JP2002134457A - ウェハー洗浄槽及びウェハー保持機構 - Google Patents
ウェハー洗浄槽及びウェハー保持機構Info
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- JP2002134457A JP2002134457A JP2000327729A JP2000327729A JP2002134457A JP 2002134457 A JP2002134457 A JP 2002134457A JP 2000327729 A JP2000327729 A JP 2000327729A JP 2000327729 A JP2000327729 A JP 2000327729A JP 2002134457 A JP2002134457 A JP 2002134457A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】簡便な構造で異口径ウェハーの口径差を吸収で
き、しかもウェハーを安定した３点支持により保持する
ことができ、且つ低コストに製作可能でメンテナンス性
にも優れたウェハー洗浄槽及びウェハー保持機構を提供
する。 【解決手段】所定間隔を置いて相対向して配置された一
対の共通ウェハー保持具と、該一対の共通ウェハー保持
具の中間位置で且つ該共通ウェハー保持具よりも下方位
置に設置された１本の小口径ウェハー保持具と、該一対
の共通ウェハー保持具のいずれか一方の側方位置で且つ
該共通ウェハー保持具よりも上方位置に設置された１本
の大口径ウェハー保持具とを有し、小口径ウェハーを保
持する場合は、一対の共通ウェハー保持具と小口径ウェ
ハー保持具との３点支持により保持し、大口径ウェハー
を保持する場合は、一対の共通ウェハー保持具と大口径
ウェハー保持具との３点支持により保持するようにし
た。
き、しかもウェハーを安定した３点支持により保持する
ことができ、且つ低コストに製作可能でメンテナンス性
にも優れたウェハー洗浄槽及びウェハー保持機構を提供
する。 【解決手段】所定間隔を置いて相対向して配置された一
対の共通ウェハー保持具と、該一対の共通ウェハー保持
具の中間位置で且つ該共通ウェハー保持具よりも下方位
置に設置された１本の小口径ウェハー保持具と、該一対
の共通ウェハー保持具のいずれか一方の側方位置で且つ
該共通ウェハー保持具よりも上方位置に設置された１本
の大口径ウェハー保持具とを有し、小口径ウェハーを保
持する場合は、一対の共通ウェハー保持具と小口径ウェ
ハー保持具との３点支持により保持し、大口径ウェハー
を保持する場合は、一対の共通ウェハー保持具と大口径
ウェハー保持具との３点支持により保持するようにし
た。
Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は、半導体単結晶より
なるウェハー（以下、単にウェハーと称する。）等をウ
ェハー保持具で略垂直に直接支持した状態で洗浄液中に
浸漬して洗浄するキャリアレス洗浄のウェハー洗浄槽及
びウェハー保持機構に関する。
なるウェハー（以下、単にウェハーと称する。）等をウ
ェハー保持具で略垂直に直接支持した状態で洗浄液中に
浸漬して洗浄するキャリアレス洗浄のウェハー洗浄槽及
びウェハー保持機構に関する。
【０００２】
【関連技術】半導体素子製造においては、ウェハーの表
面に付着した不純物は半導体素子の性能に悪影響を及ぼ
すため、ウェハーの製造工程の中には洗浄工程が含まれ
ており、この洗浄工程ではウェハーが種々の方法によっ
て洗浄される。
面に付着した不純物は半導体素子の性能に悪影響を及ぼ
すため、ウェハーの製造工程の中には洗浄工程が含まれ
ており、この洗浄工程ではウェハーが種々の方法によっ
て洗浄される。
【０００３】ウェハーの洗浄方法には大別して物理的洗
浄方法と化学的洗浄方法とがある。
浄方法と化学的洗浄方法とがある。
【０００４】上記物理的洗浄方法としては、洗浄ブラシ
等を用いてウェハー表面に付着した不純物や異物を直接
除去する方法、噴射ノズルから加圧流体をウェハーの一
部又は全体に向けて噴射し、これによって不純物を除去
する方法、ウェハーを液中に浸漬してこれに超音波を当
