JP2003029282A - 液晶表示装置 - Google Patents

液晶表示装置

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JP2003029282A
JP2003029282A JP2001216985A JP2001216985A JP2003029282A JP 2003029282 A JP2003029282 A JP 2003029282A JP 2001216985 A JP2001216985 A JP 2001216985A JP 2001216985 A JP2001216985 A JP 2001216985A JP 2003029282 A JP2003029282 A JP 2003029282A
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JP
Japan
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liquid crystal
slits
crystal display
display device
pixel electrodes
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Application number
JP2001216985A
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English (en)
Inventor
Atsuyuki Manabe
敦行 真鍋
Kazuyuki Haruhara
一之 春原
Yasushi Kawada
靖 川田
Shoichi Kurauchi
昭一 倉内
Takashi Yamaguchi
剛史 山口
Natsuko Maya
奈津子 磨矢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】アレイ基板と対向基板とを高精度に位置合わせ
することなく製造することが可能なマルチドメイン型垂
直配向モードの液晶表示装置を提供すること。 【解決手段】本発明の液晶表示装置1は、マルチドメイ
ン型垂直配向モードの液晶表示装置であって、共通電極
16に、複数のスリット20が、対向基板3をアレイ基
板2に対して任意の方向及び任意の距離だけ相対的に平
行移動させた場合に共通電極16の複数の画素電極10
と対向するそれぞれの領域内に複数のスリット20の2
つ以上が常に存在するように設けられたことを特徴とす
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置に係
り、特にはマルチドメイン型垂直配向モードの液晶表示
装置に関する。
【0002】
【従来の技術】現在、多くの液晶表示装置にはTN(ツ
イストネマチック:Twisted Nematic)モードが採用さ
れているが、視野角及び応答速度の点で有利なIPS
(水平配向:In Plain Switching)モードやVAN(Ve
rtically Aligned Nematic)モードの開発も盛んに行わ
れている。VANモードの中でもマルチドメイン型VA
Nモード(以下、MVAモードという)は、視野角の補
償設計が比較的容易なことから特に注目を集めている。
【0003】MVAモードの液晶表示装置では、1つの
画素領域を液晶分子のチルト方向が互いに異なる複数の
ドメインへと分割することにより視野角の補償を可能と
している。しかしながら、そのようなドメイン構造を形
成するには、アレイ基板及び対向基板の双方に対して畝
状突起構造を設けること及び画素電極や共通電極にスリ
ットを設けることの少なくとも一方を行い、さらに、ア
レイ基板と対向基板との位置合わせを極めて高い精度で
行わなければならない。そのため、コストの上昇や信頼
性の低下を生じてしまう。
【0004】また、近年では、TNモードの液晶表示装
置の製造において、アレイ基板にカラーフィルタ層を形
成する技術が実用化され始めている。この技術による
と、アレイ基板と対向基板とを貼り合わせてセルを形成
する際に、カラーフィルタ層を構成する各色領域と画素
電極とを位置合わせする必要がない。したがって、この
ような技術をMVAモードの液晶表示装置の製造にも適
用することが望まれるが、従来のMVAモードの液晶表
示装置では、アレイ基板と対向基板とを貼り合わせてセ
ルを形成する際に、それらの間で畝状突起構造やスリッ
トの位置合わせを行う必要がある。そのため、従来のM
VAモードの液晶表示装置では、アレイ基板にカラーフ
ィルタ層を形成したとしても、TNモードの液晶表示装
