JP2002189182A - マルチビーム光源装置 - Google Patents

マルチビーム光源装置

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JP2002189182A
JP2002189182A JP2000331237A JP2000331237A JP2002189182A JP 2002189182 A JP2002189182 A JP 2002189182A JP 2000331237 A JP2000331237 A JP 2000331237A JP 2000331237 A JP2000331237 A JP 2000331237A JP 2002189182 A JP2002189182 A JP 2002189182A
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Hideyo Makino
英世 牧野
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Ricoh Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高速で高密度の記録をしても良好なビーム径
を記録媒体上に形成できて、各レーザビームの位相差が
視覚的に目立たないようにする。 【解決手段】 記録媒体上で主走査方向に直交する矢示
Ｂの副走査方向の直線Ｌと、半導体レーザアレイの複数
個の発光点からそれぞれ射出されて記録媒体上に形成さ
れるレーザビームスポットｃｈ１〜ｃｈ４の１番目と４
番目（ｎ番目）の発光点のそれぞれ中心を通る直線Ｌ１
とがなす角度をθとしたとき、次式が成り立つように半
導体レーザアレイの位置を調整可能にする調整手段を設
ける。 θ≦ｔａｎ‐１｛１／（ｎ−１）｝ それにより、良好なビーム径を記録媒体上に形成するこ
とができる。また、その各レーザビームの位相差が視覚
的に目立たない良好な画像になる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、レーザプリン
タ，デジタル複写機，ファクシミリ装置等の情報記録装
置に使用するマルチビーム光源装置に関し、特にＬＤア
レイを光源とするマルチビーム光源装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、レーザプリンタやデジタル複写機
等の情報記録装置は、記録速度の高速化及び記録密度の
高密度化が要求されている。そのため、複数のレーザビ
ームで同時に感光体等の記録媒体上を走査するマルチビ
ーム方式の光源装置が開発されている。
【０００３】このようなマルチビーム光源装置で使用す
る光源には、例えば複数の発光点を同一基板上にアレイ
状に並べた半導体レーザアレイを使用したものがある
（例えば特開昭５６−４２２４８号公報，特開平９−２
６５５０号公報，特開平８−１３６８４１号公報及び特
開平９−２５１１３７号公報等を参照）。
【０００４】その特開平８−１３６８４１号公報に記載
されているものは、第１のレーザ光路を回動部材の回転
中心に一致させ、第２のレーザ光路をその回動部材を回
動させることにより、第１と第２の走査間隔（記録密度
間隔）を調整するようにしている。また特開平９−２５
１１３７号公報に記載されているマルチビーム光源装置
（レーザ記録装置）は、それぞれの光ビーム検知領域
（受光領域）を直角三角形とする４つのセンサからなる
インデックスセンサにより、レーザアレイから射出され
た光ビームの主走査方向及び副走査方向の位置を検知
し、その検知情報に応じてレーザアレイを回転させて、
そのレーザアレイから射出される複数の光ビームの副走
査方向における間隔を調整するようにしている。
【０００５】そして、このマルチビーム光源装置は、図
１２に示すようにホルダ３２内に複数の発光素子(発光
点)Ｅ１〜Ｅ４を有するレーザアレイ３１のチップを矢
示Ｇ方向に回転可能に装着しているが、そのレーザアレ
イ３１の回転中心に、チップ端部となる発光素子Ｅ１が
位置するように調整している。
【０００６】また、複数本のレーザビームを走査するマ
ルチビーム光源装置として、その他に特開平１０−３９
２４１号公報，特開平９−２５１１３７号公報，特開平
９−１８６１号公報，特開平９−２１１３５０号公報等
に記載されているものもある。その特開平１０−３９２
４１号公報に記載されているものは、走査密度の選択に
応じてレーザアレイの回転角を制御するものであり、特
開平９−２５１１３７号公報に記載されているものは、
主走査方向及び副走査方向のビームの位置検出をし、レ
ーザアレイを回転させることにより副走査方向のピッチ
を調整するものである。
【０００７】また、特開平９−１８６１号公報に記載さ
れているものは、複数ビームの主走査方向の位相差を補
正するものであり、特開平９−２１１３５０号公報に記
載されているものは、ビームピッチの変換を行っても書
き出し位置を補正するものである。
【０００８】このように、従来より同一のパッケージ内
に複数個の発光点を設けたマルチビーム光源装置には種
々のものがあるが、それらはレーザビーム同士の相互干
渉が大きくなるために半導体レーザアレイの発光点間隔
を、例えば１００μｍ以上にしているものが多かった
が、最近ではアイソレーション技術や半導体製造技術が
向上したこともあり、その発光点間隔を２０μｍ以下に
した半導体レーザアレイもある。
【０００９】このように、発光点間隔を狭くしたマルチ
ビーム光源装置としては、例えば上述した特開平９−２
５１１３７号公報，特開平９−２１１３５０号公報及び
特開平９−１８６１号公報等に記載されているものがあ
る。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
９−２５１１３７号公報に記載されているマルチビーム
光源装置（レーザ記録装置）は、上述したような複雑な
インデックスセンサを使用したり、ビーム検出アルゴリ
ズムを必要としたりしていたため、高価になってしまう
という問題点があった。また、従来のマルチビーム光源
装置では、記録媒体上に形成されるレーザビームスポッ
トのズレ量が画像に影響を与えるほど大きいときには、
書き出し位置の補正が必要であった（例えば特開平９−
２１１３５０号公報，特開平９−１８６１号公報に記載
されているマルチビーム光源装置）。
【００１１】さらに、特開平８−１３６８４１号公報に
記載されているものの場合には、第１のレーザ光路を回
動部材の回転中心に一致させ、第２のレーザ光路をその
回動部材を回動させることにより移動させて、第１と第
２の走査間隔を調整するようにしているので、第２のレ
ーザ光路が第１のレーザ光路よりもコリメートレンズの
光軸から遠ざかるようになってしまうということがあっ
た。そのため、被走査面（記録媒体）上における第１と
第２のビームウェスト位置が異なってしまい、所望のビ
ーム径を得ることが困難になるという欠点があった。
【００１２】また、特開平９−２５１１３７号公報のマ
