JP2002162627A - 液晶表示装置 - Google Patents

液晶表示装置

Info

Publication number
JP2002162627A
JP2002162627A JP2001308232A JP2001308232A JP2002162627A JP 2002162627 A JP2002162627 A JP 2002162627A JP 2001308232 A JP2001308232 A JP 2001308232A JP 2001308232 A JP2001308232 A JP 2001308232A JP 2002162627 A JP2002162627 A JP 2002162627A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
substrate
crystal display
display device
pixel electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001308232A
Other languages
English (en)
Inventor
Jang-Kun Song
長 根 宋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung Electronics Co Ltd
Original Assignee
Samsung Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Electronics Co Ltd filed Critical Samsung Electronics Co Ltd
Publication of JP2002162627A publication Critical patent/JP2002162627A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/133707—Structures for producing distorted electric fields, e.g. bumps, protrusions, recesses, slits in pixel electrodes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/133753—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers with different alignment orientations or pretilt angles on a same surface, e.g. for grey scale or improved viewing angle
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/137—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells characterised by the electro-optical or magneto-optical effect, e.g. field-induced phase transition, orientation effect, guest-host interaction or dynamic scattering
    • G02F1/139—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells characterised by the electro-optical or magneto-optical effect, e.g. field-induced phase transition, orientation effect, guest-host interaction or dynamic scattering based on orientation effects in which the liquid crystal remains transparent
    • G02F1/1393—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells characterised by the electro-optical or magneto-optical effect, e.g. field-induced phase transition, orientation effect, guest-host interaction or dynamic scattering based on orientation effects in which the liquid crystal remains transparent the birefringence of the liquid crystal being electrically controlled, e.g. ECB-, DAP-, HAN-, PI-LC cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/133742—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers for homeotropic alignment
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/133753—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers with different alignment orientations or pretilt angles on a same surface, e.g. for grey scale or improved viewing angle
    • G02F1/133757—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers with different alignment orientations or pretilt angles on a same surface, e.g. for grey scale or improved viewing angle with different alignment orientations

