JP2002146015A - イオン伝導性ホスホン酸含有ポリアゾール - Google Patents

イオン伝導性ホスホン酸含有ポリアゾール

Info

Publication number
JP2002146015A
JP2002146015A JP2000348324A JP2000348324A JP2002146015A JP 2002146015 A JP2002146015 A JP 2002146015A JP 2000348324 A JP2000348324 A JP 2000348324A JP 2000348324 A JP2000348324 A JP 2000348324A JP 2002146015 A JP2002146015 A JP 2002146015A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polymer
phosphonic acid
acid
film
solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000348324A
Other languages
English (en)
Inventor
Junko Nakao
淳子 中尾
Yoshimitsu Sakaguchi
佳充 坂口
Kota Kitamura
幸太 北村
Satoshi Takase
敏 高瀬
Shiro Hamamoto
史朗 濱本
Hiroshi Tachimori
寛 舘盛
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyobo Co Ltd
Original Assignee
Toyobo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyobo Co Ltd filed Critical Toyobo Co Ltd
Priority to JP2000348324A priority Critical patent/JP2002146015A/ja
Publication of JP2002146015A publication Critical patent/JP2002146015A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/30Hydrogen technology
    • Y02E60/50Fuel cells

Landscapes

  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Fuel Cell (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 耐熱性が高いことが期待されるホスホン酸基
をポリマー骨格自体の耐熱性が高いポリマーに導入する
ことにより、耐久安定性だけでなくイオン伝導性にも優
れた高分子電解質を得ることにある。 【解決手段】 TGA測定における200℃昇温時点で
の試料重量を基準にしたときの3%重量減少温度が40
0℃以上であり、80℃、95%RHにおける10,0
00Hzの交流インピーダンスを測定して求められる導
電率が0.001[S/cm]以上であり、平均分子量
が1,000から1,000,000の間にあり、繰り
返し単位が複数の場合主としてランダムおよび/または
交互的に結合していることを特徴とするホスホン酸含有
ポリアゾール化合物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、高分子電解質膜と
して有用なホスホン酸含有ポリアゾール化合物に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】液体電解質のかわりに高分子固体電解質
をイオン伝導体として用いる電気化学的装置の例とし
て、水電解槽や燃料電池を上げることができる。これら
に用いられる高分子膜は、カチオン交換膜としてプロト
ン導電率とともに化学的、熱的、電気化学的および力学
的に十分安定なものでなくてはならない。このため、長
期にわたり使用できるものとしては、主に米デュポン社
製の「ナフィオン(登録商標)」を代表例とするパーフ
ルオロカーボンスルホン酸膜が使用されてきた。しかし
ながら、100℃を越える条件で運転しようとすると、
膜の含水率が急激に落ちるほか、膜の軟化も顕著とな
る。このため、将来が期待されるメタノールを燃料とす
る燃料電池においては、膜内のメタノール透過による性
能低下がおこり、十分な性能を発揮することはできな
い。また、現在主に検討されている水素を燃料として8
0℃付近で運転する燃料電池においても、膜のコストが
高すぎることが燃料電池技術の確立の障害として指摘さ
れている。
【0003】このような欠点を克服するため、非フッ素
系ポリマーにスルホン酸基を導入した高分子電解質膜が
種々検討されている。例えば、ポリアリールエーテルス
ルホンをスルホン化したもの(Journal of Membrane Sc
ience, 83, 211(1993))、ポリエーテルエーテルケトン
をスルホン化したもの(特開平6−93114)、スルホ
ン化ポリスチレン等である。しかしながら、芳香環上に
導入されたスルホン酸基は酸または熱により脱スルホン
酸反応が起こりやすく、燃料電池用電解膜として使用す
るには耐久性が十分であるとは言えない。
【0004】一方、スルホン酸基よりは耐熱性に優れる
可能性があるホスホン酸含有の芳香族ポリマーについ
て、高分子電解質の視点から着目したものはあまりみら
れない。たとえば、USP5,498,784号におい
て4,4‘−(2,2,2−トリフルオロ−1−(トリ
フルオロメチル)エチリデン)ビス(2−アミノフェノ
ール)からなるポリベンズオキサゾールにおいて、ジカ
ルボン酸成分の5%〜50%を3,5−ジカルボキシフ
ェニルホスホン酸とするポリマーが報告されているが、
溶解性の良さと複合材料としての可能性に着目している
が、電池用途の高分子電解質としては考慮されることは
なかった。実際、このポリマーはアルコール溶解性が特
徴であり、メタノールを燃料とする燃料電池用の電解質
膜と使用することに適さないことは明白である。また、
イオン伝導性も低い値しか示さない。他に、特開平11
−286545号では、3,5−ジカルボキシフェニル
ホスホン酸を始めとする含リンポリアミド共重合体が報
告されているが、これもその耐熱性に着目した性質しか
調べられていない。このポリマーは燃料電池として使用
される酸性化条件では、加水分解が起こり電解質膜とし
て使用することはできない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、これ
まで高分子電解質として検討されてきたスルホン酸基に
かわり、より耐熱性が高いことが期待されるホスホン酸
基をポリマー骨格自体の耐熱性が高いポリマーに導入す
ることにより、耐久安定性だけでなくイオン伝導性にも
優れた高分子電解質を得ることにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、ホスホン酸を
含有するポリアゾール類において、優れた耐熱性とイオ
ン伝導性を示す高分子電解質を得るに至った。
【0007】すなわち本発明は、80℃、95%RHに
おける10,000Hzの交流インピーダンスを測定し
て求められる導電率が0.001[S/cm]以上であ
り、TGA測定における200℃昇温時点での試料重量
を基準にしたときの3%重量減少温度が400℃以上で
あり、平均分子量が1,000から1,000,000
の間にあり、繰り返し単位が複数の場合主としてランダ
ムおよび/または交互的に結合していることを特徴とす
るホスホン酸含有ポリアゾール化合物である。本発明の
中で、80℃、95%RHにおける10,000Hzの
交流インピーダンスを測定して求められる導電率が0.
