JP2000255097A - 画像形成装置 - Google Patents
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- JP2000255097A JP2000255097A JP11058365A JP5836599A JP2000255097A JP 2000255097 A JP2000255097 A JP 2000255097A JP 11058365 A JP11058365 A JP 11058365A JP 5836599 A JP5836599 A JP 5836599A JP 2000255097 A JP2000255097 A JP 2000255097A
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- semiconductor laser
- photosensitive medium
- image forming
- laser arrays
- scanning
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
- B41J2/47—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light
- B41J2/471—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror
- B41J2/473—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror using multiple light beams, wavelengths or colours
Landscapes
- Laser Beam Printer (AREA)
- Facsimile Heads (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 複数の光ビームにより高速に画像形成が可能
であって調整や制御が容易な画像形成装置を提供する。 【解決手段】 互いに独立に駆動可能なm個(2以上の
整数)の発光源を有するn個(2以上の整数)の半導体
レーザアレイ301,302と、複数の半導体レーザア
レイからの複数の光束を感光媒体面上に結像する光学系
と、複数の半導体レーザアレイからの複数の光束を所定
の方向に偏向する偏向器312と、を有し、偏向器によ
り偏向されるm×n本の光束で感光媒体面上を同時に走
査し画橡を記録する際に、m個の発光源が偏向方向と概
ね垂直方向になるように配列され、半導体レーザアレイ
からのm本の光束の感光媒体面上での結像スポットの間
隔が感光媒体面上の隣接する走査線の間隔のn倍となる
ように光学系により結像され、複数の半導体レーザアレ
イのうち、ある1つの半導体レーザアレイからの複数の
結像スポットの間隔を他の半導体レーザアレイからの結
像スポットで互いに補間することにより感光媒体面上の
隣接する走査線を同時に走査する。
であって調整や制御が容易な画像形成装置を提供する。 【解決手段】 互いに独立に駆動可能なm個(2以上の
整数)の発光源を有するn個(2以上の整数)の半導体
レーザアレイ301,302と、複数の半導体レーザア
レイからの複数の光束を感光媒体面上に結像する光学系
と、複数の半導体レーザアレイからの複数の光束を所定
の方向に偏向する偏向器312と、を有し、偏向器によ
り偏向されるm×n本の光束で感光媒体面上を同時に走
査し画橡を記録する際に、m個の発光源が偏向方向と概
ね垂直方向になるように配列され、半導体レーザアレイ
からのm本の光束の感光媒体面上での結像スポットの間
隔が感光媒体面上の隣接する走査線の間隔のn倍となる
ように光学系により結像され、複数の半導体レーザアレ
イのうち、ある1つの半導体レーザアレイからの複数の
結像スポットの間隔を他の半導体レーザアレイからの結
像スポットで互いに補間することにより感光媒体面上の
隣接する走査線を同時に走査する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本案明は、デジタル光学系を
有する複写機、ファクシミリ、プリンタ等の画像形成装
置に関し、詳しくは、複数の発光源を持つ半導体レーザ
アレイを複数用いて画像を形成する画線形成装置に関す
る。
有する複写機、ファクシミリ、プリンタ等の画像形成装
置に関し、詳しくは、複数の発光源を持つ半導体レーザ
アレイを複数用いて画像を形成する画線形成装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】一様帯電された感光媒体面上に、光瀬を
含むデジタル光学系で画像情報に応じて光を照射して潜
像を形成する画線形成装置が知られている。
含むデジタル光学系で画像情報に応じて光を照射して潜
像を形成する画線形成装置が知られている。
【0003】近年のデジタル複写機では、より高い生産
性が要求されるようになり、それに伴いプロセススピー
ドが増加し、レーザの変調周波数も増加するようにな
り、レーザ駆動回路やレーザ自体の応答がそれに追いつ
かないといった事態も生じていた。
性が要求されるようになり、それに伴いプロセススピー
ドが増加し、レーザの変調周波数も増加するようにな
り、レーザ駆動回路やレーザ自体の応答がそれに追いつ
かないといった事態も生じていた。
【0004】また、ポリゴンミラーに代表される偏向器
のモータの回転数にも限界があり、高速化が困難にな
る。このような不具合を解決するために、画像を形成す
るために用いるレーザビームの本数を増やす、たとえ
ば、複数の発光源を有する半導体レーザアレイを用いる
といった、所謂マルチビーム走査光学系が提案されてい
る。
のモータの回転数にも限界があり、高速化が困難にな
る。このような不具合を解決するために、画像を形成す
るために用いるレーザビームの本数を増やす、たとえ
ば、複数の発光源を有する半導体レーザアレイを用いる
といった、所謂マルチビーム走査光学系が提案されてい
る。
【0005】一般に、複数の光ビームを用いて感光媒体
面上を光走査する場合には、感光媒体面上で走査方向
(以下、主走査方向と呼ぶ)とは直交する方向(以下、
副走査方向と呼ぶ)の複数光ビームの結像スポットの間
隔を、隣接した走査線と同程度に密に形成させる必要が
ある。
面上を光走査する場合には、感光媒体面上で走査方向
(以下、主走査方向と呼ぶ)とは直交する方向(以下、
副走査方向と呼ぶ)の複数光ビームの結像スポットの間
隔を、隣接した走査線と同程度に密に形成させる必要が
ある。
【0006】しかしながら、複数の光ビームを発生させ
る半導体レーザアレイの発光源の間隔は、技術の進歩に
より50μm 程度までは可能となったものの、更に狭める
ことは熱干渉等の問題により製造上限界があって困難で
ある。つまり、感光媒体面上の副走査方向の結像スポッ
トの間隔を十分に密にできないといった問題が生じる。
る半導体レーザアレイの発光源の間隔は、技術の進歩に
より50μm 程度までは可能となったものの、更に狭める
ことは熱干渉等の問題により製造上限界があって困難で
ある。つまり、感光媒体面上の副走査方向の結像スポッ
トの間隔を十分に密にできないといった問題が生じる。
【0007】このような問題を解決する方法として、た