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 液晶表示装置において、ドメイン分割及びス
ペーサの役割を兼ねる突起パターンを形成し、輝度を高
める。 【解決手段】 第１絶縁基板と、第１基板上に形成され
ており、多数の切除パターンを有し切除パターンによっ
て多数の領域に分割される画素電極と、第１基板に対応
する第２絶縁基板と、第２基板上に形成されている共通
電極と、第１基板と第２基板との間に注入されている液
晶層と、共通電極上に形成されており、画素電極の多数
の領域に位置して液晶層の液晶分子の傾き規制する多数
の突起パターンとを含み、突起パターンによって第１基
板と第２基板の間隔が一定に維持される液晶表示装置を
提供する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置は現在最も広く使用されて
いる平板表示装置の一つであって、電場を生成する多数
の電極が形成されている二枚の基板、二枚の基板の間の
液晶層、それぞれの基板の外面に付着されて光を偏光さ
せる二枚の偏光板からなり、電極に電圧を印加して液晶
層の液晶分子を再配列させることによって透過する光の
量を調節する表示装置である。
【０００３】液晶表示装置の一つの基板には電極に印加
される電圧をスイッチングする薄膜トランジスタと多数
の配線、つまり、多数のゲート線及びデータ線が各々行
及び列方向に形成されている。ゲート線とデータ線との
交差で定義される画素領域には画素電極が形成されてお
り、薄膜トランジスタはゲート線を通じて伝達される走
査信号によってデータ線を通じて伝達される画像信号を
制御して画素電極に出力する。これと対向する他の一つ
の基板には画素電極に対応する部分に色フィルターが形
成されており全面に共通電極が形成されている。
【０００４】このような液晶表示装置のうち、垂直配向
方式（VA；Vertically aligned）の液晶表示装置は電場
が印加されていない状態で液晶分子の長軸が基板に垂直
に配列され、電圧が印加されると基板と平行になる方向
に傾く。基板に対して垂直に配列された液晶分子は光の
偏光方向を回転させる機能を遂行できないが、基板に対
して平行に横になっている液晶分子は光の偏光方向を回
転させることができる。この時、液晶層の両側に配置さ
れた二つの偏光板の偏光軸を互いに垂直になるように配
列すると液晶分子が垂直配列された場合には光が二つの
偏光板を通過せず暗い状態になり、電圧を印加して液晶
分子が傾いた場合には一定量の光が二つの偏光板を通過
して出ることによって明るい状態となる。
【０００５】このような垂直配向方式の液晶表示装置に
おいて広視野角を確保するために電極に切除パターンを
形成したり有機物質を用いて突起を形成することによっ
て液晶が横になる方向を四方向に均一に分配して多重領
域（multi domain）を形成する方法が提示されている。
【０００６】一方、このような突起をスペーサとして用
いることができ、ドメインを分割することに使用する突
起の高さは１．２μｍであればいいが、スペーサとして
用いる突起の高さは約４．０μｍでなければならない。
従って、ドメイン分割用突起をそのままスペーサとして
用いるために４．０μｍで形成すれば突起が形成する壁
のため液晶を注入することが難しくなる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明が目的とする技
術的課題はドメイン分割及びスペーサの役割を兼ねる突
起パターンを形成することである。
【０００８】本発明の他の技術的課題は輝度を高めるこ
とである。
【０００９】
【解決を解決するための手段】このような課題を達成す
るために本発明ではドメイン分割及びスペーサの役割を
果たす突起パターンが共に形成されている。
【００１０】本発明によると、第１絶縁基板上に多数の
切除パターンを有し切除パターンによって多数の領域に
分割される画素電極が形成されている。第１基板に対応
する第２絶縁基板上には共通電極が形成されており、第
１基板と第２基板との間に液晶層が注入されている。共
通電極上には画素電極の多数の領域に位置し液晶層の液
晶分子の傾きを規制する多数の突起パターンが形成され
ている。このような突起パターンによって第１基板と第
２基板との間隔が一定に維持される。
【００１１】ここで、第１基板上には画素電極と電気的
に連結されている薄膜トランジスタがさらに形成されて
おり、第２基板と共通電極との間にはブラックマトリッ
クスがパターニングされて形成されており画素電極に対
応して第２基板と共通電極との間に色フィルターがさら
に形成される構成とすることができる。
【００１２】突起パターンは上面及び下面が円形、四角
形または角部が丸い四角形である柱で形成されており、
突起パターンの高さは３．０μｍ乃至４．５μｍである
のが好ましい。
【００１３】液晶層のリタデーションは０．２５μｍ乃
至０．４μｍであるのが好ましい。
【００１４】一方、液晶層に入射される光は円偏光であ
り、この時、第１基板及び第２基板の外側に各々第１及
び第２偏光板がさらに付着されており、第１基板と第１
偏光板との間及び第２基板と第２偏光板との間に各々第
１及び第２二軸性フィルムがさらに付着された構成とす
ることができる。
【００１５】この時、第１偏光板と第１二軸性フィルム
との間または第２偏光板と第２二軸性フィルムとの間の
うちのいずれかの１ケ所に一軸性フィルムがさらに付着
された構成とすることができる。
【００１６】第１二軸性フィルムの最長軸と第２二軸性
フィルムの最長軸が互いに垂直をなし、第１及び第２偏
光板の偏光軸と第１及び第２二軸性フィルムの最長軸は
互いに４５度をなすのが好ましい。
【００１７】また、第１基板と第１二軸性フィルムとの
間及び第２基板と第２二軸性フィルムとの間に各々第１
及び第２λ／４プレートがさらに付着された構成とする
ことができ、第１及び第２λ／４プレートの遅い軸が互
いに垂直をなし、第１及び第２偏光板の偏光軸と第１及
び第２λ／４プレートの遅い軸は互いに４５度をなすの
が好ましい。
【００１８】第１偏光板の偏光軸と第１二軸性フィルム
の最長軸及び第２偏光板の偏光軸と第２二軸性フィルム
の最長軸は互いに平行なのが好ましい。
【００１９】本発明の他の実施例によると、第１絶縁基
板上に切除パターンを有する画素電極が形成されてお
り、第１基板に対応する第２絶縁基板上には共通電極が
形成されている。共通電極上に第１厚さを有する第１突
起及び第１厚さより厚い第２厚さを有する第２突起が形
成されている。第１基板と第２基板との間には液晶層が
注入されている。
【００２０】ここで、第１基板上に画素電極と電気的に
連結されている薄膜トランジスタがさらに形成されてお
り、第２基板と共通電極との間にブラックマトリックス
がパターニングされて形成されており、画素電極に対応
し第２基板と共通電極との間に色フィルターがさらに形
成された構成とすることができる。
【００２１】この時、第１及び第２突起は感光性有機絶
縁膜、感光膜及びケイ素を含む絶縁膜のうちのいずれか
の一つを含み、第１突起の幅が３μｍ乃至１５μｍであ
るのが好ましい。
【００２２】また、第２突起は上面及び下面が多角形ま
たは円形である柱で形成されており、第２突起の上面及
び下面の幅が５μｍ乃至４０μｍであるのが好ましい。
【００２３】このように本発明では突起パターンを柱形
態で形成してドメインを分割すると同時にスペーサとし
て用いることができる。また、上板と偏光板及び下板と
偏光板の間にλ／４プレートと二軸性フィルムなどを付
着して液晶に円偏光が通過するようにしてテクスチャー
をなくし輝度を高めることができる。また、位置によっ
て厚さが異なる突起パターンを一度の写真工程で形成し
て厚さの薄い突起をドメイン分割用として使用し厚さの
厚い突起をスペーサとする。
【００２４】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の実施例による液晶表示装置及びその製造方法について
本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者
が容易に実施することができる程度に詳細に説明する。
【００２５】まず、図１乃至図３を参照して本発明の第
１実施例による液晶表示装置の構造について詳細に説明
する。
【００２６】図１は本発明の第１実施例による液晶表示
装置の薄膜トランジスタ基板の画素電極及び色フィルタ
ー基板の突起パターンを共に示したものであり、図２ａ
は本発明の第１実施例による液晶表示装置の断面図であ
り、図２ｂは本発明の第１実施例による液晶表示装置に
電圧を印加した場合を示した断面図であり、図３は本発
明の第１実施例による液晶表示装置に電圧を印加した場
合の液晶の配列を平面的に示した図面である。
【００２７】図１及び図２ａに示されているように、第
１基板１には薄膜トランジスタ（図示せず）、薄膜トラ
ンジスタに電気的に連結されており切除部６、７を有す
る画素電極４が形成されており、これを薄膜トランジス
タ基板という。また、第１基板１と対向する第２基板１
１にはブラックマトリックス１２、色フィルター１３、
共通電極１４が形成されており、これを色フィルター基
板という。基板１、１１の外側には透過軸が互いに直交
する偏光板（図示せず）が付着されている。
【００２８】以下、まず、薄膜トランジスタ基板につい
て簡略に説明する。
【００２９】第１基板１上には切除部６、７を有する画
素電極４が形成されており、画素電極４に印加される信
号をスイッチングする役割を果たす薄膜トランジスタ
（図示せず）も形成されている。薄膜トランジスタはゲ
ート線（図示せず）の一部であるゲート電極（図示せ
ず）、ゲート電極上部に形成されている半導体層（図示
せず）、半導体層上部に形成されておりデータ線（図示
せず）の一部であるソース電極（図示せず）、ソース電
極と対向するドレーン電極（図示せず）等からなる。こ
の時、薄膜トランジスタの一部であるドレーン電極は画
素電極４と電気的に連結されている。
【００３０】ここで、画素電極４は図１のように、切除
部６、７を中心に三領域に分かれている。
【００３１】このような薄膜トランジスタ基板で、外部
から印加されたゲート信号がゲート線に伝達され外部か
ら印加されたデータ信号がデータ線に伝達されると、半
導体層にチャンネルが形成されドレーン電極を通じて画
素電極にデータ信号が印加されて画像が表示される。
【００３２】次に、色フィルター基板について説明す
る。
【００３３】第２基板１１上にはブラックマトリックス
１２が形成されており、ブラックマトリックス１２の間
には赤色、緑色、青色の色フィルター１３が形成されて
いる。色フィルター１３上にはＩＴＯ（indium tin oxi
de）またはＩＺＯ（indium zinc oxide）のような透明
導電物質からなる共通電極１４が全面に形成されてい
る。共通電極１４上には感光性有機絶縁膜からなる突起
パターン１６が形成されている。この時、突起パターン
１６は円形、四角形または角部が丸い四角形のような上
面及び下面を有する柱形態で３．０μｍ乃至４．５μｍ
の高さで形成されており、２枚の基板１、１１を整列し
た時に画素領域の三領域の中心に各々一つずつ位置して
いる。この時、突起パターン１６は感光性有機絶縁膜、
陽性または陰性感光膜及びケイ素が含まれたケイ素絶縁
膜等で形成することができる。
【００３４】薄膜トランジスタ基板及び色フィルター基
板上には垂直配向膜（図示せず）が形成されている。
【００３５】このような２枚の基板１、１１を整列しそ
の間に負の誘電率異方性を有する液晶１７を注入してリ
タデーション値（Δｎｄ）が０．２５μｍ乃至０．４μ
ｍである液晶層を形成している。電圧を印加していない
場合、液晶分子１７は２枚の基板１、１１に垂直に配向
されている。共通電極１４及び画素電極４に電圧を印加
すると液晶分子１７は図２ｂのように、画素電極４と共
通電極１４との間に形成されるフリンジフィールド
（ｆ）に垂直に配列される。この時、液晶分子１７は図
２ｂのIII方向から見た時、図３のように突起パターン
１６を中心に四方向に配向され第２基板１１の共通電極
１４をパターニングしなくても所望の多重領域を形成す
ることができる。また、突起パターン１６は円柱形態で
形成されているので液晶注入が円滑で、２枚の基板１、
１１を整列した時にスペーサとしての役割を果たすので
液晶表示装置のセルギャップ（cell gap）を均一に維持
することができる。
【００３６】一方、画素電極４は本発明の第１実施例に
よって切除パターンを有する形態で形成することもで
き、他の形態で形成することもできる。これについて図
４を参照して本発明の第２実施例で説明する。
【００３７】図４は本発明の第２実施例による液晶表示
装置の薄膜トランジスタ基板の画素電極及び突起パター
ンを共に示した図面である。
【００３８】図４に示されているように、画素電極４は
角部が曲線化された四角形が数個で連結されている形態
で形成されており、各四角形の中心に突起パターンが位
置している。即ち、画素電極４は切除パターンによって
数個の小部分に分割されており（本実施例では３個）、
各小部分の中心に突起パターンが位置している。
【００３９】一方、第１及び第２実施例では画素電極４
の形態のみが異なり他の部分の構造は同一である。
【００４０】以下、このような本発明の第１及び第２実
施例による色フィルター基板の製造方法について図５ａ
乃至図５ｃを参照して説明する。
【００４１】まず、図５ａに示されているように、第２
基板１１上にブラックマトリックス１２を形成した後、
その上に赤色、緑色、青色の色フィルター１３を形成す
る。
【００４２】その次に、図５ｂに示されているように、
ブラックマトリックス１２及び色フィルター１３上にＩ
ＴＯまたはＩＺＯのような透明導電物質からなる共通電
極１４を形成する。
【００４３】その次に、図５ｃに示されているように、
感光性有機絶縁膜、陽性または陰性感光膜及びケイ素が
