JP2002207221A - 液晶表示装置 - Google Patents

液晶表示装置

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JP2002207221A
JP2002207221A JP2001003969A JP2001003969A JP2002207221A JP 2002207221 A JP2002207221 A JP 2002207221A JP 2001003969 A JP2001003969 A JP 2001003969A JP 2001003969 A JP2001003969 A JP 2001003969A JP 2002207221 A JP2002207221 A JP 2002207221A
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Yoichi Momose
洋一 百瀬
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Seiko Epson Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半透過反射型液晶表示装置において、表示領
域周辺の引き廻し配線や端子部の占める面積を極力少な
くし、液晶表示装置を狭額縁化して小型化を図る。 【解決手段】 透明電極と引き廻し配線を絶縁層を介し
た2層構造として表示領域内に設け、表示領域の両側に
あった引き廻し配線を無くして、液晶表示パネルの幅を
狭くした。透明電極と引き廻し配線との接続方法として
は、間に介在する絶縁膜にコンタクトホールを設ける方
法を採用した。引き廻し配線を光反射率の高い金属膜で
構成し、かつ一方の画素電極と引き廻し配線とのピッチ
を1/2づつずらすことにより反射膜としての機能を持
たせ、透過モードと反射モードが得られるようにした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置に関
するものであって、特に液晶表示装置を小型化するに当
たり、液晶表示領域以外の領域を極力狭くした表示画面
の明るい半透過反射型の液晶表示装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】近年、ノートパソコン、携帯電話機、電
子手帳等の電子機器において、情報を表示する手段とし
て液晶表示装置が広く使用されている。通常、これらの
液晶表示装置は2枚の透明基板に挟まれた狭い空間、い
わゆるセルギャップ内に液晶を封入し、各透明基板の内
面に互いに対向する透明電極を形成してある。これら透
明電極が対向する部分が画素となり、各画素の液晶を外
部から駆動して表示・非表示をさせる方式が採用されて
いる。液晶を外部から駆動するためには、透明基板上の
画素がある液晶表示領域以外の部分に端子を設け、この
端子と液晶表示領域内の各透明電極とを引き廻し配線を
用いて接続するとともに、端子に駆動用IC等を接続し
ている。ところが最近は液晶表示装置を利用した電子機
器においても小型化の要求が高く、それに伴い液晶表示
パネルの小型化の必要性も高まっている。液晶表示パネ
ルを小型化するには、外部との接続端子部を1ヶ所に集
める方法が提案されている。
【0003】例えば、図15に従来の半透過反射型の液
晶表示装置120を透視した斜視図を示す。この液晶表
示装置120は2枚の基板102,103の間に液晶を
挟持しており、基板の中央部はマトリクス状に配置され
た画素108を有する表示領域109となっている。画
素108の中央部にはバックライト光が透過するための
窓113が設けられている。図16は表示領域109の
中央部の一部を拡大して示した平面図である。この例で
は画素108がマトリクス状に配置され、画素108の
中央部にバックライト光の透過用の窓113が設けられ
ている。画素108の上では上下基板にストライプ状に
設けられた透明電極106と107が交差している。図
16の線D−D’に沿って切断した断面構造を図17に
示す。図17に示すように、液晶表示装置120は一方
の基板102と他方の基板103が所定の間隔で対向配
置され、各基板102,103の間には液晶層110が
挟持されている。ここで、他方の基板103は対向基板
となっていて、ガラス等からなる透明な基板103の下
面(対向面)に、例えばITO( Indium TinOxide )
等からなる複数の透明電極(対向電極)107がストラ
イプ状に形成されている。
【0004】また、一方の基板102には、ガラス等か
らなる透明な基板102上に金属膜からなる反射膜11
2がほぼ全面にわたって形成されている。そして、反射
膜112の上には、前記対向電極107に直交するよう
にストライプ状の電極(画素電極)106が形成されて
いる。さらに反射膜112の対向電極107のほぼ中央
部に対向する位置には、前述のバックライト光の透過用
の窓113が設けられている。一方の基板102の外側
に配置された補助光源(バックライト)50からの光
(L1 )は、このバックライト光透過用の窓113を通
して他方の基板103側へ透過するようになっている。
もう一方の基板(対向基板)103側の光源40から入
射した光(L0 )は、基板102上に設けられた反射膜
112で反射して、他方の基板103側へ戻っていく。
つまり、この液晶表示装置120では、各画素108の
周縁部では反射による反射表示を行い、中心部では窓1
13による透過表示を行うようになっている。