てて該ウェハーに付着した不純物を除去する方法（超音
波洗浄法）等がある。
等を用いてウェハー表面に付着した不純物や異物を直接
除去する方法、噴射ノズルから加圧流体をウェハーの一
部又は全体に向けて噴射し、これによって不純物を除去
する方法、ウェハーを液中に浸漬してこれに超音波を当
てて該ウェハーに付着した不純物を除去する方法（超音
波洗浄法）等がある。
【０００５】また、上記化学的洗浄方法としては、種々
の薬剤、酵素等によってウェハー表面に付着した不純物
や異物を化学的に分解除去する方法等がある。なお、物
理的洗浄方法と化学的洗浄方法が併用されることもあ
る。
の薬剤、酵素等によってウェハー表面に付着した不純物
や異物を化学的に分解除去する方法等がある。なお、物
理的洗浄方法と化学的洗浄方法が併用されることもあ
る。
【０００６】従来より、複数枚のウェハーを一度にキャ
リアカセットに収容して洗浄する方式があるが、しか
し、大口径ウェハーでは多大な労力を要すること、ま
た、キャリアカセットに収容して運搬するとウェハーと
キャリアカセットとの接触によりウェハー汚染が発生す
る等の問題点がある。
リアカセットに収容して洗浄する方式があるが、しか
し、大口径ウェハーでは多大な労力を要すること、ま
た、キャリアカセットに収容して運搬するとウェハーと
キャリアカセットとの接触によりウェハー汚染が発生す
る等の問題点がある。
【０００７】そのため、近年ではウェハーを洗浄槽の洗
浄液中に略垂直に浸漬して洗浄するようにしたキャリア
レス（カセットレス）洗浄装置が多く採用されている。
なお、キャリアレス洗浄装置には、ウェハーを１枚ずつ
洗浄する毎葉式のものとウェハーを一度に複数枚ずつ洗
浄するバッチ式のものとがある。
浄液中に略垂直に浸漬して洗浄するようにしたキャリア
レス（カセットレス）洗浄装置が多く採用されている。
なお、キャリアレス洗浄装置には、ウェハーを１枚ずつ
洗浄する毎葉式のものとウェハーを一度に複数枚ずつ洗
浄するバッチ式のものとがある。
【０００８】上記キャリアレス洗浄装置では、ウェハー
洗浄槽の洗浄液中においてウェハーを保持するためのウ
ェハー保持具（長尺のものは保持棒と言われ、短尺のも
のは保持コマと言われる。）が設置されており、このウ
ェハー保持具でウェハーを略垂直に直接支持した状態で
洗浄液中に浸漬している。
洗浄槽の洗浄液中においてウェハーを保持するためのウ
ェハー保持具（長尺のものは保持棒と言われ、短尺のも
のは保持コマと言われる。）が設置されており、このウ
ェハー保持具でウェハーを略垂直に直接支持した状態で
洗浄液中に浸漬している。
【０００９】近年、半導体素子の製造分野においては、
半導体素子の高集積化の傾向に伴ってウェハーが大口径
化している一方、従来からの小口径ウェハーも製造され
ているため、洗浄工程では異なる口径のウェハーを同一
の洗浄槽で洗浄処理する必要がある。
半導体素子の高集積化の傾向に伴ってウェハーが大口径
化している一方、従来からの小口径ウェハーも製造され
ているため、洗浄工程では異なる口径のウェハーを同一
の洗浄槽で洗浄処理する必要がある。
【００１０】そのため、キャリアレス洗浄装置で異口径
ウェハーのバッチ毎の洗浄を可能としたウェハー洗浄槽
も開発されており、例えば、洗浄槽本体内に一対のウェ
ハー固定支持部材と、１本のウェハー可動支持部材とを
設け、該ウェハー可動支持部材を上下動せしめることに
より、異口径ウェハーの口径差を吸収してウェーハを保
持することとしたウェハー洗浄槽などが知られている
（特許第２８８８４０９号公報参照）。
ウェハーのバッチ毎の洗浄を可能としたウェハー洗浄槽
も開発されており、例えば、洗浄槽本体内に一対のウェ
ハー固定支持部材と、１本のウェハー可動支持部材とを
設け、該ウェハー可動支持部材を上下動せしめることに
より、異口径ウェハーの口径差を吸収してウェーハを保
持することとしたウェハー洗浄槽などが知られている
（特許第２８８８４０９号公報参照）。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】上記したウェハー洗浄
槽では、１枚ずつ洗浄する毎葉式のものと比して複数枚
