JP2003036996A

JP2003036996A - 平行平板容量結合型微小プラズマ発生装置

Info

Publication number: JP2003036996A
Application number: JP2001257004A
Authority: JP
Inventors: Yasuhiro Horiike; 靖浩堀池; Hiroyuki Yoshiki; 宏之吉木
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 2001-07-23
Filing date: 2001-07-23
Publication date: 2003-02-07

Abstract

(57)【要約】【課題】微小領域での化学分析、化学反応および毛細管
（キャピラリ）内壁への薄膜形成や表面処理を可能にす
る、小型、低価格、低消費電力、高効率、高信頼性、長
寿命のプラズマ発生装置を提供する。【解決手段】平行平板容量結合型微小プラズマ発生装置
は、非導電性物質から成る物体に作製された一つあるい
は複数の毛細管（キャピラリ）の各々を挟むように、一
対あるいは複数対の平行平板電極を対向して設置し、各
電極対の一方に整合回路を介して交流あるいは高周波電
源を接続し、他方を接地することで構成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、微小プラズマ発生
装置に関し、特に微小領域での化学分析、化学反応およ
び毛細管（キャピラリ）内壁への薄膜形成や表面処理に
用いるに適した、小型、低消費電力、長寿命のプラズマ
発生装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】超ＬＳＩや各種電子デバイス、高機能性
材料の作製にプラズマ発生装置を用いた材料プロセッシ
ング技術が利用されている。しかしながら、従来のプラ
ズマ発生装置は概して高コスト化、大型化、大消費電力
の傾向にあり、加えてプラズマプロセスの煩雑さ、材料
加工・処理の上での非効率さ、などの問題点があった。

【０００３】かかる状況の下で、装置の低コスト化、小
型化、低消費電力、プラズマプロセスの簡素化、材料加
工・処理の上での高効率化を目指したプラズマ発生装置
として、特開２０００−１６４３９５の基板電極プラズ
マ発生装置が提案されている。

【０００４】図１１は、従来の技術としての基板電極プ
ラズマ発生装置の概略構成図である。表面を酸化したシ
リコン基板２５上にタングステンをスパッタ蒸着し、ド
ライエッチングにより微小ギャップ薄膜電極対（２６
ａ、２６ｂ）〜（２９ａ、２９ｂ）を形成し、上記電極
対に電力を供給することで微小プラズマ発生部位２６ｃ
〜２９ｃにプラズマを生成する。

【０００５】前記基板電極プラズマ発生装置を用いるこ
とで、基板上の任意の複数微小領域での薄膜形成や、表
面処理および化学反応等の物質・材料プロセスを、低コ
スト、省スペース、低消費電力、簡便かつ高効率に実現
できる。

【０００６】しかし、前記基板電極プラズマ発生装置に
おいては、図１１から明らかなようにプラズマ発生部位
２６ｃ〜２９ｃと電極対（２６ａ，２６ｂ）〜（２９
ａ，２９ｂ）が直接接触しているので、プロセスが進行
するに従いプラズマによる電極のスパッタリング、反応
生成物のデポジション等による電極の破損、プロセス雰
囲気への異物の混入等汚損の問題が生じる。

【０００７】また、基板上でのプラズマプロセスには有
効であったが、微小な内径を有するチューブ、パイプ等
の細長い管状物体の内壁処理、内部での化学反応への応
用は困難であった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、毛細管（キ
ャピラリ）を有した非導電性物体の外部に毛細管を挟む
ように一対の平行平板電極を配置し、当該電極に電力を
供給し、上記毛細管の内部にプラズマを発生すること
で、電極が直接プラズマに曝されることを防止し、プラ
ズマ発生装置の長寿命化、プロセス雰囲気中への異物の
混入等の汚損を無くした高信頼性のプラズマプロセスを
提供することを目的とする。

【０００９】また、本発明による微小プラズマ発生装置
は、チップや基板に応用できるのみならず、チューブや
パイプ等の細長い管状物体の内部でのプラズマ生成にも
適用できることを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の平行平板
容量結合型微小プラズマ発生装置は、一つあるいは複数
の毛細管（キャピラリ）を有する非導電性物質から成る
物体において、上記一つあるいは任意の複数個の毛細管
を挟んで、上記物体の外部に一対あるいは複数対の平行
平板電極を配置し、上記対電極の一方に交流電力あるい
は高周波電力を印加し、他方は接地された状態で、上記
毛細管に所定のガスを導入し、任意の雰囲気下でプラズ
マを発生することを特徴とする。