【0005】また、図15に示す液晶表示装置120は
いわゆるCOG( Chip On Glass)実装と呼ばれる形態
のものであり、下側基板102の一辺側102aが上側
基板103の外側に張り出しており、この部分に1個の
駆動用IC118が搭載され、駆動用ICにはフレキシ
ブルプリント配線板(Flexible Printed Circuit,以
下、FPCと略記する)119が接続されている。各透
明電極106,107は引き廻し配線105によって駆
動用IC118に接続されている。このように、図15
に示す液晶表示装置120では、各透明電極からの引き
廻し配線105を液晶表示装置の一端に集めて液晶表示
装置の長さ(L)を縮小することにより、液晶表示装置
の小型化を図っている。さらに、最近主流を占めるよう
になってきたカラー表示方式の液晶表示装置において
も、装置の小型化の要求は当然強いものとなっている。
カラー表示方式の場合は画素数が多くなるのに伴って引
き廻し配線の数も多くなり、液晶表示装置の小型化も難
しくなる。
【0006】図18及び図19に、従来のカラー表示方
式の液晶表示装置の一例を示す。図に示す液晶表示装置
150は、アクティブマトリクス型のTFD( Thin Fi
lm Diode)駆動方式を用いたカラー液晶表示装置であっ
て、一方の下側基板212と他方の上側基板213が所
定の間隔で対向配置され、各基板212,213の間に
は図示しない液晶が挟持されている。ここで、上側基板
213は素子基板となっていて、ガラス等からなる透明
な基板203の内側にマトリクス状に、例えばITO等
からなる複数の透明電極(画素電極)207、及び該画
素電極207を制御するTFD239が設けられてい
る。各画素電極207は略矩形状に形成され、そのうち
一の隅部にはTFD239が配置され、この部分が切欠
部となっている。TFD239は走査線234に接続さ
れ、走査信号と対向する透明電極206とに印可された
信号に基づいて、液晶を表示状態、非表示状態又はその
中間状態に切り換えて表示動作の切り替えが行えるよう
になっている。
【0007】また、一方の下側基板212はカラーフィ
ルタ基板になっていて、ガラス等からなる透明な基板2
02上に金属膜からなる反射膜214がほぼ全面にわた
って形成されている。そして、反射膜214の上には、
後述する各カラーフィルター層235,236,237
を介して、ITOからなりデータ線をなすストライプ状
の透明電極(対向電極)206が形成されている。さら
に各カラーフィルタ層235,236,237の中心付
近における反射膜214には矩形状の小さな窓214a
が形成されている。このカラー表示の液晶表示装置15
0の図18の線E−E’に沿った断面構造を図19に示
す。一方の下側基板212の外側に配置された補助光源
(バックライト)50からの光(L1 )は、反射膜21
4に設けられた窓214aを通して他方の上側基板側へ
透過するようになっている。また、もう一方の上側基板
(対向基板)側の光源から入射した光(L0 )は、基板
202上に設けられた反射膜214で反射して、上側基
板側へ戻っていく。つまり、この液晶表示装置150
は、各カラーフィルター層235,236,237の周
縁部では反射によっる反射表示を行い、その中心部では
窓214aによる透過表示を行うようになっている。
【0008】各カラーフィルタ層235,236,23
7は、上側基板213の画素電極207に対向した位置
にマトリクス状に配置されており、青色のカラーフィル
タ層(図示「B」)235、緑色のカラーフィルタ層
(図示「G」)236、赤色のカラーフィルタ層(図示
「R」)237から構成されている。ここで、各カラー
フィルタ層は光の3原色(R,G,B)を構成してい
る。このようなカラー表示方式の液晶表示装置の場合に
おいても、先に図15で示したCOG実装形態が用いら
れ、各透明電極と外部と接続するための端子との間は、
引き廻し配線によって接続されている。カラー表示方式
ではR,G,Bの3色に対応した画素電極を使用するた
め、引き廻し配線の数もそれだけ多くなるので、液晶表
示装置の小型化も益々困難になる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の方
法でも液晶表示領域の両側に引き廻し配線が配置される
ので、液晶表示装置の大きさに占める非液晶表示領域面
積の割合は、なお大きなものとなっている。特に高精度
の画質が要求される液晶表示装置やカラー表示方式の液
晶表示装置では、画素数の増大に伴って引き廻し配線の
数も多くなるので、引き廻し配線部が占める面積も大き
なものとなる。本発明は、表示画面が明るい半透過反射
式を採用し、しかも引き廻し配線部を表示領域内に取り
込んで引き廻し配線部が占める面積を縮小して狭額縁化
をはかり、液晶表示装置のさらなる小型化を図ろうとす
るものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明では、引き廻し配
線と透明電極とを絶縁層を介した2層構造として液晶表
示領域内に設け、液晶表示領域の両側にあった引き廻し
配線を無くして、液晶表示パネルの幅を狭くする方法を
採用した。それとともに引き廻し配線を光反射率の高い
金属膜で構成し、かつ該引き廻し配線をもう一方のスト
ライプ状の透明電極と平行でかつ該引き廻し配線の間隙
の少なくとも一部が該もう一方の透明電極に対向するよ
うに配置して形成した。このような構成をとることによ
り、複数の引き廻し配線の間隙では基板下面からの光が
