JP2002238872A - 静磁界補正方法およびｍｒｉ装置 - Google Patents
静磁界補正方法およびｍｒｉ装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＭＲＩ装置の静磁界強度および均一度を補正
する。 【解決手段】 撮像領域を挟んだ位置にある一対の支柱
ヨークＰｙに付加したＢ０補正コイル２０にそれぞれＢ
０補正コイル駆動電源１９ａ，１９ｂから補正電流Ｉ
ａ，Ｉｂを供給し、一対のＢ０補正コイル２０で方向お
よび強度の少なくとも一方が異なる補正磁界Ｂ０ａ，Ｂ
０ｂを発生させ、永久磁石Ｍで発生する静磁場Ｂ０ｍに
加える。 【効果】 補正電流Ｉａ，Ｉｂの０次成分Ｉｏで撮影領
域の中心における静磁場強度の過不足を補償すると共に
１次成分ｉで１次の静磁場不均一を補償することが出来
る。
する。 【解決手段】 撮像領域を挟んだ位置にある一対の支柱
ヨークＰｙに付加したＢ０補正コイル２０にそれぞれＢ
０補正コイル駆動電源１９ａ，１９ｂから補正電流Ｉ
ａ，Ｉｂを供給し、一対のＢ０補正コイル２０で方向お
よび強度の少なくとも一方が異なる補正磁界Ｂ０ａ，Ｂ
０ｂを発生させ、永久磁石Ｍで発生する静磁場Ｂ０ｍに
加える。 【効果】 補正電流Ｉａ，Ｉｂの０次成分Ｉｏで撮影領
域の中心における静磁場強度の過不足を補償すると共に
１次成分ｉで１次の静磁場不均一を補償することが出来
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、静磁界補正方法お
よびＭＲＩ（Ｍagnetic Ｒesonance Ｉmaging）装置に
関し、さらに詳しくは、ＭＲＩ装置の静磁界の強度を補
正するための静磁界補正方法、ＭＲＩ装置の静磁界の均
一度を補正するための静磁界補正方法およびそれらの静
磁界補正方法を好適に実施しうるＭＲＩ装置に関する。
よびＭＲＩ（Ｍagnetic Ｒesonance Ｉmaging）装置に
関し、さらに詳しくは、ＭＲＩ装置の静磁界の強度を補
正するための静磁界補正方法、ＭＲＩ装置の静磁界の均
一度を補正するための静磁界補正方法およびそれらの静
磁界補正方法を好適に実施しうるＭＲＩ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】永久磁石型ＭＲＩ装置においては、永久
磁石の磁気特性のばらつきが大きいため、複数の小型磁
石を付加して、目標の静磁界強度になるように補正して
いる。
磁石の磁気特性のばらつきが大きいため、複数の小型磁
石を付加して、目標の静磁界強度になるように補正して
いる。
【０００３】他方、ＭＲＩ装置において、十分な画質を
確保するために、静磁界の均一度は非常に重要である。
特に、近年開発が進んでいるＥＰＩ（Echo Plannar Ima
ging）法等は静磁界均一度に非常に敏感なので、静磁界
均一度を十分高くする必要がある。このため、シム材や
整磁板を用いて、静磁界均一度を補正している。
確保するために、静磁界の均一度は非常に重要である。
特に、近年開発が進んでいるＥＰＩ（Echo Plannar Ima
ging）法等は静磁界均一度に非常に敏感なので、静磁界
均一度を十分高くする必要がある。このため、シム材や
整磁板を用いて、静磁界均一度を補正している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】複数の小型磁石を付加
する従来の静磁界強度の補正方法では、迅速な補正や微
細な補正が難かしい問題点がある。また、例えばＮdＦe
Ｂ磁石は温度による磁気特性の変動が大きいため勾配コ
イルの発熱等の影響で静磁界強度が変動し、さらにＭＲ
Ｉ装置の近くで金属塊が動いたり（例えば車両の通過）
すると静磁界強度が変動するが、このような静磁界強度
の変動に対処できない問題点がある。
する従来の静磁界強度の補正方法では、迅速な補正や微
細な補正が難かしい問題点がある。また、例えばＮdＦe
Ｂ磁石は温度による磁気特性の変動が大きいため勾配コ
イルの発熱等の影響で静磁界強度が変動し、さらにＭＲ
Ｉ装置の近くで金属塊が動いたり（例えば車両の通過）
すると静磁界強度が変動するが、このような静磁界強度
の変動に対処できない問題点がある。
【０００５】他方、シム材や整磁板を用いる従来の静磁
界均一度の補正方法では、迅速な補正や微細な補正が難
かしい問題点がある。
界均一度の補正方法では、迅速な補正や微細な補正が難
かしい問題点がある。
【０００６】そこで、本発明の第１の目的は、ＭＲＩ装
置の静磁界強度を迅速に且つ微細に補正することが出来
る静磁界補正方法およびその静磁界補正方法を好適に実
施しうるＭＲＩ装置を提供することにある。また、本発
明の第２の目的は、ＭＲＩ装置の静磁界均一度を迅速に
且つ微細に補正することが出来る静磁界補正方法および
その静磁界補正方法を好適に実施しうるＭＲＩ装置を提
供することにある。
置の静磁界強度を迅速に且つ微細に補正することが出来
る静磁界補正方法およびその静磁界補正方法を好適に実
施しうるＭＲＩ装置を提供することにある。また、本発
明の第２の目的は、ＭＲＩ装置の静磁界均一度を迅速に
且つ微細に補正することが出来る静磁界補正方法および
その静磁界補正方法を好適に実施しうるＭＲＩ装置を提
供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】第１の観点では、ＭＲＩ
装置の磁気回路を構成するヨークに磁界補正コイルを付
設し、前記磁界補正コイルに補正電流を流して補正磁界
を発生させ、撮像領域の静磁界に補正磁界を加えること
で撮像領域の静磁界を補正することを特徴とする静磁界
補正方法を提供する。上記第１の観点による磁界変動測
定方法では、ヨークに磁界補正コイルを付設し、補正磁
界を加えるので、補正電流を調整することで、静磁界強
度および静磁界均一性を迅速に且つ微細に補正すること
が出来る。
装置の磁気回路を構成するヨークに磁界補正コイルを付
設し、前記磁界補正コイルに補正電流を流して補正磁界
を発生させ、撮像領域の静磁界に補正磁界を加えること
で撮像領域の静磁界を補正することを特徴とする静磁界