とえば、特開昭54−158251号公報や特開昭56−110960号
公報で種々提案されている。
とえば、特開昭54−158251号公報や特開昭56−110960号
公報で種々提案されている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】従来のマルチビーム走
査光学系では、半導体レーザアレイの複数の発光源の配
列を、図6(a)に示すようにポリゴンミラー等の光偏
向器による偏向方向と垂直な方向に対して角度θだけ傾
けて配置する。このような配置により、感光媒体面上で
の複数の結像スポットの配列は、図6(b)のように角
度θだけ傾いて走査される。これにより、感光媒体面上
での副走査方向の結像スポットの間隔を密にし、感光媒
体面上の隣接する走査線を同時に走査している。
査光学系では、半導体レーザアレイの複数の発光源の配
列を、図6(a)に示すようにポリゴンミラー等の光偏
向器による偏向方向と垂直な方向に対して角度θだけ傾
けて配置する。このような配置により、感光媒体面上で
の複数の結像スポットの配列は、図6(b)のように角
度θだけ傾いて走査される。これにより、感光媒体面上
での副走査方向の結像スポットの間隔を密にし、感光媒
体面上の隣接する走査線を同時に走査している。
【0009】この場合、感光媒体面上の結像スポット間
隔のピッチをPyとすると、そのPyを精度良く維持す
る為には、半導体レーザアレイを傾ける角度θの調整が
微妙なものになる。すなわち、θの調整およびその維持
が非常に困難になるという問題点がある。
隔のピッチをPyとすると、そのPyを精度良く維持す
る為には、半導体レーザアレイを傾ける角度θの調整が
微妙なものになる。すなわち、θの調整およびその維持
が非常に困難になるという問題点がある。
【0010】また、半導体レーザアレイの複数の発光源
の配列をポリゴンミラー等の光偏向器による偏向方向と
垂直な方向に配列した場合、一般的に感光媒体面上での
副走査方向の結像スポットの間隔Pyは、感光媒体面上
の隣接する走査線の間隔よりも広い。
の配列をポリゴンミラー等の光偏向器による偏向方向と
垂直な方向に配列した場合、一般的に感光媒体面上での
副走査方向の結像スポットの間隔Pyは、感光媒体面上
の隣接する走査線の間隔よりも広い。
【0011】このため、感光媒体面上での副走査方向の
結像スポットの間隔と感光媒体面上の隣接する走査線の
間隔との関係を複数の走査線が互いに重なり合うことが
なく、かつ、記録された隣接する走査線の間隔が等間隔
となるようにした、所謂、飛び越し走査が行われてい
る。この様子を図7に示す。
結像スポットの間隔と感光媒体面上の隣接する走査線の
間隔との関係を複数の走査線が互いに重なり合うことが
なく、かつ、記録された隣接する走査線の間隔が等間隔
となるようにした、所謂、飛び越し走査が行われてい
る。この様子を図7に示す。
【0012】しかし、この場合、飛び越す走査線分の画
像情報を一時的に保持するメモリが必要になる。そし
て、該メモリにおいて、ある走査線については先に飛び
越して読み出すといった制御が必用になり、制御が非常
に複雑になる等の問題点がある。
像情報を一時的に保持するメモリが必要になる。そし
て、該メモリにおいて、ある走査線については先に飛び
越して読み出すといった制御が必用になり、制御が非常
に複雑になる等の問題点がある。
【0013】本発明は上記技術的課題に鑑みてなされた
ものであって、複数の光ビームにより高速に画像形成が
可能であって調整や制御が容易な画像形成装置を提供す
ることを目的とする。
ものであって、複数の光ビームにより高速に画像形成が
可能であって調整や制御が容易な画像形成装置を提供す
ることを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
本発明は以下に述べるようなものである。 (1)請求項1記載の発明は、互いに独立に駆動可能な
m個(mは2以上の整数)の発光源を有するn個(nは
2以上の整数)の半導体レーザアレイと、前記複数の半
導体レーザアレイからの複数の光束を感光媒体面上に結
像する光学系と、前記複数の半導体レーザアレイからの
複数の光束を所定の方向に偏向する偏向器と、を有し、
前記偏向器により偏向されるm×n本の光束で前記感光
媒体面上を同時に走査し画橡を記録する画像形成装置に
おいて、前記半導体レーザアレイはm個の発光源が前記
偏向方向と概ね垂直方向になるように配列され、前記半
導体レーザアレイからのm本の光束の前記感光媒体面上
での結像スポットの間隔が前記感光媒体面上の隣接する
走査線の間隔のn倍となるように前記光学系により結像
され、前記複数の半導体レーザアレイのうち、ある1つ
の半導体レーザアレイからの複数の結像スポットの間隔
を他の半導体レーザアレイからの結像スポットで互いに
補間することにより前記感光媒体面上の隣接する走査線
を同時に走査する、ことを特徴とする画像形成装置であ
る。
本発明は以下に述べるようなものである。 (1)請求項1記載の発明は、互いに独立に駆動可能な
m個(mは2以上の整数)の発光源を有するn個(nは
2以上の整数)の半導体レーザアレイと、前記複数の半
導体レーザアレイからの複数の光束を感光媒体面上に結
像する光学系と、前記複数の半導体レーザアレイからの
複数の光束を所定の方向に偏向する偏向器と、を有し、
前記偏向器により偏向されるm×n本の光束で前記感光
媒体面上を同時に走査し画橡を記録する画像形成装置に
おいて、前記半導体レーザアレイはm個の発光源が前記
偏向方向と概ね垂直方向になるように配列され、前記半
導体レーザアレイからのm本の光束の前記感光媒体面上
での結像スポットの間隔が前記感光媒体面上の隣接する
走査線の間隔のn倍となるように前記光学系により結像
され、前記複数の半導体レーザアレイのうち、ある1つ
の半導体レーザアレイからの複数の結像スポットの間隔
を他の半導体レーザアレイからの結像スポットで互いに
補間することにより前記感光媒体面上の隣接する走査線
を同時に走査する、ことを特徴とする画像形成装置であ
る。
【0015】この請求項1の発明においては、半導体レ
ーザアレイのm個の発光源が偏向方向と概ね垂直方向に
なるように傾き無く配列されており、各半導体レーザア
レイからのm本の光束の感光媒体面上での結像スポット
の間隔が感光媒体面上の隣接する走査線の間隔のn倍に
なるようにされている。そして、複数の半導体レーザア
レイのうち、ある1つの半導体レーザアレイからの複数
の結像スポットの間隔を他の半導体レーザアレイからの
結像スポットで互いに補間することにより感光媒体面上
の隣接する走査線を同時に走査している。
ーザアレイのm個の発光源が偏向方向と概ね垂直方向に
なるように傾き無く配列されており、各半導体レーザア
レイからのm本の光束の感光媒体面上での結像スポット
の間隔が感光媒体面上の隣接する走査線の間隔のn倍に
なるようにされている。そして、複数の半導体レーザア
レイのうち、ある1つの半導体レーザアレイからの複数
の結像スポットの間隔を他の半導体レーザアレイからの
結像スポットで互いに補間することにより感光媒体面上
の隣接する走査線を同時に走査している。
【0016】このため、発光源を主走査方向と略垂直に
すればよいため、半導体レーザアレイを取り付ける際
に、傾けて配置する際に要求されるような高い精度を必
要としない。また、連続したm×n本の走査線分のデー