透過して反射モードとして作動し、一方、引き廻し配線
の上部では入射した光が反射膜を兼ねた引き廻し配線で
反射されて、反射モードとして作動するので、明るい表
示画面を有する半透過反射式の液晶表示装置とすること
ができる。
【0011】そして本発明の液晶表示装置では、外部と
の接続端子は表示領域外の一端に集中して配置すること
ができ、液晶表示領域の両側には引き廻し配線が配置さ
れていないので、狭額縁化されて全体として小型化した
液晶表示装置とすることができる。本発明においては、
透明電極と引き廻し配線との接続方法は、表示領域内で
コンタクトホールを用いる方法を採用することができ
る。また、透明電極に接続する外部との接続端子は、基
板の一端に集中して配置するのが好ましい。このような
配置を採ることにより、液晶表示装置の一層の小型化を
図ることが可能となる。
【0012】本発明においては、前記引き廻し配線と平
行でかつ同一ピッチで形成された金属反射膜を具備した
ものであっても良い。カラー表示方式のように縦横の画
素数が異なる場合、すなわち縦横の引き廻し配線の数が
異なる場合には、電気的接続機能を持たずに光の反射機
能のみを有する金属反射膜を形成しておくことにより、
表示領域全域に渡って均一な半透明反射機能を有し、静
電容量も均一となるので、表示ムラの無い良質な表示画
面が得られる。本発明はカラー表示方式の液晶表示装置
にも適用できる。カラー表示方式の場合には、R,G,
Bの3色に対応した画素電極を使用するため、引き廻し
配線の数もそれだけ多くなるので、本発明を利用すれば
液晶表示装置の小型化が容易となり、顕著な効果を発揮
する。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。なお、以下の図面に
おいては各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大き
さに表示するため、各層や各部毎に縮尺を異ならせて描
いてある。 (第1の実施形態)まず、本発明の対象となる液晶表示
装置の構造について説明する。図1〜図4は、本発明の
第1の実施形態であるパッシブ方式の白黒液晶表示装置
の構造を説明する図である。図1は、本発明の第1の実
施形態の液晶表示装置全体を上面側から見た斜視図であ
る。図1に示すように、本実施の形態の液晶表示装置1
は、下側基板12と上側基板13とが対向配置され、こ
れら基板間に液晶層(図示略)が挟持されている。本実
施の形態では、下側基板12及び上側基板13共透明基
板が用いられている。以下の説明では、双方の基板の液
晶層に面する側の面を「内面」、それと反対側の面を
「外面」という。
【0014】下側基板12の内面上には多数の透明電極
(信号電極)6がストライプ状に設けられ、それと対向
する上側基板13の内面上には前記透明電極6と直交す
る方向に延在する多数の透明電極(走査電極)7がスト
ライプ状に設けられている。そして、信号電極6と走査
電極7が交差する部分が個々の画素8となり、多数の画
素8がマトリクス状に配列した領域が表示領域9とな
る。なお、本実施の形態では下側基板12側の電極を信
号電極、上側基板13側の電極を走査電極として説明す
るが、これは逆であっても一向にかまわない。
【0015】図2は表示領域9の一部を上側基板13の
一部を剥ぎ取って透視して示した平面図である。上側基
板13の内面には、紙面上下方向に形成された複数のス
トライプ状のITO等からなる透明電極7が配置されて
いる。下側基板12には、前記上側基板13に形成され
た透明電極7と直交する方向に形成された、複数のスト
ライプ状のITO等からなる透明電極6が配置されてい
る。透明電極6の下には、前記上側基板13に形成され
た透明電極7と平行に形成された、複数のストライプ状
の引き廻し配線5が配置されている。そして該透明電極
7と該引き廻し配線5とは、同一ピッチでストライプ状
に形成されているが、互いにピッチをずらして形成され
ており、引き廻し配線5がほぼ透明電極7の間隙に位置
するように配置されている。画素の一つには、ストライ
プ状の透明電極6と引き廻し配線5を接続するためのコ
ンタクトホール4が設けられている。
【0016】図3には、画素8の一つの周辺を拡大して
示してある。上下基板12,13上に形成された互いに
直交する透明電極6,7の交差する部分が画素8を形成
している。そして紙面上下方向に伸びるストライプ状の
透明電極7に平行に、一定の幅と前記透明電極7と同じ
ピッチで引き廻し配線5が配置してある。しかも透明電
極7と引き廻し配線5は、互いに1/2ピッチづつずれ
て形成されている。このため一つの画素8内に引き廻し
配線5の間隙5aが入ってくる。図4は、図2、図3で
線A−A’に沿って切断した断面構造を示す。下側基板
12では、透明なガラス等からなる基板2の内面に、紙
面垂直方向に伸びる複数の引き廻し配線5を形成してあ
る。各引き廻し配線5は同じ幅、同じピッチで形成して
ある。引き廻し配線5の上には絶縁膜11を介して紙面
左右方向に伸びる透明電極6が形成されている。
【0017】一方、上側基板13では基板3の内面に、
紙面垂直方向に伸びる複数の透明電極7を形成してあ
る。各透明電極7も同じ幅、同じピッチで形成してあ
る。従って、透明電極7と前記引き廻し配線5とは互い
に平行に形成されていることになる。ここで、透明電極
7と前記引き廻し配線5とは互いにほぼ1/2ピッチづ
つずれて形成されているので、引き廻し配線5の間隙5
aはほぼ透明電極7の中央に対向して位置することにな
る。また、透明電極7の間隙7aはほぼ引き廻し配線5