【００１１】請求項２記載の平行平板容量結合型微小プ
ラズマ発生装置は、前記非導電性物質が石英、パイレッ
クスガラス、アルミナ、サファイア、ナイロン、塩化ビ
ニル、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリエチレンテレフタレ
ート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート、ゴム、樹脂等の誘
電体で構成されていることを特徴とする。

【００１２】請求項３記載の平行平板容量結合型微小プ
ラズマ発生装置は、前記電極対がＣｕ、Ａｌ、Ａｕ、Ｐ
ｔ等の金属薄板、スパッタ薄膜、電気メッキ金属からな
る電極対であることを特徴とする。

【００１３】請求項４記載の平行平板容量結合型微小プ
ラズマ発生装置は、前記非導電性物質から成る物体がチ
ューブ、パイプ等の管状物体であるか、チップあるいは
基板であることを特徴とする。

【００１４】請求項５記載の平行平板容量結合型微小プ
ラズマ発生装置は、前記交流電力又は高周波電力を連続
的にあるいはパルス状に印加することを特徴とする。

【００１５】請求項６記載の平行平板容量結合型微小プ
ラズマ発生装置は、前記毛細管（キャピラリ）がフォト
リソグラフィック微細加工でパターンニングし、ウエッ
トあるいはドライエッチング加工技術により作製された
ことを特徴とする。

【００１６】請求項７記載の平行平板容量結合型微小プ
ラズマ発生装置は、前記非導電性物質から成る同一物体
上に複数の平行平板電極対を配置した場合、上記各電極
対をおのおの独立して制御しプラズマ発生することを特
徴とする。

【００１７】請求項８記載のマイクロ化学分析方法は、
請求項１ないし７に記載された平行平板容量結合型微小
プラズマ発生装置を用い、微量の未知のガスをキャリア
ガスと共に毛細管に導入し、上記ガス成分を定量分析す
ることを特徴とする。

【００１８】請求項９記載のマイクロ化学分析方法は、
請求項１ないし７に記載された平行平板容量結合型微小
プラズマ発生装置を用い、微量の未知の液体を気化しキ
ャリアガスと共に毛細管に導入し、上記液体成分を定量
分析することを特徴とする。

【００１９】請求項１０記載の材料プロセッシング方法
は、請求項１ないし７に記載された平行平板容量結合型
微小プラズマ発生装置を用い、毛細管内の任意の位置に
任意の材料からなる薄膜を形成することを特徴とする。

【００２０】請求項１１記載の材料プロセッシング方法
は、請求項１ないし７に記載された平行平板容量結合型
微小プラズマ発生装置を用い、毛細管内の任意の位置に
アッシング、エッチング、洗浄、改質等の表面処理を行
うことを特徴とする。

【００２１】請求項１２記載のマイクロ化学合成方法
は、請求項１ないし７に記載された平行平板容量結合型
微小プラズマ発生装置を用い、単一または複数種の物質
を混合し毛細管に導入し、プラズマ化して化学反応をお
こさせることを特徴とする。

【００２２】請求項１３記載のマイクロ化学合成方法
は、請求項１ないし７に記載された平行平板容量結合型
微小プラズマ発生装置を用い、複数種の物質を個別に毛
細管に導入しプラズマ化し、上記個別にプラズマ化した
各物質を毛細管内又は毛細管外で混合することで化学反
応をおこさせることを特徴とする。

【００２３】

【発明の実施の形態】

【００２４】（実施例１）図１は、平行平板容量結合型
微小プラズマ発生装置の全体を示す図である。石英等の
非導電性物質から成る基板１上に形成された毛細管（キ
ャピラリ）２ａ〜２ｃを挟む様に基板１の外部から平行
平板電極対（３ａ、３ｇａ）〜（３ｃ、３ｇｃ）を配置
する。上記平行平板電極対としてＣｕ、Ａｌ、Ｐｔ等の
金属薄板を化学接着剤または粘着テープで基板１上に強
固に固定しても良いし、またはＡｕ、Ｐｔ、タングステ
ン等の金属薄膜をスパッタ蒸着するか、電気メッキで作
製しても良い。