ずつバッチ毎の洗浄ができることから生産性が向上して
おり、また、異口径ウェハーの洗浄を容易に行うことが
可能となるなどの利点を有している。
槽では、１枚ずつ洗浄する毎葉式のものと比して複数枚
ずつバッチ毎の洗浄ができることから生産性が向上して
おり、また、異口径ウェハーの洗浄を容易に行うことが
可能となるなどの利点を有している。
【００１２】しかしながら、上記従来のウェハー洗浄槽
では、ウェハー可動支持部材を上下動せしめることによ
って、異口径ウェハーの口径差を吸収させているため
に、洗浄槽の構造が比較的複雑となってしまうこと、
従って、洗浄槽製作のコスト面で不利となること、ま
た、長期操業では可動機構等のメンテナンスが必要と
なること、などの欠点がある。
では、ウェハー可動支持部材を上下動せしめることによ
って、異口径ウェハーの口径差を吸収させているため
に、洗浄槽の構造が比較的複雑となってしまうこと、
従って、洗浄槽製作のコスト面で不利となること、ま
た、長期操業では可動機構等のメンテナンスが必要と
なること、などの欠点がある。
【００１３】そこで本発明は、簡便な構造で異口径ウェ
ハーの口径差を吸収でき、しかもウェハーを安定した３
点支持により保持することができ、且つ低コストに製作
可能でメンテナンス性にも優れたウェハー洗浄槽及びそ
のウェハー保持機構を提供することを目的とする。
ハーの口径差を吸収でき、しかもウェハーを安定した３
点支持により保持することができ、且つ低コストに製作
可能でメンテナンス性にも優れたウェハー洗浄槽及びそ
のウェハー保持機構を提供することを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明のウェハー洗浄槽は、ウェハー洗浄槽本体
と、ウェハー洗浄槽本体内に所定間隔を置いて相対向し
て配置された一対の共通ウェハー保持具と、該一対の共
通ウェハー保持具の中間位置で且つ該共通ウェハー保持
具よりも下方位置に設置された１本の小口径ウェハー保
持具と、該一対の共通ウェハー保持具のいずれか一方の
側方位置で且つ該共通ウェハー保持具よりも上方位置に
設置された１本の大口径ウェハー保持具とからなり、小
口径ウェハーを保持する場合は、一対の共通ウェハー保
持具と小口径ウェハー保持具との３点支持により保持
し、大口径ウェハーを保持する場合は、一対の共通ウェ
ハー保持具と大口径ウェハー保持具との３点支持により
保持するようにしたことを特徴とする。
に、本発明のウェハー洗浄槽は、ウェハー洗浄槽本体
と、ウェハー洗浄槽本体内に所定間隔を置いて相対向し
て配置された一対の共通ウェハー保持具と、該一対の共
通ウェハー保持具の中間位置で且つ該共通ウェハー保持
具よりも下方位置に設置された１本の小口径ウェハー保
持具と、該一対の共通ウェハー保持具のいずれか一方の
側方位置で且つ該共通ウェハー保持具よりも上方位置に
設置された１本の大口径ウェハー保持具とからなり、小
口径ウェハーを保持する場合は、一対の共通ウェハー保
持具と小口径ウェハー保持具との３点支持により保持
し、大口径ウェハーを保持する場合は、一対の共通ウェ
ハー保持具と大口径ウェハー保持具との３点支持により
保持するようにしたことを特徴とする。
【００１５】すなわち、ウェハー保持具を所定位置に予
め４本設けておくことにより、例えば６”φの小口径ウ
ェハーならば、一対の共通ウェハー保持具と小口径ウェ
ハー保持具との３点で支持し、或いは、例えば８”φの
大口径ウェハーならば、一対の共通ウェハー保持具と大
口径ウェハー保持具との３点で支持するようにしたもの
である。
め４本設けておくことにより、例えば６”φの小口径ウ
ェハーならば、一対の共通ウェハー保持具と小口径ウェ
ハー保持具との３点で支持し、或いは、例えば８”φの
大口径ウェハーならば、一対の共通ウェハー保持具と大
口径ウェハー保持具との３点で支持するようにしたもの
である。
【００１６】上記一対の共通ウェハー保持具、一本の小
口径ウェハー保持具及び一本の大口径ウェハー保持具の
夫々に、１以上のウェハー保持溝が夫々対応して刻設さ
れていることが好ましい。
口径ウェハー保持具及び一本の大口径ウェハー保持具の