01[S/cm]以上であり、TGA測定における20
0℃昇温時点での試料重量を基準にしたときの3%重量
減少温度が400℃以上であり、主鎖構造が主にポリオ
キサゾール骨格からなる場合は、特に優れた性能を示
す。本発明の成形物とは、高分子化合物の成形方法と同
様に処理して得られるものである、即ち重合溶液又は単
離したポリマーから押し出し、紡糸、圧延、キャストな
どの任意の方法で繊維やフィルムに成形したものであ
る。本発明はこれらの化合物を主成分とすることを特徴
とする成形物であり、繊維、フィルム、シート状物など
に加工することができ、特に膜にすることにより、特に
効果的な性能が発揮される。
【0008】
【発明の実施の形態】以下本発明について詳細に説明す
る。本発明でいうホスホン酸含有ポリアゾール化合物と
はホスホン酸基を含有する芳香族系のポリオキサゾール
類、ポリチアゾール類、ポリイミダゾール類およびそれ
らが混在する組成物や共重合体をさす。一般的には下記
式のような繰り返し単位構造で示すことができる。
【0009】
【化1】 (但し、一般式1において、Rはアゾール環を形成でき
る4価の芳香族基を示し、XはO、S、またはNHを表
す。R‘は二価の芳香族基、脂肪族基または脂環族基を
示し、R’のすべてまたは一部にホスホン酸基を有して
いる。R、R‘はいずれも単環であっても、複数の芳香
環の結合体、あるいは縮合環であってもよく、ホスホン
酸以外の安定な置換基を有していても良い。また、R、
R’の芳香環中にN,S,O等が存在するヘテロ環構造
を有していてもかまわない)
【0010】また、一般式1とともに下記式で示すよう
な繰り返し単位を含んでいても良い。
【化2】 (ここでXはO、S、またはNHを表し、R“はアゾー
ル環を形成できる三価の芳香族基を示す。)
【0011】上記一般式1で示す本発明のホスホン酸含
有ポリアゾール化合物を合成する経路は特には限定され
ないが、通常は式中Rで示すアゾール環を形成できる4
価の芳香族基単位を形成する芳香族ジアミンジオール、
芳香族ジアミンジチオール、芳香族テトラミンおよびそ
れらの誘導体から選ばれる化合物と、R‘で示す二価基
を形成するジカルボン酸およびその誘導体から選ばれる
化合物の反応により合成することができる。その際、使
用するジカルボン酸の中にホスホン酸を含有するジカル
ボン酸を使用することで、得られるポリアゾール中にホ
スホン酸基を導入することができる。
【0012】芳香族ジアミンジオール、芳香族ジアミン
ジチオール、芳香族テトラミンの具体例としては、2,
5−ジヒドロキシパラフェニレンジアミン、4,6−ジ
ヒドロキシメタフェニレンジアミン、2,5−ジアミノ
−1,4−ベンゼンジチオール、4,6−ジアミノ−
1,3−ベンゼンジチオール、2,5−ジアミノ−3,
6−ジメチル−1,4−ベンゼンジチオール、1,2,
4,6−テトラアミノベンゼン、3,3‘−ジヒドロキ
シベンジジン、3,3’−ジアミノ−4,4‘−ジフェ
ニルベンゼンジオール、3,3‘−ジジメルカプトベン
ジジン、3,3’−ジアミノ−4,4‘−ジフェニルベ
ンゼンジチオール、3,3‘−ジアミノベンジジン、ビ
ス(4−アミノ−3−ヒドロキシフェニル)エーテル、
ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)エーテ
ル、ビス(4−アミノ−3−メルカプトフェニル)エー
テル、ビス(3−アミノ−4−メルカプトフェニルフェ
ニル)エーテル、3,3’,4,4‘−テトラアミノジ
フェニルエーテル、ビス(4−アミノ−3−ヒドロキシ
フェニル)スルホン、ビス(3−アミノ−4−ヒドロキ
シフェニル)スルホン、ビス(4−アミノ−3−メルカ
プトフェニル)スルホン、ビス(3−アミノ−4−メル
カプトフェニルフェニル)スルホン、3,3’,4,4
‘−テトラアミノジフェニルスルホン、2,2−ビス
(4−アミノ−3−ヒドロキシフェニル)プロパン、
2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)
プロパン、2,2−ビス(4−アミノ−3−メルカプト
フェニル)プロパン、2,2−ビス(3−アミノ−4−
メルカプトフェニルフェニル)プロパン、2,2−ビス
(3,4−ジアミノフェニル)プロパン、2,2−ビス
(4−アミノ−3−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオ
ロプロパン、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキ
シフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス
(4−アミノ−3−メルカプトフェニル)ヘキサフルオ
ロプロパン、2,2−ビス(3−アミノ−4−メルカプ
トフェニルフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2
−ビス(3,4−ジアミノフェニル)ヘキサフルオロプ
ロパン、ビス(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキ
シ)ベンゼン、ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェ
ノキシ)ベンゼン、ビス(4−アミノ−3−メルカプト
フェノキシ)ベンゼン、ビス(3−アミノ−4−メルカ
プトフェノキシ)ベンゼン、ビス(3,4,−ジアミノ
フェノキシ)ベンゼン等が挙げられるがこれらに限定さ
れることはない。また、これらの化合物を同時に複数使
用することもできる。これらの芳香族ジアミンジオー
ル、芳香族ジアミンジチオールは、必要に応じて塩酸、
硫酸、リン酸などの酸との塩でもあってもよく、塩化す
ず(II)や亜リン酸化合物など公知の酸化防止剤を含ん
でいてもよい。
【0013】ホスホン酸含有ジカルボン酸の具体例とし
ては、例えば、2,5−ジカルボキシフェニルホスホン
酸、3,5−ジカルボキシフェニルホスホン酸、2,5
−ビスホスホノテレフタル酸、などのホスホン酸含有ジ
カルボン酸及びこれらの誘導体を挙げることができる
が、これらに限定されることはない。ホスホン酸含有ジ
カルボン酸はそれら単独だけでなく、ホスホン酸を含有
しないジカルボン酸とともに共重合の形で導入すること
ができる。ホスホン酸含有ジカルボン酸とともに使用で
きるジカルボン酸例としては、テレフタル酸、イソフタ
ル酸、ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジ
カルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ビフェ
ニルジカルボン酸、ターフェニルジカルボン酸、2,2
−ビス(4−カルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロ
パン等ポリエステル原料として報告されている一般的な
ジカルボン酸を使用することができ、ここで例示したも
のに限定されるものではない。ホスホン酸含有ジカルボ
ン酸とともにホスホン酸を含有しないジカルボン酸を使
用する場合、ホスホン酸の効果を明確にするために、ホ
スホン酸含有ジカルボン酸は全ジカルボン酸中の20モ
ル%以上であることが好ましいが、際だった効果を引き
出すために50モル%以上であることがさらに好まし
い。ホスホン酸基を含有するジカルボン酸の純度は特に
制限されるものではないが、97%以上が好ましく、9
8%以上がより好ましい。ホスホン酸基を含有するジカ
ルボン酸を原料として重合されたポリアゾールは、ホス
ホン酸基を含有しないジカルボン酸を用いた場合に比べ
て、重合度が低くなる傾向が見られるため、ホスホン酸
基を含有するジカルボン酸はできるだけ純度が高いもの
を用いることが好ましい。
【0014】上記一般式2で示すポリアゾール単位を導
入する経路は特には限定されないが、通常は式中Rで示
すアゾール環を形成できる三価の芳香族基単位を形成す
るオルト位にアミノ基を2個持つ芳香族カルボン酸、オ
ルト位の関係でアミノ基とヒドロキシル基を持つ芳香族
カルボン酸、オルト位の関係でアミノ基とメルカプト基
を持つ芳香族カルボン酸およびそれらの誘導体から選ば
れる化合物の重合により得ることができる。
【0015】これらのホスホン酸含有ポリアゾール化合
物を合成する手法は、特には限定されないが、J.F.Wolf
e, Encyclopedia of Polymer Science and Engineerin
g, 2nd Ed., Vol.11, P.601(1988)に記載されるような
ポリリン酸を溶媒とする脱水、環化重合により合成する
ことができる。また、ポリリン酸のかわりにメタンスル
ホン酸/五酸化リン混合溶媒系もちいた同様の機構によ
る重合を適用することもできる。他に、適当な有機溶媒
中や混合モノマー融体の反応でポリアミド構造などの前
駆体ポリマーとしておき、その後の適当な熱処理などに
よる環化反応で目的のポリアゾール構造に変換する方法
なども使用することができる。熱安定性の高いポリマー