含まれたケイ素絶縁膜などからなる突起パターン１６を
形成する。突起パターン１６を感光性物質で形成する場
合にはマスクを通じて露光した後に現像し、ケイ素絶縁
膜で形成する場合には感光膜パターンを形成した後にエ
ッチングする工程を実施すればよい。
【００４４】一方、図６に示されているように、電圧を
印加した時のホワイト（white）状態で、円形の突起パ
ターン１６を中心に黒く現れる部分Ｂが発生し輝度が減
少する。この黒い部分Ｂは偏光板を通過して直線偏光さ
れた光が液晶層を通過する時、液晶分子１７の方向子と
光の偏光方向が平行であるか垂直である部分で液晶１７
による光の偏光方向回転作用が起こらないため発生す
る。つまり、第１偏光板を通過しながら線偏光された光
が液晶１７による偏光方向回転作用を経ないで第２偏光
板を通過しながら遮断される。従って、基板１、１１と
偏光板との間に適切な補償板を付着し直線偏光を円偏光
に変形させて液晶分子を通過するようにするのが好まし
い。円偏光は偏光方向が固定されていないので液晶分子
１７の方向子と偏光方向が平行であるか垂直になるため
現れる黒い部分Ｂが発生しない。これにより輝度が向上
する。
【００４５】このように液晶表示装置に付着される補償
板について図７乃至図１０を参照して本発明の第３乃至
第５実施例を説明する。
【００４６】まず、図７を参照して本発明の第３実施例
を説明する。
【００４７】図７に示されているように、偏光板４１と
第２基板１１及び偏光板４２と第１基板１の間に各々λ
／４プレート２１、２２を付着し、λ／４プレート２
１、２２と偏光板４１、４２との間に各々二軸性フィル
ム３１、３２を付着する。この時、二つの偏光板４１、
４２の偏光軸は互いに垂直をなし、二つの二軸性フィル
ム３１、３２の最長軸（屈折率が最も大きい軸）も互い
に垂直をなし、二つのλ／４プレート２１、２２の遅い
軸も互いに垂直をなしている。また、第２基板１１の外
側に位置する偏光板４１の偏光軸と二軸性フィルム３１
の最長軸とは互いに平行であり、第１基板１の外側に位
置する偏光板４２の偏光軸と二軸性フィルム３２の最長
軸とは互いに平行であり、各々隣接しているλ／４プレ
ート２１、２２の遅い軸とは４５度をなしている。
【００４８】二軸性フィルム３１、３２は経路によるリ
タデーション値の差を補償して視野角を改善する役割を
果たし、λ／４プレート２１、２２は偏光板４１、４２
を通じて入射する直線偏光を円偏光に変化させる役割を
果たす。つまり、λ／４プレート２１、２２を通過しな
がら光が円偏光されて液晶１７に入射すると、直線偏光
が液晶１７に入射する場合に発生するテクスチャーを除
去して輝度を高めることができる。また、二軸性フィル
ム３１、３２による視野角補償効果を得ることができ、
λ／４プレート２１、２２の遅い軸が互いに直交するよ
うに付着することにより補償効果があるのでλ／４プレ
ート２１、２２の波長分散特性の影響を受けることがな
く、高いコントラストを得ることができる。この時、二
軸性フィルム３１、３２のＲｘ＝５０ｎｍ、Ｒｚ＝１０
０ｎｍである場合に側面での光漏れが減少するが、これ
は液晶表示装置に適用するのに不十分である。このよう
な光漏れは視野角が狭くなる問題点があるのでこれを解
決するための第２及び第３の方法を提示する。
【００４９】以下、図８を参照して本発明の第４実施例
を説明する。
【００５０】図８に示されているように、偏光板４１と
第２基板１１及び偏光板４２と第１基板１の間に二軸性
フィルム３１、３２を各々付着する。この時、偏光板４
１、４２の偏光軸は互いに垂直をなし、二軸性フィルム
３１、３２の最長軸は互いに垂直をなし、隣接した偏光
軸４１、４２とは各々４５度をなす。二軸性フィルム３
１、３２のＲｘは１００ｎｍ乃至１５０ｎｍであり、Ｒ
ｚは８０ｎｍ乃至１８０ｎｍである。ここではλ／４プ
レートを付着せず二軸性フィルムがλ／４プレートの機
能を兼ねている。つまり、偏光板４２を通過した直線偏
光を二軸性フィルム３２が円偏光に変化させて、円偏光
が液晶１７を通過すると二軸性フィルム３１によって直
線偏光に変わる。この場合には第１の場合よりさらに広
い視野角を得ることができる。
【００５１】次に、図９を参照して本発明の第５実施例
を説明する。
【００５２】図９に示されているように、偏光板４１と
第２基板１１及び偏光板４２と第１基板１の間に各々二
軸性フィルム３１、３２を付着し、二軸性フィルム３２
と偏光板４２との間に一軸性フィルム３３を付着する。
偏光板４１、４２の偏光軸は互いに垂直をなし、二軸性
フィルム３１、３２の最長軸も互いに垂直をなしてい
る。二軸性フィルム３１、３２の最長軸及び隣接した偏
光板４１、４２の偏光軸は互いに４５度をなしている。
一軸性フィルム３３の長軸は隣接した偏光板４２の偏光
軸と平行である。この時、一軸性フィルム３３を二軸性
フィルム３１と偏光板４１との間に付着することがで
き、一軸性フィルム３３の代りに二軸性の小さい二軸性
フィルムを付着することもできる。二軸性フィルム３
１、３２のリタデーション値は第２の場合と同一であ
り、一軸性フィルム３３のリタデーション値は２００ｎ
ｍ±１００ｎｍである。第３の場合は前の第１及び第２
の場合よりさらに広い視野角を示す。
【００５３】このように偏光板４１、４２と基板１、１
１との間に適切な補償板を付着して円偏光を利用すると
視野角が広くなり、図１０に示されているように突起パ
ターン１６を除いた他の領域でテクスチャーが見えず輝
度が向上する。
【００５４】一方、突起パターンの厚さを位置によって
異なるように形成して厚さの厚い突起パターンをスペー
サ用突起とし厚さの薄い突起パターンをドメイン分割用
突起とすることもできる。この時、スペーサ用突起及び
ドメイン分割用突起を一度の写真工程で形成して工程の
数を減らすのが好ましい。これについて本発明の第６及
び第７実施例で説明する。
【００５５】まず、厚さが異なる突起パターンを有する
色フィルター基板について図１１を参照して説明する。
【００５６】図１１に示されているように、基板１１１
上にはブラックマトリックス１１２が形成されており、
ブラックマトリックス１１２の間には赤色、緑色、青色
の色フィルター１１３が形成されている。色フィルター
１１３上にはＩＴＯまたはＩＺＯのような透明導電物質
からなる共通電極１１４が全面に形成されている。共通
電極１１４上には感光性有機絶縁膜からなる突起パター
ン１１６、１１７が形成されている。突起パターン１１
６、１１７は位置によって異なる厚さで形成されてお
り、この例ではブラックマトリックス１１２の上部に形
成されている突起パターン１１７の厚さが色フィルター
１１３の上部の共通電極１１４上に形成されている突起
パターン１１６より厚くなっている。
【００５７】この時、突起パターン１１６、１１７の形
態について薄膜トランジスタ基板の画素電極１０４と共
に図１２ａ乃至図１２ｃを参照して本発明の第６実施例
で説明する。
【００５８】ここで、図１２ｂでの突起パターン１１６
は画素領域ごとに模様が異なる多数の突起部１３１、１
４１、１５１からなる。薄膜トランジスタ基板には多様
な模様の切除部を有する画素電極１０４が形成されてお
り、その他の構造は前述の薄膜トランジスタ基板の構造
を参照すればよい。
【００５９】まず、図１２ａを参照して画素電極１０４
について説明する。
【００６０】図１２ａに示されているように、長方形の
画素電極１０４中間部の右側から左に細く掘れた第１切
除部１２１が形成されており、第１切除部１２１の入口
両側は角部が切取られて緩やかな角度で曲がっている。
第１切除部１２１を中心にして画素電極１０４を上部と
下部に区分する時、上部及び下部には各々第２及び第３
切除部１２２、１２３が形成されている。第２及び第３
切除部１２２、１２３は各々画素電極１０４の上部及び
下部で画素電極１０４の左側中心部に向って対角線方向
に掘られており、互いに対称をなしている。
【００６１】次に、図１２ｂを参照して共通電極１１４
上に形成されている突起パターンについて説明する。
【００６２】図１２ｂに示されているように、共通電極
１１４上には横方向に形成されている幹部１３２、幹部
１３２から各々斜線方向に上下に伸びている第１及び第
２枝部１３３、１３４、第１及び第２枝部１３３、１３
４から各々縦方向に上下に伸びている第１及び第２枝端
部１３５、１３６を含む第１突起部１３１が形成されて
いる。また、共通電極１１４には第１枝部１３３と平行
に斜線方向に形成されている第１中央部１４２、第１中
央部１４２から横方向にのびている第１横端部１４３、
第１中央部１４２から縦方向にのびている第１縦端部１
４４を含む第２突起部１４１と、第１突起部１３１に対
して第２突起部１４１と対称をなしており、第２中央部
１５２、第２横端部１５３、第２縦端部１５４を含む第
３突起部１５１とが形成されている。このような配置の
第１乃至第３突起部１３１、１４１、１５１は画素電極
１０４に対応する領域ごとに共通電極１１４上に反復的
に形成されている。ここで、第１乃至第３突起部１３
１、１４１、１５１の幅は３μｍ乃至１５μｍである。
一方、突起部１３１、１４１、１５１より厚い厚さを有
するスペーサ用突起１１７は、図１２ｂに図示していな
いが、ブラックマトリックス１１２と重なるように形成
されており、突起１１７は上面及び下面の幅が５μｍ乃
至４０μｍである多角形または円形の形状を有する柱形
態である。
【００６３】図１２ａ及び図１２ｂに示した画素電極１
０４及び共通電極１１４上に形成されている突起パター
ン１３１、１４１、１５１を共に図示すれば図１２ｃと
同一である。
【００６４】図１２ｃに示されているように、画素電極
１０４の第１乃至第３切除部１２１、１２２、１２３と
共通電極１１４上部の第１乃至第３突起部１３１、１４
１、１５１とが重畳して画素電極１０４を多数の領域に
分割している。この時、画素電極１０４の切除部１２
１、１２２、１２３及び共通電極上部の突起部１３１、
１４１、１５１は交互に配置されている。第１乃至第３
切除部１２１、１２２、１２３及び第１乃至第３突起部
１３１、１４１、１５１は画素電極１０４の中央を分割
する第１切除部１２１と第１突起部１３１の幹部１３
２、画素電極１０４の辺と重畳する第１突起部１３１の
枝端部１３５、１３６と第２及び第３突起部１４１、１
５１の横端部１４３、１５３及び縦端部１４４、１５４
を除いては大部分の領域で互いに平行に形成されてい
る。
【００６５】この時、電場が印加された時の液晶１７の
配列は一つの画素領域内で四つの方向に分類され、四方
向全てで広い視野角を得ることができる。
【００６６】このような構造を有する突起パターン１１
７はスペーサとして用いられ、突起パターン１１６は多
重領域を形成するのに用いられる。
【００６７】以下、このように位置によって厚さが異な
る突起パターン１１６、１１７を有する色フィルター基
板の製造方法について図１３ａ乃至図１７ｃ、前の図１
１を参照して説明する。
【００６８】まず、図１３ａに示されているように絶縁
基板１１１上にブラックマトリックス１１２を形成した
後、その上に赤色、緑色、青色の色フィルター１１３を
形成する。
【００６９】その次に、図１３ｂに示されているよう
に、ＩＴＯまたはＩＺＯのような透明導電物質からなる
共通電極１１４を基板１１１の全面に形成する。
【００７０】その次に、図１３ｃに示されているよう
に、共通電極１１４上に感光性有機絶縁膜１１５を塗布
する。この時、感光性有機絶縁膜１１５の代りに陰性ま
たは陽性の感光膜、ケイ素が含まれたケイ素絶縁膜など
を形成することもできる。
【００７１】その次に、図１４及び図１５で示したマス
ク１００、１１０を用いて感光性有機絶縁膜１１５をパ
ターニングし前の図１１のように厚さの異なる突起パタ
ーン１１６、１１７を形成する。この時、用いるマスク
はスリットパターンまたは半透過膜を含むのが好まし
い。
【００７２】以下、スリットパターンまたは半透過膜を
含むマスクを用いて突起パターン１１６、１１７を形成
する方法について詳細に説明する。
【００７３】まず、スリットパターンが形成されている
マスクを用いて突起パターンを形成する方法について図
１４及び前の図１１を参照して説明する。ここで、有機
絶縁膜は陰性、陽性の両方が使用できるが、ここでは陰
性有機絶縁膜の場合についてのみ説明する。有機絶縁膜
が陰性であるので現像後に露光部分が残り露光されない
部分は残らない。
【００７４】図１４に示されているように、マスク１０
０は色フィルター１１３上の共通電極１１４上部に位置
する部分Ｂに形成されているスリットパターン、ブラッ
クマトリックス１１２と共通電極１１４が接触しており
凹入形成された部分Ａに形成されている透明パターン、
残りの部分Ｃに位置する不透明パターンを含んでいる。
このようなマスク１００を用いて露光すると、透明パタ
ーンを通じて入射する光の量よりスリットパターンを通
じて入射する光の量が少ない。従って、露光後に現像す
ると前の図１１に示されているようにＢ部分に残る突起
パターン１１６の厚さはＡ部分に残る突起パターン１１
７の厚さより薄くＣ部分には陰性有機絶縁膜が残らな
い。
【００７５】この時、陰性有機絶縁膜を使用する場合に
は現像後に上部が下部よりさらに広く形成される逆テー
パ（taper）形態で残るが、以降の工程で上部が切取ら
れてほぼ直角に近いパターンが形成される。
【００７６】次に、半透過膜が含まれたマスクを用いて
突起パターンを形成する方法について図１５及び前の図
１１を参照して説明する。ここで、有機絶縁膜は陰性、
陽性の両方が使用できるが、ここでは陽性有機絶縁膜の
場合についてのみ説明する。有機絶縁膜が陽性であるの
で現像後に露光部分は残らず露光されない部分が残る。
【００７７】図１５に示されているように、マスク１１
０は色フィルター１１３上の共通電極１１４上部に位置
する部分Ｂに形成されている半透過膜パターン、ブラッ
クマトリックス１１２と共通電極１１４が接触しており
凹入形成されている部分Ａに形成されている不透明パタ
ーン、残りの部分Ｃに位置する透明パターンを含んでい
