JP2002355742A - 球加工装置及び球加工方法 - Google Patents
球加工装置及び球加工方法Info
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- JP2002355742A JP2002355742A JP2001166791A JP2001166791A JP2002355742A JP 2002355742 A JP2002355742 A JP 2002355742A JP 2001166791 A JP2001166791 A JP 2001166791A JP 2001166791 A JP2001166791 A JP 2001166791A JP 2002355742 A JP2002355742 A JP 2002355742A
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- polishing machine
- groove
- spherical
- upper polishing
- cushioning material
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- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 上研磨盤の揺動に起因する被加工物の割れや
変形を防止する。 【解決手段】 円周上にＶ溝１５が形成された下研磨盤
１３と、そのＶ溝１５に配置された複数の球状被加工物
１７上に積載される上研磨盤１２とを具備し、上研磨盤
１２に対して下研磨盤１３を相対的に回転させることに
より、被加工物１７の球面研磨を行う球加工装置におい
て、上研磨盤１２と下研磨盤１３との間に緩衝材２２を
配置する。上研磨盤１２の揺動によるモーメントは緩衝
材２２によって吸収（低減）される。
変形を防止する。 【解決手段】 円周上にＶ溝１５が形成された下研磨盤
１３と、そのＶ溝１５に配置された複数の球状被加工物
１７上に積載される上研磨盤１２とを具備し、上研磨盤
１２に対して下研磨盤１３を相対的に回転させることに
より、被加工物１７の球面研磨を行う球加工装置におい
て、上研磨盤１２と下研磨盤１３との間に緩衝材２２を
配置する。上研磨盤１２の揺動によるモーメントは緩衝
材２２によって吸収（低減）される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は球状被加工物の球
面研磨加工を行うために用いられる球加工装置及び球加
工方法に関する。
面研磨加工を行うために用いられる球加工装置及び球加
工方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】図３Ａは従来のこの種の球加工装置の構
成の概略を示したものであり、球加工装置１１は上研磨
盤１２と下研磨盤１３とを具備するものとなっている。
下研磨盤１３は回転シャフト１４に取り付け支持されて
おり、その上研磨盤１２との対向面には円周上にＶ溝１
５が形成されている。上研磨盤１２はシャフト１６に支
持されて上下方向に移動可能とされており、被加工物に
対し、所要の荷重を付加することができる構造となって
いる。
成の概略を示したものであり、球加工装置１１は上研磨
盤１２と下研磨盤１３とを具備するものとなっている。
下研磨盤１３は回転シャフト１４に取り付け支持されて
おり、その上研磨盤１２との対向面には円周上にＶ溝１
５が形成されている。上研磨盤１２はシャフト１６に支
持されて上下方向に移動可能とされており、被加工物に
対し、所要の荷重を付加することができる構造となって
いる。
【０００３】この球加工装置１１においては、球状被加
工物１７をＶ溝１５に所要数配置し、それら被加工物１
７上に上研磨盤１２を積載して接触させ、荷重を付加し
た状態で下研磨盤１３を上研磨盤１２に対して相対的に
回転させることにより、被加工物１７がＶ溝１５上を転
がりながら動き、これによって被加工物１７が球面研磨
されるものとなる。被加工物１７はＶ溝１５の両壁面及
び上研磨盤１２の盤面によって３点支持された構造とな
っているため、真球度の良好な球を得ることができる。
