JP2002206914A - 斜入射干渉計装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 低可干渉性光源を使用し、コリメータレンズ
から出射以降、単独部材よりなる光束分割合成手段で合
成されるまでの参照光と測定光の光路長を略等しく構成
し、良好な干渉縞測定精度とコンパクト性とを有し、被
検体裏面からの反射光による干渉縞ノイズ発生を防止す
る斜入射干渉計装置を得る。 【構成】 光源部10からの光束はコリメータレンズ15を
介し、裏面にハーフミラーを備えた光束分割合成手段1
に入射され、反時計回り分割部位3に入射した光線束の
一部が参照光4aCCとなり、時計回り分割部位2に入射し
た光線束の一部が測定光5aCとされる。参照光4aCCは補
償板12を介し参照面16aに照射され参照光4bCCとされ、
測定光5aCは被検面17aに斜入射され被検面情報を担持し
た測定光5bCとされる。反時計回り分割部位3のハーフミ
ラー面で参照光4bCCと測定光5bCとが合成され、この合
成光による干渉縞がコリメータレンズ15等によりＣＣＤ
受光面11上で被検面像に重畳される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、比較的大きい凹凸
が形成されている面の表面形状測定にも適応し得る斜入
射干渉計装置に関し、詳しくは参照光と測定光との光路
を分割し、参照面で反射された参照光と被検面で反射さ
れた測定光とを合成することにより光干渉を行なわしめ
る斜入射干渉計装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より、可干渉光を被検面に対して斜
めに入射し、測定感度を低下させることによってある程
度凹凸の大きい被検面の表面形状測定を可能とした斜入
射干渉計装置が知られている。このような斜入射干渉計
装置としては種々のタイプのものが知られており、図７
に示すものはその一例として、本出願人により特開平７
−260419号公報に開示された装置である。

【０００３】すなわち、この斜入射干渉計装置は、図７
に示すように、レーザ光源２０から射出された可干渉光
２１が発散レンズ２２およびピンホール板２３によって
発散光線束とされ、この後、反射ミラー２４、ハーフプ
リズム２９によって方向を転換され、コリメータレンズ
２５によって平行光線束とされ、この後、参照板２６の
参照面２６ａに照射される構成とされている。この参照
面２６ａは平面精度の高いハーフミラー面とされてお
り、照射された平行光線束の一部を透過して平行光線束
３１（３１ａ，３１ｂ）を生成するとともに、その余の
平行光線束を反射して参照光３３（３３ａ，３３ｂ）を
生成する。参照面２６ａを透過した平行光線束３１は被
検体２７の被検面２７ａ上に照射され、この被検面２７
ａにより反射されて、被検面情報を担持した物体光３２
（３２ａ，３２ｂ）が生成される。

【０００４】ここで被検面２７ａには、参照面２６ａを
通過して直接入射する平行光線束３１ａと、平面反射ミ
ラー２８を経由して入射する平行光線束３１ｂが照射さ
れるが、両光線束３１ａ，３１ｂは共に作用が同様であ
るので、主として入射光線束３１ａとそれにより発生す
る測定光３２ａについて説明する。上記物体光３２ａ
は、被検面２７ａに対して垂直に配された平面反射ミラ
ー２８により全反射されるため、参照面２６ａからの平
行光線束３１に平行となって参照面２６ａに再入射す
る。この後、参照光３３ｂと物体光３２ａはハーフプリ
ズム２９を通過し、その両者の光干渉により形成された
干渉縞がＣＣＤ受光面３０ｂ上に結像される。

【０００５】なお、参照光３３ａと物体光３２ｂは、ハ
ーフプリズム２９を通過しその両者の光干渉により形成
された干渉縞がＣＣＤ受光面３０ａ上に結像される。受
光面３０ａと受光面３０ｂ上に形成された干渉縞は互い
に鏡像関係となっており、これらの干渉縞像の一方の、
ビデオ信号に変換された干渉縞像を、モニタ上に映出さ
せることにより被検体２７の被検面２７ａの形状を測定
するようになっている。

【０００６】この斜入射干渉計装置はこのような構成に
より、良好な測定精度を有しつつ簡易かつコンパクトな
構成の装置とされている。すなわち、被検面２７ａから
反射した測定光３２が参照面２６ａを透過した可干渉光
が参照面２６ａに戻るまでの間に、被検面２７ａ上に１
回だけ照射されるようになっているので、参照面２６ａ
に戻った測定光３２とこの参照面２６ａで反射された参
照光３３との間の光干渉により生じた干渉縞の解析が、
上記可干渉光が被検面２７ａ上に２回照射される通常の
測定方法に比べ容易で、また測定精度の低下を防止する
ことができる。

【０００７】さらに、この装置では上記反射ミラー２８
によって参照面２６ａ方向に測定光３２を戻しており、
この反射ミラー２８以外の光学部材は被検体２７ａより
も参照板２６側に配されることとなり、また、この反射
ミラー２８は被検体２７に近接させることが可能である
から、バーチ型の斜入射干渉計装置と比べ被検面２７ａ
の面方向の装置の幅を小さくすることができ、装置のコ
ンパクト化を図ることが可能となる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながらこの装置
では、被検体が薄板の平行平面ガラスのような場合に
は、被検面を透過し被検面と反対側の面（以下、この面
を裏面と称する）で反射した光も参照光と合成され、被
検面の干渉縞像のノイズとなってしまうことがあり問題
となる。良好な測定精度と装置のコンパクト性を維持し
つつ、さらに、このような裏面からのノイズを除去し得
る斜入射干渉計が要望されている。

【０００９】裏面からのノイズを除去し得る斜入射干渉
計装置としては、例えば、特公平６−17787号公報に開
示されたもののように、低可干渉性光源を用いる方法が
ある。この方法によれば、光源特性により干渉縞像は光
路長が略等しい場合にのみ生じることになるため、参照
光と被検面での反射光との光路長が略等しくなるよう構
成する必要がある。この場合、薄板の平行平面ガラスの
裏面からの反射光は参照光や被検面での反射光とは光路
長が異なり互いに干渉し難いので、裏面からのノイズな
く被検面形状を測定することができる。

