JP2007028509A - 走査線ピッチ間隔調整方法及びそれを用いたマルチビーム走査光学装置 - Google Patents

走査線ピッチ間隔調整方法及びそれを用いたマルチビーム走査光学装置 Download PDF

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Abstract

【課題】 走査線ピッチ間隔を所定の値に統一し、ピッチむらや色ずれの発生を抑え高品質な画像を形成することができる走査線ピッチ間隔調整方法及びそれを用いたマルチビーム走査光学装置を得ること。
【解決手段】 直線状に所定の間隔で離間して配置した3つ以上の発光点を有する光源手段1の各発光点から発せられた複数の光束を偏向手段5で偏向し、該偏向手段で偏向された複数の光束を結像光学系6で被走査面8上に導光し、該偏向手段の偏向動作により該被走査面を複数の光束で主走査方向に走査するとき、
該被走査面を走査する複数の走査線の中で、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔を測定手段9で測定し、その結果に基づき副走査方向の走査線ピッチ間隔を調整すること。
【選択図】 図1

Description

本発明は走査線ピッチ間隔調整方法及びそれを用いたマルチビーム走査光学装置に関し、例えばレーザービームプリンタやデジタル複写機、デジタルFAX等の電子写真装置に好適なものである。
近年、レーザービームプリンタ等の電子写真装置において、高速化や高精細化に対応するために複数のレーザービーム(光束)を用いて複数のラインを同時に書き込むマルチビーム走査光学装置が開発されている。
このようなレーザービームプリンタに用いられる走査光学装置は,該レーザービームプリンタの高速化、高精細化によってより高速走査の可能なものが求められており、走査手段であるモーターの回転数、偏向手段であるポリゴンミラーの面数や大きさ等の限界から、特に複数の光束を同時に走査できるマルチビーム走査光学装置の要求が高まっている。
またレーザービームプリンタの高速化、高精細化の要求から、解像度600DPIでは約42μmだった副走査方向の走査線ピッチ間隔が、1200DPIで約21μm、2400DPIで約10.5μmと狭くなっていて、これにより要求される精度も厳しくなっている。
図9は従来のマルチビーム走査光学装置の要部概略図である。
同図において光源手段としてのマルチビーム半導体レーザー91から独立変調され出射した複数(2本)の発散光束はコリメーターレンズ92により平行光束に変換され、絞り93によって該光束(光量)を制限してシリンドリカルレンズ94に入射する。シリンドリカルレンズ94に入射した平行光束のうち主走査面内においてはそのまま平行光束の状態で射出する。また副走査面内においては集束して回転多面鏡(ポリゴンミラー)から成る光偏向器95の偏向面(反射面)95aにほぼ線像として結像する。そして光偏向器95の偏向面95aで偏向反射された複数の光束をfθ特性を有する結像光学系(fθレンズ系)96を介して被走査面としての感光ドラム面98上の互いに異なる領域に導光し、該光偏向器95を矢印A方向に回転させることによって、該感光ドラム面98上を複数の光束で矢印B方向(主走査方向)に同時に光走査して画像情報の記録を行っている。
図10は従来のマルチビーム半導体レーザーユニット900の要部概略図である。
同図においてマルチビーム半導体レーザーユニット900は半導体レーザー光源902とホルダ903とコリメーターレンズ904が内蔵された鏡筒905とから構成されている。半導体レーザー光源902は圧入や接着によってホルダ903に固定され、ホルダ903はコリメーターレンズ904が内蔵された鏡筒905に接着固定されている。マルチビーム半導体レーザーユニット900は光学箱906の圧入孔907に圧入によって仮固定される。その後に、副走査方向の走査線ピッチ間隔の調整をマルチビーム半導体レーザーユニット900をB−B´方向に回転することで行う。B−B´方向への回転調整は、ホルダ903に設けられた回転調整用孔909に回転調整用治具910に設けられた回転調整用ピン911を嵌合させて、回転調整用治具を回転させて行い、所定の解像度に対応したピッチ間隔になったところで回転調整を完了する。
図11は図10に示した従来のマルチビーム半導体レーザーユニット900が有する発光点の配置図である。同図において図10に示した要素と同一要素には同符番を付している。同図において801、802は各々発光点である。
図12は図9における被走査面としての感光ドラム面98を拡大し、従来の副走査方向の走査線ピッチ間隔測定箇所を説明した図である。同図において図9に示した要素と同一要素には同符番を付している。
同図において811、812は各々図11の発光点801、802から発せられた光束によって被走査面98上を走査(形成)したときの走査線である。
この副走査方向の走査線ピッチ間隔を調整するマルチビーム走査光学装置は従来より種々と提案されている(特許文献1参照)。
走査線ピッチ間隔測定におけるピッチ間隔の検出には、図13に示されているようにレーザービーム(光束)の走査方向と直交する方向の通過位置変化に対して、その出力が連続的かつ広範囲に変化するセンサパターンS1を用い、最初にセンサパターンS1を通過する第1のビームの出力値をメモリに記憶しておき、第2のビームがセンサパターンS1を通過しその出力が出力されたときに、前記メモリに記憶させておいた第1のビームの出力値との差分をとり、所定の値と比較することで走査間隔の相対距離を検出する方法等が用いられている。同図において811,812,813は各々対応する発光点から発せられた光束によって被走査面上を走査したときの走査線である。
従来では、解像度を600dpiにしたい場合、走査線のピッチ間隔が約42μmになるように図12の黒矢印で示す1組の隣接する走査線の間隔Lを上記の如く検出、測定し、その結果に基づきマルチビーム半導体レーザーユニット900を図11のB−B´方向に回転し調整している。走査線のピッチ間隔が42μmより広い場合はマルチビーム半導体レーザーユニット900を図11のB方向に回転し、走査線のピッチ間隔が42μmより狭い場合はマルチビーム半導体レーザーユニット900を図11のB´方向に回転することにより所望の走査線ピッチ間隔を得ることが出来る。
特開2000−180745号公報
しかしながら、上記従来例のようにマルチビーム半導体レーザーユニット900の回転によるピッチ間隔調整を行うと、走査線のピッチ間隔測定の測定精度には限度があるため、更なるレーザービームプリンタの高速化、高精細化の要求に応えられなくなってしまうという問題点がある。