夫々に、１以上のウェハー保持溝が夫々対応して刻設さ
れていることが好ましい。
【００１７】このウェハー保持溝により、洗浄槽内で複
数枚のウェハーを所定間隔で保持しておくことができ
る。
数枚のウェハーを所定間隔で保持しておくことができ
る。
【００１８】また、本発明のウェハー保持機構は、所定
間隔を置いて相対向して配置された一対の共通ウェハー
保持具と、該一対の共通ウェハー保持具の中間位置で且
つ該共通ウェハー保持具よりも下方位置に設置された１
本の小口径ウェハー保持具と、該一対の共通ウェハー保
持具のいずれか一方の側方位置で且つ該共通ウェハー保
持具よりも上方位置に設置された１本の大口径ウェハー
保持具とを有し、小口径ウェハーを保持する場合は、一
対の共通ウェハー保持具と小口径ウェハー保持具との３
点支持により保持し、大口径ウェハーを保持する場合
は、一対の共通ウェハー保持具と大口径ウェハー保持具
との３点支持により保持するようにしたことを特徴とす
る。
間隔を置いて相対向して配置された一対の共通ウェハー
保持具と、該一対の共通ウェハー保持具の中間位置で且
つ該共通ウェハー保持具よりも下方位置に設置された１
本の小口径ウェハー保持具と、該一対の共通ウェハー保
持具のいずれか一方の側方位置で且つ該共通ウェハー保
持具よりも上方位置に設置された１本の大口径ウェハー
保持具とを有し、小口径ウェハーを保持する場合は、一
対の共通ウェハー保持具と小口径ウェハー保持具との３
点支持により保持し、大口径ウェハーを保持する場合
は、一対の共通ウェハー保持具と大口径ウェハー保持具
との３点支持により保持するようにしたことを特徴とす
る。
【００１９】本発明のウェハー保持機構よれば、ウェハ
ー洗浄槽以外の処理装置、例えば、ウェハー移し替え装
置などの各種装置においても、一つの装置で異口径ウェ
ハーを略垂直に３点支持して保持することができるよう
になる。
ー洗浄槽以外の処理装置、例えば、ウェハー移し替え装
置などの各種装置においても、一つの装置で異口径ウェ
ハーを略垂直に３点支持して保持することができるよう
になる。
【００２０】上記ウェハー保持機構においても、複数枚
のウェハーを所定間隔で保持しておくことができるよう
に、一対の共通ウェハー保持具、一本の小口径ウェハー
保持具及び一本の大口径ウェハー保持具の夫々に、１以
上のウェハー保持溝が夫々対応して刻設されていること
が好ましい。
のウェハーを所定間隔で保持しておくことができるよう
に、一対の共通ウェハー保持具、一本の小口径ウェハー
保持具及び一本の大口径ウェハー保持具の夫々に、１以
上のウェハー保持溝が夫々対応して刻設されていること
が好ましい。
【００２１】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて説明する。なお、これらの実施の形態は
例示的に示されるもので、本発明の技術思想から逸脱し
ない限り種々の変形が可能なことは言うまでもない。
図面に基づいて説明する。なお、これらの実施の形態は
例示的に示されるもので、本発明の技術思想から逸脱し
ない限り種々の変形が可能なことは言うまでもない。
【００２２】図１は本発明のウェハー洗浄槽の一実施例
を示す概略斜視図である。
を示す概略斜視図である。
【００２３】図１において、１は本発明に係るウェハー
洗浄槽であり、洗浄液を収容するウェハー洗浄槽本体２
を有している。該ウェハー洗浄槽本体２の内側面には、
一対の保持具固定用ハンガー４ａ、４ｂが相対向して吊
設され、この一対の保持具固定用ハンガー４ａ、４ｂの
間に、一対の共通ウェハー保持具６ａ、６ｂ、小口径ウ
ェハー保持具８及び大口径ウェハー保持具１０が夫々架
設される。
洗浄槽であり、洗浄液を収容するウェハー洗浄槽本体２
を有している。該ウェハー洗浄槽本体２の内側面には、
一対の保持具固定用ハンガー４ａ、４ｂが相対向して吊
設され、この一対の保持具固定用ハンガー４ａ、４ｂの
間に、一対の共通ウェハー保持具６ａ、６ｂ、小口径ウ
ェハー保持具８及び大口径ウェハー保持具１０が夫々架
設される。
【００２４】一対の共通ウェハー保持具６ａ、６ｂは、
所定間隔を置いて相対向して平行に設けられる。そし
て、該一対の共通ウェハー保持具６ａ、６ｂの中間位置
