JP2002260848A - 有機el素子に用いるフィルム及び有機el装置 - Google Patents
有機el素子に用いるフィルム及び有機el装置Info
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- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 21
- 125000005373 siloxane group Chemical group [SiH2](O*)* 0.000 claims abstract description 8
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims abstract description 6
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 claims abstract description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 29
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 claims description 27
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 26
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 17
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 11
- 238000002161 passivation Methods 0.000 claims description 10
- -1 polychlorofluoroethylene Polymers 0.000 claims description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 8
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 8
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 7
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 6
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 4
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 4
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 abstract description 45
- 239000010408 film Substances 0.000 description 127
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 38
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 21
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 15
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 9
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 9
- 229920002493 poly(chlorotrifluoroethylene) Polymers 0.000 description 8
- 239000005023 polychlorotrifluoroethylene (PCTFE) polymer Substances 0.000 description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 238000011160 research Methods 0.000 description 3
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 101100321669 Fagopyrum esculentum FA02 gene Proteins 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229940024548 aluminum oxide Drugs 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000005003 food packaging material Substances 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- 230000036962 time dependent Effects 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K50/844—Encapsulations
- H10K50/8445—Encapsulations multilayered coatings having a repetitive structure, e.g. having multiple organic-inorganic bilayers
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
- H10K50/844—Encapsulations
