JP2002131496A - Radiation luminescence panel - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To raise humidity resistance and reduce image quality degradation of a radiation luminescence panel. SOLUTION: A fluorescent layer 31 is provided by gas-phase accumulation method on a support body 34 and the fluorescent layer 31 with the support body 34 is put in an air-tight chamber. The gas in the chamber is replaced with a hydrophobic inert gas and a protection layer 33 is contacted on the fluorescent layer 31. In the closed space 32 between the support body 34 and the protection layer 33, the fluorescent layer 31 and the hydrophobic inert gas are sealed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、輝尽性蛍光体を利
用する放射線像変換方法に用いられる放射線像変換パネ
ルや、蛍光体によって透過放射線を可視光および／また
は紫外放射線に変換するためのＸ線写真用増感パネル等
の放射線発光パネルに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a radiation image conversion panel used in a radiation image conversion method using a stimulable phosphor, and a method for converting transmitted radiation into visible light and / or ultraviolet radiation by the phosphor. The present invention relates to a radiation emitting panel such as an intensifying panel for X-ray photography.

【０００２】[0002]

【従来の技術】従来の放射線写真法に代わる方法とし
て、たとえば特開昭55-12145号に記載されているような
輝尽性蛍光体を用いる放射線像変換方法が知られてい
る。この方法は、輝尽性蛍光体を含有する放射線像変換
パネル（蓄積性蛍光体シート）を利用するもので、被写
体を透過した、あるいは被検体から発せられた放射線を
パネルの輝尽性蛍光体に吸収させ、そののちに輝尽性蛍
光体を可視光線、赤外線などの電磁波（励起光）で時系
列的に励起することにより、輝尽性蛍光体中に蓄積され
ている放射線エネルギーを蛍光（輝尽発光光）として放
出させ、この蛍光を光電的に読み取って電気信号を得、
次いで得られた電気信号に基づいて被写体あるいは被検
体の放射線画像を可視像として再生するものである。読
取りを終えたパネルは、残存する画像の消去が行なわれ
た後、次の撮影のために備えられる。すなわち、放射線
像変換パネルは繰返し使用されるものである。2. Description of the Related Art As an alternative to the conventional radiographic method, there is known a radiation image conversion method using a stimulable phosphor as described in, for example, JP-A-55-12145. This method uses a radiation image conversion panel (a stimulable phosphor sheet) containing a stimulable phosphor, and transmits radiation transmitted through a subject or emitted from a subject to the stimulable phosphor of the panel. And then stimulating the stimulable phosphor with electromagnetic waves (excitation light) such as visible light and infrared light in a time-series manner, so that the radiation energy accumulated in the stimulable phosphor is (Stimulated emission light), and the fluorescence is photoelectrically read to obtain an electric signal.
Then, a radiation image of the subject or the subject is reproduced as a visible image based on the obtained electric signal. The panel after reading is prepared for the next photographing after the remaining image is erased. That is, the radiation image conversion panel is used repeatedly.

【０００３】この放射線像変換方法によれば、従来の放
射線写真フィルムと増感紙との組合せを用いる放射線写
真法による場合に比較して、はるかに少ない被曝線量で
情報量の豊富な放射線画像を得ることができるという利
点がある。さらに、従来の放射線写真法では一回の撮影
ごとに放射線写真フィルムを消費するのに対して、この
放射線像変換方法では放射線像変換パネルを繰返し使用
するので資源保護、経済効率の面からも有利である。According to this radiographic image conversion method, a radiographic image with a large amount of information can be obtained with a much smaller exposure dose than the radiographic method using a combination of a conventional radiographic film and an intensifying screen. There is an advantage that it can be obtained. Furthermore, in contrast to the conventional radiographic method, which consumes radiographic film for each photographing operation, this radiographic image conversion method uses a radiographic image conversion panel repeatedly, which is advantageous in terms of resource conservation and economic efficiency. It is.

【０００４】放射線像変換方法に用いられる放射線像変
換パネルは、基本構造として、無機または有機の支持体
とその表面に設けられた輝尽性蛍光体層とからなるもの
である。蛍光体層の輝尽性蛍光体はＸ線などの放射線を
吸収したのち励起光の照射を受けると輝尽発光を示す性
質を有するものであるから、被写体を透過したあるいは
被検体から発せられた放射線は、その放射線量に比例し
て放射線像変換パネルの輝尽性蛍光体層に吸収され、パ
ネルには被写体あるいは被検体の放射線像が放射線エネ
ルギーの蓄積像として形成される。この蓄積像は、上記
励起光を照射することにより輝尽発光光として放出させ
ることができ、この輝尽発光光を光電的に読み取って電
気信号に変換することにより放射線エネルギーの蓄積像
を画像化することが可能となる。The radiation image conversion panel used in the radiation image conversion method has, as a basic structure, an inorganic or organic support and a stimulable phosphor layer provided on the surface thereof. Since the stimulable phosphor of the phosphor layer has a property of exhibiting stimulable emission when irradiated with excitation light after absorbing radiation such as X-rays, the stimulable phosphor is transmitted through the subject or emitted from the subject. Radiation is absorbed by the stimulable phosphor layer of the radiation image conversion panel in proportion to the radiation dose, and a radiation image of a subject or a subject is formed on the panel as a radiation energy accumulation image. This accumulated image can be emitted as stimulated emission light by irradiating the excitation light, and the accumulated image of radiation energy is imaged by photoelectrically reading the stimulated emission light and converting it into an electric signal. It is possible to do.

【０００５】輝尽性蛍光体層の表面（支持体に面してい
ない側の表面）には通常、保護膜が設けられていて、蛍
光体層を吸湿等の化学的な変質あるいは物理的な汚染か
ら保護している。保護膜には、透明な有機高分子物質を
適当な溶媒に溶解して調製した溶液を蛍光体層の上に塗
布することで形成されたもの、あるいはポリエチレンテ
レフタレートなどの有機高分子フィルムや透明なガラス
板などの保護膜形成用シートを別に形成して蛍光体層の
表面に適当な接着剤を用いて設けたもの、あるいは無機
化合物を蒸着などによって蛍光体層上に成膜したものな
どが知られている。これらは、特許2715189号の他、特
開昭62-15498号、特開昭62-209400号、特開昭62-245200
号、特開平8-043598号、特開平8-201598号、特公平4-76
440号、特公平7-13680号等に記載されている。[0005] A protective film is usually provided on the surface of the stimulable phosphor layer (the surface not facing the support), and the phosphor layer is chemically modified by moisture absorption or the like. Protects from pollution. The protective film is formed by applying a solution prepared by dissolving a transparent organic polymer substance in an appropriate solvent onto the phosphor layer, or an organic polymer film such as polyethylene terephthalate or a transparent polymer film. Known are those in which a protective film forming sheet such as a glass plate is separately formed and provided on the surface of the phosphor layer using an appropriate adhesive, or those in which an inorganic compound is formed on the phosphor layer by vapor deposition or the like. Have been. These are, in addition to Patent 2715189, JP-A-62-15498, JP-A-62-209400, JP-A-62-245200.
No., JP-A-8-043598, JP-A-8-201598, JP-B-4-76
No. 440 and Tokuhei 7-13680.

【０００６】放射線像変換方法の実施において、放射線
像変換パネルは、放射線の照射（放射線像の記録）、励
起光の照射（記録された放射線像の読出し）、消去光の
照射（残存する放射線像の消去）というサイクルで繰返
し使用される。そして放射線像変換パネルの各ステップ
への移行はベルト、ローラーなどの搬送手段により行な
われ、１サイクル終了後パネルは通常積層して保存され
る。ところが、上記のような、塗布によって形成された
保護膜を有する放射線像変換パネルを、このように繰り
返し使用したり、長期間保存したりしていると蛍光体層
の吸湿により感度が低下し、画質が劣化する場合があ
る。特に気相堆積法で設けられた蛍光体層は蛍光体が結
合剤などで覆われていないため吸湿しやすい。In carrying out the radiation image conversion method, the radiation image conversion panel includes radiation irradiation (recording of a radiation image), irradiation of excitation light (reading of a recorded radiation image), irradiation of erasing light (remaining radiation image). Erasure). The transition of the radiation image conversion panel to each step is performed by a conveying means such as a belt or a roller. After one cycle, the panels are usually stacked and stored. However, as described above, a radiation image conversion panel having a protective film formed by coating, such as being repeatedly used or stored for a long period of time, the sensitivity is reduced due to moisture absorption of the phosphor layer, The image quality may deteriorate. In particular, the phosphor layer provided by the vapor deposition method easily absorbs moisture because the phosphor is not covered with a binder or the like.

