JP2002180003A - 磨耗耐性のあるＳｉＯ２反射防止層用の水性コーティング溶液 - Google Patents
磨耗耐性のあるＳｉＯ２反射防止層用の水性コーティング溶液Info
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- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
- C03C2218/113—Deposition methods from solutions or suspensions by sol-gel processes
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ｐＨが３〜８である水性コーティング溶液で
あって、許容誤差±１０％で粒径が１０ｎｍ〜６０ｎｍ
である［ＳｉＯx（ＯＨ）y］n（式中、０＜ｙ＜４およ
び０＜ｘ＜２である）粒子０．５〜５．０重量％、およ
び３５℃と８０℃の間の温度で水性−アルコール性−ア
ンモニア性媒質中でテトラアルコキシシランを加水分解
重縮合し、次に得られた分散液から水蒸気蒸留によりア
ンモニアおよびアルコールを除去し、次にアニオン界面
活性剤１５〜３０重量％、非イオン界面活性剤５〜１５
重量％、および両性界面活性剤５重量％未満を含む界面
活性剤混合物を添加することによって得られる界面活性
剤混合物をコーティング溶液に対して０．００５〜０．
５重量％含む、水性コーティング溶液を提供すること。 【解決手段】 本発明の目的は、上記の水性コーティン
グ溶液によって達成される。
あって、許容誤差±１０％で粒径が１０ｎｍ〜６０ｎｍ
である［ＳｉＯx（ＯＨ）y］n（式中、０＜ｙ＜４およ
び０＜ｘ＜２である）粒子０．５〜５．０重量％、およ
び３５℃と８０℃の間の温度で水性−アルコール性−ア
ンモニア性媒質中でテトラアルコキシシランを加水分解
重縮合し、次に得られた分散液から水蒸気蒸留によりア
ンモニアおよびアルコールを除去し、次にアニオン界面
活性剤１５〜３０重量％、非イオン界面活性剤５〜１５
重量％、および両性界面活性剤５重量％未満を含む界面
活性剤混合物を添加することによって得られる界面活性
剤混合物をコーティング溶液に対して０．００５〜０．
５重量％含む、水性コーティング溶液を提供すること。 【解決手段】 本発明の目的は、上記の水性コーティン
グ溶液によって達成される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、支持体、好ましく
はガラス上に磨耗耐性のある多孔質ＳｉＯ2反射防止層
の生成のための［ＳｉＯx（ＯＨ）y］n粒子の安定な水
溶液、およびこの溶液を調製するための方法に関する。
はガラス上に磨耗耐性のある多孔質ＳｉＯ2反射防止層
の生成のための［ＳｉＯx（ＯＨ）y］n粒子の安定な水
溶液、およびこの溶液を調製するための方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】多孔質ＳｉＯ2反射防止層は、太陽スペ
クトル全体の光の透過量を増加させる。ゆえに、このタ
イプの多孔質ＳｉＯ2反射防止層を備えているガラス
は、太陽集熱器および光電池のカバーに特に適してい
る。
クトル全体の光の透過量を増加させる。ゆえに、このタ
イプの多孔質ＳｉＯ2反射防止層を備えているガラス
は、太陽集熱器および光電池のカバーに特に適してい
る。
【０００３】光の透過量を増加させるためにガラスをコ
ーティングするいくつかの方法が存在する。干渉層を付
着させるのが一般的である。ここでは、屈折率が高い材
料および低い材料の２つ以上の層を、他層の上に交互に
付着させる。したがって、ある波長範囲の反射された波
は消える。この例がＳｃｈｏｔｔ Ｇｌａｓｗｅｒｋｅ
の建築用ガラスの反射防止層であり、ゾル−ゲル法によ
って生成され、浸漬コーティングにより付着させる。し
かしながら、これらの反射防止コーティングの周波数帯
域幅は物理的に１オクターブに制限されており、それゆ
え広帯域の太陽スペクトルにおける反射防止コーティン
グではなく、可視領域における反射防止コーティングの
みに適している。
ーティングするいくつかの方法が存在する。干渉層を付
着させるのが一般的である。ここでは、屈折率が高い材
料および低い材料の２つ以上の層を、他層の上に交互に
付着させる。したがって、ある波長範囲の反射された波
は消える。この例がＳｃｈｏｔｔ Ｇｌａｓｗｅｒｋｅ
の建築用ガラスの反射防止層であり、ゾル−ゲル法によ
って生成され、浸漬コーティングにより付着させる。し
かしながら、これらの反射防止コーティングの周波数帯
域幅は物理的に１オクターブに制限されており、それゆ
え広帯域の太陽スペクトルにおける反射防止コーティン
グではなく、可視領域における反射防止コーティングの
みに適している。
【０００４】従来型の多層コーティングの他に、単一層
コーティングによって反射防止作用を生み出すことも可
能である。この場合、ガラスはいわゆるλ／４層、すな
わち光学的厚さλ／４（λは入射光の波長）を有する層
で被覆されており、この層の屈折率は理想的には次の値
である。
コーティングによって反射防止作用を生み出すことも可
能である。この場合、ガラスはいわゆるλ／４層、すな
わち光学的厚さλ／４（λは入射光の波長）を有する層
で被覆されており、この層の屈折率は理想的には次の値
である。
【０００５】
【数１】
【０００６】この場合、反射された波の振幅は消える。