置で得られる利益を享受することはできなかった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
に鑑みてなされたものであり、アレイ基板と対向基板と
を高精度に位置合わせすることなく製造することが可能
なマルチドメイン型垂直配向モードの液晶表示装置を提
供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、第1透明基板、前記第1透明基板上で第
1方向及び前記第1方向と交差する第2方向に配列した
複数の画素電極、及び前記複数の画素電極上に形成され
た第1配向膜を備えたアレイ基板と、前記第1配向膜に
対向して配置された第2透明基板、前記第2透明基板の
前記第1配向膜との対向面に形成され且つ複数のスリッ
トが設けられた共通電極、及び前記共通電極上に形成さ
れた第2配向膜を備えた対向基板と、前記アレイ基板と
前記対向基板との間に挟持された液晶層とを具備するマ
ルチドメイン型垂直配向モードの液晶表示装置であっ
て、前記複数のスリットは、前記対向基板を前記アレイ
基板に対して任意の方向及び任意の距離だけ相対的に平
行移動させた場合に前記共通電極の前記複数の画素電極
と対向するそれぞれの領域内に前記複数のスリットの2
つ以上が常に存在するように設けられたことを特徴とす
る液晶表示装置を提供する。
【0007】なお、ここで、或る「領域内に複数のスリ
ットの2つ以上が存在する」ことは、少なくとも2つの
スリットの全体がその領域内に存在していることに加
え、少なくとも2つのスリットがその領域内に部分的に
存在していることも包含する。
【0008】本発明の液晶表示装置において、複数のス
リットのそれぞれの長手方向は第1方向と鋭角を為して
交差していてもよい。或いは、複数のスリットのそれぞ
れの長手方向は第1方向と平行であってもよい。
【0009】本発明の液晶表示装置において、複数の画
素電極は第1方向に第1ピッチで及び第2方向に第2ピ
ッチで周期的に配列していてもよい。
【0010】複数のスリットのそれぞれの長手方向が第
1方向と平行であり且つ複数の画素電極は第1方向に第
1ピッチで及び第2方向に第2ピッチで周期的に配列し
ている場合、複数のスリットは、第1方向に第3ピッチ
で及び第2方向に第2ピッチで周期的に配列した複数の
第1スリットと、第1方向に第3ピッチで及び第2方向
に第2ピッチで周期的に配列し且つ複数の第1スリット
とは第1方向の位置及び第2方向の位置の双方がそれぞ
れ異なる複数の第2スリットとを含み、共通電極の複数
の画素電極と対向するそれぞれの領域内には複数の第1
スリットの少なくとも1つと複数の第2スリットの少な
くとも1つとが存在していてもよい。
【0011】この場合、第1方向に隣り合う複数の第1
スリットの1つ及び複数の第2スリットの1つの第2方
向への投影は重なり合うことなく1本の線分を形成して
もよい。また、この場合、複数の第1スリットのそれぞ
れは複数の画素電極の第2方向に隣り合う2つの間のギ
ャップよりも幅が狭くてもよい。
【0012】本発明の液晶表示装置において、アレイ基
板はその表面に畝状突起構造を有していてもよい。ま
た、アレイ基板はカラーフィルタ層をさらに備えていて
もよい。さらに、アレイ基板は、互いに交差する複数本
の第1及び第2配線とそれら複数本の第1及び第2配線
の交差部にそれぞれ配置された複数のスイッチング素子
とをさらに備えていてもよい。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態につい
て、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図に
おいて、同様または類似する構成要素には同一の参照符
号を付し、重複する説明は省略する。
【0014】図1は、本発明の第1の実施形態に係る液
晶表示装置を概略的に示す断面図である。図1に示す液
晶表示装置1は、MVAモードの液晶表示装置であっ
て、アクティブマトリクス基板(或いは、アレイ基板)
2と対向基板3との間に液晶層4を挟持させた構造を有
している。これらアクティブマトリクス基板2と対向基
板3との間隔はスペーサ5によって一定に維持されてお
り、アクティブマトリクス基板2と対向基板3との間に
はそれらの周縁部に沿って接着剤層6が設けられてい
る。また、この液晶表示装置1の両面には、図示しない
偏光フィルムが貼り付けられている。
【0015】アクティブマトリクス基板2は、ガラス基
板のような透明基板7を有している。透明基板7の一方
の主面上には配線及びスイッチング素子8が形成されて
いる。また、それらの上には、カラーフィルタ層9、画
素電極10、図示しない畝状突起部、及び配向膜11が
順次形成されている。
【0016】透明基板7上に形成する配線は、アルミニ