工物１７をＶ溝１５に所要数配置し、それら被加工物１
７上に上研磨盤１２を積載して接触させ、荷重を付加し
た状態で下研磨盤１３を上研磨盤１２に対して相対的に
回転させることにより、被加工物１７がＶ溝１５上を転
がりながら動き、これによって被加工物１７が球面研磨
されるものとなる。被加工物１７はＶ溝１５の両壁面及
び上研磨盤１２の盤面によって３点支持された構造とな
っているため、真球度の良好な球を得ることができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
な構成を有する球加工装置１１においては、研磨加工時
における被加工物（ワーク）１７の破損を防止するため
に、上研磨盤１２は単に積載されている状態となってお
り、つまり上下方向の固定は行われていないため、研磨
加工時に図３Ｂに示したように上研磨盤１２に揺動が発
生する可能性があり、この揺動によって被加工物１７の
割れや変形が発生するという問題があった。
な構成を有する球加工装置１１においては、研磨加工時
における被加工物（ワーク）１７の破損を防止するため
に、上研磨盤１２は単に積載されている状態となってお
り、つまり上下方向の固定は行われていないため、研磨
加工時に図３Ｂに示したように上研磨盤１２に揺動が発
生する可能性があり、この揺動によって被加工物１７の
割れや変形が発生するという問題があった。
【０００５】特に、被加工物１７が高脆性材料よりな
り、硬くて脆い場合にはこのような上研磨盤１２の揺動
により、割れが発生し易いものとなっていた。この発明
の目的はこの問題に鑑み、上研磨盤の揺動によるモーメ
ントを吸収できるようにし、よって上研磨盤の揺動に起
因する被加工物の割れや変形を防止できるようにした球
加工装置及び球加工方法を提供することにある。
り、硬くて脆い場合にはこのような上研磨盤１２の揺動
により、割れが発生し易いものとなっていた。この発明
の目的はこの問題に鑑み、上研磨盤の揺動によるモーメ
ントを吸収できるようにし、よって上研磨盤の揺動に起
因する被加工物の割れや変形を防止できるようにした球
加工装置及び球加工方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明によれ
ば、円周上にＶ溝が形成された下研磨盤と、そのＶ溝に
配置された複数の球状被加工物上に積載される上研磨盤
とを具備し、上研磨盤に対して下研磨盤を相対的に回転
させることにより、Ｖ溝に配置された球状被加工物の球
面研磨を行う球加工装置において、上研磨盤と下研磨盤
との間に緩衝材が配置される。請求項２の発明では請求
項１の発明において、下研磨盤に上記Ｖ溝とほぼ同心円
をなす第２のＶ溝が形成され、その第２のＶ溝に上記緩
衝材が配置される。
ば、円周上にＶ溝が形成された下研磨盤と、そのＶ溝に
配置された複数の球状被加工物上に積載される上研磨盤
とを具備し、上研磨盤に対して下研磨盤を相対的に回転
させることにより、Ｖ溝に配置された球状被加工物の球
面研磨を行う球加工装置において、上研磨盤と下研磨盤
との間に緩衝材が配置される。請求項２の発明では請求
項１の発明において、下研磨盤に上記Ｖ溝とほぼ同心円
をなす第２のＶ溝が形成され、その第２のＶ溝に上記緩
衝材が配置される。
【０００７】請求項３の発明では請求項２の発明におい
て、上記緩衝材の形状が球状とされる。請求項４の発明
によれば、円周上にＶ溝が形成された下研磨盤のＶ溝に
複数の球状被加工物を配置し、それら被加工物上に上研
磨盤を積載して、その上研磨盤に対して下研磨盤を相対
的に回転させることにより、被加工物の球面研磨を行う
球加工方法において、上研磨盤と下研磨盤との間に緩衝
材を配置した状態で上記球面研磨を行うものとする。
て、上記緩衝材の形状が球状とされる。請求項４の発明
によれば、円周上にＶ溝が形成された下研磨盤のＶ溝に
複数の球状被加工物を配置し、それら被加工物上に上研
磨盤を積載して、その上研磨盤に対して下研磨盤を相対
的に回転させることにより、被加工物の球面研磨を行う
球加工方法において、上研磨盤と下研磨盤との間に緩衝
材を配置した状態で上記球面研磨を行うものとする。
【０００８】請求項５の発明では請求項４の発明におい
て、上記緩衝材を、下研磨盤に上記Ｖ溝とほぼ同心円を
