JP2003022892A - 発光装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 インクジェット方式による有機化合物層の形
成を効率的に高速に処理することが可能な技術を提供す
ることを目的とする。 【解決手段】 インクジェット方式による有機化合物層
の形成方法において、インクヘッドから発光性を有する
有機化合物を含む組成物を吐出して、連続した有機化合
物層を形成することを特徴としている。当該有機化合物
層は、マトリクス状に配列した画素電極上に形成するも
のであり、複数の画素電極に渡って連続して有機化合物
層を形成するものである。そして、この製造方法により
有機発光素子を用いた発光装置を製造するものである。
成を効率的に高速に処理することが可能な技術を提供す
ることを目的とする。 【解決手段】 インクジェット方式による有機化合物層
の形成方法において、インクヘッドから発光性を有する
有機化合物を含む組成物を吐出して、連続した有機化合
物層を形成することを特徴としている。当該有機化合物
層は、マトリクス状に配列した画素電極上に形成するも
のであり、複数の画素電極に渡って連続して有機化合物
層を形成するものである。そして、この製造方法により
有機発光素子を用いた発光装置を製造するものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、発光体として有機
化合物を用いる発光装置の製造方法に関し、特にインク
ジェット方式を用いる発光装置の製造方法に関する。
化合物を用いる発光装置の製造方法に関し、特にインク
ジェット方式を用いる発光装置の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】有機発光素子は、蛍光又は燐光が得られ
る有機化合物を含む薄膜を、陽極と陰極から成る一対の
電極間に挟んだ構造をもって形成されている。その発光
機構は、陰極から注入された電子と、陽極から注入され
た正孔が発光性物質を含む発光層で再結合して分子励起
子を形成し、その分子励起子が基底状態に戻る時に光を
放出する現象として捉えられている。光を放出する過程
には、一重項状態からの発光（蛍光）と三重項状態から
の発光（燐光）とがある。輝度は１０V以下の印加電圧
であっても数千〜数万cd/m2に及び、有機化合物材料や
そのドーパントを適宜選択することにより青色から赤色
までの発光が可能である。従って、原理的に見ても表示
装置などへの応用が十分可能であると考えられている。
る有機化合物を含む薄膜を、陽極と陰極から成る一対の
電極間に挟んだ構造をもって形成されている。その発光
機構は、陰極から注入された電子と、陽極から注入され
た正孔が発光性物質を含む発光層で再結合して分子励起
子を形成し、その分子励起子が基底状態に戻る時に光を
放出する現象として捉えられている。光を放出する過程
には、一重項状態からの発光（蛍光）と三重項状態から
の発光（燐光）とがある。輝度は１０V以下の印加電圧
であっても数千〜数万cd/m2に及び、有機化合物材料や
そのドーパントを適宜選択することにより青色から赤色
までの発光が可能である。従って、原理的に見ても表示
装置などへの応用が十分可能であると考えられている。
【０００３】有機化合物には高分子化合物、低分子化合
物の両者について検討が進み、開発が成されているが、
いずれも耐熱性が低いことからフォトリソグラフィー等
のパターニング工程を適用することが困難である。イン
クジェット方式はその問題点を克服するために開発さ
れ、基板上に直接パターンを描画することで、フォトリ
ソグラフィーによるパターニング工程を不要なものとし
ている。
物の両者について検討が進み、開発が成されているが、
いずれも耐熱性が低いことからフォトリソグラフィー等
のパターニング工程を適用することが困難である。イン
クジェット方式はその問題点を克服するために開発さ
れ、基板上に直接パターンを描画することで、フォトリ
ソグラフィーによるパターニング工程を不要なものとし
ている。
【０００４】インクジェット方式に関しては、特開平１
０−０１２３７７号広報にアクティブマトリクス型有機
ＥＬ表示体を製造する技術が開示されている。これは、
薄膜トランジスタを有するガラス基板に画素電極が形成
され、当該画素電極上に赤、緑、青の各色の発光層を画
素毎にインクジェット方式で形成するものである。
０−０１２３７７号広報にアクティブマトリクス型有機
ＥＬ表示体を製造する技術が開示されている。これは、
薄膜トランジスタを有するガラス基板に画素電極が形成
され、当該画素電極上に赤、緑、青の各色の発光層を画
素毎にインクジェット方式で形成するものである。
【０００５】インクジェット方式で用いる有機化合物材
料としては、シアノポリフェニレンビニレン、ポリフェ
ニレンビニレンなどの前駆体、アロマティックジアアミ
ン、オキシジアゾール、ジスチルアリーレン、トリフェ
ニルアミン、ジスチリルなどの誘導体、キノリノール系
金属、アゾメチン亜鉛、ポリフィリン亜鉛、ベンゾオキ
サゾール亜鉛、フェナントロリンユウピウムなどの錯体
が知られている。
料としては、シアノポリフェニレンビニレン、ポリフェ
ニレンビニレンなどの前駆体、アロマティックジアアミ
ン、オキシジアゾール、ジスチルアリーレン、トリフェ
ニルアミン、ジスチリルなどの誘導体、キノリノール系
金属、アゾメチン亜鉛、ポリフィリン亜鉛、ベンゾオキ
サゾール亜鉛、フェナントロリンユウピウムなどの錯体
が知られている。
【０００６】上記有機化合物は溶媒に溶解又は分散させ
た状態（以下、これを組成物という）でインクジェット
印刷装置のインクヘッドから滴下して、基板上に被膜を
形成する。組成物の物性としては、粘度、表面張力、乾
燥速度などが重要なパラメータとなる。また、再現性良
く組成物を滴下するにはインクヘッドの幾何学的構造や
その駆動条件が重要であり、吐出する組成物の量、方
向、周期などがパラメータとなっている。
た状態（以下、これを組成物という）でインクジェット
印刷装置のインクヘッドから滴下して、基板上に被膜を
形成する。組成物の物性としては、粘度、表面張力、乾
燥速度などが重要なパラメータとなる。また、再現性良
く組成物を滴下するにはインクヘッドの幾何学的構造や
その駆動条件が重要であり、吐出する組成物の量、方
向、周期などがパラメータとなっている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】インクジェット方式に
おいて、組成物をインクヘッドから吐出させるには、圧
電素子を用い、その振動を利用して組成物が充填された
容器の容積を変化させて外部に組成物を吐出させる仕組
みとなっている。
おいて、組成物をインクヘッドから吐出させるには、圧
電素子を用い、その振動を利用して組成物が充填された
容器の容積を変化させて外部に組成物を吐出させる仕組
みとなっている。
【０００８】インクヘッドから１回に吐出する組成物の
量は１０〜４０plであり、粘度は１〜２０cpが良いと考
えられている。粘度が低い場合は所定の膜厚を得ること
ができず、被形成面に組成物が着弾した後流れ出して必
要以上にパターンが広がってしまう等の問題が発生す
る。また、粘度が高すぎるとインクヘッドの吐出口から
組成物を円滑に吐出できなくなったり、吐出する一滴の
組成物の形状が糸を引いたようになり、着弾後に形状不
良を発生させる等の問題がある。
量は１０〜４０plであり、粘度は１〜２０cpが良いと考
えられている。粘度が低い場合は所定の膜厚を得ること
ができず、被形成面に組成物が着弾した後流れ出して必
要以上にパターンが広がってしまう等の問題が発生す
る。また、粘度が高すぎるとインクヘッドの吐出口から
組成物を円滑に吐出できなくなったり、吐出する一滴の
組成物の形状が糸を引いたようになり、着弾後に形状不
良を発生させる等の問題がある。
【０００９】組成物における溶媒は、基板に滴下後に揮
発するものが適している。しかし、常に連続して滴下し
ていないと溶媒が揮発して、吐出口のところで固まって
しまう。例えば、トルエンなど揮発性の高い溶媒を用い
る場合は、特に注意が必要となる。吐出が連続している
場合でも、吐出口の付近に固形物が次第に成長し、最悪
の場合には吐出口を塞いでしまう。それに至らないにし
ても、吐出口付近にできる固形物は、吐出する組成物の
方向を変化させ、着弾精度が著しく低下してしまう。さ
らに、吐出口の口径が小さくなることにより吐出する組
成物の量が減少し、基板上に形成される有機化合物層の
厚さが減少するという不良が発生する。このような不具
合を防止するために、従来のインクジェット方式では、
固形物による目詰まりを防止するために、頻繁にインク
ヘッドをクリーニングする必要に駆られていた。
発するものが適している。しかし、常に連続して滴下し
ていないと溶媒が揮発して、吐出口のところで固まって
しまう。例えば、トルエンなど揮発性の高い溶媒を用い
る場合は、特に注意が必要となる。吐出が連続している
場合でも、吐出口の付近に固形物が次第に成長し、最悪
の場合には吐出口を塞いでしまう。それに至らないにし
ても、吐出口付近にできる固形物は、吐出する組成物の
方向を変化させ、着弾精度が著しく低下してしまう。さ
らに、吐出口の口径が小さくなることにより吐出する組
成物の量が減少し、基板上に形成される有機化合物層の
厚さが減少するという不良が発生する。このような不具
合を防止するために、従来のインクジェット方式では、
固形物による目詰まりを防止するために、頻繁にインク
ヘッドをクリーニングする必要に駆られていた。
【００１０】本発明はこのような問題点を鑑みてなされ
たものであり、インクジェット方式による有機化合物層
の形成を効率的に高速に処理することが可能な技術を提
供することを目的とする。
たものであり、インクジェット方式による有機化合物層
の形成を効率的に高速に処理することが可能な技術を提
供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】この問題点を解決するた
めに本発明は、インクジェット方式による有機化合物層
の形成方法において、インクヘッドから発光性を有する
有機化合物を含む組成物を吐出して、連続した有機化合
物層を形成することを特徴としている。当該有機化合物
層は、マトリクス状に配列した画素電極上に形成するも
のであり、複数の画素電極に渡って連続して有機化合物
層を形成するものである。そして、この製造方法により
有機発光素子を用いた発光装置を製造するものである。
めに本発明は、インクジェット方式による有機化合物層
の形成方法において、インクヘッドから発光性を有する
有機化合物を含む組成物を吐出して、連続した有機化合
物層を形成することを特徴としている。当該有機化合物
層は、マトリクス状に配列した画素電極上に形成するも
のであり、複数の画素電極に渡って連続して有機化合物
層を形成するものである。そして、この製造方法により
有機発光素子を用いた発光装置を製造するものである。
【００１２】本発明は、有機発光素子をマトリクス状に
配列させて画素部を形成する発光装置の製造方法に適用
することができる。アクティブマトリクス駆動方式を採
用するには、薄膜トランジスタを有する基板に画素電極
を形成し、当該画素電極上層に、正孔注入層が形成し、
この上層に、インクヘッドから発光性を有する有機化合
物を含む組成物を吐出して連続した有機化合物層を形成
する。
配列させて画素部を形成する発光装置の製造方法に適用
することができる。アクティブマトリクス駆動方式を採
用するには、薄膜トランジスタを有する基板に画素電極
を形成し、当該画素電極上層に、正孔注入層が形成し、
この上層に、インクヘッドから発光性を有する有機化合
物を含む組成物を吐出して連続した有機化合物層を形成
する。
【００１３】基板上の被形成面に吐出された組成物は、
溶媒が揮発し固化することにより有機化合物層が形成さ
れる。しかし、表面張力により水玉状に組成物が付着す