る。このようなマスク１１０を用いて露光すると、透明
パターンを通じて入射する光の量より半透過膜パターン
を通じて入射する光の量が少ない。従って、露光後に現
像するとＢ部分に残る陽性有機絶縁膜の厚さはＡ部分に
残る陽性有機絶縁膜の厚さより薄くＣ部分には陽性有機
絶縁膜が残らない。
【００７８】ここで、現像後に光を受けた部分が残るよ
うになる陰性有機絶縁膜を使用する場合に半透過膜によ
り光を少なく受けた部分が現像後に所望の厚さのパター
ンに形成されるのが難しいので、陽性有機絶縁膜を使用
するのが有利である。
【００７９】このように、スリットパターンまたは半透
過膜を含むマスク１００、１１０を用いて厚さの異なる
突起パターン１１６、１１７を形成し、薄い突起パター
ン１１６でフリンジフィールドを形成して広視野角を確
保することができ、厚い突起パターン１１７をスペーサ
とする。また、位置によって厚さの異なる突起パターン
１１６、１１７を一度の写真工程で形成して工程の数を
減らすことができる。
【００８０】一方、感光性有機絶縁膜の代りにケイ素を
含む絶縁膜で形成することもできる。この場合にはケイ
素を含む絶縁膜を塗布した後、その上に感光膜を塗布
し、前述のスリットパターンまたは半透過膜を含むマス
クを用いて写真エッチング工程を実施すればよい。ここ
で、感光膜として陽性感光膜を使用する場合を例として
上げて説明する。
【００８１】これについて図１６乃至図１７ｃ、前の図
１１を参照して説明する。図１６乃至図１７ｃは共通電
極１１４上にケイ素を含む絶縁膜１１５を蒸着し感光膜
１２５を塗布しスリットパターンまたは半透過膜を含む
マスク１２０を用いて露光及び現像した後の色フィルタ
ー基板をその工程順序によって示した断面図である。
【００８２】図１６に示されているように、ケイ素を含
む絶縁膜１１５上に感光膜１２５を塗布した後、マスク
１２０を用いて現像して図１７ａのように厚さの異なる
感光膜パターン１２６、１２７を形成する。この時、マ
スク１２０はＢ部分に位置するスリットパターン、Ａ部
分に位置する不透明パターン、Ｃ部分に位置する透明パ
ターンを含んでいる。このようなマスク１２０を用いて
露光した後に現像すると、Ｂ部分に残る感光膜の厚さは
Ａ部分に残る感光膜の厚さより薄く、Ｃ部分には感光膜
が残らない。ここで、Ｂ部分に対応するスリットパター
ンの代わりに半透過膜パターンを含むマスクで形成する
ことができ、陽性感光膜の代わりに陰性感光膜を使用す
る場合にはＡ部分には透明パターンを含みＣ部分には不
透明パターンを含むマスクを使用すればよい。
【００８３】その次に、図１７ｂに示されているように
感光膜パターン１２６、１２７で覆われない絶縁膜１１
５をエッチングして共通電極１１４が露出されるように
する。
【００８４】その次に、図１７ｃに示されているように
感光膜パターン１２６、１２７を絶縁膜１１５が露出さ
れるまで除去すると、Ａ部分にのみ感光膜パターン１２
７が残っているようになる。その次に、残っている感光
膜パターン１２７を除去すると、前の図１１のように厚
さの異なる突起パターン１１６、１１７が形成される。
【００８５】一方、画素電極１０４及び突起パターンを
多様な形態で形成することができる。そのうちで一例を
挙げて図１８ａ乃至図１８ｃを参照して本発明の第７実
施例で説明する。本発明の第７実施例は第６実施例と画
素電極１０４及び突起パターン１１６の形態が異なり、
その他の構造及び製造方法は第６実施例と同一である。
ここで、突起パターン１１６は画素領域ごとに形態が異
なる多数の突起部１７１、１８１、１９１からなる。
【００８６】まず、図１８ａを参照して画素電極１０４
について説明する。
【００８７】図１８ａに示されているように、画素電極
１０４の上部領域を左右に半分する長方形の第１切除部
１６１、画素電極１０４の下部領域を上下に三部分に分
ける長方形の第２切除部１６２及び第３切除部１６３が
画素電極１０４に形成されている。
【００８８】次に、図１８ｂを参照して共通電極１１４
上に形成されている突起パターンについて説明する。図
１８ｂに示されているように、共通電極１１４には縦方
向に形成されており互いに平行な第１及び第２幹部１７
２、１７３、これらと連結され横方向に形成されている
枝端部１７４を含む第１突起部１７１が形成されてい
る。また、第１及び第２幹部１７２、１７３の下部に横
方向に形成されており互いに平行な第２及び第３突起部
１８１、１９１が共通電極１１４上に形成されている。
【００８９】図１８ａ及び図１８ｂに示した画素電極１
０４及び共通電極１１４上に形成されている突起パター
ン１７１、１８１、１９１を共に図示すると図１８ｃの
通りである。
【００９０】図１８ｃに示されているように、画素電極
１０４の第１切除部１６１と共通電極１１４の第１及び
第２幹部１７２、１７３が画素電極１０４の上面を縦に
４等分しており、第２及び第３切除部１６２、１６３と
第２及び第３突起部１８１、１９１が画素電極１０４の
下面を横に５等分している。
【００９１】このように位置によって厚さが異なる突起
パターンを形成し、厚さの薄い突起をドメイン分割用と
して使用し、厚さの厚い突起をスペーサと使用し、これ
をスリットパターンまたは半透過膜を含むマスクを用い
て一度の写真工程で形成することによって工程の数を減
らすことができる。
【００９２】
【発明の効果】このように、本発明では突起パターンを
柱形態に形成してドメインを分割すると同時にスペーサ
として使用する。また、第２基板と偏光板及び第１基板
と偏光板の間にλ／４プレートと二軸性フィルムなどを
付着し液晶に円偏光が通過するようにしてテクスチャー
をなくし輝度を高めることができる。また、位置によっ
て厚さの異なる突起パターンを一度の写真工程で形成し
て厚さの薄い突起をドメイン分割用として使用し厚さの
厚い突起をスペーサとする。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施例による液晶表示装置の薄膜
トランジスタ基板の画素電極及び色フィルター基板の突
起パターンを共に示した図面である。
【図２ａ】本発明の第１実施例による液晶表示装置の断
面図である。
【図２ｂ】本発明の第１実施例による液晶表示装置に電
圧を印加した場合を示した断面図である。
【図３】本発明の第１実施例による液晶表示装置に電圧
を印加した場合の液晶の配列を平面的に示した図面であ
る。
【図４】本発明の第２実施例による液晶表示装置の薄膜
トランジスタ基板の画素電極及び突起パターンを共に示
した図面である。
【図５ａ】本発明の第１及び第２実施例による液晶表示
装置の色フィルター基板を製造する工程をその順序によ
って示した断面図である。
【図５ｂ】本発明の第１及び第２実施例による液晶表示
装置の色フィルター基板を製造する工程をその順序によ
って示した断面図である。
【図５ｃ】本発明の第１及び第２実施例による液晶表示
装置の色フィルター基板を製造する工程をその順序によ
って示した断面図である。
【図６】液晶表示装置に電圧を印加した場合のテクスチ
ャー発生を示した図面である。
【図７】本発明の第３乃至第５実施例による液晶表示装
置を示した図面である。
【図８】本発明の第３乃至第５実施例による液晶表示装
置を示した図面である。
【図９】本発明の第３乃至第５実施例による液晶表示装
置を示した図面である。
【図１０】本発明の第１実施例による液晶表示装置に電
圧を印加した場合のテクスチャー発生を示した図面であ
る。
【図１１】本発明の第６実施例による液晶表時装置の色
フィルター基板を示した断面図である。
【図１２ａ】本発明の第６実施例による液晶表示装置の
画素電極の形態を示した図面である。
【図１２ｂ】図１２ａに示した画素電極に対応し共通電
極上に形成されている突起パターンを示した図面であ
る。
【図１２ｃ】図１２ａ及び図１２ｂで示した画素電極及
び突起パターンを共に示した図面である。
【図１３ａ】本発明の第６実施例によって製造する第１
の段階での液晶表示装置用色フィルター基板を示した断
面図である。
【図１３ｂ】図１３ａの次の段階での断面図である。
【図１３ｃ】図１３ｂの次の段階での断面図である。
【図１４】図１３ｃの次の段階での断面図である。
【図１４】有機膜を塗布した後の色フィルター基板をマ
スクと共に示した断面図である。
【図１５】有機膜を塗布した後の色フィルター基板をマ
スクと共に示した断面図である。
【図１６】ケイ素を含む絶縁膜上に感光膜を塗布した後
の色フィルター基板をマスクと共に示した断面図であ
る。
【図１７ａ】感光膜パターンが形成された色フィルター
基板を示した断面図である。
【図１７ｂ】図１７ａの次の段階での断面図である。
【図１７ｃ】図１７ｂの次の段階での断面図である。
【図１８ａ】本発明の第７実施例による液晶表示装置の
画素電極の形態を示した図面である。
【図１８ｂ】図１８ａに示した画素電極に対応し共通電
極上に形成されている突起パターンを示した図面であ
る。
【図１８ｃ】図１８ａ及び図１８ｂに示した画素電極及
び突起パターンを共に示した図面である。
【符号の説明】
１ 第１基板 ４、１０４ 画素電極 ６、７、１２１、１２２、１２３、１６１、１６２、１
６３ 切除部 １１ 第２基板 １２、１１２ ブラックマトリックス １３、１１３ 色フィルター １４、１１４ 共通電極 １６、１１６、１１７ 突起パターン １７ 液晶 ２１、２２ λ／４プレート ３１、３２ 二軸性フィルム ３３ 一軸性フィルム ４１、４２ 偏光板 １００、１２０ マスク １１５ 感光性有機絶縁膜 １２５ 感光膜 １３１、１４１、１５１、１７１、１８１、１９１ 突
起部 １３２、１７２、１７３ 幹部 １３３ 第１枝部 １３４ 第２枝部 １３５ 第１枝端部 １３６ 第２枝端部 １４２ 第１中央部 １４３ 第１横端部 １４４ 第１縦端部 １５２ 第２中央部 １５３ 第２横端部 １５４ 第２縦端部
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１３年１１月５日（２００１．１１．
５）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施例による液晶表示装置の薄膜
トランジスタ基板の画素電極及び色フィルター基板の突
起パターンを共に示した図面である。
【図２ａ】本発明の第１実施例による液晶表示装置の断
面図である。
【図２ｂ】本発明の第１実施例による液晶表示装置に電
圧を印加した場合を示した断面図である。
【図３】本発明の第１実施例による液晶表示装置に電圧
を印加した場合の液晶の配列を平面的に示した図面であ
る。
【図４】本発明の第２実施例による液晶表示装置の薄膜
トランジスタ基板の画素電極及び突起パターンを共に示
した図面である。
【図５ａ】本発明の第１及び第２実施例による液晶表示
装置の色フィルター基板を製造する工程をその順序によ
って示した断面図である。
【図５ｂ】本発明の第１及び第２実施例による液晶表示
装置の色フィルター基板を製造する工程をその順序によ
って示した断面図である。
【図５ｃ】本発明の第１及び第２実施例による液晶表示
装置の色フィルター基板を製造する工程をその順序によ
って示した断面図である。
【図６】液晶表示装置に電圧を印加した場合のテクスチ
ャー発生を示した図面である。
【図７】本発明の第３乃至第５実施例による液晶表示装
置を示した図面である。
【図８】本発明の第３乃至第５実施例による液晶表示装
置を示した図面である。
【図９】本発明の第３乃至第５実施例による液晶表示装
置を示した図面である。
【図１０】本発明の第１実施例による液晶表示装置に電
圧を印加した場合のテクスチャー発生を示した図面であ
る。
【図１１】本発明の第６実施例による液晶表時装置の色
フィルター基板を示した断面図である。
【図１２ａ】本発明の第６実施例による液晶表示装置の
画素電極の形態を示した図面である。
【図１２ｂ】図１２ａに示した画素電極に対応し共通電
極上に形成されている突起パターンを示した図面であ
る。
【図１２ｃ】図１２ａ及び図１２ｂで示した画素電極及
び突起パターンを共に示した図面である。
【図１３ａ】本発明の第６実施例によって製造する第１
の段階での液晶表示装置用色フィルター基板を示した断
面図である。
【図１３ｂ】図１３ａの次の段階での断面図である。
【図１３ｃ】図１３ｂの次の段階での断面図である。
【図１４】有機膜を塗布した後の色フィルター基板をマ
スクと共に示した断面図である。
【図１５】有機膜を塗布した後の色フィルター基板をマ
スクと共に示した断面図である。
【図１６】ケイ素を含む絶縁膜上に感光膜を塗布した後
の色フィルター基板をマスクと共に示した断面図であ
る。
【図１７ａ】感光膜パターンが形成された色フィルター
基板を示した断面図である。
【図１７ｂ】図１７ａの次の段階での断面図である。
【図１７ｃ】図１７ｂの次の段階での断面図である。
【図１８ａ】本発明の第７実施例による液晶表示装置の
画素電極の形態を示した図面である。
【図１８ｂ】図１８ａに示した画素電極に対応し共通電
極上に形成されている突起パターンを示した図面であ
る。
【図１８ｃ】図１８ａ及び図１８ｂに示した画素電極及
び突起パターンを共に示した図面である。
【符号の説明】 １ 第１基板 ４、１０４ 画素電極 ６、７、１２１、１２２、１２３、１６１、１６２、１
６３ 切除部 １１ 第２基板 １２、１１２ ブラックマトリックス １３、１１３ 色フィルター １４、１１４ 共通電極 １６、１１６、１１７ 突起パターン １７ 液晶 ２１、２２ λ／４プレート ３１、３２ 二軸性フィルム ３３ 一軸性フィルム ４１、４２ 偏光板 １００、１２０ マスク １１５ 感光性有機絶縁膜 １２５ 感光膜 １３１、１４１、１５１、１７１、１８１、１９１ 突
起部 １３２、１７２、１７３ 幹部 １３３ 第１枝部 １３４ 第２枝部 １３５ 第１枝端部 １３６ 第２枝端部 １４２ 第１中央部 １４３ 第１横端部 １４４ 第１縦端部 １５２ 第２中央部 １５３ 第２横端部 １５４ 第２縦端部

