JP2002258504A

JP2002258504A - 電子写真感光体用基板、電子写真感光体および電子写真装置

Info

Publication number: JP2002258504A
Application number: JP2001061547A
Authority: JP
Inventors: Hidetaka Yahagi; 秀隆矢萩; Naoyuki Senba; 直幸仙庭; Masaru Kobashi; 勝小橋; Mikio Yamazaki; 幹夫山崎; Shinichiro Nishimaki; 慎一郎西牧; Yutaka Nakagishi; 豊中岸; Masaaki Sakaguchi; 雅章坂口
Original assignee: Fuji Electric Imaging Device Co Ltd; Okuno Chemical Industries Co Ltd
Current assignee: Fuji Electric Imaging Device Co Ltd; Okuno Chemical Industries Co Ltd
Priority date: 2001-03-06
Filing date: 2001-03-06
Publication date: 2002-09-11
Also published as: US20030013030A1; US6723480B2

Abstract

(57)【要約】【課題】直径０．１〜０．５ｍｍ程度の微少な絶縁破
壊の発生を防止することのできる接触帯電プロセス用の
電子写真用感光体用基板、感光体および電子写真装置の
提供。【解決手段】封孔処理されたアルミニウム陽極酸化皮
膜を表面に有する電子写真感光体用基板において、前記
陽極酸化膜を、陰イオン界面活性剤を添加した封孔処理
剤により封孔処理する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】帯電機構に接触帯電法を少な
くとも一つ用いる電子写真プロセス（以下、接触帯電プ
ロセスとも称す）に使用する電子写真感光体用基板、電
子写真感光体と、この感光体を備える電子写真装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】電子写真の技術は従来から複写機の分野
で発展を遂げ、最近ではレーザープリンターなどにも応
用され、従来のインパクトプリンターとは比較にならな
いほど高画質、高速、静粛性を誇っている。これらの装
置に搭載されている電子写真感光体は導電性の円筒状基
板表面に光導電層を設けて形成される。その光導電層の
材料としては光導電性の有機材料を含むものが主流であ
り、その層構成は機能分離型構造（積層型）が一般的で
ある。そのような積層型としては、アルミニウム基板上
に下引層（ＵＣＬ）、電荷発生層（ＣＧＬ）、電荷輸送
層（ＣＴＬ）の順序で積層した負帯電型の感光体がよく
知られている。ここで下引層としては通常、ポリアミド
系樹脂を主体にしたものがよく採用される。しかし、こ
の下引層は安価な反面、対環境性、特に湿度による特性
変動が顕著なため問題が多い。その対策としては、前述
のポリアミド系樹脂膜に代えて、アルミニウム基板を陽
極酸化処理して形成された陽極酸化皮膜を下引層とする
ことがある。特に、高温高湿環境下における信頼性につ
いては陽極酸化皮膜の方が有利といわれている。

【０００３】一方、従来、電子写真プロセスの帯電機構
は主にコロナ放電方式が用いられていたが、最近では、
帯電効率の向上や装置の小型化、オゾン発生量の削減等
を目的として、感光体表面に直接帯電部材を接触させて
帯電を行う接触帯電法を用いる装置が増加している。し
かし、接触帯電法では、基板表面の微少な凹凸に起因す
る感光層の絶縁破壊を生じ易いという問題がある。

【０００４】ここでいう接触帯電装置とは、電子写真プ
ロセスにおける帯電プロセスに用いられる接触帯電装置
の他に、転写プロセスに用いられる接触転写装置等の、
電子写真感光体に接触して帯電させる装置を含む。接触
転写においては、通常、紙などが感光体と接触転写装置
の間に介在するため、絶縁破壊は起こりにくいが、カッ
ト紙の場合、次の用紙との間において、直接、感光体と
接触転写装置が接触することを避けられないので、同様
に絶縁破壊を起こすことが問題となる。特にＯＨＰシ−
トを使用した場合、転写電圧が高くなるので、絶縁破壊
が起こり易い。具体的には、基板表面の微小な材料欠陥
や基板表面の切削時の微小なササクレなどが存在する
と、電圧印加時にその部分に電界が集中して絶縁破壊を
発生させる。この絶縁破壊が発生すると、反転現像方式
の場合においては、白紙部における黒点の原因となり、
正規現像においては、黒部における白点になるので、そ
れらが多い場合は致命的な印字障害となってしまう。特
に反転現像の場合には微少な黒点でも出現し易いので、
問題となる頻度が高い。