【００２５】図２に、図１のＸ−Ｘ′線断面図を示す。
平行平板電極対（３ａ、３ｇａ）〜（３ｃ、３ｇｃ）
は、毛細管２ａ〜２ｃを上下から挟む様に、前記基板１
の外部に密着させ配置されている。

【００２６】前記電極対の一方３ａ〜３ｃは、スイッチ
４ａ〜４ｃ、整合回路５を介して、交流または高周波電
源６に接続されている。また、電極対の他方３ｇａ〜３
ｇｃは接地されている。ここで、電極３ｇａ〜３ｇｃが
接地状態にないと高周波電流が流れる経路が無く、プラ
ズマは点灯しない。毛細管２ａ〜２ｃに所望のガスをガ
ス配管７により導入し、ガスの排気管８を真空ポンプに
接続し毛細管内を低ガス圧力にしても良い。また、排気
管８を大気開放にし毛細管内を大気圧にしても良い。す
なわち、任意のガス雰囲気下でプラズマを発生させるこ
とができる。

【００２７】図１には３対の平行平板電極を有する基板
上微小プラズマ発生装置を示したが、所望のプラズマ処
理に応じて、任意の毛細管に対して１対あるいは複数対
の電極を配置したものでも良い。また、スイッチ４ａ〜
４ｃを用いることで、複数の電極対のうちの任意の電極
対のみに電力を供給してプラズマを発生させても良い。

【００２８】さらに、前記交流または高周波電力を連続
的にあるいはパルス状に印加しても良い。

【００２９】また、毛細管２ａ〜２ｃをフォトリソグラ
フィック微細加工でパターンニングし、ウエットあるい
はドライエッチング加工技術により作製しても良い。

【００３０】図３は、２０×２０ｍｍ^２の石英チップ１
上に断面寸法１５０×５００μｍ^２、長さ１８ｍｍの毛
細管２を設け、長さ５ｍｍの銅製平行平板電極対（３，
３ｇ）に１３．５６ＭＨｚの高周波電力を印加し、大気
圧ヘリウムプラズマ１０を生成した時の様子を示した図
である。ガス流量１５０ｓｃｃｍ、投入電力１〜５Ｗ程
度である。その他、断面寸法が数ｍｍから数十μｍの毛
細管内部でグロー放電を確認した。

【００３１】図４は、毛細管内のアルゴンプラズマ生成
における、ガス圧力と放電開始電力の関係を示した図で
ある。毛細管の断面寸法は、図中にｄ（放電ギャップ）
×Ｗ（幅）で示す。寸法の異なる種々の毛細管におい
て、最小放電開始電力（２〜３Ｗ）を与えるガス圧力が
存在する。また、放電ギャップ（図２中の間隔ｄ）を短
くすると、最小放電開始電力を与えるガス圧力が高圧力
側に移行し、大気圧放電が容易に実現することがわか
る。

【００３２】（実施例２）図５は平行平板容量結合型微
小プラズマ発生装置を用いて非導電性物質から成るチュ
ーブ、パイプ等の管状物体内部の任意の位置にプラズマ
を生成する手段を示す図である。平行平板電極対（３、
３ｇ）を細長いチューブ１１の外部に密着し固定する。
上記電極対は実施例１と同様にして作製して良い。電極
対の一方３は整合回路５を介して交流または高周波電源
６に接続し、他方３’は接地する。毛細管２に所定のガ
スをガス配管７にて導入し、排気管８を真空ポンプに接
続するか、大気開放するかにより、毛細管内を任意のガ
ス雰囲気に設定し、微小プラズマ１２を生成することが
できる。

【００３３】また、平行平板電極対（３，３ｇ）をチュ
ーブ１１に密着させた状態で、チューブを管軸方向に移
動することで、チューブ内壁全体を連続的にプラズマ照
射することができる。

【００３４】さらに、前記交流または高周波電力を連続
的にあるいはパルス状に印加しても良いのは、実施例１
と同様である。

【００３５】（実施例３）図６は、平行平板容量結合型
微小プラズマ発生装置を用いて、微量の未知ガスを定量
分析するマイクロガスクロマトグラフ方法を示す図であ
る。石英チップ１上に作製した毛細管２に、未知ガス１
７をキャリアガス１６と共に導入し、平行平板電極対
（３、３ｇ）間でプラズマ化し、光取り出し窓１３から
取り出した光を光ファイバー１４を介して分光分析装置
１５でスペクトル分布と強度を調べることで、未知ガス
の定量分析をおこなう。