ルチビーム光源装置の場合には、図１２に示したように
レーザアレイ３１の回転中心を、チップ端部の発光素子
Ｅ１にしているので、それと反対側の端部の発光素子Ｅ
４は光軸から遠くなってしまうため、良好なビーム径を
感光体等の記録媒体上に形成できなくなってしまい、高
画質が得られなくなるという問題点があった。
【００１３】この発明は、上記の問題点に鑑みてなされ
たものであり、記録速度の高速化及び記録密度の高密度
化を図ることができながら、良好なビーム径を感光体等
の記録媒体上に形成することができると共に、各レーザ
ビームの位相差が視覚的に目立たない良好な画像が得ら
れるようにすることを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】この発明は上記の目的を
達成するため、同一のパッケージ内に複数個の発光点を
等間隔にアレイ状に配列した半導体レーザアレイを光源
として有し、記録媒体上に上記複数個の発光点から射出
した複数本のレーザビームを走査して情報の記録を行う
マルチビーム光源装置において、上記記録媒体上で主走
査方向と直交する副走査方向の直線と上記複数個の発光
点の１番目とｎ番目の発光点からそれぞれ発光されて上
記記録媒体上に照射されたレーザビームスポットのそれ
ぞれ中心を通る直線とがなす角度をθとしたとき、次式
が成り立つように上記半導体レーザアレイの位置を調整
可能にする調整手段を設けたものである。 θ≦ｔａｎ‐１｛１／（ｎ−１）｝
【００１５】上記調整手段は、上記複数個の発光点の１
番目とｎ番目の発光点の各中心を互いに結んだ直線の中
間点付近を回転中心として上記半導体レーザアレイを回
転させる手段であるようにするとよい。また、上記記録
媒体上の記録密度間隔は５０μｍ以下になるようにする
とよい。
【００１６】また、同一のパッケージ内で等間隔に複数
個配置された発光点をアレイ状にそれぞれ配列した複数
個の半導体レーザアレイを光源として有し、記録媒体上
に上記各半導体レーザアレイからそれぞれ射出した複数
本のレーザビームを走査して情報の記録を行うマルチビ
ーム光源装置において、上記各半導体レーザアレイから
それぞれ射出されるレーザビームの本数をｎ、上記記録
媒体上で主走査方向と直交する副走査方向の直線と上記
各半導体レーザアレイの上記複数個の発光点の１番目と
ｎ番目の発光点からそれぞれ発光されて上記記録媒体上
に照射されたレーザビームスポットのそれぞれ中心を通
る直線とがなす角度をθとしたとき、次式が成り立つよ
うに上記各半導体レーザアレイの位置を調整可能にする
調整手段を上記各半導体レーザアレイごとにそれぞれ設
けるとよい。 θ≦ｔａｎ‐１｛１／（ｎ−１）｝
【００１７】そして、その各調整手段は、上記各半導体
レーザアレイの複数個の発光点の１番目とｎ番目の発光
点の各中心を互いに結んだ直線の中間点付近を回転中心
として上記各半導体レーザアレイを回転させて上記角度
θを調整する手段であるようにするとよい。また、上記
記録媒体上の記録密度間隔は５０μｍ以下になるように
するとよい。
【００１８】さらに、上記複数個の各半導体レーザアレ
イは、その各半導体レーザアレイの光軸が上記各半導体
レーザアレイからそれぞれ射出されたレーザビームによ
って記録媒体上に形成されるレーザビームスポットがそ
の記録媒体上で主走査方向に互いに所定角度ずれて隔て
た位置になるように配置するとよい。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて説明する。図１はこの発明によるマルチビ
ーム光源装置が有する半導体レーザアレイの複数の発光
点から射出された複数本のレーザビームにより記録媒体
上に形成されたレーザビームスポットを示す概略図、図
２は同じくそのマルチビーム光源装置の全体の構成を示
す斜視図、図３は同じくそのマルチビーム光源装置の光
源付近の構成を示す分解斜視図である。
【００２０】このマルチビーム光源装置は、図３に示す
ように同一のパッケージ内に複数個（この例では４個）
の発光点１ａ１〜１ａ４をピッチＰｉで等間隔に配列し
た半導体レーザアレイ１を光源とし、その半導体レーザ
アレイ１から射出した複数のレーザビームを、図２に示
すコリメートレンズ５により平行光束あるいは略平行光
束にし、その光束をアパーチャ６により規制する。さら
に、その規制したレーザビームを、シリンダレンズ１１
からミラー１８を介して回転多面鏡１２よりなる偏向走
査手段に入射させる。
【００２１】そして、その回転多面鏡１２を回転させる
ことにより、レーザビームを矢示Ａの主走査方向に繰り
返し走査する。その回転多面鏡１２で反射させた４本の
レーザビームは、結像系であるｆθレンズ１３とトロイ
ダルレンズ１４により収束光となり、ミラー１５及び防
塵ガラス２０を介してビームウェスト位置である結像位
置に配置している感光体ドラムである記録媒体１６の被
走査面２２上に光スポットとして、それぞれ投影され
る。
【００２２】図２で１９は、有効走査幅の領域外に配置
したミラーであり、１７も同様に有効走査幅の領域外に
配置した光検知器である。そして、このミラー１９と光
検知器１７とにより、一走査毎に走査方向に移動するレ
ーザビームを検知して、その書き出し位置の同期をとっ
ている。
【００２３】次に、このマルチビーム光源装置の光源付
近の構成を、図３を参照して説明する。なお、図３で
は、矢印Ａは主走査方向を、矢印Ｂは副走査方向を、矢
印Ｃは光軸方向をそれぞれ示している。このマルチビー
ム光源装置は、半導体レーザアレイ１が図示のように４
つの発光点１ａ１〜１ａ４を有する４ビーム走査の光源
装置であり、その半導体レーザアレイ１と、ホルダ２
と、制御・駆動回路部３と、押え部材４と、コリメート
レンズ５と、アパーチャ６と、ブラケット７とを、１つ
のユニット状に形成している。
【００２４】半導体レーザアレイ１は、押え部材４をホ
ルダ２の略中央に２個のネジ８で螺着することによりホ
ルダ２に取り付ける。そして、その半導体レーザアレイ
１のホルダ２への取り付け時には、その半導体レーザア
レイ１に設けられている４つの発光点１ａ１〜１ａ
４が、図示のように矢示Ｂの副走査方向に１列あるいは
略１列になるように、図示しない位置決め治具等を用い
て固定する。ホルダ２には、嵌合軸部２ａが突設されて
いて、その嵌合軸部２ａの先端側にはツバ部２ｂが形成
されている。
【００２５】コリメートレンズ５は、ホルダ２のツバ部
２ｂに紫外線硬化接着剤２５を使用して固定するが、そ
れを固定する際には半導体レーザアレイ１を発光させた
状態で、コリメートレンズ５を矢示Ａ，Ｂ，Ｃの３方向
にそれぞれ微動させて、光軸位置とコリメート調整位置
とを決定し、その後で紫外線を照射して位置決めしたコ
リメートレンズ５を紫外線硬化接着剤２５で固定する。
【００２６】すなわち、コリメートレンズ５の光軸を、
ホルダ２の嵌合軸部２ａに形成している貫通孔２ｃの略
中心に合わせることにより、コリメートレンズ５の光軸
を半導体レーザアレイ１の発光点１ａ１〜１ａ４の発光
中心位置（１ａ２と１ａ３の中間）に合わせる。そし