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- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/3154—Of fluorinated addition polymer from unsaturated monomers
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- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
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- Y10T428/31652—Of asbestos
- Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane
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Abstract
する有機EL装置に用いるフィルム及びそれを用いた有
機EL素子構造を提供する。 【解決手段】有機EL(エレクトロルミネッセンス)素
子に用いるフィルムであって、該フィルムの分子構造は
有機骨格部と無機骨格部を有し、フッ素基、シロキサン
基及び感光性基を含む有機無機ハイブリッド材料である
ことを特徴とするフィルム。
Description
…劣化に有効なガスバリア性を有するフィルム及びそれ
を用いた有機EL素子に関する。
という)素子は固体蛍光性物質の電界発光又はEL発光
を利用した発光デバイスである。
フラットディスプレイ等には無機系材料を発光体として
用いた無機EL素子が実用化されている。
トで製造できる可能性があり、その開発研究が盛んに行
われている。この有機EL素子に使用される発光層や正
孔輸送層等の有機固体は一般に水分や酸素に弱く、ダー
クスポットの成長や輝度の低下を招く。有機EL素子の
信頼性を保証するには有機材料や電極材料への水分及び
酸素の進入を阻止する素子封止形態とすることが重要で
ある。
提案がなされてきた。例えば、有機EL素子を吸湿材と
共に金属封止する方法、背面電極の外側にガラス板を設
けて背面電極とガラス板の間にシリコーンオイルを封入
する方法などがある。また、ガスバリア性に優れた有機
フィルムや無機酸化物蒸着膜を有するフィルムで有機E
L素子を封止する方法も提案されている。
リクロロトリフルオロエチレン(PCTFE)等の有機
薄膜や、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレー
ティング法等の物理気相成長法(PVD法)や、プラズ
マ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長
法等の化学気相成長法(CVD法)を利用して、プラス
チック基材上にSiO2,Al2O3,MgO等の無機酸
化物膜を形成した、透明なガスバリア性フィルムの開示
がある。
過度は数10〜数100cc/m2day、水蒸気透過
度は数10〜数100g/m2dayである。ポリクロ
ロトリフルオロエチレン(PCTFE)等、特にバリア
性を強化した分子構造を有する有機ポリマーの酸素透過
度は数cc/m2day、水蒸気透過度は数g/m2da
yである。
ラスチック基材上にSiO2,Al2O3,MgO等の無
機酸化物膜を形成したガスバリア性フィルムは緻密であ
り、例えば厚さ30μm PET基材上に蒸着された厚
さ5μmのSiOx膜の酸素透過性は1cc/m2da
y、水蒸気透過性は1g/m2day程度である。特開
平11−80934号公報ではプラスチック基材表面に
蒸着したAl2O3膜表面を酸素ガスでプラズマ処理した
後に水酸基を導入することにより、簡素な行程で酸化ア
ルミニウムと水酸化アルミニウムの複合薄膜を設け、酸
素透過度1.2cc/ m 2/day、水蒸気透過度2.0g/ m2/dayを
開示している。また、特開平11−332979号公報
ではPET基材表面を酸素ガスでプラズマ処理した後に
無機酸化物の蒸着膜を形成したフィルムにより、酸素透
過度0.9cc/ m2/day、水蒸気透過度0.8g
/ m2/dayを開示している。
EL素子の封止材には、透明性と同時に、従来の食品包
装用材と比較して格段に高いガスバリア性が要求され
る。しかしながら上述したガスバリア性有機フィルムや
無機蒸着膜は、いずれも有機EL素子の封止材として有
効なガスバリア性は実現されていない。公知のガスバリ
ア性フィルムの厚みを厚くすることにより、有機EL素
子封止に十分なガスバリア性を実現するには、膜厚を1
0cm程度にする必要がある。無機材料蒸着膜のガス透
過性もまた膜厚の増加に伴い減少するが、膜厚が100
nm以上になるとガス透過性は一定値となりそれ以上減
少しなくなる。このため、無機蒸着膜を厚くして有機E
L素子封止に十分なガスバリア性を実現することも困難
である。従って従来のガスバリア性有機ポリマーや無機
材料蒸着膜の膜厚を厚くして有機EL装置に用いること
はできない。
が提案されているが、EL素子の軽量化、薄型化に関し
て課題が残っている。
分なガスバリヤ性を有する有機EL装置に用いるフィル
ム及びそれを用いた有機EL素子構造を提供することで
ある。
を解決すべく鋭意検討した結果、フッ素系置換基及びシ
ロキサン基を有する有機無機ハイブリッド材料及びPC
TFEを基本骨格とした有機骨格部と無機骨格部から成
る有機無機ハイブリッド材料が優れたガスバリア性を有
することを見いだした。またPET基材上に有機無機ハ
イブリッド材料膜及び無機材料蒸着膜を形成した多層構
造を有するシートはより優れたガスバリア性を有するこ
と、またそれぞれの層を厚くするのではなく複数枚のシ
ートを重ねることにより、更に優れたガスバリア性が実
現されることを見いだし、本発明に至った。
レクトロルミネッセンス)素子に用いるフィルムであっ
て、該フィルムの分子構造は有機骨格部と無機骨格部を