を合成するには、一般によく使用されるポリリン酸を用
いた重合が好ましい。しかしながら、従来報告されてい
るような長時間を書けた重合では、ホスホン酸含有モノ
マーを含む系では、得られたポリマーの熱安定性が低下
してしまう恐れがある。このため、本発明では、重合時
間は個々のモノマーの組み合わせにより最適な時間があ
るので一概には規定できないが、重合時間を効果的に短
くすることが好ましい。このことにより、ホスホン酸基
量が多いポリマーも熱安定性の高い状態で得ることがで
きる。これらのホスホン酸基含有ポリアゾールの分子量
は特に限定されるものではないが、1,000から1,
000,000であることが好ましい。低すぎると、良
好な成形物を得ることが困難になる。また、繰り返し単
位が複数の場合主としてランダムおよび/または交互的
に結合していることで、高分子電解質膜として安定した
性能を示す特徴を持つ。
【0016】本発明のホスホン酸基含有ポリアゾール
は、重合溶液又は単離したポリマーから押し出し、紡
糸、圧延、キャストなど任意の方法で繊維やフィルムに
成形することができる。中でも適当な溶媒に溶解した溶
液から成形することが好ましい。溶解する溶媒として
は、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチル−2
−ピロリドン、ヘキサメチルホスホンアミドなど非プロ
トン極性溶媒や、ポリリン酸、メタンスルホン酸、硫
酸、トリフルオロ酢酸などの強酸から適切なものを選ぶ
ことができるがこれらに限定されるものではない。これ
らの溶媒は、可能な範囲で複数を混合して使用してもよ
い。また、溶解性を向上させる手段として、臭化リチウ
ム、塩化リチウム、塩化アルミニウムなどのルイス酸を
有機溶媒に添加したものを溶媒としてもよい。溶液中の
ポリマー濃度は0.1〜30重量%の範囲であることが
好ましい。低すぎると成形性が悪化し、高すぎると加工
性が悪化する。
【0017】溶液から成形体を得る方法は公知の方法を
用いることができる。例えば加熱、減圧乾燥、ポリマー
を溶解する溶媒と混和できるポリマー非溶媒への浸漬な
どによって、溶媒を除去しホスホン酸基含有ポリアゾー
ル化合物の成形体を得ることができる。溶媒が有機溶媒
の場合は、加熱又は減圧乾燥で溶媒を留去させることが
好ましい。溶媒が強酸の場合には、水、メタノール、ア
セトンなどに浸漬することが好ましい。この際、必要に
応じて他のポリマーと複合された形で繊維やフィルムに
成型することもできる。溶解性挙動が類似するポリベン
ザゾール系ポリマーと組み合わせると、良好な成形をす
るのに都合がよい。
【0018】本発明のホスホン酸基含有ポリアゾール化
合物を主成分とする膜を成形する好ましい方法は、溶液
からのキャストである。キャストした溶液から前記のよ
うに溶媒を除去してホスホン酸基含有ポリアゾールの膜
を得ることができる。溶媒の除去は、乾燥することが膜
の均一性からは好ましい。また、ポリマーや溶媒の分解
や変質をさけるため、減圧下でできるだけ低い温度で乾
燥することが好ましい。キャストする基板には、ガラス
板やテフロン(登録商標)板などを用いることができ
る。溶液の粘度が高い場合には、基板や溶液を加熱して
高温でキャストすると溶液の粘度が低下して容易にキャ
ストすることができる。キャストする際の溶液の厚みは
特に制限されないが、10〜1,000μmであること
が好ましい。薄すぎると膜としての形態を保てなくな
り、厚すぎると不均一な膜ができやすくなる。より好ま
しくは100〜500μmである。溶液のキャスト厚を
制御する方法は公知の方法を用いることができる。例え
ば、アプリケーター、ドクターブレードなどを用いて一
定の厚みにしたり、ガラスシャーレなどを用いてキャス
ト面積を一定にして溶液の量や濃度で厚みを制御するこ
とができる。キャストした溶液は、溶媒の除去速度を調
整することでより均一な膜を得ることができる。例え
ば、加熱する場合には最初の段階では低温にして蒸発速
度を下げたりすることができる。また、水などの非溶媒
に浸漬する場合には、溶液を空気中や不活性ガス中に適
当な時間放置しておくなどしてポリマーの凝固速度を調
整することができる。本発明の膜は目的に応じて任意の
膜厚にすることができるが、イオン伝導性の面からはで
きるだけ薄いことが好ましい。具体的には200μm以
下であることが好ましく、50μm以下であることがさ
らに好ましく、20μm以下であることが最も好まし
い。
【0019】本発明のホスホン酸基含有ポリアゾールポ
リマーは、フィルム、膜状にして燃料電池などのイオン