本発明は走査線ピッチ間隔を所定の値に統一し、ピッチむらや色ずれの発生を抑え高品質な画像を形成することができる走査線ピッチ間隔調整方法及びそれを用いたマルチビーム走査光学装置の提供を目的とする。
請求項1の発明の走査線ピッチ間隔調整方法は、
直線状に所定の間隔で離間して配置した3つ以上の発光点を有する光源手段の各発光点から発せられた複数の光束を偏向手段で偏向し、該偏向手段で偏向された複数の光束を結像光学系で被走査面上に導光し、該偏向手段の偏向動作により該被走査面を複数の光束で主走査方向に走査するとき、
該被走査面を走査する複数の走査線の中で、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔を測定手段で測定し、その結果に基づき副走査方向の走査線ピッチ間隔を調整することを特徴としている。
請求項2の発明の走査線ピッチ間隔調整方法は、
n(nは3以上の整数)個の発光点が直線状に所定間隔で離間して配置した発光点列が該直線と直交する方向に所定間隔でm(mは2以上の整数)列配置した光源手段から発せられた複数の光束を偏向手段で偏向し、該偏向手段で偏向された複数の光束を結像光学系で被走査面上に導光し、該偏向手段の偏向動作により該被走査面を複数の光束で主走査方向に走査するとき、
該被走査面を走査する複数の走査線の中で、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔を測定手段で測定し、その結果に基づき副走査方向の走査線ピッチ間隔を調整することを特徴としている。
請求項3の発明の走査線ピッチ間隔調整方法は、
n(nは3以上の整数)個の発光点が直線状に所定間隔で離間して配置した発光点列が該直線と直交する方向に所定間隔でm(mは2以上の整数)列配置した光源手段から発せられた複数の光束を偏向手段で偏向し、該偏向手段で偏向された複数の光束を結像光学系で被走査面上に導光し、該偏向手段の偏向動作により該被走査面を複数の光束で主走査方向に走査するとき、
該被走査面上を走査する複数の走査線の中で、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔を測定手段で測定する第1工程と、
i列目(i=1,2,・・・,m−1)のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線の中で、i+1列目のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線に最も近い走査線と、i+1列目のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線の中で、i列目のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線に最も近い走査線との間隔を測定手段で測定する第2工程とを有し、
該第1、第2工程での測定結果に基づき副走査方向の走査線ピッチ間隔を調整することを特徴としている。
請求項4の発明は請求項1、2又は3の発明において、
前記最も離間した2本の走査線の間隔の測定を、走査有効幅内の少なくとも2ヶ所で測定し、その結果に基づき走査線ピッチ間隔を調整することを特徴としている。
請求項5の発明は請求項1乃至4の何れか1項の発明において、
前記被走査面上において、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔をL(mm)、走査線の数をPn、該被走査面上の副走査方向における画素密度をA(dot/inch)とするとき、走査有効幅内全域で、
2/3×(Pn−1)×25.4/A<L<4/3×(Pn−1)×25.4/A
但し、Pn=n×m
を満足するように走査線ピッチ間隔を調整することを特徴としている。
請求項6の発明は請求項5の発明において、
前記画素密度Aは1200dpi以上であることを特徴としている。
請求項7の発明は請求項2又は3の発明において、
前記被走査面上において、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔をL(mm)、同時刻における第1の走査線を描く結像点と第1の走査線と隣り合う第2の走査線を描く結像点とを結んだ直線と第2の走査線の成す角度をθ、同時刻における第1の走査線を描く結像点と第1の走査線と隣り合う第2の走査線を描く結像点とを結んだ直線の長さをaとするとき、
0.9L/(mn−1)<(L−am(n−1)sinθ)/(m−1)<1.1L/(mn−1)
を満足するように前記走査線ピッチ間隔を調整することを特徴としている。
請求項8の発明は請求項1乃至7の何れか1項の発明において、
前記光源手段を、最も離間した2つの発光点を結ぶ線分の中心を回転中心として光軸回りに回転させて走査線ピッチ間隔調整を行うことを特徴としている。
請求項9の発明のマルチビーム走査光学装置は、
n(nは3以上の整数)個の発光点が直線状に所定間隔で離間して配置した発光点列が該直線と直交する方向に所定間隔でm(mは2以上の整数)列配置した面発光型の光源手段と、該光源手段から発せられた複数の光束を偏向する偏向手段と、該偏向手段で偏向された複数の光束を被走査面上に結像させる結像光学系とを有し、該偏向手段の偏向動作により該被走査面を複数の光束で主走査方向に走査するマルチビーム走査光学装置において、
該被走査面上を走査する複数の走査線の中で、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔と、
i列目(i=1,2,・・・,m−1)のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線の中で、i+1列目のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線に最も近い走査線と、i+1列目のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線の中で、i列目のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線に最も近い走査線との間隔と、を測定する測定手段を有し、
該測定手段の測定結果に基づき副走査方向の走査線ピッチ間隔を調整する調整手段を有することを特徴としている。
請求項10の発明は請求項9の発明において、
前記調整手段は、前記被走査面上において、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔をL(mm)、同時刻における第1の走査線を描く結像点と第1の走査線と隣り合う第2の走査線を描く結像点とを結んだ直線と第2の走査線の成す角度をθ、同時刻における第1の走査線を描く結像点と第1の走査線と隣り合う第2の走査線を描く結像点とを結んだ直線の長さをaとするとき、