Claims (26)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】第１絶縁基板と、 前記第１基板上に形成されており、多数の切除パターン
    を有し前記切除パターンによって多数の領域に分割され
    る画素電極と、 前記第１基板に対応する第２絶縁基板と、 前記第２基板上に形成されている共通電極と、 前記第１基板と前記第２基板との間に注入されている液
    晶層と、 前記共通電極上に形成されており、前記画素電極の多数
    の領域に位置して前記液晶層の液晶分子の傾きを規制す
    る多数の突起パターンとを含み、 前記突起パターンによって前記第１基板と前記第２基板
    の間隔が一定に維持される液晶表示装置。
  2. 【請求項２】前記第１基板上に形成されており前記画素
    電極と電気的に連結されている薄膜トランジスタをさら
    に含む請求項１に記載の液晶表示装置。
  3. 【請求項３】前記第２基板と前記共通電極との間にパタ
    ーニングされて形成されているブラックマトリックスを
    さらに含む請求項１に記載の液晶表示装置。
  4. 【請求項４】前記画素電極に対応し前記第２基板と前記
    共通電極との間に形成されている色フィルターをさらに
    含む請求項１に記載の液晶表示装置。
  5. 【請求項５】前記突起パターンは上面及び下面が円形、
    四角形または角部が丸い四角形である柱で形成されてい
    る請求項１に記載の液晶表示装置。
  6. 【請求項６】前記突起パターンの高さは３．０μｍ乃至
    ４．５μｍである請求項５に記載の液晶表示装置。
  7. 【請求項７】前記液晶層のリタデーションは０．２５μ
    ｍ乃至０．４μｍである請求項１に記載の液晶表示装
    置。
  8. 【請求項８】前記液晶層に入射する光は円偏光である請
    求項１に記載の液晶表示装置。
  9. 【請求項９】前記第１基板及び前記第２基板の外側に各
    々付着されている第１及び第２偏光板をさらに含み、前
    記第１基板と前記第１偏光板との間及び前記第２基板と
    前記第２偏光板との間に各々付着されている第１及び第
    ２二軸性フィルムをさらに含む請求項８に記載の液晶表
    示装置。
  10. 【請求項１０】前記第１偏光板と前記第１二軸性フィル
    ムとの間または前記第２偏光板と前記第２二軸性フィル
    ムとの間のうちいずれかの１つに付着されている一軸性
    フィルムをさらに含む請求項９に記載の液晶表示装置。
  11. 【請求項１１】前記第１二軸性フィルムの最長軸と前記
    第２二軸性フィルムの最長軸とが互いに垂直をなす請求
    項９に記載の液晶表示装置。
  12. 【請求項１２】前記第１及び第２偏光板の偏光軸と前記
    第１及び第２二軸性フィルムの最長軸とは互いに４５度
    をなす請求項９に記載の液晶表示装置。
  13. 【請求項１３】前記第１基板と前記第１二軸性フィルム
    との間及び前記第２基板と前記第２二軸性フィルムとの
    間に各々付着されている第１及び第２λ／４プレートを
    さらに含む請求項９に記載の液晶表示装置。
  14. 【請求項１４】前記第１及び第２λ／４プレートの遅い
    軸が互いに垂直をなす請求項１３に記載の液晶表示装
    置。
  15. 【請求項１５】前記第１及び第２偏光板の偏光軸と前記
    第１及び第２λ／４プレートの遅い軸とは互いに４５度
    をなす請求項１３に記載の液晶表示装置。
  16. 【請求項１６】前記第１偏光板の偏光軸と前記第１二軸
    性フィルムの最長軸及び前記第２偏光板の偏光軸と前記
    第２二軸性フィルムの最長軸は互いに平行である請求項
    １３に記載の液晶表示装置。
  17. 【請求項１７】第１絶縁基板と、 前記第１基板上に形成されており切除パターンを有する
    画素電極と、 前記第１基板に対応する第２絶縁基板と、 前記第２基板上に形成されている共通電極と、 前記共通電極上に形成されており第１厚さを有する第１
    突起及び第１厚さより厚い第２厚さを有する第２突起
    と、 前記第１基板と前記第２基板との間に注入されている液
    晶層とを含む液晶表示装置。
  18. 【請求項１８】前記第１基板上に形成されており前記画
    素電極と電気的に連結されている薄膜トランジスタをさ
    らに含む請求項１７に記載の液晶表示装置。
  19. 【請求項１９】前記第２基板と前記共通電極との間にパ
    ターニングされて形成されているブラックマトリックス
    をさらに含む請求項１７に記載の液晶表示装置。
  20. 【請求項２０】前記画素電極に対応し前記第２基板と前
    記共通電極との間に形成されている色フィルターをさら
    に含む請求項１７に記載の液晶表示装置。
  21. 【請求項２１】前記第１及び第２突起は感光性有機絶縁
    膜、感光膜及びケイ素を含む絶縁膜のうちのいずれかの
    一つを含む請求項１７に記載の液晶表示装置。
  22. 【請求項２２】前記第１突起の幅が３μｍ乃至１５μｍ
    である請求項１７に記載の液晶表示装置。
  23. 【請求項２３】前記第２突起は上面及び下面が多角形ま
    たは円形の柱で形成されている請求項１７に記載の液晶
    表示装置。
  24. 【請求項２４】前記第２突起の上面及び下面の幅が５μ
    ｍ乃至４０μｍである請求項２３に記載の液晶表示装
    置。
  25. 【請求項２５】前記第１突起は前記ブラックマトリック
    スと重畳している請求項１９に記載の液晶表示装置。
  26. 【請求項２６】前記画素電極は切除パターンによって数
    個の小部分に分割されており、前記第２突起は前記画素
    電極の各小部分の中央部に位置する請求項１７に記載の
    液晶表示装置。
JP2001308232A 2000-10-04 2001-10-04 液晶表示装置 Pending JP2002162627A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020000058288A KR100720093B1 (ko) 2000-10-04 2000-10-04 액정 표시 장치
KR2000-58288 2000-10-04