て、そのホルダ２のツバ部２ｂの部分に、切欠き溝を設
けた有底の筒状をしたアパーチャ６をコリメートレンズ
５を覆うように被せることにより、サブアッセンブリ１
０とする。
【００２７】そのサブアッセンブリ１０は、ブラケット
７の略中央に形成している嵌合孔７ａにホルダ２の嵌合
軸部２ａを矢示Ｅ方向に回転可能に挿入し、その状態で
２個のネジ９，９をホルダ２の各ネジ孔２ｄに螺着する
ことによりブラケット７に固定する。その際、半導体レ
ーザアレイ１が有する４つの発光点１ａ１〜１ａ４が、
矢示Ｂの副走査方向に１列あるいは略１列に配置される
ように、サブアッセンブリ１０全体を嵌合孔７ａを回転
中心にして、ネジ９とブラケット７のネジ孔７ｂとのネ
ジ穴ガタ分だけ調整できるようにしている。
【００２８】なお、その調整は、例えばＣＣＤカメラを
用いて両端の発光点１ａ１と１ａ４の位置を計測するこ
とにより容易に行うことができる。そして、最後にその
サブアッセンブリ１０に制御・駆動回路部３を取り付け
れば、このマルチビーム光源装置が完成する。
【００２９】次に、半導体レーザアレイ１の４つの発光
点１ａ１〜１ａ４から発光されて記録媒体１６上に照射
される４つのレーザビームスポットについて説明する。
その記録媒体１６上に照射される４つのレーザビームス
ポットｃｈ１〜ｃｈ４は、図４に示すように、副走査方
向（矢示Ｂ方向）にピッチＰｉ′の等しい間隔で直線状
に１列に配置されるのが理想形である。
【００３０】これに対し、図１に示すものは、４つのレ
ーザビームスポットｃｈ１〜ｃｈ４が、矢示Ｂの副走査
方向に延びる直線Ｌに対して角度θの傾きをもって１列
に並ぶようになった場合を示している。このように、４
つのレーザビームスポットｃｈ１〜ｃｈ４が、直線Ｌに
対して傾きをもって配置されても、上記の角度θが［０
０３６］で後述する関係式で示す所定の許容範囲内にあ
れば、良好なビーム径を感光体等の記録媒体１６上に形
成することができる。したがって、その各レーザビーム
の位相差が視覚的に目立たないので、良好な画像が得ら
れる。
【００３１】以下、その点について説明する。半導体レ
ーザアレイ１の各発光点１ａ１〜１ａ４（図３）から発
光された４本のレーザビームは、１走査ごとに記録媒体
１６上を走査するが、その１走査毎に図２に示した光検
知器１７を通過する時間が予めわかっているので、その
レーザビームが光検知器１７を通過する少し前でレーザ
を、図５に示すタイミングで点灯（ＯＮ）させて同期検
出信号を得る。
【００３２】そして、そのタイミングから一定間隔（調
整可能）の時間をおいて、画像の書き込みを開始する。
その画像の書き込みが終わるとレーザを消灯（ＯＦＦ）
し、次の同期検出に備える。なお、図２に示した光検知
器１７上においても、同様にレーザビームスポットが副
走査方向に１列に形成されるが、ここでは同期検出光は
トロイダルレンズ１４を通過しないので、集束光とはな
らず、縦長スリット状になる。
【００３３】図１に示した４つのレーザビームスポット
ｃｈ１，ｃｈ２，ｃｈ３，ｃｈ４の間における矢示Ａで
示す主走査方向のズレ量δは、一般的に１ｄｏｔないし
１／２ｄｏｔ以下であれば、画像に影響を与えないとさ
れている。これは、例えば記録密度が６００ｄｐｉとす
ると、１ｄｏｔ＝２５．４／６００＝４２．３３μｍと
なり、この幅の間に４つのレーザビームスポットｃｈ１
〜ｃｈ４が全て配置されるようにすれば、良好な画像が
得られる。この４２．３３μｍは、前述したＣＣＤカメ
ラを用いて両端の発光点１ａ１と１ａ４の位置を計測す
ることにより、十分に調整可能な数値である。
【００３４】このように、４つのレーザビームスポット
ｃｈ１〜ｃｈ４のズレ量δを、上記の画像に影響を与え
ない量になるまで発光点１ａ１〜１ａ４を回転させるこ
とにより調整すれば、記録媒体１６上への情報書き出し
位置タイミングは、１走査毎に４つのレーザビームのう
ち、１つのビームの検知信号だけを用いても良好な画像
が得られるので（４つのレーザビームスポットが問題と
なるズレ量にならないため）、１ビーム走査装置と同じ
光検出器と制御回路を使用して行うことができる。
【００３５】したがって、前述した特開平９−２５１１
３７号公報に記載されているような複雑なセンサやビー
ム検出アルゴリズムを必要とせず、また従来のマルチビ
ーム光源装置（例えば特開平９−２１１３５０号公報，
特開平９−１８６１号公報等を参照）に見られるような
書き出し位置の補正を行う必要もない。
【００３６】ここで、半導体レーザアレイ１から射出さ
れるレーザビームの本数をｎ（上述した実施の形態では
ｎ＝４）とすると、図１に示したように記録媒体１６上
で、その記録媒体１６の主走査方向に直交する副走査方
向の直線Ｌと、１番目とｎ番目の発光点１ａ１と１ａ４
（１ａｎ）からそれぞれ射出されたレーザビームにより
記録媒体１６上に形成されたレーザビームスポットｃｈ
１とｃｈ４のそれぞれ中心を通る直線Ｌ１とがなす角度
をθとしたとき、以下の関係式が得られるようにすれ
ば、良好なビーム径を記録媒体１６上に形成することが
できる。また、その各レーザビームの位相差が視覚的に
目立たない良好な画像になる。 θ≦ｔａｎ‐１｛１／（ｎ−１）｝
【００３７】例えば、上述した実施の形態のように、４
つの発光点１ａ１〜１ａ４を有する半導体レーザアレイ
１の場合には、ｎ＝４となるので、θ＝１８．４゜以下
となる。したがって、θが１８．４゜以下になるよう
に、図３で説明したホルダ２に半導体レーザアレイ１と
コリメートレンズ５とアパーチャ６とを固定して一体と
したサブアッセンブリ１０を、ブラケット７の嵌合孔７
ａを回転中心にしてネジ９とネジ孔７ｂとのネジ穴ガタ
分の範囲で回転させることにより調整すれば、図１に示
したレーザビームスポットｃｈ１とｃｈ４との間におけ
る矢示Ａの主走査方向のズレ量δは、画像に影響を与え
ない量（１ｄｏｔ以下）になる。
【００３８】すなわち、この実施の形態では、サブアッ
センブリ１０と、そのサブアッセンブリ１０のアパーチ
ャ６の部分を回転可能に嵌入させる嵌合孔７ａと２個の
ネジ孔７ｂ，７ｂを有するブラケット７と、サブアッセ
ンブリ１０をブラケット７に固定する２本のネジ９，９
とが、θ≦ｔａｎ‐１｛１／（ｎ−１）｝の関係式が成
り立つように半導体レーザアレイ１の位置を調整可能に
する調整手段として機能する。
【００３９】また、その調整手段は、４個の発光点１ａ
１〜１ａ４のうち１番目の発光点１ａ１と４番目（ｎ番
目）の発光点１ａ４の各中心を互いに結んだ直線の中間
点ＰＭ（図１参照）付近を回転中心として回動させる手
段であるので、記録媒体１６上に形成されるレーザビー
ムスポットの理想形状に対する変形度合い（劣化）を少
なくすることができるため、画像の劣化を防止すること
ができる。
【００４０】すなわち、図１２で説明した従来のマルチ
ビーム光源装置のように、４個（複数）の発光点Ｅ１〜
Ｅ４のうち一方の端部の発光点Ｅ１をレーザアレイ３１
の回転中心にしている場合には、そのレーザアレイ３１
から射出されて記録媒体上に形成されたレーザビームス