【００１０】しかし、上記特開平７−260419号公報に開
示された装置はその構成上、測定光と参照光の光路長を
略等しくするのは原理的に困難である。また、上記特公
平６−17787号公報記載の斜入射干渉計装置は、２つの
ハーフミラーと２つの全反射ミラーを配することにより
測定光と参照光の光路長が略等しくなるように構成され
た装置であるが、この装置はこれらのうち２つのハーフ
ミラーと１つの全反射ミラーを被検面に対し垂直に位置
させるものであり、コンパクトな構成とすることは困難
である。

【００１１】本発明は、このような事情に鑑みなされた
ものであって、良好な測定精度と装置のコンパクト性を
維持しつつ、被検体裏面からの反射光によるノイズを除
去し得る斜入射干渉計装置を提供することを目的とする
ものである。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明の斜入射干渉計装
置は、被検体の近傍に平面反射ミラーを配置し、光源か
らの出射光をコリメータレンズで平行光となし、この平
行光よりなり前記被検体の被検面に対して斜め入射さ
れ、該被検面および該平面反射ミラーをこの順または逆
の順に経由する測定光と、該平行光よりなり参照面で反
射された参照光とを合成し互いに干渉させ、生成された
干渉縞を干渉縞観察手段に形成させるように構成された
斜入射干渉計装置において、前記コリメータレンズから
前記被検面または前記平面反射ミラーに至る光路中に、
前記コリメータレンズからの平行光を二分し、一方を前
記被検体および前記平面反射ミラーに入射する前記測定
光となすと共に他方を前記参照面に入射する参照光とな
す、単独の部材よりなる光束分割合成手段を配設し、前
記光源として可干渉距離の短い低可干渉性の光源を用
い、該参照光と該測定光の、両光が前記コリメータレン
ズから出射されて以降、前記光束分割合成手段における
分割を経て該光束分割合成手段において合成されるまで
の光路長差が、該参照光と該測定光とが互いに干渉を生
じる範囲内に設定されているように構成されたことを特
徴とするものである。

【００１３】また、前記分割面において分割された前記
測定光が、前記平面反射ミラーおよび前記被検面におい
てこの順に反射され、前記合成面において前記参照光と
合成されるように構成されてなることが好ましい。

【００１４】また、前記光束分割合成手段には、所定位
置に前記ハーフミラー面と全反射面とが形成され、この
全反射面における反射光が前記測定光とされるように構
成されてなることが好ましい。

【００１５】また、前記光束分割合成手段には、所定位
置にハーフミラー面と素通し面が形成され、この素通し
面における透過光が前記測定光とされるように構成され
てなることも好ましい。

【００１６】さらに、前記被検面に斜入射される前記測
定光が、該被検面に対しＳ偏光の光束とされていること
がより好ましい。

【００１７】なお、上記「単独の部材」とは一平板状の
部材のことを意味するものであり、例えば、複数の平板
状の部材を面一とならないような位置関係で連結させて
一部材とされているようなものを意味するものではな
い。また、上記「光束分割合成手段」とは、光束分割合
成手段に入射した光束のうち所定位置に入射した光束が
前記参照光とされ、その余の光束のうち他の所定位置に
入射した光束が前記測定光とされ得るような面を保有す
るとともに、前記被検体および前記平面反射ミラーを経
由した前記測定光光束が前記参照板から戻ってきた参照
光と所定位置において合成され得るような面を保有する
手段を意味するものである。なお、このようにして分割
された参照光および測定光について、その両方またはい
ずれか一方の光がさらに分割され、それらの一部が参照
光や測定光として合成されるように構成されていても構
わない。

【００１８】また、上記「可干渉距離の短い低可干渉性
の光源」とは、例えばシングルモードレーザのような可
干渉距離の長い可干渉性の光源でなく、一般に干渉計の
基準板として用いられる程度の平行平面板の表裏面間隔
よりも可干渉距離が短い特性を有する光源を意味するも
のである。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態につい
て、後述する実施例１に係る斜入射干渉計装置の図面を
代表として参照しながら説明する。図１は実施例１に係
る斜入射干渉計装置の構成を示す概略図である。

【００２０】この装置は、光源からの可干渉距離の短い
低可干渉性の光をコリメートしたのち参照光および測定
光に分割し、測定光を被検面に斜入射させ、この被検面
から反射された測定光および参照面から反射された参照
光を合成し互いに干渉させ、生成された干渉縞を干渉縞
観察用結像面上に形成させるように構成された斜入射干
渉計装置である。

【００２１】可干渉距離の短い低可干渉性の光源を備え
た光源部１０から射出された発散光線束は、ハーフプリ
ズム１９によって方向を転換され、コリメータレンズ１
５によって平行光線束とされ、この後、光束分割合成手
段１に入射される。この光束分割合成手段１は平板状の
単独の部材よりなり、後述するようにコリメート光を参
照光４ａ（４ａＣおよび４ａＣＣを４ａと総称する）お
よび測定光５ａ（５ａＣおよび５ａＣＣを５ａと総称す
る）に分割するとともに、参照光４ｂ（４ｂＣまたは４
ｂＣＣのうち干渉縞生成に関わる光束を４ｂと称する）
と測定光５ｂ（５ｂＣまたは５ｂＣＣのうち干渉縞生成
に関わる光束を５ｂと称する）とを合成する機能を有す
る。ここで参照光４ｂは、参照光４ａが参照面１６ａで
反射されて戻ってきた光束であり、測定光５ｂは、測定
光５ａが前記被検体および前記平面反射ミラーを経由し
て前記光源からの光軸に略一致した光軸で逆送してきた
光束である。なお、この光束分割合成手段１は、図１に
示されるような単独の部材からなるものばかりでなく、
複数の平板状の部材を、参照光４ａと測定光４ａを分割
する面および参照光４ｂと測定光５Ｂを合成する面が各
々面一となるように連結あるいは結合させて、一部材と
なしたものであっても良い。

【００２２】図２は、図１に示された斜入射干渉計装置
の光束分割合成手段１をＡ方向より見た図である。図１
および図２に示されるとおり、光束分割合成手段１に入
射された平行光線束は、ハーフミラー面が形成された光
束分割合成面１ａにおいて分割されて、透過光が参照光
４ａとされ反射光が測定光５ａとされる。