ウム、モリブデン、及び銅などからなる走査線及び信号
線などである。また、スイッチング素子8は、例えば、
アモルファスシリコンやポリシリコンを半導体層とした
TFTであり、走査線及び信号線などの配線並びに画素
電極10と接続されている。アクティブマトリクス基板
2では、このような構成により、所望の画素電極10に
対して選択的に電圧を印加することを可能としている。
【0017】透明基板7と画素電極10との間に介在す
るカラーフィルタ層9は、緑色の着色層9a、青色の着
色層9b、及び赤色の着色層9cを並置した構造を有し
ている。それら着色層9a〜9cのそれぞれは、例え
ば、紙面に対して垂直な方向に延在したストライプ状の
形状を有している。また、これら着色層9a〜9cには
コンタクトホールが設けられており、画素電極10は、
このコンタクトホールを介してスイッチング素子と接続
されている。
【0018】画素電極10は、ITOのような透明導電
材料で構成され得る。画素電極10は、例えばスパッタ
リング法などにより薄膜を形成した後、フォトリソグラ
フィ技術及びエッチング技術を用いてその薄膜をパター
ニングすることにより形成することができる。
【0019】画素電極10上に形成する畝状突起部は、
例えば、画素電極10の対向する一対の端部上に図中横
方向に延在するように設けられる。畝状突起部は、例え
ば、配向膜11の表面に畝状突起構造を形成し、それに
より、隣り合う画素領域の一方の配向状態が他方の配向
状態に影響を与えるのを防止する役割を果たす。
【0020】配向膜11は、ポリイミドなどの透明樹脂
からなる薄膜で構成されている。なお、この配向膜11
には、ラビング処理は施さない。
【0021】対向基板3は、ガラス基板のような透明基
板15上に、共通電極16及び配向膜17を順次形成し
た構造を有している。これら共通電極16及び配向膜1
7は、画素電極10及び配向膜11と同様の材料で形成
され得る。
【0022】共通電極16には、スリット20が設けら
れている。これらスリット20や画素電極10間のギャ
ップは、画素電極10と共通電極16との間に閾値電圧
以上の第2表示電圧を印加した際に液晶層4中に湾曲し
た電界を形成する。これにより、画素電極10によって
規定される画素領域は、液晶分子25のチルト方向が互
いに異なる複数のドメインへと分割される。なお、図1
に示す液晶表示装置1によると、例えば、画素電極10
と共通電極16との間に印加する電圧を閾値電圧未満の
第1表示電圧と閾値電圧以上の第2表示電圧との間で変
化させることにより表示を行う。
【0023】図2は、図1に示す液晶表示装置1のアク
ティブマトリクス基板2と対向基板3とを概略的に示す
斜視図である。また、図3は、図1に示す液晶表示装置
1の平面図である。なお、図3において、参照番号12
は畝状突起部を示している。
【0024】図2及び図3に示すように、本実施形態で
は、スリット20は比較的高密度に設けられている。そ
のため、本実施形態によると、アクティブマトリクス基
板2と対向基板3との相対位置が本来の位置からずれた
としても、それぞれの画素電極10によって規定される
画素領域内には複数のスリット20が常に存在すること
となる。しかも、本実施形態では、スリット20のそれ
ぞれの長手方向は画素電極10の配列方向に対して鋭角
を為している。そのため、本実施形態によると、位置合
わせにアライメントマークなどを利用しなくても、確実
に画素領域を複数のドメインへと分割することができ
る。そのため、比較的低いコストで製造すること及び高
い信頼性を実現することが可能となる。
【0025】次に、本発明の第2の実施形態について説
明する。図4は、本発明の第2の実施形態に係る液晶表
示装置を概略的に示す平面図である。なお、図4に示す
液晶表示装置1は、スリット20が形成するパターンが
異なること以外は、図3に示す液晶表示装置1と同様の
構造を有している。
【0026】図4に示すように、本実施形態ではスリッ
ト20として3種のスリット20a〜20cが設けられ
ており、スリット20a〜20cのそれぞれの長手方向
は画素電極10の縦の配列方向に平行である。スリット
20a〜20cのそれぞれは、画素電極10の図中横方
向の配列ピッチと同じピッチで図中横方向に配列してお
り、画素電極10の図中縦方向の配列ピッチと同じピッ
チで図中縦方向に配列している。また、スリット20a
〜20cは、図中縦方向の位置及び横方向の位置が互い
に異なっている。
【0027】図4に示す構造によると、アクティブマト
リクス基板2と対向基板3との相対位置が本来の位置か
らずれたとしても、それぞれの画素電極10によって規
定される画素領域内にはスリット20a〜20cの少な
くとも2つが常に存在することとなる。そのため、本実