ｎD＝１．５である鉄の含有量の低いガラスの従来の屈
折率に関しては、反射防止層の最適な屈折率は１．２２
となる。この場合、波長λを有する電磁放射線の反射は
ゼロである。
ｎD＝１．５である鉄の含有量の低いガラスの従来の屈
折率に関しては、反射防止層の最適な屈折率は１．２２
となる。この場合、波長λを有する電磁放射線の反射は
ゼロである。
【０００７】このタイプの最も使用される反射防止単一
層は、屈折率が１．３８であり蒸着によって付着された
ＭｇＦ2のλ／４層である。反射が最小のときのこの場
合の残留反射率は１．２％である。耐久性のある高密度
の層では、低い屈折率を得ることはできない。
層は、屈折率が１．３８であり蒸着によって付着された
ＭｇＦ2のλ／４層である。反射が最小のときのこの場
合の残留反射率は１．２％である。耐久性のある高密度
の層では、低い屈折率を得ることはできない。
【０００８】多孔質コーティングは、単一層の屈折率を
さらに低下させる可能性を提供する。この目的のために
３つの方法が記載されている。ガラスのエッチング、多
孔質層の付着、および多孔質層とエッチング・プロセス
の組み合わせである。
さらに低下させる可能性を提供する。この目的のために
３つの方法が記載されている。ガラスのエッチング、多
孔質層の付着、および多孔質層とエッチング・プロセス
の組み合わせである。
【０００９】エッチングに特に適しているガラスとは、
マトリックス内に相分離を有し、可溶相を腐食液で溶解
することが可能であるガラスである。米国特許第４，０
１９，８８４号では、６３０〜６６０℃で１〜１０時間
ホウケイ酸ガラスを加熱して相分離によって安定した表
面を生み出し、その後６３０〜６６０℃で１〜４時間フ
ッ化水素酸で処理することによって、０．４〜２．０ｍ
ｍの波長範囲において反射率が２％未満であるホウケイ
酸ガラス上に反射防止層を作製するための方法を記載し
ている。この方法には、フッ化水素酸の使用およびエッ
チングされた層の均一性の低さという欠点がある。
マトリックス内に相分離を有し、可溶相を腐食液で溶解
することが可能であるガラスである。米国特許第４，０
１９，８８４号では、６３０〜６６０℃で１〜１０時間
ホウケイ酸ガラスを加熱して相分離によって安定した表
面を生み出し、その後６３０〜６６０℃で１〜４時間フ
ッ化水素酸で処理することによって、０．４〜２．０ｍ
ｍの波長範囲において反射率が２％未満であるホウケイ
酸ガラス上に反射防止層を作製するための方法を記載し
ている。この方法には、フッ化水素酸の使用およびエッ
チングされた層の均一性の低さという欠点がある。
【００１０】米国特許第４，５３５，０２６号も、多孔
質ＳｉＯ2層をあらかじめ備えているガラスを次いでエ
ッチングすることを開示している。この目的のために使
用されるコーティング溶液は、アルコール中でシリコン
アルコキシドを水および触媒と反応させることによって
得られる。乾燥させたゲル層を加熱し、有機成分を除去
し、層の充分な磨耗安定性を得る。多孔質ＳｉＯ2層が
得られるが、孔を拡大するために後のエッチング・ステ
ップが必要である。最終的には、この方法によって残留
反射率０．１％の反射防止層を得ることが可能になる。
質ＳｉＯ2層をあらかじめ備えているガラスを次いでエ
ッチングすることを開示している。この目的のために使
用されるコーティング溶液は、アルコール中でシリコン
アルコキシドを水および触媒と反応させることによって
得られる。乾燥させたゲル層を加熱し、有機成分を除去
し、層の充分な磨耗安定性を得る。多孔質ＳｉＯ2層が
得られるが、孔を拡大するために後のエッチング・ステ
ップが必要である。最終的には、この方法によって残留
反射率０．１％の反射防止層を得ることが可能になる。
【００１１】後にエッチングされる必要のない磨耗安定
性のある多孔質ＳｉＯ2反射防止層の作製を可能にする
コーティング溶液の調製については、今まで記載されて
いない。対照的に、層の多孔性を得、層の焼結およびこ
れに伴なう孔体積の減少を防ぐためにＳｉＯ2ゲル層を
５００℃までの温度に単にさらすことは、多孔質反射防
止層の作製において一般に認められている手順である。
ここでは、層の屈折率が増加し、反射防止層の効果は減
少するはずである（Ｓｏｌ Ｇｅｌ Ｓｃｉｅｎｃｅ、
Ｃ．Ｊ．Ｂｒｉｎｋｅｒ、Ｇ．Ｗ．Ｓｃｈｅｒｅｒ、Ａ
ｃａｄｅｍｉｃＰｒｅｓｓ １９９０、ｐｐ．５８３、
６３１）。しかしながら、層内でオルトケイ酸ネットワ
ークの架橋により層のすぐれた磨耗耐性を得るために、
可能な限りの高温でゲル層を加熱することが必要であ
る。Ｃａｔｈｒｏ他はＳｏｌａｒＥｎｅｒｇｙ ３２、
１９８４、ｐ．５７３において、ガラス上の充分に摩擦
耐性のあるＳｉＯ2反射防止層は少なくとも５００℃ま
での加熱によってのみ得られるはずであることを開示し
ている。Ｍｏｕｌｔｅｎ他も米国特許第２，６０１，１
２３号において、ゲル層の熱処理中の温度はガラスが軟
化する範囲であるべきであることを示している。安全ガ
ラスを製造するためには、さらに高い温度が必要であ
る。ここで、ガラスは、急冷プロセスによって強化され
る前に、少なくとも６００℃、一般には７００℃の温度
で軟化されなければならない。
性のある多孔質ＳｉＯ2反射防止層の作製を可能にする
コーティング溶液の調製については、今まで記載されて
いない。対照的に、層の多孔性を得、層の焼結およびこ
れに伴なう孔体積の減少を防ぐためにＳｉＯ2ゲル層を
５００℃までの温度に単にさらすことは、多孔質反射防
止層の作製において一般に認められている手順である。