0.9L/(mn−1)<(L−am(n−1)sinθ)/(m−1)<1.1L/(mn−1)
を満足するように走査線ピッチ間隔を調整することを特徴としている。
請求項11の発明の画像形成装置は、
請求項9又は10に記載のマルチビーム走査光学装置と、前記被走査面に配置された感光体と、前記マルチビーム走査光学装置で走査された光ビームによって前記感光体上に形成された静電潜像をトナー像として現像する現像器と、現像されたトナー像を被転写材に転写する転写器と、転写されたトナー像を被転写材に定着させる定着器とを有することを特徴としている。
請求項12の発明の画像形成装置は、
請求項9又は10に記載のマルチビーム走査光学装置と、外部機器から入力したコードデータを画像信号に変換して前記マルチビーム走査光学装置に入力せしめるプリンタコントローラとを有していることを特徴としている。
請求項13の発明のカラー画像形成装置は、
各々が請求項9又は10に記載のマルチビーム走査光学装置の被走査面に配置され、互いに異なった色の画像を形成する複数の像担持体とを有することを特徴としている。
請求項14の発明は請求項13の発明において、
外部機器から入力した色信号を異なった色の画像データに変換して各々のマルチビーム走査光学装置に入力せしめるプリンタコントローラを有していることを特徴としている。
本発明によれば光源手段が有する複数の発光点から発せられた複数の光束によって被走査面上を走査するときの複数の走査線の中で、最も離間した2本の走査線の間隔を測定し、その結果に基づき副走査方向の走査線ピッチ間隔を調整することにより、走査線ピッチ間隔を所定の値に統一し、ピッチむらや色ずれの発生を抑え高品質な画像を形成することができる走査線ピッチ間隔調整方法及びそれを用いたマルチビーム走査光学装置を達成することができる。
以下、図面を用いて本発明の実施例を説明する。
図1は本発明の実施例1におけるマルチビーム走査光学装置の要部概略図である。
尚、以下の説明において、主走査方向とは回転多面鏡の回転軸及び結像光学系の光軸に垂直な方向(回転多面鏡で光束が反射偏向(偏向走査)される方向)である。副走査方向とは回転多面鏡の回転軸と平行な方向である。また主走査断面とは主走査方向と結像光学系の光軸を含む平面である。また副走査断面とは主走査断面と垂直な断面である。
同図において1は直線状に所定の間隔(例えば等間隔)で離間して配置した独立に光変調が可能な3個の発光点(発光部)を有する光源手段であり、端面発光型のマルチビーム半導体レーザーより成っている。尚、発光点の数は3個以上であれば良い。
2は光束変換素子(コリメータレンズ)であり、光源手段1から放射された光束を平行光束(もしくは発散光束もしくは収束光束)に変換している。3は開口絞りであり、通過光束を制限してビーム形状を整形している。4は光学系(シリンドリカルレンズ)であり、副走査方向にのみ所定のパワー(屈折力)を有しており、開口絞り3を通過した光束を副走査断面内で後述する光偏向器5の偏向面(反射面)5aにほぼ線像として結像させている。
尚、コリメーターレンズ2、開口絞り3、そしてシリンドリカルレンズ4等の各要素は入射光学手段LAの一要素を構成している。またシリンドリカルレンズ4、コリメータレンズ2を1つの光学素子(アナモフィックレンズ)で構成しても良い。
5は偏向手段としての光偏向器であり、例えば6面構成のポリゴンミラー(回転多面鏡)より成っており、モーター等の駆動手段(不図示)により図中矢印A方向に一定速度で回転している。
6は集光機能とfθ特性とを有する結像光学系(fθレンズ系)であり、単一のプラスチック材料で形成された非球面トーリックレンズ(結像レンズ)より成り、光偏向器5によって反射偏向された画像情報に基づく光束を被走査面としての感光ドラム面8上に結像させ、かつ副走査断面内において光偏向器5の偏向面5aと感光ドラム面7との間を共役関係にすることにより、面倒れ補償を行っている。
8は被走査面としての感光ドラム面である。
9は測定手段としての測定器(センサー)であり、光偏向器5の偏向動作により被走査面8を複数の光束で主走査方向に走査するとき、該被走査面8を走査する複数の走査線の中で、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔を測定している。10は調整手段であり、測定手段9で測定された結果に基づき副走査方向の走査線ピッチ間隔を調整している。
本実施例における結像レンズ6の屈折面の面形状は以下の形状表現式により表されている。光学面と光軸との交点を原点とし、光軸方向をX軸、主走査断面内において光軸と直交する軸をY軸、副走査断面内において光軸と直交する軸をZ軸としたとき、主走査方向と対応する母線方向が、
(但し、Rは曲率半径、K、B4、B6、B8、B10は非球面係数)と表され
副走査方向(光軸を含み主走査方向に対して直交する方向)と対応する子線方向が、
と表せる。ここで r'=r0(1+D2Y2+D4Y4+D6Y6+D8Y8+D10Y10
(但し、r0は光軸上の子線曲率半径、D2、D4、D6、D8、D10は係数)
Sは母線方向の各々の位置における母線の法線を含み主走査断面と垂直な面内に定義される子線形状である。
尚、本表現式では面形状表現式における次数を制限して記してあるが、本実施例の範囲はこれを制限するものではなく、次数を上げるほど設計自由度が増し、収差が少なくなることは言うまでも無い。また面形状表現式自体も同等の面表現自由度を有した表現式であれば、問題無く本実施例の効果を得ることが可能である。
本実施例における結像レンズ6は、両面にアナモフィック面を有する単レンズにより構成され、主走査面内において第1面(入射面)が偏向器側に凸面を向けた非球面、第2面(出射面)は被走査面側に凸面を向けた円弧よりなり、副走査面内においては、第1面は平面、第2面は被走査面側に凸面を向けた円弧で、その曲率はレンズの有効部内において軸上から軸外に向かい連続的に変化させている。
本実施例において光源手段1より出射した3つの光束はコリメーターレンズ2により平行光束に変換され、絞り3によって該光束(光量)を制限してシリンドリカルレンズ4に入射する。シリンドリカルレンズ4に入射した2つの平行光束のうち主走査断面内においてはそのまま平行光束の状態で射出する。また副走査断面内においては集束して光偏向器5の偏向面5aにほぼ線像(主走査方向に長手の線像)として結像する。そして光偏向器5の偏向面で偏向反射された3つの光束は主走査方向と副走査方向とで互いに異なる屈折力を有する結像レンズ6を介して感光ドラム面8上の互いに異なる領域に導光され、該光偏向器5を矢印A方向に回転させることによって、該感光ドラム面8上を3つの光束で矢印B方向(主走査方向)に同時に光走査している。これにより記録媒体である感光ドラム面上18に画像記録を行っている。