ポットが、図６に示すように理想位置（直線Ｌ３上）に
対して角度θだけ傾いているときには、他方の端部の発
光点Ｅ４からのレーザビームによって形成されるレーザ
ビームスポットｃｈ４′は理想位置に対して大きなずれ
量δ１となる。
【００４１】そのため、回転中心から最も離れた位置に
ある発光点Ｅ４から照射されて記録媒体上に形成される
レーザビームスポットｃｈ４′は、回転中心から遠くな
る分だけ光軸から離れることにより理想形状に対する変
形度合いが大きくなるので、画像が劣化する。
【００４２】しかしながら、この実施の形態のマルチビ
ーム光源装置によれば、半導体レーザアレイ１の回転中
心は発光点１ａ２と１ａ３との中間位置になるため、図
６に示すようにレーザビームスポットｃｈ４は理想位置
に対して非常に小さなずれ量δ２で済む。また、その発
光点１ａ２と１ａ３の中間点（回転中心）は、コリメー
トレンズ５（図２）の光軸近傍であることからも、良好
な画像が得られる。
【００４３】なお、このマルチビーム光源装置は、記録
媒体１６上のレーザビームスポットは、上述したように
図３に矢印Ａで示した主走査方向に対して略直交する方
向（矢示Ｂで示す副走査方向）に１列に配置することが
できる。したがって、記録密度間隔は、その際の副走査
方向の横倍率により決定されるので、副走査方向にパワ
ーを持つシリンダレンズを適時選択することにより、所
望の記録密度間隔を得ることができる。そこで、このマ
ルチビーム光源装置では、記録媒体上の記録密度間隔は
５０μｍ以下になるようにしている。
【００４４】以上、この発明によるマルチビーム光源装
置を、半導体レーザアレイに４個の発光点１ａ１〜１ａ
４を有する場合の実施形態を一例として説明したが、そ
の半導体レーザアレイは４個の発光点を有するものに限
るものではなく、その発光点は２個，３個あるいは５個
以上のｎ個である場合であっても、同様に適用すること
ができる。
【００４５】次に、複数個の発光点をアレイ状にそれぞ
れ配列した複数個の半導体レーザアレイを光源として有
するマルチビーム光源装置の実施の形態について、図７
乃至図１１を参照して説明する。図７はこの発明の他の
実施形態として複数個の半導体レーザアレイを光源とし
て有するマルチビーム光源装置を示す斜視図、図８は同
じくそのマルチビーム光源装置の光源付近の構成を示す
分解斜視図であり、図７及び図８において図２及び図３
と対応する部分には同一の符号を付してある。
【００４６】この実施の形態によるマルチビーム光源装
置は、図８に示すように同一のパッケージ内でピッチＰ
ｉで等間隔に複数個（この例では４個）配置された発光
点１ａ１〜１ａ４をアレイ状にそれぞれ配列した複数個
（この例では２個）の半導体レーザアレイ１Ａ，１Ｂを
光源として有し、図７に示す記録媒体１６上にその半導
体レーザアレイ１Ａ，１Ｂからそれぞれ射出した複数本
のレーザビームを走査して情報の記録を行う。
【００４７】このマルチビーム光源装置では、半導体レ
ーザアレイ１Ａ,１Ｂから射出した各レーザビームは、
コリメートレンズ５Ａ,５Ｂによって平行光束、あるい
は略平行光束になり、アパーチャ４６Ａ,４６Ｂにより
光束が規制されて、ビーム合成部２１により半導体レー
ザアレイ１Ａ,１Ｂからの各レーザビームが合成され
る。
【００４８】その合成されたレーザビームは、シリンダ
レンズ１１、ミラー１８を介して偏向走査器としての回
転多面鏡１２に入射される。そして、その回転多面鏡１
２を回転させることにより、レーザビームは主走査方向
に繰り返し走査される。その回転多面鏡１２で反射され
たレーザビームは、結像系であるｆθレンズ１３とトロ
イダルレンズ１４とにより収束光となり、その収束光は
ミラー１５、防塵ガラス２０を介してビームウェスト位
置である結像位置に配置された感光体ドラム等である記
録媒体１６の被走査面２２上に光スポットとして投影さ
れる。
【００４９】そして、このマルチビーム光源装置では、
有効走査幅の領域外にミラー１９と光検知器１７とを設
けて、このミラー１９と光検知器１７とを使用して、１
走査毎に走査方向に移動するレーザビームを検知し、書
き出し位置の同期をとっている。
【００５０】また、このマルチビーム光源装置では、図
８に示す半導体レーザアレイ１Ａ,１Ｂと、ホルダ４２
Ａ,４２Ｂと、制御・駆動回路部３と、コリメートレン
ズ５Ａ,５Ｂと、アパーチャ４６Ａ,４６Ｂと、ブラケッ
ト４７とを一体にユニット化して、光源部をサブアッセ
ンブリとしている。なお、図８において、矢印Ａは主走
査方向を、矢印Ｂは副走査方向を、矢印Ｃは光軸方向を
それぞれ示している。
【００５１】半導体レーザアレイ１Ａ,１Ｂは、それぞ
れホルダ４２Ａ,４２Ｂに圧入等により取付けられてい
る。そして、この実施の形態では、半導体レーザアレイ
１Ａ,１Ｂには、前述したようにそれぞれ４つの発光点
１ａ１〜１ａ４が設けられている。その半導体レーザア
レイ１Ａ，１Ｂは、同様の構成をしている。
【００５２】半導体レーザアレイ１Ａ，１Ｂは、各発光
点１ａ１〜１ａ４が、図８の矢示Ｂの副走査方向に１列
あるいは略１列に配置されるように、ホルダ４２Ａ，４
２Ｂを位置決め治具等を用いてブラケット４７に固定す
る。コリメートレンズ５Ａはホルダ４２Ａのツバ部４２
ａに、コリメートレンズ５Ｂはホルダ４２Ｂのツバ部４
２ａに紫外線硬化接着剤２５を用いてそれぞれ固定され
るが、その際に半導体レーザアレイ１Ａ，１Ｂをそれぞ
れ発光させ、コリメートレンズ５Ａ，５Ｂをそれぞれ矢
示Ａ，Ｂ，Ｃの３方向に微動させて、光軸位置とコリメ
ート調整位置とを決定する。
【００５３】その後、紫外線を照射して紫外線硬化接着
剤２５を硬化させて、コリメートレンズ５Ａをホルダ４
２Ａに、コリメートレンズ５Ｂをホルダ４２Ｂにそれぞ
れ固定する。なお、このコリメートレンズ５Ａ，５Ｂを
通過したレーザビームの平行光束あるいは略平行光束
は、アパーチャ４６Ａ，４６Ｂにより整形される。
【００５４】上述したようにユニット化された２つのサ
ブアッセンブリは、ブラケット４７に形成している２つ
の嵌合穴４７ａ，４７ａに、ホルダ４２Ａ，４２Ｂの各
嵌合軸４２ｂ，４２ｂをそれぞれ挿入した状態で、２本
のネジ４８，４８でそれぞれ固定する。
【００５５】このとき、４つの発光点１ａ１〜１ａ
４が、矢示Ｂ方向の副走査方向に１列あるいは略１列に
配置されるように、上述した各サブアッセンブリ全体を
嵌合穴４７ａ，４７ａをそれぞれ回転中心として、ネジ
４８とそのネジ４８を挿通するためにブラケット４７に
形成している各ネジ穴との間に生じるガタ内で移動させ
て補正する。この調整は、例えばＣＣＤカメラを用い
て、半導体レーザアレイ１Ａ，１Ｂのそれぞれ両端の発
光点１ａ１と１ａ４の各位置を計測することにより、容
易に行うことができる。
【００５６】各半導体レーザアレイ１Ａ,１Ｂから射出
されてアパーチャ４６Ａ，４６Ｂをそれぞれ通過したレ
ーザビームは、ビーム合成部２１により基準となる半導
体レーザアレイ１Ａから射出されたレーザビームの光軸
近傍で合成される。その際、このマルチビーム光源装置
