JP2003010997A - ハンダ組成物 - Google Patents

ハンダ組成物

Info

Publication number
JP2003010997A
JP2003010997A JP2001200025A JP2001200025A JP2003010997A JP 2003010997 A JP2003010997 A JP 2003010997A JP 2001200025 A JP2001200025 A JP 2001200025A JP 2001200025 A JP2001200025 A JP 2001200025A JP 2003010997 A JP2003010997 A JP 2003010997A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
carboxylic acid
resin
solder composition
organic carboxylic
flux
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001200025A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3888573B2 (ja
Inventor
Tsutomu Nishina
努 仁科
Kenji Okamoto
健次 岡本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fuji Electric Co Ltd
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP2001200025A priority Critical patent/JP3888573B2/ja
Application filed by Fuji Electric Co Ltd filed Critical Fuji Electric Co Ltd
Priority to CNB028161807A priority patent/CN1282519C/zh
Priority to DE60225282T priority patent/DE60225282T2/de
Priority to US10/482,056 priority patent/US7601228B2/en
Priority to PCT/JP2002/006325 priority patent/WO2003002290A1/ja
Priority to EP07014107A priority patent/EP1946882B8/en
Priority to EP02743717A priority patent/EP1402990B1/en
Publication of JP2003010997A publication Critical patent/JP2003010997A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3888573B2 publication Critical patent/JP3888573B2/ja
Priority to US12/461,982 priority patent/US8206515B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/3457Solder materials or compositions; Methods of application thereof
    • H05K3/3485Applying solder paste, slurry or powder
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/02Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by mechanical features, e.g. shape
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/02Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by mechanical features, e.g. shape
    • B23K35/0222Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by mechanical features, e.g. shape for use in soldering, brazing
    • B23K35/0244Powders, particles or spheres; Preforms made therefrom
    • B23K35/025Pastes, creams, slurries
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/22Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/22Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
    • B23K35/24Selection of soldering or welding materials proper
    • B23K35/26Selection of soldering or welding materials proper with the principal constituent melting at less than 400 degrees C
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/22Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
    • B23K35/24Selection of soldering or welding materials proper
    • B23K35/26Selection of soldering or welding materials proper with the principal constituent melting at less than 400 degrees C
    • B23K35/262Sn as the principal constituent
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/22Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
    • B23K35/36Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/22Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
    • B23K35/36Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest
    • B23K35/3612Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest with organic compounds as principal constituents
    • B23K35/3613Polymers, e.g. resins
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/22Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
    • B23K35/36Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest
    • B23K35/3612Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest with organic compounds as principal constituents
    • B23K35/3618Carboxylic acids or salts
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/22Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
    • B23K35/36Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest
    • B23K35/362Selection of compositions of fluxes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/02Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by mechanical features, e.g. shape
    • B23K35/0222Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by mechanical features, e.g. shape for use in soldering, brazing
    • B23K35/0244Powders, particles or spheres; Preforms made therefrom
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/02Fillers; Particles; Fibers; Reinforcement materials
    • H05K2201/0203Fillers and particles
    • H05K2201/0206Materials
    • H05K2201/0224Conductive particles having an insulating coating
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/3457Solder materials or compositions; Methods of application thereof
    • H05K3/3463Solder compositions in relation to features of the printed circuit board or the mounting process