タで走査すればよいため、従来の飛び越し走査を行う際
に要求されるような複雑な制御を必要とせずに、比較的
容易に隣接走査を行える。
すればよいため、半導体レーザアレイを取り付ける際
に、傾けて配置する際に要求されるような高い精度を必
要としない。また、連続したm×n本の走査線分のデー
タで走査すればよいため、従来の飛び越し走査を行う際
に要求されるような複雑な制御を必要とせずに、比較的
容易に隣接走査を行える。
【0017】(2)請求項2記載の発明は、前記複数の
半導体レーザアレイの複数の発光源のうち、それぞれ1
つのビームを用いて、前記感光媒体面上の走査線の間隔
を調整する、ことを特徴とする請求項1記載の画線形成
装置である。
半導体レーザアレイの複数の発光源のうち、それぞれ1
つのビームを用いて、前記感光媒体面上の走査線の間隔
を調整する、ことを特徴とする請求項1記載の画線形成
装置である。
【0018】また、請求項2の発明においては、複数の
半導体レーザアレイの複数の発光源のうち、それぞれ1
つのビームを用いて、感光媒体面上の走査線の間隔を調
整しているため、走査線の間隔を調整するための制御が
複雑化せず、また、補正のための時間も短縮できる。
半導体レーザアレイの複数の発光源のうち、それぞれ1
つのビームを用いて、感光媒体面上の走査線の間隔を調
整しているため、走査線の間隔を調整するための制御が
複雑化せず、また、補正のための時間も短縮できる。
【0019】(3)請求項3記載の発明は、前記複数の
半導体レーザアレイと前記感光媒体面との間の光路中
に、前記感光媒体面上の走査線とは垂直な方向の結像位
置を調整可能な調整部材を、少なくとも(n−1)個有
する、ことを特徴とする請求項1または請求項2のいず
れかに記載の画像形成装置である。
半導体レーザアレイと前記感光媒体面との間の光路中
に、前記感光媒体面上の走査線とは垂直な方向の結像位
置を調整可能な調整部材を、少なくとも(n−1)個有
する、ことを特徴とする請求項1または請求項2のいず
れかに記載の画像形成装置である。
【0020】また、請求項3の発明においては、複数の
半導体レーザアレイと感光媒体面との間の光路中に、感
光媒体面上の走査線とは垂直な方向の結像位置を調整可
能な粛整部材を、少なくとも(n−1)個有するように
しているため、走査線の間隔を調整するための制御が複
雑化せず、また、補正のための時間も短縮できる。
半導体レーザアレイと感光媒体面との間の光路中に、感
光媒体面上の走査線とは垂直な方向の結像位置を調整可
能な粛整部材を、少なくとも(n−1)個有するように
しているため、走査線の間隔を調整するための制御が複
雑化せず、また、補正のための時間も短縮できる。
【0021】(4)請求項4記載の発明は、前記複数の
半導体レーザアレイと前記偏向器との間の光路中に、前
記複数の半導体レーザアレイからの複数の光束を略同一
光路上に合成するビーム合成手段を有する、ことを特徴
とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の画像形
成装置である。
半導体レーザアレイと前記偏向器との間の光路中に、前
記複数の半導体レーザアレイからの複数の光束を略同一
光路上に合成するビーム合成手段を有する、ことを特徴
とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の画像形
成装置である。
【0022】請求項4の発明においては、複数の半導体
レーザアレイと偏向器との間の光路中に、複数の半導体
レーザアレイからの複数の光束を略同一光路上に合成す
るビーム合成手段を有するようにしているため、複数の
光束を光学系の光軸近傍(近軸)を通せるようになり、
光学系の収差等の影響を受けにくくなっている。
レーザアレイと偏向器との間の光路中に、複数の半導体
レーザアレイからの複数の光束を略同一光路上に合成す
るビーム合成手段を有するようにしているため、複数の
光束を光学系の光軸近傍(近軸)を通せるようになり、
光学系の収差等の影響を受けにくくなっている。
【0023】(5)請求項5記載の発明は、前記複数の
半導体レーザアレイと前記ビーム合成手段との間の光路
中に、前記感光媒体面上の走査線とは垂直な方向の結像
位置を調整可能な調整部材を、少なくとも(n−1)個
有する、ことを特徴とする請求項4記載の画像形成装置
である。
半導体レーザアレイと前記ビーム合成手段との間の光路
中に、前記感光媒体面上の走査線とは垂直な方向の結像
位置を調整可能な調整部材を、少なくとも(n−1)個
有する、ことを特徴とする請求項4記載の画像形成装置
である。
【0024】請求項5の発明においては、複数の半導体
レーザアレイとビーム合成手段との間の光路中に、感光
媒体面上の走査線とは垂直な方向の結像位置を調整可能
な調整部材を、少なくとも(n−1)個有するようにし
ているため、複数の光束を光学系の光軸近傍(近軸)を
通せるようになり、光学系の収差等の影響を受けにくく
なっている。
レーザアレイとビーム合成手段との間の光路中に、感光
媒体面上の走査線とは垂直な方向の結像位置を調整可能
な調整部材を、少なくとも(n−1)個有するようにし
ているため、複数の光束を光学系の光軸近傍(近軸)を
通せるようになり、光学系の収差等の影響を受けにくく
なっている。
【0025】
【実施の形態例】以下、本発明を電子写真方式の画像形
成装置に適用した実施の形態例について具体例を用いて
説明する。
成装置に適用した実施の形態例について具体例を用いて
説明する。
【0026】<第1の実施の形態例>この第1の実施の
形態例では、説明を簡単にするために、独立駆動可能な
2つ(m=2)の発光源を持つ2つ(n=2)の半導体
レーザアレイを用いたマルチビーム走査光学系について
説明する。
形態例では、説明を簡単にするために、独立駆動可能な
2つ(m=2)の発光源を持つ2つ(n=2)の半導体
レーザアレイを用いたマルチビーム走査光学系について
説明する。
【0027】独立駆動可能な2つの発光源301aと3
01bとを備えた半導体レーザアレイ301から出力さ
れたレーザ光は、コリメータレンズユニット304によ
り平行光束とされ、ビーム合成プリズム310の一方の
入射面に入射する。
01bとを備えた半導体レーザアレイ301から出力さ
れたレーザ光は、コリメータレンズユニット304によ
り平行光束とされ、ビーム合成プリズム310の一方の
入射面に入射する。
【0028】また、独立駆動可能な2つの発光源302
aと302bとを備えた半導体レーザアレイ302から
出力されたレーザ光は、コリメータレンズユニット30
5により平行光束とされ、結像位置調整部材311によ
り光束の位置調整がなされな後にビーム合成プリズム3
10の他方の入射面に入射する。
aと302bとを備えた半導体レーザアレイ302から
出力されたレーザ光は、コリメータレンズユニット30
5により平行光束とされ、結像位置調整部材311によ
り光束の位置調整がなされな後にビーム合成プリズム3
10の他方の入射面に入射する。
【0029】そして、ビーム合成プリズム310で各2
本の2つの光束が合成され、副走査方向にのみ屈折力を
持つ第1シリンドリカルレンズ311によりポリゴンミ
ラー面312上に主走査方向に長い略線状に結像され
る。そして、ポリゴンミラーの回転により反射・偏向さ
れた光束は、fθレンズ313および第2シリンドリカ
ルレンズ314により、回転する感光体ドラム1の表面