交換膜として使用するのに適している。さらに、本発明
のポリマー構造を主成分にすることにより、本発明のイ
オン交換膜と電極との接合体を作製するときのバインダ
ー樹脂として利用することもできる。本発明のホスホン
酸含有ポリオキサゾールポリマーは、測定の具体的方法
は後に述べるが80℃、95%RHにおける10,00
0Hzの交流インピーダンスを測定して求められる導電
率が0.001[S/cm]以上でありTGA測定にお
ける3%重量減少温度が400℃以上であることを特徴
としているが、同条件で測定した導電率が0.01[S
/cm]以上でありTGA測定における3%重量減少温
度が400℃以上でありさらに主鎖構造が主にポリオキ
サゾール骨格からなる場合が特に好ましい。仮に、これ
まで述べてきたようなホスホン酸基を含むポリアゾール
構造に含まれるものであり、TGA測定における3%重
量減少温度が400℃以上であっても、80℃、95%
RHにおける10,000Hzの交流インピーダンスを
測定して求められる導電率が0.001[S/cm]未
満しか示さないものでは、高温時における保水性が本発
明のポリマーに比べて劣ることもあり、本発明の目的を
達成することはできない。また、仮に、これまで述べて
きたようなホスホン酸基を含むポリアゾール構造に含ま
れるものであり、80℃、95%RHにおける10,0
00Hzの交流インピーダンスを測定して求められる導
電率が0.001[S/cm]以上であっても、TGA
測定における3%重量減少温度が400℃未満しか示さ
ないものでは、高温時における耐久安定性が本発明のポ
リマーに比べて劣ることもあり、本発明の目的を達成す
ることはできない。
【0020】本発明のホスホン酸含有ポリアゾールポリ
マーは、測定の具体的方法は後に述べるがTGA測定に
おける200℃昇温時点の試料重量を基準にしたときの
3%重量減少温度が400℃以上であることを特徴とし
ているが、好ましくは同条件で測定した3%重量減少温
度が420℃以上である。さらに好ましくは同条件で測
定した3%重量減少温度が450℃以上である。仮に、
これまで述べてきたようなホスホン酸基を含むポリアゾ
ール構造に含まれるものであっても、TGA測定におけ
る200℃昇温時点の試料重量を基準にしたときの3%
重量減少温度が400℃未満しか示さないものでは、高
温時における耐久安定性が本発明のポリマーに比べて劣
るので本発明の目的を達成することはできない。
【0021】また、本発明による膜は、耐溶剤性、機械
的特性に優れている。例えば、耐溶剤性では酸性水溶液
中での膨潤も少なく、機械的特性では膜厚の薄い状態で
も膜の取り扱いで破断などの心配がないものである。
【0022】
【実施例】以下本発明を実施例を用いて具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例に限定されることはな
い。なお、各種測定は次のように行った。 TGA測定:TGA測定は島津製作所製TGA−50を
用い、試料約5mgについてアルゴン雰囲気下で測定し
た。昇温は、10℃/分で100℃にした後30分10
0℃で保持して試料中の水分を除去した後、10℃/分
で600℃まで測定した。200℃昇温時点の試料重量
を基準にその3%が減量した時点の温度を3%重量減少
温度と定義する。 イオン伝導性測定:自作測定用プローブ(テフロン製)
上で短冊状膜試料の表面に白金線(直径:0.2mm)
を押しあて、80℃95%RHの恒温・恒湿オーブン
((株)ナガノ科学機械製作所、LH−20−01)中
に試料を保持し、白金線間の10KHzにおける交流イ
ンピーダンスをSOLARTRON社1250FREQ
UENCY RESPONSE ANALYSERによ
り測定した。極間距離を変化させて測定し、極間距離と
抵抗測定値をプロットした勾配から以下の式により膜と
白金線間の接触抵抗をキャンセルした導電率を算出し
た。 導電率[S/cm]=1/膜幅[cm]x膜厚[cm]x抵抗極
間勾配[Ω/cm] ポリマー対数粘度:溶媒として硫酸もしくはメタンスル
ホン酸を用いてオストワルド粘度計を用いて測定した。
硫酸を用いる場合は、0.5g/dlの硫酸溶液につい
て30℃で測定した。また、メタンスルホン酸を用いる
場合は、0.05g/dlのメタンスルホン酸溶液につ
いて25℃で測定した。IR測定:分光器にBiorad社FTS-
40、顕微鏡にBiorad社UMA-300Aを用いた顕微透過法によ
り測定した。
【0023】実施例1 3,3’,4,4‘−テトラアミノジフェニルスルホン