図2は本実施例における光源手段としてのマルチビーム半導体レーザーユニット200の要部概略図である。
同図におけるマルチビーム半導体レーザーユニット200は半導体レーザー光源202とホルダ203とコリメーターレンズ204が内蔵された鏡筒205とから構成されている。半導体レーザー光源202は圧入や接着によってホルダ203に固定され、ホルダ203はコリメーターレンズ204が内蔵された鏡筒205に接着固定されている。マルチビーム半導体レーザーユニット200は光学箱206の圧入孔207に圧入によって仮固定される。その後に、副走査方向の走査線ピッチ間隔の調整をマルチビーム半導体レーザーユニット200をB−B’方向に回転することで行う。B−B’方向への回転調整は、ホルダ203に設けられた回転調整用孔209に回転調整用治具210に設けられた回転調整用ピン211を嵌合させて、回転調整用治具を回転させて行い、所定の解像度に対応したピッチ間隔になったところで回転調整を完了する。
次に本実施例の特徴とする、3個の発光点を有するマルチビーム半導体レーザーユニット200から出射された3つの光束によって走査される走査線ピッチ間隔を調整し、調整誤差を小さく抑える方法について説明する。
図3は本実施例におけるマルチビーム半導体レーザーユニット200が有する3個の発光点301,302,303の配置を示した図である。同図において図2に示した要素と同一要素には同符番を付している。
同図に示すように本実施例におけるマルチビーム半導体レーザーユニット200は3個の発光点301,302,303を有し、該3個の発光点301,302,303が主走査方向及び副走査方向に対して各々所定の間隔、例えば等間隔に離間して配置されている。
走査線ピッチ間隔測定におけるピッチ間隔の検出には、前述した図13に示す既知の手法であるレーザービームの走査方向と直交する方向の通過位置変化に対して、その出力が連続的かつ広範囲に変化するセンサパターンS1を用い、最初にセンサパターンS1を通過する第1のビームの出力値をメモリに記憶しておき、第2のビームがセンサパターンS1を通過しその出力が出力されたときに、前記メモリに記憶させておいた第1のビームの出力値との差分をとり、所定の値と比較することで走査間隔の相対距離を検出する方法等が用いられている。尚、走査線ピッチ間隔検出方法に関しては上記の方法に限定されるものではなく、その要旨の範囲内であれば他の方法でも良い。
図4は本実施例における走査線ピッチ間隔測定箇所の説明図である。
同図において311,312,313は各々発光点301,302,303から発せられた光束によって被走査面8上を走査(形成)したときの走査線である。
光源手段に用いたマルチビーム半導体レーザーユニット200が有する3個の発光点301,302,303から発せられた3つの光束によって被走査面8上を走査するときの3本の走査線の走査線ピッチ間隔を、例えば1200dpiの画素密度(解像度)に相当する21μmに調整するために3本の走査線の間隔を測定器で測定する。
測定方法は走査有効域の中心付近及び両端で行い、その結果に基づき走査線ピッチ間隔を調整する。
従来では、マルチビーム半導体レーザーユニットの回転によるピッチ間隔調整を行う場合、複数の発光点から発せられた複数の光束によって走査される走査線の中で隣接する走査線の間隔を測定し、その結果に基づき調整を行っていた。
しかしながら走査線のピッチ間隔測定器の測定精度には限度があるため、上記のような調整を行っても、更なるレーザービームプリンタの高速化、高精細化の要求に応えられなくなってしまう。
そこで本実施例では図4の黒矢印で示すように3個の発光点301,302,303から発せられた3つの光束によって被走査面8上を走査したときの3本の走査線311,312,313の中で、最も離間した2本の走査線311、313の間隔Lを測定手段9により走査有効幅内の少なくとも2ヶ所で測定し、その結果に基づき副走査方向の走査線ピッチ間隔を調整手段10で調整している。
ここで走査線ピッチ間隔測定器の測定精度が±2μmであると、最も離間した走査線ピッチ間隔の調整誤差は±2μmとなり、走査線数をPnとすると近接した走査線の各々のピッチ間隔調整誤差は±2μm/(Pn−1)となり、従来に比べて誤差の低減が可能となる。本実施例においては走査線数が3本であるので、従来では走査線のピッチ間隔調整誤差は±4μm程度になるのに対し、本実施例では±1μm程度に抑えることが出来る。このことより本実施例は走査線数が多くなるほど有効であることが判る。
本実施例では被走査面上において、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔をL(mm)、走査線の数をPn、該被走査面上の副走査方向における画素密度をA(dot/inch)とするとき、走査有効幅内全域で、
2/3×(Pn−1)×25.4/A<L<4/3×(Pn−1)×25.4/A
・・・(3)
を満足するように走査線ピッチ間隔を調整している。 但し、Pn=n×m
尚、本実施例における被走査面上の副走査方向における画素密度(解像度)Aは1200dpi以上である。
更に望ましくは上記条件式(3)を次の如く設定するのが良い。
5/6×(Pn−1)×25.4/A<L<7/6×(Pn−1)×25.4/A
・・・(3a)
本実施例では副走査方向において1200dpiの画素密度とするため、所望の走査線ピッチ間隔を約21μmとし、最も離間した2本の走査線の間隔が42±14μm以内、つまりは走査線ピッチ間隔が21±7μmであれば実用上問題のない走査線間隔になる。
各々の発光点301,302,303から発せられた3つの光束によって被走査面8上を走査したときの3本の走査線311,312,313の各々の間隔が21μmよりも大きい場合は、図3において矢印のB方向にマルチビーム半導体レーザーユニット200を回転させ、発光点301,302,303から発せられた3つの光束によって被走査面8上を走査したときの3本の走査線311,312,313の各々の間隔が21μmよりも小さい場合は、矢印のB´方向にマルチビーム半導体レーザーユニット200を回転させて間隔を調整する。
尚、マルチビーム半導体レーザーユニット200の回転中心は最も離間した2つの発光点301、303を結ぶ線分の中心としている。この線分の中心を回転中心として光軸回りに回転させることにより副走査方向の走査線ピッチ間隔調整を行っている。