【０００５】このような絶縁破壊に基づく問題に対して
は、種々の改善案が提案されている。例えば特許第２６
６１４１８号には感光体に使用するアルミニウム基板の
表面を陽極酸化する方法が開示されている。しかしなが
ら、この問題に対しては、本発明者らによる詳細な調査
の結果、それらの方法のみで解決できるのはせいぜい直
径０．５ｍｍ以上の比較的大きい印字欠陥であって、実
使用上問題となる帯電時のリ−ク（絶縁破壊）による微
少な印字欠陥（直径０．１〜０．５ｍｍ程度）に対して
は、必ずしも十分な解決策とはいえなかった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上述べた
点に鑑みて、封孔処理されたアルミニウム陽極酸化皮膜
を表面に有する基板と、この基板表面上に感光層を備え
た電子写真感光体を、接触帯電プロセスにおいて使用す
る際に、直径０．１〜０．５ｍｍ程度の微少な絶縁破壊
の発生を防止することのできる電子写真感光体基板、電
子写真感光体、およびこの感光体を用いた電子写真装置
の提供を目的とする。さらには、特に反転現像方式の接
触帯電方式に使用される前記基板、電子写真感光体およ
び電子写真装置の提供を目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明に
よれば、表面にアルミニウム陽極酸化皮膜を有し、接触
帯電プロセスに用いられる電子写真感光体用基板におい
て、前記陽極酸化皮膜が、陰イオン界面活性剤を添加し
た封孔処理剤により封孔処理された膜である電子写真感
光体用基板とすることにより、前記目的が達成される。

【０００８】請求項２に記載の発明によれば、封孔処理
されたアルミニウム陽極酸化皮膜が、陰イオン界面活性
剤を、封孔堆積物の形成を妨害するに必要な量添加した
封孔処理剤により封孔処理が施された膜である電子写真
感光体用基板とすることが好ましい。

【０００９】請求項３に記載の発明によれば、陰イオン
界面活性剤としてリン酸エステル系界面活性剤を用いる
請求項１または２記載の電子写真感光体用基板とするこ
とが好ましい。

【００１０】請求項４に記載の発明によれば、リン酸エ
ステル系界面活性剤の水に対する濃度が０．１〜２．０
ｇ／ｌである請求項３記載の電子写真感光体用基板とす
ることが好適である。

【００１１】請求項５に記載の発明によれば、陰イオン
界面活性剤としてナフタレンスルホン酸のホルムアルデ
ヒド縮合物を用いる請求項１または２記載の電子写真感
光体用基板とすることが望ましい。

【００１２】請求項６に記載の発明によれば、ナフタレ
ンスルホン酸のホルムアルデヒド縮合物の水に対する濃
度が０．１〜３．０ｇ／ｌである請求項５記載の電子写
真感光体用基板とすることが望ましい。

【００１３】請求項７に記載の発明によれば、陰イオン
界面活性剤としてビスフェノ−ルＡスルホン酸のホルム
アルデヒド縮合物を用いることを特徴とする請求項１ま
たは２記載の電子写真感光体用基板とすることが適当で
ある。

【００１４】請求項８に記載の発明によれば、ビスフェ
ノ−ルＡスルホン酸のホルムアルデヒド縮合物の水に対
する濃度が０．２〜５．０ｇ／ｌである請求項７記載の
電子写真感光体用基板とすることが適切である。

【００１５】請求項９に記載の発明によれば、封孔処理
剤に酢酸ニッケルを添加する請求項１ないし７のいずれ
か一項に記載の電子写真感光体用基板とすることが好ま
しい。

【００１６】請求項１０に記載の発明によれば、請求項
１ないし９のいずれか一項に記載の電子写真感光体用基
板を用いる電子写真感光体とすることにより、前記目的
が達成される。

【００１７】請求項１１に記載の発明によれば、請求項
１０記載の電子写真感光体と接触帯電装置を備える電子
写真装置とすることにより、前記目的が達成され、請求
項１２に記載の発明によれば、反転現像方式である請求
項１１記載の電子写真装置とすることが好ましい。

【００１８】本発明にかかる詳しいメカニズムは不明で
あるが、アルミニウム陽極酸化皮膜の封孔処理におい
て、封孔処理剤に含まれる所定濃度の陰イオン界面活性
剤が、皮膜表面の封孔の均一性を調整し、電界が集中し
て絶縁破壊を起こす原因となる表面の封孔堆積物を形成
し難くするためと考えられる。具体的には前記界面活性
剤がアルミニウム陽極酸化皮膜の通電孔から溶出して封
孔液中に溶存する水和アルミニウム粉末の表面に吸着す
るか、またはアルミニウム陽極酸化皮膜表面に吸着する
ことにより、水和アルミニウムの各粉末の集合や陽極酸
化皮膜表面への堆積を阻止する結果、封孔堆積物が生成
し難くなるものと考えられる。さらに封孔処理剤に酢酸
ニッケルを添加する酢酸ニッケル封孔の場合も、本発明
にかかる界面活性剤により、加水分解された水酸化ニッ
ケルの、封孔表面への堆積が前述と同様に防止されると
考えられる。

