JPH1199471A - 研磨治具およびこれを搭載する研磨装置 - Google Patents

研磨治具およびこれを搭載する研磨装置

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JPH1199471A
JPH1199471A JP27977497A JP27977497A JPH1199471A JP H1199471 A JPH1199471 A JP H1199471A JP 27977497 A JP27977497 A JP 27977497A JP 27977497 A JP27977497 A JP 27977497A JP H1199471 A JPH1199471 A JP H1199471A
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JP
Japan
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substrate
carrier
polishing
elastic member
polishing jig
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JP27977497A
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Junji Takashita
順治 高下
Norihisa Saito
憲久 斎藤
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Canon Inc
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  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 研磨治具のキャリアーのくり抜き穴等に基板
が衝突して割れを生じるのを防ぐ。 【解決手段】 基板W1 は、重鍾13によって平面ラッ
プ盤1上に押圧され、回転リング11からキャリアー1
0を経て伝達される回転力によって回転する。キャリア
ー10の回転とともに基板W1 はくり抜き穴10aの側
縁から側縁へ移動し、衝突を繰り返す。そこで、くり抜
き穴10aの各側縁に弾性部材14を貼着しておき、前
記衝突を緩和する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体デバイス製
造工程等において、配線層や絶縁膜を被着した矩形のガ
ラス基板等の表面を平坦化するための研磨加工に用いる
研磨治具およびこれを搭載する研磨装置に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】半導体デバイス等を製造するウエハプロ
セス等においては、配線層や絶縁膜を被着したガラス基
板等の表面の凹凸を研磨によってむらなく均一に除去す
るいわゆる表面平坦化処理が必要であり、この工程で従
来から用いられている研磨装置は、平面ラップ盤等の研
磨盤に貼った弾性研磨シートに基板を押しつけるラップ
盤研磨方式が一般的である。
【0003】ラップ盤研磨方式の研磨装置は、ラップ盤
に基板を押しつけるための加圧方法に基づいて2つのタ
イプに分類される。第1は、基板を加圧する機構と基板
を回転させる機構を分離したいわゆるキャリアー方式と
呼ばれる研磨治具を用いるもので、極めて高精度の研磨
に適しており、第2は、基板を加圧しながら回転する回
転加圧ヘッド方式の研磨治具を用いるもので、特に、高
速回転の研磨に好適であり、広範囲に利用されている。
【0004】図6は第1の方式であるキャリアー方式の
研磨治具の一従来例を示すもので、これは、図示しない
モータ等によって中心軸O1 のまわりに回転するラップ
盤101に貼った弾性研磨シート101a上に基板T1
を載せて、その外側に配設されたキャリアー110の回
転を基板T1 の側面に伝達する。キャリアー110は、
基板T1 の外接円より大径の円板部材であり、その中央
には、基板T1 の外形寸法に若干のクリアランスをとっ
たくり抜き穴110aが形成されており、該くり抜き穴
110aに基板T1 を遊合させる。
【0005】キャリアー110は、金属やセラミック等
で作られた円筒状の回転リング111の内側に収容さ
れ、該回転リング111は、外周を複数のベアリングロ
ーラ112によって位置決めされて回転する。キャリア
