monomethyl ether acetate] (37
4 parts by mass) to obtain a black photosensitive resin composition.

【００７３】〔ブラックマトリックスの形成〕上記で得
た着色感光性樹脂組成物をガラス基板〔「＃７０５９」
コーニング社製〕(４)の表面にスピンコート法で塗布
し、１００℃で３分間加熱して乾燥させて、黒色感光性
樹脂組成物層(３)を基板（２）上に形成した（図２
(a)）。この乾燥後の黒色感光性樹脂組成物層の厚みは
１．２μｍであり、光学濃度〔透過での光学濃度をマク
ベス濃度計（Ｇｒｅｔａｇ Ｍａｃｂｅｔｈ社製「Ｍａ
ｃｂｅｔｈ ＴＲ−９２７」）で測定した値〕は３．６
であった。[Formation of Black Matrix] The colored photosensitive resin composition obtained above was applied to a glass substrate [“# 7059”].
Manufactured by Corning Incorporated] (4) was coated on the surface by spin coating, heated at 100 ° C. for 3 minutes and dried to form a black photosensitive resin composition layer (3) on the substrate (2) (FIG. Two
(a)). The thickness of the black photosensitive resin composition layer after drying was 1.2 μm, and the optical density [optical density in transmission was measured by a Macbeth densitometer (“Matte” manufactured by Gretag Macbeth Co., Ltd.
cbeth TR-927 ")] is 3.6.
Met.

【００７４】〔ブラックマトリックスの形成〕上記で黒
色感光性樹脂組成物層(３)を形成した基板(４)にフォト
マスク(５)を介して超高圧水銀灯で紫外線(６)を照射し
て（照射光量は４００ｍJ／ｃｍ2）、露光した（図２
(b)）。露光に際しては、フォトマスク(５)として、線
幅１０μｍの線状のブラックマトリックス(２BM)を形成
するためのフォトマスクを用いた。露光後、現像液〔水
酸化カリウムを質量分率で０．０４％含み、ノニオン系
界面活性剤を含む水溶液、２３℃〕に９０秒間浸漬して
現像した。現像後、水洗し、２３０℃で２０分間加熱し
て、基板(４)上にブラックマトリックス(２ＢＭ)を形成
した。[Formation of Black Matrix] The substrate (4) having the black photosensitive resin composition layer (3) formed above is irradiated with ultraviolet rays (6) through a photomask (5) with an ultra-high pressure mercury lamp ( The amount of irradiation light was 400 mJ / cm 2 ) and exposed (Fig. 2).
(b)). At the time of exposure, a photomask for forming a linear black matrix (2BM) having a line width of 10 μm was used as the photomask (5). After the exposure, it was immersed in a developing solution [aqueous solution containing 0.04% by mass fraction of potassium hydroxide and a nonionic surfactant, 23 ° C.] for 90 seconds for development. After development, it was washed with water and heated at 230 ° C. for 20 minutes to form a black matrix (2BM) on the substrate (4).

【００７５】このブラックマトリックスを光学顕微鏡
（観察倍率は２００倍）で観察したところ、線幅１０μ
ｍの部ら菊マトリックスが再現性よく形成されていた。
また、このブラックマトリックスの表面抵抗率を絶縁計
〔東亜電波社製、「ＳＭ−１０Ｅ」〕で測定したとこ
ろ、１×１０16Ω／□を超えていた。When this black matrix was observed with an optical microscope (observation magnification was 200 times), the line width was 10 μm.
The chrysanthemum matrix from m part was formed with good reproducibility.
Further, the surface resistivity of this black matrix was measured by an insulation meter [“SM-10E” manufactured by Toa Denpa Co., Ltd.] and found to be over 1 × 10 16 Ω / □.

【００７６】〔黒色感光性樹脂組成物の感度の評価）〕
上記と同様にして黒色感光性樹脂組成物層(３)を形成し
た基板(４)に、フォトマスク(５)を介して超高圧水銀灯
で紫外線(６)を照射して、露光した（図２(b)）。露光
に際しては、フォトマスク(５)として、透光部のみから
なりその透過率がステップ状に変化したものを用いて、
４〜４００ｍＪ／ｃｍ2の範囲の光線を照射した。[Evaluation of Sensitivity of Black Photosensitive Resin Composition]
The substrate (4) on which the black photosensitive resin composition layer (3) was formed in the same manner as above was irradiated with ultraviolet rays (6) with an ultra-high pressure mercury lamp through a photomask (5) and exposed (FIG. 2). (b)). At the time of exposure, as the photomask (5), the one having only the translucent portion and having the transmittance changed stepwise,
Irradiation with light rays in the range of 4 to 400 mJ / cm 2 was applied.