の中央に対向して位置することになる。このように構成
された下側基板12と上側基板13の内面に形成された
透明電極6,7の間に、配向膜(図示量略)を介して液
晶層10を挟持して液晶表示装置1としている。図4に
おいて上側基板13に形成された透明電極7の位置が画
素8となる。
【0018】透明な基板2,3としてはガラスの他にポ
リカーボネート、ポリエーテルスルホン、アクリル系樹
脂等からなる透明基板を用いることもできる。透明電極
6,7としては、厚さ100〜200nmのITO膜の
他に、IZO( Indium Zinc Oxide )、ITZO( In
dium Tin Zinc Oxide )等の透明電導膜も利用できる。
絶縁膜11としては、透明なアクリル系感光樹脂等の有
機絶縁膜が好んで利用できる。有機絶縁膜の他にSiO
x等の無機絶縁膜も利用できる。絶縁膜11の厚さは2
〜5μm程度が適当である。反射膜を兼ねた引き廻し配
線5としては、電気比抵抗が低く、かつ光反射率の高い
金属で構成する。このような金属としては、純アルミニ
ウム(Al)、銀(Ag)、銀−パラジウム−銅合金
(Ag−Pd−Cu:APC)あるいはアルミニウム−
ネオジム合金(Al−Nd)等が利用できる。引き廻し
配線5の厚さは50〜150nm程度が良い。
【0019】本実施形態の液晶表示装置では、図4に示
すように下側基板12の外側に設けられた補助光源(バ
ックライト)50から出た光(L1) は、引き廻し配線
5の間隙5a部を透過して液晶層10を通過し、上側基
板13の上方へ抜けて視野に入り、いわゆる透過モード
の表示が行われる。また、上側基板13の上方の光源4
0から進入した光(L0) は、液晶層10を通過した後
反射膜を兼ねる引き廻し配線5に当たって反射し、再び
液晶層10を通過して上側基板13の上方へ抜けて視野
に入り、いわゆる反射モードの表示が行われる。この構
造の液晶表示装置では、反射膜を兼ねる引き廻し配線5
のピッチは一定とし、引き廻し配線の間隔5aを調整す
ることにより、透過モードと反射モードの割合を調整す
ることができるので、液晶表示装置の使用目的や使用環
境に合わせて、最適な表示画面の明るさを選択すること
ができる。
【0020】図5はいわゆるCOF(Chip On Film)実
装と呼ばれる形態のものを示す斜視図であり、下側基板
12の一辺側が上側基板13の外側に張り出しており、
この部分に1個の駆動用IC118が搭載されたフレキ
シブルプリント配線板119(FPC)が接合されてい
る。このような実装方法が採れれば、表示領域両側にあ
った引き廻し配線が表示領域に取り込まれて無くなり、
また、引き廻し配線は表示領域の一端に集約されるの
で、液晶表示の小型化が達成できる。
【0021】次に、液晶表示領域内に設ける引き廻し配
線5と透明電極6との接続方法について説明する。本発
明では、上側基板13と下側基板12に設ける透明電極
6,7が互いに直交しているにもかかわらず、外部との
接続端子は表示領域の一辺に配置しようとしてる。従っ
て、どちらかの透明電極からの引き廻し配線を途中で直
角に曲げる必要がある。本発明では、例えば透明電極と
引き廻し配線を絶縁膜を介して互いに直交するよう構成
し、コンタクトホールを通じて両者を接続する方法によ
り、引き廻し配線を一方向に集合させるようにすること
ができる。この接続方法を図6を用いて説明する。図6
(a)は透明導電体からなる引き廻し配線5である。こ
の引き廻し配線5は紙面に対して上下方向に形成されて
いる。図6(b)は透明電極6である。透明電極6は紙
面に対して左右方向に形成されている。これらの引き廻
し配線5と透明電極6とを重ね合わせたのが図6(c)
である。図6(c)に示すように引き廻し配線5と透明
電極6とは互いに直交しており、交差する部分にコンタ
クトホール4を設けて接続してある。コンタクトホール
4は対応する引き廻し配線5と透明電極6の組み合わせ
に対して1個設ければ良い。引き廻し配線5の一端は外
部との接続端子となる。図6(c)の線B−B’に沿っ
た断面を示したのが図7である。図7に示すように引き
廻し配線5と透明電極6との間には、絶縁膜11を設け
て両者を隔絶してある。そして両者は絶縁膜11を除去
したコンタクトホール4のところでのみ接触している。
このように構成することにより引き廻し配線5により透
明電極方向から直角の方向に回路を曲げて、その先端に
外部との接続端子を配置することが可能となる。この方
法で上下2枚の基板に設ける透明電極の数が一致しない
場合には、透明電極の数が少ない方の基板に本方法の接
続方法を適用し、各画素の表示品位を高めるために信号
を入力しないダミー透明電極を形成しておけば良い。
【0022】以下に本発明の液晶表示パネルの製造方法
について説明する。製造方法については、主に下側基板
の引き廻し配線と透明電極の形成方法を中心に説明す
る。図8(a)〜図8(d)はコンタクトホールを用い
た場合の製造工程の概要を示す断面工程図である。ま
ず、一方の透明基板2の全表面に厚さ100nm程度の
例えばアルミニウム等からなる金属膜をスパッタリング
等により形成する。次いで、フォトリソグラフィにより
所定の位置に引き廻し配線5を形成する。引き廻し配線
5の一端は外部との接続端子となる(図8(a)参
照)。次に、この引き廻し配線5上の端部を除いた部分
に、例えばSiO2 からなる絶縁膜11を厚さ0.1μ
m〜2μm程度に形成し、マスクを使用して絶縁膜11
をエッチングし、コンタクトホール4の位置に丸形ある
いは角形の穴を明ける(図8(b)参照)。コンタクト