補正方法を提供する。上記第１の観点による磁界変動測
定方法では、ヨークに磁界補正コイルを付設し、補正磁
界を加えるので、補正電流を調整することで、静磁界強
度および静磁界均一性を迅速に且つ微細に補正すること
が出来る。
【０００８】第２の観点では、本発明は、上記構成の静
磁界補正方法において、第１ヨークに第１磁界補正コイ
ルを付設し、前記第１ヨークに対して撮像領域を挟んだ
位置にある第２ヨークに第２磁界補正コイルを付設し、
前記第１磁界補正コイルで第１補正磁界を発生させ、前
記第２磁界補正コイルで前記第１補正磁界と同方向・等
強度の第２補正磁界を発生させることを特徴とする静磁
界補正方法を提供する。上記第２の観点による磁界変動
測定方法では、撮像領域を挟んだ位置にある一対のヨー
クで同方向・等強度の補正磁界を発生させるので、静磁
界強度を補正することが出来る。
磁界補正方法において、第１ヨークに第１磁界補正コイ
ルを付設し、前記第１ヨークに対して撮像領域を挟んだ
位置にある第２ヨークに第２磁界補正コイルを付設し、
前記第１磁界補正コイルで第１補正磁界を発生させ、前
記第２磁界補正コイルで前記第１補正磁界と同方向・等
強度の第２補正磁界を発生させることを特徴とする静磁
界補正方法を提供する。上記第２の観点による磁界変動
測定方法では、撮像領域を挟んだ位置にある一対のヨー
クで同方向・等強度の補正磁界を発生させるので、静磁
界強度を補正することが出来る。
【０００９】第３の観点では、本発明は、上記構成の静
磁界補正方法において、第１ヨークに第１磁界補正コイ
ルを付設し、前記第１ヨークに対して撮像領域を挟んだ
位置にある第２ヨークに第２磁界補正コイルを付設し、
前記第１磁界補正コイルで第１補正磁界を発生させ、前
記第２磁界補正コイルで前記第１補正磁界と方向および
強度の少なくとも一方が異なる第２補正磁界を発生させ
ることを特徴とする静磁界補正方法を提供する。上記第
３の観点による磁界変動測定方法では、撮像領域を挟ん
だ位置にある一対のヨークで方向および強度の少なくと
も一方が異なる補正磁界を発生させるので、静磁界強度
および静磁界均一度を補正することが出来る。
磁界補正方法において、第１ヨークに第１磁界補正コイ
ルを付設し、前記第１ヨークに対して撮像領域を挟んだ
位置にある第２ヨークに第２磁界補正コイルを付設し、
前記第１磁界補正コイルで第１補正磁界を発生させ、前
記第２磁界補正コイルで前記第１補正磁界と方向および
強度の少なくとも一方が異なる第２補正磁界を発生させ
ることを特徴とする静磁界補正方法を提供する。上記第
３の観点による磁界変動測定方法では、撮像領域を挟ん
だ位置にある一対のヨークで方向および強度の少なくと
も一方が異なる補正磁界を発生させるので、静磁界強度
および静磁界均一度を補正することが出来る。
【００１０】第４の観点では、本発明は、上記構成の静
磁界補正方法において、ＦＩＤ信号を収集し、前記ＦＩ
Ｄ信号より共鳴周波数を求め、前記共鳴周波数とＲＦ送
受信系との周波数ずれを求め、前記周波数ずれから補正
電流を決定することを特徴とする静磁界補正方法を提供
する。上記第４の観点による磁界変動測定方法では、共
鳴周波数を実測して周波数ずれから補正電流を決定する
ので、静磁界強度および静磁界均一度を正確に補正する
ことが出来る。
磁界補正方法において、ＦＩＤ信号を収集し、前記ＦＩ
Ｄ信号より共鳴周波数を求め、前記共鳴周波数とＲＦ送
受信系との周波数ずれを求め、前記周波数ずれから補正
電流を決定することを特徴とする静磁界補正方法を提供
する。上記第４の観点による磁界変動測定方法では、共
鳴周波数を実測して周波数ずれから補正電流を決定する
ので、静磁界強度および静磁界均一度を正確に補正する
ことが出来る。
【００１１】第５の観点では、本発明は、上記構成の静
磁界補正方法において、小型ファントムと小型コイルと
を組み合わせたＮＭＲプローブを撮像領域の近傍に設置
しておき、前記小型コイルからＲＦパルスを送信し前記
小型ファントムからのＦＩＤ信号を前記小型コイルで受
信し、前記ＦＩＤ信号から共鳴周波数を求めることを特
徴とする静磁界補正方法を提供する。上記第５の観点に
よる磁界変動測定方法では、ＮＭＲプローブを用いて共
鳴周波数を実測するので、患者の撮影中でも撮影に影響
を与えずに静磁界強度および静磁界均一度を補正するこ
とが出来る。よって、特に変動を補正するのに好適であ
る。
磁界補正方法において、小型ファントムと小型コイルと
を組み合わせたＮＭＲプローブを撮像領域の近傍に設置
しておき、前記小型コイルからＲＦパルスを送信し前記
小型ファントムからのＦＩＤ信号を前記小型コイルで受
信し、前記ＦＩＤ信号から共鳴周波数を求めることを特
徴とする静磁界補正方法を提供する。上記第５の観点に
よる磁界変動測定方法では、ＮＭＲプローブを用いて共
鳴周波数を実測するので、患者の撮影中でも撮影に影響
を与えずに静磁界強度および静磁界均一度を補正するこ
とが出来る。よって、特に変動を補正するのに好適であ
る。
【００１２】第６の観点では、本発明は、上記構成の静
磁界補正方法において、前記磁気回路を構成する部材の
温度を計測し、温度特性より共鳴周波数を求め、前記共
鳴周波数と目標周波数との周波数差を求め、前記周波数
差から補正電流を決定することを特徴とする静磁界補正
方法を提供する。上記第６の観点による磁界変動測定方
法では、温度を実測し温度特性から補正電流を決定する
ので、特に温度による変動を補正するのに好適である。
磁界補正方法において、前記磁気回路を構成する部材の
温度を計測し、温度特性より共鳴周波数を求め、前記共
鳴周波数と目標周波数との周波数差を求め、前記周波数
差から補正電流を決定することを特徴とする静磁界補正
方法を提供する。上記第６の観点による磁界変動測定方
法では、温度を実測し温度特性から補正電流を決定する
ので、特に温度による変動を補正するのに好適である。
【００１３】第７の観点では、本発明は、磁気回路を構
成するヨークと、前記ヨークに付設され補正磁界を発生
させる磁界補正コイルと、前記磁界補正コイルに補正電
流を供給する磁界補正コイル用電源とを具備したことを