ると均一な厚さの有機化合物層が得られないので、平滑
化手段により平滑にする。平滑化手段としては、ノズル
から気体を噴出して組成物を平滑にする。或いは、ヘラ
などを用い、連速的に形成された組成物の表面をならし
て平滑化しても良い。
溶媒が揮発し固化することにより有機化合物層が形成さ
れる。しかし、表面張力により水玉状に組成物が付着す
ると均一な厚さの有機化合物層が得られないので、平滑
化手段により平滑にする。平滑化手段としては、ノズル
から気体を噴出して組成物を平滑にする。或いは、ヘラ
などを用い、連速的に形成された組成物の表面をならし
て平滑化しても良い。
【００１４】噴出する気体として、窒素、アルゴンなど
の不活性気体を用いると組成物の溶媒を揮発させること
ができ、また、酸化を防止することができる。或いは、
吐出口の外周部に同心円状に開口部を設け、その開口部
から気体を噴出することにより平滑化すると共に、吐出
口において組成物が乾燥して固体化し、目詰まりするの
を防ぐことができる。
の不活性気体を用いると組成物の溶媒を揮発させること
ができ、また、酸化を防止することができる。或いは、
吐出口の外周部に同心円状に開口部を設け、その開口部
から気体を噴出することにより平滑化すると共に、吐出
口において組成物が乾燥して固体化し、目詰まりするの
を防ぐことができる。
【００１５】本発明において、インクジェット方式によ
りパターン形成する際に用いられる発光性を有する組成
物は、有機発光材料又はその前駆体を溶媒に溶解又は分
散させたものを用いる。例えば、昇華性を有さず、且つ
分子数が２０以下、又は連鎖する分子の長さが１０μm
以下の有機化合物（これを本明細書において、中分子化
合物という）を用いることができる。
りパターン形成する際に用いられる発光性を有する組成
物は、有機発光材料又はその前駆体を溶媒に溶解又は分
散させたものを用いる。例えば、昇華性を有さず、且つ
分子数が２０以下、又は連鎖する分子の長さが１０μm
以下の有機化合物（これを本明細書において、中分子化
合物という）を用いることができる。
【００１６】その他に、インクジェット方式によりパタ
ーン形成する際に用いられる発光性を有する組成物の一
例は、ポリパラフェニレンビニレン系、ポリパラフェニ
レン系、ポリチオフェン系、ポリフルオレン系などの高
分子系化合物を含む組成物を適用することができる。当
該組成物により作製される有機発光素子の発光色を変え
るために、発光性を有する組成物に、その発光特性を変
化させる蛍光色素が少なくとも一種含ませることでその
目的を達成できる。
ーン形成する際に用いられる発光性を有する組成物の一
例は、ポリパラフェニレンビニレン系、ポリパラフェニ
レン系、ポリチオフェン系、ポリフルオレン系などの高
分子系化合物を含む組成物を適用することができる。当
該組成物により作製される有機発光素子の発光色を変え
るために、発光性を有する組成物に、その発光特性を変
化させる蛍光色素が少なくとも一種含ませることでその
目的を達成できる。
【００１７】従来のインクジェット方式では、インクヘ
ッドの位置制御と、組成物の吐出との操作を繰り返し行
うことで所定のパターンを形成するものであったが、１
ドット毎に吐出する組成物を基板上で連続させ、線状又
はストライプ状の有機化合物層を形成することにより、
位置合わせに要する時間が短縮され、有機化合物層の形
成が容易となり、処理時間を短縮することができる。
ッドの位置制御と、組成物の吐出との操作を繰り返し行
うことで所定のパターンを形成するものであったが、１
ドット毎に吐出する組成物を基板上で連続させ、線状又
はストライプ状の有機化合物層を形成することにより、
位置合わせに要する時間が短縮され、有機化合物層の形
成が容易となり、処理時間を短縮することができる。
【００１８】特に、本発明は１枚の大面積基板から複数
枚の表示用パネルを切り出す生産方式に適用する場合に
適している。また、大面積基板に複数の画素領域が設け
られている場合には、画素領域間の移動の間、混合物の
吐出を瞬時に停止させることで、インクヘッドを大面積
基板に対してより高速に移動させることができる。
枚の表示用パネルを切り出す生産方式に適用する場合に
適している。また、大面積基板に複数の画素領域が設け
られている場合には、画素領域間の移動の間、混合物の
吐出を瞬時に停止させることで、インクヘッドを大面積
基板に対してより高速に移動させることができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について図１
から図１１を参照して説明する。図１は基板１０１上に
データ線駆動回路１０４が形成され、画素部１０２にイ
ンクジェット方式で有機化合物層を形成する段階を示し
ている。画素部１０２にはストライプ状に隔壁１０５が
設けられ、各隔壁の間に有機化合物層を形成する。隔壁
１０５はインクジェット方式で有機化合物層を形成する
際に、隣接する有機化合層が相互に混ざり合わないよう
にするために設けている。
から図１１を参照して説明する。図１は基板１０１上に
データ線駆動回路１０４が形成され、画素部１０２にイ
ンクジェット方式で有機化合物層を形成する段階を示し
ている。画素部１０２にはストライプ状に隔壁１０５が
設けられ、各隔壁の間に有機化合物層を形成する。隔壁
１０５はインクジェット方式で有機化合物層を形成する
際に、隣接する有機化合層が相互に混ざり合わないよう
にするために設けている。
【００２０】有機化合物層１０６は、インクヘッド１０
７から発光性を有する有機化合物材料を含む組成物を吐
出して形成する。組成物はインクヘッドから連続的に吐
出させて、線状のパターンを形成する。有機化合物層の
材料は特に限定されるものではないが、カラー表示を行
うには赤、緑、青の各色を発光する有機化合物層１０６
Ｒ、１０６Ｇ、１０６Ｂを設ける。
７から発光性を有する有機化合物材料を含む組成物を吐
出して形成する。組成物はインクヘッドから連続的に吐
出させて、線状のパターンを形成する。有機化合物層の
材料は特に限定されるものではないが、カラー表示を行
うには赤、緑、青の各色を発光する有機化合物層１０６
Ｒ、１０６Ｇ、１０６Ｂを設ける。
【００２１】インクジェット方式に適した高分子材料を
用いた有機化合物層を形成する際には、単層のみの構成
としても良いが、より発光効率を向上させるためには２
層以上の積層構造が良い。代表的な積層構造は正孔輸送
層と発光層とを積層させたものである。
用いた有機化合物層を形成する際には、単層のみの構成
としても良いが、より発光効率を向上させるためには２
層以上の積層構造が良い。代表的な積層構造は正孔輸送
層と発光層とを積層させたものである。
【００２２】有機化合物層を形成する高分子系有機化合
物としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリ
チオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリパラフ
ェニレン誘導体、ポリアルキルフェニレン、ポリアセチ
レン誘導体などの有機溶媒に可溶な物質を用いることが
できる。
物としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリ
チオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリパラフ
ェニレン誘導体、ポリアルキルフェニレン、ポリアセチ
レン誘導体などの有機溶媒に可溶な物質を用いることが
できる。
【００２３】ポリパラフェニレンビニレン誘導体として
は、ポリ（２，５−ジアルコキシ−１，４−フェニレン
ビニレン）：ＲＯ−ＰＰＶを用いることができ、具体的
にはポリ（２−メトキシ−５−（２−エチル−ヘキソキ
シ）−１，４−フェニレンビニレン）：ＭＥＨ−ＰＰＶ
やポリ（２，５−ジメチルオクチルシリル−１，４−フ
ェニレンビニレン）：ＤＭＯＳ−ＰＰＶといった材料を
用いることができる。
は、ポリ（２，５−ジアルコキシ−１，４−フェニレン
ビニレン）：ＲＯ−ＰＰＶを用いることができ、具体的
にはポリ（２−メトキシ−５−（２−エチル−ヘキソキ
シ）−１，４−フェニレンビニレン）：ＭＥＨ−ＰＰＶ
やポリ（２，５−ジメチルオクチルシリル−１，４−フ
ェニレンビニレン）：ＤＭＯＳ−ＰＰＶといった材料を
用いることができる。
【００２４】ポリパラフェニレン誘導体としては、ポリ
（２，５−ジアルコキシ−１，４−フェニレン）：ＲＯ
−ＰＰＰを用いることができる。
（２，５−ジアルコキシ−１，４−フェニレン）：ＲＯ
−ＰＰＰを用いることができる。
【００２５】ポリチオフェン誘導体としては、ポリ（３
−アルキルチオフェン）：ＰＡＴを用いることができ、
具体的にはポリ（３−ヘキシルチオフェン）：ＰＨＴ、
ポリ（３−シクロヘキシルチオフェン）：ＰＣＨＴとい
った材料を用いることができる。その他にもポリ（３−
シクロヘキシル−４−メチルチオフェン）：ＰＣＨＭ
Ｔ、ポリ（３−［４−オクチルフェニル］−２，２’ビ
チオフェン）：ＰＴＯＰＴ、ポリ（３−（４オクチルフ
ェニル）−チオフェン）：ＰＯＰＴ−１等を用いること
もできる。
−アルキルチオフェン）：ＰＡＴを用いることができ、
具体的にはポリ（３−ヘキシルチオフェン）：ＰＨＴ、
ポリ（３−シクロヘキシルチオフェン）：ＰＣＨＴとい
った材料を用いることができる。その他にもポリ（３−
シクロヘキシル−４−メチルチオフェン）：ＰＣＨＭ
Ｔ、ポリ（３−［４−オクチルフェニル］−２，２’ビ
チオフェン）：ＰＴＯＰＴ、ポリ（３−（４オクチルフ
ェニル）−チオフェン）：ＰＯＰＴ−１等を用いること
もできる。
【００２６】ポリフルオレン誘導体としては、ポリ（ジ
アルキルフルオレン）：ＰＤＡＦを用いることができ、
具体的にはポリ（ジオクチルフルオレン）：ＰＤＯＦと
いった材料を用いることができる。
アルキルフルオレン）：ＰＤＡＦを用いることができ、
具体的にはポリ（ジオクチルフルオレン）：ＰＤＯＦと
いった材料を用いることができる。
【００２７】ポリアセチレン誘導体としては、ポリプロ
ピルフェニルアセチレン：ＰＰＡ−ｉＰｒ、ポリブチル
フェニルフェニルアセチレン：ＰＤＰＡ−ｎＢｕ、ポリ
ヘキシルフェニルアセチレン：ＰＨＰＡといった材料を
用いることができる。
ピルフェニルアセチレン：ＰＰＡ−ｉＰｒ、ポリブチル
フェニルフェニルアセチレン：ＰＤＰＡ−ｎＢｕ、ポリ
ヘキシルフェニルアセチレン：ＰＨＰＡといった材料を
用いることができる。
【００２８】また、これらの高分子系有機化合物の溶媒
としては、トルエン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジク
ロロベンゼン、クロロホルム、テトラリン、キシレン、
アニソール、ジクロロメタン、γブチルラクトン、ブチ
ルセルソルブ、シクロヘキサン、ＮＭＰ（Ｎ−メチル−
２−ピロリドン）、ジメチルスルホキシド、シクロヘキ
サノン、ジオキサンまたは、ＴＨＦ（テトラヒドロフラ
ン）等を用いることができる。
としては、トルエン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジク
ロロベンゼン、クロロホルム、テトラリン、キシレン、
アニソール、ジクロロメタン、γブチルラクトン、ブチ
ルセルソルブ、シクロヘキサン、ＮＭＰ（Ｎ−メチル−
２−ピロリドン）、ジメチルスルホキシド、シクロヘキ
サノン、ジオキサンまたは、ＴＨＦ（テトラヒドロフラ
ン）等を用いることができる。
【００２９】また、正孔注入性の高分子化合物としてＰ
ＥＤＯＴ（poly(3,4‐ethylene dioxythiophene)）や、
ポリアニリン（ＰＡ）を用いることもできる。なお、こ
れらの材料は水溶性である。このＰＥＤＯＴは塗布法に
よっても形成可能である。塗布法で形成した第１の有機
化合物層（ＰＥＤＯＴ）の上に、インクジェット方式で
第２の有機化合物層を形成することもできる。