【００１９】本発明にかかる界面活性剤とは、簡単に表
現すれば、一分子中に親水性部分と親油性部分を共に備
える化合物である。その性質は溶液や分散液中におい
て、溶媒と溶質または分散質との界面に吸着、配向し、
界面張力を低下させる作用を有する。この親油性部分が
一部解離した場合に示すイオン性により、それぞれ、陰
イオン、陽イオン、両性、非イオン界面活性剤などに大
別される。

【００２０】本発明にかかる陰イオン界面活性剤には、
カルボン酸塩系、スルホン酸塩系、硫酸エステル塩系、
りん酸エステル塩系、重合型高分子系、重縮合型高分子
系などがある。本発明においては、前記の分類に含まれ
るいずれの陰イオン界面活性剤も効果を有するが、特に
は、りん酸エステル系界面活性剤、重縮合型高分子系で
あるナフタレンスルホン酸ホルムアルデヒド縮合物が好
適である。

【００２１】具体的には、りん酸エステル系界面活性剤
としては、東邦化学工業（株）製フォスファノールＲＳ
６１０、旭電化工業（株）製アデカコールＰＳ，ＣＳ，
ＴＳ、花王（株）製エレクトロストリッパーＮ，Ｋ。

【００２２】ナフタレンスルホン酸のホルムアルデヒド
縮合物として、花王（株）製デモールＮ，ＲＮ，ＮＬ，
ＲＮ−Ｌ，Ｔ、三洋化成工業（株）製イオネットＤ−
２、東邦化学工業（株）製ルノックス１０００。

【００２３】ビスフェノールＡスルホン酸のホルムアル
デヒド縮合物として、センカ（株）製ＡＭＮ−１などが
挙げられる。これらの界面活性剤の封孔処理剤への添加
量は封孔堆積物の形成と密接な関係がある。本発明に必
要な添加量は各界面活性剤ごとに異なる。要は画像欠陥
につながる絶縁破壊を起こす程度の封孔堆積物の形成を
防ぐことができるかどうかで決まる。前述の陰イオン界
面活性剤の封孔処理剤への添加量は、純水に対して０．
０１〜１０ｇ／ｌの範囲となるように添加することが好
ましい。

【００２４】なお、特開平１０−３３３３４２号公報に
は、封孔処理後の洗浄液に界面活性剤を含有させる記載
があるが、この場合は、界面活性剤を含む洗浄液によっ
て前述のような堆積物を封孔時に溶解して無くすもので
はないので、相互の技術思想は全く異なるものである。

【００２５】また、特開平１１−８４７０５号公報には
００２３段落に「高温封孔処理および低温封孔処理、い
ずれの封孔処理工程においても、支持体表面の、処理液
との塗れ性向上の目的から処理液中に界面活性剤が含ま
れていてもよくまたは含まれていなくてもよい。」とあ
るが、その後に「界面活性剤が含まれていないことが好
ましい」とも記載されている。そのため、後述の実施例
の記載においては、封孔処理液に界面活性剤は含まれて
いない。

【００２６】さらに、前述の特許第２６６１４１８号公
報にも界面活性剤をフッ化ニッケルや酢酸ニッケルなど
の封孔液に添加してもよいという記載はあるが、実施例
において、具体的に添加された例は記載されていない。

【００２７】さらにまた、本願発明と同一発明者らの特
開平１１−３８６６２号公報には、封孔処理液に特定の
陰イオン界面活性剤を添加することにより、所定のアド
ミタンス値を実現し、皮膜の垂直方向の成長を抑制し、
均一かつ平滑で塗れ性の高い表面を、高い封孔度で有す
る感光体基板を提供する記載があり、前記の特定の陰イ
オン界面活性剤として、リン酸エステル系、ナフタレン
スルホン酸系ホルムアルデヒド縮合物、ビスフェノール
Ａスルホン酸系ホルムアルデヒド縮合物の開示がある。

【００２８】しかし、これらの特定の陰イオン界面活性
剤の封孔処理液に中における最適な添加量（濃度）と、
この封孔処理が施されたアルミニウム陽極酸化皮膜を備
えた感光体基板を用いた感光体を接触帯電プロセスを有
する電子写真装置で使用した場合に発生し易い絶縁破壊
との関係にかかる本発明については、その開示だけでな
く、示唆すら全くされていない。