なすように形成した第２のＶ溝に配置する。請求項６の
発明では請求項５の発明において、上記緩衝材の形状を
球状とする。
て、上記緩衝材を、下研磨盤に上記Ｖ溝とほぼ同心円を
なすように形成した第２のＶ溝に配置する。請求項６の
発明では請求項５の発明において、上記緩衝材の形状を
球状とする。
【０００９】
【発明の実施の形態】この発明の実施の形態を図面を参
照して実施例により説明する。図１はこの発明による球
加工装置の一実施例を示したものであり、図３と対応す
る部分には同一符号を付してある。この例では球加工装
置２１は上研磨盤１２と下研磨盤１３との間に緩衝材２
２が配置されているものとされる。なお、図１における
（１）は下研磨盤１３の構造を示し、（２）はその下研
磨盤１３に球状被加工物１７及び緩衝材２２が配置され
た状態を示す。
照して実施例により説明する。図１はこの発明による球
加工装置の一実施例を示したものであり、図３と対応す
る部分には同一符号を付してある。この例では球加工装
置２１は上研磨盤１２と下研磨盤１３との間に緩衝材２
２が配置されているものとされる。なお、図１における
（１）は下研磨盤１３の構造を示し、（２）はその下研
磨盤１３に球状被加工物１７及び緩衝材２２が配置され
た状態を示す。
【００１０】下研磨盤１３には被加工物１７が配置され
るＶ溝１５と同心円をなす第２のＶ溝２３が形成されて
おり、Ｖ溝２３はこの例ではＶ溝１５より外周側に設け
られている。緩衝材２２は弾性を有する材料よりなるも
ので、この例では球状をなすものとされる。緩衝材２２
は外側のＶ溝２３に所要数配置され、一方内側のＶ溝１
５には被加工物１７が所要数配置される。なお、この例
では図１（２）に示したように緩衝材２２の大きさ
（径）は被加工物１７より若干大きいものとされる。
るＶ溝１５と同心円をなす第２のＶ溝２３が形成されて
おり、Ｖ溝２３はこの例ではＶ溝１５より外周側に設け
られている。緩衝材２２は弾性を有する材料よりなるも
ので、この例では球状をなすものとされる。緩衝材２２
は外側のＶ溝２３に所要数配置され、一方内側のＶ溝１
５には被加工物１７が所要数配置される。なお、この例
では図１（２）に示したように緩衝材２２の大きさ
（径）は被加工物１７より若干大きいものとされる。
【００１１】上研磨盤１２を被加工物１７上に積載する
ことにより、緩衝材２２は上研磨盤１２によって押圧さ
れて図１（３）に示したようにつぶれ、その弾性復元力
により上研磨盤１２を持ち上げる方向に力が作用するも
のとなる。従って、研磨加工時に上研磨盤１２に揺動が
発生しても揺動によるモーメントが緩衝材２２によって
吸収され、揺動に起因する被加工物１７の割れや変形を
防止することができるものとなる。緩衝材２２は例えば
ウレタンゴム製とされ、Ｖ溝２３に少なくとも４個は配
置される。なお、上研磨盤１２の揺動によるモーメント
を吸収（低減）する上ではその数は多い方が好ましい。
ことにより、緩衝材２２は上研磨盤１２によって押圧さ
れて図１（３）に示したようにつぶれ、その弾性復元力
により上研磨盤１２を持ち上げる方向に力が作用するも
のとなる。従って、研磨加工時に上研磨盤１２に揺動が
発生しても揺動によるモーメントが緩衝材２２によって
吸収され、揺動に起因する被加工物１７の割れや変形を
防止することができるものとなる。緩衝材２２は例えば
ウレタンゴム製とされ、Ｖ溝２３に少なくとも４個は配
置される。なお、上研磨盤１２の揺動によるモーメント
を吸収（低減）する上ではその数は多い方が好ましい。
【００１２】緩衝材２２の形状は球状に限るものではな
く、他の形状であってもよい。また、緩衝材２２の大き
さは被加工物１７と同等であってもよい。図２はこの発
明による球加工装置の他の実施例を示したものであり、
この例では緩衝材２２はその形状が直方体状をなすもの
とされ、下研磨盤１３の盤面上に配置される。緩衝材２
２はＶ溝１５より外周側において、この例では９０゜間
隔で４個配置されており、下研磨盤１３に接着されて固
定されている。この図２に示した球加工装置２４におい
てもＶ溝１５に所要数被加工物１７を配置し、その上に
上研磨盤１２を積載することにより、図２（３）に示し
たように緩衝材２２が押しつぶされた状態となり、上研
磨盤１２に作用する緩衝材２２の弾性復元力によって上