【００７７】次いで上記で露光した着色感光性樹脂組成
物層を、上記で用いたと同じ現像液に９０秒間浸漬して
現像し、その厚みが変化することなく現像された光線照
射領域(３２)の最低光線照射量（１００ｍＪ／ｃｍ2）
を感度とした。この値が小さいほど高感度であることを
示す。Next, the colored photosensitive resin composition layer exposed as described above is immersed in the same developing solution as used above for 90 seconds to develop, and the light irradiation area (32) of the developed light irradiation area (32) is changed without changing its thickness. Minimum light dose (100 mJ / cm 2 )
Was taken as the sensitivity. The smaller this value is, the higher the sensitivity is.

【００７８】実施例２ 実施例１で使用したバインダー樹脂に代えて、式（IV）
で示される化合物４８質量部と４，４’−ジフタル酸無
水物１６質量部との縮重合物（重量平均分子量は５１０
０、酸価は９７）２６質量部を用い、エチレン性不飽和
結合を有し付加重合可能な化合物（ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート）の使用量を１２質量部とした
以外は実施例１と同様に操作して、黒色感光性樹脂組成
物を得、ブラックマトリックスを形成し、感度を評価し
た。結果を表１に示す。Example 2 Instead of the binder resin used in Example 1, the formula (IV)
A polycondensation product of 48 parts by mass of a compound represented by and 16 parts by mass of 4,4′-diphthalic anhydride (weight average molecular weight: 510
0, acid value 97) 26 parts by mass and the same as Example 1 except that the amount of the addition-polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond (dipentaerythritol hexaacrylate) was 12 parts by mass. By operating, a black photosensitive resin composition was obtained, a black matrix was formed, and the sensitivity was evaluated. The results are shown in Table 1.

【００７９】比較例１ バインダー樹脂の使用量を１６質量部とし、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレートの使用量を２２質量部
とする以外は実施例１と同様に操作して、黒色感光性樹
脂組成物を得、ブラックマトリックスを形成し、感度を
評価した。結果を表１に示す。Comparative Example 1 A black photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amount of the binder resin used was 16 parts by mass and the amount of dipentaerythritol hexaacrylate used was 22 parts by mass. Then, a black matrix was formed and the sensitivity was evaluated. The results are shown in Table 1.

【００８０】比較例２ バインダー樹脂の使用量を３２質量部とし、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレートの使用量を６質量部と
する以外は実施例１と同様に操作して、黒色感光性樹脂
組成物を得、ブラックマトリックスを形成し、感度を評
価した。結果を表１に示す。Comparative Example 2 A black photosensitive resin composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the binder resin was used in an amount of 32 parts by weight and the dipentaerythritol hexaacrylate was used in an amount of 6 parts by weight. Then, a black matrix was formed and the sensitivity was evaluated. The results are shown in Table 1.

【００８１】[0081]

【表１】 [Table 1]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】カラーフィルターの一例を部分的に示す模式図
である。FIG. 1 is a schematic view partially showing an example of a color filter.

【図２】黒色感光性樹脂組成物を用いて基板上にブラッ
クマトリックスを形成する工程を示す模式図である。FIG. 2 is a schematic view showing a step of forming a black matrix on a substrate using a black photosensitive resin composition.

【図３】着色感光性樹脂組成物を用いて基板上に色画素
を形成する工程を示す模式図である。FIG. 3 is a schematic view showing a process of forming color pixels on a substrate using a colored photosensitive resin composition.

【図４】着色感光性樹脂組成物を用いて基板上に色画素
をさらに形成する工程を示す模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram showing a step of further forming color pixels on a substrate using a colored photosensitive resin composition.

【符号の簡単な説明】[Simple explanation of symbols]

１ ：カラーフィルター ２ ：色画素 ２Ｒ：赤色画素 ２’：色画素 ２Ｇ：緑色画素 ２”：色画素 ２Ｂ：青色画素 ２BM：ブラックマトリックス ３ ：黒色感光性樹脂組成物層 ３１：光線未照
射領域 ３’：着色感光性樹脂組成物層 ３２：光線照射
領域 ４ ：基板 ５ ：フォトマスク ６ ：光線1: Color filter 2: Color pixel 2R: Red pixel 2 ′: Color pixel 2G: Green pixel 2 ″: Color pixel 2B: Blue pixel 2BM: Black matrix 3: Black photosensitive resin composition layer 31: Light unirradiated region 3 ': Colored photosensitive resin composition layer 32: Light irradiation area 4: Substrate 5: Photomask 6: Light