に結像される。このレーザ光の水平走査により、画線情
報に対応する静電潜像が形成される。
本の2つの光束が合成され、副走査方向にのみ屈折力を
持つ第1シリンドリカルレンズ311によりポリゴンミ
ラー面312上に主走査方向に長い略線状に結像され
る。そして、ポリゴンミラーの回転により反射・偏向さ
れた光束は、fθレンズ313および第2シリンドリカ
ルレンズ314により、回転する感光体ドラム1の表面
に結像される。このレーザ光の水平走査により、画線情
報に対応する静電潜像が形成される。
【0030】なお、ポリゴンミラー312で走査された
レーザビームの一部は、ミラー3115で反射され、水
平同期センサ316に導かれて、水平同期を示すBD信
号が生成される。なお、水平同期センサ316は、感光
体ドラム1のレーザ光照射開始位置の手前と等価な位置
に配置されている。
レーザビームの一部は、ミラー3115で反射され、水
平同期センサ316に導かれて、水平同期を示すBD信
号が生成される。なお、水平同期センサ316は、感光
体ドラム1のレーザ光照射開始位置の手前と等価な位置
に配置されている。
【0031】また、このBD信号に同期して図外のビデ
オI/F部が制御され、画像データが変調信号として半
導体レーザアレイ301と半導体レーザ302とに送ら
れている。
オI/F部が制御され、画像データが変調信号として半
導体レーザアレイ301と半導体レーザ302とに送ら
れている。
【0032】なお、以上の光学系において、各半導体レ
ーザアレイの2個(m個)の発光源が偏向方向(主走査
方向)と概ね垂直方向になるように傾き無く配列されて
おり、各半導体レーザアレイからの2本(m本)の光束
の感光媒体面上での結像スポットの間隔が感光媒体面上
の隣接する走査線の間隔のn倍になるように、配置され
ている。この詳細については後述する。
ーザアレイの2個(m個)の発光源が偏向方向(主走査
方向)と概ね垂直方向になるように傾き無く配列されて
おり、各半導体レーザアレイからの2本(m本)の光束
の感光媒体面上での結像スポットの間隔が感光媒体面上
の隣接する走査線の間隔のn倍になるように、配置され
ている。この詳細については後述する。
【0033】ここで、本実施の形態例の画像形成装置の
動作を図2以降の説明図を参照して説明する。半導体レ
ーザアレイ301は独立駆動可能な2つの発光源301
aおよび301bを有しており、また、半導体レーザア
レイ302は独立駆動可能な2つの発光源302aおよ
び302bを有している。
動作を図2以降の説明図を参照して説明する。半導体レ
ーザアレイ301は独立駆動可能な2つの発光源301
aおよび301bを有しており、また、半導体レーザア
レイ302は独立駆動可能な2つの発光源302aおよ
び302bを有している。
【0034】ここで、半導体レーザアレイ301の2つ
の発光源301aと301bとの間隔をd、感光体ドラ
ム面上での結橡スポット1a’と1b’との副走査方向
の間隔をPyとする。この場合のPyは、コリメータレ
ンズ304および305の焦点距離fcol、第1シリン
ドリカルレンズの焦点距離fcy1、走査光学系の副走査
方向の横倍率kにより、次式で表される。
の発光源301aと301bとの間隔をd、感光体ドラ
ム面上での結橡スポット1a’と1b’との副走査方向
の間隔をPyとする。この場合のPyは、コリメータレ
ンズ304および305の焦点距離fcol、第1シリン
ドリカルレンズの焦点距離fcy1、走査光学系の副走査
方向の横倍率kにより、次式で表される。
【0035】Py=d・k・fcy1/fcol ここで、感光体ドラム面上での結像スポット1a’と1
b’との副走査方向の間隔Pyを変更するには、半導体
レーザアレイ301として2つの発光源301aと30
1bの間隔dが所望の間隔のものを用いることが可能で
ある。しかし、現在の市場の動向では2つの発光源30
1aと301bとの間隔dの選択の自由度は極めて低い
ため、他のパラメータの値を変えるべく光学系を最適な
値に設計すればよい。
b’との副走査方向の間隔Pyを変更するには、半導体
レーザアレイ301として2つの発光源301aと30
1bの間隔dが所望の間隔のものを用いることが可能で
ある。しかし、現在の市場の動向では2つの発光源30
1aと301bとの間隔dの選択の自由度は極めて低い
ため、他のパラメータの値を変えるべく光学系を最適な
値に設計すればよい。
【0036】ところで、感光体ドラム面上の隣接した走
査線の間隔p(図2参照)は解像度により決まるもので
ある。たとえば、600dpi(dot perinch)の場合、p
=42.3μm である。ここでは、半導体レーザアレイ
を2つ(n=2)用いているので、Py=2pとする。
査線の間隔p(図2参照)は解像度により決まるもので
ある。たとえば、600dpi(dot perinch)の場合、p
=42.3μm である。ここでは、半導体レーザアレイ
を2つ(n=2)用いているので、Py=2pとする。
【0037】たとえば、半導体レーザアレイ301の2
つの発光源301aと301bとの間隔d=50μm 、
コリメータレンズの焦点距離fcol=16.7mm、第1
シリンドリカルレンズの焦点距離fcy1=60.9mm、
走査光学系の副走査方向の横倍率k=0.465とす
る。
つの発光源301aと301bとの間隔d=50μm 、
コリメータレンズの焦点距離fcol=16.7mm、第1
シリンドリカルレンズの焦点距離fcy1=60.9mm、
走査光学系の副走査方向の横倍率k=0.465とす
る。
【0038】この場合、上式より、Py=84.8μm
となる。これは、結像スポット1a’と1b’は、感光
体ドラム面上の隣接した走査線の2ライン分(=n倍)
離れることを意味する。なお、このことは、半導体レー
ザアレイ302についても同様である。なお、これが、
請求項での「光束の感光媒体面上での結像スポットの間
隔が感光媒体面上の隣接する走査線の間隔のn倍」を意
味している。
となる。これは、結像スポット1a’と1b’は、感光
体ドラム面上の隣接した走査線の2ライン分(=n倍)
離れることを意味する。なお、このことは、半導体レー
ザアレイ302についても同様である。なお、これが、
請求項での「光束の感光媒体面上での結像スポットの間
隔が感光媒体面上の隣接する走査線の間隔のn倍」を意
味している。
【0039】そして、半導体レーザアレイ301の2つ
の発光源301aと301bによる結像スポット1a’
と1b’の間に、半導体レーザアレイ302の発光源3
02aによる結像スポット2a’を入れることにより、
走査線を補間することができ、隣接走査となる。
の発光源301aと301bによる結像スポット1a’
と1b’の間に、半導体レーザアレイ302の発光源3
02aによる結像スポット2a’を入れることにより、
走査線を補間することができ、隣接走査となる。
【0040】もちろん、半導体レーザアレイ301の2
つの発光源301aと301bによる結像スポット1
a’と1b’の間に半導体レーザアレイ302の発光源
302bによる結像スポット2b’が入るようにしても
よいことは言うまでもない。
つの発光源301aと301bによる結像スポット1
a’と1b’の間に半導体レーザアレイ302の発光源
302bによる結像スポット2b’が入るようにしても
よいことは言うまでもない。