特徴とするＭＲＩ装置を提供する。上記第７の観点によ
るＭＲＩ装置では、前記第１の観点による磁界変動測定
方法を好適に実施しうる。
成するヨークと、前記ヨークに付設され補正磁界を発生
させる磁界補正コイルと、前記磁界補正コイルに補正電
流を供給する磁界補正コイル用電源とを具備したことを
特徴とするＭＲＩ装置を提供する。上記第７の観点によ
るＭＲＩ装置では、前記第１の観点による磁界変動測定
方法を好適に実施しうる。
【００１４】第８の観点では、本発明は、上記構成のＭ
ＲＩ装置において、撮像領域を挟んだ位置にある第１ヨ
ークおよび第２ヨークと、前記第１ヨークに付設され第
１補正磁界を発生させる第１磁界補正コイルと、前記第
２ヨークに付設され前記第１補正磁界と同方向・等強度
の第２補正磁界を発生させるべく前記第１磁界補正コイ
ルと直列接続された第２磁界補正コイルと、前記第１磁
界補正コイルおよび前記第２磁界補正コイルの直列回路
に補正電流を供給する磁界補正コイル用電源とを具備し
たことを特徴とするＭＲＩ装置を提供する。上記第８の
観点によるＭＲＩ装置では、前記第２の観点による磁界
変動測定方法を好適に実施しうる。
ＲＩ装置において、撮像領域を挟んだ位置にある第１ヨ
ークおよび第２ヨークと、前記第１ヨークに付設され第
１補正磁界を発生させる第１磁界補正コイルと、前記第
２ヨークに付設され前記第１補正磁界と同方向・等強度
の第２補正磁界を発生させるべく前記第１磁界補正コイ
ルと直列接続された第２磁界補正コイルと、前記第１磁
界補正コイルおよび前記第２磁界補正コイルの直列回路
に補正電流を供給する磁界補正コイル用電源とを具備し
たことを特徴とするＭＲＩ装置を提供する。上記第８の
観点によるＭＲＩ装置では、前記第２の観点による磁界
変動測定方法を好適に実施しうる。
【００１５】第９の観点では、本発明は、上記構成のＭ
ＲＩ装置において、撮像領域を挟んだ位置にある第１ヨ
ークおよび第２ヨークと、前記第１ヨークに付設され第
１補正磁界を発生させる第１磁界補正コイルと、前記第
２ヨークに付設され第２補正磁界を発生させる第２磁界
補正コイルと、前記第１磁界補正コイルに第１補正電流
を供給する第１磁界補正コイル用電源と、前記第２磁界
補正コイルに第２補正電流を供給する第２磁界補正コイ
ル用電源とを具備したことを特徴とするＭＲＩ装置を提
供する。上記第９の観点によるＭＲＩ装置では、前記第
３の観点による磁界変動測定方法を好適に実施しうる。
ＲＩ装置において、撮像領域を挟んだ位置にある第１ヨ
ークおよび第２ヨークと、前記第１ヨークに付設され第
１補正磁界を発生させる第１磁界補正コイルと、前記第
２ヨークに付設され第２補正磁界を発生させる第２磁界
補正コイルと、前記第１磁界補正コイルに第１補正電流
を供給する第１磁界補正コイル用電源と、前記第２磁界
補正コイルに第２補正電流を供給する第２磁界補正コイ
ル用電源とを具備したことを特徴とするＭＲＩ装置を提
供する。上記第９の観点によるＭＲＩ装置では、前記第
３の観点による磁界変動測定方法を好適に実施しうる。
【００１６】第１０の観点では、本発明は、上記構成の
ＭＲＩ装置において、ＦＩＤ信号を収集し、前記ＦＩＤ
信号より共鳴周波数を求め、前記共鳴周波数とＲＦ送受
信系との周波数ずれを求め、前記周波数ずれから補正電
流を決定する補正電流決定手段を具備したことを特徴と
するＭＲＩ装置を提供する。上記第１０の観点によるＭ
ＲＩ装置では、前記第４の観点による磁界変動測定方法
を好適に実施しうる。
ＭＲＩ装置において、ＦＩＤ信号を収集し、前記ＦＩＤ
信号より共鳴周波数を求め、前記共鳴周波数とＲＦ送受
信系との周波数ずれを求め、前記周波数ずれから補正電
流を決定する補正電流決定手段を具備したことを特徴と
するＭＲＩ装置を提供する。上記第１０の観点によるＭ
ＲＩ装置では、前記第４の観点による磁界変動測定方法
を好適に実施しうる。
【００１７】第１１の観点では、本発明は、上記構成の
ＭＲＩ装置において、撮像領域の近傍に設置された、小
型ファントムと小型コイルとを組み合わせたＮＭＲプロ
ーブを具備し、前記補正電流決定手段は、前記小型コイ
ルからＲＦパルスを送信し前記小型ファントムからのＦ
ＩＤ信号を前記小型コイルで受信し、前記ＦＩＤ信号か
ら共鳴周波数を求めることを特徴とするＭＲＩ装置を提
供する。上記第１１の観点によるＭＲＩ装置では、前記
第５の観点による磁界変動測定方法を好適に実施しう
る。
ＭＲＩ装置において、撮像領域の近傍に設置された、小
型ファントムと小型コイルとを組み合わせたＮＭＲプロ
ーブを具備し、前記補正電流決定手段は、前記小型コイ
ルからＲＦパルスを送信し前記小型ファントムからのＦ
ＩＤ信号を前記小型コイルで受信し、前記ＦＩＤ信号か
ら共鳴周波数を求めることを特徴とするＭＲＩ装置を提
供する。上記第１１の観点によるＭＲＩ装置では、前記
第５の観点による磁界変動測定方法を好適に実施しう
る。
【００１８】第１２の観点では、本発明は、上記構成の
ＭＲＩ装置において、前記磁気回路を構成する部材の温
度を計測する温度センサと、温度特性より共鳴周波数を
求め、前記共鳴周波数と目標周波数との周波数差を求
め、前記周波数差から補正電流を決定する補正電流決定
手段とを具備したことを特徴とするＭＲＩ装置を提供す
る。上記第１２の観点によるＭＲＩ装置では、前記第６
の観点による磁界変動測定方法を好適に実施しうる。
ＭＲＩ装置において、前記磁気回路を構成する部材の温
度を計測する温度センサと、温度特性より共鳴周波数を
求め、前記共鳴周波数と目標周波数との周波数差を求
め、前記周波数差から補正電流を決定する補正電流決定
手段とを具備したことを特徴とするＭＲＩ装置を提供す
る。上記第１２の観点によるＭＲＩ装置では、前記第６
の観点による磁界変動測定方法を好適に実施しうる。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、図を参照して本発明の実施
の形態を説明する。なお、これにより本発明が限定され
るものではない。
の形態を説明する。なお、これにより本発明が限定され
るものではない。