ＥＤＯＴ（poly(3,4‐ethylene dioxythiophene)）や、
ポリアニリン（ＰＡ）を用いることもできる。なお、こ
れらの材料は水溶性である。このＰＥＤＯＴは塗布法に
よっても形成可能である。塗布法で形成した第１の有機
化合物層（ＰＥＤＯＴ）の上に、インクジェット方式で
第２の有機化合物層を形成することもできる。
【００３０】その他にも、昇華性を有せず、且つ分子数
が１０以下、又は連鎖する分子の長さが５μm以下の有
機化合物（これを中分子系有機化合物という）を用いる
こともできる。そのような材料の一例は、テトラキス
（２−メルカプト−ヘンズオキサゾラト）タングステン
などが上げられる。高分子有機化合物材料を用いたイン
クジェット方式によるパターン形成では、滴下した混合
物が糸を引いて線状になってしまうなどの問題点がある
が、連鎖する分子数の少ない中分子系有機化合物ではそ
のような不具合が発生しない。また、高分子系有機化合
物材料の混合物を形成する場合には、それを溶かす溶媒
とインクヘッドを構成する部材との組み合わせを考慮す
る必要がある。実際にはインクヘッドを構成する部材を
腐食しない溶媒を用いる必要がある。しかし、中分子系
有機化合物では、水溶液に分散させて用いることも可能
であり、そのような問題が発生しない。
が１０以下、又は連鎖する分子の長さが５μm以下の有
機化合物（これを中分子系有機化合物という）を用いる
こともできる。そのような材料の一例は、テトラキス
（２−メルカプト−ヘンズオキサゾラト）タングステン
などが上げられる。高分子有機化合物材料を用いたイン
クジェット方式によるパターン形成では、滴下した混合
物が糸を引いて線状になってしまうなどの問題点がある
が、連鎖する分子数の少ない中分子系有機化合物ではそ
のような不具合が発生しない。また、高分子系有機化合
物材料の混合物を形成する場合には、それを溶かす溶媒
とインクヘッドを構成する部材との組み合わせを考慮す
る必要がある。実際にはインクヘッドを構成する部材を
腐食しない溶媒を用いる必要がある。しかし、中分子系
有機化合物では、水溶液に分散させて用いることも可能
であり、そのような問題が発生しない。
【００３１】また、溶媒としては、トルエン、ベンゼ
ン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロホル
ム、テトラリン、キシレン、ジクロロメタン、シクロヘ
キサン、ＮＭＰ（Ｎ−メチル−２−ピロリドン）、ジメ
チルスルホキシド、シクロヘキサノン、ジオキサン、Ｔ
ＨＦ（テトラヒドロフラン）などを適用することができ
る。
ン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、クロロホル
ム、テトラリン、キシレン、ジクロロメタン、シクロヘ
キサン、ＮＭＰ（Ｎ−メチル−２−ピロリドン）、ジメ
チルスルホキシド、シクロヘキサノン、ジオキサン、Ｔ
ＨＦ（テトラヒドロフラン）などを適用することができ
る。
【００３２】図２はインクジェット方式を用いた印刷装
置の構成を示している。インクヘッド２０１から吐出さ
れる組成物は、基板上で連続した有機化合物のパターン
が形成されるように、吐出する周期と基板の移動速度を
調節する。インクヘッド２０１に隣接して、組成物（又
は有機化合物）の平滑化手段として気体を噴出するノズ
ル２０２が備えている。このノズルから噴出する気体に
より、基板上２１５上に吐出された組成物を平滑化する
ために用いている。また、吐出した組成物の着弾位置の
精度を高めるために、インクヘッド２０１と基板２１５
との間隔を１mm以下に近づける。これはインクヘッド２
０１が上下に動く移動機構２０４とその制御手段２０３
を設け、パターン形成時のみ基板２１５に近づけるよう
にする構成とする。
置の構成を示している。インクヘッド２０１から吐出さ
れる組成物は、基板上で連続した有機化合物のパターン
が形成されるように、吐出する周期と基板の移動速度を
調節する。インクヘッド２０１に隣接して、組成物（又
は有機化合物）の平滑化手段として気体を噴出するノズ
ル２０２が備えている。このノズルから噴出する気体に
より、基板上２１５上に吐出された組成物を平滑化する
ために用いている。また、吐出した組成物の着弾位置の
精度を高めるために、インクヘッド２０１と基板２１５
との間隔を１mm以下に近づける。これはインクヘッド２
０１が上下に動く移動機構２０４とその制御手段２０３
を設け、パターン形成時のみ基板２１５に近づけるよう
にする構成とする。
【００３３】その他の構成は、基板を固定しＸＹθ方向
に可動し基板を真空チャック等の手法で固定する基板ス
テージ２０５、インクヘッド２０１に組成物を供給する
手段２０６、ノズル２０２に気体を供給する手段２０７
などから成っている。筐体２１０はインクヘッド２０
１、基板ステージ２０５等を覆い、ガス供給手段２０８
と筐体２１０内に設けられたシャワーヘッド２０９によ
り、組成物の溶媒と同じ気体を供給して雰囲気を置換し
ておくと乾燥をある程度防止することができ、長時間印
刷を続けることができる。その他付随する要素として、
処理する基板を保持するカセット２１２、そのカセット
２１２から搬出入させる搬送手段２１１、清浄な空気を
送り出し作業領域の埃を低減するクリーンユニット２１
３などを備えても良い。
に可動し基板を真空チャック等の手法で固定する基板ス
テージ２０５、インクヘッド２０１に組成物を供給する
手段２０６、ノズル２０２に気体を供給する手段２０７
などから成っている。筐体２１０はインクヘッド２０
１、基板ステージ２０５等を覆い、ガス供給手段２０８
と筐体２１０内に設けられたシャワーヘッド２０９によ
り、組成物の溶媒と同じ気体を供給して雰囲気を置換し
ておくと乾燥をある程度防止することができ、長時間印
刷を続けることができる。その他付随する要素として、
処理する基板を保持するカセット２１２、そのカセット
２１２から搬出入させる搬送手段２１１、清浄な空気を
送り出し作業領域の埃を低減するクリーンユニット２１
３などを備えても良い。
【００３４】有機化合物層を形成するための組成物を吐
出するインクヘッドは、パターンの精度を決める上で重
要な役割を担う。図３はその構成に一例を示し、筐体３
０１に圧電素子３０２が装着された弾性板３０３により
一方の面が封止された圧力発生室３０４と、供給された
組成物を一旦蓄えるリザーバー３０５などから成ってい
る。圧力発生室３０４の一端には開口が形成され、そこ
から組成物を吐出する吐出口３０６を設けている。圧力
発生室３０４を構成する弾性板３０３は、圧電素子３０
２のたわみ変位により圧力発生室３０４の容積を変動さ
せ混合物を吐出させる。平滑化手段として用いる開口３
０８が形成されたノズル３０７は、気体を基板面に向か
って噴出するものであり、インクヘッドの吐出口３０６
の近傍に設けられている。
出するインクヘッドは、パターンの精度を決める上で重
要な役割を担う。図３はその構成に一例を示し、筐体３
０１に圧電素子３０２が装着された弾性板３０３により
一方の面が封止された圧力発生室３０４と、供給された
組成物を一旦蓄えるリザーバー３０５などから成ってい
る。圧力発生室３０４の一端には開口が形成され、そこ
から組成物を吐出する吐出口３０６を設けている。圧力
発生室３０４を構成する弾性板３０３は、圧電素子３０
２のたわみ変位により圧力発生室３０４の容積を変動さ
せ混合物を吐出させる。平滑化手段として用いる開口３
０８が形成されたノズル３０７は、気体を基板面に向か
って噴出するものであり、インクヘッドの吐出口３０６
の近傍に設けられている。
【００３５】図４はインクヘッド他の一例を示してい
る。このインクヘッドの構成は、筐体４０１に圧電素子
４０２、弾性板４０３、が設けられ、同様に混合物を連
続的に吐出することができる。圧力発生室４０４に設け
られる吐出口４０６には、その外周部に同心円状に開口
４０８が設けられ、この開口４０８から気体を噴出する
ことにより、平滑化することができる。また、気体とし
て組成物の溶媒と同質のものを用いれば、吐出口４０６
おいて組成物が乾燥して固体化するのを防ぐことができ
る。
る。このインクヘッドの構成は、筐体４０１に圧電素子
４０２、弾性板４０３、が設けられ、同様に混合物を連
続的に吐出することができる。圧力発生室４０４に設け
られる吐出口４０６には、その外周部に同心円状に開口
４０８が設けられ、この開口４０８から気体を噴出する
ことにより、平滑化することができる。また、気体とし
て組成物の溶媒と同質のものを用いれば、吐出口４０６
おいて組成物が乾燥して固体化するのを防ぐことができ
る。
【００３６】図５は組成物を圧縮気体を用いて押し出
し、被形成面上に連続的に供給するインクヘッドの構成
を示している。筐体５０１には組成物が流れる経路が形
成され、途中にダイアフラムバルブ５０３が設けられ、
吐出口５１３にはニードルバルブ５０２が設けられてい
る。どちらも、組成物の供給を制御するためのものであ
るが、ニードルバルブ５０２は組成物の供給量と、供給
の断続を瞬間的に行うために設けている。組成物は圧縮
気体供給手段５０６を利用してリザーバー５０５から供
給する。供給量は超音波を利用した検出器（超音波ヘッ
ド５０４、検出回路５０７から成る）により検知し、そ
の情報はA/Dコンバータ５０８を介して演算処理装置５
１２に入力される。演算処理装置５１２はインターフェ
ースを介して外部情報処理装置と信号の送受信をした
り、A/D又はD/Aコンバータ５０９〜５１１を介して各種
バルブの制御を行う。このような構成によっても線状の
パターンを形成することができる。
し、被形成面上に連続的に供給するインクヘッドの構成
を示している。筐体５０１には組成物が流れる経路が形
成され、途中にダイアフラムバルブ５０３が設けられ、
吐出口５１３にはニードルバルブ５０２が設けられてい
る。どちらも、組成物の供給を制御するためのものであ
るが、ニードルバルブ５０２は組成物の供給量と、供給
の断続を瞬間的に行うために設けている。組成物は圧縮
気体供給手段５０６を利用してリザーバー５０５から供
給する。供給量は超音波を利用した検出器（超音波ヘッ
ド５０４、検出回路５０７から成る）により検知し、そ
の情報はA/Dコンバータ５０８を介して演算処理装置５
１２に入力される。演算処理装置５１２はインターフェ
ースを介して外部情報処理装置と信号の送受信をした
り、A/D又はD/Aコンバータ５０９〜５１１を介して各種
バルブの制御を行う。このような構成によっても線状の
パターンを形成することができる。
【００３７】インクヘッドに設けられる吐出口は一つで
も良いが、より効率的に印刷を行うには複数の吐出口を
設けても良い。例えば、一組の圧力発生室と吐出口を一
対に対応させて設けても良いし、複数の吐出口に対し一
組の圧力発生室を対応させても良い。
も良いが、より効率的に印刷を行うには複数の吐出口を
設けても良い。例えば、一組の圧力発生室と吐出口を一
対に対応させて設けても良いし、複数の吐出口に対し一
組の圧力発生室を対応させても良い。
【００３８】図６は、基板上に被形成面６００にインク
ヘッド６０１が組成物を吐出して線状の有機化合物層を
形成する方法を段階的に示している。図６（Ａ）は初期
状態であり、被形成面６００にパターンを形成するに当
たっては、図６（Ｂ）に示すようにこのインクヘッド６
０１及びノズル６０２が被形成面に近接し、組成物６０
４の吐出を開始する。
ヘッド６０１が組成物を吐出して線状の有機化合物層を
形成する方法を段階的に示している。図６（Ａ）は初期
状態であり、被形成面６００にパターンを形成するに当
たっては、図６（Ｂ）に示すようにこのインクヘッド６
０１及びノズル６０２が被形成面に近接し、組成物６０
４の吐出を開始する。
【００３９】そして、図６（Ｃ）に示すように、インク
ヘッド６０１と被形成面６００が相対的に動くことによ
り線状のパターン６０５が形成される。平滑化手段６０