施形態によると、位置合わせにアライメントマークなど
を利用しなくても、確実に画素領域を複数のドメインへ
と分割することができる。そのため、比較的低いコスト
で製造すること及び高い信頼性を実現することが可能と
なる。
【0028】なお、スリット20の長手方向が画素電極
10の縦の配列方向に平行である場合、スリット20が
隣り合う画素電極10間のギャップ上に位置すると、良
好な配向分割が困難となるが、図4に示す構造による
と、例えばスリット20bが隣り合う画素電極10間の
ギャップ上に位置したとしても、スリット20a,20
cは画素電極10上に位置することとなる。そのため、
画素領域の一部において良好な配向分割が困難となるも
のの、その他の部分では良好な配向分割が可能である。
【0029】次に、本発明の第3の実施形態について説
明する。図5は、本発明の第3の実施形態に係る液晶表
示装置を概略的に示す平面図である。なお、図5に示す
液晶表示装置1は、スリット20a〜20cが形成する
パターンが異なること以外は、図4に示す液晶表示装置
1と同様の構造を有している。
【0030】図4に示す液晶表示装置1では、スリット
20aとスリット20bとの図中横方向への投影は互い
に離間した2本の線分を形成し、スリット20bとスリ
ット20cとの図中横方向への投影は部分的に重なり合
っている。このような場合、配向不良領域31が形成さ
れるのとともにディスクリネーション32が発生するこ
とがある。これは、スリット20aとスリット20bと
の間では配向制御は画素電極10の両端部のみで行われ
るためであり、スリット20bとスリット20cとの間
ではそれらによって誘起された配向が互いに干渉し合う
からである。
【0031】これに対し、図5に示す構造によると、画
素領域内の全ての部分において、液晶分子の配向は、ス
リットと画素電極10の端部との組み合わせによって制
御される。そのため、図4に示す配向不良領域31やデ
ィスクリネーション32を生ずることはない。
【0032】なお、図5に示す構造の変形例を図6に示
す。図6は、図5に示す液晶表示装置1の変形例を示す
平面図である。図5及び図6に示すように、スリット2
0a〜20cの長手方向を画素電極10の長手方向に対
して平行としてもよく或いは交差させてもよい。
【0033】以上説明した第2及び第3の実施形態にお
いて、スリット20a〜20cの幅は、図中横方向に隣
り合う画素電極10間のギャップと同じか或いはそれよ
りも狭いことが好ましい。これについては、図7を参照
しながら説明する。
【0034】図7は、本発明の第2及び第3の実施形態
に係る液晶表示装置1で利用可能な構造の一例を概略的
に示す平面図である。例えば、スリット20cの幅が図
中横方向に隣り合う画素電極10間のギャップよりも広
い場合にスリット20cがギャップの真上に位置する
と、図7に示すように、2つのスリット20cが画素電
極10上に位置することとなるため、それらスリット2
0cが誘起する配向同士が干渉して配向不良領域31及
びディスクリネーション32が発生する。
【0035】それに対し、スリット20aの幅が図中横
方向に隣り合う画素電極10間のギャップよりも狭い場
合、スリット20aがギャップの真上に位置しても、2
つのスリット20aが同時に画素電極10上に位置する
ことはなく、上記の干渉を生ずることはない。また、ス
リット20aの幅が上記ギャップと等しい場合、真に画
素電極10間のギャップ中央の位置から少しでもずれれ
ば、1つのスリット20aは画素電極10上に位置する
こととなるため、配向分割が可能となる。また、スリッ
ト20aが真に画素電極10間の中央に位置された場合
でも、配向分割はできないものの、スリット20a間で
液晶分子を片側配向させることは可能である。したがっ
て、このような構造を採用することにより、透過率の低
下を抑制することができる。
【0036】図7に示す構造により得られる効果は、図
8に示す構造を採用した場合にも得ることができる。図
8は、本発明の第2及び第3の実施形態に係る液晶表示
装置1で利用可能な構造の他の例を概略的に示す平面図
である。図8に示す構造においては、スリット20aの
代わりに、一対のスリット20a1,20a2が設けられ
ている。なお、隣り合う1つのスリット20a1と1つ
のスリット20a2との組み合わせの幅は、図中横方向
に隣り合う画素電極10間のギャップと等しいか或いは
それよりも狭い。
【0037】図7を参照して説明したように、スリット
20cの幅が図中横方向に隣り合う画素電極10間のギ
ャップよりも広い場合、スリット20cがギャップの真
上に位置すると、それらスリット20cが誘起する配向
同士が干渉して配向不良領域31及びディスクリネーシ
ョン32が発生する。
