JP2002323752A - ペリクル - Google Patents
ペリクルInfo
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- pellicle frame
- frame
- quartz glass
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】使用寿命の長いペリクルを提供する。
【解決手段】上面および底面を開口部とした箱状のペリ
クルフレーム１３とペリクルフレーム１３の一方の開口
部に接着したペリクル膜１２とを備えたペリクル１１で
あって、ペリクルフレーム１３は石英ガラスからなり、
ペリクルフレーム１３の側面はエッチング処理されてお
り平均面粗さが５μｍ以下であるか、鏡面化処理されて
いることを特徴とする。
クルフレーム１３とペリクルフレーム１３の一方の開口
部に接着したペリクル膜１２とを備えたペリクル１１で
あって、ペリクルフレーム１３は石英ガラスからなり、
ペリクルフレーム１３の側面はエッチング処理されてお
り平均面粗さが５μｍ以下であるか、鏡面化処理されて
いることを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＬＳＩ、超ＬＳＩ
などの半導体素子または液晶表示装置などの製造に用い
られ、とりわけ波長２２０ｎｍ以下の光を用いる露光に
好適なペリクルに関するものである。
などの半導体素子または液晶表示装置などの製造に用い
られ、とりわけ波長２２０ｎｍ以下の光を用いる露光に
好適なペリクルに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ＬＳＩや超ＬＳＩなどの半導体素子また
は液晶表示装置の製造における露光工程では、露光原版
のパターン形成面にゴミが付着するのを防止するため
に、ペリクルを露光原版上に載置して露光作業を行うの
が一般的である。また、ここで用いられる露光光は、パ
ターン微細化の要求に応じてますます波長が短くなって
きており、今日ではＦ2レーザーなど波長２２０ｎｍ以
下の光を使用する技術が検討されている。
は液晶表示装置の製造における露光工程では、露光原版
のパターン形成面にゴミが付着するのを防止するため
に、ペリクルを露光原版上に載置して露光作業を行うの
が一般的である。また、ここで用いられる露光光は、パ
ターン微細化の要求に応じてますます波長が短くなって
きており、今日ではＦ2レーザーなど波長２２０ｎｍ以
下の光を使用する技術が検討されている。
【０００３】ペリクルは、露光光を透過する材料からな
るペリクル膜を、表面をアルマイト処理したアルミ製ペ
リクルフレームに接着したものである。ペリクルフレー
ムは上面および底面を開口部とした箱状のものであり、
ペリクル膜はその一方の開口部に接着される。ペリクル
フレームの側面にはペリクル内部の気圧調節を兼ねた換
気孔が設けられてあり、外部より異物混入を防ぐため、
換気孔のペリクルフレームの外側部分に防塵フィルター
を設けるのが一般的である。従来ではこのペリクル膜と
して、厚さ１μｍ以下の合成樹脂製の薄膜が使用されて
いる。
るペリクル膜を、表面をアルマイト処理したアルミ製ペ
リクルフレームに接着したものである。ペリクルフレー
ムは上面および底面を開口部とした箱状のものであり、
ペリクル膜はその一方の開口部に接着される。ペリクル
フレームの側面にはペリクル内部の気圧調節を兼ねた換
気孔が設けられてあり、外部より異物混入を防ぐため、
換気孔のペリクルフレームの外側部分に防塵フィルター
を設けるのが一般的である。従来ではこのペリクル膜と
して、厚さ１μｍ以下の合成樹脂製の薄膜が使用されて
いる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来のペリクルの製造
工程では、表面をアルマイト処理したアルミニウムから
なるペリクルフレームの上端面に紫外線硬化型接着剤を
塗布し、その上にペリクル膜を載置し、ペリクル膜の上
方から紫外線を照射して紫外線硬化型接着剤を硬化させ
てペリクル膜とペリクルフレームとを接着してペリクル
を製造する。