【０００７】[0007]

【発明が解決しようとする課題】吸湿による放射線像変
換パネルの感度低下を防ぐことができる保護膜としては
透湿度の観点からガラスが最も好ましいが、ガラスの場
合にはパネル製造工程中の強度の面から、一般的に厚み
が400μm以上必要となる。このためガラス保護膜の場合
には光の拡散による画質の劣化（ボケ）が生じることが
あり、初期画質において必ずしも満足できるものとは言
えなかった。As a protective film capable of preventing the sensitivity of the radiation image storage panel from lowering due to moisture absorption, glass is most preferable from the viewpoint of moisture permeability, but in the case of glass, the strength during the panel manufacturing process is reduced. From the viewpoint, the thickness generally needs to be 400 μm or more. For this reason, in the case of the glass protective film, the image quality may be deteriorated (blurred) due to the diffusion of light, and the initial image quality is not always satisfactory.

【０００８】一方、透明な樹脂フイルムは厚みを100μm
以下と薄くしても、製造工程中の強度には問題がなく、
薄層であるため初期画質の点では好ましいが、耐湿性に
おいて劣り、高温高湿条件で保存すると蛍光体層の吸湿
により画質が劣化しやすかった。On the other hand, a transparent resin film has a thickness of 100 μm.
Even if it is thinner than the following, there is no problem in strength during the manufacturing process,
Although a thin layer is preferable in terms of initial image quality, it is inferior in moisture resistance, and when stored under high-temperature and high-humidity conditions, image quality is easily deteriorated due to moisture absorption of the phosphor layer.

【０００９】こうした蛍光体層の吸湿の問題を解消する
ため、特許第 2677822号では蛍光体層周辺に乾燥ガスを
封入することが提案されているが、高温高湿の条件や長
期保存においては、保護層や封止剤層から水分が進入す
るため十分な保存性を得ることは困難であった。特に、
数年間という長期間の繰返し使用により、その接合部
（パネル端面）周辺または保護膜から大気中の水分が進
入して蛍光体層と反応したり、蛍光体の結晶形が変形し
て感度が低下し、最終的に得られる放射線像の劣化ある
いは、放射線像に関する画像情報の質の低下をもたらす
ことになるため、さらなる防湿性の向上が望まれてい
る。In order to solve the problem of the moisture absorption of the phosphor layer, Japanese Patent No. 2677822 proposes to enclose a dry gas around the phosphor layer. It is difficult to obtain sufficient preservability because moisture enters from the protective layer and the sealant layer. In particular,
Due to repeated use for several years, moisture in the air enters the area around the joint (panel end face) or from the protective film and reacts with the phosphor layer, or the crystal form of the phosphor is deformed and sensitivity is reduced. However, deterioration of the finally obtained radiation image or deterioration of the quality of image information related to the radiation image is brought about.

【００１０】本発明は上記事情に鑑みなされたものであ
り、防湿性が高く画質劣化の少ない放射線発光パネルを
提供することを目的とするものである。The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a radiation-emitting panel having high moisture-proof property and little image quality deterioration.

【００１１】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明の放射線発光パネ
ルは、支持体と保護層との間に、気相堆積法により設け
られた蛍光体層を有する放射線発光パネルにおいて、前
記支持体と前記保護層との間に密閉空間が形成されてお
り、該密閉空間内に前記蛍光体層と疎水性不活性ガスと
が封入されていることを特徴とするものである。According to the present invention, there is provided a radiation-emitting panel having a phosphor layer provided by a vapor deposition method between a support and a protective layer. A sealed space is formed between the protective layer and the protective layer, and the phosphor layer and a hydrophobic inert gas are sealed in the sealed space.

【００１２】放射線発光パネルとは、輝尽性蛍光体を含
有する放射線像変換パネルの他、輝尽性でない蛍光体を
用いて透過放射線を可視光および／または紫外放射線に
変換するためのＸ線写真用増感パネルなども含む広い概
念である。A radiation-emitting panel is a radiation image conversion panel containing a stimulable phosphor, or an X-ray for converting transmitted radiation into visible light and / or ultraviolet radiation using a non-stimulable phosphor. This is a wide concept including photographic intensifying panels.

【００１３】前記支持体と前記保護層との間には、蛍光
体層以外に、たとえば光反射防止層や接着層などが設け
られていてもよく、また、保護層上には防汚層などの層
が設けられていてもよい。[0013] In addition to the phosphor layer, for example, an antireflection layer or an adhesive layer may be provided between the support and the protective layer. May be provided.

【００１４】前記支持体と前記保護層との間に密閉空間
が形成されているとは、密閉空間が支持体と保護層との
間に形成されていれば、密閉空間が放射線発光パネルを
形成している支持体と保護層以外の各種機能を持った層
や、封止部材などによって形成されていてもよいことを
意味する。[0014] The fact that a closed space is formed between the support and the protective layer means that the closed space forms a radiation-emitting panel if the closed space is formed between the support and the protective layer. It may be formed of a layer having various functions other than the support and the protective layer, or a sealing member.

【００１５】疎水性不活性ガスとはＮ₂や希ガス以外の
親水性基を有しない不活性な化合物のガスを意味し、フ
ッ素系化合物であることがより好ましい。フッ素系化合
物とはフッ素を含みかつ親水性基を有しない有機化合物
を意味する。前記蛍光体は、輝尽性蛍光体であってもよ
い。The hydrophobic inert gas means a gas of an inert compound having no hydrophilic group other than N ₂ and a rare gas, and is more preferably a fluorine compound. The fluorine-based compound means an organic compound containing fluorine and having no hydrophilic group. The phosphor may be a stimulable phosphor.

【００１６】[0016]

【発明の効果】本発明の放射線発光パネルは、支持体と
保護層との間に密閉空間が形成されており、この密閉空
間内に蛍光体層と疎水性不活性ガスとが封入されている
ので蛍光体層の吸湿が極めて低く、またその状態を長期
間保持することができるため、画質劣化の少ない放射線
発光パネルとすることができる。According to the radiation-emitting panel of the present invention, a sealed space is formed between the support and the protective layer, and the phosphor layer and the hydrophobic inert gas are sealed in the sealed space. Therefore, the phosphor layer has extremely low moisture absorption, and the state can be maintained for a long period of time, so that a radiation-emitting panel with less deterioration in image quality can be obtained.

【００１７】すなわち、疎水性不活性ガスは、防湿性が
非常に高いので、蛍光体層を乾燥状態に長期間保持する
ことが可能となり、また、密閉空間内に蛍光体層と疎水
性不活性ガスとを封入したことにより、パネル周縁から
大気中の水分が進入したり、蛍光体の結晶形が変形して
感度が低下するといったことがないため、画質劣化の少
ない放射線発光パネルとすることができる。That is, since the hydrophobic inert gas has a very high moisture-proof property, the phosphor layer can be kept in a dry state for a long period of time, and the phosphor layer and the hydrophobic inert gas remain in the closed space. By enclosing the gas, there is no ingress of moisture in the air from the periphery of the panel, and the crystal form of the phosphor is not deformed to lower the sensitivity. it can.

【００１８】なお、疎水性不活性ガスをフッ素系化合物
とすることにより、さらに上記効果の向上を期待するこ
とができる。The above effect can be expected to be further improved by using a fluorine-based compound as the hydrophobic inert gas.

【００１９】なお、本発明は輝尽性でない蛍光体を用い
て透過放射線を可視光および／または紫外放射線に変換
するためのパネル、例えばＸ線写真用増感パネル等の蛍
光体層の画質向上にも有用であるが、輝尽性蛍光体を用
いた放射線像変換パネルにおいて極めて有用である。The present invention improves the image quality of a phosphor layer such as a panel for converting transmitted radiation into visible light and / or ultraviolet radiation using a non-stimulable phosphor, for example, an intensifying panel for X-ray photography. However, it is extremely useful in a radiation image conversion panel using a stimulable phosphor.

【００２０】[0020]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図１は本発明の第一の実施
の形態を示す放射線発光パネルの断面図、図２は本発明
の第二の実施の形態を示す放射線発光パネルの断面図、
図３は本発明の第三の実施の形態を示す放射線発光パネ
ルの断面図である。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view of a radiation-emitting panel showing a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view of a radiation-emitting panel showing a second embodiment of the present invention,
FIG. 3 is a sectional view of a radiation-emitting panel according to a third embodiment of the present invention.