【００２０】−第１の実施形態− 第１の実施形態は、静磁界強度のみを補正する（静磁界
均一度は補正しない）実施形態である。図１は、本発明
の第１の実施形態にかかるＭＲＩ装置１００を示す構成
ブロック図である。このＭＲＩ装置１００は、撮影ユニ
ット３０と、制御ユニット４０と、操作ユニット５０と
を具備している。
均一度は補正しない）実施形態である。図１は、本発明
の第１の実施形態にかかるＭＲＩ装置１００を示す構成
ブロック図である。このＭＲＩ装置１００は、撮影ユニ
ット３０と、制御ユニット４０と、操作ユニット５０と
を具備している。
【００２１】前記撮影ユニット３０は、勾配コイル１
と、送信コイル２と、受信コイル３と、ＮＭＲプローブ
１６と、マグネット温度センサ１７と、Ｂ０補正コイル
２０とを含んでいる。
と、送信コイル２と、受信コイル３と、ＮＭＲプローブ
１６と、マグネット温度センサ１７と、Ｂ０補正コイル
２０とを含んでいる。
【００２２】前記制御ユニット４０は、計算機１４と、
シーケンス記憶回路７と、勾配コイル駆動回路４と、Ｒ
Ｆ系信号送受信回路１５ａと、プローブ系信号送受信回
路１５ｂと、Ｂ０補正コイル駆動回路１８と、Ｂ０補正
コイル駆動回路１９とを含んでいる。前記ＲＦ系信号送
受信回路１５ａは、ゲート変調回路８と、ＲＦ発振回路
９と、ＲＦ電力増幅器５と、前置増幅器６と、位相検波
器１０と、Ａ／Ｄ変換器１１とを含んでいる。前記プロ
ーブ系信号送受信回路１５ｂは、上記ＲＦ系信号送受信
回路１５ａと同様の構成である。
シーケンス記憶回路７と、勾配コイル駆動回路４と、Ｒ
Ｆ系信号送受信回路１５ａと、プローブ系信号送受信回
路１５ｂと、Ｂ０補正コイル駆動回路１８と、Ｂ０補正
コイル駆動回路１９とを含んでいる。前記ＲＦ系信号送
受信回路１５ａは、ゲート変調回路８と、ＲＦ発振回路
９と、ＲＦ電力増幅器５と、前置増幅器６と、位相検波
器１０と、Ａ／Ｄ変換器１１とを含んでいる。前記プロ
ーブ系信号送受信回路１５ｂは、上記ＲＦ系信号送受信
回路１５ａと同様の構成である。
【００２３】前記操作ユニット５０は、表示装置１２
と、操作コンソール１３とを含んでいる。
と、操作コンソール１３とを含んでいる。
【００２４】図２は、ＭＲＩ装置１００の模式的斜視図
である。撮影ユニット３０は、上下に対向して設置され
中間に撮影空間を形成するマグネットユニット３１と、
それらマグネットユニット３１を磁気的に接続して磁気
回路を構成する支柱ヨークＰｙと、その支柱ヨークＰｙ
の中央部を１００〜２００ターン巻くようにして付設さ
れたＢ０補正コイル２０と、テーブル３３とを含んでい
る。図示していないが、前記マグネットユニット３１の
中間に掲載される撮影空間に、受信コイル３が設置され
ている。
である。撮影ユニット３０は、上下に対向して設置され
中間に撮影空間を形成するマグネットユニット３１と、
それらマグネットユニット３１を磁気的に接続して磁気
回路を構成する支柱ヨークＰｙと、その支柱ヨークＰｙ
の中央部を１００〜２００ターン巻くようにして付設さ
れたＢ０補正コイル２０と、テーブル３３とを含んでい
る。図示していないが、前記マグネットユニット３１の
中間に掲載される撮影空間に、受信コイル３が設置され
ている。
【００２５】図３は、前記マグネットユニット３１の内
部を模式的に示す断面図である。マグネットユニット３
１の内部には、垂直方向に静磁界を発生させる永久磁石
Ｍがある。前記永久磁石Ｍの表面には、被検体を内部に
収容しうる受信コイル３の内部に均一な静磁界の撮像領
域を形成するための整磁板Ｓｐがそれぞれ設置されてい
る。前記永久磁石Ｍと、前記整磁板Ｓｐと、ベースヨー
クＢｙおよび支柱ヨークＰｙとにより、磁気回路が構成
される。
部を模式的に示す断面図である。マグネットユニット３
１の内部には、垂直方向に静磁界を発生させる永久磁石
Ｍがある。前記永久磁石Ｍの表面には、被検体を内部に
収容しうる受信コイル３の内部に均一な静磁界の撮像領
域を形成するための整磁板Ｓｐがそれぞれ設置されてい
る。前記永久磁石Ｍと、前記整磁板Ｓｐと、ベースヨー
クＢｙおよび支柱ヨークＰｙとにより、磁気回路が構成
される。
【００２６】前記整磁板Ｓｐの表面には、勾配磁界を発
生するための勾配コイル１Ｇがそれぞれ設置されてい
る。また、前記勾配コイル１Ｇの内側には、送信コイル
２が設置されている。そして、勾配コイル１Ｇと送信コ
イル２の間に挟まれるように、ＮＭＲプローブ１６が設
置されている。なお、前記永久磁石Ｍの代わりに超伝導
磁石を用いてもよい。
生するための勾配コイル１Ｇがそれぞれ設置されてい
る。また、前記勾配コイル１Ｇの内側には、送信コイル
２が設置されている。そして、勾配コイル１Ｇと送信コ
イル２の間に挟まれるように、ＮＭＲプローブ１６が設
置されている。なお、前記永久磁石Ｍの代わりに超伝導
磁石を用いてもよい。
【００２７】図４は、前記ＮＭＲプローブ１６を示す断
面説明図である。ＮＭＲプローブ１６は、ＦＩＤ信号を
発しうるＮａＣｌ溶液またはＣｕＳＯ４溶液を封止した
小型ファントムＦｔと、その小型ファントムＦｔを取り
巻く小型コイルＣｏとを組み合わせた構造である。
面説明図である。ＮＭＲプローブ１６は、ＦＩＤ信号を
発しうるＮａＣｌ溶液またはＣｕＳＯ４溶液を封止した
小型ファントムＦｔと、その小型ファントムＦｔを取り
巻く小型コイルＣｏとを組み合わせた構造である。
【００２８】図５は、補正電流Ｉの説明図である。撮像
領域を挟んだ位置にある一対の支柱ヨークＰｙに付加し
たＢ０補正コイル２０を直列に接続し、Ｂ０補正コイル
駆動電源１９から補正電流Ｉを供給し、一対のＢ０補正
コイル２０で同方向・等強度の補正磁界Ｂ０ｃを発生さ
せ、永久磁石Ｍで発生する静磁界Ｂ０ｍに加えること
で、静磁界を目標の静磁界強度Ｂ０に補正する。
領域を挟んだ位置にある一対の支柱ヨークＰｙに付加し
たＢ０補正コイル２０を直列に接続し、Ｂ０補正コイル
駆動電源１９から補正電流Ｉを供給し、一対のＢ０補正
コイル２０で同方向・等強度の補正磁界Ｂ０ｃを発生さ
せ、永久磁石Ｍで発生する静磁界Ｂ０ｍに加えること
で、静磁界を目標の静磁界強度Ｂ０に補正する。
【００２９】なお、図５は、永久磁石Ｍで発生する静磁