２から噴出する気体により、パターンは平滑化させるこ
とができる。所定の位置に達したインクヘッド６０１は
組成物の吐出を止め（図６（Ｄ））、その後被形成面６
００から離れる（図６（Ｅ））。こうして、被形成面６
００上に所定の厚さの連続した有機化合物層のパターン
を形成することができる。
ヘッド６０１と被形成面６００が相対的に動くことによ
り線状のパターン６０５が形成される。平滑化手段６０
２から噴出する気体により、パターンは平滑化させるこ
とができる。所定の位置に達したインクヘッド６０１は
組成物の吐出を止め（図６（Ｄ））、その後被形成面６
００から離れる（図６（Ｅ））。こうして、被形成面６
００上に所定の厚さの連続した有機化合物層のパターン
を形成することができる。
【００４０】また、図７は、基板上に被形成面７００に
インクヘッド７０１が組成物を吐出して線状の有機化合
物層を形成する他の方法を段階的に示している。図７
（Ａ）は初期状態であり、被形成面７００にパターンを
形成するに当たっては、図７（Ｂ）に示すようにこのイ
ンクヘッド７０１が被形成面に近接し、組成物７０２の
吐出が開始する。
インクヘッド７０１が組成物を吐出して線状の有機化合
物層を形成する他の方法を段階的に示している。図７
（Ａ）は初期状態であり、被形成面７００にパターンを
形成するに当たっては、図７（Ｂ）に示すようにこのイ
ンクヘッド７０１が被形成面に近接し、組成物７０２の
吐出が開始する。
【００４１】そして、図７（Ｃ）に示すように、インク
ヘッド７０１と被形成面７００が相対的に動くことによ
り線状のパターン７０３が形成される。形成する有機化
合物のパターンは、組成物の吐出量の他に、インクヘッ
ド７０１と被形成面７００との間隔をもって制御する。
所定の位置に達したインクヘッド７０１は組成物の吐出
を止め、その後被形成面７００から離れる（図７
（Ｄ））。こうして、被形成面７００上に連続した有機
化合物層のパターンを形成することができる。
ヘッド７０１と被形成面７００が相対的に動くことによ
り線状のパターン７０３が形成される。形成する有機化
合物のパターンは、組成物の吐出量の他に、インクヘッ
ド７０１と被形成面７００との間隔をもって制御する。
所定の位置に達したインクヘッド７０１は組成物の吐出
を止め、その後被形成面７００から離れる（図７
（Ｄ））。こうして、被形成面７００上に連続した有機
化合物層のパターンを形成することができる。
【００４２】図８は有機化合物層８０１〜８０３が形成
された画素部の一例を示している。この画素部は、ゲー
ト線８０４、データ線８０５、電源供給線８０６、画素
電極８１１、半導体層８０９、８１０を有し、これらに
より薄膜トランジスタ８２０、８３０が形成されてい
る。画素電極８１１は薄膜トランジスタ８３０と接続し
ている。そしてマトリクス状に配列して、全体として画
素部を形成している。有機化合物層は図３又は図４で説
明するインクヘッドを用いて形成され、一滴毎に吐出さ
れる組成物を画素電極上で連続させて、全体として線状
の有機化合物層を形成している。
された画素部の一例を示している。この画素部は、ゲー
ト線８０４、データ線８０５、電源供給線８０６、画素
電極８１１、半導体層８０９、８１０を有し、これらに
より薄膜トランジスタ８２０、８３０が形成されてい
る。画素電極８１１は薄膜トランジスタ８３０と接続し
ている。そしてマトリクス状に配列して、全体として画
素部を形成している。有機化合物層は図３又は図４で説
明するインクヘッドを用いて形成され、一滴毎に吐出さ
れる組成物を画素電極上で連続させて、全体として線状
の有機化合物層を形成している。
【００４３】図９は同様の構成の画素部に対し、図５で
示すインクヘッドを用いて有機化合物層８５１〜８５３
を形成した例を示している。この場合には、組成物が連
続的に供給されるので、画素電極の上層に形成される有
機化合物層も線状又はストライプ状に形成される。尚、
これらの有機化合物層は、カラー表示をする場合には、
赤、緑、青等に対応した色を発光する有機化合物層を形
成すれば良い。
示すインクヘッドを用いて有機化合物層８５１〜８５３
を形成した例を示している。この場合には、組成物が連
続的に供給されるので、画素電極の上層に形成される有
機化合物層も線状又はストライプ状に形成される。尚、
これらの有機化合物層は、カラー表示をする場合には、
赤、緑、青等に対応した色を発光する有機化合物層を形
成すれば良い。
【００４４】図１０は画素部に形成された画素列全てに
対して一括で有機化合物を塗布する例を示している。ヘ
ッド部２０には画素列の本数と同じ数で吐出口が取り付
けられている。このような構成とすることで一回の走査
で全ての画素列に有機化合物層を形成することが可能と
なり、飛躍的にスループットが向上する。
対して一括で有機化合物を塗布する例を示している。ヘ
ッド部２０には画素列の本数と同じ数で吐出口が取り付
けられている。このような構成とすることで一回の走査
で全ての画素列に有機化合物層を形成することが可能と
なり、飛躍的にスループットが向上する。
【００４５】また、画素部を複数のゾーンに分けて、そ
のゾーンの中に含まれる画素列の本数と同じ数で吐出口
を設けたヘッド部を用いても良い。即ち、画素部をｎ個
のゾーンに分割したとすると、ｎ回走査すれば全ての画
素列に有機化合物層を形成することができる。
のゾーンの中に含まれる画素列の本数と同じ数で吐出口
を設けたヘッド部を用いても良い。即ち、画素部をｎ個
のゾーンに分割したとすると、ｎ回走査すれば全ての画
素列に有機化合物層を形成することができる。
【００４６】実際には画素のサイズが数十μmと小さい
場合もあるため、画素列の幅も数十μm程度となる場合
がある。そのような場合、横一列に吐出口を並べること
は困難となるため、吐出口の配置を工夫する必要があ
る。図１１に示すのは、インクヘッドに対する吐出口の
取り付け位置を変えた例である。図１１（Ａ）はインク
ヘッド５１に斜めに位置をずらしながら吐出口５２a〜
５２cを形成した例である。なお、５２aは赤色発光層用
組成物を塗布するための吐出口、５２bは緑色発光層用
組成物を塗布するための吐出口、５２cは青色発光層用
組成物を塗布するための吐出口である。また、矢印の１
本１本は画素列に対応する。このような吐出口の配置と
することで、画素列のピッチが狭くなっても、隣接する
吐出口が干渉し合うことなく有機化合物層を形成するこ
とができる。
場合もあるため、画素列の幅も数十μm程度となる場合
がある。そのような場合、横一列に吐出口を並べること
は困難となるため、吐出口の配置を工夫する必要があ
る。図１１に示すのは、インクヘッドに対する吐出口の
取り付け位置を変えた例である。図１１（Ａ）はインク
ヘッド５１に斜めに位置をずらしながら吐出口５２a〜
５２cを形成した例である。なお、５２aは赤色発光層用
組成物を塗布するための吐出口、５２bは緑色発光層用
組成物を塗布するための吐出口、５２cは青色発光層用
組成物を塗布するための吐出口である。また、矢印の１
本１本は画素列に対応する。このような吐出口の配置と
することで、画素列のピッチが狭くなっても、隣接する
吐出口が干渉し合うことなく有機化合物層を形成するこ
とができる。
【００４７】そして、５３で示されるように吐出口５２
a〜５２cを一つの単位とし、一つ乃至複数個の単位がヘ
ッド部に設けられている。この単位５３は、一つであれ
ば３本の画素列に対して同時に組成物を塗布することに
なるし、ｎ個あれば３ｎ本の画素列に対して同時に組成
物を塗布することになる。このような構成とすること
で、吐出口の配置スペースの自由度が高められ、無理な
く高精細な画素部に本発明を実施することが可能とな
る。また、図１１（Ａ）のインクヘッド５１を用いて、
画素部にある全ての画素列を一括で処理することもでき
るし、画素部を複数のゾーンに分割して数回に分けて処
理することも可能である。
a〜５２cを一つの単位とし、一つ乃至複数個の単位がヘ
ッド部に設けられている。この単位５３は、一つであれ
ば３本の画素列に対して同時に組成物を塗布することに
なるし、ｎ個あれば３ｎ本の画素列に対して同時に組成
物を塗布することになる。このような構成とすること
で、吐出口の配置スペースの自由度が高められ、無理な
く高精細な画素部に本発明を実施することが可能とな
る。また、図１１（Ａ）のインクヘッド５１を用いて、
画素部にある全ての画素列を一括で処理することもでき
るし、画素部を複数のゾーンに分割して数回に分けて処
理することも可能である。
【００４８】次に、図１１（Ｂ）に示すインクヘッド５
４は、図１１（Ａ）の変形であり、一つの単位５５に含
まれるノズルの数を増やした場合の例である。単位５５
の中には赤色発光層用組成物を塗布するための吐出口５
６a、緑色発光層用組成物を塗布するための吐出口５６
b、青色発光層用組成物を塗布するための吐出口５６cが
２個ずつ含まれ、一つの単位５５によって合計６本の画
素列に同時に有機化合物が塗布されることになる。
４は、図１１（Ａ）の変形であり、一つの単位５５に含
まれるノズルの数を増やした場合の例である。単位５５
の中には赤色発光層用組成物を塗布するための吐出口５
６a、緑色発光層用組成物を塗布するための吐出口５６
b、青色発光層用組成物を塗布するための吐出口５６cが
２個ずつ含まれ、一つの単位５５によって合計６本の画
素列に同時に有機化合物が塗布されることになる。
【００４９】本実施例では上記単位５５が一つ乃至複数
個だけ設けられ、単位５５が、一つであれば６本の画素
列に対して同時に組成物を塗布することになるし、ｎ個
あれば６ｎ本の画素列に対して同時に組成物を塗布する
ことになる。勿論、単位５５の中に設けるノズル数は６
個に限定する必要はなく、さらに複数設けることも可能
である。このような構成の場合も図１１（Ａ）の場合と
同様に、画素部にある全ての画素列を一括で処理するこ
ともできるし、画素部を複数のゾーンに分割して数回に
分けて処理することが可能である。
個だけ設けられ、単位５５が、一つであれば６本の画素
列に対して同時に組成物を塗布することになるし、ｎ個
あれば６ｎ本の画素列に対して同時に組成物を塗布する
ことになる。勿論、単位５５の中に設けるノズル数は６
個に限定する必要はなく、さらに複数設けることも可能
である。このような構成の場合も図１１（Ａ）の場合と
同様に、画素部にある全ての画素列を一括で処理するこ
ともできるし、画素部を複数のゾーンに分割して数回に
分けて処理することが可能である。
【００５０】また、図１１（Ｃ）のようなインクヘッド
５７を用いることもできる。インクヘッド５７は三つの
画素列分のスペースを空けて、赤色発光層用塗布液を塗
布するための吐出口５８a、緑色発光層用塗布液を塗布
するための吐出口５８b、青色発光層用塗布液を塗布す
るための吐出口５８cが設けられている。このインクヘ
ッド５７をまず１回走査して画素列に組成物を塗布した
ら、次にインクヘッド５７を三つの画素列分だけ右にず
らして再び走査する。さらに、またインクヘッド５７を
三つの画素列分だけ右にずらして再び走査する。以上の
ように３回の走査を行うことで赤、緑、青の順に並んだ
ストライプ状に組成物を塗布することができる。このよ
うな構成の場合も図１１（Ａ）の場合と同様に、画素部
にある全ての画素列を一括で処理することもできるし、
画素部を複数のゾーンに分割して数回に分けて処理する
ことが可能である。
５７を用いることもできる。インクヘッド５７は三つの
画素列分のスペースを空けて、赤色発光層用塗布液を塗
布するための吐出口５８a、緑色発光層用塗布液を塗布
するための吐出口５８b、青色発光層用塗布液を塗布す
るための吐出口５８cが設けられている。このインクヘ
ッド５７をまず１回走査して画素列に組成物を塗布した
ら、次にインクヘッド５７を三つの画素列分だけ右にず
らして再び走査する。さらに、またインクヘッド５７を
三つの画素列分だけ右にずらして再び走査する。以上の
ように３回の走査を行うことで赤、緑、青の順に並んだ