では、半導体レーザアレイ１Ａの光軸と半導体レーザア
レイ１Ｂの光軸とが、互いに主走査方向に僅か（角度
α）だけずれるように設定してある。
【００５７】ビーム合成部２１は、ブラケット４９の裏
面の所定位置に、図示しないネジ等による締結手段によ
り取付けられてブラケット４９と一体のユニット状に形
成され、そのブラケット４９に上述した半導体レーザア
レイ１Ａ，１Ｂを有するサブアッセンブリと、制御・駆
動回路部３を取り付けてマルチビーム光源装置が完成す
る。
【００５８】図９、図１０は図８のマルチビーム光源装
置の２個の半導体レーザアレイ１Ａ，１Ｂより射出され
て記録媒体１６上に照射されたそれぞれ４つずつのレー
ザビームスポットを示したものであり、図９は理想形を
示しており、図１０は４つのレーザビームスポットが副
走査方向に対してそれぞれ角度θをもって照射された場
合の例を示している。図９では、半導体レーザアレイ１
Ａ，１Ｂのそれぞれ４つの発光点１ａ１〜１ａ４から発
光されて記録媒体１６（図７参照）上に照射されたそれ
ぞれ４つのレーザビームスポットｃｈ１〜ｃｈ４は、副
走査方向にまっすぐ１列に配置されている。
【００５９】そして、半導体レーザアレイ１Ａからのレ
ーザビームスポットｃｈ１〜ｃｈ４（図９で上側の集
団）と、半導体レーザアレイ１Ｂからのレーザビームス
ポットｃｈ１〜ｃｈ４（図９で下側の集団）とが、主走
査方向に距離Δ（時間にしてΔＴ）だけずれた位置に形
成されている。これは、図８で説明したように、半導体
レーザアレイ１Ａの光軸と半導体レーザアレイ１Ｂの光
軸とを互いに主走査方向に角度αだけずらすように設定
していることによる。
【００６０】一方、図１０に示したものでは、半導体レ
ーザアレイ１Ａからのレーザビームスポットｃｈ１〜ｃ
ｈ４のそれぞれ中心を通る線Ｌ２と、半導体レーザアレ
イ１Ｂからのレーザビームスポットｃｈ１〜ｃｈ４のそ
れぞれ中心を通る線Ｌ３は、副走査方向の直線Ｌに対し
て角度θとなるように、それぞれ４つのレーザビームス
ポットｃｈ１〜ｃｈ４が直線状に整列配置されており、
実際に許容できるレーザビームスポット状態を示してい
る。
【００６１】このマルチビーム光源装置では、半導体レ
ーザアレイ１Ａから第１の４本のレーザビームを射出し
て１走査ごとに記録媒体１６上を走査するが、そのレー
ザビームが１走査毎に光検知器１７を通過する時間は予
めわかっているので、そのレーザビームが光検知器１７
を通過する少し前でレーザを図１１に示すように点灯
（ＯＮ）させて同期検出信号を得て、その第１の同期信
号を得てから一定間隔（調整可能）の時間をおいて画像
を書き始める。
【００６２】そして、第１の４本のレーザビーム（図１
１に第１のレーザビームと図示）により画像を書き終え
ると、半導体レーザアレイ１Ａの発光点１ａ１〜１ａ４
における発光をそれぞれ停止させて消灯し、次の同期検
出に備える。第１の同期信号が得られてからΔＴ時間後
に、半導体レーザアレイ１Ｂから第２の４本のレーザビ
ーム（図１１に第２のレーザビームと図示）による同期
信号を得る。
【００６３】なお、図７に示した光検知器１７上でも、
レーザビームスポットは同様に副走査方向に１列に形成
されるが、この光検知器１７に至るレーザビーム（同期
検出光）は、この実施の形態ではトロイダルレンズ１４
を通過しないため集束光にならず、縦長スリット状とな
る。
【００６４】ところで、図１０に示した各半導体レーザ
アレイごとの４つのレーザビームスポットｃｈ１〜ｃｈ
４の主走査方向における互いのズレ量δは、図１でも説
明したように、一般的に１ｄｏｔないし１／２ｄｏｔ以
下であれば画像に影響を与えないとされている。例え
ば、記録密度が６００ｄｐｉとすると１ｄｏｔ＝２５．
４／６００＝４２．３３μｍとなり、この幅の間に半導
体レーザアレイ１Ａからの第１の４つのレーザビームス
ポットｃｈ１〜ｃｈ４を配置できれば、良好な画像が得
られる。
【００６５】同様に、半導体レーザアレイ１Ｂからの第
２の４つのビームスポットｃｈ１〜ｃｈ４も同様に、４
２．３３μｍの幅の間に配置できれば、良好な画像が得
られる。この４２．３３μｍは、前述したようにＣＣＤ
カメラを用いて、両端の発光点１ａ１と１ａ４の位置を
計測することにより、十分に調整可能な数値である。
【００６６】このように、このマルチビーム光源装置で
は、４つのレーザビームスポットが問題となるズレ量に
ならないようにすることで、記録媒体１６上への情報書
き出し位置タイミングを、１走査毎に４つのレーザビー
ムのうち、１つのビームの検知信号だけで行っても良好
な画像が得られる。したがって、１ビーム走査装置と同
じ光検出器と制御回路を使用して行うことができる。
【００６７】そのため、この実施の形態によるマルチビ
ーム光源装置も、前述した特開平９−２５１１３７号公
報に記載されているような複雑なセンサやビーム検出ア
ルゴリズムを必要とせず、また従来のマルチビーム光源
装置（例えば特開平９−２１１３５０号公報，特開平９
−１８６１号公報等を参照）に見られるような書き出し
位置の補正も行う必要がない。
【００６８】ここで、この実施の形態によるマルチビー
ム光源装置では、半導体レーザアレイ１Ａ，１Ｂからそ
れぞれ射出されるレーザビームの本数をｎ（図８の例で
はｎ＝４）、記録媒体１６上で図１０に示したように主
走査方向と直交する副走査方向の直線Ｌと半導体レーザ
アレイ１Ａ，１Ｂの複数個の発光点１ａ１〜１ａ４のう
ち１番目の発光点１ａ１とｎ番目の発光点１ａｎ（この
例では１ａ４）からそれぞれ発光されて記録媒体１６上
に照射されたレーザビームスポットのそれぞれ中心を通
る直線Ｌ２，Ｌ３とがなす角度をそれぞれθとしたと
き、次式が成り立つように半導体レーザアレイ１Ａ，１
Ｂの位置を調整可能にする調整手段を、各半導体レーザ
アレイ１Ａ，１Ｂにそれぞれ設けている。 θ≦ｔａｎ‐１｛１／（ｎ−１）｝
【００６９】例えば、図８に示した実施の形態の場合に
は、半導体レーザアレイ１Ａ，１Ｂは、それぞれ４つの
発光点１ａ１〜１ａ４を有するためｎ＝４となるので、
θは１８．４゜以下となる。
【００７０】したがって、θが１８．４゜以下になるよ
うに、図８で説明した半導体レーザアレイ１Ａとコリメ
ートレンズ５Ａを一体に固定したホルダ４２Ａを、ブラ
ケット４７の嵌合孔４７ａを中心にしてネジ４８とそれ
を挿入するブラケット４７のネジ孔との間に形成される
ガタ分の範囲で回転させることにより角度θを調整すれ
ば、半導体レーザアレイ１Ａからのレーザビームにより
形成されるレーザビームスポットｃｈ１とｃｈ４との間
における主走査方向のズレ量δを、画像に影響を与えな
い量（１ｄｏｔ以下）にすることができる。
【００７１】同様に、θが１８．４゜以下になるよう
に、半導体レーザアレイ１Ｂとコリメートレンズ５Ｂを
一体に固定したホルダ４２Ｂを、ブラケット４７の嵌合
孔４７ａを中心にしてネジ４８とそれを挿入するブラケ
ット４７のネジ孔との間に形成されるガタ分の範囲で回
転させることにより角度θを調整すれば、半導体レーザ
アレイ１Ｂからのレーザビームにより形成されるレーザ