ここでは、層の屈折率が増加し、反射防止層の効果は減
少するはずである（Ｓｏｌ Ｇｅｌ Ｓｃｉｅｎｃｅ、
Ｃ．Ｊ．Ｂｒｉｎｋｅｒ、Ｇ．Ｗ．Ｓｃｈｅｒｅｒ、Ａ
ｃａｄｅｍｉｃＰｒｅｓｓ １９９０、ｐｐ．５８３、
６３１）。しかしながら、層内でオルトケイ酸ネットワ
ークの架橋により層のすぐれた磨耗耐性を得るために、
可能な限りの高温でゲル層を加熱することが必要であ
る。Ｃａｔｈｒｏ他はＳｏｌａｒＥｎｅｒｇｙ ３２、
１９８４、ｐ．５７３において、ガラス上の充分に摩擦
耐性のあるＳｉＯ2反射防止層は少なくとも５００℃ま
での加熱によってのみ得られるはずであることを開示し
ている。Ｍｏｕｌｔｅｎ他も米国特許第２，６０１，１
２３号において、ゲル層の熱処理中の温度はガラスが軟
化する範囲であるべきであることを示している。安全ガ
ラスを製造するためには、さらに高い温度が必要であ
る。ここで、ガラスは、急冷プロセスによって強化され
る前に、少なくとも６００℃、一般には７００℃の温度
で軟化されなければならない。
【００１２】ＤＥ１９８２８２３１では、ガラス、セラ
ミックスまたは金属上に金属酸化物の多孔質光学層を堆
積させるための方法を記載している。塩酸を使用して水
性ゾルまたはゾル混合物をｐＨ２とし、界面活性剤を加
え、被覆される支持体にこの混合物を付着させる。被覆
された支持体は１００〜５５０℃の温度で熱処理する。
得られた層は充分な磨耗耐性を有していない。ＤＩＮ
ＥＮ１０９６−２磨耗試験において、これらはわずか１
０ストローク後にかなりの損傷を示した。
ミックスまたは金属上に金属酸化物の多孔質光学層を堆
積させるための方法を記載している。塩酸を使用して水
性ゾルまたはゾル混合物をｐＨ２とし、界面活性剤を加
え、被覆される支持体にこの混合物を付着させる。被覆
された支持体は１００〜５５０℃の温度で熱処理する。
得られた層は充分な磨耗耐性を有していない。ＤＩＮ
ＥＮ１０９６−２磨耗試験において、これらはわずか１
０ストローク後にかなりの損傷を示した。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、１．
２５〜１．４０の屈折率を有し、多孔性を保持し、７０
０℃を超える温度での熱処理中に焼結しない、反射防止
層の生成用のコーティング溶液を提供することである。
２５〜１．４０の屈折率を有し、多孔性を保持し、７０
０℃を超える温度での熱処理中に焼結しない、反射防止
層の生成用のコーティング溶液を提供することである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】この目的は、本発明によ
りｐＨが３〜８である、許容誤差±１０％で粒径が１０
ｎｍ〜６０ｎｍである［ＳｉＯx（ＯＨ）y］n（式中、
０＜ｙ＜４および０＜ｘ＜２である）粒子０．５〜５．
０重量％と、３５℃と８０℃の間の温度での水性−アル
コール性−アンモニア性媒質中でテトラアルコキシシラ
ンを加水分解重縮合し、次に得られた分散液から水蒸気
蒸留によりアンモニアおよびアルコールを除去し、次に
アニオン界面活性剤１５〜３０重量％、非イオン界面活
性剤５〜１５重量％、および両性界面活性剤５重量％未
満を含む界面活性剤混合物を添加することによって得ら
れる界面活性剤混合物をコーティング溶液に対して０．
００５〜０．５重量％含む水性コーティング溶液によっ
て達成される。
りｐＨが３〜８である、許容誤差±１０％で粒径が１０
ｎｍ〜６０ｎｍである［ＳｉＯx（ＯＨ）y］n（式中、
０＜ｙ＜４および０＜ｘ＜２である）粒子０．５〜５．
０重量％と、３５℃と８０℃の間の温度での水性−アル
コール性−アンモニア性媒質中でテトラアルコキシシラ
ンを加水分解重縮合し、次に得られた分散液から水蒸気
蒸留によりアンモニアおよびアルコールを除去し、次に
アニオン界面活性剤１５〜３０重量％、非イオン界面活
性剤５〜１５重量％、および両性界面活性剤５重量％未
満を含む界面活性剤混合物を添加することによって得ら
れる界面活性剤混合物をコーティング溶液に対して０．
００５〜０．５重量％含む水性コーティング溶液によっ
て達成される。
【００１５】
【発明の実施の形態】本発明の溶液は当業者には驚くべ
きものである。なぜならＳｏｌ−Ｇｅｌ Ｓｃｉｅｎｃ
ｅ、Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ １９９０、ｐａｇ
ｅ１０４、Ｆｉｇｕｒｅ５におけるＣ．Ｊ．Ｂｒｉｎｋ
ｅｒおよびＧ．Ｗ．Ｓｃｈｅｒｅｒによるゾル−ゲル技
術の標準文献は、ＳｉＯ2粒子のＰＺＣ（ｐｏｉｎｔ
ｏｆｚｅｒｏ ｃｈａｒｇｅ：ゼロ電荷点）およびＩＥ
Ｐ（ｉｓｏｅｌｅｃｔｒｉｃｐｏｉｎｔ：等電点）はゼ
ロであり、したがってゾルの安定性はｐＨ２で最大であ
ることを開示しているからである。したがって３より大
きいｐＨにおいてゾルが依然として充分な安定性を有す
ることは考えられなかった。
きものである。なぜならＳｏｌ−Ｇｅｌ Ｓｃｉｅｎｃ
ｅ、Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ １９９０、ｐａｇ
ｅ１０４、Ｆｉｇｕｒｅ５におけるＣ．Ｊ．Ｂｒｉｎｋ
ｅｒおよびＧ．Ｗ．Ｓｃｈｅｒｅｒによるゾル−ゲル技
術の標準文献は、ＳｉＯ2粒子のＰＺＣ（ｐｏｉｎｔ
ｏｆｚｅｒｏ ｃｈａｒｇｅ：ゼロ電荷点）およびＩＥ
Ｐ（ｉｓｏｅｌｅｃｔｒｉｃｐｏｉｎｔ：等電点）はゼ
ロであり、したがってゾルの安定性はｐＨ２で最大であ
ることを開示しているからである。したがって３より大