【0038】これに対し、図8に示すスリット20a1
とスリット20a2との組み合わせによると、図7に示
すスリット20aと同様に、上記の干渉を生ずることは
なく、また、スリット20a1及びスリット20a2のい
ずれかが画素電極10間に位置された場合でも、スリッ
ト20a1,20a2間で液晶分子を片側配向させること
が可能である。したがって、このような構造でも、透過
率の低下を抑制することができる。
【0039】上述した第1〜第3の実施形態では、スリ
ット20を帯状とした場合について説明したが、スリッ
ト20の形状は様々な変形が可能である。図9(a)〜
(g)は、それぞれ、本発明の第1〜第3の実施形態に
係る液晶表示装置1で利用可能なスリット20の形状の
例を示す平面図である。なお、図8における縦方向及び
横方向は、図3〜図8における縦方向及び横方向にそれ
ぞれ対応している。
【0040】図8を参照して説明したように、スリット
20の少なくとも一部としてスリット20a1とスリッ
ト20a2との組み合わせを利用する場合、図9(a)
に示すようにスリット20a1を傾斜させてもよく、図
9(b)に示すようにスリット20a1,20a2の双方
を互いに平行としつつ傾斜させてもよく、図9(c)に
示すようにスリット20a1,20a2をハの字型に傾斜
させてもよい。また、スリット20の少なくとも一部
を、図9(d)に示すように円弧状としてもよく、図9
(e)に示すようにジグザグ状としてもよく、図9
(f)に示すように楕円状としてもよく、図9(g)に
示すようにS字状としてもよい。
【0041】また、本実施形態では、アクティブマトリ
クス基板2と対向基板3との間のギャップを一定に維持
するために粒状スペーサ5を利用したが、その代わり
に、フォトリソグラフィ技術を用いてそれら基板2,3
のいずれかの対向面に柱状スペーサを形成してもよい。
【0042】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。 (実施例1)図1及び図3に示す液晶表示装置1を以下
に説明する方法により作製した。まず、通常のTFT形
成プロセスと同様に成膜とパターニングとを繰返し、ガ
ラス基板7上に走査線及び信号線等の配線並びにTFT
8を形成した。
【0043】次に、ガラス基板7のTFT8等を形成し
た面に、紫外線硬化型アクリル系緑色レジスト液をスピ
ナを用いて塗布し、それにより得られた塗膜を約90℃
で約5分間プリベークした。続いて、この塗膜を所定の
フォトマスクを介して150mJ/cm2の強度の紫外
線で露光した。続いて、この塗膜を約0.1重量%のT
MAH(テトラメチルアンモニウムハイドライド)水溶
液を用いて約60秒間現像し、水洗後、さらに約200
℃で1時間程度ポストベークすることにより、直径15
μmの円柱状のコンタクトホールが設けられたストライ
プ状の緑色着色層9aを得た。次いで、緑色着色層9a
に関して説明したのと同様の方法により、青色着色層9
b及び赤色着色層9cを順次形成した。以上のようにし
てカラーフィルタ層9を得た。
【0044】次に、ガラス基板7のカラーフィルタ層9
を形成した面に対し、所定のパターンのマスクを介して
ITOをスパッタリングすることにより画素電極10を
形成した。その後、ガラス基板7の画素電極10を形成
した面の全面に紫外線硬化型透明レジスト液を塗布し、
着色層9aに関して説明したのと同様にプリベーク、露
光、現像等を行うことにより畝状突起部12を形成し
た。さらに、ガラス基板の畝状突起部12を形成した面
の全面に熱硬化性樹脂を塗布し、この塗膜を焼成するこ
とにより配向膜11を形成した。以上のようにして、ア
クティブマトリクス基板2を作製した。
【0045】次に、別途用意したガラス基板15の一方
の主面上に、共通電極16として、スパッタリング法を
用いて厚さ約100nmのITO膜を形成した。このI
TO膜をパターニングすることにより、図2に示すよう
なスリット20を有する共通電極16を形成した。続い
て、この共通電極16の全面に、アクティブマトリクス
基板2に関して説明したのと同様の方法により配向膜1
7を形成した。以上のようにして、対向基板3を作製し
た。
【0046】次に、対向基板3の配向膜17上に、直径
約4μmの粒状スペーサ5を1平方mm当り約100個
の割合で散布した。次いで、対向基板3の配向膜17を
形成した面の周縁部に、所定のサイズのファイバを混入
したシール剤6を塗布した。なお、シール剤6の塗布
は、液晶材料注入用の注入口が形成されるように行っ
た。続いて、この対向基板3にアクティブマトリクス基
板2を貼り合わせることにより、空状態の液晶セルを形
成した。それら基板2,3を貼り合わせる際、基板2,
3の位置合わせはそれらの端面位置を揃えることにより