有し、フッ素基、シロキサン基及び感光性基を含む有機
無機ハイブリッド材料にある。
格部を有する有機無機ハイブリッド材料から成る有機E
L装置に用いるフィルムであって、フッ素基、感光性
基、シロキサン基を有するフィルムを用いることにより
解決される。
膜温度を低くするために感光性基を導入し、ガスバリア
性を高めるためシロキサン基を導入し、特に水蒸気バリ
ア性を高めるためにフッ素基を導入する。特に成膜温度
を低くする必要がない場合は、上記課題は、有機骨格部
と無機骨格部を有する有機無機ハイブリッド材料から成
る有機EL装置に用いるフィルムであって、主骨格とし
てのポリクロロフルオロエチレンに無機骨格部であるシ
ロキサン基が結合した重合体から成るフィルムを用いる
ことにより解決される。
は、無機層と有機無機ハイブリッド層を含む多層状フィ
ルムであって、該多層状フィルムは、プラスチック基材
上に有機無機ハイブリッド材料膜(有機無機ハイブリッ
ド層)及び無機材料蒸着膜(無機層)を少なくとも1層
ずつ以上積層した構造を有する有機EL装置に用いるフ
ィルムを用いればよい。
ルムを2枚以上張り合わせて用ることにより、フィルム
のガスバリア性を飛躍的に向上させ、有機EL装置の信
頼性を更に高めることができる。
下), Al2O3,MgO, Si3N4等からなる緻密な膜が適当であ
る。このような無機材料蒸着膜に、更にCaO等、吸湿性
を有する無機材料蒸着膜を蒸着した無機材料蒸着膜とす
ることにより、無機材料蒸着膜に、緻密性及び吸水性
等、複数の機能を持たせ、より信頼性の高い有機EL装
置に用いるフィルムとする。前記のSiOx, Al2O3, Si
3N4, MgO, CaOのような無機材料は、蒸着膜として多層
フィルム間に存在しても、微粒子状として有機無機ハイ
ブリッド層内に存在してもその機能が発揮される。
ことが主目的であるため、無機材料微粒子を有機樹脂膜
内に分散する場合は、粒径が可視光の波長以下、有機樹
脂に対して5から50重量%とすることにより、有機E
L装置に用いるフィルムの透明性を維持する。
ムを用い、ガスバリア性を有する接着剤や熱ラミネート
法等の方法で有機EL装置を片面または両面から封止す
ることにより、軽量で薄型の有機EL装置を得る。
ガスバリア性が高い上透明であるので、有機EL装置を
対向基板レス構造にすることも可能である。このような
有機EL装置の封止工程を大気圧以上の不活性ガス中で
行い、有機EL装置内部を大気圧以上の不活性ガスで充
填することにより、有機EL装置に用いるフィルム及び
接着層の見かけのガスバリア性を向上させ、更に信頼性
の高い有機EL装置を得る。
着層2を形成したPET材料1に、有機無機ハイブリッ
ド膜3を塗布したフィルムの概念図である。このように
バリア性を有する層を多層状に設けることにより、フィ
ルムのバリア性は増す。
4により2枚貼り合わせたフィルムである。バリア性の
高いフィルムを複数枚貼り合わせることにより、更にバ
リア性の高いフィルムが簡単に得られる。このようにバ
リア性が高く、透明なフィルムを用いれば、有機EL素
子からの光の取り出し効率を高めることができる。
いた有機EL素子である。ガラス基板5の上に金属カソ
ード6、有機EL層7、ITO電極8が積層されてい
る。
缶により封止していたため、有機EL素子から発光した
光はガラス基板5から取り出すしていた。ところがガラ
ス基板上にはTFT回路が形成されているために、その
部分で光が遮られ、光の取り出すし効率が悪い欠点があ
った。
ば、有機EL素子から発光した光を、上部の有機無機パ
ッシベ−ション膜9から取り出すことができ、光を遮る
ものが無いため、光の取り出し効率を格段に高くでき
る。
明する。
ムを塗布成膜するために用いる有機無機ハイブリッド材
料を以下により合成した。
3)3 (n=1-10)と、(B)成分:アルコキシ基含有感
光性アクリル樹脂及び(C)成分:CH2=CH-Si(O
CH 3)3 を(A):(B):(C)=1:1:1のモ
ル比でエタノール又はイソプロピルアルコール中で混合
し、化学量論量のH2O及び触媒として若干量の酸を添
加し、各成分のアルコキシ基部の加水分解、重縮合反応
により、シロキサン結合、フッ素基及び感光性基を含む
有機無機ハイブリッド溶液を作製した。
1に示す厚さ12μmのPET基材1上に塗布成膜し、
紫外線(365nm又は254nm,10mW/c
m2)を10分間照射して感光性基を光重合させ、低温
でPET基材上に有機無機ハイブリッド膜2(厚さ1μ
m)を形成した。
代わりに、ポリクロロトリフルオロエチレンPCTFE
(厚さ1μm)を塗布成膜したフィルムを作製した。
フィルム、PCTFE付きPETフィルム及びPETフ
ィルム上に、真空蒸着法によりSiOx膜(xは2以
下)、またはAl2O3膜、又はSiOx+ Al2O3複合
膜をそれぞれ50nm蒸着により無機材料蒸着層3を形
成し、ガス透過性評価試料とした。
蒸気透過度を評価した。
温度30℃、湿度90%RHの条件で、米国モコン(MOCON)
株式会社製の酸素透過度測定装置(OXTRAN 2/20)を
使用し、圧力差0.1MPaの条件で酸素透過度を測定
した。装置の測定限界は0.01cc/m2/dayであ
る。
温度30℃、湿度90%RHの条件で、米国モコン(MOCON)
株式会社製の透湿度測定装置(Permatran 2/20)を使用
し、圧力差0.1MPaの条件で水蒸気透過度を測定した。装
置の測定限界は0.01g/m2/dayである。
成膜したフィルム(番号1-2)や、無機材料蒸着膜を形
成したフィルム(番号2-1, 3-1, 4-1)の酸素透過度及
び水蒸気透過度に比べ、有機無機ハイブリッド膜を形成
したフィルム(番号1-3)のガスバリア性は高いことが
示された。また、無機材料蒸着膜と有機無機ハイブリッ
ド膜を複合化することにより(番号2-3, 3-3, 4-3)、
更にガスバリア性を高められることが示された。