【0041】なお、この実施の形態例では、連続したm
×n本の走査線分のデータで各発光源を駆動して走査す
ればよいため、従来の飛び越し走査を行う際に要求され
るような複雑な制御を必要とせずに、比較的容易に隣接
走査を行える。
×n本の走査線分のデータで各発光源を駆動して走査す
ればよいため、従来の飛び越し走査を行う際に要求され
るような複雑な制御を必要とせずに、比較的容易に隣接
走査を行える。
【0042】次に、感光体ドラム面上の走査線の間隔を
均一にするための調整について説明する。半導体レーザ
アレイ301の2つの発光源301aと301bの間隔
dは変わらないため、この2つのビームによる結像スポ
ット1a’と1b’の副走査方向の間隔Pyも変わらな
い。このため、1つの半導体レーザアレイから射出され
る2つのビームによる結像スポットの副走査方向の間隔
に調整は不要である。もちろん、半導体レーザアレイ3
02の2つの発光源302aと302bとによる結像ス
ポット2a’と2b’の副走査方向の間隔についても同
様である。
均一にするための調整について説明する。半導体レーザ
アレイ301の2つの発光源301aと301bの間隔
dは変わらないため、この2つのビームによる結像スポ
ット1a’と1b’の副走査方向の間隔Pyも変わらな
い。このため、1つの半導体レーザアレイから射出され
る2つのビームによる結像スポットの副走査方向の間隔
に調整は不要である。もちろん、半導体レーザアレイ3
02の2つの発光源302aと302bとによる結像ス
ポット2a’と2b’の副走査方向の間隔についても同
様である。
【0043】そこで、結像スポット1a’と2a’との
副走査方向の間隔、1b’と2b’との副走査方向の間
隔を調整することになるだが、先に述べたように1つの
半導体レーザアレイから射出される2つのビームによる
結像スポットの副走査方向の間隔Pyは変わらないの
で、半導体レーザアレイ301による結像スポット1
a’と半導体レーザアレイ302による結像スポット2
a’との副走査方向の間隔Pvについてのみ調整すれば
良い。
副走査方向の間隔、1b’と2b’との副走査方向の間
隔を調整することになるだが、先に述べたように1つの
半導体レーザアレイから射出される2つのビームによる
結像スポットの副走査方向の間隔Pyは変わらないの
で、半導体レーザアレイ301による結像スポット1
a’と半導体レーザアレイ302による結像スポット2
a’との副走査方向の間隔Pvについてのみ調整すれば
良い。
【0044】結像スポット1a’と結像スポット2a’
との副走査方向の間隔Pvは水平同期センサ316を構
成する受光素子316aと受光素子316bにより測定
される。まず、結像スポット1a’がセンサ316aに
入射してからセンサ316bに入射するまでの時間T1
を測定する。
との副走査方向の間隔Pvは水平同期センサ316を構
成する受光素子316aと受光素子316bにより測定
される。まず、結像スポット1a’がセンサ316aに
入射してからセンサ316bに入射するまでの時間T1
を測定する。
【0045】次に、結像スポット2a’がセンサ316
aに入射してからセンサ316bに入射するまでの時間
T2を測定する。ところで、センサ316aとセンサ3
16bとのなす角θはあらかじめ分かっているので、結
像スポット1a’と2a’との副走査方向の間隔Pvは
次式で求まる。
aに入射してからセンサ316bに入射するまでの時間
T2を測定する。ところで、センサ316aとセンサ3
16bとのなす角θはあらかじめ分かっているので、結
像スポット1a’と2a’との副走査方向の間隔Pvは
次式で求まる。
【0046】Pv=(T1−T2)/tanθ ここで、結像スポット1a’と2a’との副走査方向の
間隔Pvが感光体ドラム面上の隣接した走査線の間隔p
に等しく(Pv=p)なるように、半導体レーザアレイ
301を基準として動かさず、半導体レーザアレイ30
2の光路上にのみ配置された結像位置調整部材311に
より感光体ドラム面上の結像スポットの結像位置を微小
に移動させて調整を実行する。
間隔Pvが感光体ドラム面上の隣接した走査線の間隔p
に等しく(Pv=p)なるように、半導体レーザアレイ
301を基準として動かさず、半導体レーザアレイ30
2の光路上にのみ配置された結像位置調整部材311に
より感光体ドラム面上の結像スポットの結像位置を微小
に移動させて調整を実行する。
【0047】なお、このような場合、結像位置調整部材
311を平行平板で構成し、その平行平板を傾けること
で上述した結像位置の調整が行える。また、この実施の
形態例では、n=2であるので、少なくともn−1=1
個の結像位置調整部材を用いればよい。
311を平行平板で構成し、その平行平板を傾けること
で上述した結像位置の調整が行える。また、この実施の
形態例では、n=2であるので、少なくともn−1=1
個の結像位置調整部材を用いればよい。
【0048】また、外部からの衝撃や経時変化等による
結像スポット1a’と2a’との副走査方向の間隔Pv
のズレについても同様な手法により補正する。以上のよ
うに、感光体ドラム面上の走査線の間隔が均一な隣接走
査を行うようにする。
結像スポット1a’と2a’との副走査方向の間隔Pv
のズレについても同様な手法により補正する。以上のよ
うに、感光体ドラム面上の走査線の間隔が均一な隣接走
査を行うようにする。
【0049】なお、ここでは、結像スポット1a’と2
a’との組合わせで副走査方向の間隔Pvを調整する例
を挙げたが、1a’と2b’との組合わせ、あるいは1
b’と2a’との組合わせによる副走査方向の間隔Pv
でもよいことは言うまでもない。
a’との組合わせで副走査方向の間隔Pvを調整する例
を挙げたが、1a’と2b’との組合わせ、あるいは1
b’と2a’との組合わせによる副走査方向の間隔Pv
でもよいことは言うまでもない。
【0050】<第2の実施の形態例>この第2の実施の
形態例では、独立駆動可能な2つ(m=2)の発光源を
持つ3つ(n=3)の半導体レーザアレイを用いたマル
チビーム走査光学系について説明する。
形態例では、独立駆動可能な2つ(m=2)の発光源を
持つ3つ(n=3)の半導体レーザアレイを用いたマル
チビーム走査光学系について説明する。
【0051】図4は半導体レーザアレイ301,30
2,303からの光ビームの合成の様子を模式的に示す
斜視図である。なお、3つの半導体レーザアレイからの
光ビームを合成した以降については、図1に示した構成
と同一であるとする。ここでは、ビーム合成プリズム3
10と310’とを用いて、3つの半導体レーザアレイ
からの光ビームを合成する場合を例示している。
2,303からの光ビームの合成の様子を模式的に示す
斜視図である。なお、3つの半導体レーザアレイからの
光ビームを合成した以降については、図1に示した構成
と同一であるとする。ここでは、ビーム合成プリズム3
10と310’とを用いて、3つの半導体レーザアレイ
からの光ビームを合成する場合を例示している。
【0052】たとえば、600dpi(dot perinch)の場
合、図5に示すように、感光体ドラム面上の隣接した走
査線の間隔p=42.3μm である。ここでは、半導体
レーザアレイを3つ(n=3)用いているので、Py=
3pとする。
合、図5に示すように、感光体ドラム面上の隣接した走
査線の間隔p=42.3μm である。ここでは、半導体