ー110は、回転リング111との間の摩擦による連れ
回りのために中心軸O2 のまわりに自転し、キャリアー
110内の基板T1 もキャリアー110と一体となって
回転する。基板T1 の上には裏面保護用弾性パッド11
3aを介して重錘113が置かれており、これによっ
て、基板T1 をラップ101盤に押しつけるための加圧
力を得る。
【0006】ラップ盤101の回転とともに、基板T1
はキャリアー110のくり抜き穴110a内を移動し
て、その一側縁に片寄せされる。この状態で基板T1
キャリアー110と一体となり、回転リング111の連
れ回りによってキャリアー110とともに回転する。キ
ャリアー110がある角度まで回転すると、くり抜き穴
110a内の基板T1 が相対的に移動し、くり抜き穴1
10aの別の側縁に片寄せされる。このように基板T1
は、その上に置かれた重錘113とともに、キャリアー
110の回転によって自転しながら、くり抜き穴110
aの側縁から側縁へ間欠的に相対移動を繰り返す。
【0007】図7は第2の方式である回転加圧ヘッド方
式の研磨治具を示すもので、これは、図示しない平面状
のラップ盤に基板T2 を載せて、該基板T2 に、回転加
圧ヘッド120を押しつけてその中心軸O3 のまわりに
回転させることで、基板T2の下向きの表面を研磨す
る。
【0008】研磨中の基板T2 には、ラップ盤の研磨シ
ートとの間の摩擦のために公転方向に移動力が発生す
る。そこで、回転加圧ヘッド120と基板T2 の間に高
摩擦の樹脂パッド121を介在させ、基板T2 の裏面と
樹脂パッド121の間の摩擦力を利用して、基板T2
回転加圧ヘッド120に対して横方向にずれるのを防ぐ
ように構成されている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の技術によれば、キャリアー方式では、基板がキャリア
ーのくり抜き穴内を繰り返し移動するために様々な問題
が生じる。特に基板が矩形である場合は、基板がキャリ
アーのくり抜き穴の一側縁から別の側縁に移動するとき
に、基板の働きが不連続になり、基板がキャリアー内面
に衝突する。その衝突で基板の側面に割れを生じ、かけ
らがラップ盤の表面に落ちて、研磨スクラッチの原因と
なる。
【0010】この現象は基板が大きい程、またラップ盤
の回転数が大きい程、研磨摩擦による移動力が大きいた
め衝突力も大きく、従って割れが生じやすい。キャリア
ーのクリアランスを小さくしても、キャリアー内で基板
の支持点(接触部)の変化がある限り衝突は避けること
ができず、やはり基板の側面では割れが発生する。
【0011】また、回転加圧ヘッド方式では、回転加圧
ヘッド先端の樹脂パッドと基板裏面の間で発生する摩擦
力によって基板の横移動を防ぐものであるが、樹脂パッ
ドの表面状態が変化して摩擦力が低下した場合は、基板
の保持力が不安定になり、研磨の進行に伴なって基板が
徐々に樹脂パッドからずれてゆき、場合によっては樹脂
パッドからはずれて基板が破損する。ラップ盤の研磨シ
ートの中に破損した基板のかけらが埋め込まれると、研
磨スクラッチの原因になったり、研磨シートの貼り替え
のために長時間の生産停止に至る等様々な事故につなが
るおそれがある。基板の横移動を抑制するために、回転
加圧ヘッドの外周部に移動規制部材を設けることもある
が、この場合には、キャリアー方式と同様に衝突による
トラブルが生じる。
【0012】本発明は上記従来の技術の有する未解決の
課題に鑑みてなされたものであり、研磨治具のくり抜き
穴等に基板が衝突して割れたりするトラブルを回避し
て、研磨盤上の基板を安定して加圧、回転できる高性能
な研磨治具およびこれを搭載する研磨装置を提供するこ
とを目的とするものである。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明の研磨治具は、くり抜き穴に基板を遊合させ
るキャリアーと、これを回転させる回転手段を有し、前
記キャリアーの前記くり抜き穴に、前記基板との衝突を
緩和するための弾性部材が配設されていることを特徴と
する。
【0014】くり抜き穴に基板を遊合させるキャリアー
と、これを回転させる回転手段と、前記基板の横移動を
抑制するための移動規制部材を備えた加圧手段を有し、
前記移動規制部材が、前記キャリアーの前記くり抜き穴
との衝突を緩和するための弾性部材を備えていることを
特徴とするキャリアー方式の研磨治具であってもよい。
【0015】また、基板の横移動を抑制するための移動