Eフィルム(タイプTUX-TC)を使用し、実施例1
で使用した各フィルムを数枚貼り合わせた試料を作製
し、実施例1と同様にガスバリア性を評価した。作製し
たフィルム試料の構造例を図2に示す。図2において4
が、2枚のフィルムを貼り合わせるためのシーラント層
である。このようにそれぞれのフィルムを2枚貼り合わ
せた試料のガスバリア性を表2に、5枚貼り合わせた試
料のガスバリア性を表3にまとめる。
いた多層フィルムを2枚貼り合わせることにより、ガス
バリア性は1枚のものと比べて飛躍的に低下し、無機材
料蒸着層を有する複合フィルムにおいては、ガスバリア
性は装置の測定限界以下となる。
ルムにおいては、全てのフィルムのガスバリア性が装置
の測定限界以下となった。また多層フィルムを5枚貼り
合わせたフィルムにおいても、その透明性はほとんど失
われておらず、有機EL装置に用いるフィルムとして非
常に適していることがわかった。本実施例では、実施例
1で用いた多層フィルムを2枚または5枚貼り合わせた
複合フィルムを用いてガスバリア性を評価したが、貼り
合わせるべき多層フィルムの枚数を制限するものではな
い。
料塗布液とATO液を混合することにより、球状SnO2微粒
子(粒径200nm)1, 5, 10, 30, 50, 70重量%をそれぞ
れ均一に分散した塗布液を作製し、厚さ25μmのPETフィ
ルム上に塗布成膜し、コーティング層の厚みが1μm程度
のフィルム試料を作製した。球状SiO2微粒子を分散した
有機無機ハイブリッド材料膜のガスバリア性評価結果を
表4に示す。5から50重量%の微粒子分散により、フィ
ルムの透明性を維持しつつ、有機無機ハイブリッド材料
膜のガスバリア性が向上していることがわかる。
多層フィルムとして、表2に記載のフィルム試料を用い
有機EL素子を作製した。
すように、ガラス基板5上に金属カソード6/有機EL
層(緑色)7/ITO電極層8を積層したものである。
大気圧(0.1MPa)窒素雰囲気中のグローブボックス内に
て、有機EL素子(15mm×20mm)のITO電極上に、大
きさ40mm×50mmに切り出した有機無機ハイブリッドパッ
シベーション膜9(表2に記載のフィルム1-3)を接着
剤にて貼り付けることにより有機EL素子を封止し、E
L素子Aとした。同様に表2のフィルム2-3で封止した
有機EL素子をEL素子Bとし、フィルム1-1で封止し
た有機EL素子を比較用EL素子とした。
圧(0.2MPa)とし、上記と同様の方法で表2に記載のフ
ィルム2-3で有機EL素子を封止し、EL素子Cとし
た。
湿度90%の湿潤空気中に設置し、100V、400Hzの交流電
源に接続し、連続点灯してその輝度を測定した。実験開
始直後の輝度を100%とし、輝度の経時変化を測定した
結果を図4に示す。比較用EL素子に比べて、EL素子
A,EL素子B,EL素子Cの順に輝度の低下率が小さ
いことが確認された。すなわち、有機EL素子の信頼性
を向上させるには、封止用フィルム材料として本発明の
有機無機ハイブリッド材を用いればよいことがわかる。
機無機ハイブリッド材料膜との多層構造とすることによ
り、有機EL素子の信頼性がより一層向上し、封止内部
を大気圧以上の不活性ガスで充填することにより、有機
EL素子の信頼性を更に高められることが示された。
に優れた透明なパッシベーション膜が得られる。これに
より得られるパッシベーション膜は、有機EL装置の耐
劣化用保護膜として利用することができる。
フィルムの構造例。
ルムの構造例。
子の構造例。
の輝度の経時変化。
機材料蒸着層、4…接着層、5…ガラス基板、6…金属
カソード、7…有機EL層、8…ITO電極、9…有機
無機ハイブリッドパッシベーション膜。
8)
酸素及び水蒸気劣化に有効なガスバリア性を有するフィ
ルム及びそれを用いた有機EL素子に関する。
缶により封止していたため、有機EL素子から発光した
光はガラス基板5から取り出していた。ところがガラス
基板上にはTFT回路が形成されているために、その部
分で光が遮られ、光の取り出し効率が悪い欠点があっ
た。
に優れた透明なパッシベーション膜が得られる。これに
より得られるパッシベーション膜は、有機EL装置の耐
酸素及び水蒸気劣化用保護膜として利用することができ
る。
Claims (13)
- 【請求項1】有機EL(エレクトロルミネッセンス)素
子に用いるフィルムであって、該フィルムの分子構造は
有機骨格部と無機骨格部を有し、フッ素基、シロキサン
基及び感光性基を含む有機無機ハイブリッド材料である
ことを特徴とするフィルム。 - 【請求項2】請求項1において、前記フィルムの分子構
造の主骨格がポリクロロフルオロエチレンにシロキサン
基が結合した重合体を含むことを特徴とするフィルム。 - 【請求項3】請求項1又は2に記載の有機無機ハイブリ
ッド材料膜(有機無機ハイブリッド層)及び無機材料蒸
着膜(無機層)を少なくとも1層ずつプラスチック基材
上に積層した無機層と有機無機ハイブリッド層を含む多
層状フィルムであって、構造である事を特徴とするフィ
ルム。 - 【請求項4】無機層と有機無機ハイブリッド層を含む多
層状フィルムであって、該フィルムは、請求項3に記載
の有機EL装置に用いるフィルムを少なくとも2枚以上
積層した構造を有する事を特徴とする有機EL装置に用
いるフィルム。 - 【請求項5】請求項1〜3のいずれかにおいて、有機無
機ハイブリッド層が可視光波長以下の粒子径を有する無
機材料微粒子を5〜50重量%含有したことを特徴とす
る有機EL装置に用いるフィルム。 - 【請求項6】請求項3〜5のいずれかにおいて、無機材
料蒸着膜又は無機材料微粒子がSiOx(xは2以下),
A2O3, Si3N4, MgO, CaOの少なくともいずれ
かであることを特徴とする、有機EL装置に用いるフィ
ルム。 - 【請求項7】請求項1〜6のいずれかにおいて、有機E
L装置に用いるフィルムを用い、熱ラミネート法または
接着剤により片面または両面から封止した構造を有する