レーザアレイを3つ(n=3)用いているので、Py=
3pとする。
【0053】たとえば、半導体レーザアレイ301の2
つの発光源301aと301bの間隔d=50μm 、コ
リメータレンズの焦点距離fco1=11.2mm、第1シ
リンドリカルレンズ311の焦点距離fcy1=60.9m
m、走査光学系の副走査方向の横倍率k=0.465と
すると、上式より、Py=126.4μm となり、感光
体ドラム面上での結像スポット1a’と1b’とは感光
体ドラム面上の隣接した走査線の3ライン分(=n倍)
離れる。なお、半導体レーザアレイ302と半導体レー
ザアレイ303についても同様である。なお、これが、
請求項での「光束の感光媒体面上での結像スポットの間
隔が感光媒体面上の隣接する走査線の間隔のn倍」を意
味している。
つの発光源301aと301bの間隔d=50μm 、コ
リメータレンズの焦点距離fco1=11.2mm、第1シ
リンドリカルレンズ311の焦点距離fcy1=60.9m
m、走査光学系の副走査方向の横倍率k=0.465と
すると、上式より、Py=126.4μm となり、感光
体ドラム面上での結像スポット1a’と1b’とは感光
体ドラム面上の隣接した走査線の3ライン分(=n倍)
離れる。なお、半導体レーザアレイ302と半導体レー
ザアレイ303についても同様である。なお、これが、
請求項での「光束の感光媒体面上での結像スポットの間
隔が感光媒体面上の隣接する走査線の間隔のn倍」を意
味している。
【0054】そして、半導体レーザアレイ301の2つ
の発光源301aと301bによる結像スポット1a’
と1b’の間に半導体レーザアレイ302の発光源30
2aによる結像スポット2a’を入れ、さらに、結像ス
ポット2a’と1b’の間に半導体レーザアレイ303
の発光源303aによる結像スポット3a’を入れるこ
とにより、走査線を補間することができ、隣接走査とな
る。
の発光源301aと301bによる結像スポット1a’
と1b’の間に半導体レーザアレイ302の発光源30
2aによる結像スポット2a’を入れ、さらに、結像ス
ポット2a’と1b’の間に半導体レーザアレイ303
の発光源303aによる結像スポット3a’を入れるこ
とにより、走査線を補間することができ、隣接走査とな
る。
【0055】もちろん、半導体レーザアレイ301の2
つの発光源301aと301bによる結像スポット1
a’と1b’の間に半導体レーザアレイ303の発光源
303aによる結像スポット3a’を入れ、さらに、3
a’と1b’の間に半導体レーザアレイ302の発光源
302aによる結像スポット2a’が入るように、順序
を入れ替えてもよいことは言うまでもない。
つの発光源301aと301bによる結像スポット1
a’と1b’の間に半導体レーザアレイ303の発光源
303aによる結像スポット3a’を入れ、さらに、3
a’と1b’の間に半導体レーザアレイ302の発光源
302aによる結像スポット2a’が入るように、順序
を入れ替えてもよいことは言うまでもない。
【0056】なお、この実施の形態例では、連続したm
×n本の走査線分のデータで各発光源を駆動して走査す
ればよいため、従来の飛び越し走査を行う際に要求され
るような複雑な制御を必要とせずに、比較的容易に隣接
走査を行える。
×n本の走査線分のデータで各発光源を駆動して走査す
ればよいため、従来の飛び越し走査を行う際に要求され
るような複雑な制御を必要とせずに、比較的容易に隣接
走査を行える。
【0057】次に、感光体ドラム面上の走査線の間隔を
均一にするための調整について説明する。先に述べたよ
うに、1つの半導体レーザアレイから射出される2つの
ビームによる結像スポット同士の副走査方向の間隔に調
整は不要である。
均一にするための調整について説明する。先に述べたよ
うに、1つの半導体レーザアレイから射出される2つの
ビームによる結像スポット同士の副走査方向の間隔に調
整は不要である。
【0058】そこで、結像スポット1a’と2a’との
副走査方向の間隔、2a’と3a’との副走査方向の間
隔、3a’と1b’との副走査方向の間隔、1b’と2
b’との副走査方向の間隔、2b’と3b’との副走査
方向の間隔を調整することになる。ここで、先に述べた
ように1つの半導体レーザアレイから射出される2つの
ビームによる結像スポットの副走査方向の間隔Pyは変
わらないので、結像スポット1a’と2a’との副走査
方向の間隔と1a’と3a’との副走査方向の間隔につ
いてのみ調整すればよいことになる。
副走査方向の間隔、2a’と3a’との副走査方向の間
隔、3a’と1b’との副走査方向の間隔、1b’と2
b’との副走査方向の間隔、2b’と3b’との副走査
方向の間隔を調整することになる。ここで、先に述べた
ように1つの半導体レーザアレイから射出される2つの
ビームによる結像スポットの副走査方向の間隔Pyは変
わらないので、結像スポット1a’と2a’との副走査
方向の間隔と1a’と3a’との副走査方向の間隔につ
いてのみ調整すればよいことになる。
【0059】そこで、結像スポット1a’と2a’との
副走査方向の間隔が感光体ドラム面上の隣接した走査線
の間隔pに等しくなるように、半導体レーザアレイ30
1を基準として動かさず、半導体レーザアレイ302の
光路上に配置された結像位置調整部材307により感光
体ドラム面上の結像スポットの結像位置を微小に移動さ
せ、調整を実行する。なお、このような場合、結像位置
調整部材305を平行平板で構成し、その平行平板を傾
けることで上述した結像位置の調整が行える。
副走査方向の間隔が感光体ドラム面上の隣接した走査線
の間隔pに等しくなるように、半導体レーザアレイ30
1を基準として動かさず、半導体レーザアレイ302の
光路上に配置された結像位置調整部材307により感光
体ドラム面上の結像スポットの結像位置を微小に移動さ
せ、調整を実行する。なお、このような場合、結像位置
調整部材305を平行平板で構成し、その平行平板を傾
けることで上述した結像位置の調整が行える。
【0060】そして、1a’と3a’との副走査方向の
間隔が感光体ドラム面上の隣接した走査線の間隔pの2
倍になるように、半導体レーザアレイ301を基準とし
て動かさず、半導体レーザアレイ303の光路上に配置
された結像位置調整部材308により感光体ドラム面上
の結像スポットの結像位置を微小に移動させ、調整を実
行する。なお、このような場合、結像位置調整部材30
8を平行平板で構成し、その平行平板を傾けることで上
述した結像位置の調整が行える。
間隔が感光体ドラム面上の隣接した走査線の間隔pの2
倍になるように、半導体レーザアレイ301を基準とし
て動かさず、半導体レーザアレイ303の光路上に配置
された結像位置調整部材308により感光体ドラム面上
の結像スポットの結像位置を微小に移動させ、調整を実
行する。なお、このような場合、結像位置調整部材30
8を平行平板で構成し、その平行平板を傾けることで上
述した結像位置の調整が行える。
【0061】また、この実施の形態例では、n=3であ
るので、少なくともn−1=2個の結像位置調整部材を
用いればよい。また、外部からの衝撃や経時変化等によ
る結像スポットのズレについても同様な手法により補正
する。以上のように、感光体ドラム面上の走査線の間隔
が均一な隣接走査を行うようにする。
るので、少なくともn−1=2個の結像位置調整部材を
用いればよい。また、外部からの衝撃や経時変化等によ