【００２９】

【発明の実施の形態】以下、この発明にかかる電子写真
感光体用基板、感光体を用いた電子写真装置について、
図面を用いて詳細に説明する。

【００３０】この発明は以下の説明に限定されるもので
はない。図１は本発明にかかる接触帯電プロセス用の電
子写真感光体１０の模式的断面図であり、電子写真感光
体用基板１１上に形成されたアルミニウム陽極酸化皮膜
１２上に、感光層１３が積層されている。この感光層１
３は電荷発生層１３１上に電荷輸送層１３２が積層され
てなる。

【００３１】図２に接触帯電法を用いた電子写真プロセ
スを含む電子写真装置の概略図を示す。このプロセス
は、基板１１とその外周面上に被覆された感光層１３か
らなる電子写真感光体１０の周面上にローラ帯電部材
１、像露光手段３、現像器４、給紙ローラと給紙ガイド
５、転写帯電器（直接帯電型）６、クリーナ７、除電手
段８が配置されている。画像形成の方法は、まず、電子
写真感光体１０上に接触配置されている帯電用部材１に
図示しない電源から供給される電圧を印加して感光体１
０表面を帯電し、像露光手段３によって原稿に対応した
画像を感光体１０に像露光し、静電潜像を形成する。次
に、現像器４中のトナーを感光体１０に付着させること
により感光体１０上の静電潜像を現像（可視像化）す
る。さらに感光体１０上に形成されたトナー像を給紙ロ
ーラと給紙ガイド５を通して供給された紙などの転写材
上に転写帯電器６によって転写し、クリーナ７によっ
て、転写材に転写されずに感光体１０上に残った残トナ
ーを回収する。なお、感光層１３内部に残留電荷が残る
ような場合には、除電手段８によって感光体１０に適切
な電圧を印加して除電または光を用いた除電をしたほう
がよい。一方、トナー像が形成された転写材は搬送部９
によって図示しない定着器に送られてトナー像が定着さ
れる。

【００３２】この電子写真装置において、像露光手段３
の光源はハロゲン光、蛍光灯、レーザー光などを用いる
ことができる。また必要に応じて他の補助プロセスを加
えてもよい。本発明にかかる接触による帯電プロセスは
帯電プロセスだけでなく転写プロセスでもおこなわれ
る。

【００３３】このような電子写真装置としては、複写機
だけでなくレーザービームプリンタ、ファクシミリ、電
子写真製版システムなどがある。

【００３４】図２に示す帯電ローラ１として、例えば６
ｍｍφのステンレス棒からなる軸（芯材）を、抵抗率１
０⁸Ωｃｍの導電性ＥＰＤＭゴムを用いて１２ｍｍφと
なるように被覆し、さらに抵抗率１０¹⁰Ωｃｍのポリア
ミド樹脂からなる表面層を０．１μｍの厚さで形成した
ものが用いられる。この帯電ローラ１は感光体１０に適
切な圧力（帯電ローラの軸に５Ｎ／ｃｍを加重）で接触
しており、図示しない高圧電源からこの帯電ローラ１に
１．０ＫＶの直流電圧にピーク間電圧２．０ＫＶを重畳
した脈流電圧が印加され、感光体１０の表面が帯電され
る。なお、接触帯電部材の形状としては前記のローラの
他ブラシ状、ブレード状のものを用いることもできる。

【００３５】本発明にかかる電子写真感光体は、アルミ
ニウムの陽極酸化皮膜形成後、封孔処理を陰イオン界面
活性剤、特にはリン酸エステル系界面活性剤、ナフタレ
ンスルホン酸系ホルムアルデヒド縮合物、ビスフェノー
ルＡスルホン酸ホルムアルデヒド縮合物などのいずれか
を所定濃度含む処理液により適宜に行って得られる基板
に、感光層を形成することにより、作製される。

【００３６】次に、本発明にかかる電子写真感光体の具
体的構成を説明する。感光体には一般的に負帯電機能分
離積層型感光体、正帯電機能分離積層型感光体、さらに
正帯電単層型感光体などがあるが、ここでは本発明の好
適形態である負帯電機能分離積層型感光体を例にとり、
具体的に説明する。

【００３７】負帯電機能分離積層型感光体においては、
通常、導電性基板上に形成された下引層上に感光層が積
層されている。本発明においては、この下引層として、
アルミニウムの陽極酸化皮膜を形成し、特殊な封孔処理
を施したものである。かかる感光層は電荷発生層上に電
荷輸送層が積層されてなり、電荷発生層と電荷輸送層と
に機能分離した機能分離型である。