規制部材を備えた回転加圧ヘッドと、該回転加圧ヘッド
を介して前記基板を加圧および回転させる回転加圧手段
を有し、前記移動規制部材が、前記基板に弾力的に当接
される弾性部材を備えていることを特徴とする回転加圧
ヘッド方式の研磨治具であってもよい。
【0016】弾性部材が、発泡樹脂またはゴムによって
作られているとよい。
【0017】弾性部材が、バネを備えていてもよい。
【0018】
【作用】キャリアーのくり抜き穴内に基板を遊合させ、
くり抜き穴の側縁に基板を接触させることで回転運動を
伝達するように構成されたキャリアー方式の研磨治具に
おいて、くり抜き穴の側縁に弾性部材を配設すること
で、くり抜き穴の側縁と基板の衝突を緩和する。
【0019】このようにして、キャリアーの回転に伴な
ってくり抜き穴内の基板がくり抜き穴の側縁から側縁に
移動するときに、衝突によって基板の側面に割れを生じ
るのを防ぐことができる。
【0020】キャリアーのくり抜き穴に遊合させた基板
を加圧するための重錘等の加圧手段に移動規制部材を配
設し、これによって基板の横移動を抑制するように構成
されている場合は、キャリアーのくり抜き穴の側縁と移
動規制部材の衝突を緩和するための弾性部材を設けると
ともに、第2の弾性部材を基板の側面と移動規制部材の
間に配設するとよい。
【0021】回転加圧ヘッド方式の研磨治具の場合に
は、回転加圧ヘッドに設けられた移動規制部材に弾性部
材を配設し、これを基板の側面に当接する。回転加圧ヘ
ッドに対する基板の横移動を移動規制部材によって防
ぎ、しかも、移動規制部材に対しても基板がガタつく等
のトラブルがないため、基板を安定して加圧、回転でき
る。
【0022】このような研磨治具を用いることで、研磨
加工の効率と精度を大幅に改善することができる。
【0023】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面に基づ
いて説明する。
【0024】図1は第1の実施の形態によるキャリアー
方式の研磨治具とこれを搭載する研磨装置の主要部を示
すもので、これは、図示しないモータ等によって中心軸
1のまわりに回転する研磨盤である平面ラップ盤1に
貼った弾性研磨シート1a上に矩形基板である基板W1
を載せて、その外側に配設されたキャリアー10の回転
を基板W1 の側面に伝達する。キャリアー10は、基板
1 の外接円より大径の円板部材であり、その中央に
は、基板W1 の外形寸法に若干のクリアランスをとった
くり抜き穴10aが形成されており、該くり抜き穴10
aに基板W1 を遊合させる。
【0025】キャリアー10は、金属やセラミック等で
作られた回転手段である回転リング11の内側に収容さ
れ、該回転リング11は、外周を複数のベアリングロー
ラ12によって位置決めされて回転する。キャリアー1
0は、回転リング11との間の摩擦による連れ回りのた
めに中心軸O2 のまわりに自転し、キャリアー10内の
基板W1 もキャリアー10と一体となって回転する。基
板W1 の上には裏面保護用弾性パッド13aを介して加
圧手段である重錘13が置かれており、これによって、
基板W1 を平面ラップ盤1に押しつけるための加圧力を
得る。
【0026】平面ラップ盤1の回転とともに基板W1
キャリアー10のくり抜き穴10a内を移動し、くり抜
き穴10aの一側縁に片寄せされる。この状態で基板W
1 はキャリアー10と一体となり、回転リング11の連
れ回りによってキャリアー10とともに回転する。キャ
リアー10の回転に伴なってくり抜き穴10a内の基板
1 が相対的に移動し、くり抜き穴10aの別の側縁に
片寄せされる。このように基板W1 は、その上に置かれ
た重錘13とともに、キャリアー10の回転によって自
転しながら、キャリアー10のくり抜き穴10aの側縁
から側縁へ相対移動を繰り返す。
【0027】その結果基板W1 は、平面ラップ盤1上を
自転しながら相対的に公転することとなり、平面ラップ
盤1の研磨面に対して広範囲に摺り合わせが行なわれ
る。平面ラップ盤1の研磨面には研磨液が供給され、基
板W1 の下面が高精度の平坦面に研磨される。
【0028】キャリアー10のくり抜き穴10a内を移
動するときの基板W1 の動きは不連続であり、基板W1
の側面がくり抜き穴10aの側縁に繰り返し衝突する。
このような衝突による衝撃を吸収して緩和するために、
キャリアー10のくり抜き穴10aの各側縁にシート状
の弾性部材14を貼着する。弾性部材14の材質は、ウ
レタン、発泡樹脂である樹脂スポンジ、ゴム等であり、