尚、本実施例においてはマルチビーム半導体レーザーユニット200により出射された3つの光束によって走査される走査線の中で最も離間した2本の走査線間隔を走査有効域の中心付近及び両端で測定し、その結果に基づき走査線ピッチ間隔を調整したが、これに限らず、例えば走査有効幅内の少なくとも2ヶ所で測定し、測定値の平均化を行うように調整しても良い。これにより測定精度がさらに向上するので走査有効幅内での走査線ピッチ間隔をより均等に保つことが可能になる。
本実施例では上記の如く3本の走査線のピッチ間隔を所望の値に調整する際、図4に示すように最も離間した2個の発光点301、303から発せられた2つの光束によって被走査面8上を走査したときの2本の走査線311、313のピッチ間隔Lを測定し、その結果に基づきマルチビーム半導体レーザーユニット200の回転による調整を行っている。このような走査線のピッチ間隔の測定法により、本実施例ではピッチ間隔調整時の調整誤差を低減することを可能としている。これにより走査線間隔を所定の値に統一し、ピッチむらや色ずれの発生を抑え高品質な画像を形成することが実現できる。
尚、本実施例では光源手段として端面発光型のマルチビーム半導体レーザーを用いたが、これに限らず、例えば面発光型のマルチビーム半導体レーザーを用いても良い。面発光型のマルチビーム半導体レーザーを用いると、光軸に対しすべての発光点を近接させることが出来るため光学的収差を低減出来る。
また本実施例では結像光学系を単一のプラスチック材料で形成された非球面トーリックレンズより構成したが、レンズ枚数や材料に限定させるものではなく、枚数は2枚以上でも良く、モールドプロセスで成形されたガラスレンズでも良い。また本実施例においては特にプラスチックレンズで顕著な環境変動時のピント移動を補償する為に結像光学系のうち少なくとも一方の面に回折格子面を設けて形成しても良い。本実施例の調整方法に従えば、同様にピッチ間隔の調整誤差を低減出来ることは言うまでもない。
このように本実施例では上述の如く光源手段としてマルチビーム半導体レーザーユニット200を用い、該マルチビーム半導体レーザーユニット200が有する発光点から発せられた複数の光束によって被走査面8上を走査するときの複数の走査線の中で、最も離間した2本の走査線の間隔を測定し、その結果に基づき副走査方向の走査線ピッチ間隔を調整することにより、従来よりもピッチ間隔の調整誤差を低減することを可能としている。これにより本実施例ではピッチむらや色ずれの発生を抑え高品質な画像を形成することを実現している。
図5は本発明の実施例2における複数の発光点を有する光源手段が有する発光点の配置図、図6は本発明の実施例2における走査線ピッチ間隔測定箇所の説明図である。
本実施例において前述の実施例1と異なる点は光源手段11をm×nのマトリックスで構成されたm×nの発光点を有する面発光型のマルチビーム半導体レーザーユニットより構成したことである。その他の構成及び光学的作用は実施例1と略同様であり、これにより同様な効果を得ている。
即ち、図5において11は光源手段であり、n(nは3以上の整数で本実施例ではn=3)個の発光点が直線状に所定間隔で離間して配置した発光点列が該直線と直交する方向に所定間隔でm(mは2以上の整数で本実施例ではm=2)列配置した、面発光型のマルチビーム半導体レーザーユニットより成っている。
このマルチビーム半導体レーザーユニット11は3個の発光点が直線状に等間隔に離間して並んだ発光点列が2列あり、3×2のマトリックスで構成された6個の発光点401、402、403、404、405、406を有している。図6において411、412、413、414、415、416は各々発光点401、402、403、404、405、406から発せられた光束によって被走査面8上を走査(形成)したときの走査線である。
本実施例では前述の実施例1と同様に光源手段11が有する6個の発光点401、402、403、404、405、406から発せられた6つの光束によって被走査面8上を走査したときの6本の走査線411、412、413、414、415、416の中で、図6の黒矢印で示すように最も離間した2本の走査線411、416の間隔Lを測定手段で測定し、その結果に基づき副走査方向の走査線ピッチ間隔を調整手段で調整している(第1工程)。
更に本実施例では最も離間した2本の走査線411、416の間隔のみを測定するのではなく、図6の白矢印で示したように1列目の発光点列から発せられた3つの光束によって被走査面8上を走査したときの3本の走査線411,412,413の中で最も2列目の発光点列から発せられた3つの光束によって被走査面8上を走査したときの3本の走査線414,415,416に近い走査線413と、2列目の発光点列から発せられた3つの光束によって被走査面8上を走査したときの3本の走査線414,415,416の中で最も1列目の発光点列から発せられた3つの光束によって被走査面8上を走査したときの3本の走査線411,412,413に近い走査線414との間隔Hを測定手段で測定し、その結果に基づき調整している(第2工程)。これによりすべてのピッチ間隔を低誤差且つ均等に調整することが可能となる。
ここで、θとは、有効走査域内に存在する隣り合う走査線411と走査線412内で定義される。同時刻における走査線411を描く結像点401と走査線412を描く結像点402とを結んだ直線と走査線412の成す角度をθと定義する。
図6では、走査線412を描く結像点402の方が走査線411を描く結像点401よりも先を走っている(図6で言うと、左から右に向い、走査線が描かれていく)。その理由は、光源手段11において、図5の如く、発光点401と発光点402は、主走査方向に離間しているためである。
時間と共に、ポリゴンミラー(回転多面鏡)が回転することで、図6で言うと、結像点401が左側から右側に走査され、走査線411が描かれる。
同時刻における走査線411を描く結像点401と走査線412を描く結像点402とは、任意の時刻におけるポリゴンミラー(回転多面鏡)の任意の回転角における走査線411を描く結像点401と走査線412を描く結像点402を意味する。つまり、結像点401と結像点402は、同一回転角で定義される点である。
aは、同時刻における走査線411を描く結像点401と走査線412を描く結像点402を結んだ直線の長さと定義される。
同様に、θとは、有効走査域内に存在する隣り合う走査線412と走査線413内で定義される。同時刻における走査線412を描く結像点402と走査線413を描く結像点403とを結んだ直線と走査線413の成す角度をθと定義する。
同様に、同時刻における走査線412を描く結像点402と走査線413を描く結像点403とを結んだ直線の長さと定義される。
