JP2002201169A - 4−シアノ−3−オキソブタン酸エステルの製造法 - Google Patents
4−シアノ−3−オキソブタン酸エステルの製造法Info
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Abstract
業的に有利に製造する方法を提供すること。 【解決手段】一般式(1) (式中、Xはハロゲン原子、RはC1−C8アルキル基
を表す。)で示される4−ハロ−3−オキソブタン酸エ
ステル化合物とアルカリ金属シアン化物とをメタノール
中で反応させることにより、一般式(2) (式中、XおよびRは前記と同じ意味を表す。)で示さ
れる4−シアノ−3−オキソブタン酸エステルが得られ
る。
Description
オキソブタン酸エステルの製造法に関する。
ル類は医薬中間体として有用な化合物であり(例えば特
表平5−331128号公報)、その前駆体となり得る
4−シアノ−3−オキソブタン酸エステル類を工業的に
有利に製造する方法の開発が求められている。一方、4
−シアノ−3−オキソブタン酸エチルを製造する方法と
して4−ブロモ−3−オキソブタン酸エチルと水素化ナ
トリウムとを反応させ、反応液にシアン化物イオンを加
える方法が知られている(J.Chem.Soc.Chem.Comm.p932-
933(1977))。
気中で不安定な水素化ナトリウムを使用する必要があ
り、また4−ブロモ−3−オキソブタン酸エチルと水素
化ナトリウムとを反応させる工程は−30℃という低温
で行う必要があるため、4−ブロモ−3−オキソブタン
酸エチルを製造する方法としては、工業的に有利な方法
とは必ずしも言えなかった。本発明は4−シアノ−3−
オキソブタン酸エステルを工業的に有利に製造する方法
を提供することを課題とする。
に鑑み、4−シアノ−3−オキソブタン酸エステル類を
工業的に有利に製造する方法を見出すべく鋭意検討した
結果、一般式(1)
キル基を表す。)で示される4−ハロ−3−オキソブタ
ン酸エステル化合物とアルカリ金属シアン化物とをメタ
ノール中で反応させることにより一般式(2)
シアノ−3−オキソブタン酸エステルを水素化ナトリウ
ムを使用することなく、また−30℃という低温条件で
行う工程を経ることなく製造できることを見出し、本発
明を完成した。すなわち本発明は、一般式(1)で示さ
れる4−ハロ−3−オキソブタン酸エステル化合物とア
ルカリ金属シアン化物とをメタノール中で反応させるこ
とを特徴とする一般式(2)で示される4−シアノ−3
−オキソブタン酸エステルの製造法(以下、本発明製造
法と記す。)、および本発明製造法により製造すること
ができる4−シアノ−3−オキソブタン酸メチルを提供
する。
合物である一般式(1)で示される化合物において、R
で示されるC1−C8アルキル基としては、例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基およびブ
チル基があげられ、Xで示されるハロゲン原子としては
例えば、塩素原子および臭素原子があげられる。本発明
製造法に用いられるアルカリ金属シアン化物としては、
例えばシアン化ナトリウム、シアン化カリウムがあげら
れる。
−ハロ−3−オキソブタン酸エステル化合物とアルカリ
金属シアン化物とをメタノール中で反応させることこと
により達成される。
アン化物の量は、通常、式(1)で示される4−ハロ−
3−オキソブタン酸エステル化合物1モルに対して0.
8〜1.3モルの範囲である。また、本発明製造法に使
用されるメタノールの量は、目的を達する範囲で任意の
量を用いることができるが、通常は、式(1)で示され
る化合物1重量部に対して3〜10000重量部であ
る。
行うことができる。 (1)メタノールに4−ハロ−3−オキソブタン酸エス
テル化合物又はそのメタノール溶液とアルカリ金属シア
ン化物又はそののメタノール溶液とを並行して加える方
法。 (2)メタノールに4−ハロ−3−オキソブタン酸エス
テル化合物を混合し、ここに必要に応じてメタノールに
溶解したアルカリ金属シアン化物を加える方法。 (3)メタノールに溶解したアルカリ金属シアン化物
に、4−ハロ−3−オキソブタン酸エステル化合物又は
4−ハロ−3−オキソブタン酸エステル化合物のメタノ
ール溶液を加える方法。
沸点、好ましくは−10〜40℃で行われ、反応時間の
範囲は通常、0.5〜48時間の範囲である。
高速液体クロマトグラフィーまたは薄層クロマトグラフ
ィー等の分析手法を用いて反応終点の確認を行い、その
後、例えば反応混合物を有機溶媒抽出した後、濃縮する
等の通常の後処理操作を行い、必要であれば、更にクロ
マトグラフィー、再結晶、蒸留等の精製操作を行うこと
によって目的物である4−シアノ−3−オキソブタン酸
エステルを単離することができる。
明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではな
い。
マトグラフィーによる面積百分率により求めた。
溶解し、ここに氷冷下で4−ブロモ−3−オキソブタン
酸メチル24.8gを滴下漏斗から20分間かけて滴下
した。さらに滴下漏斗に残った4−ブロモ−3−オキソ
ブタン酸メチルをメタノール10mlに溶解して滴下し
後、氷冷下で1時間、室温で2時間攪拌した。その後、
反応液を氷冷し、水400mlおよび濃塩酸3mlを滴
下した。反応液をジエチルエーテルで3回抽出(合わせ
てジエチルエーテル2000ml)した。有機層を合わ
せて飽和食塩水100mlで2回で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥した後、減圧濃縮し、4−シアノ−3−オ