【００２１】図１に示すように、本発明の第一の実施の
形態を示す放射線発光パネル10は、支持体14と保護層13
との間に気相堆積法により設けられた蛍光体層11を有し
ており、支持体14と保護層13との間には密閉空間12が形
成され、この密閉空間12内に蛍光体層11と疎水性不活性
ガスとが封入されているものである。この場合、支持体
と保護層との間に形成される空間は外気から完全に密閉
された空間であり、支持体と保護層との間に密閉空間が
形成されていれば、図２に示すように蛍光体層21と保護
層23との間にたとえば接着層27が設けられていてもよ
く、さらに、保護層23上には防汚層26が設けられていて
もよい。さらに、支持体24と保護層23の周縁部は封止剤
25により封止されていてもよい。As shown in FIG. 1, a radiation-emitting panel 10 according to a first embodiment of the present invention comprises a support 14 and a protective layer 13.
A phosphor layer 11 provided by a vapor deposition method between the substrate and a support 14 and a protective layer 13 to form a sealed space 12. 11 and a hydrophobic inert gas are sealed. In this case, the space formed between the support and the protective layer is a space completely sealed from the outside air, and if a closed space is formed between the support and the protective layer, it is shown in FIG. As described above, for example, the adhesive layer 27 may be provided between the phosphor layer 21 and the protective layer 23, and the antifouling layer 26 may be provided on the protective layer 23. Further, the peripheral portions of the support 24 and the protective layer 23 are sealed with a sealant.
It may be sealed by 25.

【００２２】また、図３に示すように、本発明の放射線
発光パネル30は、支持体34と保護層33との間に気相堆積
法により設けられた蛍光体層31を有しており、支持体34
と保護層33と封止部材35とにより密閉空間32が形成さ
れ、この密閉空間32内に蛍光体層31と疎水性不活性ガス
が封入されているものであってもよい。As shown in FIG. 3, the radiation-emitting panel 30 of the present invention has a phosphor layer 31 provided between a support 34 and a protective layer 33 by a vapor deposition method. Support 34
A sealed space 32 is formed by the protective layer 33 and the sealing member 35, and the phosphor layer 31 and a hydrophobic inert gas may be sealed in the sealed space 32.

【００２３】なお、図１および図２に示す放射線発光パ
ネルは、いずれも蛍光体層が気相堆積法により支持体上
に形成されているものを示しているが、保護層下に形成
されたものであってもよい。The radiation-emitting panels shown in FIGS. 1 and 2 each have a phosphor layer formed on a support by a vapor deposition method, but are formed under a protective layer. It may be something.

【００２４】図４は柱状形態の蛍光体で構成された蛍光
体層と支持体とを模式的に表した断面図であるが、この
ように蛍光体層は蛍光体41の短軸面が支持体44上に接
し、蛍光体41が柱状形態をなし蛍光体層を形成している
ことが好ましい。蛍光体が球状粒子の蛍光体層の場合に
は、蛍光体層内でレーザ光が拡散してＸ線画像がぼやけ
る場合があるが、柱状の蛍光体の場合には、柱状蛍光体
の端部から光が入り蛍光体層内で光が拡散することが少
ないので、より鮮明なＸ線画像を取り出すことが可能と
なる。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a phosphor layer composed of a columnar phosphor and a support. In this manner, the phosphor layer is supported by the short-axis surface of the phosphor 41. It is preferable that the phosphor 41 is in contact with the body 44 and forms a columnar form to form a phosphor layer. When the phosphor is a phosphor layer of spherical particles, the laser beam may be diffused in the phosphor layer and the X-ray image may be blurred, but in the case of a columnar phosphor, the end portion of the columnar phosphor may be blurred. , And light is less diffused in the phosphor layer, so that a clearer X-ray image can be taken out.

【００２５】本発明の放射線発光パネルについて、さら
に詳細に説明する。The radiation emitting panel of the present invention will be described in more detail.

【００２６】まず、本発明の放射線発光パネルの蛍光体
層の蛍光体が輝尽性蛍光体である場合について述べる。
輝尽性蛍光体は、先に述べたように放射線を照射した
後、励起光を照射すると輝尽発光を示す蛍光体である
が、実用的な面からは波長が400〜900nmの範囲にある励
起光によって300〜500nmの波長範囲の輝尽発光を示す蛍
光体であることが望ましい。本発明の放射線像変換パネ
ルに用いられる輝尽性蛍光体の例としては、特公平7-84
588号等に記載されている一般式 (M_1-f・M_f ^I)X・bM^IIIX
3″:cA（Ｉ）で表される輝尽性蛍光体が好ましい。輝尽
発光輝度の点から一般式（Ｉ）における Ｍ^Ｉとして
は、Rb，Csおよび／またはCsを含有したNa、同Ｋが好ま
しく、特にRbおよびCsから選ばれる少なくとも一種のア
ルカリ金属が好ましい。Ｍ^III としてはＹ，La，Lu，A
l，GaおよびInから選ばれる少なくとも一種の三価金属
が好ましい。Ｘ″としては、Ｆ，ClおよびBrから選ばれ
る少なくとも一種のハロゲンが好ましい。M^IIIX3″の含
有率を表すｂ値は０≦ｂ≦10^-2の範囲から選ばれるのが
好ましい。First, the case where the phosphor of the phosphor layer of the radiation-emitting panel of the present invention is a stimulable phosphor will be described.
The stimulable phosphor is a phosphor that emits stimulable light when irradiated with radiation and then irradiated with excitation light as described above, but the wavelength is in the range of 400 to 900 nm from a practical viewpoint. It is desirable that the phosphor be a phosphor that shows stimulated emission in a wavelength range of 300 to 500 nm by the excitation light. Examples of the stimulable phosphor used in the radiation image storage panel of the present invention include JP-B-7-84.
General formula (M _1-f・ M _f ^I ) X ・ bM ^III X described in No.588 etc.
3 ":. Stimulable phosphor represented by cA (I) are preferred as the M ^I in the formula (I) in terms of stimulated emission luminance, Rb, Na containing the Cs and / or Cs, the K is preferable, and at least one alkali metal selected from Rb and Cs is particularly preferable, and M ^III is Y, La, Lu, A
At least one trivalent metal selected from l, Ga and In is preferred. X ″ is preferably at least one halogen selected from F, Cl and Br. The b value representing the content of M ^III X3 ″ is preferably selected from the range of 0 ≦ b ≦ 10 ⁻² .

【００２７】一般式（Ｉ）において、賦活剤Ａとしては
Eu，Tb，Ce，Tm，Dy，Ho，Gd，Sm，TlおよびNaから選ば
れる少なくとも一種の金属が好ましく、特にEu，Ce，S
m，TlおよびNaから選ばれる少なくとも一種の金属が好
ましい。また、賦活剤の量を表すＣ値は10^-6＜Ｃ＜0.1
の範囲から選ばれるのが輝尽発光輝度の点から好まし
い。In the general formula (I), the activator A is
At least one metal selected from the group consisting of Eu, Tb, Ce, Tm, Dy, Ho, Gd, Sm, Tl and Na is preferable, and especially Eu, Ce, S
At least one metal selected from m, Tl and Na is preferred. The C value representing the amount of the activator is 10 ⁻⁶ <C <0.1.
It is preferable from the viewpoint of photostimulated light emission luminance.

【００２８】また、さらに以下の輝尽性蛍光体も用いる
ことができる。Further, the following stimulable phosphors can also be used.