工程では、表面をアルマイト処理したアルミニウムから
なるペリクルフレームの上端面に紫外線硬化型接着剤を
塗布し、その上にペリクル膜を載置し、ペリクル膜の上
方から紫外線を照射して紫外線硬化型接着剤を硬化させ
てペリクル膜とペリクルフレームとを接着してペリクル
を製造する。
【０００５】真空紫外域の露光波長にて露光を行う際、
保存時にペリクル膜に有機物が付着すると適切な露光が
できなくなるので、使用の前にＸｅ2エキシマランプ洗
浄（以下、光洗浄ともいう）を行う必要がある。また、
光洗浄時にフレームに当たるＸｅ2エキシマランプから
の迷光により、フレーム表面から不純物が析出して異物
となり、ペリクルの寿命を縮めることがある。
保存時にペリクル膜に有機物が付着すると適切な露光が
できなくなるので、使用の前にＸｅ2エキシマランプ洗
浄（以下、光洗浄ともいう）を行う必要がある。また、
光洗浄時にフレームに当たるＸｅ2エキシマランプから
の迷光により、フレーム表面から不純物が析出して異物
となり、ペリクルの寿命を縮めることがある。
【０００６】本発明はこのような状況に鑑みてなされた
ものであり、ペリクルフレームからの異物発生を抑制
し、使用寿命の長いペリクルを提供することを目的とす
る。
ものであり、ペリクルフレームからの異物発生を抑制
し、使用寿命の長いペリクルを提供することを目的とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
達成するために、上面および底面を開口部とした箱状の
ペリクルフレームとペリクルフレームの一方の開口部に
接着したペリクル膜とを備えたペリクルであって、ペリ
クルフレームは石英ガラスからなり、ペリクルフレーム
側面はエッチング処理されており平均面粗さが５μｍ以
下であることを特徴とするペリクル、および、上面およ
び底面を開口部とした箱状のペリクルフレームとペリク
ルフレームの一方の開口部に接着したペリクル膜とを備
えたペリクルであって、ペリクルフレームは石英ガラス
からなり、ペリクルフレーム側面は鏡面化処理されてい
ることを特徴とするペリクルを提供する。
達成するために、上面および底面を開口部とした箱状の
ペリクルフレームとペリクルフレームの一方の開口部に
接着したペリクル膜とを備えたペリクルであって、ペリ
クルフレームは石英ガラスからなり、ペリクルフレーム
側面はエッチング処理されており平均面粗さが５μｍ以
下であることを特徴とするペリクル、および、上面およ
び底面を開口部とした箱状のペリクルフレームとペリク
ルフレームの一方の開口部に接着したペリクル膜とを備
えたペリクルであって、ペリクルフレームは石英ガラス
からなり、ペリクルフレーム側面は鏡面化処理されてい
ることを特徴とするペリクルを提供する。
【０００８】本発明では、ペリクルフレームの材料とし
て、石英ガラスを用いる。ペリクルフレームの材料とし
て用いる石英ガラスとしては、合成石英ガラスでもよい
し、溶融石英ガラスでもよい。こうして、光洗浄時のペ
リクルフレーム劣化による異物発生量を小さくできる。
また、Ｘｅ2エキシマランプ光による洗浄においてペリ
クルフレームがＸｅ2エキシマランプ光に対して透明で
あるため光利用効率を高くできる利点がある。さらに、
フレーム加工中の熱ひずみが少ないので、加工後のフレ
ーム平行度がよい。
て、石英ガラスを用いる。ペリクルフレームの材料とし
て用いる石英ガラスとしては、合成石英ガラスでもよい
し、溶融石英ガラスでもよい。こうして、光洗浄時のペ
リクルフレーム劣化による異物発生量を小さくできる。
また、Ｘｅ2エキシマランプ光による洗浄においてペリ
クルフレームがＸｅ2エキシマランプ光に対して透明で
あるため光利用効率を高くできる利点がある。さらに、
フレーム加工中の熱ひずみが少ないので、加工後のフレ
ーム平行度がよい。
【０００９】また本発明では、ペリクルフレームの側面
をエッチング処理または鏡面化処理する。これにより、
ペリクルフレームを石英ガラス製にしたときに生じる発
塵のおそれを減らすことができる。効果的に発塵、異物
発生防止をするためには、エッチング処理した石英ガラ
スフレーム側面の平均面粗さは５μｍ以下とする。ここ
で、本明細書でいう平均面粗さとは、ＪＩＳ Ｂ０６０