ホール4の大きさは例えば10μm□程度が適当である
が、画素サイズに応じて5〜500μm□、好ましくは
5〜50μm□とする。
【0023】次に、上記基板の全面に再度ITO膜を形
成した後、透明電極部66及び端子部65のパターンを
有するマスク60(図8(c)参照)を使用して、フォ
トリソグラフィによってITO膜をエッチングして透明
電極6及び端子を形成する。この時先に形成した引き廻
し配線5と透明電極6とは、直交するように形成する
(図8(d)参照)。このよにして引き廻し配線5と透
明電極6とが絶縁層11を介して2層構造をなす、断面
構造が図7に示される一方の下側基板が得られる。次
に、対向電極を有するもう一方に基板の製造方法につい
て説明する。先ず、透明基板の全面に厚さ100nm程
度のITO膜をスパッタリング等で形成する。次いで、
フォトリソグラフィにより所定の位置に対向電極となる
透明電極を形成する。この対向電極となる透明電極は先
の透明電極と直交する方向に、引き廻し配線と同じピッ
チでかつ1/2ピッチづつずらした位置に形成する。こ
のようにして得られた2枚の基板の透明電極の表面に絶
縁膜を形成した後、配向膜を塗布してラビング処理を施
す。次いで、2枚の基板を透明電極が直交し、しかも対
向基板の透明電極と引き廻し配線とが1/2ピッチづつ
ずれるようにして対向させ、シール材を用いて貼り合わ
せ、液晶表示パネルに組み立てる。シール材としては例
えばシリカ混入の熱硬化1液性のエポキシ樹脂が使用で
きる。2枚の基板の間には粒子径6μmの樹脂球を散布
して間隙を保つようにする。2枚の基板の間隙に液晶を
封入して液晶表示パネルが完成する。
【0024】(第2の実施形態)図9〜図12におい
て、本発明の第2の実施形態であるアクティブ方式のカ
ラー液晶表示装置について説明する。図9は第2の実施
形態であるカラー液晶表示装置の構成を説明する斜視図
である。図9に示すように本発明の液晶表示装置21
は、アクティブマトリクス型のTFD( Thin Film Dio
de)液晶表示装置であって、下側基板32と上側基板3
3が所定の間隔で対向配置され、両基板32,33の間
には図示しない液晶層が挟持されている。ここで下側基
板32はカラーフィルタ基板となっていて、ガラス等か
らなる透明な基板22の上に金属膜からなる複数の引き
廻し配線25がストライプ状に形成されている。そして
引き廻し配線25の上には、カラーフィルタ層34,3
5,36を介してITO等からなりデータ線をなすスト
ライプ状の透明電極26が形成されている。各カラーフ
ィルタ層34,35,36は、上側基板33の透明電極
27に対向した位置にマトリクス状に形成され、青色の
カラーフィルタ層(図示「B」)34、緑色のカラーフ
ィルタ層(図示「G」)35、赤色のカラーフィルタ層
(図示「R」)36から構成されている。
【0025】また、もう一方の上側基板33は素子基板
となっていて、ガラス等からなる透明基板23の内面
に、例えばITO等からなる複数の透明電極27がマト
リクス状に設けられている。さらに各透明電極27の隅
部には、透明電極27を駆動させるための液晶駆動素子
としてのTFD39が接続されている。各TFD39は
走査線38に接続され、走査信号と前述の透明電極(デ
ータ線)26に印加されたデータ信号に基づいて液晶を
表示状態、非表示状態またはその中間状態に切り替えて
表示動作の制御を行うようになっている。
【0026】ここで、上側基板33の透明電極27は、
下側基板32の引き廻し配線25と平行かつ同ピッチで
形成されているが、互いに1/2ピッチづつずれて配置
されている。この関係を拡大して示した平面透視図が図
10であり、図9及び図10の線C−C’に沿って切断
した断面図を図11に示す。図10に示すようにB,
G,Rのカラーフィルタ層34,35,36がマトリク
ス状に並んでおり、各カラーフィルタ層34,35,3
6の列の間隙(紙面縦方向)に、引き廻し配線25が平
行に配置されている。また、引き廻し配線25と直角方
向には各カラーフィルタ層34,35,36を連ねるよ
うに(紙面左右方向に)透明電極26が設けられてい
る。図11に示す線C−C’に沿った断面構造を見る
と、下側基板32の上には引き廻し配線25が同一幅、
等ピッチで設けられ、その上に各カラーフィルタ層3
4,35,36が、同一幅で引き廻し配線25と同一ピ
ッチで設けられている。さらに、各カラーフィルタ層3
4,35,36の上には絶縁層31を介して透明電極2
6が紙面左右方向に形成されている。一方、上側基板3
3の内面に設けられた透明電極27は、同一幅で引き廻
し配線25と同一ピッチに、かつ引き廻し配線25と1
/2ピッチづつずらして配置してある。こうして形成し
た2枚の基板32,33間に液晶層30が挟持されてい
る。
【0027】このようにして構成した液晶表示装置21
では、下側基板32の外側に配置された補助光源(バッ
クライト)50から出た光(L1) は、引き廻し配線2
5の間隙25aを透過して液晶層30を通過し、上側基
板33を通って視野に入る。即ち、画素28の中央部で
はいわゆる透過モードの表示が行われる。また、上側基
板33の外側の光源40から出た光(L0) は、液晶層
30を通過した後反射膜を兼ねる引き廻し配線25で反
射されて再び液晶層30を通過し、上側基板33の外側
へ戻って行く。つまり、画素28の周辺部ではいわゆる
反射モードの表示が行われる。この構造の液晶表示装置
では、反射膜を兼ねる引き廻し配線25のピッチは一定
とし、引き廻し配線25の間隔25aを調整することに