る結像スポットのズレについても同様な手法により補正
する。以上のように、感光体ドラム面上の走査線の間隔
が均一な隣接走査を行うようにする。
【0062】なお、ここでは、結像スポット1a’と2
a’との組合わせ、1a’と3a’との組合わせで副走
査方向の間隔を調整する例を挙げたが、3つ(n=3)
の半導体レーザアレイからそれぞれ2つ射出されるビー
ムのうち、それぞれ1つのビームの組合わせでの副走査
方向の間隔であってもよい。
a’との組合わせ、1a’と3a’との組合わせで副走
査方向の間隔を調整する例を挙げたが、3つ(n=3)
の半導体レーザアレイからそれぞれ2つ射出されるビー
ムのうち、それぞれ1つのビームの組合わせでの副走査
方向の間隔であってもよい。
【0063】<その他の実施の形態例>以上述べた実施
の形態例では、独立駆動可能な2つの発光源を有する2
つの半導体レーザアレイを用いたマルチビーム走査光学
系、あるいは、独立駆動可能な2つの発光源を有する3
つの半導体レーザアレイを用いたマルチビーム走査光学
系を示した。しかし、ここに示された以外の数の発光源
や半導体レーザアレイであってもよい。すなわち、互い
に独立駆動可能なm(2以上の整数)個の発光源を有す
るn(2以上の整数)個の半導体レーザアレイを用いた
マルチビーム走査光学系を用いて、上述した実施の形態
例と同様の動作により同様な効果が得られる。
の形態例では、独立駆動可能な2つの発光源を有する2
つの半導体レーザアレイを用いたマルチビーム走査光学
系、あるいは、独立駆動可能な2つの発光源を有する3
つの半導体レーザアレイを用いたマルチビーム走査光学
系を示した。しかし、ここに示された以外の数の発光源
や半導体レーザアレイであってもよい。すなわち、互い
に独立駆動可能なm(2以上の整数)個の発光源を有す
るn(2以上の整数)個の半導体レーザアレイを用いた
マルチビーム走査光学系を用いて、上述した実施の形態
例と同様の動作により同様な効果が得られる。
【0064】また、上述した実施の形態例では結像位置
調整部材に平行平板を用いた例を示したが、これに限定
されるものではなく、たとえば、薄いプリズムやミラー
などの各種光学素子を用いることが可能である。
調整部材に平行平板を用いた例を示したが、これに限定
されるものではなく、たとえば、薄いプリズムやミラー
などの各種光学素子を用いることが可能である。
【0065】さらに、上述した実施の形態例では半導体
レーザアレイ301を基準にして他の半導体レーザアレ
イ302,303による結像位置を調整するようにした
が、どの半導体レーザアレイを基準にしても構わない。
レーザアレイ301を基準にして他の半導体レーザアレ
イ302,303による結像位置を調整するようにした
が、どの半導体レーザアレイを基準にしても構わない。
【0066】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば以下のような効果が得られる。 (1)請求項1記載の発明では、半導体レーザアレイの
m個の発光源が偏向方向と概ね垂直方向になるように傾
き無く配列されており、各半導体レーザアレイからのm
本の光束の感光媒体面上での結像スポットの間隔が感光
媒体面上の隣接する走査線の間隔のn倍になるようにさ
れている。そして、複数の半導体レーザアレイのうち、
ある1つの半導体レーザアレイからの複数の結像スポッ
トの間隔を他の半導体レーザアレイからの結像スポット
で互いに補間することにより感光媒体面上の隣接する走
査線を同時に走査している。
よれば以下のような効果が得られる。 (1)請求項1記載の発明では、半導体レーザアレイの
m個の発光源が偏向方向と概ね垂直方向になるように傾
き無く配列されており、各半導体レーザアレイからのm
本の光束の感光媒体面上での結像スポットの間隔が感光
媒体面上の隣接する走査線の間隔のn倍になるようにさ
れている。そして、複数の半導体レーザアレイのうち、
ある1つの半導体レーザアレイからの複数の結像スポッ
トの間隔を他の半導体レーザアレイからの結像スポット
で互いに補間することにより感光媒体面上の隣接する走
査線を同時に走査している。
【0067】このため、発光源を主走査方向と略垂直に
すればよいため、半導体レーザアレイを取り付ける際
に、傾けて配置する際に要求されるような高い精度を必
要としない。また、連続したm×n本の走査線分のデー
タで走査すればよいため、従来の飛び越し走査を行う際
に要求されるような複雑な制御を必要とせずに、比較的
容易に隣接走査を行える。
すればよいため、半導体レーザアレイを取り付ける際
に、傾けて配置する際に要求されるような高い精度を必
要としない。また、連続したm×n本の走査線分のデー
タで走査すればよいため、従来の飛び越し走査を行う際
に要求されるような複雑な制御を必要とせずに、比較的
容易に隣接走査を行える。
【0068】(2)請求項2記載の発明では、複数の半
導体レーザアレイの複数の発光源のうち、それぞれ1つ
のビームを用いて、感光媒体面上の走査線の間隔を調整
しているため、走査線の間隔を調整するための制御が複
雑化せず、また、補正のための時間も短縮できる。
導体レーザアレイの複数の発光源のうち、それぞれ1つ
のビームを用いて、感光媒体面上の走査線の間隔を調整
しているため、走査線の間隔を調整するための制御が複
雑化せず、また、補正のための時間も短縮できる。
【0069】(3)請求項3記載の発明では、複数の半
導体レーザアレイと感光媒体面との間の光路中に、感光
媒体面上の走査線とは垂直な方向の結像位置を調整可能
な粛整部材を、少なくとも(n−1)個有するようにし
ているため、走査線の間隔を調整するための制御が複雑
化せず、また、補正のための時間も短縮できる。
導体レーザアレイと感光媒体面との間の光路中に、感光
媒体面上の走査線とは垂直な方向の結像位置を調整可能
な粛整部材を、少なくとも(n−1)個有するようにし
ているため、走査線の間隔を調整するための制御が複雑
化せず、また、補正のための時間も短縮できる。
【0070】(4)請求項4記載の発明では、複数の半
導体レーザアレイと偏向器との間の光路中に、複数の半
導体レーザアレイからの複数の光束を略同一光路上に合
成するビーム合成手段を有するようにしているため、複
数の光束を光学系の光軸近傍(近軸)を通せるようにな
り、光学系の収差等の影響を受けにくくなっている。
導体レーザアレイと偏向器との間の光路中に、複数の半
導体レーザアレイからの複数の光束を略同一光路上に合
成するビーム合成手段を有するようにしているため、複
数の光束を光学系の光軸近傍(近軸)を通せるようにな
り、光学系の収差等の影響を受けにくくなっている。
【0071】(5)請求項5記載の発明では、複数の半
導体レーザアレイとビーム合成手段との間の光路中に、
感光媒体面上の走査線とは垂直な方向の結像位置を調整
可能な調整部材を、少なくとも(n−1)個有するよう
にしているため、複数の光束を光学系の光軸近傍(近
軸)を通せるようになり、光学系の収差等の影響を受け
にくくなっている。
導体レーザアレイとビーム合成手段との間の光路中に、
感光媒体面上の走査線とは垂直な方向の結像位置を調整
可能な調整部材を、少なくとも(n−1)個有するよう
にしているため、複数の光束を光学系の光軸近傍(近
軸)を通せるようになり、光学系の収差等の影響を受け
にくくなっている。