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 フラックス残渣の洗浄を必要とせず、かつ粘
度や印刷性、ハンダ付け性などの経時変化が起こりにく
く、エポキシ系フラックスおよび鉛フリーSnZn系合
金を含有するハンダ組成物を提供する。 【解決手段】 鉛フリーSnZn系合金と、少なくとも
エポキシ樹脂および有機カルボン酸を含有するハンダ付
け用フラックスとを含有するハンダ組成物において、有
機カルボン酸が室温(25℃)においてハンダ組成物中
に固体で分散されているか、有機カルボン酸が100〜
200g/molの分子量を有するか、有機カルボン酸
またはSnZn系合金がエポキシ樹脂、ポリイミド樹
脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエス
テル樹脂、ポリウレア樹脂、ポリオレフィン樹脂、およ
びポリスルホン樹脂からなる群から選択された膜に覆わ
れたマイクロカプセル構造を形成しているハンダ組成
物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、フラックスの洗浄
を必要とせず、印刷性やハンダ付け性等の経時変化が起
こりにくい鉛フリーハンダ組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、ハンダ付け用フラックスの多くは
ロジンやロジン変性樹脂に有機酸、ハロゲン化塩からな
る活性剤を添加したものである。ロジンはフラックスの
主成分となるものであり、これを溶剤で溶解して適度な
粘度にすると印刷性が良好となり、またロジンの粘着性
は電子部品を仮止めしてプリント基板からの落下やずれ
を防止する。ロジン中にはアビエチン酸という活性成分
が含まれていて、アビエチン酸だけでもある程度ハンダ
付け性に効果がある。クリームハンダのフラックスに用
いられるロジンとしては、天然ロジン、重合ロジン、不
均化ロジン、水添ロジン、マレイン酸変性ロジン等があ
る。しかしながら、これらのロジンを含有するロジン系
フラックスはハンダ付け作業終了後に残渣としてプリン
ト回路板上に残り、この残渣が基材の腐食やマイグレー
ション等の原因になることが多かった。また、残渣の残
ったプリント回路板を樹脂(シリコーンゲル、エポキシ
樹脂など)で封止する場合、残渣が原因で封止樹脂の硬
化阻害を起こし、裏板との接着性、絶縁性にも影響を及
ぼすことがある。そこで、残渣を除去するため、ハンダ
付け作業後は代替フロンや有機溶剤での洗浄を行ってい
る。しかしながら、フロンやVOCなどの環境問題によ
り、洗浄剤が規制されているのが現状である。
【0003】フラックス残渣の洗浄無しでも、基材の腐
食やマイグレーションを起こさず、封止樹脂の硬化阻害
を起こさないフラックスの1つにエポキシ系フラックス
がある。エポキシ系フラックスは、主成分として、エポ
キシ樹脂、カルボン酸、アミン、チクソ剤などから成
る。このような成分を含むエポキシ系フラックスを含有
するクリームハンダを用いてプリント基板部品実装した
場合、リフローハンダ付け時にカルボン酸によって導体
表面の活性化すると同時にエポキシ樹脂とカルボン酸が
硬化反応を起こし、ハンダが溶融し部品が接着したころ
に硬化反応が終了するように設計されている。リフロー
後、エポキシ樹脂硬化物がフラックス残渣として残る。
このエポキシ樹脂硬化物は、一般的に使われているロジ
ン系フラックスの残渣と比べ、部品ハンダ付け後、無洗
浄で樹脂封止してもプリント回路板と封止樹脂の接着性
を妨げることなく、絶縁的にも優れている(特開200
0−216300号公報)。
【0004】一方、フラックスと混ぜ合わせるハンダ合
金としては、SnPb合金が一般的に使われている。S
nPb合金は、ハンダ付け性がきわめて良好であり、ま
た、共晶組成(63Sn37Pb)の溶融温度が183
℃と低く、そのハンダ付け温度は250℃以下であり、
熱に弱い電子部品に対しては熱損傷を与えることがな
い。しかし、近年、環境的な問題から、鉛を含まないハ
ンダ、いわゆる鉛フリーハンダが望まれている。
【0005】鉛フリーハンダに用いられる合金として、
Sn主成分のSnAg合金やSnSb合金がある。Sn
Ag合金では最も低い溶融温度の組成がSn3.5Ag
の共晶組成で、その溶融温度が221℃である。この組
成のハンダ合金のハンダ付け温度は260〜280℃と
いうかなり高い温度であり、この温度でハンダ付けを行
うと熱に弱い電子邸品は熱損傷を受けて機能劣化や破壊
などを起こしてしまう。また、SnSb合金では最も低
い溶融温度の組成がSn5Sbであるが、この組成の溶
融温度は、固相線温度が235℃、液相線温度が240
℃という高い温度であるため、ハンダ付け温度は、Sn
3.5Ag合金よりもさらに高い280〜300℃とな
り、同様に熱に弱い電子部品を熱損傷させてしまう。
【0006】そこで最近では、SnAg合金やSnSb
合金よりも溶融温度の低い、鉛フリーのSnZn合金の
ハンダが注目されるようになってきた。SnZn合金を
用いた場合、例えばSn9Znの組成では共晶となり、
その溶融温度は199℃であるため、SnPb共晶ハン
ダに近い溶融温度となり、SnAg合金やSnSb合金
よりもハンダ付け温度が低く、熱に弱い電子部品に対す
る熱損傷を小さくできる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ロジン系フラックスを用いて鉛フリーSnZn系合金の
クリームハンダを製造すると、製造直後では印刷性やハ
ンダ付け性などは従来のクリームハンダとほとんど変わ
りないが、例えば室温において保存する場合など、しば
らく時間が経過すると該クリームハンダの粘度が高くな
り、印刷性が悪くなるばかりでなく、ハンダ付け性も悪
くなってしまう。さらに時間の経過とともにSnZn系
のクリームハンダは粘度がさらに高くなり、全く印刷不
可能な状態になってしまう。このような状態になってし
まうと、たとえ溶剤を追加して粘度を下げてから印刷し
ても、SnZn合金粉末は溶融せず、ハンダ付けができ
なくなってしまう。
【0008】また、フラックス残渣の洗浄を不要にする
ためにエポキシ系フラックスを用いてSnZn系合金の
クリームハンダ組成物を製造した場合においても、ロジ
ン系フラックスを用いた場合と同様に、粘度、印刷性、
およびハンダ付け性の経時変化の弊害が生ずる。
【0009】本発明の目的は、上記問題点を解決するも
のであり、フラックス残渣の洗浄を必要とせず、かつ粘
度や印刷性、ハンダ付け性などの経時変化の起こりにく
く、エポキシ系フラックスおよび鉛フリーSnZn系合
金を含有するハンダ組成物を提供することである。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鉛フリー
SnZn系合金とエポキシ系フラックスとを含有するク
リームハンダ組成物において、上記のような粘度、印刷
性、およびハンダ付け性などの経時変化が生ずる原因
は、SnZn系合金中のZn成分の反応性が高く、該Z
n成分が時間経過とともにエポキシ系フラックス中の成
分、主として有機カルボン酸と反応してしまうためであ
ると考えた。そこで、上記ハンダ組成物に含有されるZ
nと有機カルボン酸との反応性を抑えることにより、上
記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた
ものである。
【0011】すなわち、本発明の第1の態様は、鉛フリ
ーSnZn系合金と、少なくともエポキシ樹脂および有
機カルボン酸を含有するハンダ付け用フラックスと、を
含有するハンダ組成物であって、前記有機カルボン酸が
室温(25℃)において前記ハンダ組成物中に固体で分
散されていることを特徴とするハンダ組成物である。
【0012】本発明の第2の態様は、鉛フリーSnZn
系合金と、少なくともエポキシ樹脂および有機カルボン
酸を含有するハンダ付け用フラックスと、を含有するハ
ンダ組成物であって、前記有機カルボン酸は100〜2
00g/molの分子量を有する有機カルボン酸である
ことを特徴とするハンダ組成物である。
【0013】上記本発明のハンダ組成物において、前記
有機カルボン酸が室温(25℃)において前記ハンダ組
成物中に固体で分散されていることが好ましい。
【0014】本発明の第3の態様は、鉛フリーSnZn
系合金と、少なくともエポキシ樹脂および有機カルボン
酸を含有するハンダ付け用フラックスと、を含有するハ
ンダ組成物であって、前記有機カルボン酸がエポキシ樹
脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミ
ド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレア樹脂、ポリオレ
フィン樹脂、およびポリスルホン樹脂からなる群から選
択された膜に覆われたマイクロカプセル構造を形成して
いるハンダ組成物である。
【0015】本発明の第4の態様は、鉛フリーSnZn
系合金と、少なくともエポキシ樹脂および有機カルボン
酸を含有するハンダ付け用フラックスと、を含有するハ
ンダ組成物であって、前記SnZn系合金がエポキシ樹
脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミ
ド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレア樹脂、ポリオレ
フィン樹脂、およびポリスルホン樹脂からなる群から選
択された膜に覆われたマイクロカプセル構造を形成して
いるハンダ組成物である。
【0016】上記本発明のハンダ組成物において、前記
エポキシ樹脂が、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビ
スフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ
樹脂、脂環式エポキシ樹脂、およびこれらの混合物から
なる群から選択されることが好ましい。
【0017】上記本発明のハンダ組成物において、アル
コールをさらに含有することが好ましい。
【0018】上記本発明のハンダ組成物において、前記
アルコールが多価アルコールであることが好ましい。
【0019】上記本発明のハンダ組成物において、前記
有機カルボン酸が、飽和脂肪族系ジカルボン酸、不飽和
脂肪族系ジカルボン酸、環状脂肪族系ジカルボン酸、ア
ミノ基含有カルボン酸、水酸基含有カルボン酸、複素環
系ジカルボン酸、およびこれらの混合物の群から選択さ
れることが好ましい。
【0020】上記本発明のハンダ組成物において、前記
有機カルボン酸が130〜220℃の融点を有すること
が好ましい。
【0021】上記本発明のハンダ組成物において、前記
フラックス中、前記エポキシ樹脂および有機カルボン酸
はフラックス全量に対して合計で70〜100質量%で
含有され、前記アルコールはフラックス全量に対して0
〜30質量%で含有され、前記エポキシ樹脂および有機
カルボン酸はエポキシ基1.0当量に対してカルボキシ
ル基0.8〜2.0当量であるように配合されているこ
とが好ましい。
【0022】
【発明の実施の形態】上記のように、本発明のハンダ組
成物は、鉛フリーSnZn系合金と、少なくともエポキ
シ樹脂および有機カルボン酸を含有するハンダ付け用フ
ラックスと、を含有するハンダ組成物である。鉛フリー
SnZn系合金は、SnAgやSnSbなどの他の鉛フ
リーのSn含有合金より溶融温度が低いため、結果とし
てリフローハンダ付けにおいて熱に弱い電子部品の熱損
傷をより小さくできる。また、エポキシ系フラックスを
用いることにより、基板の腐食やマイグレーション、さ
らには封止樹脂の硬化阻害を起こさずに、該フラッック
スの洗浄を不要とすることができる。
【0023】上記鉛フリーSnZn系合金には、SnZ