(略号:TAS)1.830g(6.575x10-3mole)、3,5−ジ
カルボキシフェニルホスホン酸(略号:DCP、純度9
9%)1.618g(6.575x10-3mole)、ポリリン酸(五酸化リ
ン含量75%)20.48g、五酸化リン16.41gを重合容器に
量り取る。窒素を流し、オイルバス上ゆっくり撹拌しな
がら100℃まで昇温 する。100℃で1時間保持し
た後、155℃に昇温 して1時間、210℃に昇温 し
て5時間重合した。重合終了後放冷し、水を加えて重合
物を取り出し、家庭用ミキサーを用いてpH試験紙中性に
なるまで水洗を繰り返した。得られたポリマーは80℃
で終夜減圧乾燥した。得られた硫酸溶液によるポリマー
の対数粘度は、1.20を示した。ポリマー300mgとメ
タンスルホン酸2.5mlを室温で撹拌し、均一溶液とし
た。ホットプレート上でガラス板上に約180mm厚に流延
し、1時間室温で放置した後、水中にガラス板を浸し
た。水を時々交換し、数日水浸漬を続ける。フィルムを
取り出し、周りを固定して収縮を押さえながら風乾し
た。最後に減圧乾燥機により80℃終夜乾燥して、イオン
伝導性測定用フィルムを作製した。得られたフィルムの
TGA測定を行うと3%重量減少温度は490℃であっ
た。80℃95%RHにおけるイオン伝導度は0.03
0S/cmを示し、測定イオン伝導度は長期にわたり安
定した性能を保った。
【0024】実施例2 実施例1において、ジカルボン酸成分として70:30
(モル比)の混合比でDCPとテレフタル酸(略号:T
PA)に変えて、合計で(6.575x10-3mole)になるように
して仕込む以外は、実施例1と同様にして重合および各
種測定を行った。ポリマーの対数粘度は0.92、3%
重量減少温度は452℃、イオン伝導度は0.011S
/cmを示し、測定イオン伝導度は長期にわたり安定し
た性能を保った。ポリマーのIRスペクトルを図1に示
す。
【0025】比較例1 3,3’ジヒドロキシベンジジン(略号:HAB)1.86
0g(8.602x10-3mole)、2,5−ジカルボキシベンゼンス
ルホン酸モノナトリウム(略号:STA)2.307g(8.602
x10-3mole)、ポリリン酸(五酸化リン含量75%)24.9
8g、五酸化リン20.02gを重合容器に量り取る。窒素を流
し、オイルバス上ゆっくり撹拌しながら100℃まで昇
温 する。100℃で1時間保持した後、155℃に昇
温 して1時間、210℃に昇温 して4時間重合した。
重合終了後放冷し、水を加えて重合物を取り出し、家庭
用ミキサーを用いてpH試験紙中性になるまで水洗を繰り
返した。得られたポリマーは80℃で終夜減圧乾燥し
た。得られたポリマーの硫酸溶液による対数粘度は、
0.87を示した。合成したポリマー試料0.12gにメタ
ンスルホン酸1.8gを加えて、数時間マグネティックスタ
ーラーで撹拌して溶解し、ポリ{(ベンゾ[1,2−
d:5,4−d’]ビスオキサゾール−2,6−ジイ
ル)−1,4−フェニレン}の1wt%メタンスルホン
酸ドープ(固有粘度=24dl/g)を3g加えて、さらに数時間
撹拌し均一溶液とした。ホットプレート上でガラス板上
に約180mm厚に流延し、1時間室温で放置した後、水
中にガラス板を浸した。水を時々交換し、数日水浸漬を
続ける。フィルムを取り出し、周りを固定して収縮を押
さえながら風乾した。最後に減圧乾燥機により80℃終夜
乾燥することでイオン伝導性測定用フィルムを作製し
た。80℃95%RHにおけるイオン伝導度は0.11
2S/cmを示し、測定イオン伝導度は徐々に低下し
た。得られたフィルムのTGA測定を行うと3%重量減
少温度は393℃であった。
【0026】実施例3 200mlガラス製セパラブルフラスコに、4,6−ジ
アミノレゾルシノール二塩酸塩(略号:DAR)9.0
63g(4.254×10-2mol)、DCP(純度9
9%)10.469g(4.254×10-2mol)、
ポリリン酸(五酸化リン含量84%)43.86g、五
酸化リン14.49gを秤量し、窒素気流下70℃で
0.5時間、120℃で5時間、140℃で19時間、
165℃で19時間、190℃で5時間の順に攪拌しな
がらオイルバス中で加熱すると、黄色半透明の堅いゴム
状のドープが得られた。ドープはイオン交換水中に投入
し、pH試験紙中性になるまで水洗を繰り返した。得ら
れたポリマーは80℃で終夜減圧乾燥した。得られたポ
リマーのメタンスルホン酸溶液による対数粘度は、1.
43dl/gを示した。ポリマーのIRスペクトルを図
2に示す。ポリマー0.08gをメタンスルホン酸2.