有機EL素子。 - 【請求項8】請求項1〜6のいずれかにおいて、有機E
L装置に用いるフィルムを用い、熱ラミネート法または
接着剤により片面または両面から封止し、対向基板レス
構造を有する有機EL素子。 - 【請求項9】請求項7又は8において、封止部内が大気
圧以上の不活性ガスで満たされていることを特徴とする
有機EL素子。 - 【請求項10】ポリエチレンフタレートPET基材の片
面に有機無機ハイブリッド膜が形成され、該有機無機ハ
イブリッド膜の表面に無機材料蒸着層が形成されてなる
ことを特徴とする有機EL素子封止用フイルム。 - 【請求項11】2枚のポリエチレンフタレートPET基
材の片面に有機無機ハイブリッド膜が形成され、該有機
無機ハイブリッド膜の表面に無機材料蒸着層が形成され
てなるフイルムが接着層を介してそれぞれが該接着層の
片側主(上)面ともう一方の片側主(下)面に張り合わ
せた有機EL素子封止用フイルムであって、前記上面に
は前記フィルムのポリエチレンフタレートPET基材の
もう一方の片面が接しており、、前記下面には前記フィ
ルムの無機材料蒸着層が接していることを特徴とする有
機EL素子封止用フイルム。 - 【請求項12】ガラス基板上に金属カソードを介してI
TO電極を有する有機EL層が形成され、少なくとも前
記ITO電極を覆うようにパッシベーション膜が形成さ
れてなる有機EL素子であって、該パッシベーション膜
がポリエチレンフタレートPET基材の片面に有機無機
ハイブリッド膜が形成され、該有機無機ハイブリッド膜
の表面に無機材料蒸着層が形成されてなるフイルムであ
ることを特徴とする有機EL素子。 - 【請求項13】ガラス基板上に金属カソードを介してI
TO電極を有する有機EL層が形成され、少なくとも前
記ITO電極を覆うようにパッシベーション膜が形成さ
れてなる有機EL素子であって、該パッシベーション膜
が2枚のポリエチレンフタレートPET基材の片面に有
機無機ハイブリッド膜が形成され、該有機無機ハイブリ
ッド膜の表面に無機材料蒸着層が形成されてなるフイル
ムが接着層を介してそれぞれ片側主(上)面ともう一方
の片側主(下)面に張り合わせた有機EL素子封止用フ
イルムであって、前記上面には前記フィルムのポリエチ
レンフタレートPET基材のもう一方の片面が接してお
り、、前記下面には前記フィルムの無機材料蒸着層が接
しているフイルムであることを特徴とする有機EL素
子。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001060446A JP4147008B2 (ja) | 2001-03-05 | 2001-03-05 | 有機el素子に用いるフィルム及び有機el素子 |
US09/953,559 US6638645B2 (en) | 2001-03-05 | 2001-09-17 | Film for organic EL device and an organic EL device using the film |
US10/642,697 US6896979B2 (en) | 2001-03-05 | 2003-08-19 | Film for organic EL device and an organic EL device using the film |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001060446A JP4147008B2 (ja) | 2001-03-05 | 2001-03-05 | 有機el素子に用いるフィルム及び有機el素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002260848A true JP2002260848A (ja) | 2002-09-13 |
JP4147008B2 JP4147008B2 (ja) | 2008-09-10 |
Family
ID=18919863
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001060446A Expired - Fee Related JP4147008B2 (ja) | 2001-03-05 | 2001-03-05 | 有機el素子に用いるフィルム及び有機el素子 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6638645B2 (ja) |
JP (1) | JP4147008B2 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002293971A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-09 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 透明水蒸気バリアフィルム |
JP2007131844A (ja) * | 2005-11-07 | 2007-05-31 | Xerox Corp | シロキサン−アクリレート相互貫入ネットワークおよびその製造方法 |
EP1401032A3 (en) * | 2002-09-20 | 2007-06-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting apparatus |
US7453094B2 (en) | 2002-09-20 | 2008-11-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting apparatus and fabrication method of the same |
JP2009070795A (ja) * | 2007-08-22 | 2009-04-02 | Fujifilm Corp | 表示素子の封止方法およびガスバリアフィルムで封止された表示素子の製造方法 |