界Ｂ０ｍでは静磁界強度が不足する場合を想定して補正
磁界Ｂ０ｃの方向（補正電流Ｉの方向）を描いている
が、永久磁石Ｍで発生する静磁界Ｂ０ｍでは静磁界強度
が過剰になる場合は補正磁界Ｂ０ｃの方向（補正電流Ｉ
の方向）を逆にすればよい。
界Ｂ０ｍでは静磁界強度が不足する場合を想定して補正
磁界Ｂ０ｃの方向（補正電流Ｉの方向）を描いている
が、永久磁石Ｍで発生する静磁界Ｂ０ｍでは静磁界強度
が過剰になる場合は補正磁界Ｂ０ｃの方向（補正電流Ｉ
の方向）を逆にすればよい。
【００３０】図６は、永久磁石Ｍで発生する静磁界Ｂ０
ｍでは静磁界強度が不足する場合に、不足する分をＢ０
補正コイル２０で発生する補正磁界Ｂ０ｃにより補償し
て、目標の静磁界強度Ｂ０を得る概念の説明図である。
ｍでは静磁界強度が不足する場合に、不足する分をＢ０
補正コイル２０で発生する補正磁界Ｂ０ｃにより補償し
て、目標の静磁界強度Ｂ０を得る概念の説明図である。
【００３１】図７は、Ｂ０補正プリスキャン処理の手順
を示すフロー図である。このＢ０補正プリスキャン処理
は、受信コイル３に被検体を入れた状態でチューニング
のために実行されるプリスキャン処理の一つとして実行
される。ステップＳ１では、グラジエント・エコー・シ
ーケンス（１８０゜パルスを用いず、α゜のＲＦパルス
を送信コイル２から送信するパルスシーケンス）により
受信コイル３で被検体からのＦＩＤ信号を収集する。ス
テップＳ２では、ＦＩＤ信号から共鳴周波数υを求め、
その共鳴周波数υとＲＦ送受信系との周波数ずれ（ＲＦ
系送受信回路１５ａのＲＦ発振回路９の発振周波数との
周波数ずれ）Δｆを求める。ステップＳ３では、周波数
ずれΔｆが十分小さくないならばステップＳ４へ進む。
十分小さいならば処理を終了する。
を示すフロー図である。このＢ０補正プリスキャン処理
は、受信コイル３に被検体を入れた状態でチューニング
のために実行されるプリスキャン処理の一つとして実行
される。ステップＳ１では、グラジエント・エコー・シ
ーケンス（１８０゜パルスを用いず、α゜のＲＦパルス
を送信コイル２から送信するパルスシーケンス）により
受信コイル３で被検体からのＦＩＤ信号を収集する。ス
テップＳ２では、ＦＩＤ信号から共鳴周波数υを求め、
その共鳴周波数υとＲＦ送受信系との周波数ずれ（ＲＦ
系送受信回路１５ａのＲＦ発振回路９の発振周波数との
周波数ずれ）Δｆを求める。ステップＳ３では、周波数
ずれΔｆが十分小さくないならばステップＳ４へ進む。
十分小さいならば処理を終了する。
【００３２】ステップＳ４では、前記周波数ずれΔｆに
相当する磁界強度ずれΔＢ０を求める。 ΔＢ０＝２π・Δｆ／γ 但し、γは磁気回転比 次に、前記磁界強度ずれΔＢ０を補正するための補正電
流Ｉの値を計算する。
相当する磁界強度ずれΔＢ０を求める。 ΔＢ０＝２π・Δｆ／γ 但し、γは磁気回転比 次に、前記磁界強度ずれΔＢ０を補正するための補正電
流Ｉの値を計算する。
【００３３】ステップＳ５では、補正電流Ｉの値を更新
する。前記Ｂ０補正コイル駆動回路１８は、補正電流Ｉ
の更新された値を計算機１４から読み出し、Ｂ０補正コ
イル駆動電源１９からＢ０補正コイル２０へ供給する。
そして、前記ステップＳ１に戻る。
する。前記Ｂ０補正コイル駆動回路１８は、補正電流Ｉ
の更新された値を計算機１４から読み出し、Ｂ０補正コ
イル駆動電源１９からＢ０補正コイル２０へ供給する。
そして、前記ステップＳ１に戻る。
【００３４】上記Ｂ０補正プリスキャン処理により、静
磁界Ｂ０を目標の静磁界強度に十分近づくように補正す
ることが出来る。
磁界Ｂ０を目標の静磁界強度に十分近づくように補正す
ることが出来る。
【００３５】図８は、Ｂ０補正スキャン処理の手順を示
すフロー図である。このＢ０補正スキャン処理は、被検
体を撮影するイメージング用スキャンと同期して実行さ
れる。ステップＳ１１では、ＮＭＲプローブ１６の小型
コイルＣｏからＲＦパルスを送信し、小型ファントムＦ
ｔからＦＩＤ信号を収集する。ステップＳ１２では、Ｆ
ＩＤ信号から共鳴周波数を求め、その共鳴周波数とＲＦ
送受信系との周波数ずれΔｆを求める。ステップＳ１３
では、周波数ずれΔｆに相当する強度の磁界を補正する
ための補正電流Ｉの値を計算する。ステップＳ１４で
は、イメージング用スキャンのパルスシーケンスの繰り
返しと同期して補正電流Ｉの値を更新する。前記Ｂ０補
正コイル駆動回路１８は、補正電流Ｉの更新された値を
計算機１４から読み出し、Ｂ０補正コイル駆動電源１９
からＢ０補正コイル２０へ供給する。ステップＳ１５で
は、イメージング用スキャンが終了するまで前記ステッ
プＳ１１〜Ｓ１４を反復する。そして、イメージング用
スキャンが終了すれば、処理を終了する。
すフロー図である。このＢ０補正スキャン処理は、被検
体を撮影するイメージング用スキャンと同期して実行さ
れる。ステップＳ１１では、ＮＭＲプローブ１６の小型
コイルＣｏからＲＦパルスを送信し、小型ファントムＦ
ｔからＦＩＤ信号を収集する。ステップＳ１２では、Ｆ
ＩＤ信号から共鳴周波数を求め、その共鳴周波数とＲＦ
送受信系との周波数ずれΔｆを求める。ステップＳ１３
では、周波数ずれΔｆに相当する強度の磁界を補正する
ための補正電流Ｉの値を計算する。ステップＳ１４で
は、イメージング用スキャンのパルスシーケンスの繰り
返しと同期して補正電流Ｉの値を更新する。前記Ｂ０補
正コイル駆動回路１８は、補正電流Ｉの更新された値を
計算機１４から読み出し、Ｂ０補正コイル駆動電源１９
からＢ０補正コイル２０へ供給する。ステップＳ１５で
は、イメージング用スキャンが終了するまで前記ステッ
プＳ１１〜Ｓ１４を反復する。そして、イメージング用
スキャンが終了すれば、処理を終了する。
【００３６】上記Ｂ０補正スキャン処理により、イメー
ジング用スキャン中でも静磁界Ｂ０を目標の静磁界強度
に補正することが出来る。
ジング用スキャン中でも静磁界Ｂ０を目標の静磁界強度
に補正することが出来る。
【００３７】図９は、Ｂ０温度補正処理の手順を示すフ
ロー図である。このＢ０温度補正処理は、イメージング
用スキャンと同期して実行してもよいし、イメージング