0mlに室温で溶解した。そこに、ポリ{(ベンゾ
[1,2−d:5,4−d’]ビスオキサゾール−2,
6−ジイル)−1,4−フェニレン}の1wt%ポリリ
ン酸溶液(五酸化リン含量84%)2.00gを加えて
さらに室温で攪拌して均一溶液を得た。溶液はガラス板
上に約180μmの厚みに流延し10分間そのまま放置
した後、水中にガラス板を浸した。水を時々交換し、数
日水浸漬を続けた。フィルムを取り出し、周りを固定し
て収縮を押さえながら風乾した。最後に減圧乾燥機によ
り80℃終夜乾燥して、イオン伝導性測定用フィルムを作
製した。得られたフィルムのTGA測定を行うと3%重
量減少温度は443℃であった。80℃95%RHにお
けるイオン伝導度は0.053S/cmを示し、測定イ
オン伝導度は長期にわたり安定した性能を保った。
【0027】比較例2 200mlガラス製セパラブルフラスコに、4,6−ジ
アミノレゾルシノール二塩酸塩(略号:DAR)2.4
12g(1.132×10-2mol)、3,5−ジカル
ボキシベンゼンスルホン酸モノナトリウム(略号:SI
A)3.036g(1.132×10-2mol)、ポリ
リン酸(五酸化リン含量84%)43.86g、五酸化
リン14.97gを秤量し、窒素気流下70℃で30
分、120℃で3時間、140℃で18時間、190℃
で9時間の順に攪拌しながらオイルバス中で加熱する
と、黄色半透明のやや曳糸性のあるややゴム状のドープ
が得られた。ドープはイオン交換水中に投入し、pH試
験紙中性になるまで水洗を繰り返した。得られたポリマ
ーは80℃で終夜減圧乾燥した。得られたポリマーのメ
タンスルホン酸溶液による対数粘度は、0.45dl/
gを示した。ポリマー0.08gをメタンスルホン酸
2.0mlに室温で溶解した。そこに、対数粘度が20
dl/gのポリ{(ベンゾ[1,2−d:5,4−
d’]ビスオキサゾール−2,6−ジイル)−1,4−
フェニレン}の1wt%ポリリン酸溶液(五酸化リン含
量84%)2.00gを加えてさらに室温で攪拌して均
一溶液を得た。溶液はガラス板上に約180μmの厚み
に流延し10分間そのまま放置した後、水中にガラス板
を浸した。水を時々交換し、数日水浸漬を続けた。フィ
ルムを取り出し、周りを固定して収縮を押さえながら風
乾した。最後に減圧乾燥機により80℃終夜乾燥してフィ
ルムを作製した。得られたフィルムのTGA測定を行う
と3%重量減少温度は377℃であった。80℃95%
RHにおけるイオン伝導度は0.180S/cmを示
し、測定イオン伝導度は徐々に低下した。
【0028】
【発明の効果】本発明のポリマーにより、耐熱性、イオ
ン伝導性に優れ、燃料電池などの高分子電解質としても
際立った耐久性を示す材料を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】TAS、DCP及びTPAから合成されたホス
ホン酸含有ポリベンズイミダゾールのIRスペクトル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // C08L 79:04 C08L 79:04 (72)発明者 高瀬 敏 滋賀県大津市堅田二丁目1番1号 東洋紡 績株式会社総合研究所内 (72)発明者 濱本 史朗 滋賀県大津市堅田二丁目1番1号 東洋紡 績株式会社総合研究所内 (72)発明者 舘盛 寛 滋賀県大津市堅田二丁目1番1号 東洋紡 績株式会社総合研究所内 Fターム(参考) 4F071 AA60 AA81 AA83 AF02 AF13 AF37 AF37Y AF45 AF45Y BA02 BB02 BC01 4J043 PA02 PA08 PA10 QB34 QB35 QB41 RA42 RA52 RA57 SA06 SA08 SA71 SA83 SB01 SB03 TA12 TA79 TB01 TB03 UA121 UA122 UA131 UA132 UA142 UA262 UB021 UB061 UB062 UB121 UB122 UB301 UB302 VA011 VA012 VA041 VA042 VA061 VA062 VA081 VA082 XA03 XA19 ZA12 ZA15 ZA17 ZA31 ZA44 ZB14 5G301 CA30 CD01 5H026 AA06 CX05 EE18 HH00 HH05 HH06 HH08

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 80℃、95%RHにおける10,00
    0Hzの交流インピーダンスを測定して求められる導電
    率が0.001[S/cm]以上であり、TGA測定に
    おける200℃昇温時点での試料重量を基準にしたとき
    の3%重量減少温度が400℃以上であり、平均分子量
    が1,000から1,000,000の間にあり、繰り
    返し単位が複数の場合主としてランダムおよび/または
    交互的に結合していることを特徴とするホスホン酸含有
    ポリアゾール化合物。
  2. 【請求項2】 80℃、95%RHにおける10,00
    0Hzの交流インピーダンスを測定して求められる導電
    率が0.01[S/cm]以上であり、主鎖構造が主に
    ポリオキサゾール骨格からなることを特徴とする請求項
    1に記載の化合物。
  3. 【請求項3】 請求項1乃至2のいずれかに記載の化合
    物を主成分とすることを特徴とする成形物。
  4. 【請求項4】 請求項1乃至3のいずれかに記載の化合
    物を主成分とすることを特徴とする膜。
JP2000348324A 2000-11-15 2000-11-15 イオン伝導性ホスホン酸含有ポリアゾール Pending JP2002146015A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000348324A JP2002146015A (ja) 2000-11-15 2000-11-15 イオン伝導性ホスホン酸含有ポリアゾール