【００２９】米国特許第3,859,527号明細書に記載され
ているSrS:Ce,Sm、SrS:Eu,Sm、ThO₂:Er、およびLa₂O₂S:
Eu,Sm、特開昭55-12142号に記載されている ZnS:Cu,P
b、BaO・xAl₂O₃:Eu（ただし、0.8≦ｘ≦10）、および、M
^IIO・xSiO₂ :A（ただし、M^IIはMg，Ca，Sr，Zn，Cd、ま
たはBaであり、ＡはCe，Tb，Eu，Tm，Pb，Tl，Biまたは
Mnであり、ｘは0.5≦x≦2.5である）、特開昭55-12143
号に記載されている (Ba_1-X-y ,Mg_X ,Ca_y )FX:aEu
²⁺（ただし、X はClおよびBrのうちの少なくとも一種で
あり、ｘおよびｙは、０＜x+y≦0.6、かつxy≠０であ
り、ａは、10^-6≦ａ≦5×10^-2である）、特開昭55-1214
4号に記載されている LnOX:xA（ただし、LnはLa，Ｙ，G
d、およびLuのうちの少なくとも一種、XはClおよびBrの
うちの少なくとも一種、AはCeおよびTbのうちの少なく
とも一種、そして、ｘは、０＜ｘ＜0.1である）、特開
昭55-12145号に記載されている(Ba_1-X,M²⁺ _X)FX:yA（た
だし、M²⁺はMg，Ca，Sr，Zn、およびCdのうちの少なく
とも一種、ＸはCl，BrおよびＩのうちの少なくとも一
種、ＡはEu，Tb，Ce，Tm，Dy，Pr，Ho，Nd，YbおよびEr
のうちの少なくとも一種、そしてｘは０≦ｘ≦0.6、ｙ
は０≦ｙ≦0.2である）、特開昭55-160078号に記載され
ているM^IIFX・xA:yLn（ただし、M^IIはBa，Ca，Sr，Mg，
ZnおよびCdのうちの少なくとも一種、AはBeO，MgO，Ca
O，SrO，BaO，ZnO，Al₂O₃，Y₂O₃，La₂O₃，In₂O₃，Si
O₂，TiO₂，ZrO₂，GeO₂，SnO₂，Nb₂O₅，Ta₂O₅およびThO
₂ のうちの少なくとも一種、LnはEu，Tb，Ce，Tm，Dy，
Pr，Ho，Nd，Yb，Er，SmおよびGdのうちの少なくとも一
種、ＸはCl，BrおよびＩのうちの少なくとも一種であ
り、xおよびyはそれぞれ 5×10^-5≦x≦0.5、および０＜
y≦0.2である）の組成式で表わされる蛍光体、特開昭56
-116777号に記載されている(Ba_1-X,M^II _X)F₂・aBaX₂:yEu,
zA（ただし、M^IIはベリリウム，マグネシウム，カルシ
ウム，ストロンチウム，亜鉛およびカドミウムのうちの
少なくとも一種、Ｘは塩素，臭素およびヨウ素のうちの
少なくとも一種、Ａはジルコニウムおよびスカンジウム
のうちの少なくとも一種であり、ａ、ｘ、ｙ、およびｚ
はそれぞれ 0.5≦ａ≦1.25、０≦ｘ≦１、10^-6≦ｙ≦2
×10^-1、および０＜ｚ≦10^-2である）の組成式で表わさ
れる蛍光体、特開昭57-23673号に記載されている(B
a_1-X,M^II _X)F₂・aBaX₂:yEu,zB（ただし、M ^II はベリリウ
ム，マグネシウム，カルシウム，ストロンチウム，亜鉛
およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Ｘは塩素，
臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一種であり、ａ、
ｘ、ｙ、およびｚはそれぞれ0.5≦ａ≦1.25、０≦ｘ≦
１、10^-6≦ｙ≦2×10^-1、および０＜ｚ≦10^-2である）
の組成式で表わされる蛍光体、特開昭57-23675号に記載
されている(Ba_1-X,M^II _X)F₂・aBaX₂:yEu,zA（ただし、M
^IIはベリリウム，マグネシウム，カルシウム，ストロン
チウム，亜鉛およびカドミウムのうちの少なくとも一
種、Ｘは塩素，臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一
種、Ａは砒素および硅素のうちの少なくとも一種であ
り、ａ、ｘ、ｙ、およびｚはそれぞれ0.5≦ａ≦1.25、
０≦ｘ≦１、10^-6≦ｙ≦2×10^-1、および０＜ｚ≦5×10
^-1である）の組成式で表わされる蛍光体、特開昭58-692
81号に記載されている M^IIIOX:xCe（ただし、M^IIIはP
r，Nd，Pm，Sm，Eu，Tb，Dy，Ho，Er，Tm，YbおよびBi
からなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属であ
り、ＸはClおよびBrのうちのいずれか一方あるいはその
両方であり、ｘは０＜ｘ＜0.1である）の組成式で表わ
される蛍光体、特開昭58-206678号に記載されているBa
_1-XM_X/2Ｌ_X/2FX:yEu²⁺（ただし、ＭはLi，Na，Ｋ，Rbお
よびCsからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカ
リ金属を表わし；Lは、Sc，Ｙ，La，Ce，Pr，Nd，Pm，S
m，Gd，Tb，Dy，Ho，Er，Tm，Yb，Lu，Al，Ga，Inおよ
びTlからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属
を表わし；X は、Cl，BrおよびＩからなる群より選ばれ
る少なくとも一種のハロゲンを表わし;そして、ｘは10
^-2≦ｘ≦0.5、ｙは０＜ｙ≦0.1である）の組成式で表わ
される蛍光体、特開昭59-27980号に記載のBaFX・xA:yEu
²⁺（ただし、Ｘは、Cl，BrおよびＩからなる群より選ば
れる少なくとも一種のハロゲンであり；Ａはテトラフル
オロホウ酸化合物の焼成物であり；そして、ｘは10^-6
≦ｘ≦0.1、ｙは０＜ｙ≦0.1 である）の組成式で表わ
される蛍光体、特開昭59-47289号に記載されているBaFX
・xA:yEu²⁺（ただし、Ｘは、Cl，BrおよびＩからなる群
より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり;Aは、ヘ
キサフルオロケイ酸，ヘキサフルオロチタン酸およびヘ
キサフルオロジルコニウム酸の一価もしくは二価金属の
塩からなるヘキサフルオロ化合物群より選ばれる少なく
とも一種の化合物の焼成物であり；そして、ｘは10^-6≦
ｘ≦0.1、ｙは０＜ｙ≦0.1 である）の組成式で表わさ
れる蛍光体、特開昭59-56479号に記載されているBaFX・x
NaX′:aEu²⁺（ただし、XおよびX′は、それぞれCl、B
r、およびＩのうちの少なくとも一種であり、ｘおよび
ａはそれぞれ０＜ｘ≦２、および０＜ａ≦0.2である）
の組成式で表わされる蛍光体、特開昭59-56480号に記載
されているM^IIFX・xNaX′:yEu²⁺:zA（ただし、M^IIは、B
a，SrおよびCaからなる群より選ばれる少なくとも一種
のアルカリ土類金属であり；X およびX′は、それぞれC
l，BrおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種
のハロゲンであり;Aは、Ｖ，Cr，Mn，Fe，CoおよびNiよ
り選ばれる少なくとも一種の遷移金属であり;そして、
ｘは０＜ｘ≦２、ｙは０＜ｙ≦0.2、およびｚは０＜ｚ
≦10^-2である）の組成式で表わされる蛍光体、特開昭59
-75200号に記載されている M^IIFX・aM^IX′・bM′^IIX″₂・
cM^IIIX₃・xA:yEu²⁺（ただし、M^IIはBa，SrおよびCaから
なる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属
であり；M^I はLi，Na，Ｋ，RbおよびCsからなる群より
選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり;M′^IIは
BeおよびMgからなる群より選ばれる少なくとも一種の二
価金属であり;M^III はAl，Ga，InおよびTlからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種の三価金属であり；Aは金属
酸化物であり；XはCl，BrおよびＩからなる群より選ば
れる少なくとも一種のハロゲンであり；X′，X″および
Xは、Ｆ，Cl，BrおよびＩからなる群より選ばれる少な
くとも一種のハロゲンであり；そして、ａは０≦ａ≦
２、ｂは０≦ｂ≦10^-2、ｃは０≦ｃ≦10^-2、かつa+b+c
≧10^-6 であり；x は０＜ｘ≦0.5、ｙは０＜ｙ≦0.2
である）の組成式で表わされる蛍光体、特開昭60-84381
号に記載されている M^II X₂・aM^IIX′₂:xEu²⁺（ただ
し、M^IIはBa，Srおよび Caからなる群より選ばれる少な
くとも一種のアルカリ土類金属であり；XおよびX′はC
l，BrおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種
のハロゲンであって、かつ X≠X′であり；そしてａは
0.1≦ａ≦10.0、ｘは０＜ｘ≦0.2である）の組成式で表
わされる輝尽性蛍光体、特開昭60-101173号に記載され
ているM^IIFX・aM^I X′:xEu²⁺（ただし、M^{II は}Ba，Sr
およびCaからなる群より選ばれる少なくとも一種のアル
カリ土類金属であり；M^I はRbおよびCsからなる群より
選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり;XはCl，
BrおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハ
ロゲンであり；X′はＦ，Cl，BrおよびＩからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そしてａ
およびｘはそれぞれ０≦ａ≦4.0および０＜ｘ≦0.2であ
る）の組成式で表わされる輝尽性蛍光体、特開昭62-251
89号に記載されているM^I X:xBi（ ただし、M^I はRbおよ
びCsからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ
金属であり；X はCl，BrおよびＩからなる群より選ばれ
る少なくとも一種のハロゲンであり；そしてxは0＜x≦
0.2の範囲の数値である）の組成式で表わされる輝尽性
蛍光体、特開平2-229882号に記載のLnOX:xCe（但し、Ln
はLa，Ｙ，GdおよびLuのうちの少なくとも一つ、ＸはC
l，BrおよびＩのうちの少なくとも一つ、ｘは0＜x≦0.2
であり、LnとＸとの比率が原子比で0.500＜X/Ln≦0.998
であり、かつ輝尽性励起スペクトルの極大波長λが550n
m＜λ＜700nm）で表わされるセリウム賦活希土類オキシ
ハロゲン化物蛍光体、などをあげることができる。As described in US Pat. No. 3,859,527
SrS: Ce, Sm, SrS: Eu, Sm, ThO_Two: Er, and La_TwoO_TwoS:
Eu, Sm, ZnS: Cu, P described in JP-A-55-12142
b, BaO xAl_TwoO_Three: Eu (where 0.8 ≦ x ≦ 10) and M
^IIOxSiO_Two: A (but M^IIIs Mg, Ca, Sr, Zn, Cd, or
Or A is Ce, Tb, Eu, Tm, Pb, Tl, Bi or
Mn, and x satisfies 0.5 ≦ x ≦ 2.5).
(Ba_1-Xy, Mg_X, Ca_y) FX: aEu
²⁺(Where X is at least one of Cl and Br
And x and y are 0 <x + y ≦ 0.6 and xy ≠ 0.
And a is 10^-6≦ a ≦ 5 × 10^-2And JP-A-55-1214
LnOX: xA described in No. 4 (where Ln is La, Y, G
at least one of d and Lu; X is Cl and Br
At least one of them, A is at least one of Ce and Tb
And x is 0 <x <0.1).
No. 55-12145 (Ba_1-X, M²⁺ _X) FX: yA (ta
But M²⁺Is the lesser of Mg, Ca, Sr, Zn, and Cd
X is at least one of Cl, Br and I
Species, A is Eu, Tb, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Yb and Er
X is 0 ≦ x ≦ 0.6, y
Is 0 ≦ y ≦ 0.2) described in JP-A-55-160078.
M^IIFX xA: yLn (however, M^IIIs Ba, Ca, Sr, Mg,
At least one of Zn and Cd, A is BeO, MgO, Ca
O, SrO, BaO, ZnO, Al_TwoO_Three, Y_TwoO_Three, La_TwoO_Three, In_TwoO_Three, Si