n、SnZnBi、SnZnInが含まれるが、これら
に限定するものではない。好ましくは、Snを主成分と
し、Znが5〜15質量%、BiまたはInが10質量
%以下であって、約180〜210℃の融点を有するS
nZn系合金である。Sn9Znの共晶組成(融点19
9℃)、Sn8Zn3Bi(融点197℃)、Sn8Z
n6Bi(融点194℃)、およびSn9Zn4In
(融点190℃)がより好適である。
【0024】上記フラックス成分として含有されるエポ
キシ樹脂は、室温(25℃)において液状であり、固体
(粉末)ハンダ組成成分と混ぜてクリームハンダ等にす
る働きと、ハンダ付け時に有機カルボン酸と硬化反応を
起こして余分なカルボン酸を硬化物に変えてフラックス
の洗浄を不要とする働きを有する。エポキシ樹脂硬化物
は、部品ハンダ付け後、無洗浄で樹脂封止してもプリン
ト回路板と封止樹脂の接着性を妨げることなく、また絶
縁性も優れる。該エポキシ樹脂は、ビスフェノールA型
エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボ
ラック型エポキシ村脂、脂環式エポキシ樹脂、およびこ
れらの混合物から選択されることが好ましい。より好ま
しくは、ビスフェノールA型エポキシ樹脂である。
【0025】上記フラックス成分として含有される有機
カルボン酸は、活性剤としての働き、すなわちハンダ付
け加工時にプリント基板の導体パターン(銅など)の酸
化膜と、ハンダ合金表面の酸化膜を除去して導体パター
ンにハンダ材が濡れ易くする働きを有するほか、上記エ
ポキシ樹脂と硬化反応にも用いられる。本発明フラック
スには、該有機カルボン酸以外の活性剤(アミン、ハロ
ゲン系活性剤など)を用いる必要はない。本発明のハン
ダ組成物において、130〜220℃の融点を有する有
機カルボン酸は好適に用いることができ、さらに後述す
るカルボン酸のうち130〜220℃の融点を有する有
機カルボン酸をより好適に用いることができる。130
〜220℃の融点を有する有機カルボン酸とした理由
は、融点が130℃未満のカルボン酸ではプリント基板
の導体表面の活性化の前にカルボン酸が溶融するため、
これにより先にSnZn系合金中のZnとカルボン酸が
反応してしまい、導体表面に対する濡れ性が悪くなる。
一方、融点が220℃より大きいカルボン酸では、リフ
ロー中にカルボン酸が溶融しにくく、活性化とエポキシ
樹脂との硬化反応が起こりにくいからである。
【0026】以下に、上記の各実施態様の本発明ハンダ
組成物についてより詳細に説明する。
【0027】本発明ハンダ組成物の第1の態様は、鉛フ
リーSnZn系合金と、少なくともエポキシ樹脂および
有機カルボン酸を含有するハンダ付け用フラックスと、
を含有するハンダ組成物であって、前記有機カルボン酸
が室温(25℃)において上記ハンダ組成物中に固体で
分散されているハンダ組成物である。
【0028】上記態様のハンダ組成物において、上記カ
ルボン酸が室温ではSnZn系合金中のZnと反応する
有機カルボン酸が固形の粉末でハンダ組成物中に分散さ
れ、Znとの接触が少なくなるためにZnとの反応が抑
制でき、保存等に伴う経時変化が起こりにくくなる。ハ
ンダ付け時において加熱されると、SnZn系合金が溶
融する前に有機カルボン酸が溶融し、ハンダ組成物中に
拡散し、SnZn系合金またはハンダ付け面との接触が
多くなり、ハンダ粉末の活性化とハンダ付け面の活性化
を起こす。それと同時にエポキ樹脂と有機カルボン酸が
硬化反応を起こすため、本来のフラックスとしての機能
は維持することができる。
【0029】フラックスの調製において、通常は、均一
なフラックスとするために活性剤であるカルボン酸を他
のフラックス成分とともに加熱溶融後撹拌し冷却して調
製するが、該調製によると該カルボン酸は室温において
はエポキシ樹脂と同様に液状として存在するため、この
ような液状カルボン酸を含むフラックスを用いたSnZ
n系合金ハンダでは該カルボン酸とZnとの接触が多く
なり、ハンダ組成物の上記経時変化が起こってしまう。
一方、このような調製を行わず、有機カルボン酸を含む
フラックスをSnZn系合金と室温で混ぜ合わせて本発
明のハンダ組成物を調製することにより、有機カルボン
酸が固形でハンダ組成物中に分散されているハンダ組成
物を製造することができ、上記の通り、ハンダ組成物の
経時変化が抑制できる。
【0030】上記態様で用いられる有機カルボン酸は、
飽和脂肪族系ジカルボン酸、不飽和脂肪族系ジカルボン
酸、環状脂肪族系ジカルボン酸、アミノ基含有カルボン
酸、水酸基含有カルボン酸、複素環系ジカルボン酸、お
よびこれらの混合物の群から選択されることが好まし
い。具体的には、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、
アゼライン酸、ドデカン二酸、イタコン酸、メサコン
酸、シクロブタンジカルボン酸、シクロヘキサンジカル
ボン酸、シクロヘキセンジカルボン酸、シクロペンタン
テトラカルボン酸、メチルアジピン酸、L−グルタミン
酸、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸、ピラジンジカルボン
酸、ジグリコール酸、フェニレン二酢酸、カテコール二
酢酸、チオプロピオン酸、チオジブチル酸ジチオグリコ
ール酸が含まれる。
【0031】本発明ハンダ組成物の第2の態様は、鉛フ
リーSnZn系合金と、少なくともエポキシ樹脂および
有機カルボン酸を含有するハンダ付け用フラックスと、
を含有するハンダ組成物であって、前記有機カルボン酸
は100〜200g/molの分子量を有するハンダ組
成物である。該有機カルボン酸は、下記のように、Sn
Zn中のZnと塩を形成することを特徴とする。
【0032】従来のロジン系フラックスを用いると、活
性成分として分子量の大きいロジン(分子量約300〜
1000g/mol)が含まれているため、時間が経つ
とSnZn中のZnとロジンとが反応してしまい、分子
量の大きい塩を形成してしまうため、クリームハンダの
粘度や印刷性、ハンダ付け性などの経時変化が激しい。
しかしながら、エポキシ系フラックスにおいて低分子量
の有機カルボン酸を用いると、該有機カルボン酸はZn
と低分子量の塩を形成するため、経時変化が少なくな
る。また、低分子量のカルボン酸とZnの低分子量の塩
を予め形成させてしまうことで保存中に酸化や他の成分
との反応を抑えられるため、安定となり、経時変化が少
なくなる。
【0033】「低分子量の有機カルボン酸」とは、上記
のように、分子量が100〜200g/molの有機カ
ルボン酸である。分子量が100〜200g/molの
有機カルボン酸としたのは、分子量が100g/mol
未満となると有機カルボン酸の反応性が高くなり、Sn
Zn系合金中のZnとの反応が激しく起こるからである
一方、200g/molより大きいと有機カルボン酸と
合金中のZnとが形成する塩の分子量が大きくなり経時
変化を起こすからである。より好ましくは、130〜1
80mol/gの有機カルボン酸である。
【0034】上記態様で用いられる有機カルボン酸は、
分子量が100〜200g/molの有機カルボン酸で
あって、飽和脂肪族系ジカルボン酸、不飽和脂肪族系ジ
カルボン酸、環状脂肪族系ジカルボン酸、アミノ基含有
カルボン酸、水酸基含有カルボン酸、複素環系ジカルボ
ン酸、およびこれらの混合物から選択されることが好ま
しい。より具体的には、コハク酸、グルタル酸、アジピ
ン酸、アゼライン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサ
コン酸、シクロブタンジカルボン酸、シクロヘキサンジ
カルボン酸、シクロヘキセンジカルボン酸、ジメチルグ
ルタル酸、メチルアジピン酸、L−グルタミン酸、アス
パラギン酸、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸、ピリジンジ
カルボン酸、ピラジンジカルボン酸、ジグリコール酸、
フェニレン二酢酸、チオプロピオン酸、チオシブチル
酸、およびジチオグリコール酸が挙げられる。好ましく
は、シクロヘキセンジカルボン酸、L−グルタミン酸、
ジメチルグルタル酸、およびイタコン酸である。
【0035】本態様のハンダ組成物に含まれる有機カル
ボン酸は、室温(25℃)において前記ハンダ組成物中
に固体で分散されていてもよいし、液体として分散され
ていてもよい。有機カルボン酸が室温(25℃)におい
て液体として分散されている場合とは、フラックスの調
製において、均一なフラックスとするために活性剤であ
るカルボン酸を他のフラックス成分とともに加熱溶融後
撹拌し冷却してフラックスを調製し、次いでハンダ合金
と混合したような場合である。上記の低分子量有機カル
ボン酸を用いるとこのような液状カルボン酸を含むフラ
ックスを用いたSnZn系合金ハンダでも経時変化を抑
制できる。しかしながら、上記のように、有機カルボン
酸とZnとの接触が少なくなるとの観点から、有機カル
ボン酸は、室温(25℃)においてハンダ組成物中に固
体で分散されている方が好ましい。例えば室温で粉末の
有機カルボン酸をエポキシ樹脂と混ぜてフラックスを調
製し、該フラックスとSnZn系合金とを混ぜ合わせる
ことにより、有機カルボン酸をハンダ組成物中に固体で
分散させることができる。
【0036】本発明ハンダ組成物の第3の態様は、鉛フ
リーSnZn系合金と、少なくともエポキシ樹脂および
有機カルボン酸を含有するハンダ付け用フラックスと、
を含有するハンダ組成物であって、前記有機カルボン酸
がエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹
脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレア樹
脂、ポリオレフィン樹脂、およびポリスルホン樹脂から
なる群から選択された膜に覆われたマイクロカプセル構
造を形成しているハンダ組成物である。
【0037】上記態様のハンダ組成物では、室温におい
てSnZn系合金中のZn成分と反応性が高い有機カル
ボン酸がポリイミド等の不活性な膜に覆われているた
め、該有機カルボン酸とZnとの反応が抑制でき、ハン
ダ組成物の経時変化が起こりにくくなる。しかし、ハン
ダ付けの際、リフロー中に熱が加わると、膜が割れ、有
機カルボン酸が溶出して、ハンダ付け面の活性化とハン
ダ粉末の活性化を起こす。それと同時にエポキシ村脂と
有機カルボン酸が硬化反応を起こすため、本来のフラッ
クスとしての機能は維持することができる。
【0038】上記マイクロカプセル構造は、マイクロカ
プセル化することができればよく、界面重合法、液中乾
燥法、スプレイドライ法、真空蒸着被膜法などの公知の
方法により調製することができる。
【0039】上記態様で用いられる有機カルボン酸は、
飽和脂肪族系ジカルボン酸、不飽和脂肪族系ジカルボン
酸、環状脂肪族系ジカルボン酸、アミノ基含有カルボン
酸、水酸基含有カルボン酸、複素環系ジカルボン酸、お
よびこれらの混合物から選択されることが好ましく、該
カルボン酸にポリイミドなどの膜を覆いマイクロカプセ
ル構造とする。
【0040】本発明の第4の態様は、鉛フリーSnZn
系合金と、少なくともエポキシ樹脂および有機カルボン
酸を含有するハンダ付け用フラックスと、を含有するハ
ンダ組成物であって、前記SnZn系合金がエポキシ樹
脂、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミ
ド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレア樹脂、ポリオレ
フィン樹脂、およびポリスルホン樹脂からなる群から選
択された膜に覆われたマイクロカプセル構造を形成して
いることを特徴とするハンダ組成物である。
【0041】上記態様のハンダ組成物では、室温におい
て有機カルボン酸との反応性が高いZnを構成成分とし