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007206611A Division JP4296208B2 (ja) 2000-10-04 2007-08-08 液晶表示装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002162627A true JP2002162627A (ja) 2002-06-07

Family

ID=19691790

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001308232A Pending JP2002162627A (ja) 2000-10-04 2001-10-04 液晶表示装置
JP2007206611A Expired - Lifetime JP4296208B2 (ja) 2000-10-04 2007-08-08 液晶表示装置

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007206611A Expired - Lifetime JP4296208B2 (ja) 2000-10-04 2007-08-08 液晶表示装置

Country Status (5)

Country Link
US (4) US6678031B2 (ja)
JP (2) JP2002162627A (ja)
KR (1) KR100720093B1 (ja)
CN (1) CN1189776C (ja)
TW (1) TWI238912B (ja)

Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004206130A (ja) * 2002-12-24 2004-07-22 Samsung Electronics Co Ltd 液晶表示装置
JP2005181981A (ja) * 2003-11-25 2005-07-07 Sharp Corp 液晶表示装置
JP2005182048A (ja) * 2003-12-19 2005-07-07 Samsung Electronics Co Ltd 多重ドメイン薄膜トランジスタ表示板及びこれを含む液晶表示装置
JP2005309239A (ja) * 2004-04-23 2005-11-04 Fujitsu Display Technologies Corp 液晶表示装置
JP2006078524A (ja) * 2004-09-07 2006-03-23 Seiko Epson Corp 液晶表示装置および電子機器
JP2006126228A (ja) * 2004-10-26 2006-05-18 Sharp Corp 液晶素子及びそれを備えた液晶表示装置
JP2006154436A (ja) * 2004-11-30 2006-06-15 Sharp Corp 液晶表示装置及び円偏光フィルム
JP2006184335A (ja) * 2004-12-24 2006-07-13 Casio Comput Co Ltd 液晶表示素子
JP2006276327A (ja) * 2005-03-29 2006-10-12 Sharp Corp 液晶表示装置及びその製造方法
JP2007011406A (ja) * 2006-10-02 2007-01-18 Seiko Epson Corp 液晶表示装置
JP2007199436A (ja) * 2006-01-27 2007-08-09 Sony Corp 液晶表示装置
JP2008015072A (ja) * 2006-07-04 2008-01-24 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルタ用フォトマスク、カラーフィルタの製造方法、及びカラーフィルタ
JP2008065338A (ja) * 2007-09-18 2008-03-21 Seiko Epson Corp 液晶表示装置
US7450211B2 (en) 2004-05-24 2008-11-11 Fujitsu Limited Liquid crystal display device having spacer arranged to cover portion of pixel electrode or rectangular spacer arranged on gate line but does not reach second substrate
US7460199B2 (en) 2003-12-10 2008-12-02 Seiko Epson Corporation Liquid crystal display device, method of manufacturing liquid crystal display device, and electronic apparatus
JP2009037267A (ja) * 2004-01-14 2009-02-19 Seiko Epson Corp 液晶表示装置及び電子機器
JP2010191476A (ja) * 2002-06-28 2010-09-02 Samsung Electronics Co Ltd 液晶表示装置及びそれに用いられる薄膜トランジスタ基板
JP2010276809A (ja) * 2009-05-28 2010-12-09 Sony Corp 液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法及び電子機器
US8120738B2 (en) 2004-01-14 2012-02-21 Seiko Epson Corporation Liquid crystal display device and electronic apparatus
KR101121211B1 (ko) * 2004-02-17 2012-03-23 치 메이 옵토일렉트로닉스 코포레이션 Ｌｃｄ 장치, 컬러 필터 기판, 및 돌출 구조체, 및 이들의제조방법
JPWO2012002073A1 (ja) * 2010-06-28 2013-08-22 シャープ株式会社 表示パネル及び表示装置