ビームスポットｃｈ１とｃｈ４との間における主走査方
向のズレ量δを、画像に影響を与えない量（１ｄｏｔ以
下）にすることができる。
【００７２】すなわち、この実施の形態では、上述した
半導体レーザアレイ１Ａとコリメートレンズ５Ａを一体
に固定したホルダ４２Ａと、そのホルダ４２Ａを固定す
る２個のネジ孔を有するブラケット４７と、固定用の２
本のネジ４８，４８とが、θ≦ｔａｎ‐１｛１／（ｎ−
１）｝の関係式が成り立つように半導体レーザアレイ１
Ａの位置を調整可能にする調整手段として機能する。
【００７３】また、上述した半導体レーザアレイ１Ｂと
コリメートレンズ５Ｂを一体に固定したホルダ４２Ｂ
と、そのホルダ４２Ｂを固定する２個のネジ孔を有する
ブラケット４７と、固定用の２本のネジ４８，４８と
が、θ≦ｔａｎ‐１｛１／（ｎ−１）｝の関係式が成り
立つように半導体レーザアレイ１Ｂの位置を調整可能に
する調整手段として機能する。この実施の形態によるマ
ルチビーム光源装置によれば、半導体レーザアレイの発
光点間隔は半導体プロセスにより形成されるため、サブ
ミクロンの精度が容易に得られる。
【００７４】ところで、この実施の形態によるマルチビ
ーム光源装置では、上記の各調整手段は、半導体レーザ
アレイ１Ａ，１Ｂに複数個設けられている中の１番目の
発光点１ａ１とｎ番目の発光点１ａｎ（この例では４個
目の１ａ４）の各中心を互いに結んだ直線の中間点付近
を回転中心として半導体レーザアレイ１Ａ，１Ｂをそれ
ぞれ回転させて図１０に示した角度θを調整する手段に
してある。
【００７５】そして、その回転中心は、４つの発光点１
ａ１〜１ａ４の中央となると共に、図８に示したブラケ
ット４７の各嵌合穴４７ａ，４７ａのそれぞれ中心とな
るので、それは自ずとコリメートレンズ５Ａ，５Ｂのそ
れぞれ光軸近傍となる。これに対し、従来技術で説明し
た特開平９−２５１１３７号公報に記載されているもの
では、１番目の発光点を中心にして回転させる構成であ
るため、その回転中心から遠ざかる発光点ほど光軸から
離れるようになる。
【００７６】そのため、回転中心から最も離れた位置に
ある発光点から射出されたレーザビームにより形成され
るレーザビームスポットの形状は理想形状に対して劣化
した形状となるため、画像を悪化させやすくなる。な
お、この実施の形態によるマルチビーム光源装置では、
記録媒体１６上のレーザビームスポットは、上述したよ
うに図１０に示した主走査方向に対して略直交する方向
（略副走査方向）に１列に配置することができる。
【００７７】したがって、記録密度間隔は、その際の副
走査方向の横倍率により決定されるので、副走査方向に
パワーを持つシリンダレンズを適時選択することによ
り、所望の記録密度間隔を得ることができる。そこで、
このマルチビーム光源装置では、記録媒体上の記録密度
間隔は５０μｍ以下になるようにしている。
【００７８】そして、この実施の形態によるマルチビー
ム光源装置では、２個（３個以上使用してもよい）の半
導体レーザアレイ１Ａ，１Ｂを使用しているので、１個
の半導体レーザアレイのマルチビーム光源装置に比べて
記録速度の高速化や高密度化が図れる。
【００７９】また、複数のレーザビームによる書き出し
位置を［００６８］に示した式により規定しているの
で、１ビーム走査装置と同様の書き出し位置手段が使用
できるため、簡易な部品構成にすることができながら、
誤差を最小に抑えることができる。そして、従来技術で
説明した特開平９−２５１１３７号公報に記載されてい
るマルチビーム光源装置のように、複雑なセンサやビー
ム検出アルゴリズムを必要としない。
【００８０】さらに、この実施の形態によるマルチビー
ム光源装置では、図８で説明したように記録媒体上で半
導体レーザアレイ１Ａ，１Ｂからそれぞれ射出されたレ
ーザビームによるレーザビームスポットの位置が主走査
方向に互いにずれるように、その半導体レーザアレイ１
Ａ，１Ｂの各光軸を主走査方向に所定の角度αだけずら
している。それにより、半導体レーザアレイ１Ａ，１Ｂ
からそれぞれ射出されたレーザビームにより記録媒体上
に形成されるレーザビームスポットが、図１０に示した
ように主走査方向に距離Δだけずれるようになる。それ
により、各々の半導体レーザアレイごとに１ビーム走査
装置と同様の書き出し位置手段が使用できる。
【００８１】そのため、従来技術で説明した特開平９−
２１１３５０号公報や特開平９−１８６１号公報に記載
されているマルチビーム光源装置の場合には書き出し位
置補正が必要であったが、この実施の形態によるマルチ
ビーム光源装置によれば、簡易な部品構成にすることが
できながら、書き出し位置の誤差を最小に抑えることが
できる。
【００８２】このように、この実施の形態によるマルチ
ビーム光源装置によれば、記録速度の高速化及び記録密
度の高密度化を達成することができる。また、良好なビ
ーム径を感光体等の記録媒体上に形成することができる
と共に、各レーザビームの位相差が視覚的に目立たない
良好な画像を得ることができる。さらに、良好なビーム
径を感光体等の記録媒体上に形成することができるた
め、高画質を得ることができる。
【００８３】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、次に記載する効果を奏する。請求項１のマルチビー
ム光源装置によれば、前述したθ≦ｔａｎ‐１｛１／
（ｎ−１）｝の関係が成り立つように半導体レーザアレ
イの位置を調整可能にする調整手段を設けたので、同一
のパッケージ内に複数個の発光点を等間隔に配列した半
導体レーザアレイにより高速の記録速度で高密度の記録
密度で画像を形成しても、上記調整手段により半導体レ
ーザアレイの位置を画像に影響を与えない位置に調整す
ることができるので、良好なビーム径を感光体等の記録
媒体上に形成することができる。したがって、書き出し
位置補正を行うことなしに、各レーザビームの位相差が
視覚的に目立たない良好な画像が得られる。
【００８４】請求項２のマルチビーム光源装置によれ
ば、上記調整手段は、複数個の発光点の１番目とｎ番目
の発光点の各中心を互いに結んだ直線の中間点付近を回
転中心として回動させる手段であるので、その回転中心
を１番目あるいはｎ番目の発光点にしている場合に比べ
て、回転中心から最も離れた位置になる発光点の光軸か
らの距離が遠くならないため、良好なビーム径を感光体
等の記録媒体上に形成して高画質を得ることができる。
【００８５】請求項３のマルチビーム光源装置によれ
ば、記録媒体上の記録密度間隔は５０μｍ以下になるの
で、記録速度の高速化及び記録密度の高密度化を達成す
ることができながら、良好なビーム径を感光体等の記録
媒体上に形成することができると共に、各レーザビーム
の位相差が視覚的に目立たない良好な画像が得られる。
【００８６】請求項４のマルチビーム光源装置によれ
ば、前述したθ≦ｔａｎ‐１｛１／（ｎ−１）｝の関係
が成り立つように各半導体レーザアレイの位置を調整可
能にする調整手段を各半導体レーザアレイごとにそれぞ
れ設けているので、複数の半導体レーザアレイを使用し
