JP4903829B2 - リソグラフィ用ペリクル - Google Patents
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Description
そのため、フッ素ドープシリカと熱膨張係数が同じ石英ガラスをペリクルフレームとして使用せざるを得ず、仮に実用化できても非常に高価な物となるため、コスト面で問題があった。
本発明者らは、鋭意検討努力を重ねた結果、ペリクル膜をフッ素ドープシリカとフッ素樹脂の複合構造とすることにより、フッ素ドープシリカ層とフッ素樹脂層をそれぞれ薄膜とすることができ、これにより、それぞれの短所を補い、かつ長所を生かしたペリクル膜とすることが出来ることを見出し、本発明を完成させたものである。
この点を更に詳述すると、ペリクル膜の種類については、例えば200〜300nmの遠紫外光や、特には200nm以下の真空紫外光といった短波長の光に対して極力高い透過率を持ち、また耐光性を備えているものである必要がある。
非晶質フッ素ポリマーの例としては、サイトップ(旭硝子(株)製商品名)、テフロンAF(デュポン(株)製商品名)等が挙げられる。これらのポリマーは、ペリクル膜作製時に必要に応じて溶媒に溶解して使用しても良く、例えばフッ素系溶媒などで適宜溶解し得る。
通気口を設ける場合、通気口のサイズ、形状、個数、場所については特に制限されないが、通気口に設置するフィルターのメッシュサイズ、濾過面積またはこれらから求められる通気量によってそのサイズ、形状、個数、場所を選択するのが望ましい。好ましくは、必要以上に大きな通気口を形成せず、必要最低量の通気口を設けるのが良い。
ウェットエッチングによって、最終的にシリコン単結晶からなるペリクルフレーム2となる部分を残してシリコンが溶解除去され、ペリクルフレーム2にシリコン薄膜6を介してフッ素ドープシリカ3aとフッ素樹脂3bの複合構造からなるペリクル膜3が張設されたペリクル1が得られる。
(実施例)
初めに、ペリクルフレーム用として、結晶面方位(100)面のシリコン単結晶を外寸149mm×122mm×6.0mmの板に加工した(図3(A))。それから、このペリクルフレーム用板の一方の面を深さ5.0mmまで周囲5mmを残してザグリ加工した。ザグリ加工後、ザグリ加工を行わなかったもう一方の面を研磨し、鏡面に加工した(図3(B))。
次に、この溶液により、フッ素ドープシリカの研磨面にスピンコーターを用いて膜の厚みが0.8μmの透明のフッ素樹脂膜を形成させた(図3(G))。
Claims (3)
- 少なくとも、ペリクル膜と、該ペリクル膜を張設するペリクルフレームと、該ペリクルフレームの他方の端面に設けられた粘着層を有するリソグラフィ用ペリクルであって、前記ペリクルフレームが、シリコン単結晶からなるものであることを特徴とするリソグラフィ用ペリクル。
- 前記ペリクル膜と前記ペリクルフレームは、シリコン薄膜を介して接合されたものであることを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ用ペリクル。
- 前記ペリクルフレームを構成するシリコン単結晶の結晶面方位が(100)面であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のリソグラフィ用ペリクル。
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