O_Two, TiO_Two, ZrO_Two, GeO_Two, SnO_Two, Nb_TwoO_Five, Ta_TwoO_FiveAnd ThO
_TwoLn is Eu, Tb, Ce, Tm, Dy,
At least one of Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Sm and Gd
The species X is at least one of Cl, Br and I
Where x and y are each 5 × 10^-Five≤x≤0.5, and 0 <
y ≦ 0.2), a phosphor represented by a composition formula:
-116777 (Ba_1-X, M^II _X) F_Two・ ABaX_Two: yEu,
zA (however, M^IIIs beryllium, magnesium, calcium
Of chromium, strontium, zinc and cadmium
X is at least one of chlorine, bromine and iodine
At least one, A is zirconium and scandium
A, x, y, and z
Are 0.5 ≦ a ≦ 1.25, 0 ≦ x ≦ 1, 10^-6≦ y ≦ 2
× 10^-1, And 0 <z ≦ 10^-2Is represented by the composition formula
Phosphor, described in JP-A-57-23673 (B
a_1-X, M^II _X) F_Two・ ABaX_Two: yEu, zB (where M ^IIIs Belliriu
, Magnesium, calcium, strontium, zinc
And at least one of cadmium and X is chlorine,
At least one of bromine and iodine, a,
x, y, and z are respectively 0.5 ≦ a ≦ 1.25, 0 ≦ x ≦
1, 10^-6≦ y ≦ 2 × 10^-1, And 0 <z ≦ 10^-2Is)
Phosphor represented by the composition formula of JP-A-57-23675
(Ba_1-X, M^II _X) F_Two・ ABaX_Two: yEu, zA (where M
^IIIs beryllium, magnesium, calcium, stron
At least one of titanium, zinc and cadmium
Species, X is at least one of chlorine, bromine and iodine
Species A is at least one of arsenic and silicon
A, x, y, and z are each 0.5 ≦ a ≦ 1.25,
0 ≦ x ≦ 1,10^-6≦ y ≦ 2 × 10^-1, And 0 <z ≦ 5 × 10
^-1A phosphor represented by the composition formula:
M listed in Issue 81^IIIOX: xCe (where M^IIIIs P
r, Nd, Pm, Sm, Eu, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb and Bi
At least one trivalent metal selected from the group consisting of
X is either Cl or Br or its
X is 0 <x <0.1).
Phosphor, Ba described in JP-A-58-206678
_1-XM_{X / 2}L_{X / 2}FX: yEu²⁺(However, M is Li, Na, K, Rb
At least one kind of alka selected from the group consisting of
L represents Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, S
m, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Al, Ga, In and
At least one trivalent metal selected from the group consisting of
X is selected from the group consisting of Cl, Br and I
Represents at least one halogen; and x is 10
^-2≦ x ≦ 0.5, y is 0 <y ≦ 0.1)
Phosphor, BaFXxA: yEu described in JP-A-59-27980
²⁺(Where X is selected from the group consisting of Cl, Br and I)
Is at least one halogen; A is tetrafur
A calcined product of an oroboric acid compound; and x is 10^-6
≦ x ≦ 0.1, y is 0 <y ≦ 0.1)
Phosphor, BaFX described in JP-A-59-47289
・ XA: yEu²⁺(Where X is a group consisting of Cl, Br and I
At least one halogen selected from
Xafluorosilicic acid, hexafluorotitanic acid and
Xafluorozirconate monovalent or divalent metal
Less selected from the group of hexafluoro compounds consisting of salts
Are calcined products of a compound; and x is 10^-6≤
x ≦ 0.1, y is 0 <y ≦ 0.1)
Phosphor, BaFXx described in JP-A-59-56479
NaX ′: aEu²⁺(However, X and X 'are Cl, B
r and at least one of I, x and
a is 0 <x ≦ 2 and 0 <a ≦ 0.2, respectively.
Phosphor represented by the composition formula of JP-A-59-56480
M^IIFX ・ xNaX ′: yEu²⁺: zA (where M^IIIs B
at least one selected from the group consisting of a, Sr and Ca
X and X 'are each C
at least one selected from the group consisting of l, Br and I
A is V, Cr, Mn, Fe, Co and Ni
At least one transition metal selected; and
x is 0 <x ≦ 2, y is 0 <y ≦ 0.2, and z is 0 <z
≦ 10^-2A phosphor represented by the composition formula:
M described in -75200^IIFX ・ aM^IX ′ ・ bM ′^IIX ″_Two・
cm^IIIX_Three・ XA: yEu²⁺(However, M^IIIs from Ba, Sr and Ca
At least one alkaline earth metal selected from the group consisting of
And M^IIs from the group consisting of Li, Na, K, Rb and Cs
At least one alkali metal selected; M ′^IIIs
At least one member selected from the group consisting of Be and Mg
Is a valent metal; M^IIIIs a group consisting of Al, Ga, In and Tl
Is at least one trivalent metal selected; A is a metal
X is selected from the group consisting of Cl, Br and I
At least one halogen; X ', X "and
 X is a small number selected from the group consisting of F, Cl, Br and I
At least a halogen; and a is 0 ≦ a ≦
2, b is 0 ≦ b ≦ 10^-2, C is 0 ≦ c ≦ 10^-2, And a + b + c
≧ 10^-6X is 0 <x ≦ 0.5, y is 0 <y ≦ 0.2
A phosphor represented by the composition formula of JP-A-60-84381
M listed in the issue^IIX_Two・ AM^IIX ′_Two: xEu²⁺(However
Then M^IIIs a small number selected from the group consisting of Ba, Sr and Ca
At least a kind of alkaline earth metal; X and X 'are C
at least one selected from the group consisting of l, Br and I
And X ≠ X ′; and a is
0.1 ≦ a ≦ 10.0, x is 0 <x ≦ 0.2)
Stimulable phosphor described in JP-A-60-101173
M^IIFX ・ aM^IX ′: xEu²⁺(However, M^{II Is}Ba 、 Sr
At least one type of al selected from the group consisting of
Potassium earth metal; M^IIs from the group consisting of Rb and Cs
At least one alkali metal selected; X is Cl,
At least one member selected from the group consisting of Br and I
X 'is a group consisting of F, Cl, Br and I
At least one selected halogen; and a
And x are 0 ≦ a ≦ 4.0 and 0 <x ≦ 0.2, respectively.
Stimulable phosphor represented by the following formula:
M described in No. 89^IX: xBi (where M^IAre Rb and
At least one alkali selected from the group consisting of
X is selected from the group consisting of Cl, Br and I
X is at least one halogen; and x is 0 <x ≦
Photostimulability represented by a composition formula of 0.2)
Phosphor, LnOX: xCe described in JP-A-2-229882 (however, Ln
Is at least one of La, Y, Gd and Lu, and X is C
at least one of l, Br and I, x is 0 <x ≦ 0.2
And the ratio between Ln and X is 0.500 <X / Ln ≦ 0.998 in atomic ratio.
And the maximum wavelength λ of the stimulable excitation spectrum is 550n
Cerium-activated rare earth oxy represented by m <λ <700 nm)
Halide phosphor, and the like.