て高速の記録速度で高密度の記録密度で画像を形成して
も、上記調整手段により半導体レーザアレイの位置を画
像に影響を与えない位置に調整することができるので、
良好なビーム径を感光体等の記録媒体上に形成すること
ができる。それにより、各レーザビームの位相差が視覚
的に目立たない良好な画像が得られる。
【００８７】請求項５のマルチビーム光源装置によれ
ば、各半導体レーザアレイごとに各調整手段は、複数個
の発光点の１番目とｎ番目の発光点の各中心を互いに結
んだ直線の中間点付近を回転中心として回転するので、
全ての半導体レーザアレイについて、その回転中心を１
番目あるいはｎ番目の発光点にしている場合に比べて、
回転中心から最も離れた位置になる発光点の光軸からの
距離が遠くならない。それにより、良好なビーム径を感
光体等の記録媒体上に形成して高画質を得ることができ
る。
【００８８】請求項６のマルチビーム光源装置によれ
ば、記録媒体上の記録密度間隔を５０μｍ以下にしてい
るので、記録速度の高速化及び記録密度の高密度化を達
成することができながら、良好なビーム径を感光体等の
記録媒体上に形成することができると共に、各レーザビ
ームの位相差が視覚的に目立たない良好な画像が得られ
る。
【００８９】請求項７のマルチビーム光源装置によれ
ば、各半導体レーザダイオードアレイの光軸は、その各
半導体レーザダイオードアレイからそれぞれ射出された
レーザビームによって記録媒体上に形成されるレーザビ
ームスポットがその記録媒体上で主走査方向に互いに所
定角度ずれて隔てた位置に形成されるようにしているの
で、各々の半導体レーザアレイごとに１ビーム走査装置
と同様の書き出し位置手段が使用できる。したがって、
特別な同期検出手段や書き出し位置補正が不用でありな
がら、記録速度の高速化及び記録密度の高密度化を達成
することができる。また、良好なビーム径を感光体等の
記録媒体上に形成して高画質を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明によるマルチビーム光源装置が有する
半導体レーザアレイの複数の発光点から射出された複数
本のレーザビームにより記録媒体上に形成されたレーザ
ビームスポットを示す概略図である。
【図２】同じくそのマルチビーム光源装置の全体の構成
を示す斜視図である。
【図３】同じくそのマルチビーム光源装置の光源付近の
構成を示す分解斜視図である。
【図４】図２の記録媒体上に照射される４つのレーザビ
ームスポットの理想形を示す図１と同様な概略図であ
る。
【図５】図２のマルチビーム光源装置のレーザ光源のＯ
Ｎ・ＯＦＦを示すタイミング図である。
【図６】半導体レーザアレイの回転中心を最も端部の発
光点にしたときと中心位置にしたときとでのレーザビー
ムスポットのズレ量を比較した概略図である。
【図７】この発明の他の実施形態として複数個の半導体
レーザアレイを光源として有するマルチビーム光源装置
を示す斜視図である。
【図８】同じくそのマルチビーム光源装置の光源付近の
構成を示す分解斜視図である。
【図９】複数個の半導体レーザアレイを有するマルチビ
ーム光源装置で記録媒体上に照射された４つのレーザビ
ームスポットの理想形を示す概略図である。
【図１０】複数個の半導体レーザアレイを有するマルチ
ビーム光源装置で実際に許容できるレーザビームスポッ
ト状態を説明するための概略図である。
【図１１】図７のマルチビーム光源装置のレーザ光源の
ＯＮ・ＯＦＦを示すタイミング図である。
【図１２】従来のマルチビーム光源装置における光源部
分を示す正面図である。
【符号の説明】
１，１Ａ，１Ｂ：半導体レーザアレイ １ａ１，１ａ２，１ａ３，１ａ４：発光点 ７，４７：ブラケット ８，９：ネジ １０：サブアッセンブリ １６：記録媒体

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 同一のパッケージ内に複数個の発光点を
    等間隔にアレイ状に配列した半導体レーザアレイを光源
    として有し、記録媒体上に前記複数個の発光点から射出
    した複数本のレーザビームを走査して情報の記録を行う
    マルチビーム光源装置において、 前記記録媒体上で主走査方向と直交する副走査方向の直
    線と前記複数個の発光点の１番目とｎ番目の発光点から
    それぞれ発光されて前記記録媒体上に照射されたレーザ
    ビームスポットのそれぞれ中心を通る直線とがなす角度
    をθとしたとき、次式が成り立つように前記半導体レー
    ザアレイの位置を調整可能にする調整手段を設けたこと
    を特徴とするマルチビーム光源装置。 θ≦ｔａｎ‐１｛１／（ｎ−１）｝
  2. 【請求項２】 前記調整手段は、前記複数個の発光点の
    １番目とｎ番目の発光点の各中心を互いに結んだ直線の
    中間点付近を回転中心として前記半導体レーザアレイを
    回転させる手段であることを特徴とする請求項１記載の
    マルチビーム光源装置。
  3. 【請求項３】 前記記録媒体上の記録密度間隔は５０μ
    ｍ以下になるようにしていることを特徴とする請求項１
    又は２記載のマルチビーム光源装置。
  4. 【請求項４】 同一のパッケージ内で等間隔に複数個配
    置された発光点をアレイ状にそれぞれ配列した複数個の
    半導体レーザアレイを光源として有し、記録媒体上に前
    記各半導体レーザアレイからそれぞれ射出した複数本の
    レーザビームを走査して情報の記録を行うマルチビーム
    光源装置において、 前記各半導体レーザアレイからそれぞれ射出されるレー
    ザビームの本数をｎ、前記記録媒体上で主走査方向と直
    交する副走査方向の直線と前記各半導体レーザアレイの
    前記複数個の発光点の１番目とｎ番目の発光点からそれ
    ぞれ発光されて前記記録媒体上に照射されたレーザビー
    ムスポットのそれぞれ中心を通る直線とがなす角度をθ
    としたとき、次式が成り立つように前記各半導体レーザ
    アレイの位置を調整可能にする調整手段を前記各半導体
    レーザアレイごとにそれぞれ設けたことを特徴とするマ
    ルチビーム光源装置。 θ≦ｔａｎ‐１｛１／（ｎ−１）｝
  5. 【請求項５】 前記各調整手段は、前記各半導体レーザ
    アレイの複数個の発光点の１番目とｎ番目の発光点の各
    中心を互いに結んだ直線の中間点付近を回転中心として
    前記各半導体レーザアレイを回転させて前記角度θを調
    整する手段であることを特徴とする請求項４記載のマル
    チビーム光源装置。
  6. 【請求項６】 前記記録媒体上の記録密度間隔は５０μ
    ｍ以下になるようにしていることを特徴とする請求項４
    又は５記載のマルチビーム光源装置。
  7. 【請求項７】 前記複数個の各半導体レーザアレイは、
    その各半導体レーザアレイの光軸が前記各半導体レーザ
    アレイからそれぞれ射出されたレーザビームによって前