【００３６】この場合、ごく微量の試料を短時間でしか
も簡便に分析することが可能であり、従来のガスクロマ
トグラフィシステムに比較して、省資源、省エネルギ
ー、ランニングコストの低減等で勝っている。さらに、
分光分析装置を微小化して同一チップ上に集積すること
も可能で、次世代のポータブル化学分析装置として有力
である。

【００３７】また、未知ガス以外に微量の未知の液体１
８を気化し、キャリアガス１６と共に毛細管に導入し、
プラズマ化して未知の液体成分を定量分析することもで
きる。

【００３８】（実施例４）図７は、平行平板容量結合型
微小プラズマ発生装置を用いて、毛細管内壁の任意の位
置に任意の材料からなる薄膜を形成する工程を示す図で
ある。例えば、アモルファスカーボン薄膜を成膜したい
場合、成膜したい位置に平行平板電極対（３、３ｇ）を
配置し、毛細管２内にアルゴンガスとＣＨ_４ガスの混合
ガス１９を導入し、プラズマ化することで電極対の位置
にアモルファスカーボン薄膜２０を形成することができ
る。

【００３９】成膜したい物質によって任意のガスを導入
すれば良く、例えばフッ素系ポリマー薄膜の形成には、
ＣＦ_４ガスまたはＣ_４Ｆ_８ガスとＨ_２ガスの混合ガスを
導入すれば良い。また、上記混合ガスのキャリアガスと
してＡｒガス、Ｈｅガス等を添加しても良い。

【００４０】さらに、平行平板電極対をチップ１または
チューブ１１に密着させた状態で、上記チップまたはチ
ューブを移動させることにより毛細管内壁全体に、連続
的に薄膜２０を任意の膜厚にて成膜することができる。

【００４１】また、毛細管２にＯ_２ガス、Ａｒガス単体
を導入しプラズマ生成することで、任意の材質からなる
毛細管内壁のアッシング、エッチング、洗浄をおこなう
ことができる。また、高分子材料から成る毛細管に対し
て、ＡｒガスまたはＨｅガスをキャリアガスとし適量の
Ｏ_２ガス、Ｎ_２ガス等を導入してプラズマ化することで
毛細管内壁の任意の位置の表面改質をおこなうことがで
きる。

【００４２】例えば、ＰＥ、ＰＥＴ等の高分子で形成さ
れた毛細管内に酸素ガスを導入しプラズマ処理すること
で、毛細管内壁の任意の場所を親水性にすることができ
る。他方、毛細管内にＣＦ_４ガスを導入しプラズマ処理
することで、毛細管内壁の任意の場所を疎水性にするこ
とができる。反応ガスはＣ_３Ｆ_８、Ｃ_４Ｆ_８、ＳｉＦ_４
などのその他のフッ素系ガスであっても良い。

【００４３】（実施例５）図８は、平行平板容量結合型
微小プラズマ発生装置を用いて、毛細管内壁の任意の位
置に、しかも平行平板電極対の下流側に、任意の材料か
らなる薄膜を形成する工程を示す図である。例えば、非
導電性物質から成る基板１上に作製した毛細管２ａ〜２
ｃにおいて、毛細管２ａに平行平板電極対（３、３ｇ）
を配置し、酸素ガス２１を導入してプラズマを生成し、
その下流側（ダウンストリーム）に毛細管２ｂからテト
ラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）ガス２２を導入すること
で、毛細管２ｃの位置にＳｉＯ_２薄膜２３を形成するこ
とができる。

【００４４】また、毛細管２ａにアルゴンガスを導入し
プラズマ化すると共に、毛細管２ｂからモノマー等の液
体を導入し、毛細管２ｃ内でプラズマ重合反応により高
分子薄膜を形成することも可能である。プラズマ化する
ガス種や、導入する反応材料を適時設定することで、毛
細管２ｃの内壁に任意の薄膜を形成できる。