きいｐＨにおいてゾルが依然として充分な安定性を有す
ることは考えられなかった。
【００１６】ゾル−ゲル法によって得られる材料の性質
はｐＨに非常に依存することが知られている。したがっ
て、堆積した層がこのような高い強度を有することは驚
きである。なぜならＫｌｉｍｅｎｔｏｖａによる研究
（Ｓｏｌ−Ｇｅｌ Ｓｃｉｅｎｃｅ、ｐａｇｅ３８９）
は、ゲル層の弾性率がＳｉＯ2粒子の等電点において最
大であることを開示しているからである。この理由によ
っても、当業者はゾルのｐＨを２に設定したはずであ
る。
はｐＨに非常に依存することが知られている。したがっ
て、堆積した層がこのような高い強度を有することは驚
きである。なぜならＫｌｉｍｅｎｔｏｖａによる研究
（Ｓｏｌ−Ｇｅｌ Ｓｃｉｅｎｃｅ、ｐａｇｅ３８９）
は、ゲル層の弾性率がＳｉＯ2粒子の等電点において最
大であることを開示しているからである。この理由によ
っても、当業者はゾルのｐＨを２に設定したはずであ
る。
【００１７】この目的は、３５℃と８０℃の間の温度で
テトラアルコキシシランを水性−アルコール性−アンモ
ニア性加水分解混合物に加えること、得られた分散液か
ら水蒸気蒸留によってアンモニアおよびアルコールを除
去し、ｐＨを３〜８に調整すること、アニオン界面活性
剤１５〜３０重量％、非イオン界面活性剤５〜１５重量
％、および両性界面活性剤５重量％未満を含む界面活性
剤混合物をコーティング溶液に対して０．００５〜０．
５重量％を加えること、によるコーティング溶液の調製
のための方法によってさらに達成される。
テトラアルコキシシランを水性−アルコール性−アンモ
ニア性加水分解混合物に加えること、得られた分散液か
ら水蒸気蒸留によってアンモニアおよびアルコールを除
去し、ｐＨを３〜８に調整すること、アニオン界面活性
剤１５〜３０重量％、非イオン界面活性剤５〜１５重量
％、および両性界面活性剤５重量％未満を含む界面活性
剤混合物をコーティング溶液に対して０．００５〜０．
５重量％を加えること、によるコーティング溶液の調製
のための方法によってさらに達成される。
【００１８】本発明はさらに、連続的に調整可能な１．
２５〜１．４０の屈折率を有する、磨耗耐性があり任意
選択で透明な、反射率が低下したガラス上の二酸化ケイ
素の層に関する。
２５〜１．４０の屈折率を有する、磨耗耐性があり任意
選択で透明な、反射率が低下したガラス上の二酸化ケイ
素の層に関する。
【００１９】本発明のコーティング溶液は、約２年間と
いう今までの観察期間内では安定してゲル化されてい
る。コーティング溶液中の粒子は、許容誤差±１０％で
平均的な粒子の直径が１０ｎｍ〜６０ｎｍ、好ましくは
３０ｎｍ〜４０ｎｍ、特に好ましくは３５ｎｍである球
形である。ＤＥ１９８２８２３１において開示されてい
る水性ゾルと比較すると、本発明のコーティング溶液は
チンダル効果が大幅に低く、これは溶液中の粒子の凝集
率が低いことを示す。コーティング溶液によって得られ
る多孔質層は屈折率１．２５〜１．４０に設定すること
ができ、したがって、たとえば被覆された、鉄の含有率
の低いガラス・シートの残留反射率は０．０２と１．６
％の間である。層の厚さを５００〜８００ｎｍの範囲に
調整することによって、反射率の最も低い位置を容易に
設定することができる。
いう今までの観察期間内では安定してゲル化されてい
る。コーティング溶液中の粒子は、許容誤差±１０％で
平均的な粒子の直径が１０ｎｍ〜６０ｎｍ、好ましくは
３０ｎｍ〜４０ｎｍ、特に好ましくは３５ｎｍである球
形である。ＤＥ１９８２８２３１において開示されてい
る水性ゾルと比較すると、本発明のコーティング溶液は
チンダル効果が大幅に低く、これは溶液中の粒子の凝集
率が低いことを示す。コーティング溶液によって得られ
る多孔質層は屈折率１．２５〜１．４０に設定すること
ができ、したがって、たとえば被覆された、鉄の含有率
の低いガラス・シートの残留反射率は０．０２と１．６
％の間である。層の厚さを５００〜８００ｎｍの範囲に
調整することによって、反射率の最も低い位置を容易に
設定することができる。
【００２０】多孔質層の場合、層は非常に優れた機械的
安定性を示す。ＤＩＮ ＥＮ１０９６−２に従う磨耗実
験では、１００または５００ストローク後に光学層の厚
さのわずかな減少によって引き起こされるカラー・シフ
トのみが示されるが、引っかきによる層への損傷はな
い。このカラー・シフトを測定することはほぼ不可能で
ある。乾いた布でこすることによっても、層が損傷を受
けることはない。同じ磨耗試験において、知られている
ゾルに関するコーティング溶液から得られる層は、わず
か１０ストローク後に、層に対するかなりの損傷を示
す。
安定性を示す。ＤＩＮ ＥＮ１０９６−２に従う磨耗実
験では、１００または５００ストローク後に光学層の厚
さのわずかな減少によって引き起こされるカラー・シフ
トのみが示されるが、引っかきによる層への損傷はな
い。このカラー・シフトを測定することはほぼ不可能で
ある。乾いた布でこすることによっても、層が損傷を受
けることはない。同じ磨耗試験において、知られている
ゾルに関するコーティング溶液から得られる層は、わず
か１０ストローク後に、層に対するかなりの損傷を示
す。
【００２１】知られているゾルの層に関する傾斜台の実
験は、本発明に従って生成される層で静止摩擦力が非常
に小さいことを示す。本発明に従って被覆されたガラス
・シートは、付着層をプロセス中で焼結させることな
く、観察される透過率を消失させることなく、７００℃