【００３８】導電性基板は感光体の電極としての役目と
同時に他の各層の支持体としての役目も持っており、円
筒状、板状、フィルム状のいずれでもよいアルミニウム
基板である。アルミニウムの材質としては、ＪＩＳ規定
の３００３、６０６３などのアルミニウム合金が好まし
い。このアルミニウム基板は表面に前記陽極酸化皮膜を
有する。

【００３９】電荷発生層は有機光導電性物質を真空蒸着
するか、または有機光導電性物質を樹脂バインダ−中に
分散させた材料を塗布して形成され、光を受容して正孔
電子対を発生する。ここで発生した正孔電子対は、感光
層に加えられた電界下、それぞれの極性に従ってしかる
べき感光層界面に移動する。電荷発生層からの正孔電子
のそれぞれの移動性は、その電場依存性が少なく、低電
場でも注入の良いことが望ましい。かかる電荷発生層に
用いる電荷発生物質として、下記に具体例Ｉ−１〜４と
して示すような各種金属、無金属フタロシアニン化合
物、多環キノン化合物、およびこれらの誘導体を用いる
ことができる。

【００４０】

【化１】

【００４１】電荷発生層用のバインダ−としてはポリカ
−ボネ−ト、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタ
ン、エポキシ、ポリビニルブチラ−ル、ポリビニルアセ
タ−ル、フェノキシ樹脂、シリコ−ン樹脂、アクリル樹
脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、酢酸ビニル
樹脂、ホルマ−ル樹脂、セルロ−ス樹脂、またはこれら
の共重合体、およびこれらのハロゲン化物、シアノエチ
ル化合物を用いることができる。電荷発生層の厚さは
０．１〜５μｍ、好ましくは１μｍ以下である。

【００４２】これらのフタロシアニン化合物の使用量は
樹脂バインダ−１０重量部に対し、１〜２００重量部、
好ましくは５〜５０重量部である。

【００４３】電荷輸送層は樹脂バインダ−中に有機電荷
輸送物質を分散させた材料からなる塗膜であり、暗所で
は絶縁層として感光体の電荷を保持し、光受容時には電
荷発生層から注入される電荷を輸送する機能を有する。
電荷輸送層における電荷輸送物質としては、下記に具体
例ＩＩ−１〜７として示すように各種ヒドラゾン、スチ
リル、ジアミン、ブタジエン、インド−ル化合物および
これらの混合物を用いることができる。

【００４４】

【化２】

【００４５】電荷輸送層のバインダ−としてはポリカ−
ボネ−ト樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリフェニレンエ−
テル樹脂、アクリル樹脂などが公知の樹脂として検討さ
れているが、膜強度ならびに耐刷性面でポリカ−ボネ−
ト樹脂が現状最も優れた材料系として広く実用に供され
ている。かかるポリカ−ボネ−ト樹脂としては、下記に
具体例ＩＩＩ−１〜２として示すようなビスフェノ−ル
Ａ型、ビスフェノ−ルＺ型等および各種共重合体からな
る樹脂が挙げられる。

【００４６】

【化３】

【００４７】かかるポリカ−ボネ−ト樹脂の平均分子量
範囲は１万〜１０万である。さらに、電荷輸送層に添加
する酸化防止剤としては、下記ＩＶ−１〜４として示す
ような酸化防止剤の単独または適宜組み合わせて用いる
ことができる。電荷輸送層の厚さは１０〜５０μｍの範
囲が望ましい。

【００４８】

【化４】

【００４９】電荷発生層、電荷輸送層には感度の向上や
残留電位の減少、あるいは耐環境性や有害な光に対する
安定性向上などを目的として、必要に応じて電子受容性
物質や酸化防止剤、光安定剤等を添加することができ
る。また、必要に応じて上述の感光層上に耐環境性や機
械的強度を向上させる目的で、表面保護層を設けても良
い。この表面保護層は光の透過を著しく妨げないものが
望ましい。

【００５０】

【実施例】以下、本発明について、実施例に基づいて詳
細に説明する。〈感光体グループ１〉アルミニウム管（ＪＩＳ−Ａ６０
６３材）を旋盤で所望の寸法（直径：３０ｍｍ、全長３
３５ｍｍ）および所定の表面粗さのアルミニウム素管に
切削加工し、この素管をアルカリ洗剤（トップアルクリ
−ン１０１：奥野製薬工業（株）濃度３０ｇ／ｌ、６
０℃）で３分間、脱脂洗浄した後、純水で充分に置換洗
浄する。さらに、エッチング剤（トップアルソフト１０
８：奥野製薬工業（株）濃度５０ｇ／ｌ、５０℃）で
２０秒間エッチング処理し、純水で充分に洗浄した後、
中和剤（トップデスマットＮ２０：奥野製薬工業
（株）：１００ｍｌ／ｌ、常温）で中和処理をする。