行い、アライメントマークなどを利用する高精度な位置
合わせは行わなかった。
【0047】その後、この液晶セル中に誘電率異方性が
負である液晶材料を通常の真空注入法により注入して液
晶層4を形成した。次いで、液晶注入口を紫外線硬化樹
脂で封止し、液晶セルの両面に図示しない偏光フィルム
を貼り付けることにより図1及び図3に示す液晶表示装
置1を得た。
【0048】次に、以上のようにして作製した液晶表示
装置1を実際に駆動して、配向状態の観察を行った。そ
の結果、部分的に配向不良領域31やディスクリネーシ
ョン32が発生したものの、全ての画素領域を複数のド
メインへと配向分割することができ、非常に広い視野角
を実現することができた。
【0049】(実施例2)スリット20の配列パターン
を変更したこと以外は実施例1で説明したのと同様の方
法により図4に示す液晶表示装置1を作製した。なお、
本実施例において、スリット20a〜20cの幅は、図
4において横方向に隣り合う画素電極10間のギャップ
と等しいか或いはそれよりも狭い。
【0050】この液晶表示装置1についても実際に駆動
して配向状態の観察を行った。その結果、部分的に配向
不良領域31やディスクリネーション32が発生したも
のの、全ての画素領域を複数のドメインへと配向分割す
ることができ、非常に広い視野角を実現することができ
た。また、本実施例に係る液晶表示装置1では、実施例
1に係る液晶表示装置1に比べて2%ほど高い透過率を
得ることができた。
【0051】(実施例3)スリット20の配列パターン
を変更したこと以外は実施例1で説明したのと同様の方
法により図5に示す液晶表示装置1を作製した。なお、
本実施例において、スリット20a〜20cの幅は、図
4において横方向に隣り合う画素電極10間のギャップ
と等しいか或いはそれよりも狭い。
【0052】この液晶表示装置1についても実際に駆動
して配向状態の観察を行った。その結果、配向不良領域
31やディスクリネーション32はほぼ発生せず、全て
の画素領域を複数のドメインへと配向分割することがで
き、非常に広い視野角を実現することができた。また、
本実施例に係る液晶表示装置1では、実施例1に係る液
晶表示装置1に比べて12%ほど高い透過率を得ること
ができた。
【0053】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の液晶表示
装置では、共通電極に複数のスリットを設けるに当り、
対向基板をアレイ基板に対して任意の方向及び任意の距
離だけ相対的に平行移動させても共通電極の画素電極と
対向する領域内に複数のスリットが常に存在するように
している。そのため、アレイ基板と対向基板とを貼り合
わせる際に、それらを高精度に位置合わせする必要がな
い。すなわち、本発明によると、アレイ基板と対向基板
とを高精度に位置合わせすることなく製造することが可
能なマルチドメイン型垂直配向モードの液晶表示装置が
提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態に係る液晶表示装置を
概略的に示す断面図。
【図2】図1に示す液晶表示装置のアクティブマトリク
ス基板と対向基板とを概略的に示す斜視図。
【図3】図1に示す液晶表示装置の平面図。
【図4】本発明の第2の実施形態に係る液晶表示装置を
概略的に示す平面図。
【図5】本発明の第3の実施形態に係る液晶表示装置を
概略的に示す平面図。
【図6】図5に示す液晶表示装置の変形例を示す平面
図。
【図7】本発明の第2及び第3の実施形態に係る液晶表
示装置で利用可能な構造の一例を概略的に示す平面図。
【図8】本発明の第2及び第3の実施形態に係る液晶表
示装置で利用可能な構造の他の例を概略的に示す平面
図。
【図9】(a)〜(g)は、それぞれ、本発明の第1〜
第3の実施形態に係る液晶表示装置で利用可能なスリッ
トの形状の例を示す平面図。
【符号の説明】
1…液晶表示装置; 2…アレイ基板; 3…対向基板; 4…液晶層; 5…スペーサ; 6…接着剤層; 7…透明基板; 8…スイッチング素子; 9…カラーフィルタ層; 9a〜9c…着色層; 10…画素電極 11…配向膜; 12…畝状突起部; 15…透明基板; 16…共通電極; 17…配向膜; 20,20a〜20c,20a1,20a2…スリット; 25…液晶分子; 31…配向不良領域; 32…ディスクリネーション