研磨液に対して耐久性のあるものを用いる。
【0029】すなわち、キャリアー10のくり抜き穴1
0a内で基板W1 が相対移動するときに、くり抜き穴1
0aの各側縁に直接基板W1 がぶつかると、その衝撃に
よって基板W1 に割れ等が生じ、かけらが平面ラップ盤
1の研磨面に落下して、異物による研磨スクラッチを発
生する。そこで、キャリアー10のくり抜き穴10aに
弾性部材14を貼着し、基板W1 の衝突を緩和すること
で、基板W1 の外周部(側面)の割れ等を防ぎ、研磨ス
クラッチ等の欠陥のない研磨を行なうものである。これ
によって、研磨加工の精度と効率を大幅に向上できる。
【0030】図2は第1の変形例を示す。これは、図1
の装置のシート状の弾性部材14の替わりに、キャリア
ー10のくり抜き穴10aの各側縁に円柱状の弾性部材
24を2個ずつ取り付けたものである。取り付け方法
は、キャリアー10のくり抜き穴10aの各側縁に円形
の切り欠けを設けて、これに、各弾性部材24を保持さ
せる。弾性部材24の個数は、キャリアー10のくり抜
き穴10aの各側縁に1個以上あればよいが、基板W1
を安定保持するためには2個以上配設するのが望まし
い。
【0031】また、研磨中に弾性部材24の高さがずれ
るのを防ぐためには、各弾性部材24の中間部に段差を
設けるとよい。
【0032】図3は第2の変形例を示す。これは、キャ
リアー10のくり抜き穴10a2つの側縁と基板W1
外周縁の間にバネである板バネ34を設けて、実質的に
基板W1 が相対移動するためのクリアランスを無くすこ
とで、くり抜き穴10aの側縁と基板W1 の衝突を防ぐ
ように構成したものである。
【0033】図4は第3の変形例を示す。これは、基板
1 を加圧するための重錘43の外周部に裏面保護用弾
性パッド43aの厚みを越えて基板W1 の外周縁の外側
までオーバーハングする移動規制部材である基板保持部
材44を配設し、該基板保持部材44の内側と外側にシ
ート状の弾性部材45a,45bを貼着したものであ
る。基板保持部材44は、重錘43に対する基板W1
横移動を抑制するためのもので、内側の弾性部材45a
は、基板W1 の側面との間の衝突エネルギーを吸収し、
外側の弾性部材45bはキャリアー10等との間の衝突
エネルギーを吸収する。
【0034】基板W1 上で重錘43が相対的にずれるの
を確実に防ぎ、重錘43による加圧力を安定して均一に
保つことができるという利点が付加される。
【0035】図5は第2の実施の形態による回転加圧ヘ
ッド方式の研磨治具を示すもので、これは、図示しない
研磨盤である平面ラップ盤に基板W2 を載せて、該基板
2に回転加圧ヘッド50を押しつけて、その中心軸O3
のまわりに回転させることで、基板W2 の下向きの表
面を研磨する。回転加圧ヘッド50は円板状の本体51
を有し、その下面は、裏面保護用弾性パッド52を介し
て基板W2 に押圧される。回転加圧ヘッド50は回転軸
53の下端に固着され、回転軸53は、図示しない回転
加圧手段によって回転、加圧される。回転加圧ヘッド5
0の本体51の外周部には、基板W2 の外周縁の外側に
オーバーハングする移動規制部材である基板保持部材5
4が一体的に設けられており、基板保持部材54の内周
面には、基板W2 の外周縁に弾力的に当接されるシート
状の弾性部材55が貼着されている。
【0036】なお、基板保持部材54および弾性部材5
5の寸法は、基板W2 の厚みの半分以上が弾性部材55
に当接されて、基板W2 を安定して保持できるように設
定される。基板保持部材54や弾性部材55の下端が平
面ラップ盤の研磨面に接触しないように考慮しなければ
ならないことは言うまでもない。
【0037】基板W2 の裏面に裏面保護用弾性パット5
2を当接し、摩擦によって基板W2と回転加圧ヘッド5
0を一体化するとともに、基板W2 の外周縁を基板保持
部材54と弾性部材55によってしっかりと保持して研
磨を行なうことができる。回転加圧ヘッド50を高速回
転させても、研磨中に回転加圧ヘッド50と基板W2
相対位置が変化して、加圧力が不均一になる等のトラブ
ルがないため、研磨の高速化と高精度化をより一層促進
できる。
【0038】なお、シート状の弾性部材55の替わり
に、図3に示すような板バネを用いて基板W2 を拘束し
てもよい。
【0039】次に第1および第2の実施の形態による実
施例を説明する。
【0040】(第1の実施例)図1のキャリアー方式に
よる研磨装置において、350×250mm、厚み1.