Families Citing this family (77)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW573190B (en) * 2000-08-14 2004-01-21 Samsung Electronics Co Ltd Liquid crystal display and fabricating method thereof
KR100345961B1 (en) * 2001-01-12 2002-08-01 Samsung Electronics Co Ltd Liquid crystal display with wide viewing angle
KR100482469B1 (ko) * 2000-11-25 2005-04-14 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 크로스 토크 방지용 액정표시장치 제조방법
TW554221B (en) * 2001-01-09 2003-09-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd Liquid crystal display device and manufacturing method thereof
JP4289812B2 (ja) * 2001-12-26 2009-07-01 奇美電子股▲ふん▼有限公司 液晶表示装置及びそのカラーフィルタ基板
TWI297801B (ja) * 2002-01-08 2008-06-11 Chi Mei Optoelectronics Corp
JP3912663B2 (ja) * 2002-02-26 2007-05-09 富士フイルム株式会社 カラーフィルター用画素の形成方法、液晶表示装置用カラーフィルター、液晶表示装置用スペーサー及び配向制御用突起の形成方法、液晶表示装置用スペーサー及び配向制御用突起
JP4133088B2 (ja) * 2002-08-01 2008-08-13 Ｎｅｃ液晶テクノロジー株式会社 液晶表示装置
CN1312515C (zh) * 2002-09-18 2007-04-25 Nec液晶技术株式会社 液晶显示器件及其制造方法
KR20050067216A (ko) * 2002-11-01 2005-06-30 코핀 코포레이션 다중-영역의 수직 정렬 액정 디스플레이
JP3873939B2 (ja) * 2002-11-08 2007-01-31 セイコーエプソン株式会社 液晶表示装置及び電子機器
KR100920348B1 (ko) * 2003-02-27 2009-10-07 삼성전자주식회사 액정 표시 장치
KR20040080778A (ko) 2003-03-13 2004-09-20 삼성전자주식회사 4색 구동 액정 표시 장치 및 이에 사용하는 표시판
KR100945579B1 (ko) * 2003-03-17 2010-03-08 삼성전자주식회사 표시 장치용 표시판 및 그의 제조 방법과 그 표시판을포함하는 액정 표시 장치
TWI256514B (en) * 2003-04-04 2006-06-11 Innolux Display Corp In-plane switching mode LCD
CN1322361C (zh) * 2003-04-18 2007-06-20 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 横向电场液晶显示器
TWI307425B (en) * 2003-05-16 2009-03-11 Sharp Kk Liquid crystal display device
CN1303466C (zh) * 2003-07-08 2007-03-07 瀚宇彩晶股份有限公司 液晶显示器及其驱动方法与线路
JP3834304B2 (ja) * 2003-07-23 2006-10-18 スタンレー電気株式会社 液晶表示素子
CN1605916B (zh) 2003-10-10 2010-05-05 乐金显示有限公司 具有薄膜晶体管阵列基板的液晶显示板及它们的制造方法
CN100376990C (zh) * 2003-10-14 2008-03-26 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 平面内切换型液晶显示装置
KR100682358B1 (ko) * 2003-11-10 2007-02-15 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정 표시 패널 및 제조 방법
US7646459B2 (en) * 2003-12-26 2010-01-12 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device
CN100376960C (zh) * 2004-03-02 2008-03-26 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 多域垂直取向型液晶显示装置
US7391489B2 (en) * 2004-03-09 2008-06-24 Sharp Kabushiki Kaishia Liquid crystal display device
JP4155227B2 (ja) * 2004-05-07 2008-09-24 セイコーエプソン株式会社 液晶表示装置および電子機器
US7564522B2 (en) * 2004-05-21 2009-07-21 Kopin Corporation Full symmetrical wide-viewing angle display
JP4844027B2 (ja) * 2004-07-16 2011-12-21 カシオ計算機株式会社 垂直配向型の液晶表示素子
TWI326371B (en) * 2004-07-16 2010-06-21 Casio Computer Co Ltd Vertically alignment liquid crystal display device
CN1301436C (zh) * 2004-08-02 2007-02-21 友达光电股份有限公司 多重区块垂直排列型液晶显示器及其像素电极形成方法
KR100675639B1 (ko) * 2004-08-30 2007-02-02 엘지.필립스 엘시디 주식회사 유기 박막트랜지스터 및 액정표시소자의 제조방법
JP4431081B2 (ja) 2004-08-30 2010-03-10 エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド 有機薄膜トランジスタの製造方法及び液晶表示素子の製造方法
CN100476554C (zh) * 2004-08-31 2009-04-08 卡西欧计算机株式会社 垂直取向型有源矩阵液晶显示元件
US20060066791A1 (en) * 2004-09-30 2006-03-30 Casio Computer Co., Ltd. Vertical alignment active matrix liquid crystal display device
CN100492141C (zh) * 2004-09-30 2009-05-27 卡西欧计算机株式会社 垂直取向型有源矩阵液晶显示元件
KR100669762B1 (ko) * 2004-11-15 2007-01-16 삼성에스디아이 주식회사 유기 박막 트랜지스터 및 이를 구비한 평판 디스플레이 장치
KR100752875B1 (ko) * 2004-11-29 2007-08-29 가시오게산키 가부시키가이샤 수직배향형의 액티브 매트릭스 액정표시소자
WO2006059693A1 (ja) * 2004-12-02 2006-06-08 Sharp Kabushiki Kaisha 表示装置の製造方法及び表示装置
US8068200B2 (en) * 2004-12-24 2011-11-29 Casio Computer Co., Ltd. Vertical alignment liquid crystal display device in which a pixel electrode has slits which divide the pixel electrode into electrode portions
CN100371798C (zh) * 2005-06-02 2008-02-27 友达光电股份有限公司 显示面板与其中的彩色滤光基板及其制造方法
KR101127833B1 (ko) * 2005-06-28 2012-03-20 엘지디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
KR20070002674A (ko) * 2005-06-30 2007-01-05 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법
KR20070012084A (ko) * 2005-07-22 2007-01-25 삼성전자주식회사 컬러필터 기판과 이를 포함하는 액정표시패널 그리고이들의 제조방법
KR20070015314A (ko) * 2005-07-30 2007-02-02 삼성전자주식회사 액정표시장치 및 그의 제조 방법
KR101137842B1 (ko) * 2005-09-23 2012-04-20 엘지디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법
KR100672256B1 (ko) * 2005-12-08 2007-01-24 주식회사 탑 엔지니어링 박막 패턴 성형 장치 및 그 성형 방법
JP4400558B2 (ja) * 2005-12-19 2010-01-20 セイコーエプソン株式会社 カラーフィルタ基板、液晶表示装置および電子機器、カラーフィルタ基板の製造方法および液晶表示装置の製造方法
KR101288835B1 (ko) * 2005-12-27 2013-08-07 엘지디스플레이 주식회사 액정표시소자 및 그 제조방법
TWI338172B (en) * 2005-12-30 2011-03-01 Au Optronics Corp Method of forming spacers and alignment protrusions simultaneously on color filter substrate
KR20070087395A (ko) 2006-02-23 2007-08-28 삼성전자주식회사 표시판
US20070229744A1 (en) * 2006-03-29 2007-10-04 Casio Computer Co., Ltd. Vertically aligned liquid crystal display device
KR101245119B1 (ko) * 2006-06-01 2013-03-25 삼성디스플레이 주식회사 어레이 기판 및 이를 갖는 표시패널
US20070285608A1 (en) * 2006-06-13 2007-12-13 Au Optronics Corporation Placement of spacers in a liquid crystal display panel
CN101169531B (zh) * 2006-10-23 2011-07-13 中华映管股份有限公司 像素结构
US20080225212A1 (en) * 2007-03-13 2008-09-18 Ong Hiap L Pixel designs for multi-domain vertical alignment liquid crystal display
TWI362526B (en) * 2007-08-14 2012-04-21 Au Optronics Corp Liquid crystal display panel
US20110141425A1 (en) * 2008-04-14 2011-06-16 Yoshimizu Moriya Liquid crystal display panel
KR100963104B1 (ko) * 2008-07-08 2010-06-14 삼성모바일디스플레이주식회사 박막 트랜지스터, 그의 제조 방법 및 박막 트랜지스터를구비하는 평판 표시 장치
KR101490491B1 (ko) * 2008-12-23 2015-02-05 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
JP2011215480A (ja) * 2010-04-01 2011-10-27 Stanley Electric Co Ltd 液晶表示装置
KR20130005844A (ko) * 2011-07-07 2013-01-16 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
JP5766491B2 (ja) * 2011-04-11 2015-08-19 株式会社Ｊｏｌｅｄ 発光パネル、表示装置および電子機器
TW201310085A (zh) * 2011-08-23 2013-03-01 Chunghwa Picture Tubes Ltd 彩色濾光片及其製造方法
KR101894547B1 (ko) * 2011-09-09 2018-09-04 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
KR102022566B1 (ko) 2012-03-15 2019-09-19 삼성디스플레이 주식회사 액정표시장치
KR20140062669A (ko) 2012-11-14 2014-05-26 삼성디스플레이 주식회사 표시 패널 및 이의 제조 방법
KR101990115B1 (ko) 2012-12-21 2019-10-01 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
CN104076552B (zh) * 2014-06-25 2016-08-24 深圳市华星光电技术有限公司 彩膜基板及曲面显示装置
KR102167008B1 (ko) * 2014-09-18 2020-10-19 엘지디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
KR102236916B1 (ko) * 2015-01-09 2021-04-06 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
KR20160090974A (ko) 2015-01-22 2016-08-02 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
KR102319314B1 (ko) 2015-02-09 2021-10-29 삼성디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 그 제조방법
CN106501987A (zh) * 2015-09-06 2017-03-15 群创光电股份有限公司 显示设备
CN105137665A (zh) 2015-09-30 2015-12-09 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制备方法、显示装置
CN105372889A (zh) * 2015-10-23 2016-03-02 深圳市华星光电技术有限公司 显示装置、coa基板及其制造方法
US10509287B2 (en) * 2016-01-27 2019-12-17 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd Color filter on array substrate having a photoresist plug contacting a liquid crystal layer
CN108346377B (zh) * 2018-01-19 2020-09-04 昆山国显光电有限公司 一种柔性显示面板及其制作方法、显示装置

Family Cites Families (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5963288A (en) * 1987-08-20 1999-10-05 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Liquid crystal device having sealant and spacers made from the same material
JPH01254917A (ja) 1988-04-05 1989-10-11 Asahi Glass Co Ltd 液晶表示素子及びそれを使用したｏａ機器
JP2532620B2 (ja) 1988-11-04 1996-09-11 松下電器産業株式会社 電気光学素子
JP3999824B2 (ja) * 1995-08-21 2007-10-31 東芝電子エンジニアリング株式会社 液晶表示素子
JPH0980447A (ja) * 1995-09-08 1997-03-28 Toshiba Electron Eng Corp 液晶表示素子
JPH1062789A (ja) * 1996-08-23 1998-03-06 Sharp Corp 液晶表示装置及びその製造方法
DE69840759D1 (de) 1997-06-12 2009-05-28 Sharp Kk Anzeigevorrichtung mit vertikal ausgerichtetem Flüssigkristall
JP3410665B2 (ja) 1997-12-26 2003-05-26 シャープ株式会社 液晶表示装置
KR100309918B1 (ko) * 1998-05-16 2001-12-17 윤종용 광시야각액정표시장치및그제조방법
KR100283511B1 (ko) * 1998-05-20 2001-03-02 윤종용 광시야각 액정 표시장치
JP4190089B2 (ja) 1998-06-30 2008-12-03 シャープ株式会社 液晶表示装置およびその製造方法
JP3367900B2 (ja) 1998-07-24 2003-01-20 シャープ株式会社 液晶表示装置
JP3565547B2 (ja) * 1998-07-31 2004-09-15 シャープ株式会社 カラー液晶表示装置およびその製造方法
KR100312753B1 (ko) 1998-10-13 2002-04-06 윤종용 광시야각액정표시장치
KR100313949B1 (ko) * 1998-11-11 2002-09-17 엘지.필립스 엘시디 주식회사 멀티도메인액정표시소자
FR2784758B1 (fr) 1998-10-19 2006-01-27 Lg Philips Lcd Co Ltd Un dispositif d'afficheur a cristal liquide multi-domaine
US6900869B1 (en) * 1998-11-25 2005-05-31 Lg. Philips Lcd Co., Ltd. Multi-domain liquid crystal display device with particular dielectric structures
JP2000193984A (ja) * 1998-12-25 2000-07-14 Sony Corp 液晶ライトバルブ装置
US6583846B1 (en) * 1999-04-14 2003-06-24 Hitachi, Ltd. Liquid crystal display device with spacer covered with an electrode
JP2001005007A (ja) * 1999-06-18 2001-01-12 Hitachi Ltd 液晶表示装置
JP4468529B2 (ja) * 1999-07-09 2010-05-26 シャープ株式会社 液晶表示装置
JP3747135B2 (ja) * 1999-08-06 2006-02-22 アルプス電気株式会社 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
JP2001133792A (ja) * 1999-08-23 2001-05-18 Sharp Corp 液晶表示装置
JP2001318383A (ja) * 2000-05-12 2001-11-16 Sony Corp 液晶表示装置
TW573190B (en) * 2000-08-14 2004-01-21 Samsung Electronics Co Ltd Liquid crystal display and fabricating method thereof
US6897918B1 (en) * 2000-09-15 2005-05-24 Toray Industries, Inc. Color filter with protrusion
US6611308B2 (en) * 2000-11-30 2003-08-26 Hannstar Display Corp. Cone protrusion in multi-domain vertically aligned liquid crystal display
TWI221539B (en) * 2000-11-30 2004-10-01 Hannstar Display Corp Method for forming bumps utilized for manufacturing LCD
US6879918B2 (en) * 2003-05-30 2005-04-12 Lucent Technologies Inc. Method and apparatus for measuring the transmission loss of a cable