研磨盤１２の揺動によるモーメントを低減できるものと
なる。
く、他の形状であってもよい。また、緩衝材２２の大き
さは被加工物１７と同等であってもよい。図２はこの発
明による球加工装置の他の実施例を示したものであり、
この例では緩衝材２２はその形状が直方体状をなすもの
とされ、下研磨盤１３の盤面上に配置される。緩衝材２
２はＶ溝１５より外周側において、この例では９０゜間
隔で４個配置されており、下研磨盤１３に接着されて固
定されている。この図２に示した球加工装置２４におい
てもＶ溝１５に所要数被加工物１７を配置し、その上に
上研磨盤１２を積載することにより、図２（３）に示し
たように緩衝材２２が押しつぶされた状態となり、上研
磨盤１２に作用する緩衝材２２の弾性復元力によって上
研磨盤１２の揺動によるモーメントを低減できるものと
なる。
【００１３】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれば
研磨加工時に発生する上研磨盤の揺動によるモーメント
を低減することができ、よって上研磨盤の揺動に起因す
る球状被加工物の割れや変形を防止することができる。
研磨加工時に発生する上研磨盤の揺動によるモーメント
を低減することができ、よって上研磨盤の揺動に起因す
る球状被加工物の割れや変形を防止することができる。
【図１】この発明の一実施例を説明するための図。
【図２】この発明の他の実施例を説明するための図。
【図３】Ａは従来の球加工装置の構成を説明するための
図、Ｂは上研磨盤に発生する揺動を説明するための図。
図、Ｂは上研磨盤に発生する揺動を説明するための図。
Claims (6)
- 【請求項１】 円周上にＶ溝が形成された下研磨盤と、
そのＶ溝に配置された複数の球状被加工物上に積載され
る上研磨盤とを具備し、上研磨盤に対して下研磨盤を相
対的に回転させることにより、Ｖ溝に配置された球状被
加工物の球面研磨を行う球加工装置において、 上記上研磨盤と下研磨盤との間に緩衝材が配置されてい
ることを特徴とする球加工装置。 - 【請求項２】 請求項１記載の球加工装置において、 上記下研磨盤に上記Ｖ溝とほぼ同心円をなす第２のＶ溝
が形成され、 その第２のＶ溝に上記緩衝材が配置されていることを特
徴とする球加工装置。 - 【請求項３】 請求項２記載の球加工装置において、 上記緩衝材の形状が球状とされていることを特徴とする
球加工装置。 - 【請求項４】 円周上にＶ溝が形成された下研磨盤のＶ
溝に複数の球状被加工物を配置し、それら被加工物上に
上研磨盤を積載して、その上研磨盤に対して下研磨盤を
相対的に回転させることにより、被加工物の球面研磨を
行う球加工方法において、 上記上研磨盤と下研磨盤との間に緩衝材を配置した状態
で上記球面研磨を行うことを特徴とする球加工方法。 - 【請求項５】 請求項４記載の球加工方法において、 上記緩衝材を、上記下研磨盤に上記Ｖ溝とほぼ同心円を
なすように形成した第２のＶ溝に配置することを特徴と
する球加工方法。 - 【請求項６】 請求項５記載の球加工方法において、 上記緩衝材の形状を球状とすることを特徴とする球加工
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001166791A JP2002355742A (ja) | 2001-06-01 | 2001-06-01 | 球加工装置及び球加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001166791A JP2002355742A (ja) | 2001-06-01 | 2001-06-01 | 球加工装置及び球加工方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002355742A true JP2002355742A (ja) | 2002-12-10 |
Family
ID=19009283