【００２３】すなわち、光束分割合成手段１で反射され
た測定光５ａのうち光束分割合成面１ａの時計回り分割
部位２で反射された光束５ａＣは、平面反射ミラー１８
で反射されて被検体１７の被検面１７ａに斜入射し反射
されて被検面１７ａの情報を担持した測定光５ｂＣとな
り、時計回りに光束分割合成面１ａの反時計回り分割部
位３に戻る。他方、光束分割合成手段１に入射された平
行光線束光束のうち分割合成面１ａの反時計回り分割部
位３で反射された光束５ａＣＣは、前記光束５ｂＣおよ
び５ａＣの光路を光束５ａＣＣおよび５ｂＣＣとして逆
送して、反時計回りに光束分割合成面１ａの時計回り分
割部位２に戻る。

【００２４】また、光束分割合成面１ａを透過した参照
光４ａのうち前記反時計回り分割部位３を透過した光束
４ａＣＣは、補償板１２を介し、参照板１６の参照面１
６ａに照射される。この参照面１６ａは平面精度の高い
反射面とされており、照射された参照光４ａＣＣを参照
光４ｂＣＣとして前記光束分割合成手段１の光束分割合
成面１ａの反時計回り分割部位３に向けて反射する。な
お、前記時計回り分割部位２を透過した光束４ａＣにつ
いては、図示のとおり光路上に補償板１２および参照板
１６が配されておらず、前記光束分割合成手段１の光束
分割合成面１ａの時計回り分割部位２に戻ることはな
く、干渉縞の生成に関与するものではないので、説明は
省略する。

【００２５】この結果、前記光束分割合成手段１の光束
分割合成面１ａにおいては、その反時計回り分割部位３
においてのみ参照光４ｂＣＣと測定光５ｂＣが合成され
ることになる。なお、時計回り分割部位２に戻った測定
光５ｂＣＣについては、参照光束が戻ってこないために
参照光と合成されることがなく、干渉縞の生成に関与す
るものではないので、説明は省略する。

【００２６】ここで、この斜入射干渉計装置は、参照光
４ａＣＣ、４ｂＣＣ（以下、干渉縞生成に関与する参照
光を参照光４と称する）と測定光５ａＣ、５ｂＣ（以
下、干渉縞生成に関与する測定光を測定光５と称する）
の、両光がコリメータレンズから出射されて以降、光束
分割合成手段における分割を経て光束分割合成手段にお
いて合成されるまでの光路長差が、参照光４と測定光５
とが互いに干渉を生じる範囲内に設定されている。ま
た、この斜入射干渉計装置は光源として可干渉距離の短
い低可干渉性の光源を用いているので、参照光４と測定
光５の光路長差はごく小さく、両光の光路長は略等しい
ということができる。

【００２７】すなわち、コリメータレンズ１５を出射直
後の光束中に光軸と直交する仮想面を想定した場合、測
定光５の光路長は、この仮想面から、光束分割合成手段
１の光束分割合成面１ａの時計回り分割部位２で反射さ
れ、平面反射ミラー１８で反射されて被検体１７の被検
面１７ａに斜入射し、反射されて光束分割合成手段１の
光束分割合成面１ａの反時計回り分割部位３に戻るまで
となる。他方、参照光４の光路長は、この仮想面から、
光束分割合成手段１の光束分割合成面１ａの反時計回り
分割部位３を透過し、補償板１２を透過して参照板１６
の参照面１６ａで反射され、再び補償板１２を透過して
光束分割合成手段１の光束分割合成面１ａの反時計回り
分割部位３に戻るまでとなり、これらの光路長を略等し
くなるように構成しているためこの合成光は光干渉を生
じる。

【００２８】本実施形態によれば、このように参照光４
と測定光５の光路長を略等しくなるよう構成しているこ
とにより、光源部１０の光源が可干渉性の高い光源では
なく、例えば発光ダイオードの如き可干渉距離の短い低
可干渉性の光源であっても、この合成光は光干渉を生じ
る。この干渉縞を持つ合成光はコリメータレンズ１５と
図示しない結像レンズによりＣＣＤ受光面１１に到達
し、コリメータレンズ１５と図示しない結像レンズでＣ
ＣＤ受光面１１上に結像された被検面１７ａの像上に重
畳する。このＣＣＤ受光面１１上に形成された干渉縞像
をビデオ信号に変換し、モニタ（図示せず）上に映出さ
せることにより、被検体１７の被検面１７ａの形状を測
定するようになっている。

【００２９】なお、参照板１６は極めて平面度の高い参
照面１６ａを有しており、例えば石英ガラス板で形成さ
れることができる。また、平面反射ミラー１８は平面度
の高い石英ガラス面に反射膜を蒸着することにより構成
されることができる。

【００３０】以下、本実施形態の作用効果について説明
する。まず、本実施形態によれば良好な測定精度と装置
のコンパクト性を維持しつつ、被検体裏面からの反射光
によるノイズを除去し得る斜入射干渉計装置を得ること
ができる。

【００３１】すなわち本実施形態の斜入射干渉計装置に
よれば、干渉縞の形成に関与する測定光５は光束分割合
成手段１から被検面１７ａを経由して再び光束分割合成
手段１に戻るまでの間に被検面１７ａ上に１回だけ照射
されるようになっているので上記従来例と同程度の良好
な測定精度を得ることができる。また、本実施形態の斜
入射干渉計装置においても、光束分割合成手段１から出
て光束分割合成手段１に至る測定光５の光路中に平面反
射ミラー１８が配置され光束分割合成手段１方向に測定
光５を戻すように作用しており、この平面反射ミラー１
８以外の光学部材は被検体１７よりも光束分割合成手段
１側に配されることとなり、また、この平面反射ミラー
１８は被検体１７に近接させることが可能であるから、
装置のコンパクト性を維持している。

【００３２】さらに、本実施形態の斜入射干渉計装置に
よれば、光源として低可干渉性光源を用いるとともに、
平行光束がコリメータレンズ１５から出射したのち光束
分割合成手段１を経て再度光束分割合成面１ａに戻るま
での、参照光４および測定光５の光路長が互いに略等し
くなるように構成されている。これにより、平行平面ガ
ラスのような被検体１７の場合にも、被検体裏面からの
反射光は参照光４や測定光５とは光路長が異なり互いに
干渉し難いので、裏面からのノイズなく被検面形状を測
定することができる。なお、このような低可干渉性光源
としては、例えば、発光ダイオードや横モードが単一で
縦モードがマルチモードのレーザなどを用いることが好
ましい。ただし、低可干渉性光源としてはこれ以外にも
例えば自然光や蛍光灯などがあり、これらを光源とする
ことを妨げるものではない。