ストライプ状に組成物を塗布することができる。このよ
うな構成の場合も図１１（Ａ）の場合と同様に、画素部
にある全ての画素列を一括で処理することもできるし、
画素部を複数のゾーンに分割して数回に分けて処理する
ことが可能である。
【００５１】このように本発明を用いることにより、組
成物を連続的に吐出し、有機化合物層を連続して形成す
ることにより、有機化合物層を印刷する際の位置制御の
時間が短縮され、印刷速度を向上させることができる。
成物を連続的に吐出し、有機化合物層を連続して形成す
ることにより、有機化合物層を印刷する際の位置制御の
時間が短縮され、印刷速度を向上させることができる。
【００５２】
【実施例】[実施例１]図１２（Ａ）に示すように、基板
１２００上に透明画素電極１２０１〜１２０４を４０〜
１２０μmピッチ、０．１μmの厚さで形成する。透明画
素電極を形成する材料は、酸化インジウム、酸化亜鉛、
酸化スズ、又はこれらの酸化物の混合物を用いる。
１２００上に透明画素電極１２０１〜１２０４を４０〜
１２０μmピッチ、０．１μmの厚さで形成する。透明画
素電極を形成する材料は、酸化インジウム、酸化亜鉛、
酸化スズ、又はこれらの酸化物の混合物を用いる。
【００５３】次いで、図１２（Ｂ）に示すようにこの透
明画素電極のパターン間に樹脂材料から成る隔壁１２０
５を形成する。この隔壁の厚さは１〜２μm、幅は２０
μmとし、透明画素電極の端部を覆うように形成する。
この隔壁は、インクヘッドから吐出し着弾した組成物が
流れ出して隣接する画素と混合しないようにするために
設けるものである。
明画素電極のパターン間に樹脂材料から成る隔壁１２０
５を形成する。この隔壁の厚さは１〜２μm、幅は２０
μmとし、透明画素電極の端部を覆うように形成する。
この隔壁は、インクヘッドから吐出し着弾した組成物が
流れ出して隣接する画素と混合しないようにするために
設けるものである。
【００５４】次に、この透明画素電極（陽極）１２０１
〜１２０４を有するガラス基板１２００に対し、第１有
機化合物層としてポリ（エチレンジオキシチオフェン）
／ポリ（スチレンスルホン酸）水溶液（以下、ＰＥＤＯ
Ｔ／ＰＳＳと記す）をスピン塗布法により３０nmに厚さ
に成膜する。このＰＥＤＯＴ／ＰＳＳは、正孔注入層１
０６として作用する（図１２（Ｃ））。
〜１２０４を有するガラス基板１２００に対し、第１有
機化合物層としてポリ（エチレンジオキシチオフェン）
／ポリ（スチレンスルホン酸）水溶液（以下、ＰＥＤＯ
Ｔ／ＰＳＳと記す）をスピン塗布法により３０nmに厚さ
に成膜する。このＰＥＤＯＴ／ＰＳＳは、正孔注入層１
０６として作用する（図１２（Ｃ））。
【００５５】その後、加熱処理により水分を蒸発させ、
インクジェット印刷装置１２０７により、組成物を塗布
し、厚さ０．０５〜０．２μmの第２有機化合物層とし
ての発光層を形成する。組成物としては、アセトニトリ
ル溶液に溶解させたπ共役系配位子を有する金属キレー
ト錯体を用いる。例えば、９０μmピッチの画素に対し
て、粘度１〜２０cp、約８０μm径の組成物を吐出す
る。この組成物は、インクジェット吐出後、８０〜１２
０℃で加熱して溶媒を揮発させ、５０〜１５０nmの発光
層１２０８を形成する。この発光層１２０８は、実施の
形態で説明した如く、吐出される組成物を重ね合わせ、
線状又はストライプ状の層として形成する（図１２
（Ｄ））。
インクジェット印刷装置１２０７により、組成物を塗布
し、厚さ０．０５〜０．２μmの第２有機化合物層とし
ての発光層を形成する。組成物としては、アセトニトリ
ル溶液に溶解させたπ共役系配位子を有する金属キレー
ト錯体を用いる。例えば、９０μmピッチの画素に対し
て、粘度１〜２０cp、約８０μm径の組成物を吐出す
る。この組成物は、インクジェット吐出後、８０〜１２
０℃で加熱して溶媒を揮発させ、５０〜１５０nmの発光
層１２０８を形成する。この発光層１２０８は、実施の
形態で説明した如く、吐出される組成物を重ね合わせ、
線状又はストライプ状の層として形成する（図１２
（Ｄ））。
【００５６】陰極１２０９としてマグネシウム合金（例
えば、ＡｌＭｇ）を真空蒸着法にて０．１〜０．２μm
の厚さに成膜する。これにより発光装置が完成する（図
１２（Ｅ））。
えば、ＡｌＭｇ）を真空蒸着法にて０．１〜０．２μm
の厚さに成膜する。これにより発光装置が完成する（図
１２（Ｅ））。
【００５７】[実施例２]図１３は、本発明の製造方法を
用いてインクジェット方式によりアクティブマトリクス
駆動方式の発光装置を作製する一例を示している。図１
３（Ａ）において、基板１３００上に能動素子である薄
膜トランジスタ１３０１〜１３０３が形成されている。
薄膜トランジスタはチャネル形成領域やソース及びドレ
イン領域などを形成する半導体膜、ゲート電極、ゲート
絶縁膜等から構成されている。薄膜トランジスタの構造
はトップゲート型やボトムゲート型等それぞれ特色があ
るが、本発明に適用する場合その構造に限定はない。
用いてインクジェット方式によりアクティブマトリクス
駆動方式の発光装置を作製する一例を示している。図１
３（Ａ）において、基板１３００上に能動素子である薄
膜トランジスタ１３０１〜１３０３が形成されている。
薄膜トランジスタはチャネル形成領域やソース及びドレ
イン領域などを形成する半導体膜、ゲート電極、ゲート
絶縁膜等から構成されている。薄膜トランジスタの構造
はトップゲート型やボトムゲート型等それぞれ特色があ
るが、本発明に適用する場合その構造に限定はない。
【００５８】薄膜トランジスタのソース又はドレイン領
域に接続する画素電極１３０４〜１３０６は、例えば６
５μmピッチ、０．１μmの厚さで形成する。このような
狭いピッチでインクジェット方式により有機化合物層を
形成する場合、本発明の組成物を用いるとパターンに裾
引き等がなく微細なパターンを形成することができる。
この画素電極パターン間に樹脂材料から成る隔壁１３０
８を形成する。この隔壁層の厚さは１〜２μm、幅は２
０μmとし、透明画素電極の端部を覆うように形成す
る。この隔壁は、インクヘッッドから吐出し着弾した組
成物が流れ出して隣接する画素と混合しないようにする
ために設けるものである（図１３（Ａ））。
域に接続する画素電極１３０４〜１３０６は、例えば６
５μmピッチ、０．１μmの厚さで形成する。このような
狭いピッチでインクジェット方式により有機化合物層を
形成する場合、本発明の組成物を用いるとパターンに裾
引き等がなく微細なパターンを形成することができる。
この画素電極パターン間に樹脂材料から成る隔壁１３０
８を形成する。この隔壁層の厚さは１〜２μm、幅は２
０μmとし、透明画素電極の端部を覆うように形成す
る。この隔壁は、インクヘッッドから吐出し着弾した組
成物が流れ出して隣接する画素と混合しないようにする
ために設けるものである（図１３（Ａ））。
【００５９】次に、薄膜トランジスタ１３０１〜１３０
３を有するガラス基板１３００に対し、第１有機化合物
層としてポリ（エチレンジオキシチオフェン）／ポリ
（スチレンスルホン酸）水溶液（以下、ＰＥＤＯＴ／Ｐ
ＳＳと記す）をスピンコーティングにより３０nmに厚さ
に成膜する。このＰＥＤＯＴ／ＰＳＳは、正孔注入層１
３０８として作用する（図１３（Ｂ））。
３を有するガラス基板１３００に対し、第１有機化合物
層としてポリ（エチレンジオキシチオフェン）／ポリ
（スチレンスルホン酸）水溶液（以下、ＰＥＤＯＴ／Ｐ
ＳＳと記す）をスピンコーティングにより３０nmに厚さ
に成膜する。このＰＥＤＯＴ／ＰＳＳは、正孔注入層１
３０８として作用する（図１３（Ｂ））。
【００６０】その後、加熱処理により水分を蒸発させ、
インクジェット印刷装置１３０９により、組成物を塗布
し、厚さ０．０５〜０．２μmの第２有機化合物層とし
ての発光層を形成する。組成物としては、アセトニトリ
ル溶液に溶解させたπ共役系配位子を有する金属キレー
ト錯体を用いる。この組成物は、インクジェット吐出
後、８０〜１２０℃で加熱して溶媒を揮発させ発光層１
３１０を形成する（図１３（Ｃ））。
インクジェット印刷装置１３０９により、組成物を塗布
し、厚さ０．０５〜０．２μmの第２有機化合物層とし
ての発光層を形成する。組成物としては、アセトニトリ
ル溶液に溶解させたπ共役系配位子を有する金属キレー
ト錯体を用いる。この組成物は、インクジェット吐出
後、８０〜１２０℃で加熱して溶媒を揮発させ発光層１
３１０を形成する（図１３（Ｃ））。
【００６１】陰極１３１１としてマグネシウム合金（例
えば、ＡｌＭｇ）を真空蒸着法にて０．１〜０．２μm
の厚さに成膜する。これによりアクティブマトリクス駆
動方式の発光装置が完成する（図１３（Ｄ））。
えば、ＡｌＭｇ）を真空蒸着法にて０．１〜０．２μm
の厚さに成膜する。これによりアクティブマトリクス駆
動方式の発光装置が完成する（図１３（Ｄ））。
【００６２】尚、図１２及び図１３で示す発光装置は、
正孔注入層と発光層の２層をもって形成する例を示した
が、その構造に限定されるものではなく、本発明の組成
物を用いてインクジェット方式により発光層並びにそれ
に付随する注入層を任意に設ける構成としても良い。
正孔注入層と発光層の２層をもって形成する例を示した
が、その構造に限定されるものではなく、本発明の組成
物を用いてインクジェット方式により発光層並びにそれ
に付随する注入層を任意に設ける構成としても良い。
【００６３】[実施例３]本発明の組成物を用いてインク
ジェット方式により作製される発光装置の具体的な一例
を図面を参照して説明する。図１４はアクティブマトリ
クス駆動する発光装置の画素構造の一例を上面図で示
す。また、図１５は図１４のＡ−Ａ'線に対応した断面
図であり、両図は共通した符号を用いて画素の構造を説
明している。
ジェット方式により作製される発光装置の具体的な一例
を図面を参照して説明する。図１４はアクティブマトリ
クス駆動する発光装置の画素構造の一例を上面図で示
す。また、図１５は図１４のＡ−Ａ'線に対応した断面
図であり、両図は共通した符号を用いて画素の構造を説
明している。
【００６４】この画素構造は、一つの画素に２つの薄膜
トランジスタが設けられ、一方はスイッチング動作を目
的としたｎチャネル型薄膜トランジスタ１６０４であ
り、他方は有機発光素子に流す電流を制御する動作を目
的としたｐチャネル型薄膜トランジスタ１６０５であ
る。勿論、本発明のインクジェット方式による印刷装置
を用いてアクティブマトリクス駆動の発光装置を製造す
るに当たり、一つの画素に設ける薄膜トランジスタの数
に限定はなく、発光装置の駆動方式に従い適切な回路構
成とすれば良い。
トランジスタが設けられ、一方はスイッチング動作を目
的としたｎチャネル型薄膜トランジスタ１６０４であ
り、他方は有機発光素子に流す電流を制御する動作を目
的としたｐチャネル型薄膜トランジスタ１６０５であ
る。勿論、本発明のインクジェット方式による印刷装置
を用いてアクティブマトリクス駆動の発光装置を製造す
るに当たり、一つの画素に設ける薄膜トランジスタの数
に限定はなく、発光装置の駆動方式に従い適切な回路構
成とすれば良い。
【００６５】図１５で示す如く、有機発光素子１５７５
は第１電極１５４６、正孔注入層１５７１、発光層１５
７２、第２電極１５７３から成っている。第１電極と第
２電極はその極性により陽極と陰極とに区別することが
できる。陽極を形成する材料は酸化インジウムや酸化ス
ズ、酸化亜鉛などの仕事関数の高い材料を用い、陰極に
はＭｇＡｇ、ＡｌＭｇ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｌｉ、ＡｌＬｉ、
ＡｌＬｉＡｇなどのアルカリ金属又はアルカリ土類金
属、代表的にはマグネシウム化合物で形成される仕事関
数の低い材料を用いる。
は第１電極１５４６、正孔注入層１５７１、発光層１５
７２、第２電極１５７３から成っている。第１電極と第
２電極はその極性により陽極と陰極とに区別することが