より、透過モードと反射モードの割合を調整することが
できるので、液晶表示装置の使用目的や使用環境に合わ
せて最適な表示画面の明るさを選択することができる。
【0028】図12は上記の液晶表示装置をCOG実装
した場合の平面図を示す。上側基板の外側に張り出した
下側基板12の一辺に1個の駆動用IC218が搭載さ
れ、さらにFPC219が接合されている。カラー表示
の場合には、R,G,Bの3色のカラーフィルタで一組
の表示を行うので、マトリクス状に並べた表示領域では
縦方向と横方向で画素の数が3:1と異なった数とな
る。このため、表示領域全域で半透過反射モードを達成
するために、図12において紙面左右方向の画素の数に
対応した引き廻し配線25を設けると、引き廻し配線2
5の数は紙面左右方向に伸びる透明電極の数の3倍とな
る。つまり、方向を変えるべき透明電極26の数は、引
き廻し配線25の数の1/3しか無いことになる。この
ような場合には、図12に示すように接続領域(a)に
おいて透明電極26と引き廻し配線25をコンタクトホ
ール24を介して接続し、非接続領域(b)では電気的
接続は行わず、光の反射機能のみを有する金属からなる
反射膜25’を引き廻し配線25と同様にして形成して
おく。反射膜25’を設けることにより、表示領域全域
にわたって半透過反射モードの表示を行うことができ、
かつ液晶層が形成する静電容量を一定に保つことができ
るので、均一なムラの無い表示画面を得ることができ
る。
【0029】このような実装方法が採れれば、表示領域
両側にあった引き廻し配線が表示領域に取り込まれて無
くなり、また、引き廻し配線は表示領域の一端に集約さ
れるので、液晶表示の小型化が達成できる。
【0030】図13,図14に第2の実施形態のカラー
液晶表示装置の製造方法について説明する。ここでも主
にカラーフィルタ基板である下側基板の引き廻し配線と
透明電極の形成方法を中心に説明する。図13〜図14
は、コンタクトホールを用いて引き廻し配線と透明電極
を接続する場合の製造工程の概要を示す断面工程図であ
る。 まず、一方の透明基板22の全表面に厚さ100
nm程度の例えばアルミニウム等からなる金属膜をスパ
ッタリング等により形成する。次いで、フォトリソグラ
フィにより所定の位置に引き廻し配線25を形成する。
引き廻し配線25の一端は外部との接続端子となる。次
にこの引き廻し配線25上の端部を除いた部分に、青色
のカラーフィルタ層形成用膜341を形成する。青色
(B)のカラーフィルタ層形成用膜341としては、所
定のフォトレジストに青色顔料を分散させたものが利用
できる(図13(a)参照)。
【0031】そして所定のパターンマスクを使用して、
青色のカラーフィルタ層形成用膜341を現像・パター
ニングして、図13(b)に示すような青色のカラーフ
ィルタ層34を形成する。次に、この青色のカラーフィ
ルタ層34、引き廻し配線25及び露出した透明基板2
2の上に、緑色(G)のカラーフィルタ層形成用膜を全
面にわたって形成し、所定のパターンマスクを使用し
て、緑色のカラーフィルタ層形成用膜を現像・パターニ
ングして、図13(c)に示すような緑色のカラーフィ
ルタ層35を形成する。緑色のカラーフィルタ層形成用
膜としては、所定のフォトレジストに緑色顔料を分散さ
せたものが利用できる。最後に、青色及び緑色カラーフ
ィルタ層と同様な方法で、赤色顔料を使用して図14
(d)に示すような赤色(R)のカラーフィルタ層36
を形成する。次いで、このようにして形成した3色のカ
ラーフィルタ34,35,36及び露出している引き廻
し配線25の上に、例えばSiO2 等からなる絶縁膜3
1を厚さ0.1μm〜2μm程度に形成し、マスクを使
用して絶縁膜31をエッチングし、コンタクトホール2
4の位置に丸形あるいは角形の穴を明ける(図14
(e)参照)。
【0032】次に、上記基板の全面に再度ITO膜を形
成した後、透明電極部26及び端子部のパターンを有す
るマスク(図示省略)を使用して、フォトリソグラフィ
によってITO膜をエッチングして透明電極26及び端
子を形成する(図14(f)参照)。この時先に形成し
た引き廻し配線25と透明電極26とは、直交するよう
に形成する(図10参照)。このよにして引き廻し配線
25と透明電極26とが絶縁層31を介して2層構造を
なす、断面構造が図11に示されるカラーフィルタを具
備した下側基板32が得られる。
【0033】対向電極を有するもう一方に上側基板(素
子基板)33の製造方法について説明する。上側基板
(素子基板)33は画素駆動用素子を組み込む以外は、
先の第1の実施形態の対向基板と同様であるので簡単に
説明する。上側基板(素子基板)33は概ね以下のよう
にして製造することができる。先ず、透明基板23の全
表面に例えばタンタル膜をスパタリングにより形成し、
熱酸化させて酸化タンタルからなる下地層を形成する。
その上に例えばタングステンを含むタンタル膜を形成
し、所定のパターニングを行って、走査線及び該走査線
から直角方向に伸びる、TFDを構成する片状部を形成
した後、これらの走査線と片状部を酸化させて表面に絶
縁膜を形成する。次いで、上記片状部と交差するように
して該絶縁膜の上にクロム等からなる導電膜をスパッタ
リング等により形成し、適宜所定のパターニングを行っ
て、片状部、絶縁膜及び導電膜からなるTFDを形成す
る。
【0034】次ぎに、このTFDを含む基板の全面に厚
さ100nm程度のITO膜をスパッタリング等で形成
する。次いで、フォトリソグラフィにより所定の位置に