１で定義される中心線平均粗さＲaを意味する。また、
ペリクルフレーム側面を鏡面化することでフレーム表面
からの発塵の原因となるマイクロクラックをなくすこと
ができる。ペリクルフレームを鏡面化することにより、
ペリクルへの紫外線照射時の迷光を減らすことができ
る。このため、ペリクル膜とペリクルフレームとの間の
接着剤部分またはペリクルフレームと露光原版との間の
粘着剤部分に迷光が達して接着剤または粘着剤を劣化さ
せて別の発塵原因となることを防止できる効果もある。
をエッチング処理または鏡面化処理する。これにより、
ペリクルフレームを石英ガラス製にしたときに生じる発
塵のおそれを減らすことができる。効果的に発塵、異物
発生防止をするためには、エッチング処理した石英ガラ
スフレーム側面の平均面粗さは５μｍ以下とする。ここ
で、本明細書でいう平均面粗さとは、ＪＩＳ Ｂ０６０
１で定義される中心線平均粗さＲaを意味する。また、
ペリクルフレーム側面を鏡面化することでフレーム表面
からの発塵の原因となるマイクロクラックをなくすこと
ができる。ペリクルフレームを鏡面化することにより、
ペリクルへの紫外線照射時の迷光を減らすことができ
る。このため、ペリクル膜とペリクルフレームとの間の
接着剤部分またはペリクルフレームと露光原版との間の
粘着剤部分に迷光が達して接着剤または粘着剤を劣化さ
せて別の発塵原因となることを防止できる効果もある。
【００１０】またペリクルフレーム側面には換気孔が設
けられる場合が多いが、ペリクル内部の気圧を調整する
際または露光波長光に対する不活性気体をペリクル内部
に導入する際に、換気孔中を気体が流れることにより換
気孔内にマイクロクラックが生じやすい。このようなマ
イクロクラックを防ぐためには、換気孔内部表面をエッ
チング処理して平均面粗さを５μｍ以下でとすることが
効果的である。
けられる場合が多いが、ペリクル内部の気圧を調整する
際または露光波長光に対する不活性気体をペリクル内部
に導入する際に、換気孔中を気体が流れることにより換
気孔内にマイクロクラックが生じやすい。このようなマ
イクロクラックを防ぐためには、換気孔内部表面をエッ
チング処理して平均面粗さを５μｍ以下でとすることが
効果的である。
【００１１】さらに、換気孔のペリクルフレーム内側部
分に防塵用フィルターを備えることにより、換気孔内部
に生じるマイクロクラックからの発塵がペリクル内部へ
の侵入することを防止でき、露光に影響がある異物の発
生を防げる。
分に防塵用フィルターを備えることにより、換気孔内部
に生じるマイクロクラックからの発塵がペリクル内部へ
の侵入することを防止でき、露光に影響がある異物の発
生を防げる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明に関して図面を参照
して説明する。図１は本発明の実施形態であるペリクル
１１の斜視図であり、図２はペリクル１１を露光原版８
に装着した様子を示す断面図である。ペリクル１１は、
露光光を透過させるペリクル膜１２を接着剤６によりペ
リクルフレーム１３に接着して構成されている。ペリク
ル１１は、粘着剤７により露光原版８に固定されて使用
される。
して説明する。図１は本発明の実施形態であるペリクル
１１の斜視図であり、図２はペリクル１１を露光原版８
に装着した様子を示す断面図である。ペリクル１１は、
露光光を透過させるペリクル膜１２を接着剤６によりペ
リクルフレーム１３に接着して構成されている。ペリク
ル１１は、粘着剤７により露光原版８に固定されて使用
される。
【００１３】ペリクルフレーム１３は、例えば、以下の
方法で製造できる。合成石英ガラスからなる板材を、高
さ方向の平行度を出すためにダイヤモンド、酸化セリウ
ム、シリカ、またはアルミナなどからなる砥粒を用いて
上下表面を鏡面研磨加工後、エンドミルを用いて長方形
の枠体を切り出してペリクルフレームとする。ついで、
ペリクルフレーム側面の外周表面および内周表面をレジ
ンダイヤによって研削した後、側面にドリルで０．５ｍ
ｍ径の換気孔を設ける。ここで、換気孔を設けた後に側
面の研削を行うこともできる。ついで、例えば、以下の
（１）〜（３）のいずれかの表面処理を施すことによ