Cited By (38)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9477121B2 (en) 2002-06-28 2016-10-25 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display and thin film transistor array panel therefor
US10620488B2 (en) 2002-06-28 2020-04-14 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display and thin film transistor array panel therefor
US10969635B2 (en) 2002-06-28 2021-04-06 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display and thin film transistor array panel therefor
US8310643B2 (en) 2002-06-28 2012-11-13 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display and thin film transistor array panel therefor
US8743331B2 (en) 2002-06-28 2014-06-03 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display and thin film transistor array panel therefor
US8698990B2 (en) 2002-06-28 2014-04-15 Samsung Display Co., Ltd. Liquid crystal display and thin film transistor array panel therefor
JP2010191476A (ja) * 2002-06-28 2010-09-02 Samsung Electronics Co Ltd 液晶表示装置及びそれに用いられる薄膜トランジスタ基板
JP4537697B2 (ja) * 2002-12-24 2010-09-01 三星電子株式会社 液晶表示装置
JP2004206130A (ja) * 2002-12-24 2004-07-22 Samsung Electronics Co Ltd 液晶表示装置
JP2005181981A (ja) * 2003-11-25 2005-07-07 Sharp Corp 液晶表示装置
JP4614726B2 (ja) * 2003-11-25 2011-01-19 シャープ株式会社 液晶表示装置
US7460199B2 (en) 2003-12-10 2008-12-02 Seiko Epson Corporation Liquid crystal display device, method of manufacturing liquid crystal display device, and electronic apparatus
US7480022B2 (en) 2003-12-10 2009-01-20 Seiko Epson Corporation Liquid crystal display device, method of manufacturing liquid crystal display device, and electronic apparatus
JP2005182048A (ja) * 2003-12-19 2005-07-07 Samsung Electronics Co Ltd 多重ドメイン薄膜トランジスタ表示板及びこれを含む液晶表示装置
JP2009037267A (ja) * 2004-01-14 2009-02-19 Seiko Epson Corp 液晶表示装置及び電子機器
US8120738B2 (en) 2004-01-14 2012-02-21 Seiko Epson Corporation Liquid crystal display device and electronic apparatus
KR101121211B1 (ko) * 2004-02-17 2012-03-23 치 메이 옵토일렉트로닉스 코포레이션 Ｌｃｄ 장치, 컬러 필터 기판, 및 돌출 구조체, 및 이들의제조방법
JP2005309239A (ja) * 2004-04-23 2005-11-04 Fujitsu Display Technologies Corp 液晶表示装置
JP4679067B2 (ja) * 2004-04-23 2011-04-27 富士通株式会社 液晶表示装置
US7450211B2 (en) 2004-05-24 2008-11-11 Fujitsu Limited Liquid crystal display device having spacer arranged to cover portion of pixel electrode or rectangular spacer arranged on gate line but does not reach second substrate
JP2006078524A (ja) * 2004-09-07 2006-03-23 Seiko Epson Corp 液晶表示装置および電子機器
JP4525259B2 (ja) * 2004-09-07 2010-08-18 セイコーエプソン株式会社 液晶表示装置および電子機器
JP2006126228A (ja) * 2004-10-26 2006-05-18 Sharp Corp 液晶素子及びそれを備えた液晶表示装置
JP4646594B2 (ja) * 2004-10-26 2011-03-09 シャープ株式会社 液晶素子及びそれを備えた液晶表示装置
JP4553702B2 (ja) * 2004-11-30 2010-09-29 シャープ株式会社 液晶表示装置
JP2006154436A (ja) * 2004-11-30 2006-06-15 Sharp Corp 液晶表示装置及び円偏光フィルム
JP2006184335A (ja) * 2004-12-24 2006-07-13 Casio Comput Co Ltd 液晶表示素子
JP4639797B2 (ja) * 2004-12-24 2011-02-23 カシオ計算機株式会社 液晶表示素子
JP2006276327A (ja) * 2005-03-29 2006-10-12 Sharp Corp 液晶表示装置及びその製造方法
JP4516466B2 (ja) * 2005-03-29 2010-08-04 シャープ株式会社 液晶表示装置及びその製造方法
JP2007199436A (ja) * 2006-01-27 2007-08-09 Sony Corp 液晶表示装置
JP2008015072A (ja) * 2006-07-04 2008-01-24 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルタ用フォトマスク、カラーフィルタの製造方法、及びカラーフィルタ
JP2007011406A (ja) * 2006-10-02 2007-01-18 Seiko Epson Corp 液晶表示装置
JP4513794B2 (ja) * 2006-10-02 2010-07-28 セイコーエプソン株式会社 液晶表示装置
JP4656112B2 (ja) * 2007-09-18 2011-03-23 セイコーエプソン株式会社 液晶表示装置
JP2008065338A (ja) * 2007-09-18 2008-03-21 Seiko Epson Corp 液晶表示装置
JP2010276809A (ja) * 2009-05-28 2010-12-09 Sony Corp 液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法及び電子機器
JPWO2012002073A1 (ja) * 2010-06-28 2013-08-22 シャープ株式会社 表示パネル及び表示装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR100720093B1 (ko) 2007-05-18
KR20020027709A (ko) 2002-04-15
US7247411B2 (en) 2007-07-24
US20070216831A1 (en) 2007-09-20
US6678031B2 (en) 2004-01-13
CN1189776C (zh) 2005-02-16
US20020039166A1 (en) 2002-04-04
US20090201448A1 (en) 2009-08-13
CN1354383A (zh) 2002-06-19
US20040100611A1 (en) 2004-05-27
TWI238912B (en) 2005-09-01
JP2007316667A (ja) 2007-12-06
JP4296208B2 (ja) 2009-07-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4296208B2 (ja) 液晶表示装置
KR100590744B1 (ko) 컬러 필터 기판 및 그 제조 방법, 상기 컬러 필터 기판을 포함하는 액정 표시 장치
US8094267B2 (en) Liquid crystal display device, methods for manufacturing the same, and electronic apparatus
US7876412B2 (en) Thin film transistor array panel and method for manufacturing the same
KR20070068772A (ko) 액정표시장치와 그 제조방법
KR20140098401A (ko) 컬러필터를 가지는 박막트랜지스터 기판 및 그 제조 방법
KR100529560B1 (ko) 광시야각 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
KR100462376B1 (ko) 반사형 액정표시장치 및 그 제조방법
KR102067961B1 (ko) 컬러필터기판과 그 제조방법 및 이를 포함하는 액정표시장치
EP3316023B1 (en) Liquid crystal display device
KR100958036B1 (ko) 멀티 도메인 광배향을 위한 배향막 노광용 마스크 장치
KR20020013307A (ko) 액정 표시 장치용 색 필터 기판 및 그 제조 방법
KR101238002B1 (ko) 수평 전계 인가형 액정표시장치 및 그 제조 방법
JP2000208410A (ja) 露光装置と拡散反射板及び反射型表示装置
KR100623985B1 (ko) 광시야각 액정 표시 장치 및 그에 사용되는 기판
JP2005115142A (ja) 液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法、電子機器
KR20080049383A (ko) 수직정렬모드 액정표시장치
KR20090060055A (ko) 보상필름이 구비된 액정표시장치 및 그 제조방법
US20080299328A1 (en) Liquid crystal display fabrication and device
KR101332155B1 (ko) 반투과 수평전계인가형 액정표시장치 및 그 제조 방법
KR20080110249A (ko) 수직정렬모드 액정표시장치 및 그 제조 방법
JPH086002A (ja) 液晶表示装置およびその製造方法
KR20040037944A (ko) 기판내부에 보상필름을 형성한 액정표시장치 및 그제조방법
KR19990033653A (ko) 횡전계방식 액정표시소자
KR20040066570A (ko) 색필터 표시판

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20040831

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20041004

RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20041008

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20061006

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20061017

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070117

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070410

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070808

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20070905

A912 Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20071122

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090218