また本実施例の測定方法は前述の実施例1と同様に走査有効域の中心付近及び両端で行い、その結果に基づき走査線ピッチ間隔を調整する。
本実施例における副走査方向のピッチ間隔調整とは、複数の発光点を有するマルチビーム半導体レーザーユニット200を光軸周りに回転させることにより調整するもので、該マルチビーム半導体レーザーユニット200の回転中心は最も離間した2つの発光点を結ぶ線分の中心としている。この線分の中心を回転中心として光軸回りに回転させることにより副走査方向の走査線ピッチ間隔調整を行っている。
n個の発光点が直線状で等間隔に離間して並んだ発光点列がm列存在するm×nのマトリックスで構成されている光源手段において、有効走査域内で同時刻における第1の走査線を描く結像点と第1の走査線と隣り合う第2の走査線を描く結像点とを結んだ直線と第2の走査線の成す角度をθ、同時刻における第1の走査線を描く結像点と第1の走査線と隣り合う第2の走査線を描く結像点とを結んだ直線の長さをa、該発光点から発せられた複数の光束によって被走査面上を走査するときの複数の走査線の中で、最も離間した2本の走査線のピッチ間隔をLとすると、1列あたりのピッチ間隔数はn−1、それがm列あり、列同士の間隔数がm−1となるのでピッチ間隔の理想値は、
となる。また1列あたりの副走査方向の距離a(n−1)sinθ、列同士の間隔数がm−1となるので調整前のピッチ間隔は
となる。よってピッチ間隔を所望の値にするためには
0.9L/(mn−1)<(L−am(n−1)sinθ)/(m−1)<1.1L/(mn−1) ・・・(6)
を満足する必要がある。
条件式(6)において、調整前のピッチ間隔P(L−am(n−1)sinθ)/(m−1)がピッチ間隔の理想値L/(mn−1)であれば完全に走査線間隔を理想値と同様の値にすることが可能となる。またこの調整前のピッチ間隔P(L−am(n−1)sinθ)/(m−1)がL/(mn−1)より大きいと走査線間隔は理想値より広く、小さいと理想値より狭いが、条件式(6)の範囲内であれば実用上問題のない走査線間隔になっている。
更に望ましくは上記条件式(6)を次の如く設定するのが良い。
5/6・L/(mn−1)<(L−am(n−1)sinθ)/(m−1)<7/6・L/(mn−1) ・・・(6a)
また本実施例においてマルチビーム光走査装置の光源手段として6個の発光点を有するマルチビーム半導体レーザーユニットにより出射された6つの光束によって走査される走査線の中で最も離間した2本の走査線間隔を、走査有効域の中心付近及び両端で測定し、その結果に基づき走査線ピッチ間隔を調整したが、これに限らず、例えば走査有効幅内の少なくとも2ヶ所で測定し、測定値の平均化を行うようにしても良い。これにより測定精度が向上するので走査有効幅内での走査線ピッチ間隔をより均等に保つことが可能になる。
尚、本実施例では光源手段として面発光型のマルチビーム半導体レーザーを用いたが、これに限らず、端面発光型のマルチビーム半導体レーザーを用いても良い。
このように本実施例では上述の如く光源手段として面発光型のマルチビーム半導体レーザーを用い、最も離間した2つの発光点から発せられた2つの光束によって走査される走査線の副走査方向の間隔を測定し、走査線ピッチ間隔の調整を行うことにより、ピッチ間隔調整時の調整誤差を低減することを可能としている。また、m列目(i=1,2,・・・,m−1)のn個の発光点から発せられたn本の光束によって被走査面上を走査するときのn本の走査線と、m+1列目のn個の発光点から発せられたn本の光束によって被走査面上を走査するときのn本の走査線の中で、互いに最も近接している2本の走査線の間隔とを測定し、その結果に基づき走査線のピッチ間隔調整も行うことにより、n個の発光点が直線状で等間隔に離間して並んだ発光点列がm列ありn×mのマトリックスで構成される発光点を有するマルチビーム半導体レーザーユニットを有する光走査装置でも、すべてのピッチ間隔を低誤差且つ均等に調整可能となる。これらより本実施例では副走査方向の走査線間隔を所定の間隔に統一し、ピッチムラや色ずれの発生を抑え高品質な画像を形成することを実現している。
[画像形成装置]
図7は本発明の画像形成装置の実施例を示す副走査方向の要部断面図である。図において、符号104は画像形成装置を示す。この画像形成装置104には、パーソナルコンピュータ等の外部機器117からコードデータDcが入力する。このコードデータDcは、装置内のプリンタコントローラ111によって、画像データ(ドットデータ)Diに変換される。この画像データDiは、実施例1又は2のいずれかに示した構成を有する光走査ユニット(マルチビーム走査光学装置)100に入力される。そして、この光走査ユニット100からは、画像データDiに応じて変調された光ビーム103が出射され、この光ビーム103によって感光ドラム101の感光面が主走査方向に走査される。
静電潜像担持体(感光体)たる感光ドラム101は、モータ115によって時計廻りに回転させられる。そして、この回転に伴って、感光ドラム101の感光面が光ビーム103に対して、主走査方向と直交する副走査方向に移動する。感光ドラム101の上方には、感光ドラム101の表面を一様に帯電せしめる帯電ローラ102が表面に当接するように設けられている。そして、帯電ローラ102によって帯電された感光ドラム101の表面に、前記光走査ユニット100によって走査される光ビーム103が照射されるようになっている。
先に説明したように、光ビーム103は、画像データDiに基づいて変調されており、この光ビーム103を照射することによって感光ドラム101の表面に静電潜像を形成せしめる。この静電潜像は、上記光ビーム103の照射位置よりもさらに感光ドラム101の回転方向の下流側で感光ドラム101に当接するように配設された現像器107によってトナー像として現像される。
現像器107によって現像されたトナー像は、感光ドラム101の下方で、感光ドラム101に対向するように配設された転写ローラ108によって被転写材たる用紙112上に転写される。用紙112は感光ドラム101の前方(図7において右側)の用紙カセット109内に収納されているが、手差しでも給紙が可能である。用紙カセット109端部には、給紙ローラ110が配設されており、用紙カセット109内の用紙112を搬送路へ送り込む。
以上のようにして、未定着トナー像を転写された用紙112はさらに感光ドラム101後方(図7において左側)の定着器へと搬送される。定着器は内部に定着ヒータ(図示せず)を有する定着ローラ113とこの定着ローラ113に圧接するように配設された加圧ローラ114とで構成されており、転写部から搬送されてきた用紙112を定着ローラ113と加圧ローラ114の圧接部にて加圧しながら加熱することにより用紙112上の未定着トナー像を定着せしめる。更に定着ローラ113の後方には排紙ローラ116が配設されており、定着された用紙112を画像形成装置の外に排出せしめる。