【図1】本発明の第1の実施の形態例の画像形成装置の
主要部分の光学的な構成を示す実体図である。
主要部分の光学的な構成を示す実体図である。
【図2】本発明の第1の実施の形態例の感光体ドラム面
上の光ビームの走査の様子を示す説明図である。
上の光ビームの走査の様子を示す説明図である。
【図3】本発明の第1の実施の形態例の走査線間隔測定
の様子を示す説明図である。
の様子を示す説明図である。
【図4】本発明の第2の実施の形態例の画像形成装置の
主要部分の光学的な構成を示す実体図である。
主要部分の光学的な構成を示す実体図である。
【図5】本発明の第2の実施の形態例の感光体ドラム面
上の光ビームの走査の様子を示す説明図である。
上の光ビームの走査の様子を示す説明図である。
【図6】従来の画像形成装置で半導体レーザアレイを傾
けて取り付ける様子を示す説明図である。
けて取り付ける様子を示す説明図である。
【図7】従来の画像形成装置の飛び越し走査の様子を示
す説明図である。
す説明図である。
1 感光体ドラム 301〜303 半導体レーザ 304〜306 コリメータユニット 307,308 結像位置調整部材 310 ビーム合成プリズム 311 第1シリンドリカルレンズ 312 ポリゴンミラー 313 f−θレンズ 314 第2シリンドリカルレンズ 315 ミラー 316 水平同期センサ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2C362 AA07 AA13 BA58 BA60 BA61 BA81 BA89 5C051 AA02 CA07 DA09 DB02 DB21 DB22 DC04 DC05 DC07 EA03 5C072 AA03 BA04 CA06 CA09 DA02 DA10 HA02 HA06 HA10 HB08 XA01
Claims (5)
- 【請求項1】 互いに独立に駆動可能なm個(mは2以
上の整数)の発光源を有するn個(nは2以上の整数)
の半導体レーザアレイと、 前記複数の半導体レーザアレイからの複数の光束を感光
媒体面上に結像する光学系と、 前記複数の半導体レーザアレイからの複数の光束を所定
の方向に偏向する偏向器と、を有し、 前記偏向器により偏向されるm×n本の光束で前記感光
媒体面上を同時に走査し画橡を記録する画像形成装置に
おいて、 前記半導体レーザアレイはm個の発光源が前記偏向方向
と概ね垂直方向になるように配列され、前記半導体レー
ザアレイからのm本の光束の前記感光媒体面上での結像
スポットの間隔が前記感光媒体面上の隣接する走査線の
間隔のn倍となるように前記光学系により結像され、前
記複数の半導体レーザアレイのうち、ある1つの半導体
レーザアレイからの複数の結像スポットの間隔を他の半
導体レーザアレイからの結像スポットで互いに補間する
ことにより前記感光媒体面上の隣接する走査線を同時に
走査する、ことを特徴とする画像形成装置。 - 【請求項2】 前記複数の半導体レーザアレイの複数の
発光源のうち、それぞれ1つのビームを用いて、前記感
光媒体面上の走査線の間隔を調整する、ことを特徴とす
る請求項1記載の画線形成装置。 - 【請求項3】 前記複数の半導体レーザアレイと前記感
光媒体面との間の光路中に、前記感光媒体面上の走査線
とは垂直な方向の結像位置を調整可能な調整部材を、少
なくとも(n−1)個有する、ことを特徴とする請求項
1または請求項2のいずれかに記載の画像形成装置。 - 【請求項4】 前記複数の半導体レーザアレイと前記偏
向器との間の光路中に、前記複数の半導体レーザアレイ
からの複数の光束を略同一光路上に合成するビーム合成
手段を有する、ことを特徴とする請求項1乃至請求項3
のいずれかに記載の画像形成装置。 - 【請求項5】 前記複数の半導体レーザアレイと前記ビ
ーム合成手段との間の光路中に、前記感光媒体面上の走
査線とは垂直な方向の結像位置を調整可能な調整部材
を、少なくとも(n−1)個有する、ことを特徴とする
請求項4記載の画像形成装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11058365A JP2000255097A (ja) | 1999-03-05 | 1999-03-05 | 画像形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11058365A JP2000255097A (ja) | 1999-03-05 | 1999-03-05 | 画像形成装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000255097A true JP2000255097A (ja) | 2000-09-19 |
Family
ID=13082303
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11058365A Pending JP2000255097A (ja) | 1999-03-05 | 1999-03-05 | 画像形成装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000255097A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6771300B2 (en) | 2001-03-07 | 2004-08-03 | Ricoh Company, Ltd. | Multi-beam scanning device |
US6842187B2 (en) | 2003-05-02 | 2005-01-11 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Optical beam scanning device and image forming apparatus |
JP2008170518A (ja) * | 2007-01-09 | 2008-07-24 | Konica Minolta Business Technologies Inc | レーザ走査光学装置 |
JP2010256397A (ja) * | 2009-04-21 | 2010-11-11 | Kyocera Mita Corp | 光学走査装置及びそれを備えた画像形成装置 |
-
1999
- 1999-03-05 JP JP11058365A patent/JP2000255097A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US7158160B2 (en) | 2003-05-02 | 2007-01-02 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Optical beam scanning device and image forming apparatus |
JP2011056960A (ja) * | 2003-05-02 | 2011-03-24 | Toshiba Corp | 画像形成装置及び方法 |
JP2011076093A (ja) * | 2003-05-02 | 2011-04-14 | Toshiba Corp | 画像形成装置 |
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