KR101095022B1 (ko) | 2009-12-04 | 2011-12-20 | 한국과학기술연구원 | 보호막 구조 형성 방법 |
JP2014514703A (ja) * | 2011-04-08 | 2014-06-19 | サン−ゴバン パフォーマンス プラスティックス コーポレイション | 影響を受けやすい素子を封入するための多層構成要素 |
US9246131B2 (en) | 2009-09-10 | 2016-01-26 | Saint-Gobain Performance Plastics Corporation | Layered element for encapsulating a senstive element |
JP2016207660A (ja) * | 2006-11-01 | 2016-12-08 | ザ、トラスティーズ オブ プリンストン ユニバーシティ | 電子デバイス又は他の部品上のコーティングに使用するハイブリッド層 |
Families Citing this family (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7074640B2 (en) * | 2000-06-06 | 2006-07-11 | Simon Fraser University | Method of making barrier layers |
TW548860B (en) | 2001-06-20 | 2003-08-21 | Semiconductor Energy Lab | Light emitting device and method of manufacturing the same |
US7211828B2 (en) | 2001-06-20 | 2007-05-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device and electronic apparatus |
US7164155B2 (en) * | 2002-05-15 | 2007-01-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device |
US7230271B2 (en) * | 2002-06-11 | 2007-06-12 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device comprising film having hygroscopic property and transparency and manufacturing method thereof |
JP4491196B2 (ja) * | 2003-03-31 | 2010-06-30 | 富士フイルム株式会社 | ガスバリア性積層フィルム及びその製造方法、並びに該フィルムを用いた基板及び画像表示素子 |
TWI252325B (en) * | 2004-02-06 | 2006-04-01 | Lg Chemical Ltd | Plastic substrate having multi-layer structure and method for preparing the same |
JP4313221B2 (ja) * | 2004-02-17 | 2009-08-12 | 富士フイルム株式会社 | ガスバリアフィルム |
WO2005081333A2 (en) * | 2004-02-20 | 2005-09-01 | Oc Oerlikon Balzers Ag | Diffusion barrier layer and method for manufacturing a diffusion barrier layer |
US7202504B2 (en) | 2004-05-20 | 2007-04-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting element and display device |
US8193705B2 (en) * | 2005-11-02 | 2012-06-05 | Ifire Ip Corporation | Laminated conformal seal for electroluminescent displays |
TW200726311A (en) * | 2005-12-30 | 2007-07-01 | Au Optronics Corp | Display panel structure with shielding structure |
KR100647340B1 (ko) * | 2006-01-11 | 2006-11-23 | 삼성전자주식회사 | 평판표시장치 |
US7968146B2 (en) | 2006-11-01 | 2011-06-28 | The Trustees Of Princeton University | Hybrid layers for use in coatings on electronic devices or other articles |
JP5208591B2 (ja) | 2007-06-28 | 2013-06-12 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 発光装置、及び照明装置 |
WO2009088214A2 (en) * | 2008-01-07 | 2009-07-16 | Korea Institute Of Science And Technology | Method for fabrication of transparent gas barrier film using plasma surface treatment and transparent gas barrier film fabricated thereby |