用スキャンと関係なく周期的に実行してもよいし、任意
のタイミングで実行してもよい。ステップＳ２１では、
マグネット温度センサ１７によりマグネット温度を測定
する。ステップＳ２２では、予め測定して作成しておい
たマグネット温度−周波数ずれ特性テーブルを用いてマ
グネット温度を周波数ずれΔｆに換算する。ステップＳ
２３では、周波数ずれΔｆに相当する強度の磁界を補正
するための補正電流Ｉの値を計算する。ステップＳ２４
では、補正電流Ｉの値を更新する。イメージング用スキ
ャン中なら、パルスシーケンスの繰り返しと同期して補
正電流Ｉの値を更新する。前記Ｂ０補正コイル駆動回路
１８は、補正電流Ｉの更新された値を計算機１４から読
み出して、Ｂ０補正コイル駆動電源１９からＢ０補正コ
イル２０へ供給する。そして、処理を終了する。
ロー図である。このＢ０温度補正処理は、イメージング
用スキャンと同期して実行してもよいし、イメージング
用スキャンと関係なく周期的に実行してもよいし、任意
のタイミングで実行してもよい。ステップＳ２１では、
マグネット温度センサ１７によりマグネット温度を測定
する。ステップＳ２２では、予め測定して作成しておい
たマグネット温度−周波数ずれ特性テーブルを用いてマ
グネット温度を周波数ずれΔｆに換算する。ステップＳ
２３では、周波数ずれΔｆに相当する強度の磁界を補正
するための補正電流Ｉの値を計算する。ステップＳ２４
では、補正電流Ｉの値を更新する。イメージング用スキ
ャン中なら、パルスシーケンスの繰り返しと同期して補
正電流Ｉの値を更新する。前記Ｂ０補正コイル駆動回路
１８は、補正電流Ｉの更新された値を計算機１４から読
み出して、Ｂ０補正コイル駆動電源１９からＢ０補正コ
イル２０へ供給する。そして、処理を終了する。
【００３８】上記Ｂ０温度補正処理により、勾配コイル
１の発熱等の影響による静磁界強度Ｂ０の変動を補正す
ることが出来る。
１の発熱等の影響による静磁界強度Ｂ０の変動を補正す
ることが出来る。
【００３９】以上の第１の実施形態のＭＲＩ装置１００
によれば、静磁界強度を迅速に且つ微細に補正すること
が出来る。
によれば、静磁界強度を迅速に且つ微細に補正すること
が出来る。
【００４０】−第２の実施形態− 第２の実施形態は、静磁界強度および静磁界均一度を補
正する実施形態である。図１０は、補正電流Ｉａ，Ｉｂ
の説明図である。撮像領域を挟んだ位置にある一対の支
柱ヨークＰｙに付加したＢ０補正コイル２０にそれぞれ
Ｂ０補正コイル駆動電源１９ａ，１９ｂから補正電流Ｉ
ａ，Ｉｂを供給し、一対のＢ０補正コイル２０で方向お
よび強度の少なくとも一方が異なる補正磁界Ｂ０ａ，Ｂ
０ｂを発生させ、永久磁石Ｍで発生する静磁界Ｂ０ｍに
加える。補正電流Ｉａ，Ｉｂは、撮影領域の中心におけ
る静磁界強度の過不足を補償する０次成分Ｉｏと１次の
静磁界不均一を補償する１次成分ｉとからなる。すなわ
ち、１次成分ｉにより補正磁界Ｂ０ａ，Ｂ０ｂに強度差
を生じ、補正磁界Ｂ０ａ，Ｂ０ｂを合成した補正磁界Ｂ
０ｃに１次の傾斜ができる。この１次の傾斜で１次の静
磁界不均一を補償する。
正する実施形態である。図１０は、補正電流Ｉａ，Ｉｂ
の説明図である。撮像領域を挟んだ位置にある一対の支
柱ヨークＰｙに付加したＢ０補正コイル２０にそれぞれ
Ｂ０補正コイル駆動電源１９ａ，１９ｂから補正電流Ｉ
ａ，Ｉｂを供給し、一対のＢ０補正コイル２０で方向お
よび強度の少なくとも一方が異なる補正磁界Ｂ０ａ，Ｂ
０ｂを発生させ、永久磁石Ｍで発生する静磁界Ｂ０ｍに
加える。補正電流Ｉａ，Ｉｂは、撮影領域の中心におけ
る静磁界強度の過不足を補償する０次成分Ｉｏと１次の
静磁界不均一を補償する１次成分ｉとからなる。すなわ
ち、１次成分ｉにより補正磁界Ｂ０ａ，Ｂ０ｂに強度差
を生じ、補正磁界Ｂ０ａ，Ｂ０ｂを合成した補正磁界Ｂ
０ｃに１次の傾斜ができる。この１次の傾斜で１次の静
磁界不均一を補償する。
【００４１】なお、図１０は、永久磁石Ｍで発生する静
磁界Ｂ０ｍでは静磁界強度が不足する場合を想定して補
正磁界Ｂ０ａ，Ｂ０ｂの方向（補正電流Ｉａ，Ｉｂの方
向）を描いているが、永久磁石Ｍで発生する静磁界Ｂ０
ｍでは静磁界強度が過剰になる場合は補正磁界Ｂ０ａ，
Ｂ０ｂの一方または両方の方向（補正電流Ｉａ，Ｉｂの
一方または両方の方向）を逆にすればよい。
磁界Ｂ０ｍでは静磁界強度が不足する場合を想定して補
正磁界Ｂ０ａ，Ｂ０ｂの方向（補正電流Ｉａ，Ｉｂの方
向）を描いているが、永久磁石Ｍで発生する静磁界Ｂ０
ｍでは静磁界強度が過剰になる場合は補正磁界Ｂ０ａ，
Ｂ０ｂの一方または両方の方向（補正電流Ｉａ，Ｉｂの
一方または両方の方向）を逆にすればよい。
【００４２】図１１は、永久磁石Ｍで発生する静磁界Ｂ
０ｍでは静磁界強度が不足し且つ１次の不均一がある場
合に、不足する静磁界強度および１次の不均一をＢ０補
正コイル２０で発生する補正磁界Ｂａ，Ｂｂで補償し
て、目標の静磁界強度Ｂ０と静磁界均一度を得る概念の
説明図である。
０ｍでは静磁界強度が不足し且つ１次の不均一がある場
合に、不足する静磁界強度および１次の不均一をＢ０補
正コイル２０で発生する補正磁界Ｂａ，Ｂｂで補償し
て、目標の静磁界強度Ｂ０と静磁界均一度を得る概念の
説明図である。
【００４３】補正電流Ｉａ，Ｉｂの０次成分Ｉｏは、前
述の第１の実施形態と同様にして決定できる。
述の第１の実施形態と同様にして決定できる。
【００４４】補正電流Ｉａ，Ｉｂの１次成分ｉは、次に
説明する１次成分決定処理により決定できる。図１２
は、１次成分決定処理の手順を示すフロー図である。こ
の１次成分決定処理は、受信コイル３に被検体を入れた
状態でチューニングのために実行されるプリスキャン処
理の一つとして実行される。ステップＳ３１では、補正
磁界Ｂ０ｃにより形成できる１次の傾斜の方向をＸ軸と
するときＸＺ平面をスキャン面としてプリスキャンによ
りＴＥ（エコー時間）がΔTE［sec］だけ異なる２枚分
のデータＲxz1，Ｒxz2を収集する。また、ＸＹ平面をス
キャン面としてプリスキャンによりＴＥ（エコー時間）
がΔTEだけ異なる２枚分のデータＲxy1，Ｒxy2を収集す
る。
説明する１次成分決定処理により決定できる。図１２