て有するSnZn系合金が不活性な膜に覆われているた
め、該カルボン酸との反応が抑制でき、経時変化が起こ
りにくくなる。一方、ハンダ付けの時、リフロー中に熱
が加わると、膜が割れ、ハンダ合金粉末が溶出し、ハン
ダ合金融点以上の温度になるとハンダが溶融し、ハンダ
付けが可能となる。
【0042】上記マイクロカプセル構造は、マイクロカ
プセル化することができればよく、界面重合法、液中乾
燥法、スプレイドライ法、真空蒸着被膜法などの公知の
方法により調製することができる。
【0043】本発明ハンダ組成物において、フラックス
成分にはさらに溶剤としてのアルコールを含有すること
が好ましい。該アルコール成分は、カルボン酸を溶解
し、フラックスの粘度を低下させる成分である。さら
に、エポキシ樹脂は該アルコールとも反応するため、該
アルコールは残渣として残らない。ただし、本発明フラ
ックス中に該アルコールが含まれない場合も鉛フリーハ
ンダ対応可能なフラックスとして使用することができ
る。本発明ハンダ付け用フラックスに使用できるアルコ
ールには、メチルアルコール、エチルアルコール、プロ
ピルアルココール、ブチルアルコール、イソブチルアル
コール、アミルアルコール、イソアミルアルコール、ア
リルアルコール、シクロヘキサノール、および多価アル
コール、例えばエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコ
ール、プロピレングリコール、オクチングリコール、ポ
リエチレングリコール、プロパンジオール、およびグリ
セリンなどが挙げられ、これらの混合物であってもよ
い。好ましくは、多価アルコールであり、より好ましく
はエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピ
レングリコール、ポリエチレングリコール、プロパンジ
オール、およびグリセリンである。
【0044】上記フラックスには、必要に応じて、チク
ソ剤、キレート化剤、脱泡剤、界面活性剤、および酸化
防止剤などの添加剤がさらに添加されていてもよい。こ
れらの添加剤は、フラックス全量に対してチクソ剤0〜
5重量%、キレート剤0〜5質量%、脱泡剤0〜1質量
%、界面活性剤0〜2重量%、酸化防止剤0〜3質量%
で含有することが好ましい。
【0045】上記ハンダ組成物は、上記フラックス中
に、前記エポキシ樹脂および有機カルボン酸はフラック
ス全量に対して合計で70〜100質量%で含有され、
前記アルコールはフラックス全量に対して0〜30質量
%で含有され、前記エポキシ樹脂および有機カルボン酸
はエポキシ基1.0当量に対してカルボキシル基0.8
〜2.0当量であるように配合されていることが好まし
い。エポキシ樹脂と有機カルボン酸の配合をエポキシ基
1.0当量に対してカルボキシル墓0.8〜2.0当量
になるように配合したのは、カルボキシル基が0.8当
量より少ない場合には、カルボン酸の活性力が低くな
り、ハンダ濡れ性が悪くなるからであり、カルボキシル
基が別2.0当量より多い場合には、過剰の固体カルボ
ン酸がフラックスの流動性などを悪くし、それによりハ
ンダ濡れ性などが悪くなるからである。好ましいエポキ
シ樹脂と有機カルボン酸の配合比として、エポキシ基
1.0当量に対してカルボキシル基1.0〜1.3当量
となるように配合し、より好ましくカルボキシル基1.
0当量になるように配合する。また、フラックス全量に
対してエポキシ樹脂および有機カルボン酸が70〜10
0重量%含有されているのは、70質量%より少ない場
合には、カルボン酸の活性力が低下し、ハンダ漏れ性が
悪くなるからである。また、アルコールがフラックス全
量に対して0〜30質量%含有されているのは、30重
量%より多い場合には、封止樹脂、特にシリコーンゲル
の硬化阻害を引き起こすからである。好ましくは、フラ
ックス全量に対してエポキシ樹脂および有機カルボン酸
が75〜85質量%含右され、アルコールが15〜25
質量%含有される。より好ましくは、フラックス全量に
対してエポキシ樹脂および有機カルボン酸が77重量%
含有され、アルコールが23質量%含有される。上記の
ような配合のフラックスを用いることにより、SnZn
系合金が溶融する前に活性剤であるカルボン酸の多くが
エポキシ樹脂との硬化反応に消費され活性力が維持でき
なくなったり、また、フラックスの流動性が悪くなるこ
とによりハンダ濡れ性等が悪くなることを防止できる。
【0046】以下に、フラックス無洗浄で使用できる本
発明のハンダ組成物のハンダ付けについて説明する。本
発明のハンダ組成物のハンダ付けにおいて、例えば、電
子部品のリフローハンダ付け工程において、SnZn系
鉛フリーハンダが溶融する前にまずエポキシ系フラック
スの反応が始まり、その活性剤である有機カルボン酸が
ハンダ接合面を清浄する。続いて加熱温度の上昇により
鉛フリーハンダが溶融して電子部品とプリント基板の導
体パターンとの間がハンダ付けされる。この間にもフラ
ックスの硬化反応が進み、ハンダ付けの終了とほぼ同じ
くらいに、あるいはハンダ付け後の加熱(封止樹脂の硬
化など)により反応が終了し、硬化したエポキシ樹脂が
ハンダ付け箇所を覆ってその接合部を補強するようにな
る。なお、リフローハンダ付け状態では、プリント基板
上におけるハンダ付け箇所に過剰なカルボン酸を含むエ
ポキシ系フラックスの残渣が存在する。次いで、プリン
ト基板を無洗浄のまま、その周域を封止樹脂(エポキシ
樹脂やシリコーンゲルなど)で封止すると、フラックス
残渣に含まれている残留カルボン酸と封止樹脂とが反応
し、この硬化反応によりカルボン酸がほとんど消費され
てその腐食性が低減するとともに、エポキシ系フラック
スの主成分であるエポキシ樹脂と射止樹脂とが強固に結
合し合う。したがって、上記エポキシ系フラックスを用
いれば、ハンダ濡れ性が良く、ハンダ付け後にフラック
ス残渣無洗浄であっても絶縁信頼性が良く、封止樹脂の
硬化阻害を起こさない。
【0047】
【実施例】以下に、本発明のハンダ組成物に関して、実
施例および比較例により具体的に説明する。
【0048】(実施例1)cis−4−シクロヘキセン
−1,2−ジカルボン酸(融点167℃;分子量17
0)4.42gを乳鉢で微粉末に粉砕し、これをトリエ
チレングリコール4.33gとエポキシ樹脂AER26
0(ビスフェノールA型エポキシ樹脂、エポキシ当量1
92g/eq;旭化成エポキシ(株))10gの混合物
に室温(25℃)において添加・混合し、フラックスを
調製した。該フラックスに含まれるエポキシ樹脂とカル
ボン酸は、エポキシ基1当量に対してカルボキシル基1
当量となるように配合されている。Sn8Zn3Bi合
金を用い、該ハンダ粒に上記フラックスを室温(25
℃)において添加・混合し、クリームハンダ組成物とし
た。上記ハンダ合金は、ハンダ組成物全量に対して88
質量%含有されている。該クリームハンダ中に含まれる
cis−4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸は
低分子量有機カルボン酸であるため、Znと低分子量の
塩を形成する。また、該カルボン酸は室温では固体とし
て分散させた。
【0049】上記ハンダ組成物を調製した後1時間後に
ハンダ組成物の粘度を測定したところ230Pa・sで
あった。また、冷蔵庫(5℃)で3箇月保管した後の該
ハンダ組成物の粘度は240Pa・sとほぼ同様であ
り、経時変化が起こりにくかった。また、ハンダ濡れ性
は良好であり、さらにフラックス残渣無洗浄の場合でも
シリコーンゲル封止樹脂の硬化阻害を起こさず、鉛フリ
ーハンダに対して無洗浄で良好なハンダ付けが可能であ
った。
【0050】(実施例2)上記の実施例1のcis−4
−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸に代えてL−
グルタミン酸(融点約200℃;分子量147)3.8
3gを用いて、実施例1と同様にしてハンダ付けを行っ
た。該クリームハンダ中に含まれるL−グルタミン酸は
低分子量有機カルボン酸であるため、Znと反応しても
低分子量の塩が形成される。また、該カルボン酸は室温
では固体として分散させた。
【0051】上記ハンダ組成物を調製した後1時間後に
ハンダ組成物の粘度を測定したところ260Pa・sで
あった。また、冷蔵庫(5℃)で3箇月保管した後の該
ハンダ組成物の粘度は265Pa・sとほぼ同様であ
り、経時変化が起こりにくかった。また、ハンダ漏れ性
は良好であり、さらにフラックス残渣無洗浄の場合でも
シリコーンゲル封止樹脂の硬化阻害を起こさず、鉛フリ
ーハンダに対して無洗浄で良好なハンダ付けが可能であ
った。
【0052】(実施例3)上記の実施例3のcis−4
−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸に代えてマイ
クロカプセル構造を有する2,2−ジメチルグルタル酸
(融点84℃、分子量160)4.16gを用いて、実
施例1と同様にしてハンダ付けを行った。マイクロカプ
セルのシェル材には室温(25℃)においてZnとの反
応性が低いエポキシ樹脂を用い、界面重合法によりマイ
クロカプセル化した。該マイクロカプセルの粒径は2μ
mであり、カプセル材の膜厚は0.2μmとした。
【0053】上記ハンダ組成物を調製した後1時間後に
ハンダ組成物の粘度を測定したところ250Pa・sで
あった。また、冷蔵庫(5℃)で3箇月保管した後の該
ハンダ組成物の粘度は250Pa・sと同じであり、経
時変化が起こりにくかった。また、ハンダ漏れ性は良好
であり、さらにフラックス残渣無洗浄の場合でもシリコ
ーンゲル封止樹脂の硬化阻害を起こさず、鉛フリーハン
ダに対して無洗浄で良好なハンダ付けが可能であった。
【0054】(比較例1)ベンゾイル−D−酒石酸(融
点155℃、分子量358)9.32gにトリエチレン
グリコール5.80gを加え、約130℃にフタル酸を
加熱し溶解した。その後、100℃以下に冷却した後、
エポキシ樹脂AER260(ビスフェノールA型エポキ
シ樹脂、エポキシ当量192g/eq;旭化成エポキシ
(株))10gを加え、均一になるまで攪拌し、フラッ
クスを調製した。該フラックスに含まれるエポキシ樹脂
とカルボン酸は、エポキシ基1当量に対してカルボキシ
ル基1当量となるように配合されている。上記フラック
スを室温(25℃)にまで冷却後、Sn8Zn3Bi合
金に上記フラックスを添加・混合し、クリームハンダ組
成物とした。上記ハンダ合金は、ハンダ組成物全量に対
して88質量%含有されている。ベンゾイル−D−酒石
酸は室温においてハンダ組成物中に液状で存在している
ためハンダ合金中のZnと反応しやすく、またZnと反
応した場合には分子量の大きい塩を形成する。
【0055】上記ハンダ組成物を調製した後1時間後に
ハンダ組成物の粘度を測定したところ260Pa・sで
あった。一方、冷蔵庫(5℃)で10日間保管した後の
該ハンダ組成物はクリーム状ではなく、固形に変化して
おり、明らかに経時変化が起こっていた。
【0056】
【発明の効果】以上の述べたように、本発明のハンダ組
成物では鉛フリーSnZn系合金を用いているため、S
nAgやSnSbなどの他の鉛フリーのSn含有合金よ
り溶融温度が低く、結果としてリフローハンダ付けにお
いて熱に弱い電子部品の熱損傷をより小さくできる。ま
た、エポキシ系フラックスを用いているため、基板の腐
食やマイグレーション、さらには封止樹脂の硬化阻害を
起こさずに、該フラッックスの洗浄を不要とすることが
できる。さらに、本発明のハンダ組成物では、上記Sn
Zn中のZnと上記フラックス中の有機カルボン酸成分
との反応による組成物の粘度や印刷性やハンダ付け性等
の経時変化を防止するための構成を具えているため、本
発明のハンダ組成物を製造した後、長時間保存したよう
な場合であっても、このような経時変化の影響なしに、
長期間良好なハンダ付けが可能となる。