【００３３】また、本実施形態の斜入射干渉計装置は、
ハーフミラー面が形成された光束分割合成面１ａを備え
た単独の部材よりなる光束分割合成手段１を備え、この
光束分割合成手段１がコリメート光を参照光４ａおよび
測定光５ａに分割し、かつ参照面１６ａで反射された参
照光４ｂＣＣおよび被検面１７ａから反射された測定光
５ｂＣを合成する機能を有している。この光束分割合成
手段１は、上述した特公平６−17787号公報に開示され
た装置の２つのハーフミラーを、いわば一体化させたよ
うな機能を有するものである。しかしながら、この従来
例においてこれらのハーフミラーを一平板状の部材とし
て構成することは想定されておらず、また、これらのハ
ーフミラーを被検面１７ａに対し垂直に位置させるこの
従来例の構成において、これら２枚のハーフミラーを一
平板状の部材により代替させることは不可能である。本
実施形態によれば、このような単独の部材による光束分
割合成手段１を備えることにより部材数が低減され、こ
れに伴い装置のコンパクト化やコスト低減や、部材の光
学調整が容易になるという利点がある。

【００３４】この光束分割合成手段１についてさらに詳
しく説明する。光束分割合成手段１は光束分割合成面１
ａ全面がハーフミラー面とされていることがコスト的に
も部材の光学調整を容易にするためにも好ましいが、被
検体１７の被検面１７ａを余裕を持ってカバーし得る光
束を測定光５ａＣとして送出するに足る範囲のみをハー
フミラー面とすることも可能である。また、所定位置に
光束通過用の開口を設けると共に光学部材固定用の座を
設けた金属円盤上に２つのハーフミラーをその表面が略
同一平面となるように配設したものであっても良い。

【００３５】この光束分割合成手段１は図１および２に
示されるように、光源部１０から遠い側の面（以下、こ
の面を裏面と称する）が光束分割合成面１ａとされハー
フミラー面となっている。前述したように、コリメータ
レンズ１５からの平行光束のうち、光束分割合成面１ａ
の時計回り分割部位２に入射した光束は時計回り分割部
位２のハーフミラー作用により反射されて測定光束５ａ
Ｃとして平面反射ミラー１８経由で被検体１７の被検面
１７ａに斜入射し、反射されて測定光５ｂＣとなり前記
光束分割合成面１ａの反時計回り分割部位３に戻り、そ
のハーフミラー作用により反射されてコリメータレンズ
１５方向に逆送せしめられている。また、コリメータレ
ンズ１５からの平行光束のうち、光束分割合成面１ａの
反時計回り分割部位３に入射した光束は、そのハーフミ
ラー作用により透過して参照光束４ａＣＣとして補償板
１２経由で参照板１６の参照面１６ａに入射し、反射さ
れて参照光４ｂＣＣとなり補償板１２を経由して光束分
割合成面１ａの反時計回り分割部位３に戻り、そのハー
フミラー作用により透過して測定光５ｂＣと合成され
る。

【００３６】ここで、前述した被検体１７の被検面１７
ａを余裕を持ってカバーし得る光束を測定光５ａＣとし
て送出するに足る範囲のみをハーフミラー面とすること
について、図３に基づき説明する。ハーフミラー面が形
成される時計回り分割部位２および反時計回り分割部位
３は、図３に示されるとおり、その長軸が互いに平行な
楕円形状の範囲とされることが好ましい。すなわち時計
回り分割部位２は被検面１７ａに照射される測定光５ａ
Ｃをその余の光と分割する部位であり、この測定光５ａ
Ｃは被検面１７ａに対し斜入射されるので、被検面１７
ａ上に照射される光束が円形状となるためには、被検面
１７ａに斜入射されて拡大される方向に短軸を取り、長
軸は被検面１７ａでの光束サイズとして必要とされた長
さの楕円形状の光束が時計回り分割部位２から被検面１
７ａに照射されればよいことになる。

【００３７】しかし、光学部材の配設位置公差の拡大あ
るいは光学部材の製作公差の拡大のためには、それら公
差の拡大に伴って被検面１７ａに入射する測定光５ａＣ
が設計上の入射位置から平行移動する分を十分にカバー
できる程度に測定光５ａＣの光束を大きくする、すなわ
ち、時計回り分割部位２のハーフミラー面を余裕を持っ
たサイズのものとすることが望ましい。また、反時計回
り分割部位３のハーフミラー面は測定光５ｂＣと参照光
４ｂＣＣとを合成する部位であり、時計回り分割部位２
と同様の理由から時計回り分割部位２と同形状とされて
いることが好ましい。

【００３８】なお、以上の説明において時計回り分割部
位２はハーフミラー面として説明してきたが、図１にお
いてより好ましくは、この時計回り分割部位２には全反
射面が形成されていることが望ましい。すなわち、この
全反射面における反射光が測定光５ａＣとされて被検面
１７ａに照射され、測定光５ｂＣとしてハーフミラー面
が形成された反時計回り分割部位３において参照光４ｂ
ＣＣと合成されるように構成されていることが望まし
い。

【００３９】時計回り分割部位２がハーフミラー面とさ
れている場合には、この面を透過する平行光線束４ａＣ
は不要な光となってしまうので、この面が全反射面とさ
れている方が効率よく光量を利用することができる。ま
た、ＣＣＤ受光面１１においてコントラストの良い干渉
縞像は、参照光４ｂと測定光５ｂの光量がバランスよく
合成された場合に生じるので、被検面１７ａの反射率に
よっては測定光５ｂの光量が測定光５ａに比べかなり減
少することを考慮し、予め参照光４ａの光量よりも測定
光５ａが多くなるように構成することは効果的である。

【００４０】なお、同様に参照光４および測定光５の光
量を調節する手段として、いずれか一方または両方の光
路中に光量調節用のフィルタを配置するように構成して
もよい。図１にその例として、点線で光量調節用フィル
タ１４ａ、１４ｂを示す。