を超える温度にさらすことができる。ここで硬化プロセ
スは、安全ガラスの製造に対応する方法で行われる。こ
のことは、被覆されたガラスが軟化点まで加熱されて次
いで急冷されることを意味する。知られているゾル−ゲ
ル系の層は約５５０℃の温度から焼結する（Ｓｏｌ Ｇ
ｅｌ Ｓｃｉｅｎｃｅ、Ｃ．Ｆ．Ｂｒｉｎｋｅｒ、Ｇ．
Ｗ．Ｓｃｈｅｒｅｒ ＡｃａｄｅｍｉｃＰｒｅｓｓ １
９９０、ｐｐ．５８３、６３１）。
験は、本発明に従って生成される層で静止摩擦力が非常
に小さいことを示す。本発明に従って被覆されたガラス
・シートは、付着層をプロセス中で焼結させることな
く、観察される透過率を消失させることなく、７００℃
を超える温度にさらすことができる。ここで硬化プロセ
スは、安全ガラスの製造に対応する方法で行われる。こ
のことは、被覆されたガラスが軟化点まで加熱されて次
いで急冷されることを意味する。知られているゾル−ゲ
ル系の層は約５５０℃の温度から焼結する（Ｓｏｌ Ｇ
ｅｌ Ｓｃｉｅｎｃｅ、Ｃ．Ｆ．Ｂｒｉｎｋｅｒ、Ｇ．
Ｗ．Ｓｃｈｅｒｅｒ ＡｃａｄｅｍｉｃＰｒｅｓｓ １
９９０、ｐｐ．５８３、６３１）。
【００２２】本発明の層は、高い多孔性およびその結果
として生じる低い屈折率、および磨耗耐性の結果、太陽
エネルギー・システム、たとえば太陽集熱器および太陽
電池用のカバー板として使用するための透過率の高いガ
ラス・シートの製造に特に適している。太陽スペクトル
全体の（ＡＭ１．５世界標準スペクトル）透過率の加重
平均としての太陽の透過率は９５％である。
として生じる低い屈折率、および磨耗耐性の結果、太陽
エネルギー・システム、たとえば太陽集熱器および太陽
電池用のカバー板として使用するための透過率の高いガ
ラス・シートの製造に特に適している。太陽スペクトル
全体の（ＡＭ１．５世界標準スペクトル）透過率の加重
平均としての太陽の透過率は９５％である。
【００２３】本発明のコーティング溶液は３つのステッ
プで調製される。第１のステップでは、最初にテトラア
ルコキシシランの加水分解重縮合によってＳｉＯ2ゾル
が調製される。
プで調製される。第１のステップでは、最初にテトラア
ルコキシシランの加水分解重縮合によってＳｉＯ2ゾル
が調製される。
【００２４】このために、テトラアルコキシシランを水
性−アルコール性−アンモニア性加水分解混合物に導入
し、激しく混合する。使用することができる適切なテト
ラアルコキシシランは、容易に加水分解することができ
るあらゆる脂肪族アルコールオルトケイ酸エステルであ
る。ここで特に適切なのは、たとえばメタノール、エタ
ノール、ｎ−またはｉ−プロパノール、および異性体ブ
タノールおよびペンタノールなどの１〜５個の炭素原子
を有する脂肪族アルコールのエステルである。これらは
個々に使用することができるが、混合物としても使用す
ることもできる。Ｃ1〜Ｃ3アルコールのオルトケイ酸エ
ステルが好ましく、テトラアルコキシシランが特に好ま
しい。脂肪族アルコールの他に、加水分解混合物は約
０．０５モル／リットル〜約８モル／リットルのアンモ
ニア、約１モル／リットル〜約２５モル／リットルの水
を含有していなければならない。アルコール成分として
適切なのは、脂肪族Ｃ1〜Ｃ5アルコール、好ましくはメ
タノール、エタノール、ｎ−またはｉ−プロパノールな
どのＣ1〜Ｃ3アルコールである。これらは加水分解混合
物中に個々に存在してよいが、お互いに混合物としても
存在してよい。テトラアルコキシシランは一度に加水分
解混合物に加えられるのが好ましく、反応物は純粋な形
であるか、または代替的に前記アルコールのうちの１つ
の溶液であることが可能である。ＳｉＯ2粒子を生成す
るために、約０．０１と約１モル／リットルの間にある
加水分解混合物中のテトラアルコキシシラン濃度を選択
することができる。反応物を合せた後、直ちにまたは数
分後に反応が始まり、これは形成される粒子による反応
混合物の即座の乳光（ｏｐａｌｅｓｃｅｎｃｅ）から明
らかである。一般に１５〜３０分以下の後、好ましくな
い特別な場合には長くなることもあるが、反応は完了す
る。反応物の選択および反応混合物中のその濃度に依存
して、平均的な直径が１０ｎｍと６０ｎｍの間である粒
子を得ることができる。
性−アルコール性−アンモニア性加水分解混合物に導入
し、激しく混合する。使用することができる適切なテト
ラアルコキシシランは、容易に加水分解することができ
るあらゆる脂肪族アルコールオルトケイ酸エステルであ
る。ここで特に適切なのは、たとえばメタノール、エタ
ノール、ｎ−またはｉ−プロパノール、および異性体ブ
タノールおよびペンタノールなどの１〜５個の炭素原子
を有する脂肪族アルコールのエステルである。これらは
個々に使用することができるが、混合物としても使用す
ることもできる。Ｃ1〜Ｃ3アルコールのオルトケイ酸エ
ステルが好ましく、テトラアルコキシシランが特に好ま
しい。脂肪族アルコールの他に、加水分解混合物は約
０．０５モル／リットル〜約８モル／リットルのアンモ
ニア、約１モル／リットル〜約２５モル／リットルの水
を含有していなければならない。アルコール成分として
適切なのは、脂肪族Ｃ1〜Ｃ5アルコール、好ましくはメ
タノール、エタノール、ｎ−またはｉ−プロパノールな
どのＣ1〜Ｃ3アルコールである。これらは加水分解混合
物中に個々に存在してよいが、お互いに混合物としても
存在してよい。テトラアルコキシシランは一度に加水分
解混合物に加えられるのが好ましく、反応物は純粋な形
であるか、または代替的に前記アルコールのうちの１つ