【００３０】また、上記特開昭60-84381号に記載されて
いるM^IIX₂・aM^IIX′₂:xEu²⁺輝尽性蛍光体には、以下に
示すような添加物がM^IIX₂・aM^IIX′₂ 1モル当り以下の割
合で含まれていてもよい。Further, the JP 60-84381 No. M ^II X ₂ · aM ^II X described in the _'2: xEu ²⁺ stimulable phosphor, additives such as shown below M ^II X ₂ · aM ^II X ′ ₂ may be contained in the following ratio per 1 mol.

【００３１】特開昭60−166379号に記載されているbM
^IX″（ただし、M^IはRbおよびCsからなる群より選ばれる
少なくとも一種のアルカリ金属であり、X″はＦ，Cl，B
rおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハ
ロゲンであり、そしてｂは０＜ｂ≦10.0である）；特開
昭60-221483号に記載されているbKX″・cMgX₂ ・dM
^III X′₃（ただし、M^III はSc，Ｙ，La，Gdおよび Luか
らなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属であ
り、X″、X およびX′はいずれもＦ，Cl，BrおよびＩか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り、そしてｂ、ｃおよびｄはそれぞれ、０≦ｂ≦2.0、
０≦ｃ≦2.0、０≦ｄ≦2.0であって、かつ2×10^-5≦b+c
+dである）;特開昭60-228592号に記載されている yB
（ただし、yは2×10^-4≦ｙ≦2×10^-1である）;特開昭60
-228593号に記載されている bA（ただし、AはSiO ₂ およ
びP₂O₅からなる群より選ばれる少なくとも一種の酸化物
であり、そしてbは10^-4 ≦b≦2×10^-1 である）;特開昭
61−120883号に記載されているbSiO（ただし、bは0＜b
≦3×10^-2 である）;特開昭61−120885号に記載されて
いるbSnX″₂ （ただし、X″はＦ，Cl，BrおよびIからな
る群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そ
してbは０＜ｂ≦10^-3である）；特開昭61-235486号に記
載されているbCsX″・cSnX₂ （ただし、X″およびX はそ
れぞれＦ，Cl，BrおよびＩからなる群より選ばれる少な
くとも一種のハロゲンであり、そしてｂおよびｃはそれ
ぞれ、０＜ｂ≦10.0 および10^-6≦ｃ≦2×10^-2であ
る）；および特開昭61-235487号に記載されているbCs
X″・yLn³⁺（ただし、X″はＦ，Cl，BrおよびＩからなる
群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、Lnは
Sc，Ｙ，Ce，Pr，Nd，Sm，Gd，Tb，Dy，Ho，Er，Tm，Yb
およびLuからなる群より選ばれる少なくとも一種の希土
類元素であり、そしてｂおよびｙはそれぞれ、０＜ｂ≦
10.0および10 ^-6≦ｙ≦1.8×10^-1である）。BM described in JP-A-60-166379
^IX "(M^IIs selected from the group consisting of Rb and Cs
X "is at least one alkali metal, and X" is F, Cl, B
at least one member selected from the group consisting of r and I
And b is 0 <b ≦ 10.0);
BKX ″ and cMgX described in Sho 60-221483_Two・ DM
^IIIX ′_Three(However, M^IIIIs Sc, Y, La, Gd and Lu
At least one trivalent metal selected from the group consisting of
X ”, X and X ′ are all F, Cl, Br and I
At least one halogen selected from the group consisting of
And b, c and d are each 0 ≦ b ≦ 2.0,
0 ≦ c ≦ 2.0, 0 ≦ d ≦ 2.0, and 2 × 10^-Five≤b + c
+ d); yB described in JP-A-60-228592
(However, y is 2 × 10^-Four≦ y ≦ 2 × 10^-1JP-A-60
BA (where A is SiO _TwoAnd
And P_TwoO_FiveAt least one oxide selected from the group consisting of
And b is 10^-Four≦ b ≦ 2 × 10^-1);
BSiO described in No. 61-120883 (where b is 0 <b
≦ 3 × 10^-2Is described in JP-A-61-120885.
BSnX ″_Two(However, X ″ is composed of F, Cl, Br and I.
At least one halogen selected from the group consisting of
And b is 0 <b ≦ 10^-3Described in JP-A-61-235486.
BCsX ″ and cSnX listed_Two(However, X ″ and X are
A small number selected from the group consisting of F, Cl, Br and I, respectively.
At least a kind of halogen, and b and c are
0 <b ≦ 10.0 and 10 respectively^-6≦ c ≦ 2 × 10^-2In
BCs described in JP-A-61-235487
X ″ ・ yLn³⁺(However, X ″ consists of F, Cl, Br and I
Ln is at least one halogen selected from the group
Sc, Y, Ce, Pr, Nd, Sm, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb
At least one rare earth selected from the group consisting of
And b and y are each 0 <b ≦
10.0 and 10 ^-6≦ y ≦ 1.8 × 10^-1Is).

【００３２】ただし、本発明に用いられる輝尽性蛍光体
は上述の蛍光体に限られるものではなく、放射線を照射
したのちに励起光を照射した場合に輝尽発光を示す蛍光
体であれば特に限定されるものではない。However, the stimulable phosphor used in the present invention is not limited to the above-mentioned phosphors, and any phosphor that emits stimulable light when irradiated with radiation and then with excitation light. There is no particular limitation.