【００４１】また、本実施形態の斜入射干渉計におい
て、被検面１７ａに斜入射される測定光５ａＣが、被検
面１７ａに対しＳ偏光の光束とされているように構成す
ることで、被検面１７ａにおける反射光量を増加させ、
それに伴い被検体１７の裏面に到達する光量を抑え、そ
の結果として被検体１７の裏面からのノイズをさらに低
減し、コントラストの良好な干渉縞像を得、測定精度を
向上させることが可能となる。前述したように本実施形
態は、可干渉距離の短い低可干渉性光源を用い、参照光
４と測定光５とがコリメータレンズ１５を出射して以降
光束分割合成手段１で合成されるまでの、参照光４およ
び測定光５の光路長が互いに略等しくなるように構成さ
れているので、被検体１７の裏面からの反射光は干渉を
生じにくい。しかしこの裏面からの反射光は、ＣＣＤ受
光面１１上で干渉縞ノイズを生じることはないとして
も、参照光４と測定光５による合成光とともにＣＣＤ受
光面１１に入射することになるので、干渉縞像のコント
ラストを悪化させる虞がある。

【００４２】本実施形態のように被検面１７ａへの入射
角の大きい斜入射干渉計においては、Ｓ偏光はかなり反
射されやすく被検面１７ａでの透過率は低いので、被検
面１７ａを透過して裏面へ向かう光および裏面から反射
されて被検面１７ａを透過してＣＣＤ受光面１１へ向か
う光は少なく、その結果、裏面からの反射光が干渉縞像
に与える影響は低減される。

【００４３】このように、被検面１７ａに斜入射される
測定光５ａを被検面１７ａに対しＳ偏光の光束とする方
法としては、例えば横モードが単一で縦モードがマルチ
モードの直線偏光レーザのような光源を用い所定の偏光
方向を有する光束が光源部１０から射出されるように構
成することや、横モードが単一で縦モードがマルチモー
ドの円偏光レーザや発光ダイオードなどを用いるととも
に光源部１０から被検面１７ａに至る光路中に所定の偏
光成分のみを透過する偏光板を配置することが可能であ
る。図１にその例として、点線で偏光板１３を示す。

【００４４】また、本実施形態の斜入射干渉計におい
て、干渉縞生成に関わる測定光５は図１に示す測定光５
ａＣのように、まず平面反射ミラー１８において反射さ
れ、その後被検面１７ａにおいて反射されて、光束分割
合成手段１に向かうように構成されてなることが好まし
い。すなわち、凹凸面を有する被検面１７ａの形状によ
っては反射された測定光５ｂＣが広がりを持つため、被
検面１７ａが後段の光束分割合成手段１と近い位置に配
置される方が合理的な構成となる。

【００４５】さらに、本実施形態において、この平面反
射ミラー１８が、図１に示すように被検面１７ａに対し
垂直に配されているので、測定光５ｂＣは光束分割合成
手段１の時計回り分割部位２からの測定光５ａＣに平行
となって反時計回り分割部位３に入射する。したがっ
て、このように配置されていれば、装置の測定感度を変
化させるために測定光５ａの被検面１７ａへの入射角を
変化させた場合にも測定精度を良好に維持することが容
易となる。

【００４６】測定光５ａの被検面１７ａへの入射角を変
化させる方法としては、例えば、図１に示すように、Ｂ
方向に光束分割合成手段１の角度を可変とする方法があ
る。この場合、補償板１２は光束分割合成手段１と平行
性を維持するように一体として回転させることが好まし
い。このように測定光５ａの被検面１７ａへの入射角を
変化させると、この変化に応じて被検面１７ａや平面反
射ミラー１８の位置を移動させる必要が生じる場合があ
る。このような場合に平面反射ミラー１８を、Ｃ方向と
して示されるように上下方向（ミラー面方向）あるいは
左右方向（ミラー面に対して垂直方向）にスライドさせ
得るようにしておけば、この平面反射ミラー１８を大径
のものとすることなく、測定光５ａを光束分割合成手段
１方向に反射させることが可能となる。また、被検体１
７を、Ｄ方向として示されるように上下方向（被検面に
対して垂直方向）あるいは左右方向（被検面方向）にス
ライドさせ得るようにして、測定光５ａを光束分割合成
手段１方向に反射させることも可能である。

【００４７】また、光束分割合成手段１の配置角度は、
光束分割合成面１ａが被検面１７ａに対し平行に近づく
ほど被検面１７ａへの入射角が大きくなるので、斜入射
により被検面１７ａ上では所定方向の光束径が拡大され
る。したがって、光束分割合成面１ａ上の時計回り分割
部位２および反時計回り分割部位３に関しては、ハーフ
ミラー加工あるいは全反射ミラー加工される部分は楕円
形状の短軸方向（図３参照）がより短くてよいので、加
工の必要な面積は縮小される。また、この場合時計回り
分割部位２と反時計回り分割部位３が光束分割合成面１
ａの中心に近づくため光束分割合成手段１を一層小型化
できる。

【００４８】被検面１７ａへの入射角を変化させる方法
としては、これ以外にも、被検体１７と平面反射ミラー
１８を除いて光源部１０から参照面１６までの各構成要
素を一体として回動させる方法や、被検体１７、平面反
射ミラー１８、光束分割合成手段１および補償板１２を
除く光源部１０から参照面１６までの各構成要素を一体
として回動させる方法等が可能である。

【００４９】なお、測定光５ａの被検面１７ａへの入射
角を変化させる場合にも、参照光４と測定光５とがコリ
メータレンズ１５を出射して以降、光束分割合成面１ａ
の反時計回り分割部位３においてに合成されるまでの、
両光の光路長は互いに略等しくなるように構成される必
要があるので、必要に応じ参照板１６が、あるいはその
他の部材も移動可能であるように構成されていてもよ
い。

【００５０】以上説明したように平面反射ミラー１８が
被検面１７ａに対し垂直に配されている場合には、装置
の測定感度を変化させるために測定光５ａの被検面１７
ａへの入射角を変化させることも容易であり、部材の調
整も容易となる利点がある。

【００５１】また、本実施形態の装置には、参照光４の
光路中に光束分割合成手段１と同材質で同じ厚みの補償
板１２が配置され、コリメータレンズ１５を出射して以
降、光束分割合成面１ａの反時計回り分割部位３に至る
参照光４と測定光５がともに同回数（図１においては３
回）この材質中を透過するように構成されている。これ
により干渉縞像は色滲みが低減されコントラストの劣化
を防止することができ、測定精度が向上されるものであ
るが、本実施形態において実用上はこのような補償板１
２は必須ではなく、また、必ずしも参照光４の光路中に
のみ配置されるものでもない。