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000348324A JP2002146015A (ja) 2000-11-15 2000-11-15 イオン伝導性ホスホン酸含有ポリアゾール

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002146015A true JP2002146015A (ja) 2002-05-22

Family

ID=18821930

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000348324A Pending JP2002146015A (ja) 2000-11-15 2000-11-15 イオン伝導性ホスホン酸含有ポリアゾール

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002146015A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004037508A1 (ja) * 2002-10-24 2004-05-06 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha 耐熱性フィルムおよび複合イオン交換膜
US7101637B2 (en) * 2001-09-28 2006-09-05 Gkss-Forschungszentrum Geesthacht Proton conductive membrane for electromechanical applications

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7101637B2 (en) * 2001-09-28 2006-09-05 Gkss-Forschungszentrum Geesthacht Proton conductive membrane for electromechanical applications
WO2004037508A1 (ja) * 2002-10-24 2004-05-06 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha 耐熱性フィルムおよび複合イオン交換膜

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101129162B1 (ko) 양성자 전도성 고분자막 및 그의 제조 방법, 및 이를이용한 연료 전지
EP1354907A1 (en) Polybenzazole compound having sulfo group and/or phosphono group, resin composition containing the same, molded resin, solid polymer electrolyte film, solid electrolyte film/electrode catalyst layer composite, and process for producing the composite
JP6447520B2 (ja) レドックス電池用イオン交換膜、複合体、及びレドックス電池
WO2004033534A1 (ja) スルホン酸基を含有するポリアリーレンエーテル系化合物、それを含有する組成物、およびそれらの製造方法
JP4549007B2 (ja) 酸性基含有ポリベンズイミダゾール系化合物と酸性化合物を含有する組成物、イオン伝導膜、接着剤、複合体、燃料電池
JP2002146014A (ja) イオン伝導性ホスホン酸含有ポリアゾール
JP4096227B2 (ja) 酸性基含有ポリベンズイミダゾール系化合物と酸性基含有ポリマーを含む組成物、イオン伝導膜、接着剤、複合体、燃料電池
JP2004131532A (ja) ホスホン酸基を有するポリベンズイミダゾール系化合物、およびそれを含む樹脂組成物、およびその製造方法
JP2004131533A (ja) スルホン酸基および/またはホスホン酸基を有するポリベンズイミダゾール系化合物、およびそれを含む樹脂組成物、およびその製造方法
JP4228040B2 (ja) スルホン酸基および/またはホスホン酸基を有するポリベンザゾール系化合物、それを含む樹脂組成物、樹脂成形物、固体高分子電解質膜、固体電解質膜/電極触媒層複合体およびその複合体の製造方法
JP4061522B2 (ja) ポリアゾールポリマー系組成物及びそれを主成分とする膜、並びにポリアゾール系ポリマー組成物の成形方法
JP4200224B2 (ja) イオン伝導性スルホン酸含有ポリアゾール
JP2002146016A (ja) イオン伝導性ホスホン酸含有ポリアゾール
JP2003055457A (ja) スルホン酸含有イオン伝導性ポリベンズイミダゾール
JP2002146013A (ja) イオン伝導性ホスホン酸含有ポリアゾール
JP3690589B2 (ja) スルホン酸含有ポリイミダゾール化合物およびその成型物
JP3968625B2 (ja) ホスホン酸含有ポリアゾール
JP2002146015A (ja) イオン伝導性ホスホン酸含有ポリアゾール
JP2007070563A (ja) スルホン酸基を有する架橋陽イオン交換樹脂膜の製造方法及び該膜よりなる燃料電池用電解質膜
JP2002201269A (ja) 新規なイオン性基含有ポリベンズアゾール及びそれを主成分とする膜
JP2002146022A (ja) スルホン酸またはホスホン酸含有イオン伝導性ポリイミダゾール
JP4470099B2 (ja) 酸性基含有ポリベンズイミダゾール系化合物およびその組成物
JP2004131530A (ja) イオン性基を有するポリベンズイミダゾール系化合物を主成分とする溶液、成形物およびその成形物の製造法
JP2002212291A (ja) スルホン酸またはホスホン酸含有ポリイミダゾール化合物およびその成型物
JP2002146017A (ja) イオン伝導性ホスホン酸含有ポリアゾール