【００３３】また、本発明の放射線発光パネルが、輝尽
性ではない蛍光体を用いて透過性放射線を可視光および
／または紫外放射線に変換するためのパネル、たとえば
放射線増感スクリーンの場合、これに使用される蛍光体
としては、タングステン酸塩系蛍光体（CaWO₄ 、MgW
O₄ 、CaWO₄ :Pbなど）、テルビウム賦活希土類酸硫化物
系蛍光体（Y₂O₂S:Tb、Gd₂O₂S:Tb、La₂O₂S:Tb、(Y,Gd)₂O
₂S:Tb、(Y,Gd)O₂ S:Tb,Tmなど）、テルビウム賦活希土
類リン酸塩系蛍光体（YPO₄ :Tb、GdPO₄ :Tb、LaPO₄ :Tb
など）、テルビウム賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍
光体（LaOBr:Tb、LaOBr:Tb,Tm、LaOCl:Tb、LaOCl:Tb,T
m、LaOCl:Tb,Tm、LaOBr:Tb、GdOBr:Tb、GdOCl:Tbな
ど）、ツリウム賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体
（LaOBr:Tm、LaOCl:Tmなど）、硫酸バリウム系蛍光体
（BaSO₄ :Pb、BaSO₄ :Eu²⁺、(Ba,Sr)SO₄ :Eu²⁺など）、
２価のユーロピウム賦活アルカリ土類金属リン酸塩系蛍
光体(Ba₃ (PO₄)₂:Eu²⁺、Ba₃(PO₄)₂ :Eu²⁺など）、２価の
ユーロピウム賦活アルカリ土類金属フッ化ハロゲン化物
系蛍光体（BaFCl:EU²⁺、BaFBr:Eu²⁺,BaFCl:EU²⁺,Tb、Ba
FBr:Eu²⁺,Tb、BaF₂ ・BaCl₂ ・KCl:Eu²⁺、(Ba・Mg)F₂・BaCl
₂・KCl:Eu ²⁺など）、ヨウ化物系蛍光体（CsI:Na、CsI:T
l、NaI、KI:Tlなど）、硫化物系蛍光体（ZnS:Ag、(Zn,C
d)S:Ag、(Zn,Cd)S:Cu、(Zn,Cd)S:Cu,Alなど）、リン酸
ハフニウム系蛍光体（HfP₂O₇ :Cuなど）、タンタル酸塩
系蛍光体（YTaO₄ 、YTaO₄ :Tm、YTaO₄ :Nb、(Y,Sr)TaO
_4-x :Nb、LuTaO₄、LuTaO₄ :Nb、(Lu,Sr)TaO_4-x :Nb、Gd
TaO₄ :Tm、Gd₂O₃・Ta₂O₅・B₂O₃:Tbなど）を好ましくあげ
ることができる。但し本発明に用いられる蛍光体はこれ
らに限定されるものではなく、放射線の照射によって可
視または近紫外領域の発光を示す蛍光体であれば使用す
ることができる。Further, the radiation-emitting panel of the present invention is
Transmissive radiation with visible light and
And / or panels for converting to ultraviolet radiation, for example
The phosphor used for radiographic intensifying screens
As a tungstate-based phosphor (CaWO_Four, MgW
O_Four, CaWO_Four: Pb), terbium-activated rare earth oxysulfide
Phosphor (Y_TwoO_TwoS: Tb, Gd_TwoO_TwoS: Tb, La_TwoO_TwoS: Tb, (Y, Gd)_TwoO
_TwoS: Tb, (Y, Gd) O_TwoS: Tb, Tm etc.), Terbium activated rare earth
Phosphate phosphors (YPO_Four: Tb, GdPO_Four: Tb, LaPO_Four: Tb
Terbium-activated rare earth oxyhalide-based fireflies
Optical body (LaOBr: Tb, LaOBr: Tb, Tm, LaOCl: Tb, LaOCl: Tb, T
m, LaOCl: Tb, Tm, LaOBr: Tb, GdOBr: Tb, GdOCl: Tb
Thulium-activated rare earth oxyhalide phosphor
(LaOBr: Tm, LaOCl: Tm, etc.), barium sulfate based phosphor
(BaSO_Four: Pb 、 BaSO_Four:EU²⁺, (Ba, Sr) SO_Four:EU²⁺Such),
Bivalent europium activated alkaline earth metal phosphate-based fireflies
Light body (Ba_Three(PO_Four)_Two:EU²⁺, Ba_Three(PO_Four)_Two:EU²⁺Etc.)
Europium activated alkaline earth metal fluoride halides
Phosphor (BaFCl: EU²⁺, BaFBr: Eu²⁺, BaFCl: EU²⁺, Tb, Ba
FBr: Eu²⁺, Tb, BaF_Two・ BaCl_Two・ KCl: Eu²⁺, (Ba ・ Mg) F_Two・ BaCl
_Two・ KCl: Eu ²⁺Etc.), iodide-based phosphors (CsI: Na, CsI: T
l, NaI, KI: Tl), sulfide-based phosphors (ZnS: Ag, (Zn, C
d) S: Ag, (Zn, Cd) S: Cu, (Zn, Cd) S: Cu, Al, etc.), phosphoric acid
Hafnium-based phosphor (HfP_TwoO₇: Cu etc.), tantalate
Based phosphor (YTaO_Four, YTaO_Four: Tm, YTaO_Four: Nb 、 (Y, Sr) TaO
_4-x: Nb, LuTaO_Four, LuTaO_Four: Nb 、 (Lu, Sr) TaO_4-x: Nb, Gd
TaO_Four: Tm, Gd_TwoO_Three・ Ta_TwoO_Five・ B_TwoO_Three: Tb)
Can be However, the phosphor used in the present invention is
It is not limited to these, but can be
Use any phosphor that emits light in the visible or near ultraviolet region.
Can be

【００３４】以下、放射線発光パネルのうち、輝尽性蛍
光体を利用する放射線像変換パネルの場合について説明
する。輝尽性蛍光体層は、上記輝尽性蛍光体を支持体上
に気相堆積法により設ける。Hereinafter, a radiation image conversion panel using a stimulable phosphor among radiation emission panels will be described. The stimulable phosphor layer is provided with the stimulable phosphor on a support by a vapor deposition method.

【００３５】支持体は、気密性に優れ、透湿度が低いも
のであることが好ましく、５g/m² ・24hr以下であること
が好ましく、２g/m² ・24hr以下であることがより好まし
い。具体的には、たとえば、透湿度が実質的に０である
ような金属シートまたは金属板、石英硝子、アラミド、
セラミックなどが好ましい。支持体の厚さは用いる材質
によって異なるが約200μm〜5mm程度であることが好ま
しく、さらには約500μm〜3mm程度であることがより好
ましい。The support is preferably excellent in air tightness and low in moisture permeability, preferably 5 g / m ² · 24 hr or less, more preferably ² g / m ² · 24 hr or less. Specifically, for example, a metal sheet or a metal plate having a moisture permeability of substantially 0, quartz glass, aramid,
Ceramics and the like are preferred. Although the thickness of the support varies depending on the material used, it is preferably about 200 μm to 5 mm, and more preferably about 500 μm to 3 mm.

【００３６】蛍光体層は、蒸着法、スパッタ法など公知
の気相堆積法により支持体上に形成することができる。
蒸着法においては、まず支持体を蒸着装置内に設置した
後、装置内を排気して10^-4 Pa程度の真空度とする。次
いで、輝尽性蛍光体の少なくとも一つを抵抗加熱法、エ
レクトロンビーム法等の方法で加熱蒸発させて支持体表
面に輝尽性蛍光体を所望の厚さに堆積させる。これによ
り結着剤を含有しない輝尽性蛍光体層を形成することが
できる。蒸着工程を複数回に分けて輝尽性蛍光体層を形
成することも可能である。また、蒸着工程では複数の抵
抗加熱器あるいはエレクトロンビームを用いて共蒸着
し、支持体上で目的とする輝尽性蛍光体を合成すると同
時に輝尽性蛍光体層を形成することもできる。蒸着終了
後、輝尽性蛍光体層の支持体とは反対側に後述のように
保護層を設けることにより放射線画像変換パネルが製造
される。なお、この場合、保護層上に輝尽性蛍光体層を
形成した後、支持体を設ける手順をとってもよい。さら
に、蒸着時には必要に応じて被蒸着物（保護層）を冷却
あるいは加熱してもよい。また、蒸着終了後、輝尽性蛍
光体層を加熱処理してもよい。The phosphor layer can be formed on the support by a known vapor deposition method such as a vapor deposition method and a sputtering method.
In the vapor deposition method, first, a support is placed in a vapor deposition apparatus, and then the inside of the apparatus is evacuated to a degree of vacuum of about 10 ⁻⁴ Pa. Next, at least one of the stimulable phosphors is heated and evaporated by a method such as a resistance heating method or an electron beam method to deposit the stimulable phosphor on the surface of the support to a desired thickness. Thereby, a stimulable phosphor layer containing no binder can be formed. It is also possible to form the stimulable phosphor layer by performing the vapor deposition step a plurality of times. In the vapor deposition step, a plurality of resistance heaters or electron beams are used for co-evaporation to synthesize a desired stimulable phosphor on a support and simultaneously form a stimulable phosphor layer. After the deposition, a radiation image conversion panel is manufactured by providing a protective layer on the opposite side of the stimulable phosphor layer from the support as described later. In this case, after forming the stimulable phosphor layer on the protective layer, a procedure for providing a support may be adopted. Further, at the time of vapor deposition, the object to be deposited (protective layer) may be cooled or heated as necessary. After the deposition, the stimulable phosphor layer may be subjected to a heat treatment.