【００４５】（実施例６）図９は、平行平板容量結合型
微小プラズマ発生装置を用いて、単一または複数種の物
質を混合し、プラズマ化して化学反応を進行させる工程
を示す図である。非導電性物質から成る基板１上に複数
の毛細管２ａ〜２ｄからなるチャンネルを設け、任意の
チャンネルに所望のガスまたは液体を導入し毛細管２ｅ
内で混合する。上記被反応物質を毛細管２ｅに配置した
平行平板電極対（３、３ｇ）間でプラズマ化し化学反応
を進行させ、反応生成物２４を排気管８より回収する。
この場合、ごく微量の反応生成物質を短時間にしかも有
効に得ることができ、原材料の節約やランニングコスト
の低減が図れる。

【００４６】（実施例７）図１０は、平行平板容量結合
型微小プラズマ発生装置を用いて、複数種の物質を個別
にプラズマ化した後、混合して化学反応を進行させる工
程を示す図である。非導電性物質から成る基板１上に複
数の毛細管２ａ〜２ｄからなるチャンネルを設け、任意
のチャンネルに所望のガスまたは気化した液体を導入す
る。上記各毛細管に配置した平行平板電極対（３ａ、３
ｇａ）〜（３ｄ、３ｇｄ）間で上記ガスまたは気化した
液体をプラズマ化し、プラズマ状態の各物質を毛細管２
ｅに導入し化学反応を進行させ、反応生成物２４を排気
管８より回収する。この場合、ごく微量の反応生成物質
を短時間にしかも有効に得ることができ、原材料の節約
やランニングコストの低減が図れる。

【００４７】

【発明の効果】以上述べたように、本発明の平行平板容
量結合型微小プラズマ発生装置により、微小領域での化
学分析、化学反応および毛細管（キャピラリ）内壁への
薄膜形成や表面処理等のプラズマプロセッシングを、小
型、低価格、低消費電力、簡便かつ高効率なものとし
た。しかも、当該微小プラズマ発生装置は、毛細管を有
した非導電性物体の外部に上記毛細管を挟むように一対
の平行平板電極を配置し、上記電極に電力を供給し上記
毛細管の内部にプラズマを発生することで、電極が直接
プラズマに曝されることを防止し、プラズマ発生装置の
長寿命化、汚損無しで高信頼性のプラズマプロセスを提
供することを可能にした。

【図面の簡単な説明】

【図１】平行平板容量結合型微小プラズマ発生装置の全
体を示す図。

【図２】図１に於けるＸ−Ｘ′線断面図。

【図３】２０×２０ｍｍ^２石英チップ上の毛細管内で
の、大気圧微小ヘリウムプラズマ発生の様子を示した
図。

【図４】微小アルゴンプラズマに於ける、放電開始電力
のガス圧力依存性を示す図。

【図５】平行平板容量結合型微小プラズマ発生装置を用
いて、チューブ内にプラズマを生成する手段を示す図。

【図６】平行平板容量結合型微小プラズマ発生装置を用
いたマイクロガスクロマトグラフ方法を示す図。

【図７】平行平板容量結合型微小プラズマ発生装置を用
いて、毛細管内の任意の位置に薄膜を作製する工程を示
す図。

【図８】平行平板容量結合型微小プラズマ発生装置を用
いて、毛細管内のプラズマ源の下流位置に薄膜を形成す
る工程を示す図。

【図９】平行平板容量結合型微小プラズマ発生装置を用
いて、チップ内で化学合成をおこなう工程を示す図。

【図１０】平行平板容量結合型微小プラズマ発生装置を
用いて、チップ内で化学合成をおこなう他の工程を示す
図。

【図１１】従来の技術による、基板電極プラズマ発生装
置の全体を示す図。

【符号の説明】

１．非導電性基板２．毛細管（キャピラリ）２ａ〜２ｅ．毛細管（キャピラリ）３．平行平板電極（電力印加側）３ａ〜３ｄ．平行平板電極（電力印加側）３ｇ．平行平板電極（接地側）３ａ’〜３ｇｄ．平行平板電極（接地側）４ａ〜４ｃ．切り替えスイッチ５．整合回路６．交流または高周波電源７．ガス導入管８．ガス排気管９．プロセスガス１０．大気圧ヘリウムプラズマ１１．チューブまたはパイプ１２．微小プラズマ１３．光取り出し窓１４．光ファイバー１５．分光分析装置１６．キャリアガス１７．未知ガス１８．未知の液体１９．アルゴンとＣＨ_４の混合ガス２０．アモルファスカーボン薄膜２１．酸素ガス２２．テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）ガス２３．ＳｉＯ_２薄膜２４．反応生成物２５．シリコン基板２６ａ．基板電極１２６ｂ．基板電極２２６ｃ．プラズマ発生部位２７ａ．基板電極１２７ｂ．基板電極２２７ｃ．プラズマ発生部位２８ａ．基板電極１２８ｂ．基板電極２２８ｃ．プラズマ発生部位２９ａ．基板電極１２９ｂ．基板電極２２９ｃ．プラズマ発生部位