で且つ下方位置には、小口径ウェハー保持具８が設けら
れ、また、該一対の共通ウェハー保持具６ａ、６ｂのい
ずれか一方の側方位置で且つ上方位置には、大口径ウェ
ハー保持具１０が設けられる。
所定間隔を置いて相対向して平行に設けられる。そし
て、該一対の共通ウェハー保持具６ａ、６ｂの中間位置
で且つ下方位置には、小口径ウェハー保持具８が設けら
れ、また、該一対の共通ウェハー保持具６ａ、６ｂのい
ずれか一方の側方位置で且つ上方位置には、大口径ウェ
ハー保持具１０が設けられる。
【００２５】上記共通ウェハー保持具６、小口径ウェハ
ー保持具８及び大口径ウェハー保持具１０の夫々には、
ウェハーＷを保持するための１以上のウェハー保持溝２
０が夫々相互に対応して所定間隔で設けられる。
ー保持具８及び大口径ウェハー保持具１０の夫々には、
ウェハーＷを保持するための１以上のウェハー保持溝２
０が夫々相互に対応して所定間隔で設けられる。
【００２６】該ウェハー保持溝２０は、Ｖ型やＹ型の溝
が刻設されたものであり、この溝にウェハーＷの縁部が
嵌入することにより、ウェハーＷが所定間隔で保持され
ることとなる。
が刻設されたものであり、この溝にウェハーＷの縁部が
嵌入することにより、ウェハーＷが所定間隔で保持され
ることとなる。
【００２７】保持具固定用ハンガー４ａ、４ｂの材質は
特に限定されないが、例えば石英やポリテトラフルオロ
エチレン（ＰＴＦＥ）などを洗浄薬液の性質に応じて使
い分けて用いることができる。また、共通ウェハー保持
具６、小口径ウェハー保持具８及び大口径ウェハー保持
具１０の材質も特に限定されないが、耐薬品性に優れた
ふっ素樹脂、例えばポリクロロトリフルオロエチレン
（ＰＣＴＦＥ）などを用いることができる。
特に限定されないが、例えば石英やポリテトラフルオロ
エチレン（ＰＴＦＥ）などを洗浄薬液の性質に応じて使
い分けて用いることができる。また、共通ウェハー保持
具６、小口径ウェハー保持具８及び大口径ウェハー保持
具１０の材質も特に限定されないが、耐薬品性に優れた
ふっ素樹脂、例えばポリクロロトリフルオロエチレン
（ＰＣＴＦＥ）などを用いることができる。
【００２８】図２は本発明のウェハー洗浄槽及びウェハ
ー保持機構における異口径ウェハーの支持状態を示す断
面模式図である。図２において、ＷＬは大口径ウェハー
であり、ＷＳは小口径ウェハーである。
ー保持機構における異口径ウェハーの支持状態を示す断
面模式図である。図２において、ＷＬは大口径ウェハー
であり、ＷＳは小口径ウェハーである。
【００２９】図２に示すように、大口径ウェハーＷＬ、
例えば８”φのウェハーの場合であれば、共通ウェハー
保持具６ａ、６ｂ及び大口径ウェハー保持具１０によっ
て、３点支持する。なお、この場合、小口径ウェハー保
持具８は、大口径ウェハーＷＬとの接触はなく、大口径
ウェハーＷＬの保持には使用されていない状態となる。
例えば８”φのウェハーの場合であれば、共通ウェハー
保持具６ａ、６ｂ及び大口径ウェハー保持具１０によっ
て、３点支持する。なお、この場合、小口径ウェハー保
持具８は、大口径ウェハーＷＬとの接触はなく、大口径
ウェハーＷＬの保持には使用されていない状態となる。
【００３０】また、小口径ウェハーＷＳ、例えば６”φ
のウェハーの場合であれば、共通ウェハー保持具６ａ、
６ｂ及び小口径ウェハー保持具８によって、３点支持す
る。なお、この場合、大口径ウェハー保持具１０は、小
口径ウェハーＷＳとの接触はなく、小口径ウェハーＷＳ
の保持には使用されていない状態となる。
のウェハーの場合であれば、共通ウェハー保持具６ａ、
６ｂ及び小口径ウェハー保持具８によって、３点支持す
る。なお、この場合、大口径ウェハー保持具１０は、小
口径ウェハーＷＳとの接触はなく、小口径ウェハーＷＳ
の保持には使用されていない状態となる。
【００３１】このようにして、大口径ウェハーＷＬと小
口径ウェハーＷＳとの両方の異口径ウェハーを安定した
３点支持によって保持することが可能となる。
口径ウェハーＷＳとの両方の異口径ウェハーを安定した
３点支持によって保持することが可能となる。
【００３２】なお、上記した発明の実施の形態では、本
発明のウェハー保持機構がウェハー洗浄槽に適用されて