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 鉛フリーSnZn系合金と、少なくとも
    エポキシ樹脂および有機カルボン酸を含有するハンダ付
    け用フラックスと、を含有するハンダ組成物であって、
    前記有機カルボン酸が室温(25℃)において前記ハン
    ダ組成物中に固体で分散されていることを特徴とするハ
    ンダ組成物。
  2. 【請求項2】 鉛フリーSnZn系合金と、少なくとも
    エポキシ樹脂および有機カルボン酸を含有するハンダ付
    け用フラックスと、を含有するハンダ組成物であって、
    前記有機カルボン酸が100〜200g/molの分子
    量を有することを特徴とするハンダ組成物。
  3. 【請求項3】 前記有機カルボン酸が室温(25℃)に
    おいて前記ハンダ組成物中に固体で分散されていること
    を特徴とする請求項2に記載のハンダ組成物。
  4. 【請求項4】 鉛フリーSnZn系合金と、少なくとも
    エポキシ樹脂および有機カルボン酸を含有するハンダ付
    け用フラックスと、を含有するハンダ組成物であって、
    前記有機カルボン酸がエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、
    ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル
    樹脂、ポリウレア樹脂、ポリオレフィン樹脂、およびポ
    リスルホン樹脂からなる群から選択された膜に覆われた
    マイクロカプセル構造を形成していることを特徴とする
    ハンダ組成物。
  5. 【請求項5】 鉛フリーSnZn系合金と、少なくとも
    エポキシ樹脂および有機カルボン酸を含有するハンダ付
    け用フラックスと、を含有するハンダ組成物であって、
    前記SnZn系合金がエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、
    ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル
    樹脂、ポリウレア樹脂、ポリオレフィン樹脂、およびポ
    リスルホン樹脂からなる群から選択された膜に覆われた
    マイクロカプセル構造を形成していることを特徴とする
    ハンダ組成物。
  6. 【請求項6】 前記エポキシ樹脂が、ビスフェノールA
    型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノ
    ボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、および
    これらの混合物からなる群から選択されることを特徴と
    する請求項1から5のいずれか1項に記載のハンダ組成
    物。
  7. 【請求項7】 前記有機カルボン酸が、飽和脂肪族系ジ
    カルボン酸、不飽和脂肪族系ジカルボン酸、環状脂肪族
    系ジカルボン酸、アミノ基含有カルボン酸、水酸基含有
    カルボン酸、複素環系ジカルボン酸、およびこれらの混
    合物の群から選択されることを特徴とする請求項1また
    は6のいずれか1項に記載のハンダ組成物。
  8. 【請求項8】 前記有機カルボン酸が130〜220℃
    の融点を有することを特徴とする請求項1または7のい
    ずれか1項に記載のハンダ組成物。
  9. 【請求項9】 前記フラックスがアルコールをさらに含
    有することを特徴とする請求項1から8のいずれか1項
    に記載のハンダ組成物。
  10. 【請求項10】 前記アルコールが多価アルコールであ
    ることを特徴とする請求項9に記載のハンダ組成物。
  11. 【請求項11】 前記フラックス中、前記エポキシ樹脂
    および有機カルボン酸はフラックス全量に対して合計で
    70〜100質量%で含有され、前記アルコールはフラ
    ックス全量に対して0〜30質量%で含有され、前記エ
    ポキシ樹脂および有機カルボン酸はエポキシ基1.0当
    量に対してカルボキシル基0.8〜2.0当量であるよ
    うに配合されていることを特徴とする請求項1から10
    のいずれか1項に記載のハンダ組成物。
JP2001200025A 2001-06-29 2001-06-29 ハンダ組成物 Expired - Lifetime JP3888573B2 (ja)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001200025A JP3888573B2 (ja) 2001-06-29 2001-06-29 ハンダ組成物
DE60225282T DE60225282T2 (de) 2001-06-29 2002-06-25 Lotzusammensetzung
US10/482,056 US7601228B2 (en) 2001-06-29 2002-06-25 Solder composition
PCT/JP2002/006325 WO2003002290A1 (fr) 2001-06-29 2002-06-25 Composition de brasage
CNB028161807A CN1282519C (zh) 2001-06-29 2002-06-25 焊料组合物
EP07014107A EP1946882B8 (en) 2001-06-29 2002-06-25 Solder composition
EP02743717A EP1402990B1 (en) 2001-06-29 2002-06-25 Solder composition
US12/461,982 US8206515B2 (en) 2001-06-29 2009-08-31 Lead-free solder composition including microcapsules