り、本発明のペリクルフレーム１２を得ることができ
る。（１）ペリクルフレームをエッチング液に浸してペ
リクルフレーム全体をエッチングする。（２）酸化セリ
ウムを用いてペリクルフレーム側面の外周表面および内
周表面を鏡面研磨する。（３）ペリクルフレームをエッ
チング液に浸してペリクルフレーム全体をエッチングし
た後、酸化セリウムを用いてペリクルフレーム側面の外
周表面および内周表面を鏡面研磨する。
方法で製造できる。合成石英ガラスからなる板材を、高
さ方向の平行度を出すためにダイヤモンド、酸化セリウ
ム、シリカ、またはアルミナなどからなる砥粒を用いて
上下表面を鏡面研磨加工後、エンドミルを用いて長方形
の枠体を切り出してペリクルフレームとする。ついで、
ペリクルフレーム側面の外周表面および内周表面をレジ
ンダイヤによって研削した後、側面にドリルで０．５ｍ
ｍ径の換気孔を設ける。ここで、換気孔を設けた後に側
面の研削を行うこともできる。ついで、例えば、以下の
（１）〜（３）のいずれかの表面処理を施すことによ
り、本発明のペリクルフレーム１２を得ることができ
る。（１）ペリクルフレームをエッチング液に浸してペ
リクルフレーム全体をエッチングする。（２）酸化セリ
ウムを用いてペリクルフレーム側面の外周表面および内
周表面を鏡面研磨する。（３）ペリクルフレームをエッ
チング液に浸してペリクルフレーム全体をエッチングし
た後、酸化セリウムを用いてペリクルフレーム側面の外
周表面および内周表面を鏡面研磨する。
【００１４】ペリクル膜とペリクルフレームとを接着す
る方法を説明する。ペリクル膜としては真空紫外領域に
おいて高い光透過率を有する非晶質フッ素系ポリマーを
用いることが好ましい。非晶質フッ素系ポリマーとして
は、サイトップ（旭硝子社製）、テフロンＡＦ（デュポ
ン社製）等を挙げることができる。これらのポリマー
は、ペリクル膜作製時に必要に応じて溶媒に溶解して使
用してもよい。例えばフッ素系の溶媒などに適宜溶解し
た後、平坦度がよい石英ガラス基板などの上にスピンコ
ートして作製する。
る方法を説明する。ペリクル膜としては真空紫外領域に
おいて高い光透過率を有する非晶質フッ素系ポリマーを
用いることが好ましい。非晶質フッ素系ポリマーとして
は、サイトップ（旭硝子社製）、テフロンＡＦ（デュポ
ン社製）等を挙げることができる。これらのポリマー
は、ペリクル膜作製時に必要に応じて溶媒に溶解して使
用してもよい。例えばフッ素系の溶媒などに適宜溶解し
た後、平坦度がよい石英ガラス基板などの上にスピンコ
ートして作製する。
【００１５】本発明においては、上記ペリクル膜をペリ
クルフレームに接着するために、通常ペリクルフレーム
の上端面に接着剤層が設けられる。この接着剤層に用い
られる接着剤の種類については、特に制限はなく、接着
を加熱して行う場合は熱可塑性の樹脂や熱硬化性の樹脂
が接着剤として用いられ、光硬化を利用して接着を行う
場合は、光硬化型樹脂が接着剤として用いられる。この
ような接着剤の例としては、アクリル樹脂接着剤、エポ
キシ樹脂接着剤、シリコーン樹脂接着剤、含フッ素シリ
コーン接着剤等のフッ素系ポリマー等を挙げることがで
き、なかでもフッ素系ポリマーが好ましい。具体的に
は、フッ素系ポリマーＣＴ６９（旭硝子社製）等を挙げ
ることができる。
クルフレームに接着するために、通常ペリクルフレーム
の上端面に接着剤層が設けられる。この接着剤層に用い
られる接着剤の種類については、特に制限はなく、接着
を加熱して行う場合は熱可塑性の樹脂や熱硬化性の樹脂
が接着剤として用いられ、光硬化を利用して接着を行う
場合は、光硬化型樹脂が接着剤として用いられる。この
ような接着剤の例としては、アクリル樹脂接着剤、エポ
キシ樹脂接着剤、シリコーン樹脂接着剤、含フッ素シリ
コーン接着剤等のフッ素系ポリマー等を挙げることがで
き、なかでもフッ素系ポリマーが好ましい。具体的に
は、フッ素系ポリマーＣＴ６９（旭硝子社製）等を挙げ
ることができる。
【００１６】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を更に説明す
る。 （実施例１〜３、比較例１）合成石英ガラスでできた板
厚６．５ｍｍの平板の上下表面をダイヤモンド砥粒によ