は、１次成分決定処理の手順を示すフロー図である。こ
の１次成分決定処理は、受信コイル３に被検体を入れた
状態でチューニングのために実行されるプリスキャン処
理の一つとして実行される。ステップＳ３１では、補正
磁界Ｂ０ｃにより形成できる１次の傾斜の方向をＸ軸と
するときＸＺ平面をスキャン面としてプリスキャンによ
りＴＥ（エコー時間）がΔTE［sec］だけ異なる２枚分
のデータＲxz1，Ｒxz2を収集する。また、ＸＹ平面をス
キャン面としてプリスキャンによりＴＥ（エコー時間）
がΔTEだけ異なる２枚分のデータＲxy1，Ｒxy2を収集す
る。
【００４５】ステップＳ３２では、データＲxz1，Ｒxz
2，Ｒxy1，Ｒxy2をそれぞれ２次元フーリエ変換して複
素数２次元データを得る。次に、各ピクセルの実部と虚
部のアークタンジェント（arctangent）で求められる角
度のみをピクセル値とした角度２次元データをそれぞれ
計算する。これらの角度２次元データを位相マップＭxz
1，Ｍxz2，Ｍxy1，Ｍxy2と呼ぶ。
2，Ｒxy1，Ｒxy2をそれぞれ２次元フーリエ変換して複
素数２次元データを得る。次に、各ピクセルの実部と虚
部のアークタンジェント（arctangent）で求められる角
度のみをピクセル値とした角度２次元データをそれぞれ
計算する。これらの角度２次元データを位相マップＭxz
1，Ｍxz2，Ｍxy1，Ｍxy2と呼ぶ。
【００４６】ステップＳ３３では、２枚の位相マップＭ
xz1，Ｍxz2の差より位相誤差マップＮxzを求める。ま
た、２枚の位相マップＭxy1，Ｍxy2の差より位相誤差マ
ップＮxyを求める。次に、位相誤差マップＮxzからノイ
ズ部分を除去し信号部分のみ抽出し、位相が折り返って
いる部分があれば折り返りをなくし、データをＺ軸方向
に加算平均し、１次元位相誤差データＦxz(x)を得る。
また、位相誤差マップＮxyからノイズ部分を除去し信号
部分のみ抽出し、位相が折り返っている部分があれば折
り返りをなくし、データをＹ軸方向に加算平均し、１次
元位相誤差データＦxy(x)を得る。
xz1，Ｍxz2の差より位相誤差マップＮxzを求める。ま
た、２枚の位相マップＭxy1，Ｍxy2の差より位相誤差マ
ップＮxyを求める。次に、位相誤差マップＮxzからノイ
ズ部分を除去し信号部分のみ抽出し、位相が折り返って
いる部分があれば折り返りをなくし、データをＺ軸方向
に加算平均し、１次元位相誤差データＦxz(x)を得る。
また、位相誤差マップＮxyからノイズ部分を除去し信号
部分のみ抽出し、位相が折り返っている部分があれば折
り返りをなくし、データをＹ軸方向に加算平均し、１次
元位相誤差データＦxy(x)を得る。
【００４７】ステップＳ３４では、１次元位相誤差デー
タを最小自乗近似する。 Ｆxz(x)＝Ｐxz0＋Ｐxz1・ｘ＋Ｐxz2・ｘ２＋… Ｆxy(x)＝Ｐxy0＋Ｐxy1・ｘ＋Ｐxy2・ｘ２＋… そして、係数Ｐxz1，Ｐxy1を平均したものを１次係数Ｐ
x1とする。この１次係数Ｐx1は、ΔTE［sec］の時間に
磁場不均一によってスピンが回った位相量であり、Ｘ軸
方向の１次成分なので、単位は［rad／ｃｍ］となる。
タを最小自乗近似する。 Ｆxz(x)＝Ｐxz0＋Ｐxz1・ｘ＋Ｐxz2・ｘ２＋… Ｆxy(x)＝Ｐxy0＋Ｐxy1・ｘ＋Ｐxy2・ｘ２＋… そして、係数Ｐxz1，Ｐxy1を平均したものを１次係数Ｐ
x1とする。この１次係数Ｐx1は、ΔTE［sec］の時間に
磁場不均一によってスピンが回った位相量であり、Ｘ軸
方向の１次成分なので、単位は［rad／ｃｍ］となる。
【００４８】ステップＳ３５では、１次係数Ｐx1［rad
／ｃｍ］を静磁界強度のＸ軸方向の勾配値ΔＧ［Gauss
／ｃｍ］に換算する。 ΔＧ＝Ｐx1／（２π・ΔTE・γ） 但し、γ＝４２５７［Ｈz／Gauss］
／ｃｍ］を静磁界強度のＸ軸方向の勾配値ΔＧ［Gauss
／ｃｍ］に換算する。 ΔＧ＝Ｐx1／（２π・ΔTE・γ） 但し、γ＝４２５７［Ｈz／Gauss］
【００４９】ステップＳ３６では、静磁界強度のＸ軸方
向の勾配値ΔＧすなわち静磁界のＸ軸方向の１次の不均
一を補償しうる補正電流Ｉａ，Ｉｂの１次成分ｉを計算
する。
向の勾配値ΔＧすなわち静磁界のＸ軸方向の１次の不均
一を補償しうる補正電流Ｉａ，Ｉｂの１次成分ｉを計算
する。
【００５０】以上の第２の実施形態のＭＲＩ装置によれ
ば、静磁界強度およびＸ方向の静磁界均一度を迅速に且
つ微細に補正することが出来る。
ば、静磁界強度およびＸ方向の静磁界均一度を迅速に且
つ微細に補正することが出来る。
【００５１】−第３の実施形態− 第３の実施形態は、支柱ヨークＰｙを４本とした実施形
態である。図１３に示すように、支柱ヨークＰｙを４本
とし、それぞれにＢ０補正コイル２０を付設し、対向す
る支柱ヨークＰｙに付設したＢ０補正コイル２０を対に
して補正電流を制御する。
態である。図１３に示すように、支柱ヨークＰｙを４本
とし、それぞれにＢ０補正コイル２０を付設し、対向す
る支柱ヨークＰｙに付設したＢ０補正コイル２０を対に
して補正電流を制御する。
【００５２】第３の実施形態のＭＲＩ装置によれば、静
磁界強度およびＸ−Ｙ方向の静磁界均一度を迅速に且つ
微細に補正することが出来る。
磁界強度およびＸ−Ｙ方向の静磁界均一度を迅速に且つ
微細に補正することが出来る。
【００５３】
【発明の効果】本発明の静磁界補正方法およびＭＲＩ装
置によれば、静磁界強度および静磁界均一度を迅速に且
つ微細に補正することが出来る。
置によれば、静磁界強度および静磁界均一度を迅速に且
つ微細に補正することが出来る。
【図１】本発明に係るＭＲＩ装置の構成ブロック図であ
る。
る。
【図２】本発明に係るＭＲＩ装置の要部斜視図である。
【図３】本発明に係るＭＲＩ装置の要部を示す垂直断面
図である。
図である。
【図４】ＮＭＲプローブの一例を示す垂直断面図ある。
【図５】第１の実施形態にかかる補正電流を示す模式図
である。
である。
【図６】第１の実施形態にかかるＢ０補正磁界を示す模
式図である。
式図である。
【図７】第１の実施形態に係るＢ０補正プリスキャン処
理のフロー図である。