【００５２】また、本実施形態の装置において、補償板
１２および参照板１６は参照光４ａＣＣの光路にのみ配
設される大きさとされている。これらの部材の大きさは
特に規定されるものではなく、例えば参照光４ａＣも補
償板１２を透過し参照板１６により反射され得るような
大きさとされていてもよい。しかしながら、たとえこの
ようにして参照光４ａＣが参照板１６により反射され、
測定光５ｂＣＣと光束分割合成手段１の光束分割合成面
１ａの時計回り分割部位２において合成されたとして
も、これによりＣＣＤ受光面１１上に形成された干渉縞
は参照光４ｂＣＣと測定光５ｂＣにより形成された干渉
縞と互いに鏡像関係となるに過ぎず、本実施形態の装置
により得られる情報以上のものが得られるわけではな
い。したがって、むしろ本実施形態のように各部材を小
さくし、省スペース化および低コスト化を図ることが好
ましい。

【００５３】また、本実施形態の斜入射干渉計装置にお
いて、干渉縞を測定する際にコンピュータを用いたフリ
ンジスキャニング法（位相シフト法）等を実施して位相
解析処理するように構成してもよい。例えば参照板１６
を、ピエゾアクチュエータ４１を用いて光軸方向に微小
量移動させることにより、各々の測定における参照光と
測定光の光路長差を変化させ位相走査を行うことができ
る。

【００５４】また、ピエゾアクチュエータ４１を用いて
参照板１６の位置および傾き制御を行うように構成する
ことも可能である。すなわち、測定される干渉縞が撮像
カメラのＣＣＤ受光面１１上に結像され、画像入力基板
を介してＣＰＵおよび画像処理用のメモリを搭載したコ
ンピュータに入力され、入力された干渉縞画像データに
対して種々の演算処理が施されてピエゾアクチュエータ
４１の過不足変位量が求められ、この過不足変位量が補
充されるようにピエゾ駆動部から、ピエゾアクチュエー
タ４１に対し駆動信号を送出させるように指示され、こ
れによりピエゾアクチュエータ４１に保持された参照板
１６が所定の微小量だけ移動するように構成されること
ができる。

【００５５】

【実施例】以下、本発明の各実施例について説明する。
各実施例において同様の部材には同一の符号を付してい
る。

【００５６】＜実施例１＞図１に示すように、本実施例
に係る斜入射干渉計装置は、平行平面板よりなる光束分
割合成手段１を備えた装置であり、この光束分割合成手
段１の裏面が光束分割合成面１ａとなっており、光束分
割合成面１ａは時計回り分割部位２と反時計回り分割部
位３で構成されている。また、図２はこの光束分割合成
手段１を図１に示されたＡ方向より見た図である。

【００５７】すなわち、コリメータレンズ１５で平行光
線束とされた光源部１０からの光は、光束分割合成手段
１の光束分割合成面１ａに形成されたハーフミラー面に
おいて、参照光４ａおよび測定光５ａに分割される。参
照光４ａとして光束分割合成面１ａを透過した光束のう
ち光束分割合成面１ａの反時計回り分割部位３を透過し
た光は、参照光４ａＣＣとして補償板１２を経由して参
照面１６ａに照射され、この参照面１６ａにより光束分
割合成面１ａの反時計回り分割部位３に向けて参照光４
ｂＣＣとして反射される。他方、測定光５ａとして光束
分割合成面１ａで反射された光束のうち光束分割合成面
１ａの時計回り分割部位２で反射された光は、測定光５
ａＣとして平面反射ミラー１８により全反射されたのち
被検面１７ａに斜入射される。そして、この被検面１７
ａにより測定光５ｂＣとして光束分割合成面１ａの反時
計回り分割部位３に向けて反射される。

【００５８】参照光４ｂＣＣと被検面情報を担持した測
定光５ｂＣとは、光束分割合成手段１の反時計回り分割
部位３に導かれ、この面において合成される。本実施例
においてハーフミラーで構成される光束分割合成面１ａ
は光束分割合成手段１の裏面とされ、その反時計回り分
割部位３において、この面を透過する参照光４ｂＣＣと
この面で反射される測定光５ｂＣが合成される。この斜
入射干渉計装置は、参照光４と測定光５とがコリメータ
レンズ１５を出射して以降、光束分割合成面１ａの反時
計回り分割部位３においてに合成されるまでの、両光の
光路長が互いに略等しくなるように構成されているの
で、この合成光は光干渉を生じる。この干渉縞情報を担
持した合成光はコリメータレンズ１５と図示しない結像
レンズによりＣＣＤ受光面１１に到達し、コリメータレ
ンズ１５と図示しない結像レンズでＣＣＤ受光面１１上
に結像された被検面１７ａの像上に重畳する。

【００５９】上述のとおり本実施例の斜入射干渉計装置
は、可干渉距離の短い低可干渉性光源を用い、コリメー
タレンズから出射以降合成されるまでの参照光と測定光
の光路長が互いに略等しくなるよう構成されている。し
たがって、被検体裏面からの反射光による干渉縞ノイズ
を発生させることなく干渉縞測定を行うことができる。

【００６０】なお、本実施例および以下に示す各実施例
において、所定位置に光量調整用フィルタ１４ａ、１４
ｂ、偏光板１３を配置してもよく、また、光束分割合成
手段１の角度を方向Ｂに示すように回動させたり、平面
反射ミラー１８を方向Ｃに示すようにスライドさせた
り、被検体１７を方向Ｄに示すようにスライドさせたり
してもよい。なお、以下に示す実施例２〜４において
は、図の煩雑を避けるためこれらの図示は省略されてい
る。

【００６１】＜実施例２＞図４は、本発明に係る斜入射
干渉計装置の実施例１と異なる態様の主要部を示す図で
ある。この装置の光束分割合成手段１は実施例１と同様
に、裏面が光束分割合成面１ａとなっているが、光束分
割合成面１ａの反時計回り分割部位３が全反射面で時計
回り分割部位２がハーフミラー面で構成されている。本
実施例の装置は、反時計回り分割部位３が全反射面であ
ることと測定光５が反時計回りに被検面１７ａ、平面反
射ミラー１８を経由して光束分割合成面１ａの時計回り
分割部位２に戻ることが実施例１の態様と異なるところ
である。