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川田 靖 埼玉県深谷市幡羅町一丁目9番地2 株式 会社東芝深谷工場内 (72)発明者 倉内 昭一 埼玉県深谷市幡羅町一丁目9番地2 株式 会社東芝深谷工場内 (72)発明者 山口 剛史 埼玉県深谷市幡羅町一丁目9番地2 株式 会社東芝深谷工場内 (72)発明者 磨矢 奈津子 埼玉県深谷市幡羅町一丁目9番地2 株式 会社東芝深谷工場内 Fターム(参考) 2H090 HB08Y LA15 MA01 MA13 2H092 GA13 JA24 JA46 JB05 JB11 JB58 MA13 MA17 PA02 PA08 PA11 QA06

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1透明基板、前記第1透明基板上で第
    1方向及び前記第1方向と交差する第2方向に配列した
    複数の画素電極、及び前記複数の画素電極上に形成され
    た第1配向膜を備えたアレイ基板と、 前記第1配向膜に対向して配置された第2透明基板、前
    記第2透明基板の前記第1配向膜との対向面に形成され
    且つ複数のスリットが設けられた共通電極、及び前記共
    通電極上に形成された第2配向膜を備えた対向基板と、 前記アレイ基板と前記対向基板との間に挟持された液晶
    層とを具備するマルチドメイン型垂直配向モードの液晶
    表示装置であって、 前記複数のスリットは、前記対向基板を前記アレイ基板
    に対して任意の方向及び任意の距離だけ相対的に平行移
    動させた場合に前記共通電極の前記複数の画素電極と対
    向するそれぞれの領域内に前記複数のスリットの2つ以
    上が常に存在するように設けられたことを特徴とする液
    晶表示装置。
  2. 【請求項2】 前記複数のスリットのそれぞれの長手方
    向は前記第1方向と鋭角を為して交差したことを特徴と
    する請求項1に記載の液晶表示装置。
  3. 【請求項3】 前記複数のスリットのそれぞれの長手方
    向は前記第1方向に平行であることを特徴とする請求項
    1に記載の液晶表示装置。
  4. 【請求項4】 前記複数の画素電極は前記第1方向に第
    1ピッチで及び前記第2方向に第2ピッチで周期的に配
    列し、 前記複数のスリットは、前記第1方向に第3ピッチで及
    び前記第2方向に前記第2ピッチで周期的に配列した複
    数の第1スリットと、前記第1方向に前記第3ピッチで
    及び前記第2方向に前記第2ピッチで周期的に配列し且
    つ前記複数の第1スリットとは前記第1方向の位置及び
    前記第2方向の位置の双方がそれぞれ異なる複数の第2
    スリットとを含み、 前記共通電極の前記複数の画素電極と対向するそれぞれ
    の領域内には前記複数の第1スリットの少なくとも1つ
    と前記複数の第2スリットの少なくとも1つとが存在し
    ていることを特徴とする請求項3に記載の液晶表示装
    置。
  5. 【請求項5】 前記第1方向に隣り合う前記複数の第1
    スリットの1つ及び前記複数の第2スリットの1つの前
    記第2方向への投影は重なり合うことなく1本の線分を
    形成することを特徴とする請求項4に記載の液晶表示装
    置。
  6. 【請求項6】 前記複数の第1スリットのそれぞれは前
    記複数の画素電極の前記第2方向に隣り合う2つの間の
    ギャップよりも幅が狭いことを特徴とする請求項4に記
    載の液晶表示装置。
  7. 【請求項7】 前記アレイ基板はその表面に畝状突起構
    造を有していることを特徴とする請求項1に記載の液晶
    表示装置。
  8. 【請求項8】 前記アレイ基板はカラーフィルタ層をさ
    らに備えたことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示
    装置。
  9. 【請求項9】 前記アレイ基板は、互いに交差する複数
    本の第1及び第2配線と前記複数本の第1及び第2配線
    の交差部にそれぞれ配置された複数のスイッチング素子
    とをさらに備えたことを特徴とする請求項1に記載の液
    晶表示装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007052269A (ja) * 2005-08-18 2007-03-01 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 液晶表示装置及びその製造方法
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JP2012002903A (ja) * 2010-06-15 2012-01-05 Stanley Electric Co Ltd 液晶表示装置

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