KR101013413B1 (ko) * | 2008-01-07 | 2011-02-14 | 한국과학기술연구원 | 플라즈마 표면 처리를 이용한 투명 기체 차단 필름의 제조방법 및 이로부터 제조된 투명 기체 차단 필름 |
KR100926030B1 (ko) * | 2008-02-25 | 2009-11-11 | 한국과학기술연구원 | 산소와 수분 투과의 차단 및 가스 배리어 특성 향상을 위한유/무기 복합 박막 보호층 및 그의 제조방법 |
JP5213522B2 (ja) * | 2008-05-16 | 2013-06-19 | 三菱樹脂株式会社 | 有機デバイス用ガスバリア性積層フィルム |
DE102008030825A1 (de) * | 2008-06-30 | 2009-12-31 | Schott Ag | Vorrichtung zur Reflektion von Wärmestrahlung, ein Verfahren zu ihrer Herstellung sowie deren Verwendung |
KR101557497B1 (ko) * | 2008-07-23 | 2015-10-06 | 삼성전자주식회사 | 물질 조성의 구배를 갖는 박막 및 그의 제조방법 |
US9073287B2 (en) * | 2008-12-15 | 2015-07-07 | Industrial Technology Research Insititute | Organic/inorganic multi-layered gas barrier film |
WO2010083242A1 (en) | 2009-01-14 | 2010-07-22 | Dow Corning Corporation | Adhesive flexible barrier film, method of forming same, and organic electronic device including same |
WO2010083236A1 (en) * | 2009-01-14 | 2010-07-22 | Dow Corning Corporation | Flexible barrier film, method of forming same, and organic electronic device including same |
US8766240B2 (en) * | 2010-09-21 | 2014-07-01 | Universal Display Corporation | Permeation barrier for encapsulation of devices and substrates |
TW201245352A (en) * | 2011-03-25 | 2012-11-16 | Dow Corning | Fluoro surface segregated monolayer coating |
KR101472917B1 (ko) | 2013-07-11 | 2014-12-19 | 한국과학기술연구원 | 수분차단막 및 그 제조방법 |
US20160254487A1 (en) * | 2013-10-24 | 2016-09-01 | Universal Display Corporation | Permeation barrier system for substrates and devices and method of making the same |
KR20160009120A (ko) * | 2014-07-15 | 2016-01-26 | 한양대학교 산학협력단 | 유기 링킹 물질을 갖는 무기막 구조체, 및 그 제조 방법 |
CN104733641B (zh) * | 2015-04-03 | 2017-01-18 | 京东方科技集团股份有限公司 | Oled器件的封装方法、封装结构及显示装置 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR920004961B1 (ko) * | 1988-12-30 | 1992-06-22 | 한국 전기통신공사 | 초미세형상용 연 x선 발생장치 |
EP0511548B1 (en) * | 1991-04-30 | 1997-07-09 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Chemically adsorbed film and method of manufacturing the same |
JPH0551460A (ja) * | 1991-08-28 | 1993-03-02 | Fujitsu Ltd | フツ素含有シリコーン樹脂、これを含む感光性樹脂組成物およびこれを用いた多層配線装置 |
US5958609A (en) * | 1996-01-24 | 1999-09-28 | Sumitomo Chemical Co., Ltd. | Organic electroluminescence device |
US5977241A (en) * | 1997-02-26 | 1999-11-02 | Integument Technologies, Inc. | Polymer and inorganic-organic hybrid composites and methods for making same |
JP4156056B2 (ja) | 1997-09-03 | 2008-09-24 | 大日本印刷株式会社 | 酸化アルミニウム蒸着複合フィルムおよびその製造法 |
JPH11180934A (ja) | 1997-12-18 | 1999-07-06 | Kanagawa Prefecture | パラニトロ安息香酸の製造方法およびその装置 |