り研磨して厚さ５．８ｍｍとした後、エンドミルを用い
て外寸を１４９ｍｍ×１２２ｍｍよりすこし大きめに、
また内寸１４５ｍｍ×１１８ｍｍより小さめに、枠体と
して切り出し、各角部に半径５ｍｍの丸みをつけてペリ
クルフレームとした。ペリクルフレームの外周および内
周をレジンダイヤにて研削した後、ドリルにてペリクル
フレームに０．５ｍｍ径の換気孔を１箇所設けた。
る。 （実施例１〜３、比較例１）合成石英ガラスでできた板
厚６．５ｍｍの平板の上下表面をダイヤモンド砥粒によ
り研磨して厚さ５．８ｍｍとした後、エンドミルを用い
て外寸を１４９ｍｍ×１２２ｍｍよりすこし大きめに、
また内寸１４５ｍｍ×１１８ｍｍより小さめに、枠体と
して切り出し、各角部に半径５ｍｍの丸みをつけてペリ
クルフレームとした。ペリクルフレームの外周および内
周をレジンダイヤにて研削した後、ドリルにてペリクル
フレームに０．５ｍｍ径の換気孔を１箇所設けた。
【００１７】さらに、ペリクルフレームの側面等をエッ
チングする場合は、ペリクルフレームを１０質量％のフ
ッ酸エッチング槽にて５分間超音波をかけながら浸して
全体をエッチングした。また、ペリクルフレームの側面
を鏡面化する場合は、フレーム側面をレジンダイヤにて
研削し、さらに酸化セリウムを用いてペリクル側面を鏡
面研磨した。
チングする場合は、ペリクルフレームを１０質量％のフ
ッ酸エッチング槽にて５分間超音波をかけながら浸して
全体をエッチングした。また、ペリクルフレームの側面
を鏡面化する場合は、フレーム側面をレジンダイヤにて
研削し、さらに酸化セリウムを用いてペリクル側面を鏡
面研磨した。
【００１８】その後で、上記のペリクルフレームおよ
び、スピンコートにより作成したサイトップ（旭硝子社
製）の膜を、温度２０℃の恒温槽に入れ、フッ素系ポリ
マーＣＴ６９（旭硝子社製）を用いてペリクルフレーム
とペリクル膜とを接着した。ペリクルフレームの側面に
設けられた換気孔のペリクルフレーム内側又は外側にあ
る出入口にＧＯＲＥＴＥＸ（W. L. Gore & Associates,
Inc.社製商品名）からなる防塵用フィルターを設けて
ペリクルを製作した。
び、スピンコートにより作成したサイトップ（旭硝子社
製）の膜を、温度２０℃の恒温槽に入れ、フッ素系ポリ
マーＣＴ６９（旭硝子社製）を用いてペリクルフレーム
とペリクル膜とを接着した。ペリクルフレームの側面に
設けられた換気孔のペリクルフレーム内側又は外側にあ
る出入口にＧＯＲＥＴＥＸ（W. L. Gore & Associates,
Inc.社製商品名）からなる防塵用フィルターを設けて
ペリクルを製作した。
【００１９】（比較例２）既存のアルマイト処理したア
ルミニウムからなるペリクルフレームを用いる以外は実
施例と同様にペリクルを作製した。
ルミニウムからなるペリクルフレームを用いる以外は実
施例と同様にペリクルを作製した。
【００２０】実施例および比較例について、ペリクルフ
レーム表面粗さを後述の方法で測定後、次にペリクルを
フォトマスク上にペリクルマウンタを用いて装着した。
その後欠点検査を後述の方法にしたがって行った。
レーム表面粗さを後述の方法で測定後、次にペリクルを
フォトマスク上にペリクルマウンタを用いて装着した。
その後欠点検査を後述の方法にしたがって行った。
【００２１】（評価方法１：表面粗さ検査）表面粗さ計
ＳＵＲＦＣＯＭ １４００Ｄ（東京精密社製）を用いペ
リクル側面を３０ｍｍにわたり計測した。換気孔中心部
をガラスカッターにて切断後断面１．５ｍｍにわたり計
測した。結果を表１の「平均面粗さ」の欄に示す。
ＳＵＲＦＣＯＭ １４００Ｄ（東京精密社製）を用いペ
リクル側面を３０ｍｍにわたり計測した。換気孔中心部
をガラスカッターにて切断後断面１．５ｍｍにわたり計
測した。結果を表１の「平均面粗さ」の欄に示す。
【００２２】（評価方法２：欠点検査）ペリクルを気圧
調整室に入れ、Ｘｅ2エキシマランプ光（波長１７２ｎ
ｍ、照度１０ｍＷ／ｃｍ2）を３０分照射して光洗浄
後、欠点をＰＩ−１０００（米ＱＣ optics社製）にて
測定した。結果を表１の「光洗浄後異物数」の欄に示
す。
調整室に入れ、Ｘｅ2エキシマランプ光（波長１７２ｎ