いる場合の例を説明したが、ウェハー洗浄槽以外の各種
装置、特にウェハーを略垂直に支持して保持する必要の
ある装置、例えばウェハー移し替え装置などの各種装置
にも、本発明のウェハー保持機構を適用することができ
る。
発明のウェハー保持機構がウェハー洗浄槽に適用されて
いる場合の例を説明したが、ウェハー洗浄槽以外の各種
装置、特にウェハーを略垂直に支持して保持する必要の
ある装置、例えばウェハー移し替え装置などの各種装置
にも、本発明のウェハー保持機構を適用することができ
る。
【００３３】本発明のウェハー保持機構によれば、ウェ
ハー移し替え装置などの各種装置においても、複数の異
口径ウェハーの３点支持による保持が可能となるので、
異口径ウェハーであっても一つの装置を兼用することが
可能となり、極めて利便性に優れた各種装置を製造する
ことが可能となるという利点がある。
ハー移し替え装置などの各種装置においても、複数の異
口径ウェハーの３点支持による保持が可能となるので、
異口径ウェハーであっても一つの装置を兼用することが
可能となり、極めて利便性に優れた各種装置を製造する
ことが可能となるという利点がある。
【００３４】なおまた、上記した発明の実施の形態で
は、小口径ウェハーＷＳが６”φで、大口径ウェハーＷ
Ｌが８”φである場合の例を説明したが、これ以外の口
径の小口径ウェハーＷＳ及び大口径ウェハーＷＬの組合
せの場合、例えば８”φと１０”φの場合、１０”φと
１２”φの場合、６”φと１０”φの場合、８”φと１
２”φの場合等であっても、共通ウェハー保持具６ａ、
６ｂ及び大口径ウェハー保持具１０の位置関係を適宜調
整することにより適用可能であることは勿論である。
は、小口径ウェハーＷＳが６”φで、大口径ウェハーＷ
Ｌが８”φである場合の例を説明したが、これ以外の口
径の小口径ウェハーＷＳ及び大口径ウェハーＷＬの組合
せの場合、例えば８”φと１０”φの場合、１０”φと
１２”φの場合、６”φと１０”φの場合、８”φと１
２”φの場合等であっても、共通ウェハー保持具６ａ、
６ｂ及び大口径ウェハー保持具１０の位置関係を適宜調
整することにより適用可能であることは勿論である。
【００３５】
【発明の効果】以上述べた如く、本発明によれば、簡便
な構造で異口径ウェハーの口径差を吸収でき、しかもウ
ェハーを安定した３点支持により保持することができ、
且つ低コストに製作可能でメンテナンス性にも優れたウ
ェハー洗浄槽及びウェハー保持機構を提供することがで
きるという著大な効果を奏する。
な構造で異口径ウェハーの口径差を吸収でき、しかもウ
ェハーを安定した３点支持により保持することができ、
且つ低コストに製作可能でメンテナンス性にも優れたウ
ェハー洗浄槽及びウェハー保持機構を提供することがで
きるという著大な効果を奏する。
【図１】本発明のウェハー洗浄槽の一実施例を示す概略
斜視図である。
斜視図である。
【図２】本発明のウェハー洗浄槽及びウェハー保持機構
における異口径ウェハーの保持状態を示す断面模式図で
ある。
における異口径ウェハーの保持状態を示す断面模式図で
ある。
１：ウェハー洗浄槽、２：ウェハー洗浄槽本体、４ａ、
４ｂ：保持具固定用ハンガー、６ａ、６ｂ：共通ウェハ
ー保持具、８：小口径ウェハー保持具、１０：大口径ウ
ェハー保持具、２０：ウェハー保持溝、Ｗ：ウェハー、
ＷＳ：小口径ウェハー、ＷＬ：大口径ウェハー。
４ｂ：保持具固定用ハンガー、６ａ、６ｂ：共通ウェハ
ー保持具、８：小口径ウェハー保持具、１０：大口径ウ
ェハー保持具、２０：ウェハー保持溝、Ｗ：ウェハー、
ＷＳ：小口径ウェハー、ＷＬ：大口径ウェハー。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 3B201 AA03 AB42 BB02 5F031 CA02 HA72 MA23 PA16
Claims (4)
- 【請求項１】 ウェハー洗浄槽本体と、ウェハー洗浄槽
本体内に所定間隔を置いて相対向して配置された一対の
共通ウェハー保持具と、該一対の共通ウェハー保持具の
中間位置で且つ該共通ウェハー保持具よりも下方位置に
設置された１本の小口径ウェハー保持具と、該一対の共