    記記録媒体上に形成されるレーザビームスポットがその
    記録媒体上で主走査方向に互いに所定角度ずれて隔てた
    位置になるように配置されていることを特徴とする請求
    項４乃至６のいずれか１項に記載のマルチビーム光源装
    置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007028509A (ja) * 2005-07-21 2007-02-01 Canon Inc 走査線ピッチ間隔調整方法及びそれを用いたマルチビーム走査光学装置
JP2007030360A (ja) * 2005-07-27 2007-02-08 Ricoh Printing Systems Ltd マルチビーム走査装置およびそれを用いた画像形成装置
JP2008026570A (ja) * 2006-07-20 2008-02-07 Ricoh Co Ltd マルチビーム光走査装置及び画像形成装置
US8717656B2 (en) 2008-09-17 2014-05-06 Ricoh Company, Ltd. Optical scanning device

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3703433B2 (ja) 2002-01-08 2005-10-05 キヤノン株式会社 光走査装置及び画像形成装置
JP4027293B2 (ja) * 2003-09-24 2007-12-26 キヤノン株式会社 走査光学装置
KR100579491B1 (ko) * 2003-11-01 2006-05-15 삼성전자주식회사 멀티-빔 광원 유닛과, 이를 구비하는 레이저 스캐닝 유닛및 그조립방법
JP4884035B2 (ja) * 2006-03-08 2012-02-22 株式会社リコー 光書き込み装置
JP6946983B2 (ja) 2017-11-30 2021-10-13 株式会社リコー 位置検出装置、画像読取装置、画像形成装置、プログラムおよび位置検出方法

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5642248A (en) * 1979-09-14 1981-04-20 Canon Inc Light source device
US5305022A (en) * 1992-03-24 1994-04-19 Fuji Xerox Co., Ltd. Interlaced multi-beam scanning type recording apparatus
US5745152A (en) * 1994-10-31 1998-04-28 Hewlett Packard Company Multiple beam laser scanner using lasers with different aperture sizes
JPH08136841A (ja) 1994-11-08 1996-05-31 Canon Inc レ−ザユニット及び画像形成装置
JPH0926550A (ja) 1995-07-10 1997-01-28 Ricoh Co Ltd マルチビーム走査装置
JP3520151B2 (ja) * 1996-03-01 2004-04-19 株式会社リコー マルチビーム走査装置
US6144685A (en) * 1996-01-23 2000-11-07 Fuji Xerox Co., Ltd. Two-dimensional surface emitting laser array, two-dimensional surface emitting laser beam scanner, two-dimensional surface emitting laser beam recorder, and two-dimensional surface emitting laser beam recording method
JPH09211350A (ja) 1996-02-02 1997-08-15 Ricoh Co Ltd レーザ走査光学系
US5758950A (en) * 1996-03-05 1998-06-02 Ricoh Company, Ltd. Light source device for an image forming apparatus
JPH09251137A (ja) 1996-03-15 1997-09-22 Konica Corp レーザ記録装置
JPH091861A (ja) 1996-05-02 1997-01-07 Ricoh Co Ltd 記録装置
JPH1039241A (ja) * 1996-07-19 1998-02-13 Konica Corp レーザ記録装置
JP3315610B2 (ja) * 1996-11-13 2002-08-19 キヤノン株式会社 走査光学装置
US5999345A (en) * 1997-07-03 1999-12-07 Ricoh Company, Ltd. Multi-beam light source unit
JPH1184283A (ja) * 1997-09-10 1999-03-26 Ricoh Co Ltd マルチビーム走査装置及び光源装置
JPH11230858A (ja) * 1998-02-16 1999-08-27 Ricoh Co Ltd 走査光学系の走査位置測定装置
CN1178112C (zh) * 1998-07-29 2004-12-01 株式会社理光 图像形成装置
US6232999B1 (en) * 1999-06-25 2001-05-15 Eastman Kodak Company Method for changing focus and angle of a multichannel printhead

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007028509A (ja) * 2005-07-21 2007-02-01 Canon Inc 走査線ピッチ間隔調整方法及びそれを用いたマルチビーム走査光学装置
JP2007030360A (ja) * 2005-07-27 2007-02-08 Ricoh Printing Systems Ltd マルチビーム走査装置およびそれを用いた画像形成装置
JP4646726B2 (ja) * 2005-07-27 2011-03-09 株式会社リコー マルチビーム走査装置およびそれを用いた画像形成装置
JP2008026570A (ja) * 2006-07-20 2008-02-07 Ricoh Co Ltd マルチビーム光走査装置及び画像形成装置
US8717656B2 (en) 2008-09-17 2014-05-06 Ricoh Company, Ltd. Optical scanning device

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