US6068884A (en) * | 1998-04-28 | 2000-05-30 | Silcon Valley Group Thermal Systems, Llc | Method of making low κ dielectric inorganic/organic hybrid films |
JP4042876B2 (ja) | 1998-05-27 | 2008-02-06 | 旭化成クラレメディカル株式会社 | 膜型血液透析器 |
US6268695B1 (en) * | 1998-12-16 | 2001-07-31 | Battelle Memorial Institute | Environmental barrier material for organic light emitting device and method of making |
US6413645B1 (en) * | 2000-04-20 | 2002-07-02 | Battelle Memorial Institute | Ultrabarrier substrates |
US6492026B1 (en) * | 2000-04-20 | 2002-12-10 | Battelle Memorial Institute | Smoothing and barrier layers on high Tg substrates |
-
2001
- 2001-03-05 JP JP2001060446A patent/JP4147008B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2001-09-17 US US09/953,559 patent/US6638645B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-08-19 US US10/642,697 patent/US6896979B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002293971A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-09 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 透明水蒸気バリアフィルム |
EP1401032A3 (en) * | 2002-09-20 | 2007-06-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting apparatus |
US7268487B2 (en) | 2002-09-20 | 2007-09-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting apparatus |
US7453094B2 (en) | 2002-09-20 | 2008-11-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting apparatus and fabrication method of the same |
JP2007131844A (ja) * | 2005-11-07 | 2007-05-31 | Xerox Corp | シロキサン−アクリレート相互貫入ネットワークおよびその製造方法 |
JP2016207660A (ja) * | 2006-11-01 | 2016-12-08 | ザ、トラスティーズ オブ プリンストン ユニバーシティ | 電子デバイス又は他の部品上のコーティングに使用するハイブリッド層 |
JP2009070795A (ja) * | 2007-08-22 | 2009-04-02 | Fujifilm Corp | 表示素子の封止方法およびガスバリアフィルムで封止された表示素子の製造方法 |
US9246131B2 (en) | 2009-09-10 | 2016-01-26 | Saint-Gobain Performance Plastics Corporation | Layered element for encapsulating a senstive element |
KR101095022B1 (ko) | 2009-12-04 | 2011-12-20 | 한국과학기술연구원 | 보호막 구조 형성 방법 |
JP2014514703A (ja) * | 2011-04-08 | 2014-06-19 | サン−ゴバン パフォーマンス プラスティックス コーポレイション | 影響を受けやすい素子を封入するための多層構成要素 |
US10036832B2 (en) | 2011-04-08 | 2018-07-31 | Saint-Gobain Performance Plastics Corporation | Multilayer component for the encapsulation of a sensitive element |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6896979B2 (en) | 2005-05-24 |
JP4147008B2 (ja) | 2008-09-10 |
US6638645B2 (en) | 2003-10-28 |
US20040053070A1 (en) | 2004-03-18 |
US20020168545A1 (en) | 2002-11-14 |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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