図7においては図示していないが、プリントコントローラ111は、先に説明したデータの変換だけでなく、モータ115を始め画像形成装置内の各部や、後述する光走査ユニット内のポリゴンモータなどの制御を行う。
本発明で使用される画像形成装置の記録密度は、1200dpi以上において本発明の実施例1または2の構成はより効果を発揮する。
[カラー画像形成装置]
図8は本発明の実施例のカラー画像形成装置の要部概略図である。本実施例は、光走査装置を4個並べ各々並行して像担持体である感光ドラム面上に画像情報を記録するタンデムタイプのカラー画像形成装置である。図8において、60はカラー画像形成装置、61,62,63,64は各々実施例1または2に示したいずれかの構成を有する光走査装置(マルチビーム走査光学装置)、21,22,23,24は各々像担持体としての感光ドラム、31,32,33,34は各々現像器、51は搬送ベルトである。
図8において、カラー画像形成装置60には、パーソナルコンピュータ等の外部機器52からR(レッド)、G(グリーン)、B(ブルー)の各色信号が入力する。これらの色信号は、装置内のプリンタコントローラ53によって、C(シアン),M(マゼンタ),Y(イエロー)、B(ブラック)の各画像データ(ドットデータ)に変換される。これらの画像データは、それぞれ光走査装置61,62,63,64に入力される。そして、これらの光走査装置からは、各画像データに応じて変調された光ビーム41,42,43,44が出射され、これらの光ビームによって感光ドラム21,22,23,24の感光面が主走査方向に走査される。
本実施例におけるカラー画像形成装置は光走査装置(61,62,63,64)を4個並べ、各々がC(シアン),M(マゼンタ),Y(イエロー)、B(ブラック)の各色に対応し、各々平行して感光ドラム21,22,23,24面上に画像信号(画像情報)を記録し、カラー画像を高速に印字するものである。
本実施例におけるカラー画像形成装置は上述の如く4つの光走査装置61,62,63,64により各々の画像データに基づいた光ビームを用いて各色の潜像を各々対応する感光ドラム21,22,23,24面上に形成している。その後、記録材に多重転写して1枚のフルカラー画像を形成している。
前記外部機器52としては、例えばCCDセンサを備えたカラー画像読取装置が用いられても良い。この場合には、このカラー画像読取装置と、カラー画像形成装置60とで、カラーデジタル複写機が構成される。
このように本実施例では上記の如く結像光学系をトーリック面からなる単レンズより構成し、副走査方向の走査線間隔を、最も離間した2つの発光点から発せられた2本の光束によって走査される走査線の副走査方向の間隔を測定して調整することにより、走査線間隔調整の誤差の少ないマルチビーム走査光学装置を実現することが可能となる。さらに本装置を画像形成装置やカラー画像形成装置へ搭載することにより、走査線むらの少ない高品位な装置の実現が可能となる。
以上、本発明の好ましい実施例について説明したが、本発明はこれらの実施例に限定されないことは言うまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
本発明の実施例1のマルチビーム走査光学装置の要部概略図 本発明の実施例1のマルチビーム半導体レーザーユニットの要部概略図 本発明の実施例1のマルチビーム半導体レーザーユニットが有する発光点の配置図 本発明の実施例1の走査線ピッチ間隔測定箇所の説明図 本発明の実施例2のマルチビーム半導体レーザーユニットが有する発光点の配置図 本発明の実施例2の走査線ピッチ間隔測定箇所の説明図 本発明の画像形成装置の実施例を示す副走査断面図 本発明のカラー画像形成装置の実施例を示す副走査断面図 従来のマルチビーム走査光学装置の要部概略図 従来のマルチビーム半導体レーザーユニットの要部概略図 従来のマルチビーム半導体レーザーユニットが有する発光点の配置図 従来の走査線ピッチ間隔測定箇所の説明図 副走査方向の走査線ピッチ間隔の測定方法を示した図
符号の説明
1 光源手段(面発光型の半導体レーザ)
2 光束変換素子(コリメータレンズ)
3 開口絞り
4 光学系(シリンドリカルレンズ)
5 偏向手段(光偏向器)
LA 入射光学系
6 結像光学系(結像レンズ)
8 被走査面(感光ドラム面)
61、62、63、64 マルチビーム走査光学装置
21、22、23、24 像担持体(感光ドラム)
31、32、33、34 現像器
41、42、43、44 光束
51 搬送ベルト
52 外部機器
53 プリンタコントローラ
60 カラー画像形成装置
100 走査光学装置
101 感光ドラム
102 帯電ローラ
103 光ビーム
104 画像形成装置
107 現像装置
108 転写ローラ
109 用紙カセット
110 給紙ローラ
111 プリンタコントローラ
112 転写材(用紙)
113 定着ローラ
114 加圧ローラ
115 モータ
116 排紙ローラ
117 外部機器

Claims (14)

  1. 直線状に所定の間隔で離間して配置した3つ以上の発光点を有する光源手段の各発光点から発せられた複数の光束を偏向手段で偏向し、該偏向手段で偏向された複数の光束を結像光学系で被走査面上に導光し、該偏向手段の偏向動作により該被走査面を複数の光束で主走査方向に走査するとき、
    該被走査面を走査する複数の走査線の中で、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔を測定手段で測定し、その結果に基づき副走査方向の走査線ピッチ間隔を調整することを特徴とする走査線ピッチ間隔調整方法。
  2. n(nは3以上の整数)個の発光点が直線状に所定間隔で離間して配置した発光点列が該直線と直交する方向に所定間隔でm(mは2以上の整数)列配置した光源手段から発せられた複数の光束を偏向手段で偏向し、該偏向手段で偏向された複数の光束を結像光学系で被走査面上に導光し、該偏向手段の偏向動作により該被走査面を複数の光束で主走査方向に走査するとき、
    該被走査面を走査する複数の走査線の中で、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔を測定手段で測定し、その結果に基づき副走査方向の走査線ピッチ間隔を調整することを特徴とする走査線ピッチ間隔調整方法。