の溶液であることが可能である。ＳｉＯ2粒子を生成す
るために、約０．０１と約１モル／リットルの間にある
加水分解混合物中のテトラアルコキシシラン濃度を選択
することができる。反応物を合せた後、直ちにまたは数
分後に反応が始まり、これは形成される粒子による反応
混合物の即座の乳光（ｏｐａｌｅｓｃｅｎｃｅ）から明
らかである。一般に１５〜３０分以下の後、好ましくな
い特別な場合には長くなることもあるが、反応は完了す
る。反応物の選択および反応混合物中のその濃度に依存
して、平均的な直径が１０ｎｍと６０ｎｍの間である粒
子を得ることができる。
【００２５】本発明方法の第１のステップは、１０モル
／リットル〜２５モル／リットルの水、０．１モル／リ
ットル〜４．５モル／リットルのアンモニア、５モル／
リットル〜２５モル／リットルのアルコール、０．１〜
０．５モル／リットルのテトラアルコキシシランを含む
反応混合物によって行われるのが好ましい。平均的な直
径が１０ｎｍと６０ｎｍの間である粒子がここで得られ
る。この段階では、たとえば電子顕微鏡検査によって粒
径、形の適合性および粒径の分布に関して粒子を分析す
るために、ゾルからサンプルを取ることができる。
／リットル〜２５モル／リットルの水、０．１モル／リ
ットル〜４．５モル／リットルのアンモニア、５モル／
リットル〜２５モル／リットルのアルコール、０．１〜
０．５モル／リットルのテトラアルコキシシランを含む
反応混合物によって行われるのが好ましい。平均的な直
径が１０ｎｍと６０ｎｍの間である粒子がここで得られ
る。この段階では、たとえば電子顕微鏡検査によって粒
径、形の適合性および粒径の分布に関して粒子を分析す
るために、ゾルからサンプルを取ることができる。
【００２６】一次粒子の生成のための反応は、高温で行
うことが有利であることが分かっている。ここで好まし
い温度は３５℃と８０℃の間、好ましくは４０℃と７０
℃の間である。高温では粒径の分散が減少するが、平均
的粒径も小さくなることが分かっている。低温、すなわ
ち室温においては、これ以外は同一の条件下で粒径の分
散が大きいより大きな粒子が得られる。
うことが有利であることが分かっている。ここで好まし
い温度は３５℃と８０℃の間、好ましくは４０℃と７０
℃の間である。高温では粒径の分散が減少するが、平均
的粒径も小さくなることが分かっている。低温、すなわ
ち室温においては、これ以外は同一の条件下で粒径の分
散が大きいより大きな粒子が得られる。
【００２７】本発明の方法の第１のステップは、米国特
許第４，７７５，５２０号にさらに詳細に記載されてい
る。
許第４，７７５，５２０号にさらに詳細に記載されてい
る。
【００２８】得られたゾルは、希塩酸、水酸化ナトリウ
ム溶液またはアンモニアを使用して、３と８の間、好ま
しくは５と６の間のｐＨに設定される。次いで、アニオ
ン界面活性剤１５〜３０重量％、非イオン界面活性剤５
〜１５重量％、および両性界面活性剤５重量％未満を含
む界面活性剤混合物を、コーティング溶液に対して０．
００５〜０．５重量％、好ましくは０．０５〜０．２重
量％加える。
ム溶液またはアンモニアを使用して、３と８の間、好ま
しくは５と６の間のｐＨに設定される。次いで、アニオ
ン界面活性剤１５〜３０重量％、非イオン界面活性剤５
〜１５重量％、および両性界面活性剤５重量％未満を含
む界面活性剤混合物を、コーティング溶液に対して０．
００５〜０．５重量％、好ましくは０．０５〜０．２重
量％加える。
【００２９】コーティング溶液は、固体含有率１〜３重
量％に調整する。固体含有率はコーティング方法のタイ
プに依存する。支持体にコーティング溶液を付着させる
のに適切な方法は、浸漬法、スプレー法またはスピン被
覆法である。浸漬法における引き出し速度は０．５〜５
０ｃｍ／分である。
量％に調整する。固体含有率はコーティング方法のタイ
プに依存する。支持体にコーティング溶液を付着させる
のに適切な方法は、浸漬法、スプレー法またはスピン被
覆法である。浸漬法における引き出し速度は０．５〜５
０ｃｍ／分である。
【００３０】本発明のコーティング溶液のある特定の実
施形態では、コーティング溶液に対して０．００１〜
０．１重量％の適切な防腐剤を加える。
施形態では、コーティング溶液に対して０．００１〜
０．１重量％の適切な防腐剤を加える。
【００３１】他の実施形態では、コーティング溶液に対
して０．５〜５０重量％の濃度の、たとえば鎖の長さが
Ｃ１〜Ｃ４である低級アルコール、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、アセトン、またはコーティング溶液に対
して０．５〜２０重量％の濃度の２−メトキシ−１−プ
ロパノールまたは２−ブタンなどの溶媒をコーティング
溶液に加える。１５〜２５重量％の濃度でエタノールを
使用するのが好ましい。
して０．５〜５０重量％の濃度の、たとえば鎖の長さが
Ｃ１〜Ｃ４である低級アルコール、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、アセトン、またはコーティング溶液に対
して０．５〜２０重量％の濃度の２−メトキシ−１−プ
ロパノールまたは２−ブタンなどの溶媒をコーティング
溶液に加える。１５〜２５重量％の濃度でエタノールを
使用するのが好ましい。
【００３２】
【実施例】下記の実施例は、限界を表すものではなく、
本発明をさらに詳細に記載するためのものである。
本発明をさらに詳細に記載するためのものである。