【００６２】すなわち、この装置の実施例１との相違点
は、光束分割合成手段１の光束分割合成面１ａに入射
し、反時計回り分割部位３の全反射面で反射された測定
光５ａＣＣは被検面１７ａに斜入射し、被検面情報を担
持した測定光５ｂＣＣとして平面反射ミラー１８を経由
して光束分割合成面１ａの時計回り分割部位２に戻り、
一方、光束分割合成面１ａの時計回り分割部位２を透過
した参照光４ａＣは参照面１６ａで反射され参照光４ｂ
Ｃとなって時計回り分割部位２に戻り測定光５ｂＣＣと
合成される点にある。また、測定光５ａＣＣの光量を増
加させるために光束分割合成面１ａの反時計回り分割部
位３を全反射面としていることも異なる点である。な
お、本実施例の光束分割合成手段１においても、実施例
１と同様に所定位置のみ全反射面とハーフミラー面が形
成された構成、あるいは所定位置に光束通過用の開口を
設けると共に光学部材固定用の座を設けた金属円盤上に
全反射鏡とハーフミラーをその表面が略同一平面となる
ように配設した構成とされていても良い。

【００６３】なお、本実施例においても実施例１と同様
に、光束分割合成面１ａの時計回り分割部位２において
合成された被検面情報を担持した測定光５ｂＣＣと参照
光４ｂＣは光干渉を生じ、この干渉縞情報を担持した合
成光はコリメータレンズ１５と図示しない結像レンズに
よりＣＣＤ受光面１１に到達し、コリメータレンズ１５
と図示しない結像レンズでＣＣＤ受光面上に結像された
被検面１７ａの像上に重畳する。

【００６４】上述のとおり本実施例の斜入射干渉計装置
は、可干渉距離の短い低可干渉性光源を用い、コリメー
タレンズから出射以降合成されるまでの参照光と測定光
の光路長が互いに略等しくなるよう構成されている。し
たがって、被検体裏面からの反射光による干渉縞ノイズ
を発生させることなく干渉縞測定を行うことができる。

【００６５】＜実施例３＞図５は、本発明に係る斜入射
干渉計装置の上記実施例と異なる態様の主要部を示す図
である。この装置の光束分割合成手段１は、平行光束が
入射する側の所定範囲の面上に測定光５を送出するため
の反射面を設け、裏面に被検面情報を担持した測定光５
と参照光４を合成するハーフミラー面を設けた構成とさ
れている。すなわち、上記実施例の装置において光束分
割合成手段１は、参照光４と測定光５の分割および両光
の合成を行う光束分割合成面１ａを備えているが、本実
施例３の装置の光束分割合成手段１においては、参照光
４と測定光５の分割および両光の合成が互いに異なる面
において行われる。

【００６６】図示しないコリメータレンズにより出射さ
れた平行光束は、光束分割合成手段１の表面上に反射面
として形成された時計回り分割部位２で反射され、平面
反射ミラー１８および被検面１７ａを経由した測定光５
ｂＣとして光束分割合成手段１に戻り、裏面にハーフミ
ラー面として形成された反時計回り分割部位３に到達し
図示しないコリメータレンズ方向に反射される。一方、
コリメータレンズから出射された平行光束のうち光束分
割合成手段１の表面の透明部位を通過して裏面の反時計
回り分割部位３に到達した光束は、そこを透過して参照
面１６ａに入射し反射されて参照光４ｂＣＣとして再び
反時計回り分割部位３に戻り、そこを透過して測定光５
ｂＣと合成される。この合成された光束と被検面１７ａ
の撮影に関しては前記いずれの実施例とも共通である。

【００６７】上述のとおり本実施例の斜入射干渉計装置
は、可干渉距離の短い低可干渉性光源を用い、コリメー
タレンズから出射以降合成されるまでの参照光と測定光
の光路長が互いに略等しくなるよう構成されている。し
たがって、被検体裏面からの反射光による干渉縞ノイズ
を発生させることなく干渉縞測定を行うことができる。

【００６８】また、本実施例においては、図５に示すと
おり、平行光束として光束分割合成手段１に入射してか
ら反時計回り分割部位３で合成されるまでの参照光４と
測定光５はともに１回ずつ光束分割合成手段１を通過す
る。従って本実施例においてはいずれの光路中にも補償
板を配置する必要がなく、部材数を低減することが可能
となる。

【００６９】なお、本実施例中の光学配置は図５に拘る
ものではなく、光束分割合成手段１をその中心軸で１８
０度回転させて、図５で時計回り分割部位２となってい
る部位が反時計回り分割部位３となり、図５で反時計回
り分割部位３となっている部位を時計回り分割部位２と
なるように構成することも可能である。

【００７０】なお、本実施例に係る光束分割合成手段１
は、その表面の半分を反射面とし残余の領域に対応する
裏面にハーフミラー面を形成しているがこの形態に拘る
ものではない。例えば、表面の半分を反射面とし裏面全
面をハーフミラー面としても良いし、図３の如く表面と
裏面の必要領域だけに反射面とハーフミラー面を形成し
ても良い。

【００７１】＜実施例４＞図６は、本発明に係る斜入射
干渉計装置の上記実施例と異なる態様の主要部を示す図
である。本実施例においては、上記実施例のいずれもが
光束分割合成手段１を透過した光束を参照光４となし、
反射された光束を測定光５としているのに対して、反射
された光束を参照光４、透過した光束を測定光５とする
構成とされている。

【００７２】すなわち、光束分割合成手段１の光束分割
合成面１ａに設けられた時計回り分割部位２は図示しな
い光源の波長に対する反射防止コートが施された素通し
面、また、反時計回り分割部位３はハーフミラー面とさ
れている。図示しないコリメータレンズから出射された
平行光束の一部は、光束分割合成手段１の時計回り分割
部位２を透過して平面反射ミラー１８を経由して被検面
１７ａに入射する。被検面１７ａで反射された光は測定
光５ｂＣとして光束分割合成手段１の裏面から入射して
反時計回り分割部位３に到達し、透過してコリメータレ
ンズ方向に向かう。他方、コリメータレンズから出射さ
れた平行光束のうち光束分割合成手段１の反時計回り分
割部位３に入射した光は、そのハーフミラー作用により
反射されて補償板１２を経由して参照面１６ａに到達す
る。参照面１６ａで反射された光は再び補償板１２を透
過し参照光４ｂＣＣとして反時計回り分割部位３に戻
り、反射されて測定光５ｂＣと合成されてコリメータレ
ンズ方向に向かう。この合成された光束と被検面１７ａ
の撮影に関しては前記いずれの実施例とも共通である。