通ウェハー保持具のいずれか一方の側方位置で且つ該共
通ウェハー保持具よりも上方位置に設置された１本の大
口径ウェハー保持具とを有し、小口径ウェハーを保持す
る場合は、一対の共通ウェハー保持具と小口径ウェハー
保持具との３点支持により保持し、大口径ウェハーを保
持する場合は、一対の共通ウェハー保持具と大口径ウェ
ハー保持具との３点支持により保持するようにしたこと
を特徴とするウェハー洗浄槽。 - 【請求項２】 上記一対の共通ウェハー保持具、一本の
小口径ウェハー保持具及び一本の大口径ウェハー保持具
の夫々に、１以上のウェハー保持溝が夫々対応して刻設
されていることを特徴とする請求項１記載のウェハー洗
浄槽。 - 【請求項３】 所定間隔を置いて相対向して配置された
一対の共通ウェハー保持具と、該一対の共通ウェハー保
持具の中間位置で且つ該共通ウェハー保持具よりも下方
位置に設置された１本の小口径ウェハー保持具と、該一
対の共通ウェハー保持具のいずれか一方の側方位置で且
つ該共通ウェハー保持具よりも上方位置に設置された１
本の大口径ウェハー保持具とを有し、小口径ウェハーを
保持する場合は、一対の共通ウェハー保持具と小口径ウ
ェハー保持具との３点支持により保持し、大口径ウェハ
ーを保持する場合は、一対の共通ウェハー保持具と大口
径ウェハー保持具との３点支持により保持するようにし
たことを特徴とするウェハー保持機構。 - 【請求項４】 上記一対の共通ウェハー保持具、一本の
小口径ウェハー保持具及び一本の大口径ウェハー保持具
の夫々に、１以上のウェハー保持溝が夫々対応して刻設
されていることを特徴とする請求項３記載のウェハー保
持機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000327729A JP2002134457A (ja) | 2000-10-26 | 2000-10-26 | ウェハー洗浄槽及びウェハー保持機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000327729A JP2002134457A (ja) | 2000-10-26 | 2000-10-26 | ウェハー洗浄槽及びウェハー保持機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002134457A true JP2002134457A (ja) | 2002-05-10 |
Family
ID=18804697
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000327729A Pending JP2002134457A (ja) | 2000-10-26 | 2000-10-26 | ウェハー洗浄槽及びウェハー保持機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002134457A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111868907A (zh) * | 2018-03-07 | 2020-10-30 | 东京毅力科创株式会社 | 水平式衬底舟皿 |
-
2000
- 2000-10-26 JP JP2000327729A patent/JP2002134457A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111868907A (zh) * | 2018-03-07 | 2020-10-30 | 东京毅力科创株式会社 | 水平式衬底舟皿 |
| JP2021515409A (ja) * | 2018-03-07 | 2021-06-17 | 東京エレクトロン株式会社 | 水平基板ボート |
| JP7312952B2 (ja) | 2018-03-07 | 2023-07-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 水平基板ボート |
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