【００３３】実施例１ 水４．９リットル、エタノール９．６リットル、および
２５％アンモニア２５０ｇからなる加水分解混合物を調
製する。７０℃に加熱したテトラエトキシシラン１２５
０ｇを一度で、同様に７０℃に加熱したこの加水分解混
合物に激しく混合させながら加える。許容誤差±１０％
で平均粒直径２５ｎｍのＳｉＯ2ゾルが得られる。アル
コールおよびアンモニアを取り除くために、その後反応
混合物を水蒸気蒸留にかける。得られた水性ＳｉＯ2ゾ
ルをｐＨ８に調整し、脂肪アルコールエーテル硫酸塩
（Ｃ１２／Ｃ１４−脂肪アルコール、ＥＯ２モル）１
０．０重量％、アルキルベンゼンスルホン酸塩５．６重
量％、脂肪アルコールエトキシレート５．５重量％およ
び水８．９％からなる界面活性剤混合物を０．２重量％
加える。
２５％アンモニア２５０ｇからなる加水分解混合物を調
製する。７０℃に加熱したテトラエトキシシラン１２５
０ｇを一度で、同様に７０℃に加熱したこの加水分解混
合物に激しく混合させながら加える。許容誤差±１０％
で平均粒直径２５ｎｍのＳｉＯ2ゾルが得られる。アル
コールおよびアンモニアを取り除くために、その後反応
混合物を水蒸気蒸留にかける。得られた水性ＳｉＯ2ゾ
ルをｐＨ８に調整し、脂肪アルコールエーテル硫酸塩
（Ｃ１２／Ｃ１４−脂肪アルコール、ＥＯ２モル）１
０．０重量％、アルキルベンゼンスルホン酸塩５．６重
量％、脂肪アルコールエトキシレート５．５重量％およ
び水８．９％からなる界面活性剤混合物を０．２重量％
加える。
【００３４】実施例２ 実施例１に従って得られたコーティング溶液を０．２μ
ｍのフィルタを介して濾過し、さらなる添加剤を加える
ことなく浸漬被覆によるその後のコーティングに使用す
る。市販の実験用洗浄器内で市販の洗剤を加えて、９０
℃でガラス・シートを清浄にする。この市販の洗剤は塩
素ベースの漂白剤５重量％未満、リン酸塩１５〜３０重
量％、ＮａＯＨ５重量％、および重炭酸塩、ケイ酸塩お
よび硫酸塩を含む。その後、ガラス・シートをコーティ
ング溶液中に浸し、引き出し速度１０ｃｍ／分で引き上
げる。
ｍのフィルタを介して濾過し、さらなる添加剤を加える
ことなく浸漬被覆によるその後のコーティングに使用す
る。市販の実験用洗浄器内で市販の洗剤を加えて、９０
℃でガラス・シートを清浄にする。この市販の洗剤は塩
素ベースの漂白剤５重量％未満、リン酸塩１５〜３０重
量％、ＮａＯＨ５重量％、および重炭酸塩、ケイ酸塩お
よび硫酸塩を含む。その後、ガラス・シートをコーティ
ング溶液中に浸し、引き出し速度１０ｃｍ／分で引き上
げる。
【００３５】ガラス・シートを取り出した後に、空気の
流れ中でコーティングを乾燥させ、被覆されたガラス・
シートを、ファン付きのオーブン内で６５０℃で５分間
加熱する。被覆されたガラス・シートは均一な色合いを
示し、これはコーティングの層の厚さが均一であること
を示す。
流れ中でコーティングを乾燥させ、被覆されたガラス・
シートを、ファン付きのオーブン内で６５０℃で５分間
加熱する。被覆されたガラス・シートは均一な色合いを
示し、これはコーティングの層の厚さが均一であること
を示す。
【００３６】ＤＩＮ ＥＮ１０９６／２に従って、被覆
された層の磨耗耐性を試験した。５００ストローク後、
光学層の厚さのわずかな減少によって引き起こされるカ
ラー・シフトのみが観察された。層にはまったく損傷が
なかった。引っかきは見られなかった。
された層の磨耗耐性を試験した。５００ストローク後、
光学層の厚さのわずかな減少によって引き起こされるカ
ラー・シフトのみが観察された。層にはまったく損傷が
なかった。引っかきは見られなかった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 591032596 Ｆｒａｎｋｆｕｒｔｅｒ Ｓｔｒ． 250, Ｄ−64293 Ｄａｒｍｓｔａｄｔ，Ｆｅｄ ｅｒａｌ Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ Ｇｅ ｒｍａｎｙ (72)発明者 モニカ クルザヴェ ドイツ連邦共和国 64342 シーハイム− ユーゲンハイム タンネンシュトラーセ ２アー (72)発明者 ヴァルター グラウビット ドイツ連邦共和国 97276 マージットシ ェーヒハイム マーガレテンシュトラーセ 12 Ｆターム(参考） 4F100 AA20B AG00A BA02 BA07 CC01 DJ00B EH46B JK09B JN06 JN30 4G059 AA01 AC04 EA05 EB07 4J038 DL021 KA06 KA09 MA08 MA10 NA19 PB08 PC03
Claims (9)
- 【請求項１】 ｐＨが３〜８である水性コーティング溶
液であって、許容誤差±１０％で粒径が１０ｎｍ〜６０
ｎｍである［ＳｉＯx（ＯＨ）y］n粒子（式中、０＜ｙ
＜４および０＜ｘ＜２である）と３５℃と８０℃の間の
温度での水性−アルコール性−アンモニア性媒質中でテ
トラアルコキシシランを加水分解重縮合し、次に得られ
た分散液から水蒸気蒸留によりアンモニアおよびアルコ
ールを除去し、次にアニオン界面活性剤１５〜３０重量
％、非イオン界面活性剤５〜１５重量％、および両性界
面活性剤５重量％未満を含む界面活性剤混合物を添加す
ることによって得られる界面活性剤混合物とを含む、水
性コーティング溶液。 - 【請求項２】 前記［ＳｉＯx（ＯＨ）y］n粒子の濃度
が０．５〜５．０重量％である、請求項１に記載のコー
ティング溶液。 - 【請求項３】 前記界面活性剤混合物の濃度が前記コー