【００５１】水洗の後、遊離硫酸濃度１８０ｇ／ｌ、温
度２０℃、電流密度０．７４Ａ／ｄｍ²、液中アルミニ
ウム濃度３ｇ／ｌの条件で電解処理し、アルミニウム陽
極酸化皮膜を８μｍの厚さに形成した。

【００５２】続いて行う封孔処理については、本発明の
効果を確認するために、界面活性剤としてりん酸エステ
ル系界面活性剤（商品名：東邦化学工業（株）製フォス
ファノ−ルＲＳ−６１０）を純水に対し、各０．０１、
０．０５、０．１、１．０、２．０、２．５、３．０、
５．０ｇ／ｌ（計８種−実験例１−１ないし実験例１−
８）になるように添加し、酢酸アンモニウムでｐＨを５
〜８に調整した純水封孔処理液を用意し、前記各陽極酸
化皮膜付きのアルミニウム素管を、温度を９０℃に保っ
て１０分間処理し、純水ですすいだ。

【００５３】得られた各アルミニウム素管試料の表面を
アルカリ洗剤（カストロ−ル４５０：カストロ−ル
（株））の２％液を用い、ナイロンブラシにより１分間
こすり洗浄を行い、純水ですすぎ、６０℃で乾燥させ
た。それらの素管試料について、以下の組成からなる材
料を分散機で分散して調整した電荷発生層（ＣＧＬ）用
塗布液を用いて浸漬塗工し、塗工後、１００℃で３０分
間乾燥して膜厚０．３μｍのＣＧＬを形成した。Ｘ型無金属フタロシアニン（Ｉ−１）１部塩化ビニル系共重合樹脂（ＭＲ−１１０日本ゼオン（株））１部塩化メチレン９８部

【００５４】次に、その上に、以下の組成の電荷輸送層
（ＣＴＬ）用塗布液を浸漬塗工し、１００℃、３０分間
乾燥して膜厚２５μｍの電荷輸送層を形成した。ヒドラゾン系電荷輸送物質：前記式（ＩＩ−１）の化合物１０部バインダ−樹脂：ビスフェノ−ルＺ型ポリカ−ボネ−ト前記式（ＩＩＩ−２）（パンライトＴＳ２０５０帝人化成（株））１０部酸化防止剤：ＢＨＴ前記式（ＩＶ−１）の化合物０．５部塩化メチレン８０部以上のようにして、積層型有機感光体を作製した。

【００５５】〈感光体グループ２〉純水封孔処理の界面
活性剤として、りん酸エステル系界面活性剤の代わり
に、ナフタレンスルホン酸のホルムアルデヒド縮合物
（商品名：花王（株）製デモ−ルＮ）を純水に対して各
０．０５、０．１、１．０、２．０、３．０、４．０、
８．０、１０．０ｇ／ｌ（計８種−実験例２−１ないし
実験例２−８）になるように添加した以外は〈感光体グ
ループ１〉と同様におこなった。

【００５６】〈感光体グループ３〉純水封孔処理の界面
活性剤として、りん酸エステル系界面活性剤の代わり
に、ビスフェノ−ルＡスルホン酸のホルムアルデヒド縮
合物（商品名：（株）センカ製ＡＭＮ−１）を純水に対
して各０．１、０．２、１．０、３．０、５．０、６．
０、１０．０、２０．０ｇ／ｌ（計８種−実験例３−１
ないし実験例３−８）になるように添加した以外は〈感
光体グループ１〉と同様におこなった。

【００５７】〈感光体グループ４〉純水封孔処理の界面
活性剤として、りん酸エステル系界面活性剤の代わり
に、脂肪族カルボン酸塩界面活性剤（商品名：花王
（株）製ＮＳソ−プ）を純水に対して各０．０１、０．
０５、０．１、０．５、１．０、５．０、１０．０、２
０．０ｇ／ｌ（計８種−実験例４−１ないし実験例４−
８）になるように添加した以外は〈感光体グループ１〉
と同様におこなった。