1mmのガラス基板を研磨するに際して、外直径40
0、厚み3mmのベーク製キャリアーの内周部に、幅
1.5mm、長さ300mm、厚み3mmの長方形状の
発泡ポリウレタン(弾性部材)を接着して行なう。
【0041】(第2の実施例)図2に示すキャリアーの
内周に、径5mmの切り欠けを矩形各辺に2カ所ずつ計
8個設け、径5mm、厚み3mmのポリウレタン円柱
(弾性部材)を接着し、第1の実施例と同様のガラス基
板の研磨を行なった。
【0042】(第3の実施例)350×250mmのガ
ラス基板を研磨するのに、図3に示すように、厚み8m
mのキャリアーの内面に、厚み0.3mm、長さが基板
各辺より長い400mm,300mm、幅5mmのリン
青銅板バネ(弾性部材)を各一本設け、基板に側面与圧
を与えて保持した。
【0043】(第4の実施例)図5に示すように、回転
加圧ヘッドの先端面に厚み3mmの基板保持部材である
ステンレス製外枠を設け、その内側に、厚み3mm、長
さが基板各辺と同長のウレタンゴム材(弾性部材)を貼
り付けた。外枠、ウレタンゴム材ともにこれらの下端が
基板の被研磨面よりも0.3mm高くなるように配設し
て、平面ラップ盤の研磨面に接触しないようにした。
【0044】
【発明の効果】本発明は上述のように構成されているの
で、以下に記載するような効果を奏する。
【0045】キャリアー方式の研磨治具のくり抜き穴に
基板が衝突して割れる等のトラブルを防ぎ、また、回転
加圧ヘッド方式の研磨治具においては、移動規制部材に
対して基板がガタつくのを回避することができる。この
ような研磨治具を用いることで、研磨盤上の基板を安定
して回転、加圧し、極めて効率が高くしかも高精度な研
磨を行なうことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施の形態による研磨装置の主要部を説
明するもので、(a)はその主要部を示す部分断面図、
(b)は研磨治具のみを示す平面図である。
【図2】第1の変形例を示す平面図である。
【図3】第2の変形例を示す平面図である。
【図4】第3の変形例を示す断面図である。
【図5】第2の実施の形態による研磨治具を示す断面図
である。
【図6】一従来例による研磨装置を示すもので、(a)
はその主要部を示す部分断面図、(b)は研磨治具のみ
を示す平面図である。
【図7】別の従来例による研磨治具を示す立面図であ
る。
【符号の説明】
1 平面ラップ盤 10 キャリアー 11 回転リング 13,43 重錘 14,24,45a,45b,55 弾性部材 34 板バネ 44,54 基板保持部材 50 回転加圧ヘッド

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 くり抜き穴に基板を遊合させるキャリア
    ーと、これを回転させる回転手段を有し、前記キャリア
    ーの前記くり抜き穴に、前記基板との衝突を緩和するた
    めの弾性部材が配設されていることを特徴とするキャリ
    アー方式の研磨治具。
  2. 【請求項2】 くり抜き穴に基板を遊合させるキャリア
    ーと、これを回転させる回転手段と、前記基板の横移動
    を抑制するための移動規制部材を備えた加圧手段を有
    し、前記移動規制部材が、前記キャリアーの前記くり抜
    き穴との衝突を緩和するための弾性部材を備えているこ
    とを特徴とするキャリアー方式の研磨治具。
  3. 【請求項3】 移動規制部材が、基板に弾力的に当接さ
    れる第2の弾性部材を備えていることを特徴とする請求
    項2記載の研磨治具。
  4. 【請求項4】 基板の横移動を抑制するための移動規制
    部材を備えた回転加圧ヘッドと、該回転加圧ヘッドを介
    して前記基板を加圧および回転させる回転加圧手段を有
    し、前記移動規制部材が、前記基板に弾力的に当接され
    る弾性部材を備えていることを特徴とする回転加圧ヘッ
    ド方式の研磨治具。
  5. 【請求項5】 弾性部材が、発泡樹脂またはゴムによっ
    て作られていることを特徴とする請求項1ないし4いず
    れか1項記載の研磨治具。
  6. 【請求項6】 弾性部材が、バネを備えていることを特
    徴とする請求項1ないし4いずれか1項記載の研磨治
    具。
  7. 【請求項7】 基板が、矩形基板であることを特徴とす
    る請求項1ないし6いずれか1項記載の研磨治具。
  8. 【請求項8】 請求項1ないし7いずれか1項記載の研
    磨治具と、これに保持された基板を研磨するための研磨
    盤を有する研磨装置。
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