【００７３】上述のとおり本実施例の斜入射干渉計装置
は、可干渉距離の短い低可干渉性光源を用い、コリメー
タレンズから出射以降合成されるまでの参照光と測定光
の光路長が互いに略等しくなるよう構成されている。し
たがって、被検体裏面からの反射光による干渉縞ノイズ
を発生させることなく干渉縞測定を行うことができる。
なお、本実施例中の光学配置は図６に拘るものではな
く、光束分割合成手段１をその中心軸で１８０度回転さ
せた態様も実施例３と同様に可能である。

【００７４】なお、本実施例に係る光束分割合成手段１
は、その表面の半分を反射防止コートを施した素通し面
とし残余の領域にハーフミラー面を形成しているがこの
形態に拘るものではない。例えば、前記反射防止面での
光量損失のことを考えなければ反射防止コートを省いた
素通し面とすることも可能である。

【００７５】また、いずれの実施例についても共通な事
項として、干渉縞の測定に必要な光束の反射あるいは合
成には寄与しない面とされている場合であっても、光束
分割合成手段において光束が入射する面に、光源の光波
長に対する反射防止コートを施すことは、光量損失低減
やＣＣＤ受光面上でのノイズ低減の観点から望ましい。

【００７６】なお、本発明に係る斜入射干渉計装置とし
ては上記実施例のものに限られるものではなく、種々の
態様の変更が可能である。例えば、各部材の位置は、測
定光の被検面に対する所望の入射角や、アライメント調
整の容易性、光束分割合成手段をはじめとする部材の加
工コスト、装置全体の大きさや形状等の諸要素を勘案し
適宜選択が可能である。

【００７７】

【発明の効果】以上に説明したように、本発明の斜入射
干渉計装置によれば、可干渉距離の短い低可干渉性光源
を用い、コリメータレンズから出射されて以降、合成さ
れるまでの参照光と測定光の光路長を互いに略等しく構
成することにより、従来と同程度の良好な測定精度と装
置のコンパクト性を維持しつつ、平行平面ガラスのよう
な被検体の、被検体裏面からの反射光による干渉縞ノイ
ズを発生させることなく干渉縞測定を行うことができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１に係る斜入射干渉計装置の構成を示す
概略図

【図２】実施例１に係る図１の装置の光束分割合成手段
の拡大図

【図３】実施例１に係る図１の装置の光束分割合成手段
の別態様を示す拡大図

【図４】実施例２に係る斜入射干渉計装置の主要部を示
す概略図

【図５】実施例３に係る斜入射干渉計装置の主要部を示
す概略図

【図６】実施例４に係る斜入射干渉計装置の主要部を示
す概略図

【図７】従来の斜入射干渉計装置の構成を示す概略図

【符号の説明】

１ 光束分割合成手段 １ａ 光束分割合成面 ２ 時計回り分割部位 ３ 反時計回り分割部位 ４、４ａ、４ｂ 参照光 ４ａＣ、４ｂＣ 時計回り分割部位を経由した参照光 ４ａＣＣ、４ｂＣＣ 反時計回り分割部位を経由した
参照光 ５、５ａ、５ｂ 測定光 ５ａＣ、５ｂＣ 時計回り分割部位を経由した測定光 ５ａＣＣ、５ｂＣＣ 反時計回り分割部位を経由した
測定光 １０ 光源部 １１、３０ａ、３０ｂ ＣＣＤ受光面 １２ 補償板 １３ 偏光板 １４ａ、１４ｂ 光量調節用フィルタ １５、２５ コリメータレンズ １６、２６ 参照板 １６ａ、２６ａ 参照面 １７、２７ 被検体 １７ａ、２７ａ 被検面 １８、２４、２８ 平面反射ミラー １９、２９ ハーフプリズム ２０ レーザ光源 ２１ 可干渉光 ２２ 発散レンズ ２３ ピンホール板 ３１ａ、３１ｂ 平行光線束 ３２ａ、３２ｂ 物体光 ３３ａ、３３ｂ 参照光

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被検体の近傍に平面反射ミラーを配置
   し、光源からの出射光をコリメータレンズで平行光とな
   し、この平行光よりなり前記被検体の被検面に対して斜
   め入射され、該被検面および該平面反射ミラーをこの順
   または逆の順に経由する測定光と、該平行光よりなり参
   照面で反射された参照光とを合成し互いに干渉させ、生
   成された干渉縞を干渉縞観察手段に形成させるように構
   成された斜入射干渉計装置において、 前記コリメータレンズから前記被検面または前記平面反
   射ミラーに至る光路中に、前記コリメータレンズからの
   平行光を二分し、一方を前記被検体および前記平面反射
   ミラーに入射する前記測定光となすと共に他方を前記参
   照面に入射する参照光となす、単独の部材よりなる光束
   分割合成手段を配設し、 前記光源として可干渉距離の短い低可干渉性の光源を用
   い、該参照光と該測定光の、両光が前記コリメータレン
   ズから出射されて以降、前記光束分割合成手段における
   分割を経て該光束分割合成手段において合成されるまで
   の光路長差が、該参照光と該測定光とが互いに干渉を生
   じる範囲内に設定されているように構成されたことを特
   徴とする斜入射干渉計装置。
2. 【請求項２】 前記光束分割合成手段において分割され
   た前記測定光が、前記平面反射ミラーおよび前記被検面
   においてこの順に反射され、前記光束分割合成手段にお
   いて前記参照光と合成されるように構成されてなること
   を特徴とする請求項１記載の斜入射干渉計装置。
3. 【請求項３】 前記光束分割合成手段には、所定位置に
   前記ハーフミラー面と全反射面とが形成され、この全反
   射面における反射光が前記測定光とされるように構成さ
   れてなることを特徴とする請求項１または２項記載の斜
   入射干渉計装置。
4. 【請求項４】 前記光束分割合成手段には、所定位置に
   ハーフミラー面と素通し面が形成され、この素通し面に
   おける透過光が前記測定光とされるように構成されてな
   ることを特徴とする請求項１〜３のうちいずれか１項記
   載の斜入射干渉計装置。
5. 【請求項５】 前記被検面に斜入射される前記測定光
   が、該被検面に対しＳ偏光の光束とされていることを特
   徴とする請求項１〜４のうちいずれか１項記載の斜入射
   干渉計装置。