【００５８】（比較実験例１）封孔処理の界面活性剤と
してのりん酸エステル系界面活性剤を入れなかった以外
は〈感光体グループ１〉と同様におこなった。

【００５９】〈感光体グループ５〉封孔処理の封孔処理
剤として、酢酸ニッケル（Ｎｉ（ＣＨ₃ＣＯＯ）₂）を純
水に対して３０ｇ／ｌになるように添加して、いわゆ
る、酢酸ニッケル封孔とした以外は〈感光体グループ
１〉と同様に行った。（計８種−実験例５−１ないし実
験例５−８）

【００６０】〈感光体グループ６〉封孔処理の封孔処理
剤として、酢酸ニッケルを純水に対して３０ｇ／ｌにな
るように添加した以外は〈感光体グループ２〉と同様に
行った。（計８種−実験例６−１ないし実験例６−８）

【００６１】〈感光体グループ７〉純水封孔処理の封孔
処理剤として、酢酸ニッケルを純水に対して３０ｇ／ｌ
になるように添加した以外は〈感光体グループ３〉と同
様に行った。（計８種−実験例７−１ないし実験例７−
８）

【００６２】〈感光体グループ８〉純水封孔処理の封孔
処理剤として、酢酸ニッケルを純水に対して３０ｇ／ｌ
になるように添加した以外は〈感光体グループ４〉と同
様に行った。（計８種−実験例８−１ないし実験例８−
８）

【００６３】（比較実験例２）封孔処理の封孔処理剤と
して、酢酸ニッケルを純水に対して３０ｇ／ｌになるよ
うに添加した以外は比較実験例１と同様に行った。

【００６４】（評価方法）以上の各実験例、比較実験例
において作製された各感光体試料を、接触帯電装置によ
って帯電を行い、反転現像方式の半導体レ−ザ−プリン
タ−であるヒューレット・パッカード社製ＬＡＳＥＲ
ＪＥＴ５に装着し、印字画像品質の評価を行った。

【００６５】印字画像品質の評価は、温度２０℃湿度５
５％の環境で、Ａ４普通紙を用い、印字領域約５％の画
像を１枚印字後、白べた画像を印字して、白べた印字画
像１００ｃｍ²の範囲に存在する直径約０．１〜０．５
ｍｍの黒点の数を目視にて計測した。黒点の数が０個の
ものを総合判定○とし、１〜１０個のものを△、１１個
以上のものを×とした。以上の評価結果を下記表１、表
２に示す。

【００６６】

【表１】

【００６７】

【表２】

【００６８】表１、表２から、純水封孔にかかる実験例
１−１〜１−８のりん酸エステル系界面活性剤について
は、界面活性剤濃度が０．０１〜５．０ｇ／ｌにおい
て、印字欠陥（黒点）数の判定が△または○であり、本
発明にかかる封孔堆積物の形成を妨害する作用が奏し
て、絶縁破壊の防止に効果があることを示している。特
に、０．１〜２．０ｇ／ｌにおいて、黒点が全く無いと
いう著しく優れた効果を示していることが明らかであ
る。

【００６９】同様に〈感光体グループ２〉〜〈感光体グ
ループ８〉においても、それぞれ界面活性剤の種類によ
って、効果を示す濃度範囲および効果の程度は異なる
が、界面活性剤を使用しない比較実験例に比べて本発明
にかかる実験例は優れた効果を有することがわかる。そ
れぞれ、本発明の効果が確認される界面活性剤の濃度範
囲は、純水封孔にかかる〈感光体グループ２〉では、濃
度範囲０．０５〜１０．０ｇ／ｌにおいて効果が認めら
れ、０．１〜３．０ｇ／ｌにおいて著しく優れた効果が
認められる。純水封孔にかかる〈感光体グループ３〉で
は、濃度範囲０．１〜２０．０ｇ／ｌにおいて効果が認
められ、０．２〜５．０ｇ／ｌにおいて著しく優れた効
果が認められる。純水封孔にかかる〈感光体グループ
４〉では、濃度範囲０．０１〜２０．０ｇ／ｌにおいて
効果が認められる。酢酸ニッケル封孔にかかる〈感光体
グループ５〉では、濃度範囲０．０５〜３．０ｇ／ｌに
おいて効果が認められ、０．１〜２．０ｇ／ｌにおいて
著しく優れた効果が認められる。酢酸ニッケル封孔にか
かる〈感光体グループ６〉では、濃度範囲０．１〜４．
０ｇ／ｌにおいて効果が認められ、０．１〜３．０ｇ／
ｌにおいて著しく優れた効果が認められる。酢酸ニッケ
ル封孔にかかる〈感光体グループ７〉では、濃度範囲
０．１〜６．０ｇ／ｌにおいて効果が認められ、０．２
〜５．０ｇ／ｌにおいて著しく優れた効果が認められ
る。酢酸ニッケル封孔にかかる〈感光体グループ８〉で
は、濃度１．０ｇ／ｌにおいて効果が認められる。