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/029 Ｇ０３Ｆ 7/029 7/033 7/033 7/038 ５０１ 7/038 ５０１ Ｆターム(参考） 2H025 AA02 AB13 AC01 AD01 BC32 BC42 BC51 BC64 BC85 CA01 CA20 CA28 FA03 FA17 FA29 2H042 AA09 AA15 AA26 2H048 BA11 BA45 BA48 BB01 4J011 QA02 QA03 QA06 QA12 QA18 QA22 QA35 QA48 QB15 SA78 TA03 UA01 VA01 WA01 4J027 AC02 BA06 BA07 BA14 BA24 CA36 CB10 CD10 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G03F 7/029 G03F 7/029 7/033 7/033 7/038 501 7/038 501 F term (reference) 2H025 AA02 AB13 AC01 AD01 BC32 BC42 BC51 BC64 BC85 CA01 CA20 CA28 FA03 FA17 FA29 2H042 AA09 AA15 AA26 2H048 BA11 BA45 BA48 BB01 4J011 QA02 QA03 QA06 QA12 BA06 BA07 BA01 BA36 BA027A01 QA15 BA36 SA27 TA03 TA01

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】（Ａ）樹脂被覆カーボンブラック、（Ｂ）
バインダー樹脂、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有し付
加重合可能な化合物、（Ｄ）光重合開始剤を含有し、
（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有し付加重合可能な化合
物に対する（Ｂ）バインダー樹脂の含有量が１．５質量
倍以上５質量倍以下であることを特徴とする黒色感光性
樹脂組成物。1. (A) Resin-coated carbon black, (B)
Contains a binder resin, (C) a compound having an ethylenically unsaturated bond and capable of addition polymerization, and (D) a photopolymerization initiator,
The black photosensitive resin composition, wherein the content of the binder resin (B) with respect to the compound (C) having an ethylenically unsaturated bond and capable of addition polymerization is 1.5 to 5 times by mass. 【請求項２】樹脂被覆カーボンブラックの含有量が、黒
色感光性樹脂組成物の固形分に対して質量分率で２０％
以上６０％以下である請求項１に記載の黒色感光性樹脂
組成物。2. The content of the resin-coated carbon black is 20% by mass fraction based on the solid content of the black photosensitive resin composition.
The black photosensitive resin composition according to claim 1, which is not less than 60% and not more than 60%. 【請求項３】（Ｂ）バインダー樹脂が、式（Ｉ） 【化１】 〔式中、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ独立に水素原子、炭素
数１〜５のアルキル基またはハロゲン原子を示し、Ｒ3
は置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキレ
ン基を示し、Ｒ4は水素原子またはメチル基を示し、Ｘ
は式（Ｉ−１）〜（Ｉ−６） 【化２】 のいずれかで示される２価の残基を示し、ｍは０〜５の
整数を示し、ｎは１〜１０の整数を示す。〕で示される
化合物と多塩基酸との縮重合物である請求項１に記載の
黒色感光性樹脂組成物。3. The binder resin (B) has the formula (I): Wherein R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or a halogen atom having 1 to 5 carbon atoms, R 3
Represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent, R 4 represents a hydrogen atom or a methyl group, X
Is a formula (I-1) to (I-6) Represents a divalent residue, m represents an integer of 0 to 5, and n represents an integer of 1 to 10. ] The black photosensitive resin composition of Claim 1 which is a polycondensation product of the compound shown by these, and a polybasic acid. 【請求項４】（Ｄ）光重合開始剤がトリハロメチル基を
有する化合物である請求項１に記載の黒色感光性樹脂組
成物。4. The black photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the photopolymerization initiator (D) is a compound having a trihalomethyl group. 【請求項５】トリハロメチル基を有する化合物が、トリ
ハロメチルトリアジン系化合物またはトリハロメチルオ
キサジアゾール系化合物である請求項４に記載の黒色感
光性樹脂組成物。5. The black photosensitive resin composition according to claim 4, wherein the compound having a trihalomethyl group is a trihalomethyltriazine compound or a trihalomethyloxadiazole compound. 【請求項６】請求項１〜請求項５のいずれかに記載の黒
色感光性樹脂組成物からなる層を基板の上に形成し、該
層を露光したのち現像することを特徴とするブラックマ
トリックスの形成方法。6. A black matrix comprising a layer comprising the black photosensitive resin composition according to claim 1 formed on a substrate, exposing the layer, and then developing the layer. Forming method. 【請求項７】請求項６に記載の方法でブラックマトリッ
クスを形成するカラーフィルターの製造方法。7. A method for producing a color filter, which comprises forming a black matrix by the method according to claim 6. 【請求項８】請求項７に記載の方法でブラックマトリッ
クスが形成されたカラーフィルター。8. A color filter having a black matrix formed by the method according to claim 7.
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