できる。陽極を形成する材料は酸化インジウムや酸化ス
ズ、酸化亜鉛などの仕事関数の高い材料を用い、陰極に
はＭｇＡｇ、ＡｌＭｇ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｌｉ、ＡｌＬｉ、
ＡｌＬｉＡｇなどのアルカリ金属又はアルカリ土類金
属、代表的にはマグネシウム化合物で形成される仕事関
数の低い材料を用いる。
【００６６】ｐチャネル型薄膜トランジスタ１６０５及
びｎチャネル型薄膜トランジスタ１６０４はチャネル形
成領域やソース及びドレイン領域、ＬＤＤ領域などが形
成される活性層１５１６、１５１７を多結晶半導体膜で
形成している。ゲート絶縁膜１５１８を介して第１ゲー
ト電極１５３３、１５３４が形成さているが、活性層を
挟んで対向して第２ゲート電極１５０６、１５０８が絶
縁膜１５１０、１５１１を介して設けられている。層間
絶縁膜１５４３、１５４４は無機絶縁膜及び有機絶縁膜
を組み合わせて形成されている。配線１５０５は映像デ
ータに基づく信号線であり、配線１５０７は有機発光素
子に電流を供給する電源供給線である。
びｎチャネル型薄膜トランジスタ１６０４はチャネル形
成領域やソース及びドレイン領域、ＬＤＤ領域などが形
成される活性層１５１６、１５１７を多結晶半導体膜で
形成している。ゲート絶縁膜１５１８を介して第１ゲー
ト電極１５３３、１５３４が形成さているが、活性層を
挟んで対向して第２ゲート電極１５０６、１５０８が絶
縁膜１５１０、１５１１を介して設けられている。層間
絶縁膜１５４３、１５４４は無機絶縁膜及び有機絶縁膜
を組み合わせて形成されている。配線１５０５は映像デ
ータに基づく信号線であり、配線１５０７は有機発光素
子に電流を供給する電源供給線である。
【００６７】有機発光素子１５７５の第１電極１５４６
は、ｐチャネル型薄膜トランジスタ１６０５の電極１５
５３と接続されている。隔壁１５７０は隣接する画素を
分離し、インクジェット方式で発光層を形成する時に組
成物が隣接する画素に及ばないように仕切る目的で形成
されている。隔壁はポリイミド、アクリル、ポリイミド
アミド、ポリベンゾイミダゾールなどの感光性又は熱硬
化型の樹脂材料で、第１電極の端部を覆うように形成し
てある。有機化合物層は縦方向に連続させて形成しても
良いし、横方向に連続させて形成しても良い。
は、ｐチャネル型薄膜トランジスタ１６０５の電極１５
５３と接続されている。隔壁１５７０は隣接する画素を
分離し、インクジェット方式で発光層を形成する時に組
成物が隣接する画素に及ばないように仕切る目的で形成
されている。隔壁はポリイミド、アクリル、ポリイミド
アミド、ポリベンゾイミダゾールなどの感光性又は熱硬
化型の樹脂材料で、第１電極の端部を覆うように形成し
てある。有機化合物層は縦方向に連続させて形成しても
良いし、横方向に連続させて形成しても良い。
【００６８】樹脂材料で形成される隔壁１５７０の表面
は、アルゴンなど希ガスを用いたプラズマ処理で表面改
質をし、表面を硬化させておいても良い。正孔注入層１
５７１は、スピン塗布法により基板の全面にポリ（エチ
レンジオキシチオフェン）／ポリ（スチレンスルホン
酸）水溶液（以下、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳと記す）を塗布
し、その後乾燥させることにより３０nmの厚さに形成す
る。
は、アルゴンなど希ガスを用いたプラズマ処理で表面改
質をし、表面を硬化させておいても良い。正孔注入層１
５７１は、スピン塗布法により基板の全面にポリ（エチ
レンジオキシチオフェン）／ポリ（スチレンスルホン
酸）水溶液（以下、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳと記す）を塗布
し、その後乾燥させることにより３０nmの厚さに形成す
る。
【００６９】発光層は、インクジェット印刷装置によ
り、π共役ポリマー系材料であるポリ（Ｎ−ビニルカル
バゾール：ＰＶＫ）をホスト材、π共役系配位子を有す
る金属キレート錯体をゲスト材とし、これを溶媒に分散
させた組成物を塗布する。インクヘッドから吐出された
組成物は隔壁で囲まれた領域に着弾する。その後、窒素
雰囲気中８０〜１２０℃で加熱して０．１〜０．２μm
の厚さの発光層１５７２を形成する。
り、π共役ポリマー系材料であるポリ（Ｎ−ビニルカル
バゾール：ＰＶＫ）をホスト材、π共役系配位子を有す
る金属キレート錯体をゲスト材とし、これを溶媒に分散
させた組成物を塗布する。インクヘッドから吐出された
組成物は隔壁で囲まれた領域に着弾する。その後、窒素
雰囲気中８０〜１２０℃で加熱して０．１〜０．２μm
の厚さの発光層１５７２を形成する。
【００７０】その上にはパッシベーション膜１５７４が
形成されている。パッシベーション膜には窒化シリコ
ン、酸窒化シリコン、ダイヤモンドライクカーボン（Ｄ
ＬＣ）など酸素や水蒸気に対しバリア性の高い材料を用
いて形成する。
形成されている。パッシベーション膜には窒化シリコ
ン、酸窒化シリコン、ダイヤモンドライクカーボン（Ｄ
ＬＣ）など酸素や水蒸気に対しバリア性の高い材料を用
いて形成する。
【００７１】以上のようにしてアクティブマトリクス駆
動の発光装置を作製することができる。本発明の組成物
を用いて発光装置を作製することで、発光層を精度良く
パターン形成することができ、発光しない欠陥画素の発
生率を低減することができる。
動の発光装置を作製することができる。本発明の組成物
を用いて発光装置を作製することで、発光層を精度良く
パターン形成することができ、発光しない欠陥画素の発
生率を低減することができる。
【００７２】[実施例４]図１６で示すように、図１２に
従い作製した発光装置にアクリル、ポリイミド、ポリイ
ミドアミド、ポリベンゾイミダゾールなどの樹脂層１２
１１を形成し、さらにその上にプラスチックやガラスな
どの封止板１２１２を固着することにより、密閉性の高
い発光装置を得ることができる。封止板１２１２の表面
には窒化シリコンやＤＬＣをコーティングしておくこと
でガスバリア性を高め、発光装置の信頼性をさらに向上
させることもできる。
従い作製した発光装置にアクリル、ポリイミド、ポリイ
ミドアミド、ポリベンゾイミダゾールなどの樹脂層１２
１１を形成し、さらにその上にプラスチックやガラスな
どの封止板１２１２を固着することにより、密閉性の高
い発光装置を得ることができる。封止板１２１２の表面
には窒化シリコンやＤＬＣをコーティングしておくこと
でガスバリア性を高め、発光装置の信頼性をさらに向上
させることもできる。
【００７３】[実施例５]本実施例では、有機発光素子を
備えた発光表示装置の形態を図１７に示す。図１７
（Ａ）は、発光装置を示す上面図であり、そのＡ−Ａ'
線の断面図を図１７（Ｂ）に示す。絶縁表面を有する基
板１７００（例えば、ガラス基板、結晶化ガラス基板、
もしくはプラスチック基板等）に、画素領域１７０２、
ソース側駆動回路１７０１、及びゲート側駆動回路１７
０３を形成する。これらの画素領域における有機化合物
層は、本発明のインクジェット方式により形成する。ま
た駆動回路については、公知の薄膜トランジスタ及び回
路技術を適用すれば良い。
備えた発光表示装置の形態を図１７に示す。図１７
（Ａ）は、発光装置を示す上面図であり、そのＡ−Ａ'
線の断面図を図１７（Ｂ）に示す。絶縁表面を有する基
板１７００（例えば、ガラス基板、結晶化ガラス基板、
もしくはプラスチック基板等）に、画素領域１７０２、
ソース側駆動回路１７０１、及びゲート側駆動回路１７
０３を形成する。これらの画素領域における有機化合物
層は、本発明のインクジェット方式により形成する。ま
た駆動回路については、公知の薄膜トランジスタ及び回
路技術を適用すれば良い。
【００７４】１７１８はシール材、１７１９はＤＬＣ膜
であり、画素領域および駆動回路部はシール材１７１８
で覆われ、そのシール材は保護膜１７１９で覆われてい
る。さらに、接着材を用いてカバー材１７２０で封止さ
れている。熱や外力などによる変形に耐えるためカバー
材１７２０は基板１７００と同じ材質のもの、例えばガ
ラス基板を用いることが望ましく、サンドブラスト法な
どにより図１７に示す凹部形状（深さ３〜１０μm）に
加工する。さらに加工して乾燥剤１７２１が設置できる
凹部（深さ５０〜２００μm）を形成することが望まし
い。なお、１７０８はソース側駆動回路１７０１及びゲ
ート側駆動回路１７０３に入力される信号を伝送するた
めの配線であり、外部入力端子となるＦＰＣ（フレキシ
ブルプリントサーキット）１７０９からビデオ信号やク
ロック信号を受け取る。
であり、画素領域および駆動回路部はシール材１７１８
で覆われ、そのシール材は保護膜１７１９で覆われてい
る。さらに、接着材を用いてカバー材１７２０で封止さ
れている。熱や外力などによる変形に耐えるためカバー
材１７２０は基板１７００と同じ材質のもの、例えばガ
ラス基板を用いることが望ましく、サンドブラスト法な
どにより図１７に示す凹部形状（深さ３〜１０μm）に
加工する。さらに加工して乾燥剤１７２１が設置できる
凹部（深さ５０〜２００μm）を形成することが望まし
い。なお、１７０８はソース側駆動回路１７０１及びゲ
ート側駆動回路１７０３に入力される信号を伝送するた
めの配線であり、外部入力端子となるＦＰＣ（フレキシ
ブルプリントサーキット）１７０９からビデオ信号やク
ロック信号を受け取る。
【００７５】次に、断面構造について図７（Ｂ）を用い
て説明する。基板１７００上に絶縁膜１７１０が設けら
れ、絶縁膜１７１０の上方には画素領域１７０２、ゲー
ト側駆動回路１７０３が形成されており、画素領域１７
０２は電流制御用薄膜トランジスタ１７１１とそのドレ
インに電気的に接続された発光素子の一方の電極１７１
２を含む複数の画素により形成される。また、ゲート側
駆動回路１７０３はｎチャネル型薄膜トランジスタ１７
１３とｐチャネル型薄膜トランジスタ１７１４とを組み
合わせたＣＭＯＳ回路を用いて形成される。これらの薄
膜トランジスタ（１７１１、１７１３、１７１４を含
む）は、公知の技術に従い作製すればよい。
て説明する。基板１７００上に絶縁膜１７１０が設けら
れ、絶縁膜１７１０の上方には画素領域１７０２、ゲー
ト側駆動回路１７０３が形成されており、画素領域１７
０２は電流制御用薄膜トランジスタ１７１１とそのドレ
インに電気的に接続された発光素子の一方の電極１７１
２を含む複数の画素により形成される。また、ゲート側
駆動回路１７０３はｎチャネル型薄膜トランジスタ１７
１３とｐチャネル型薄膜トランジスタ１７１４とを組み
合わせたＣＭＯＳ回路を用いて形成される。これらの薄
膜トランジスタ（１７１１、１７１３、１７１４を含
む）は、公知の技術に従い作製すればよい。
【００７６】画素電極１７１２は有機発光素子の陽極と
して機能する。また、画素電極１７１２の両端には隔壁
１７１５が形成され、発光素子の電極１７１２上には有
機化合物層１７１６および有機発光素子の陰極１７１７
が形成される。有機化合物層１７１６は正孔注入層や発
光層、電子注入層などを適宜組み合わせて形成する。そ
の全てをインクジェット方式の印刷技術で形成しても良
いし、スピン塗布法とインクジェット方式を組み合わせ
て形成しても良い。
して機能する。また、画素電極１７１２の両端には隔壁
１７１５が形成され、発光素子の電極１７１２上には有
機化合物層１７１６および有機発光素子の陰極１７１７
が形成される。有機化合物層１７１６は正孔注入層や発
光層、電子注入層などを適宜組み合わせて形成する。そ
の全てをインクジェット方式の印刷技術で形成しても良
いし、スピン塗布法とインクジェット方式を組み合わせ
て形成しても良い。
【００７７】例えば、正孔注入層としてＰＥＤＯＴから
成る第１の有機化合物層を形成し、その上にインクジェ
ット方式による印刷装置を用いて線状又はストライプ状
の第２の有機化合物層を形成することができる。この場
合、第２の有機化合物層が発光層となる。適用する有機