対向電極となる透明電極を形成する。この対向電極とな
る透明電極は先の下側基板(カラーフィルタ基板)32
の透明電極26と直交する方向に、引き廻し配線25と
同じピッチでかつ1/2ピッチづつずらした位置に形成
する。このようにして得られた2枚の基板の透明電極の
表面に絶縁膜を形成した後、配向膜を塗布してラビング
処理を施す。次いで、2枚の基板を透明電極が直交し、
しかも上側基板(素子基板)33の透明電極27と下側
基板(カラーフィルタ基板)32の引き廻し配線25と
が1/2ピッチづつずれるようにして対向させ、シール
材を用いて貼り合わせ、液晶表示パネルに組み立てる
(図9参照)。対向配置された2枚のカラーフィルタ基
板と素子基板との間に液晶を封じ込んで、カラー液晶表
示装置とする。
【0035】
【実施例】(実施例1)図1〜図4に示す構造の白黒表
示に液晶表示装置を作成した。液晶表示装置の表示領域
9の寸法は、43mm×43mmとした。この表示領域
9の中に1個の寸法が230μm×230μmの画素8
を、互いに10μmの間隔を置いてマトリクス状に16
0個×160個、合計25600個の画素を設けた。下
側基板12には、厚さ100nm、幅200μmのアル
ミニウム(Al)からなる反射膜を兼ねた引き廻し配線
5を互いに40μmの間隔を開けて240μmピッチに
ストライプ状に形成した。各引き廻し配線5を厚さ4μ
mのアクリル系感光樹脂からなる絶縁膜で覆った後、フ
ォトリソグラフィーによりコンタクトホール4を形成す
べき位置の絶縁膜を除去して孔を開口させた。次いで、
その上から厚さ150nmのITO膜をスパッタ法によ
り形成した。さらに、このITO膜をフォトリソグラフ
ィーにより所定のパターニングをして、透明電極6を形
成した。透明電極6は引き廻し配線5の幅より太い23
0μmとし、ピッチは引き廻し配線5と同じ240μm
で、引き廻し配線5と直交する方向に互いに10μmの
間隔を置いてストライプ状に形成した。
【0036】次いで、上側基板13として透明基板3の
内面に、厚さ150nmのITO膜をスパッタ法により
形成した。さらに、このITO膜をフォトリソグラフィ
ーにより所定のパターニングをして、透明電極7を形成
した。透明電極7は下側基板12の透明電極6と同じ幅
230μm、同じピッチ240μmで、引き廻し配線5
と平行する方向に互いに10μmの間隔を置いて、ピッ
チを半分の120μmづつずらしてストライプ状に形成
した。この結果、1個の画素内の200μmの領域は反
射モードの表示領域となり、中央部の40μmの領域は
透過モードの表示領域となった。反射モードと透過モー
ドの領域との割合は、5対1となり従来よりも明るい液
晶表示装置とすることができた。また、表示領域両側に
は引き廻し配線が無いので、表示領域両側のいわゆる額
縁部分は1.5mmとすることができ、従来の液晶表示
装置と比較して額縁幅は30%に減少し、一層の狭額縁
化を図ることができた。
【0037】(実施例2)図9〜図12に示す構造のア
クティブマトリクス型カラー表示の液晶表示装置を作成
した。液晶表示装置の表示領域の寸法は、43mm×4
3mmとした。この表示領域の中に1個の寸法が75μ
m×230μmのカラーフィルタ層34,35,36
を、横方向は互いに10μmの間隔を置いて、また縦方
向は互いに5μmの間隔を置いてマトリクス状に480
個×160個、合計76800個の画素を設けた。
【0038】下側基板22には、厚さ100nm、幅6
5μmのアルミニウム(Al)からなる反射膜を兼ねた
引き廻し配線25を、互いに15μmの間隔を開けて8
0μmピッチにストライプ状に形成した。各引き廻し配
線25を厚さ4μmのアクリル系感光樹脂からなる絶縁
膜で覆った後、フォトリソグラフィーによりコンタクト
ホール24を形成すべき位置の絶縁膜を除去して孔を開
口させた。次いで、その上から厚さ150nmのITO
膜をスパッタ法により形成した。さらに、このITO膜
をフォトリソグラフィーにより所定のパターニングをし
て、透明電極26を形成した。透明電極26はカラーフ
ィルタ層34,35,36の縦方向の大きさと同じ23
0μmとし、ピッチは240μmで、引き廻し配線25
と直交する方向に互いに10μmの間隔を置いてストラ
イプ状に形成した。次いで、上側基板23としてTFD
39を形成した透明基板33の内面に、厚さ150nm
のITO膜をスパッタ法により形成した。さらに、この
ITO膜をフォトリソグラフィーにより所定のパターニ
ングをして、透明電極27を形成した。透明電極27は
下側基板22の透明電極26と同じ幅の230μmと
し、同じピッチの240μmで、引き廻し配線25と平
行する方向に互いに10μmの間隔を置いて、ピッチを
半分の120μmづつずらして、マトリクス状に形成し
た。
【0039】この結果、1個の各画素内の両端の幅60
μmの領域は反射モードの表示領域となり、中央部の幅
15μmの領域は透過モードの表示領域となった。反射
モードと透過モードの領域との割合は、4対1となり従
来よりも明るい液晶表示装置とすることができた。ま
た、表示領域両側には引き廻し配線が無いので、表示領
域両側のいわゆる額縁部分は1.5mmとすることがで
き、従来の液晶表示装置と比較して額縁幅は30%に減
少し、一層の狭額縁化を図ることができた。
【0040】
【発明の効果】本発明によれば、外部との接続端子は液
晶表示領域を挟んだ一方向に配列され、接続端子と透明
電極とを結ぶ引き廻し配線は、表示領域内に収容される
ので、表示領域両側のいわゆる額縁の幅は従来の三分の