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001200025A JP3888573B2 (ja) 2001-06-29 2001-06-29 ハンダ組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003010997A true JP2003010997A (ja) 2003-01-15
JP3888573B2 JP3888573B2 (ja) 2007-03-07

Family

ID=19037221

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001200025A Expired - Lifetime JP3888573B2 (ja) 2001-06-29 2001-06-29 ハンダ組成物

Country Status (6)

Country Link
US (2) US7601228B2 (ja)
EP (2) EP1402990B1 (ja)
JP (1) JP3888573B2 (ja)
CN (1) CN1282519C (ja)
DE (1) DE60225282T2 (ja)
WO (1) WO2003002290A1 (ja)

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004322139A (ja) * 2003-04-24 2004-11-18 Tamura Kaken Co Ltd 回路基板のバンプ形成用ソルダーペースト及びフラックス
WO2008026588A1 (fr) * 2006-08-28 2008-03-06 Panasonic Electric Works Co., Ltd. Composition de résine thermodurcissable, son procédé de fabrication et carte de circuit
JP2009102545A (ja) * 2007-10-24 2009-05-14 Panasonic Electric Works Co Ltd 熱硬化性樹脂組成物及びその製造方法
JP2009242716A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Panasonic Electric Works Co Ltd 熱硬化性樹脂組成物及びその製造方法
JP2009263499A (ja) * 2008-04-24 2009-11-12 Panasonic Electric Works Co Ltd 熱硬化性樹脂組成物及びその製造方法
JP2009263500A (ja) * 2008-04-24 2009-11-12 Panasonic Electric Works Co Ltd 熱硬化性樹脂組成物及びその製造方法
JP2010077265A (ja) * 2008-09-25 2010-04-08 Panasonic Electric Works Co Ltd 熱硬化性樹脂組成物及びその製造方法並びに回路基板
JP2010077266A (ja) * 2008-09-25 2010-04-08 Panasonic Electric Works Co Ltd 熱硬化性樹脂組成物及び回路基板
JP2011148951A (ja) * 2010-01-25 2011-08-04 Panasonic Electric Works Co Ltd 熱硬化性樹脂組成物およびその製造方法
KR101219754B1 (ko) * 2011-07-11 2013-01-09 청솔화학환경(주) 다기능 솔더링용 플럭스 및 이를 포함하는 솔더 페이스트
CN103212923A (zh) * 2013-05-07 2013-07-24 浙江省冶金研究院有限公司 一种耐高温松香基助焊剂
JP2015066578A (ja) * 2013-09-30 2015-04-13 株式会社タムラ製作所 ロジン含有量を低減させたはんだ付け用フラックスおよびはんだペースト組成物
WO2015115483A1 (ja) * 2014-02-03 2015-08-06 富士電機株式会社 半田付け用フラックス及び半田組成物
JP6041063B1 (ja) * 2016-03-30 2016-12-07 千住金属工業株式会社 フラックス
JP2017064784A (ja) * 2015-09-30 2017-04-06 株式会社タムラ製作所 はんだ組成物および電子基板
WO2017065076A1 (ja) * 2015-10-14 2017-04-20 共栄社化学株式会社 揺変剤並びにこれを含むフラックス及びソルダペースト
WO2017130892A1 (ja) * 2016-01-25 2017-08-03 積水化学工業株式会社 導電材料及び接続構造体