ｍ、照度１０ｍＷ／ｃｍ2）を３０分照射して光洗浄
後、欠点をＰＩ−１０００（米ＱＣ optics社製）にて
測定した。結果を表１の「光洗浄後異物数」の欄に示
す。
【００２３】さらに、３０秒間に雰囲気を１０１３２５
Ｐａ（７６０ｍｍＨｇ）から６６６６１Ｐａ（５００ｍ
ｍＨｇ）に変化させ５分間維持後３０秒間かけて１０１
３２５Ｐａ（７６０ｍｍＨｇ）に戻した後５分間維持さ
せるサイクルを１０回繰り返した後、欠点をＰＩ−１０
００（米 ＱＣ optics社製）にて測定した。結果を表
１の「１０サイクル後異物数」の欄に示す。
Ｐａ（７６０ｍｍＨｇ）から６６６６１Ｐａ（５００ｍ
ｍＨｇ）に変化させ５分間維持後３０秒間かけて１０１
３２５Ｐａ（７６０ｍｍＨｇ）に戻した後５分間維持さ
せるサイクルを１０回繰り返した後、欠点をＰＩ−１０
００（米 ＱＣ optics社製）にて測定した。結果を表
１の「１０サイクル後異物数」の欄に示す。
【００２４】
【表１】
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
使用寿命が長く高品質なペリクルを提供できる。
使用寿命が長く高品質なペリクルを提供できる。
【図１】本発明の一実施形態のペリクルを示す斜視図
【図２】図１のペリクルを露光原版に装着したときの断
面図
面図
【符号の説明】 ４：換気孔 ５：防塵用フィルター ６：接着剤 ７：粘着剤 ８：露光原版 １１：ペリクル １２：ペリクル膜 １３：ペリクルフレーム
Claims (4)
- 【請求項１】上面および底面を開口部とした箱状のペリ
クルフレームとペリクルフレームの一方の開口部に接着
したペリクル膜とを備えたペリクルであって、ペリクル
フレームは石英ガラスからなり、ペリクルフレーム側面
はエッチング処理されており平均面粗さが５μｍ以下で
あることを特徴とするペリクル。 - 【請求項２】上面および底面を開口部とした箱状のペリ
クルフレームとペリクルフレームの一方の開口部に接着
したペリクル膜とを備えたペリクルであって、ペリクル
フレームは石英ガラスからなり、ペリクルフレーム側面
は鏡面化処理されていることを特徴とするペリクル。 - 【請求項３】ペリクルフレーム側面には換気孔が設けら
れており、換気孔内部表面はエッチング処理されており
平均面粗さが５μｍ以下である請求項１または２記載の
ペリクル。 - 【請求項４】ペリクルフレーム側面には換気孔が設けら
れており、換気孔のペリクルフレーム内側部分に防塵用
フィルターを備える請求項1、２または３記載のペリク
ル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001126567A JP2002323752A (ja) | 2001-04-24 | 2001-04-24 | ペリクル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001126567A JP2002323752A (ja) | 2001-04-24 | 2001-04-24 | ペリクル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002323752A true JP2002323752A (ja) | 2002-11-08 |
Family
ID=18975580
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001126567A Pending JP2002323752A (ja) | 2001-04-24 | 2001-04-24 | ペリクル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002323752A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007052429A (ja) * | 2005-08-15 | 2007-03-01 | Micro Lithography Inc | 光学ペリクルフレーム |
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