化合物材料は、高分子系又は中分子系のものが可能で
る。
成る第１の有機化合物層を形成し、その上にインクジェ
ット方式による印刷装置を用いて線状又はストライプ状
の第２の有機化合物層を形成することができる。この場
合、第２の有機化合物層が発光層となる。適用する有機
化合物材料は、高分子系又は中分子系のものが可能で
る。
【００７８】陰極１７１７は全画素に共通の配線として
も機能し、接続配線１７０８を経由してＦＰＣ１７０９
に電気的に接続されている。さらに、画素領域１７０２
及びゲート側駆動回路１７０３に含まれる素子は全て陰
極１７１７、シール材１７１８、及び保護膜１７１９で
覆われている。また、シール材１７１８を用いて有機発
光素子を完全に覆った後、すくなくとも図１７に示すよ
うにＤＬＣ膜などからなる保護膜１７１９をシール材１
７１８の表面（露呈面）に設けることが好ましい。ま
た、基板の裏面を含む全面に保護膜を設けてもよい。こ
こで、外部入力端子（ＦＰＣ）が設けられる部分に保護
膜が成膜されないように注意することが必要である。マ
スクを用いて保護膜が成膜されないようにしてもよい
し、マスキングテープで外部入力端子部分を覆うことで
保護膜が成膜されないようにしてもよい。
も機能し、接続配線１７０８を経由してＦＰＣ１７０９
に電気的に接続されている。さらに、画素領域１７０２
及びゲート側駆動回路１７０３に含まれる素子は全て陰
極１７１７、シール材１７１８、及び保護膜１７１９で
覆われている。また、シール材１７１８を用いて有機発
光素子を完全に覆った後、すくなくとも図１７に示すよ
うにＤＬＣ膜などからなる保護膜１７１９をシール材１
７１８の表面（露呈面）に設けることが好ましい。ま
た、基板の裏面を含む全面に保護膜を設けてもよい。こ
こで、外部入力端子（ＦＰＣ）が設けられる部分に保護
膜が成膜されないように注意することが必要である。マ
スクを用いて保護膜が成膜されないようにしてもよい
し、マスキングテープで外部入力端子部分を覆うことで
保護膜が成膜されないようにしてもよい。
【００７９】以上のような構造で有機発光素子をシール
材１７１８及び保護膜で封入することにより、有機発光
素子を外部から完全に遮断することができ、外部から水
分や酸素等の有機化合物層の酸化による劣化を促す物質
が侵入することを防ぐことができる。従って、信頼性の
高い発光装置を得ることができる。また、画素電極を陰
極とし、有機化合物層と陽極を積層して図１７とは逆方
向に発光する構成としてもよい。
材１７１８及び保護膜で封入することにより、有機発光
素子を外部から完全に遮断することができ、外部から水
分や酸素等の有機化合物層の酸化による劣化を促す物質
が侵入することを防ぐことができる。従って、信頼性の
高い発光装置を得ることができる。また、画素電極を陰
極とし、有機化合物層と陽極を積層して図１７とは逆方
向に発光する構成としてもよい。
【００８０】[実施例６]図１８は発光装置の外観の一例
を示すものであり、透明画素電極（陽極）９０１と陰極
９０６とが交差するように設けられ、その間に有機化合
物層が形成されている。透明画素電極（陽極）９０１の
間には絶縁膜９０３が形成され、その上に隔壁９０４が
形成されている。但し、この絶縁膜９０３は省略しても
構わない。有機化合物層は、インクジェット方式の他に
スピン塗布方式を適宜組み合わせて形成することが可能
である。スピン塗布法を用いる場合には隔壁９０４上に
もその被膜が形成される。
を示すものであり、透明画素電極（陽極）９０１と陰極
９０６とが交差するように設けられ、その間に有機化合
物層が形成されている。透明画素電極（陽極）９０１の
間には絶縁膜９０３が形成され、その上に隔壁９０４が
形成されている。但し、この絶縁膜９０３は省略しても
構わない。有機化合物層は、インクジェット方式の他に
スピン塗布方式を適宜組み合わせて形成することが可能
である。スピン塗布法を用いる場合には隔壁９０４上に
もその被膜が形成される。
【００８１】発光層等をインクジェット方式で形成する
場合には、昇華性を有さず、且つ分子数が１０以下、又
は連鎖する分子の長さが１０μm以下の有機化合物（中
分子化合物）を用いて形成する。これを用いてインクジ
ェット方式を用いたパターン形成を行う場合には、水
系、アルコール又はグリコール系溶剤に溶解又は分散さ
せたものを用いる。いずれにしても、インクジェット方
式を用いたパターン形成に適用可能な粘度に調整するこ
とができ、簡単かつ短時間で最適な条件の膜形成を行う
ことができる。
場合には、昇華性を有さず、且つ分子数が１０以下、又
は連鎖する分子の長さが１０μm以下の有機化合物（中
分子化合物）を用いて形成する。これを用いてインクジ
ェット方式を用いたパターン形成を行う場合には、水
系、アルコール又はグリコール系溶剤に溶解又は分散さ
せたものを用いる。いずれにしても、インクジェット方
式を用いたパターン形成に適用可能な粘度に調整するこ
とができ、簡単かつ短時間で最適な条件の膜形成を行う
ことができる。
【００８２】インクヘッドから吐出された組成物は、隔
壁９０４の間に着弾し、乾燥させることで発光層などを
含む有機層９０５を形成することができる。有機化合物
層９０５は図１２で示すように隔壁９０４をストライプ
状に形成し、その間に連続的に形成する。このように有
機化合物層を形成することで、発光層を効率良くパター
ン形成することができ、発光しない欠陥画素の発生率を
低減することができる。
壁９０４の間に着弾し、乾燥させることで発光層などを
含む有機層９０５を形成することができる。有機化合物
層９０５は図１２で示すように隔壁９０４をストライプ
状に形成し、その間に連続的に形成する。このように有
機化合物層を形成することで、発光層を効率良くパター
ン形成することができ、発光しない欠陥画素の発生率を
低減することができる。
【００８３】[実施例７]本発明を用いて形成された発光
装置を用いて様々な電子装置を完成させることができ
る。その様な電子装置の一例としてビデオカメラ、デジ
タルカメラ、ヘッドマウントディスプレイ（ゴーグル型
ディスプレイ）、カーナビゲーション、プロジェクタ
ー、カーステレオ、パーソナルコンピュータ、携帯情報
端末（モバイルコンピュータ、携帯電話または電子書籍
等）などが挙げられる。それらの一例を図１９、２０に
示す。
装置を用いて様々な電子装置を完成させることができ
る。その様な電子装置の一例としてビデオカメラ、デジ
タルカメラ、ヘッドマウントディスプレイ（ゴーグル型
ディスプレイ）、カーナビゲーション、プロジェクタ
ー、カーステレオ、パーソナルコンピュータ、携帯情報
端末（モバイルコンピュータ、携帯電話または電子書籍
等）などが挙げられる。それらの一例を図１９、２０に
示す。
【００８４】図１９（Ａ）はパーソナルコンピュータで
あり、本体２００１、画像入力部２００２、表示部２０
０３、キーボード２００４等を含む。本発明を用いて形
成される発光装置は表示部２００３に組み入れることが
でき、パーソナルコンピュータを完成させることができ
る。
あり、本体２００１、画像入力部２００２、表示部２０
０３、キーボード２００４等を含む。本発明を用いて形
成される発光装置は表示部２００３に組み入れることが
でき、パーソナルコンピュータを完成させることができ
る。
【００８５】図１９（Ｂ）はビデオカメラであり、本体
２１０１、表示部２１０２、音声入力部２１０３、操作
スイッチ２１０４、バッテリー２１０５、受像部２１０
６等を含む。本発明を用いて形成される発光装置は表示
部２１０２に組み入れることができ、ビデオカメラを完
成させることができる。
２１０１、表示部２１０２、音声入力部２１０３、操作
スイッチ２１０４、バッテリー２１０５、受像部２１０
６等を含む。本発明を用いて形成される発光装置は表示
部２１０２に組み入れることができ、ビデオカメラを完
成させることができる。
【００８６】図１９（Ｃ）はモバイルコンピュータ（モ
ービルコンピュータ）であり、本体２２０１、カメラ部
２２０２、受像部２２０３、操作スイッチ２２０４、表
示部２２０５等を含む。本発明を用いて形成される発光
装置は表示部２２０５に組み入れることができ、モバイ
ルコンピュータを完成させることができる。
ービルコンピュータ）であり、本体２２０１、カメラ部
２２０２、受像部２２０３、操作スイッチ２２０４、表
示部２２０５等を含む。本発明を用いて形成される発光
装置は表示部２２０５に組み入れることができ、モバイ
ルコンピュータを完成させることができる。
【００８７】図１９（Ｄ）はゴーグル型ディスプレイで
あり、本体２３０１、表示部２３０２、アーム部２３０
３等を含む。本発明を用いて形成される発光装置は表示
部２３０２に組み入れることができ、ゴーグル型ディス
プレイを完成させることができる。
あり、本体２３０１、表示部２３０２、アーム部２３０
３等を含む。本発明を用いて形成される発光装置は表示
部２３０２に組み入れることができ、ゴーグル型ディス
プレイを完成させることができる。
【００８８】図１９（Ｅ）はプログラムを記録した記録
媒体（以下、記録媒体と呼ぶ）を用いるプレーヤーであ
り、本体２４０１、表示部２４０２、スピーカ部２４０
３、記録媒体２４０４、操作スイッチ２４０５等を含
む。なお、このプレーヤーは記録媒体としてＤＶＤ(Dig
ital Versatile Disc)、ＣＤ等を用い、音楽鑑賞や映画
鑑賞やゲームやインターネットを行うことができる。本
発明を用いて形成される発光装置は表示部２４０２に組
み入れることができ、ゴーグル型ディスプレイを完成さ
せることができる。
媒体（以下、記録媒体と呼ぶ）を用いるプレーヤーであ
り、本体２４０１、表示部２４０２、スピーカ部２４０
３、記録媒体２４０４、操作スイッチ２４０５等を含
む。なお、このプレーヤーは記録媒体としてＤＶＤ(Dig
ital Versatile Disc)、ＣＤ等を用い、音楽鑑賞や映画
鑑賞やゲームやインターネットを行うことができる。本
発明を用いて形成される発光装置は表示部２４０２に組
み入れることができ、ゴーグル型ディスプレイを完成さ
せることができる。
【００８９】図１９（Ｆ）はデジタルカメラであり、本
体２５０１、表示部２５０２、接眼部２５０３、操作ス
イッチ２５０４、受像部（図示しない）等を含む。本発
明を用いて形成される発光装置は表示部２５０２に組み
入れることができ、デジタルカメラを完成させることが
できる。
体２５０１、表示部２５０２、接眼部２５０３、操作ス
イッチ２５０４、受像部（図示しない）等を含む。本発
明を用いて形成される発光装置は表示部２５０２に組み
入れることができ、デジタルカメラを完成させることが
できる。
【００９０】図２０（Ａ）は携帯電話であり、本体２９
０１、音声出力部２９０２、音声入力部２９０３、表示
部２９０４、操作スイッチ２９０５、アンテナ２９０
６、画像入力部（ＣＣＤ、イメージセンサ等）２９０７
等を含む。本発明を用いて形成される発光装置は表示部
２９０４に組み入れることができ、デジタルカメラを完
成させることができる。
０１、音声出力部２９０２、音声入力部２９０３、表示
部２９０４、操作スイッチ２９０５、アンテナ２９０
６、画像入力部（ＣＣＤ、イメージセンサ等）２９０７
等を含む。本発明を用いて形成される発光装置は表示部
２９０４に組み入れることができ、デジタルカメラを完
成させることができる。
【００９１】図２０（Ｂ）は携帯書籍（電子書籍）であ
り、本体３００１、表示部３００２、３００３、記憶媒
体３００４、操作スイッチ３００５、アンテナ３００６
等を含む。本発明を用いて形成される発光装置は表示部
３００２、３００３に組み入れることができ、携帯書籍
を完成させることができる。
り、本体３００１、表示部３００２、３００３、記憶媒
体３００４、操作スイッチ３００５、アンテナ３００６
等を含む。本発明を用いて形成される発光装置は表示部
３００２、３００３に組み入れることができ、携帯書籍
を完成させることができる。