Families Citing this family (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7410833B2 (en) * 2004-03-31 2008-08-12 International Business Machines Corporation Interconnections for flip-chip using lead-free solders and having reaction barrier layers
WO2006022416A2 (en) * 2004-08-25 2006-03-02 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Solder composition, connecting process with soldering, and connection structure with soldering
CN100594089C (zh) * 2004-08-25 2010-03-17 松下电器产业株式会社 焊料组合物、利用焊接的连接方法和衬底的生产方法
WO2007018288A1 (ja) * 2005-08-11 2007-02-15 Senju Metal Industry Co., Ltd. 鉛フリーソルダペーストとその応用
CN101370615B (zh) * 2006-01-26 2011-06-01 东荣化成株式会社 水分散型焊剂组合物、带有电子部件的电子电路基板、它们的制造方法以及软钎焊方法
DE102006016307B4 (de) * 2006-04-06 2011-07-28 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., 80686 Thermisch stabile Matrixmikropartikel und Mikrokapseln für die Kunststoffadditivierung und Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
KR100969735B1 (ko) * 2007-11-07 2010-07-13 엘지노텔 주식회사 전원라인을 포함하는 전자장치
US20110207866A1 (en) * 2010-02-25 2011-08-25 Japp Robert M Halogen-Free Dielectric Composition For use As Dielectric Layer In Circuitized Substrates
JP5442118B2 (ja) * 2010-06-15 2014-03-12 パナソニック株式会社 実装構造体とその製造方法ならびに実装構造体のリペア方法
US20140137988A1 (en) * 2011-03-02 2014-05-22 Senju Metal Industry Co., Ltd. Flux
US8704133B2 (en) 2011-03-18 2014-04-22 National Pingtung University Of Science And Technology Silver-containing antiseptic welding flux for stainless steel
US8430294B2 (en) * 2011-09-30 2013-04-30 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Amine, carboxylic acid flux composition and method of soldering
US8434667B2 (en) * 2011-09-30 2013-05-07 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Polyamine, carboxylic acid flux composition and method of soldering
US8434666B2 (en) * 2011-09-30 2013-05-07 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Flux composition and method of soldering
US8430295B2 (en) * 2011-09-30 2013-04-30 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Curable flux composition and method of soldering
US8430293B2 (en) * 2011-09-30 2013-04-30 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Curable amine, carboxylic acid flux composition and method of soldering
CN102357746A (zh) * 2011-10-18 2012-02-22 苏州之侨新材料科技有限公司 一种无铅焊锡丝用低含量改性松香型无卤助焊剂
US8703385B2 (en) 2012-02-10 2014-04-22 3M Innovative Properties Company Photoresist composition
US8715904B2 (en) 2012-04-27 2014-05-06 3M Innovative Properties Company Photocurable composition
WO2014025716A1 (en) 2012-08-09 2014-02-13 3M Innovative Properties Company Photocurable compositions
US8883402B2 (en) 2012-08-09 2014-11-11 3M Innovative Properties Company Photocurable compositions
JP2017508622A (ja) * 2013-12-31 2017-03-30 アルファ・メタルズ・インコーポレイテッドAlpha Metals, Inc. ロジンフリー熱硬化性フラックス配合物
CN103817460B (zh) * 2014-03-17 2015-12-09 苏州龙腾万里化工科技有限公司 一种新型光固化助焊剂
JP5952849B2 (ja) * 2014-03-25 2016-07-13 岡村製油株式会社 フラックス及びソルダペースト
CN104191109B (zh) * 2014-08-13 2016-09-07 深圳市汉尔信电子科技有限公司 一种无铅锡膏用活性剂及其制备方法及一种无铅锡膏
CN105080443B (zh) * 2015-08-14 2017-07-04 佛山市功能高分子材料与精细化学品专业中心 一种包覆有机二元羧酸的微胶囊材料及其制备方法和应用
CN106078002B (zh) * 2016-07-01 2018-04-17 南京熊猫电子制造有限公司 一种高稳定性助焊剂膏体
US9878039B1 (en) 2016-09-01 2018-01-30 International Business Machines Corporation Microcapsule having a microcapsule shell material that is rupturable via a retro-dimerization reaction
US10328535B2 (en) 2016-11-07 2019-06-25 International Business Machines Corporation Self-heating solder flux material
KR20200015445A (ko) 2017-06-01 2020-02-12 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 도전 재료 및 접속 구조체
CN107815279A (zh) * 2017-11-13 2018-03-20 烟台德邦科技有限公司 一种镀锌构件粘接用结构胶及制备和使用方法
CN108465971A (zh) * 2018-02-28 2018-08-31 西安理工大学 一种低熔点Sn-Zn-Bi钎料合金的制备方法
FR3078497B1 (fr) * 2018-03-05 2020-03-13 Irt Saint Exupery Creme a braser, procede de preparation d’une telle creme a braser et procede de brasage la mettant en œuvre
CN110052690B (zh) * 2019-05-30 2020-12-04 山东大学 一种水下埋弧焊接装置以及焊接方法
CN112809245B (zh) * 2020-12-31 2022-08-16 北京康普锡威科技有限公司 锡膏用活性剂及其制备方法、助焊膏、低温锡膏及光伏组件的制备方法
CN112872521B (zh) * 2021-01-08 2023-03-28 广西贺州和展电子有限公司 一种数据线接口焊接工艺及其制备方法
CN115091078A (zh) * 2022-06-16 2022-09-23 深圳市兴鸿泰锡业有限公司 一种高温无卤素无铅助焊剂及其制备方法

Family Cites Families (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4619715A (en) * 1984-09-11 1986-10-28 Scm Corporation Fusible powdered metal paste
DE3521952A1 (de) * 1985-06-20 1987-01-02 Henkel Kgaa Waessrige zusammensetzungen fuer den hilite- und flux-prozess und ihre verwendung
JP2503099B2 (ja) * 1989-08-08 1996-06-05 日本電装株式会社 はんだ付け用フラックス
US5127968A (en) * 1989-08-16 1992-07-07 Yuho Chemicals Inc. Additive for fluxes and soldering pastes
US5088189A (en) 1990-08-31 1992-02-18 Federated Fry Metals Electronic manufacturing process
US5336616A (en) * 1990-09-12 1994-08-09 Lifecell Corporation Method for processing and preserving collagen-based tissues for transplantation
US5116433A (en) * 1990-10-31 1992-05-26 Motorola, Inc. Solder paste having solder alloy/formate complexes as oxide scavengers, and method for preparing same
JPH05192786A (ja) * 1992-01-17 1993-08-03 Seiko Instr Inc クリーム半田
JP3278903B2 (ja) * 1992-06-05 2002-04-30 昭和電工株式会社 はんだ粉末およびはんだ回路形成方法
JPH0692035A (ja) 1992-09-10 1994-04-05 Mitsui Toatsu Chem Inc 感熱記録材料
JP3223678B2 (ja) * 1993-12-24 2001-10-29 三菱電機株式会社 はんだ付け用フラックスおよびクリームはんだ
US5417771A (en) * 1994-02-16 1995-05-23 Takeda Chemical Industries, Ltd. Soldering flux
JPH0825083A (ja) * 1994-07-07 1996-01-30 Sony Corp はんだペースト
US5674326A (en) * 1994-09-21 1997-10-07 Motorola, Inc. Solder paste
DE69524912T2 (de) * 1994-09-30 2002-08-22 AT & T CORP., NEW YORK Bleifreie Legierungen zum Weichlöten
JPH08164496A (ja) 1994-10-11 1996-06-25 Hitachi Ltd Sn−Zn系、Sn−Zn−Bi系はんだ及びその表面処理方法並びにそれを用いた実装品
CA2221961C (en) 1995-05-24 2008-02-05 Fry's Metals Inc. Epoxy-based, voc-free soldering flux
US5851311A (en) 1996-03-29 1998-12-22 Sophia Systems Co., Ltd. Polymerizable flux composition for encapsulating the solder in situ
JP3379679B2 (ja) * 1996-06-10 2003-02-24 千住金属工業株式会社 ソルダペースト
EP0844809B1 (en) * 1996-11-20 2011-08-17 Ibiden Co, Ltd. Solder resist composition and printed circuit boards
US6152142A (en) * 1997-02-28 2000-11-28 Tseng; Scheffer C. G. Grafts made from amniotic membrane; methods of separating, preserving, and using such grafts in surgeries
US6159304A (en) * 1997-07-03 2000-12-12 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Solder paste
US20020046627A1 (en) * 1998-06-10 2002-04-25 Hitoshi Amita Solder powder, flux, solder paste, soldering method, soldered circuit board, and soldered joint product
DE19826756C2 (de) * 1998-06-15 2002-04-18 Juergen Schulze Verfahren zum Verkapseln von feinen Lotmetallpulvern und danach hergestellte Lotmetallpulver
US6146590A (en) * 1998-06-29 2000-11-14 Mainline Technology, Inc. Vessel for an analytic test device
US8563232B2 (en) * 2000-09-12 2013-10-22 Lifenet Health Process for devitalizing soft-tissue engineered medical implants, and devitalized soft-tissue medical implants produced
US6416590B1 (en) * 1998-07-02 2002-07-09 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Solder powder and method for preparing the same and solder paste
JP4138965B2 (ja) * 1998-10-01 2008-08-27 三井金属鉱業株式会社 無鉛ハンダ粉及びその製造方法
US6054761A (en) * 1998-12-01 2000-04-25 Fujitsu Limited Multi-layer circuit substrates and electrical assemblies having conductive composition connectors
JP2000216300A (ja) * 1999-01-22 2000-08-04 Fuji Electric Co Ltd 樹脂封止形プリント回路板の製造方法
TW527253B (en) * 1999-10-05 2003-04-11 Tdk Corp Soldering flux, soldering paste and soldering process
JP3105505B1 (ja) * 1999-11-19 2000-11-06 株式会社ニホンゲンマ はんだ用フラックスおよびソルダペースト
US6402013B2 (en) * 1999-12-03 2002-06-11 Senju Metal Industry Co., Ltd Thermosetting soldering flux and soldering process
US6217671B1 (en) * 1999-12-14 2001-04-17 International Business Machines Corporation Composition for increasing activity of a no-clean flux
US6440228B1 (en) * 2000-02-04 2002-08-27 Senju Metal Industry Co., Ltd. Lead-free zinc-containing solder paste
US6638312B2 (en) * 2000-08-04 2003-10-28 Depuy Orthopaedics, Inc. Reinforced small intestinal submucosa (SIS)
JP3791403B2 (ja) 2000-12-04 2006-06-28 富士電機ホールディングス株式会社 鉛フリーハンダ対応無洗浄用フラックスおよびこれを含有するハンダ組成物
US20030187515A1 (en) * 2002-03-26 2003-10-02 Hariri Robert J. Collagen biofabric and methods of preparing and using the collagen biofabric