  3. n(nは3以上の整数)個の発光点が直線状に所定間隔で離間して配置した発光点列が該直線と直交する方向に所定間隔でm(mは2以上の整数)列配置した光源手段から発せられた複数の光束を偏向手段で偏向し、該偏向手段で偏向された複数の光束を結像光学系で被走査面上に導光し、該偏向手段の偏向動作により該被走査面を複数の光束で主走査方向に走査するとき、
    該被走査面上を走査する複数の走査線の中で、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔を測定手段で測定する第1工程と、
    i列目(i=1,2,・・・,m−1)のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線の中で、i+1列目のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線に最も近い走査線と、i+1列目のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線の中で、i列目のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線に最も近い走査線との間隔を測定手段で測定する第2工程とを有し、
    該第1、第2工程での測定結果に基づき副走査方向の走査線ピッチ間隔を調整することを特徴とする走査線ピッチ間隔調整方法。
  4. 前記最も離間した2本の走査線の間隔の測定を、走査有効幅内の少なくとも2ヶ所で測定し、その結果に基づき走査線ピッチ間隔を調整することを特徴とする請求項1、2又は3に記載の走査線ピッチ間隔調整方法。
  5. 前記被走査面上において、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔をL(mm)、走査線の数をPn、該被走査面上の副走査方向における画素密度をA(dot/inch)とするとき、走査有効幅内全域で、
    2/3×(Pn−1)×25.4/A<L<4/3×(Pn−1)×25.4/A
    但し、Pn=n×m
    を満足するように走査線ピッチ間隔を調整することを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の走査線ピッチ間隔調整方法。
  6. 前記画素密度Aは1200dpi以上であることを特徴とする請求項5に記載の走査線ピッチ間隔調整方法。
  7. 前記被走査面上において、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔をL(mm)、同時刻における第1の走査線を描く結像点と第1の走査線と隣り合う第2の走査線を描く結像点とを結んだ直線と第2の走査線の成す角度をθ、同時刻における第1の走査線を描く結像点と第1の走査線と隣り合う第2の走査線を描く結像点とを結んだ直線の長さをaとするとき、
    0.9L/(mn−1)<(L−am(n−1)sinθ)/(m−1)<1.1L/(mn−1)
    を満足するように前記走査線ピッチ間隔を調整することを特徴とする請求項2又は3に記載の走査線ピッチ間隔調整方法。
  8. 前記光源手段を、最も離間した2つの発光点を結ぶ線分の中心を回転中心として光軸回りに回転させて走査線ピッチ間隔調整を行うことを特徴とする請求項1乃至7の何れか1項に記載の走査線ピッチ間隔調整方法。
  9. n(nは3以上の整数)個の発光点が直線状に所定間隔で離間して配置した発光点列が該直線と直交する方向に所定間隔でm(mは2以上の整数)列配置した面発光型の光源手段と、該光源手段から発せられた複数の光束を偏向する偏向手段と、該偏向手段で偏向された複数の光束を被走査面上に結像させる結像光学系とを有し、該偏向手段の偏向動作により該被走査面を複数の光束で主走査方向に走査するマルチビーム走査光学装置において、
    該被走査面上を走査する複数の走査線の中で、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔と、
    i列目(i=1,2,・・・,m−1)のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線の中で、i+1列目のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線に最も近い走査線と、i+1列目のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線の中で、i列目のn個の発光点から発せられたn本の光束によって該被走査面上を走査するときのn本の走査線に最も近い走査線との間隔と、を測定する測定手段を有し、
    該測定手段の測定結果に基づき副走査方向の走査線ピッチ間隔を調整する調整手段を有することを特徴とするマルチビーム走査光学装置。
  10. 前記調整手段は、前記被走査面上において、副走査方向に最も離間した2本の走査線の間隔をL(mm)、同時刻における第1の走査線を描く結像点と第1の走査線と隣り合う第2の走査線を描く結像点とを結んだ直線と第2の走査線の成す角度をθ、同時刻における第1の走査線を描く結像点と第1の走査線と隣り合う第2の走査線を描く結像点とを結んだ直線の長さをaとするとき、
    0.9L/(mn−1)<(L−am(n−1)sinθ)/(m−1)<1.1L/(mn−1)
    を満足するように走査線ピッチ間隔を調整することを特徴とする請求項9に記載のマルチビーム走査光学装置。
  11. 請求項9又は10に記載のマルチビーム走査光学装置と、前記被走査面に配置された感光体と、前記マルチビーム走査光学装置で走査された光ビームによって前記感光体上に形成された静電潜像をトナー像として現像する現像器と、現像されたトナー像を被転写材に転写する転写器と、転写されたトナー像を被転写材に定着させる定着器とを有することを特徴とする画像形成装置。
  12. 請求項9又は10に記載のマルチビーム走査光学装置と、外部機器から入力したコードデータを画像信号に変換して前記マルチビーム走査光学装置に入力せしめるプリンタコントローラとを有していることを特徴とする画像形成装置。
  13. 各々が請求項9又は10に記載のマルチビーム走査光学装置の被走査面に配置され、互いに異なった色の画像を形成する複数の像担持体とを有することを特徴とするカラー画像形成装置。
  14. 外部機器から入力した色信号を異なった色の画像データに変換して各々のマルチビーム走査光学装置に入力せしめるプリンタコントローラを有していることを特徴とする請求項13記載のカラー画像形成装置。
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