【００９２】図２０（Ｃ）はディスプレイであり、本体
３１０１、支持台３１０２、表示部３１０３等を含む。
本発明を用いて形成される発光装置は表示部３１０３に
組み入れることができ、ディスプレイを完成させること
ができる。尚、図２０（Ｃ）に示すディスプレイは中小
型または大型のもの、例えば５〜２０インチの画面サイ
ズのものである。また、このようなサイズの表示部を形
成するためには、基板の一辺が１ｍを越えるものを用
い、多面取りを行って量産することが好ましい。
３１０１、支持台３１０２、表示部３１０３等を含む。
本発明を用いて形成される発光装置は表示部３１０３に
組み入れることができ、ディスプレイを完成させること
ができる。尚、図２０（Ｃ）に示すディスプレイは中小
型または大型のもの、例えば５〜２０インチの画面サイ
ズのものである。また、このようなサイズの表示部を形
成するためには、基板の一辺が１ｍを越えるものを用
い、多面取りを行って量産することが好ましい。
【００９３】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、１ドット
毎に吐出する組成物を基板上で連続させ、線状又はスト
ライプ状の有機化合物層を形成することにより、位置合
わせに要する時間が短縮され、有機化合物層の形成が容
易となり、処理時間を短縮することができる。
毎に吐出する組成物を基板上で連続させ、線状又はスト
ライプ状の有機化合物層を形成することにより、位置合
わせに要する時間が短縮され、有機化合物層の形成が容
易となり、処理時間を短縮することができる。
【００９４】特に、本発明は１枚の大面積基板から複数
枚の表示用パネルを切り出す生産方式に適用する場合に
適している。また、大面積基板に複数の画素領域が設け
られている場合には、画素領域間の移動の間、混合物の
吐出を瞬時に停止させることで、インクヘッドを大面積
基板に対してより高速に移動させ、生産性を向上できる
という有利な効果がある。
枚の表示用パネルを切り出す生産方式に適用する場合に
適している。また、大面積基板に複数の画素領域が設け
られている場合には、画素領域間の移動の間、混合物の
吐出を瞬時に停止させることで、インクヘッドを大面積
基板に対してより高速に移動させ、生産性を向上できる
という有利な効果がある。
【図１】 本発明のインクジェット方式で有機化合物層
を連続的に形成する概念を説明するための図。
を連続的に形成する概念を説明するための図。
【図２】 インクジェット方式の印刷装置の構成を説明
する図。
する図。
【図３】 インクヘッドの構成の一例を説明する断面
図。
図。
【図４】 インクヘッドの構成の一例を説明する断面
図。
図。
【図５】 インクヘッドの構成の一例を説明する断面
図。
図。
【図６】 連続的な有機化合物層を形成する過程を説明
する図。
する図。
【図７】 連続的な有機化合物層を形成する過程を説明
する図。
する図。
【図８】 マトリクス状に配列した各画素電極に対し、
有機化合物層を連続的に形成する概念を説明する図。
有機化合物層を連続的に形成する概念を説明する図。
【図９】 マトリクス状に配列した各画素電極に対し、
有機化合物層を連続的に形成する概念を説明する図。
有機化合物層を連続的に形成する概念を説明する図。
【図１０】 本発明のインクジェット方式で有機化合物
層を連続的に形成する概念を説明するための図。
層を連続的に形成する概念を説明するための図。
【図１１】 ヘッド部における吐出口の配置を示す図。
【図１２】 インクジェット方式を用いた有機発光装置
の作製工程を説明する断面図。
の作製工程を説明する断面図。
【図１３】 インクジェット方式を用いた有機発光装置
の作製工程を説明する断面図。
の作製工程を説明する断面図。
【図１４】 有機発光素子を設ける画素の構成を説明す
る上面図。
る上面図。
【図１５】 有機発光素子を設けたの画素の構成を説明
する断面図。
する断面図。
【図１６】 発光装置の封止構造に一例を示す断面図。
【図１７】 アクティブマトリクス駆動の発光装置の構
成を示す上面図及び断面図。
成を示す上面図及び断面図。
【図１８】 パッシブマ型の発光装置の画素部の構成を
説明する斜視図。
説明する斜視図。
【図１９】 電子装置の一例を示す図。
【図２０】 電子装置の一例を示す図。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｈ０５Ｂ 33/14 Ｈ０５Ｂ 33/14 Ａ
33/22 33/22 Ｄ
Ｚ
Ｆターム(参考） 3K007 AB04 AB18 BA06 DA01 DB03
EB00 FA01
5C094 AA07 AA08 AA43 AA44 AA46
AA48 BA03 BA12 BA27 CA19
CA24 DA09 DA13 DB01 DB02
DB04 EA04 EA05 EA07 EA10
FA01 FB01 FB20 GB10
5G435 AA04 AA17 BB05 CC09 CC12
EE37 HH12 HH13 HH14 HH20
KK05 KK10
Claims (12)
- 【請求項１】マトリクス状に配列する画素電極上層に、
インクヘッドから発光性を有する有機化合物を含む組成
物を吐出して、連続した有機化合物層を形成することを
特徴とする発光装置の製造方法。 - 【請求項２】薄膜トランジスタと画素電極が一対を成し
てマトリクス状に配列し、当該画素電極上層に、インク
ヘッドから発光性を有する有機化合物を含む組成物を吐
出して、連続した有機化合物層を形成することを特徴と
する発光装置の製造方法。 - 【請求項３】薄膜トランジスタを有する基板に画素電極
を形成し、当該画素電極上層に、インクヘッドから発光
性を有する有機化合物を含む組成物を吐出して、連続し
た有機化合物層を形成することを特徴とする発光装置の
製造方法。 - 【請求項４】薄膜トランジスタを有する基板に画素電極
を形成し、当該画素電極上層に、正孔注入層が形成し、
この上層に、インクヘッドから発光性を有する有機化合
物を含む組成物を吐出して、連続した有機化合物層を形
成することを特徴とする発光装置の製造方法。 - 【請求項５】薄膜トランジスタを有する基板に画素電極
を形成し、当該画素電極上層に、スピン塗布法により正
孔注入層が形成し、この上層に、インクジェット方式
で、インクヘッドから発光性を有する有機化合物を含む
組成物を吐出して、連続した有機化合物層を形成するこ
とを特徴とする発光装置の製造方法。 - 【請求項６】マトリクス状に配列する画素電極上層に、
インクヘッドから発光性を有する有機化合物を含む組成
物を吐出して、かつ、平滑化手段により前記インクヘッ
ドから吐出した組成物を平滑化しながら、連続する有機
化合物のパターンを形成することを特徴とする発光装置
の製造方法。 - 【請求項７】薄膜トランジスタと画素電極が一対を成し
てマトリクス状に配列し、当該画素電極上層に、インク
ヘッドから発光性を有する有機化合物を含む組成物を吐
出して、かつ、平滑化手段により前記インクヘッドから
吐出した組成物を平滑化しながら、連続する有機化合物
のパターンを形成することを特徴とする発光装置の製造
方法。 - 【請求項８】薄膜トランジスタを有する基板に画素電極
を形成し、当該画素電極上層に、インクヘッドから発光
性を有する有機化合物を含む組成物を吐出して、かつ、
平滑化手段により前記インクヘッドから吐出した組成物
を平滑化しながら、連続する有機化合物のパターンを形
成することを特徴とする発光装置の製造方法。 - 【請求項９】薄膜トランジスタを有する基板に画素電極
を形成し、当該画素電極上層に、正孔注入層が形成し、
この上層に、インクヘッドから発光性を有する有機化合
物を含む組成物を吐出して、かつ、平滑化手段により前
記インクヘッドから吐出した組成物を平滑化しながら、
連続する有機化合物のパターンを形成することを特徴と
する発光装置の製造方法。 - 【請求項１０】薄膜トランジスタを有する基板に画素電
極を形成し、当該画素電極上層に、スピン塗布法により
正孔注入層が形成され、この上層に、インクジェット方
式でインクヘッドから発光性を有する有機化合物を含む
組成物を吐出して、かつ、平滑化手段により前記インク
ヘッドから吐出した組成物を平滑化しながら、連続する
有機化合物のパターンを形成することを特徴とする発光
装置の製造方法。 - 【請求項１１】請求項１乃至請求項１０のいずれか一に
おいて、前記組成物は、有機発光材料又はその前駆体を
溶媒に溶解又は分散させたものを用いることを特徴とす
る発光装置の作製方法。 - 【請求項１２】請求項６乃至請求項１０のいずれか一に
おいて、前記平滑化手段は、インクヘッドの吐出口近傍
に設けられた気体を噴出するノズルであって、当該ノズ
ルからの気体に噴出により前記組成物を平滑化すること
を特徴とする発光装置の作製方法。
Priority Applications (8)
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|---|---|---|---|
| JP2001206751A JP2003022892A (ja) | 2001-07-06 | 2001-07-06 | 発光装置の製造方法 |
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| US10/188,232 US7378291B2 (en) | 2001-07-06 | 2002-07-03 | Method of manufacturing a light emitting device |
| CNB021411360A CN100377381C (zh) | 2001-07-06 | 2002-07-05 | 制造发光装置的方法 |
| US11/878,664 US7547563B2 (en) | 2001-07-06 | 2007-07-26 | Method of manufacturing a light emitting device |
| US12/476,284 US8197052B2 (en) | 2001-07-06 | 2009-06-02 | Method of manufacturing a light emitting device |
| US13/477,096 US8425016B2 (en) | 2001-07-06 | 2012-05-22 | Method of manufacturing a light emitting device |
| US13/800,358 US8752940B2 (en) | 2001-07-06 | 2013-03-13 | Method of manufacturing a light emitting device |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001206751A JP2003022892A (ja) | 2001-07-06 | 2001-07-06 | 発光装置の製造方法 |
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|---|---|---|---|
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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|---|---|---|---|
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| JP2003022892A (ja) * | 2001-07-06 | 2003-01-24 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置の製造方法 |
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