一程度の狭額縁化することができる。その結果、液晶表
示パネル全体に占める液晶表示領域の大きさを大きくで
き、相対的に液晶表示装置全体の大きさを小型化して
も、見やすい液晶表示領域を有する液晶表示装置とする
ことができる効果を有する。
【0041】さらに、本発明の液晶表示装置は引き廻し
配線が反射膜を兼ねており、半透過反射型の明るい表示
画面を有する液晶表示装置とすることができるので、液
晶表示装置の使用環境がますます広くなる利点を有す
る。また、引き廻し配線は画素間の光透過を遮蔽する機
能も有するので、従来のように特に遮蔽層を設けなくて
もコントラストに優れ、工程も簡略化できる利点を有し
ている。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1の実施形態に係わる液晶表示装
置全体を上面側から見た斜視図である。
【図2】 図1に示す液晶表示装置の表示領域の一部を
破断して透視して示す平面図である
【図3】 図1に示す液晶表示装置の1個の画素の周辺
を透視した平面図である。
【図4】 図2,図3の線A−A’に沿った断面図であ
る。
【図5】 COF実装を適用した本発明に係わる液晶表
示装置の一例を示す斜視図である。
【図6】 本発明に係わる液晶表示装置の透明電極と引
き廻し配線との接続方法を説明する図である。
【図7】 図6(c)の線B−B’に沿った断面図であ
る。
【図8】 本発明に係わる液晶表示装置の製造工程の一
例を説明する断面工程図である。
【図9】 第2の実施形態に係わる液晶表示装置を示す
斜視図である。
【図10】 図9に示す液晶表示装置の表示領域の一部
を透視した平面図である。
【図11】 図9及び図10の線C−C’に沿った断面
図である。
【図12】 COG実装を適用した第2の実施形態に係
わる液晶表示装置の一例を示す平面図である。
【図13】 第2の実施形態に係わる液晶表示装置の製
造工程の一例を説明する断面工程図である。
【図14】 図13に続く製造工程の一例を示す断面工
程図である。
【図15】 COG実装を適用した従来の半透過反射式
の液晶表示装置の例を示す斜視図である。
【図16】 図15の半透過反射式の液晶表示装置の表
示領域の一部を拡大した平面図である。
【図17】 図16の線D−D’に沿った断面図であ
る。
【図18】 従来のアクティブマトリクス式半透過反射
式カラー液晶表示装置の一例を示す斜視図である。
【図19】 図18の線E−E’に沿った断面図であ
る。
【符号の説明】
1,21・・・液晶表示装置 2,3,22,23・・・基板 4,24・・・コンタクトホール 5,25・・・引き廻し配線 6,7,26,27・・・透明電極 8,28・・・画素 9・・・表示領域 10,30・・・液晶層 11,31・・・絶縁膜 12,32・・・下側基板 13,33・・・上側基板 34,35,36・・・ カラーフィルタ層 38・・・走査線 39・・・TFD 40・・・光源 50・・・バックライト 102,202,103,203・・・基板 105・・・引き廻し配線 106,206,107,207・・・透明電極 108・・・画素 109・・・表示領域 110・・・液晶層 112,214・・・反射膜 113,214a・・・窓 117・・・FPC 118・・・駆動用IC 234・・・走査線 235,236,237・・・カラーフィルタ層 239・・・TFD 120,150・・・液晶表示装置

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 互いに対向する2枚の基板の内側面に透
    明電極を有し、該2枚の基板間に液晶を挟持した液晶表
    示装置であって、少なくとも一方の基板の各透明電極が
    金属膜からなる引き廻し配線に接続されているととも
    に、該透明電極と該引き廻し配線の少なくとも一部とが
    絶縁膜を挟んだ2層構造をなし、該引き廻し配線がもう
    一方の透明電極と平行でかつ該引き廻し配線の間隙の少
    なくとも一部が該もう一方の透明電極に対向して形成さ
    れており、さらに該透明電極と引き廻し配線の2層構造
    の少なくとも一部が液晶表示領域内に配置されてなるこ
    とを特徴とする液晶表示装置。
  2. 【請求項2】 前記透明電極と前記引き廻し配線とがコ
    ンタクトホールを介して接続されていることを特徴とす
    る請求項1に記載の液晶表示装置。
  3. 【請求項3】 前記各引き廻し配線の一端が、当該引き
    廻し配線の形成されている基板の端部に形成された端子
    に接続されていることを特徴とする請求項1に記載の液
    晶表示装置。
  4. 【請求項4】 前記液晶表示装置が半透過反射式である
    ことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記
    載の液晶表示装置。
  5. 【請求項5】 前記引き廻し配線と平行で、かつ同じ幅
    で同一ピッチで形成された金属反射膜を具備したことを
    特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の液
    晶表示装置。
  6. 【請求項6】 前記液晶表示装置がカラー表示方式ある
    ことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに記
    載の液晶表示装置。
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