理のフロー図である。
【図８】第１の実施形態に係るＢ０補正スキャン処理の
フロー図である。
フロー図である。
【図９】第１の実施形態に係るＢ０温度補正処理のフロ
ー図である。
ー図である。
【図１０】第２の実施形態に係る補正電流を示す模式図
である。
である。
【図１１】第２の実施形態にかかるＢ０補正磁界を示す
模式図である。
模式図である。
【図１２】第２の実施形態に係る１次成分決定処理のフ
ロー図である。
ロー図である。
【図１３】第３の実施形態に係る支柱ヨークを示す水平
断面図である。
断面図である。
１４ 計算機 １５ａ ＲＦ系信号送受信回路 １５ｂ プローブ系信号送受信回路 １６ ＮＭＲプローブ １７ マグネット温度センサ １８ Ｂ０補正コイル駆動回路 １９，１９ａ，１９ｂ Ｂ０補正コイル駆動電源 ２０ Ｂ０補正コイル １００ ＭＲＩ装置 Ｐｙ 支柱ヨーク Ｍ 永久磁石
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 後藤 隆男 東京都日野市旭ケ丘４丁目７番地の127 ジーイー横河メディカルシステム株式会社 内 (72)発明者 宮本 昭栄 東京都日野市旭ケ丘４丁目７番地の127 ジーイー横河メディカルシステム株式会社 内 Ｆターム(参考） 4C096 AA01 AB32 AD08 BB32 CA02 CA05 CA08 CA16 CA23 CA29 DA01 DA04 DC21 FA01
Claims (12)
- 【請求項１】 ＭＲＩ装置の磁気回路を構成するヨーク
に磁界補正コイルを付設し、前記磁界補正コイルに補正
電流を流して補正磁界を発生させ、撮像領域の静磁界に
補正磁界を加えることで撮像領域の静磁界を補正するこ
とを特徴とする静磁界補正方法。 - 【請求項２】 請求項１に記載の静磁界補正方法におい
て、第１ヨークに第１磁界補正コイルを付設し、前記第
１ヨークに対して撮像領域を挟んだ位置にある第２ヨー
クに第２磁界補正コイルを付設し、前記第１磁界補正コ
イルで第１補正磁界を発生させ、前記第２磁界補正コイ
ルで前記第１補正磁界と同方向・等強度の第２補正磁界
を発生させることを特徴とする静磁界補正方法。 - 【請求項３】 請求項１に記載の静磁界補正方法におい
て、第１ヨークに第１磁界補正コイルを付設し、前記第
１ヨークに対して撮像領域を挟んだ位置にある第２ヨー
クに第２磁界補正コイルを付設し、前記第１磁界補正コ
イルで第１補正磁界を発生させ、前記第２磁界補正コイ
ルで前記第１補正磁界と方向および強度の少なくとも一
方が異なる第２補正磁界を発生させることを特徴とする
静磁界補正方法。 - 【請求項４】 請求項１から請求項３のいずれかに記載
の静磁界補正方法において、ＦＩＤ信号を収集し、前記
ＦＩＤ信号より共鳴周波数を求め、前記共鳴周波数とＲ
Ｆ送受信系との周波数ずれを求め、前記周波数ずれから
補正電流を決定することを特徴とする静磁界補正方法。 - 【請求項５】 請求項４に記載の静磁界補正方法におい
て、小型ファントムと小型コイルとを組み合わせたＮＭ
Ｒプローブを撮像領域の近傍に設置しておき、前記小型
コイルからＲＦパルスを送信し前記小型ファントムから
のＦＩＤ信号を前記小型コイルで受信し、前記ＦＩＤ信
号から共鳴周波数を求めることを特徴とする静磁界補正
方法。 - 【請求項６】 請求項１から請求項５のいずれかに記載
の静磁界補正方法において、前記磁気回路を構成する部
材の温度を計測し、温度特性より共鳴周波数を求め、前
記共鳴周波数と目標周波数との周波数差を求め、前記周
波数差から補正電流を決定することを特徴とする静磁界
補正方法。 - 【請求項７】 磁気回路を構成するヨークと、前記ヨー
クに付設され補正磁界を発生させる磁界補正コイルと、
前記磁界補正コイルに補正電流を供給する磁界補正コイ
ル用電源とを具備したことを特徴とするＭＲＩ装置。 - 【請求項８】 請求項７に記載のＭＲＩ装置において、
撮像領域を挟んだ位置にある第１ヨークおよび第２ヨー
クと、前記第１ヨークに付設され第１補正磁界を発生さ
せる第１磁界補正コイルと、前記第２ヨークに付設され
前記第１補正磁界と同方向・等強度の第２補正磁界を発
生させるべく前記第１磁界補正コイルと直列接続された
第２磁界補正コイルと、前記第１磁界補正コイルおよび
前記第２磁界補正コイルの直列回路に補正電流を供給す
る磁界補正コイル用電源とを具備したことを特徴とする
ＭＲＩ装置。 - 【請求項９】 請求項７に記載のＭＲＩ装置において、
撮像領域を挟んだ位置にある第１ヨークおよび第２ヨー
クと、前記第１ヨークに付設され第１補正磁界を発生さ
せる第１磁界補正コイルと、前記第２ヨークに付設され
第２補正磁界を発生させる第２磁界補正コイルと、前記
第１磁界補正コイルに第１補正電流を供給する第１磁界
補正コイル用電源と、前記第２磁界補正コイルに第２補
正電流を供給する第２磁界補正コイル用電源とを具備し
たことを特徴とするＭＲＩ装置。 - 【請求項１０】 請求項７から請求項９のいずれかに記
載のＭＲＩ装置において、 ＦＩＤ信号を収集し、前記ＦＩＤ信号より共鳴周波数を
求め、前記共鳴周波数とＲＦ送受信系との周波数ずれを
求め、前記周波数ずれから補正電流を決定する補正電流
決定手段を具備したことを特徴とするＭＲＩ装置。 - 【請求項１１】 請求項９に記載のＭＲＩ装置におい
て、 撮像領域の近傍に設置された、小型ファントムと小型コ
イルとを組み合わせたＮＭＲプローブを具備し、 前記補正電流決定手段は、前記小型コイルからＲＦパル
スを送信し前記小型ファントムからのＦＩＤ信号を前記
小型コイルで受信し、前記ＦＩＤ信号から共鳴周波数を
求めることを特徴とするＭＲＩ装置。 - 【請求項１２】 請求項７から請求項１１のいずれかに
記載のＭＲＩ装置において、 前記磁気回路を構成する部材の温度を計測する温度セン
サと、 温度特性より共鳴周波数を求め、前記共鳴周波数と目標
周波数との周波数差を求め、前記周波数差から補正電流
を決定する補正電流決定手段とを具備したことを特徴と
するＭＲＩ装置。
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