ティング溶液に対して０．００５〜０．５重量％であ
る、請求項１または２に記載のコーティング溶液。 - 【請求項４】 溶媒が存在する、請求項１から３のいず
れか一項に記載のコーティング溶液。 - 【請求項５】 前記溶媒が０．５〜５０重量％の濃度で
存在する、請求項１から４のいずれか一項に記載のコー
ティング溶液。 - 【請求項６】 適切な防腐剤が０．００１〜０．１重量
％存在する、請求項１から５のいずれか一項に記載のコ
ーティング溶液。 - 【請求項７】 ３５℃と８０℃の間の温度でテトラアル
コキシシランを水性−アルコール性−アンモニア性加水
分解混合物に加えること、 得られた分散液から水蒸気蒸留によってアンモニアおよ
びアルコールを除去し、ｐＨを３〜８に調整すること、 アニオン界面活性剤０．００５〜５．０重量％、非イオ
ン界面活性剤５〜１５重量％、および両性界面活性剤５
重量％未満を加えることによって、請求項１に記載の水
性コーティング溶液を調製する方法。 - 【請求項８】 ガラス上に磨耗耐性のある多孔質ＳｉＯ
2層を堆積させるための、請求項１から６に記載のコー
ティング溶液の使用。 - 【請求項９】 １．２５〜１．４０の屈折率を有し、請
求項１から６に記載のコーティング溶液から堆積させ
た、二酸化ケイ素の多孔質反射防止層を有するガラス。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE10051725A DE10051725A1 (de) | 2000-10-18 | 2000-10-18 | Wäßrige Beschichtungslösung für abriebfeste SiO2-Antireflexschichten |
| DE10051725.0 | 2000-10-18 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002180003A true JP2002180003A (ja) | 2002-06-26 |
Family
ID=7660253
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001303509A Pending JP2002180003A (ja) | 2000-10-18 | 2001-09-28 | 磨耗耐性のあるＳｉＯ２反射防止層用の水性コーティング溶液 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6918957B2 (ja) |
| EP (1) | EP1199288B1 (ja) |
| JP (1) | JP2002180003A (ja) |
| CN (1) | CN1348930A (ja) |
| AU (1) | AU7944601A (ja) |
| DE (1) | DE10051725A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009114277A (ja) * | 2007-11-05 | 2009-05-28 | Nippon Paint Co Ltd | 塩基性ポリシラノール含有無機有機複合コーティング組成物 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| EP1417386B1 (de) * | 2001-08-11 | 2011-12-14 | CENTROSOLAR Glas GmbH & Co. KG | Wärmedämmelement |
| DE10146687C1 (de) * | 2001-09-21 | 2003-06-26 | Flabeg Solarglas Gmbh & Co Kg | Glas mit einer porösen Antireflex-Oberflächenbeschichtung sowie Verfahren zur Herstellung des Glases und Verwendung eines derartigen Glases |
| DE10209949A1 (de) * | 2002-03-06 | 2003-09-25 | Schott Glas | Glaskörper mit poröser Beschichtung |
| EP1506141A1 (de) | 2002-05-21 | 2005-02-16 | Interfloat Corporation | Verfahren und vorrichtung zur herstellung einer antireflexbeschichtung, antireflexbeschichtung sowie antireflexbeschichtetes substrat |
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| US20090101209A1 (en) * | 2007-10-19 | 2009-04-23 | Guardian Industries Corp. | Method of making an antireflective silica coating, resulting product, and photovoltaic device comprising same |
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