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者吉木宏之山形県鶴岡市稲生２丁目36番地３の４号Ｆターム(参考） 2G058 AA01 BA08 DA00 DA07 GA06 4K030 AA09 BA27 CA15 FA01 KA30

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一つあるいは複数の毛細管（キャピラリ）
を有する非導電性物質から成る物体において、上記一つ
あるいは任意の複数個の毛細管を挟んで、上記物体の外
部に一対あるいは複数対の平行平板電極を配置し、上記
対電極の一方に交流電力あるいは高周波電力を印加し、
他方は接地された状態で、上記毛細管に所定のガスを導
入し、任意の雰囲気下でプラズマを発生することを特徴
とする平行平板容量結合型微小プラズマ発生装置。
【請求項２】前記非導電性物質が石英、パイレックス
（登録商標）ガラス、アルミナ、サファイア、ナイロ
ン、塩化ビニル、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリエチレン
テレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート、ゴム、
樹脂等の誘電体で構成されていることを特徴とする請求
項１記載の平行平板容量結合型微小プラズマ発生装置。
【請求項３】前記電極対がＣｕ、Ａｌ、Ａｕ、Ｐｔ等の
金属薄板、スパッタ薄膜、電気メッキ金属からなる電極
対であることを特徴とする請求項１記載の平行平板容量
結合型微小プラズマ発生装置。
【請求項４】前記非導電性物質から成る物体がチュー
ブ、パイプ等の管状物体であるか、チップあるいは基板
であることを特徴とする請求項１記載の平行平板容量結
合型微小プラズマ発生装置。
【請求項５】前記交流電力又は高周波電力を連続的にあ
るいはパルス状に印加することを特徴とする請求項１記
載の平行平板容量結合型微小プラズマ発生装置。
【請求項６】前記毛細管（キャピラリ）がフォトリソグ
ラフィック微細加工でパターンニングし、ウエットある
いはドライエッチング加工技術により作製されたことを
特徴とする請求項１記載の平行平板容量結合型微小プラ
ズマ発生装置。
【請求項７】同一物体上に複数の平行平板電極対を配置
した場合、上記各電極対をおのおの独立して制御しプラ
ズマ発生することを特徴とする請求項１記載の平行平板
容量結合型微小プラズマ発生装置。
【請求項８】請求項１ないし７に記載された平行平板容
量結合型微小プラズマ発生装置を用い、微量の未知のガ
スをキャリアガスと共に毛細管に導入し、上記ガス成分
を定量分析するマイクロ化学分析方法。
【請求項９】請求項１ないし７に記載された平行平板容
量結合型微小プラズマ発生装置を用い、微量の未知の液
体を気化しキャリアガスと共に毛細管に導入し、上記液
体成分を定量分析するマイクロ化学分析方法。
【請求項１０】請求項１ないし７に記載された平行平板
容量結合型微小プラズマ発生装置を用い、毛細管内の任
意の位置に任意の材料からなる薄膜を形成することを特
徴とする材料プロセッシング方法。
【請求項１１】請求項１ないし７に記載された平行平板
容量結合型微小プラズマ発生装置を用い、毛細管内の任
意の位置にアッシング、エッチング、洗浄、改質等の表
面処理を行うことを特徴とする材料プロセッシング方
法。
【請求項１２】請求項１ないし７に記載された平行平板
容量結合型微小プラズマ発生装置を用い、単一物質また
は複数種の物質を混合し毛細管に導入し、プラズマ化し
て化学反応をおこさせることを特徴とするマイクロ化学
合成方法。
【請求項１３】請求項１ないし７に記載された平行平板
容量結合型微小プラズマ発生装置を用い、複数種の物質
を個別に毛細管に導入しプラズマ化し、上記個別にプラ
ズマ化した各物質を毛細管内又は毛細管外で混合するこ
とで化学反応をおこさせることを特徴とするマイクロ化
学合成方法。