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001166791A Withdrawn JP2002355742A (ja) | 2001-06-01 | 2001-06-01 | 球加工装置及び球加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002355742A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103567856A (zh) * | 2013-10-10 | 2014-02-12 | 浙江工业大学 | 一种基于变曲率沟槽研磨的高精度球体加工方法 |
| CN103567855A (zh) * | 2013-10-10 | 2014-02-12 | 浙江工业大学 | 基于变曲率沟槽研磨的高精度陶瓷球加工设备 |
| CN103991018A (zh) * | 2014-05-21 | 2014-08-20 | 浙江工业大学 | 基于偏心式变曲率v型沟槽盘的高精度球体加工设备 |
| CN104128877A (zh) * | 2014-07-04 | 2014-11-05 | 浙江工业大学 | 高精度球体循环研磨加工设备 |
| CN104608047A (zh) * | 2014-12-01 | 2015-05-13 | 上海新跃仪表厂 | 高精度球形零件的批量生产装置及方法 |
| WO2016095667A1 (zh) * | 2014-12-16 | 2016-06-23 | 天津大学 | 双盘直槽圆柱形零件表面研磨盘 |
| CN106736984A (zh) * | 2017-03-21 | 2017-05-31 | 李桂兰 | 磨球机及球体研磨方法 |
| CN113370062A (zh) * | 2021-06-03 | 2021-09-10 | 山东金池重工股份有限公司 | 一种用于耐磨钢球加工的抛光机 |
-
2001
- 2001-06-01 JP JP2001166791A patent/JP2002355742A/ja not_active Withdrawn
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103567856A (zh) * | 2013-10-10 | 2014-02-12 | 浙江工业大学 | 一种基于变曲率沟槽研磨的高精度球体加工方法 |
| CN103567855A (zh) * | 2013-10-10 | 2014-02-12 | 浙江工业大学 | 基于变曲率沟槽研磨的高精度陶瓷球加工设备 |
| CN103991018A (zh) * | 2014-05-21 | 2014-08-20 | 浙江工业大学 | 基于偏心式变曲率v型沟槽盘的高精度球体加工设备 |
| CN104128877A (zh) * | 2014-07-04 | 2014-11-05 | 浙江工业大学 | 高精度球体循环研磨加工设备 |
| CN104608047A (zh) * | 2014-12-01 | 2015-05-13 | 上海新跃仪表厂 | 高精度球形零件的批量生产装置及方法 |
| WO2016095667A1 (zh) * | 2014-12-16 | 2016-06-23 | 天津大学 | 双盘直槽圆柱形零件表面研磨盘 |
| US9839987B2 (en) | 2014-12-16 | 2017-12-12 | Tianjin University | Double-disc straight groove cylindrical-component surface grinding disc |
| CN106736984A (zh) * | 2017-03-21 | 2017-05-31 | 李桂兰 | 磨球机及球体研磨方法 |
| CN113370062A (zh) * | 2021-06-03 | 2021-09-10 | 山东金池重工股份有限公司 | 一种用于耐磨钢球加工的抛光机 |
| CN113370062B (zh) * | 2021-06-03 | 2022-03-25 | 山东金池重工股份有限公司 | 一种用于耐磨钢球加工的抛光机 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20060425 |
|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20080805 |