Cited By (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004322139A (ja) * 2003-04-24 2004-11-18 Tamura Kaken Co Ltd 回路基板のバンプ形成用ソルダーペースト及びフラックス
JPWO2008026588A1 (ja) * 2006-08-28 2010-01-21 パナソニック電工株式会社 熱硬化性樹脂組成物及びその製造方法並びに回路基板
WO2008026588A1 (fr) * 2006-08-28 2008-03-06 Panasonic Electric Works Co., Ltd. Composition de résine thermodurcissable, son procédé de fabrication et carte de circuit
US8697237B2 (en) 2006-08-28 2014-04-15 Panasonic Corporation Thermosetting resin composition, method of manufacturing the same and circuit board
JP5411503B2 (ja) * 2006-08-28 2014-02-12 パナソニック株式会社 熱硬化性樹脂組成物及びその製造方法並びに回路基板
JP2009102545A (ja) * 2007-10-24 2009-05-14 Panasonic Electric Works Co Ltd 熱硬化性樹脂組成物及びその製造方法
JP2009242716A (ja) * 2008-03-31 2009-10-22 Panasonic Electric Works Co Ltd 熱硬化性樹脂組成物及びその製造方法
JP2009263500A (ja) * 2008-04-24 2009-11-12 Panasonic Electric Works Co Ltd 熱硬化性樹脂組成物及びその製造方法
JP2009263499A (ja) * 2008-04-24 2009-11-12 Panasonic Electric Works Co Ltd 熱硬化性樹脂組成物及びその製造方法
JP2010077265A (ja) * 2008-09-25 2010-04-08 Panasonic Electric Works Co Ltd 熱硬化性樹脂組成物及びその製造方法並びに回路基板
JP2010077266A (ja) * 2008-09-25 2010-04-08 Panasonic Electric Works Co Ltd 熱硬化性樹脂組成物及び回路基板
JP2011148951A (ja) * 2010-01-25 2011-08-04 Panasonic Electric Works Co Ltd 熱硬化性樹脂組成物およびその製造方法
KR101219754B1 (ko) * 2011-07-11 2013-01-09 청솔화학환경(주) 다기능 솔더링용 플럭스 및 이를 포함하는 솔더 페이스트
CN103212923A (zh) * 2013-05-07 2013-07-24 浙江省冶金研究院有限公司 一种耐高温松香基助焊剂
JP2015066578A (ja) * 2013-09-30 2015-04-13 株式会社タムラ製作所 ロジン含有量を低減させたはんだ付け用フラックスおよびはんだペースト組成物
US9844840B2 (en) 2013-09-30 2017-12-19 Tamura Corporation Flux for soldering and solder paste composition
WO2015115483A1 (ja) * 2014-02-03 2015-08-06 富士電機株式会社 半田付け用フラックス及び半田組成物
JPWO2015115483A1 (ja) * 2014-02-03 2017-03-23 富士電機株式会社 半田付け用フラックス及び半田組成物
JP2017064784A (ja) * 2015-09-30 2017-04-06 株式会社タムラ製作所 はんだ組成物および電子基板
JPWO2017065076A1 (ja) * 2015-10-14 2018-08-09 共栄社化学株式会社 揺変剤並びにこれを含むフラックス及びソルダペースト
WO2017065076A1 (ja) * 2015-10-14 2017-04-20 共栄社化学株式会社 揺変剤並びにこれを含むフラックス及びソルダペースト
WO2017130892A1 (ja) * 2016-01-25 2017-08-03 積水化学工業株式会社 導電材料及び接続構造体
JPWO2017130892A1 (ja) * 2016-01-25 2018-11-15 積水化学工業株式会社 導電材料及び接続構造体
WO2017170863A1 (ja) * 2016-03-30 2017-10-05 千住金属工業株式会社 フラックス
JP2017177173A (ja) * 2016-03-30 2017-10-05 千住金属工業株式会社 フラックス
JP6041063B1 (ja) * 2016-03-30 2016-12-07 千住金属工業株式会社 フラックス
KR20180120279A (ko) * 2016-03-30 2018-11-05 센주긴조쿠고교 가부시키가이샤 플럭스
KR101952086B1 (ko) 2016-03-30 2019-02-25 센주긴조쿠고교 가부시키가이샤 플럭스

Also Published As

Publication number Publication date
US8206515B2 (en) 2012-06-26
DE60225282T2 (de) 2009-02-19
CN1282519C (zh) 2006-11-01
EP1946882B1 (en) 2011-08-17
US20090320960A1 (en) 2009-12-31
CN1543385A (zh) 2004-11-03
EP1946882A1 (en) 2008-07-23
DE60225282D1 (de) 2008-04-10
WO2003002290A1 (fr) 2003-01-09
EP1402990A1 (en) 2004-03-31
US7601228B2 (en) 2009-10-13
JP3888573B2 (ja) 2007-03-07
US20050039824A1 (en) 2005-02-24
EP1402990B1 (en) 2008-02-27
EP1946882B8 (en) 2012-03-14
EP1402990A4 (en) 2005-11-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3888573B2 (ja) ハンダ組成物
JP3791403B2 (ja) 鉛フリーハンダ対応無洗浄用フラックスおよびこれを含有するハンダ組成物
TWI270432B (en) Residue-free solder paste
JP4103591B2 (ja) ソルダペースト
US20030221748A1 (en) Solder paste flux system
JP6528102B2 (ja) フラックス及びはんだ材料
JP2005059028A (ja) 熱硬化性フラックス及びはんだペースト
JP5144489B2 (ja) 熱硬化性樹脂組成物
JP5863966B2 (ja) はんだ付け用フラックス及びはんだ組成物
JP2003170294A (ja) ソルダペースト
JP3189133B2 (ja) クリームはんだ
KR100606179B1 (ko) 솔더 페이스트 및 그 납땜 방법
JPH02121799A (ja) はんだの処理方法とそのためのフラツクス
JP2006122913A (ja) 半田ペーストおよび半田接合方法
JP2000158179A (ja) はんだペースト
JP2022054100A (ja) はんだ組成物および電子基板
JP2021154332A (ja) はんだ組成物および電子基板
JP2004001030A (ja) はんだペーストおよび半導体装置の製造方法
JP3786405B2 (ja) 錫―亜鉛系鉛フリーはんだ粉末およびその製造方法
JP2002120090A (ja) クリームはんだ
JPS63123592A (ja) クリ−ムはんだ
CN117047341A (zh) 一种低温助焊剂组分及其制备方法
KR20050019087A (ko) 땜납 페이스트 용제 시스템
JPS63192589A (ja) はんだペ−スト

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060602

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060801

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20060801

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060822

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20061019

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20061110

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20061123

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 3888573

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101208

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101208

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111208

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111208

Year of fee payment: 5

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111208

Year of fee payment: 5

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121208

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121208

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131208

Year of fee payment: 7

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term