キソブタン酸メチル15.3gを得た。(純度83%) GC条件 カラム:DB−1(0.25mmΦ×30m、0.25
μm) 注入口温度:250℃ 検出器:FID(300℃) カラム室温度:50℃(保持5分)→5℃/分で昇温→
250℃(保持10分) キャリアガス:1.0ml/分 スプリット比:1/10 マススペクトル:141.0(EI)1 H−NMR(CDCl3)δ(ppm):2.47(1
H)、3.86(3H)、4.43(2H)、6.71
(1H)
ルの代わりに、表中に示す化合物を用いて、製造例1と
同様にして4−シアノ−3−オキソブタン酸エステルを
得た。その結果を表1に示す。
ール100gに溶解する。この溶液を0℃に冷却し、シ
アン化ナトリウム4gをメタノール100gに溶解した
溶液を徐々に滴下する。滴下終了後、徐々に室温に昇温
しながら攪拌する。その後、反応液を水に注加し、酢酸
エチルで抽出する。有機層を飽和食塩水で洗浄し、乾
燥、濃縮して4−シアノ−3−オキソブタン酸メチルを
得る。
ル50mlに溶解し、約0℃でシアン化カリウム1.2
1gを少しずつ加えながら攪拌した。その後、反応液に
水200mlを加え、ジエチルエーテル200mlで3
回抽出した。有機層を合わせて飽和食塩水50mlで洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、濃縮して4
−シアノ−3−オキソブタン酸メチル1.8gを得た。
(純度68%)
gを用いた以外は製造例4と同様にして、4−シアノ−
3−オキソブタン酸メチル1.9gを得た。(純度57
%)
メチル1gを溶解し、シアン化カリウム0.4gを加
え、40℃で8時間攪拌した。その後、反応液を室温ま
で冷却し、反応液に水10ml及び濃塩酸数滴を加え
た。これをジエチルエーテルで3回抽出(合計ジエチル
エーテル100ml)した。得られた有機層を飽和食塩
水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧
濃縮して、4−シアノ−3−オキソブタン酸メチル0.
6gを得た。(純度71%)。
ノ−3−オキソブタン酸エステルを得ることができる。
Claims (4)
- 【請求項1】一般式(1) 【化1】 (式中、Xはハロゲン原子、RはC1−C8アルキル基
を表す。)で示される4−ハロ−3−オキソブタン酸エ
ステル化合物とアルカリ金属シアン化物とをメタノール
中で反応させることを特徴とする、一般式(2) 【化2】 (式中、XおよびRは前記と同じ意味を表す。)で示さ
れる4−シアノ−3−オキソブタン酸エステルの製造
法。 - 【請求項2】Xが臭素原子であることを特徴とする請求
項1に記載の4−シアノ−3−オキソブタン酸エステル
の製造法。 - 【請求項3】Rがメチル基であることを特徴とする請求
項1または2に記載の4−シアノ−3−オキソブタン酸
エステルの製造法。 - 【請求項4】4−シアノ−3−オキソブタン酸メチル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001268554A JP2002201169A (ja) | 2000-10-31 | 2001-09-05 | 4−シアノ−3−オキソブタン酸エステルの製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000-332640 | 2000-10-31 | ||
JP2000332640 | 2000-10-31 | ||
JP2001268554A JP2002201169A (ja) | 2000-10-31 | 2001-09-05 | 4−シアノ−3−オキソブタン酸エステルの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002201169A true JP2002201169A (ja) | 2002-07-16 |
JP2002201169A5 JP2002201169A5 (ja) | 2005-05-19 |
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ID=26603142
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JP2001268554A Pending JP2002201169A (ja) | 2000-10-31 | 2001-09-05 | 4−シアノ−3−オキソブタン酸エステルの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002201169A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005535330A (ja) * | 2002-08-09 | 2005-11-24 | コデクシス, インコーポレイテッド | 4−置換3−ヒドロキシ酪酸誘導体の生成のための酵素的プロセス |
-
2001
- 2001-09-05 JP JP2001268554A patent/JP2002201169A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2005535330A (ja) * | 2002-08-09 | 2005-11-24 | コデクシス, インコーポレイテッド | 4−置換3−ヒドロキシ酪酸誘導体の生成のための酵素的プロセス |
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