【００７０】

【発明の効果】本発明によれば、封孔処理されたアルミ
ニウム陽極酸化皮膜を表面に有する電子写真感光体用基
板と、この基板表面上に感光層を備えた電子写真感光体
において、前記封孔処理されたアルミニウム陽極酸化皮
膜が、陰イオン界面活性剤を添加した封孔処理剤により
封孔処理が施された膜である電子写真感光体用基板およ
び電子写真感光体とすることにより、接触帯電時の感光
層における微少な絶縁破壊をも防止することが可能とな
り、実用上有害となる直径約０．１〜０．５ｍｍ以の黒
点、白点等の印字障害を抑制できる。さらには、特に反
転現像方式の前記接触帯電プロセスに使用される前記同
様の電子写真感光体および電子写真装置において、効果
が大きい。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる電子写真感光体の要部断面模式
図である。

【図２】本発明にかかる電子写真感光体を使用した電子
写真装置の概略構成図である。

【符号の説明】

１帯電ローラ２高圧電源１１基板１２アルミニウム陽極酸化皮膜１３１電荷発生層１３２電荷輸送層１３感光層１０電子写真感光体２０電子写真装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者仙庭直幸長野県松本市筑摩四丁目18番１号富士電機画像デバイス株式会社内 (72)発明者小橋勝長野県松本市筑摩四丁目18番１号富士電機画像デバイス株式会社内 (72)発明者山崎幹夫長野県松本市筑摩四丁目18番１号富士電機画像デバイス株式会社内 (72)発明者西牧慎一郎長野県松本市筑摩四丁目18番１号富士電機画像デバイス株式会社内 (72)発明者中岸豊大阪府大阪市鶴見区放出東１丁目10−25 奥野製薬工業株式会社内 (72)発明者坂口雅章大阪府大阪市鶴見区放出東１丁目10−25 奥野製薬工業株式会社内Ｆターム(参考） 2H035 CA07 CB02 CB03 2H068 AA52 BA61 CA33 EA07

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】表面にアルミニウム陽極酸化皮膜を有し、
接触帯電プロセスに用いられる電子写真感光体用基板に
おいて、前記陽極酸化皮膜が、陰イオン界面活性剤を添
加した封孔処理剤により封孔処理された膜であることを
特徴とする電子写真感光体用基板。
【請求項２】封孔処理されたアルミニウム陽極酸化皮
膜が、陰イオン界面活性剤を、封孔堆積物の形成を妨害
するに必要な量添加した封孔処理剤により封孔処理が施
された膜であることを特徴とする請求項１記載の電子写
真感光体用基板。
【請求項３】陰イオン界面活性剤としてリン酸エステ
ル系界面活性剤を用いることを特徴とする請求項１また
は２記載の電子写真感光体用基板。
【請求項４】リン酸エステル系界面活性剤の水に対す
る濃度が０．１〜２．０ｇ／ｌであることを特徴とする
請求項３記載の電子写真感光体用基板。
【請求項５】陰イオン界面活性剤としてナフタレンス
ルホン酸のホルムアルデヒド縮合物を用いることを特徴
とする請求項１または２記載の電子写真感光体用基板。
【請求項６】ナフタレンスルホン酸のホルムアルデヒ
ド縮合物の水に対する濃度が０．１〜３．０ｇ／ｌであ
ることを特徴とする請求項５記載の電子写真感光体用基
板。
【請求項７】陰イオン界面活性剤としてビスフェノ−
ルＡスルホン酸のホルムアルデヒド縮合物を用いること
を特徴とする請求項１または２記載の電子写真感光体用
基板。
【請求項８】ビスフェノ−ルＡスルホン酸のホルムア
ルデヒド縮合物の水に対する濃度が０．２〜５．０ｇ／
ｌであることを特徴とする請求項７記載の電子写真感光
体用基板。
【請求項９】封孔処理剤に酢酸ニッケルを添加するこ
とを特徴とする請求項１ないし７のいずれか一項に記載
の電子写真感光体用基板。
【請求項１０】請求項１ないし９のいずれか一項に記
載の電子写真感光体用基板を用いる電子写真感光体。
【請求項１１】請求項１０記載の電子写真感光体と接
触帯電装置を備えることを特徴とする電子写真装置。
【請求項１２】反転現像方式であることを特徴とする
請求項１１記載の電子写真装置。