【００３７】スパッタ法においては、蒸着法と同様に支
持体をスパッタ装置内に設置した後装置内を一旦排気し
て10^-4 Pa程度の真空度とし、次いでスパッタ用のガス
としてAr，Ne等の不活性ガスをスパッタ装置内に導入し
て10^-1 Pa程度のガス圧とする。In the sputtering method, as in the case of the vapor deposition method, the support is placed in a sputtering apparatus, and then the inside of the apparatus is once evacuated to a degree of vacuum of about 10 ^-4 Pa, and then a gas for sputtering such as Ar or Ne is used. Is introduced into the sputtering apparatus to a gas pressure of about 10 ^-1 Pa.

【００３８】次に、輝尽性蛍光体をターゲットとして、
スパッタリングすることにより、保護層表面に輝尽性蛍
光体を所望の厚さに堆積させる。スパッタ工程において
も蒸着法と同様に、複数回に分けて輝尽性蛍光体層を形
成することも可能であるし、また、それぞれ異なった輝
尽性蛍光体からなる複数のターゲットを用いて、同時あ
るいは順次、ターゲットをスパッタリングして輝尽性蛍
光体層を形成することも可能である。また、スパッタ法
においては、必要に応じて O₂，H₂やハロゲン等のガス
を導入して反応性スパッタを行ってもよい。スパッタ終
了後、蒸着法と同様に輝尽性蛍光体層の支持体側とは反
対側に保護層を設けることにより放射線画像変換パネル
が製造される。なお、蒸着法と同様に、保護層上に輝尽
性蛍光体層を形成した後、支持体を設ける手順をとって
もよい。また、スパッタ法においても蒸着法と同様に、
スパッタ時に、必要に応じて被蒸着物（一次保護層）を
冷却あるいは加熱してもよい。また、スパッタ終了後輝
尽性蛍光体層を加熱処理してもよい。Next, using a stimulable phosphor as a target,
By sputtering, the stimulable phosphor is deposited to a desired thickness on the surface of the protective layer. In the sputtering step, similarly to the vapor deposition method, it is also possible to form the stimulable phosphor layer in a plurality of times, or, using a plurality of targets made of different stimulable phosphors, Simultaneously or sequentially, it is also possible to form a stimulable phosphor layer by sputtering a target. In the sputtering method, reactive sputtering may be performed by introducing a gas such as O ₂ , H _2, or halogen as needed. After the end of the sputtering, a radiation image conversion panel is manufactured by providing a protective layer on the side opposite to the support side of the stimulable phosphor layer as in the vapor deposition method. Note that, similarly to the vapor deposition method, a procedure may be adopted in which a stimulable phosphor layer is formed on a protective layer and then a support is provided. Also, in the sputtering method, similarly to the evaporation method,
At the time of sputtering, the deposition target (primary protective layer) may be cooled or heated as necessary. After the end of the sputtering, the stimulable phosphor layer may be subjected to a heat treatment.

【００３９】本発明で使用される放射線像変換パネルの
保護膜は、防湿性の観点から透湿度の低い樹脂膜または
無機質膜が使用され、透湿度は 10g/m² ・24hr以下であ
ることが好ましく、5g/m² ・24hr以下であることがより
好ましい。透湿度の低い樹脂膜としては、たとえばフッ
素系共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエ
チレンテレフタレート、塩化ビニリデン系共重合体、こ
れらの多層複合膜、およびアルミナ蒸着PET、シリカ蒸
着PETがあげられる。これらの樹脂膜は本発明に使用さ
れる不活性ガスの透過性が低いことが好ましい。樹脂膜
の厚みは1μm〜１mm程度であることが好ましく、5μm〜
500μmであることがより好ましい。As the protective film of the radiation image conversion panel used in the present invention, a resin film or an inorganic film having low moisture permeability is used from the viewpoint of moisture proofness, and the moisture permeability is preferably 10 g / m ² · 24 hours or less. It is more preferably 5 g / m ² · 24 hr or less. Examples of the resin film having a low moisture permeability include a fluorine-based copolymer, polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, a vinylidene chloride-based copolymer, a multilayer composite film of these, alumina-deposited PET, and silica-deposited PET. These resin films preferably have low permeability to the inert gas used in the present invention. The thickness of the resin film is preferably about 1 μm to 1 mm,
More preferably, it is 500 μm.

【００４０】無機質膜としては透明なセラミックまたは
ガラスであることが好ましい。透明な無機質膜の厚みは
0.1〜1mm程度であることが好ましく、ハンドリングと画
質の面からは、0.2〜0.5mmであることがより好ましい。The inorganic film is preferably a transparent ceramic or glass. The thickness of the transparent inorganic film is
It is preferably about 0.1 to 1 mm, and more preferably 0.2 to 0.5 mm from the viewpoint of handling and image quality.

【００４１】ガラスの具体的としては、セントラル硝子
（株）製のFL0.7、FL0.85、FL1.0、日本板硝子（株）製
のUFF0.40、0.50、0.55、0.70、旭硝子（株）製の RRQS
40SXなどを好ましくあげることができる。Specific examples of the glass include FL0.7, FL0.85, FL1.0 manufactured by Central Glass Co., Ltd., UFF0.40, 0.50, 0.55, 0.70 manufactured by Nippon Sheet Glass Co., Ltd., Asahi Glass Co., Ltd. RRQS made by
40SX etc. can be mentioned preferably.

【００４２】疎水性不活性ガスとは Ｎ₂ や希ガス以外
の親水性基を有しない不活性な化合物のガスを意味し、
例えばプロパン、ブタン、ｎ−ヘキサン等の炭化水素系
のガスや、フッ素系化合物のガスなどが好ましく、疎水
性が高く防湿性能に優れるフッ素系化合物のガスがより
好ましい。The hydrophobic inert gas means a gas of an inert compound having no hydrophilic group other than N ₂ and a rare gas,
For example, a hydrocarbon-based gas such as propane, butane, or n-hexane, or a fluorine-based compound gas is preferable, and a fluorine-based compound gas having high hydrophobicity and excellent moisture-proof performance is more preferable.

【００４３】ここでいうフッ素系化合物とはフッ素を含
み親水性基を有しない有機化合物を意味する。フロンを
使用するときはオゾン層破壊性の低い代替フロンである
ことが好ましく、塩素を含まない代替フロンであること
がより好ましい。The term "fluorine compound" as used herein means an organic compound containing fluorine and having no hydrophilic group. When chlorofluorocarbon is used, it is preferably an alternative fluorocarbon having a low ozone depleting property, and more preferably an alternative fluorocarbon-free fluorocarbon.

【００４４】フッ素系化合物として具体的には、４フッ
化炭素、６フッ化エタン、８フッ化シクロブタン、８フ
ッ化プロパン、３フッ化窒素、ＣＨ₂ ＦＣＦ₃ （HFC-13
4a）、ＣＨ₂ ＦＣＨＦ₂（HFC-134）、ＣＨ₃ ＣＦ₃（HFC
-143a）、ＣＨ₂ＦＣＨＦ₂（HFC-143）等を好ましくあげ
ることができる。Specific examples of the fluorine compound include carbon tetrafluoride, ethane hexafluoride, cyclobutane octafluoride, propane octafluoride, nitrogen trifluoride, CH ₂ FCF ₃ (HFC-13
4a), CH ₂ FCHF ₂ (HFC-134), CH ₃ CF ₃ (HFC
-143a), CH ₂ FCHF ₂ (HFC-143) and the like.

【００４５】これらのフッ素系化合物は分子構造上、疎
水性で水分を含みにくいが、使用時には水分をフッ素系
化合物に対して 0.01重量％以下、好ましくは0.001重量
％以下にすることにより、封入後の蛍光体層の初期劣化
がなくなるのでさらに好ましい。These fluorine compounds are hydrophobic in molecular structure and hardly contain water. However, when used, the water content is set to 0.01% by weight or less, preferably 0.001% by weight or less with respect to the fluorine compound, so that after encapsulation, This is more preferable because the initial deterioration of the phosphor layer is eliminated.

【００４６】疎水性不活性ガスを支持体と保護層との間
に形成される密閉空間内に封入する方法としては、支持
体と保護層の周縁を封止部材で封着する際に、封着部に
１箇所通気口を設け、真空で吸引した後に疎水性乾燥ガ
スを充填し、その後通気口を封着する方法、あるいは疎
水性不活性ガスを充填したチャンバー内に支持体付き蛍
光体層を入れて、蛍光体層周囲を疎水性不活性ガスで置
換した後、蛍光体層上に接着層を介して保護膜を接着す
る方法などにより行う。空気を含ませずに疎水性不活性
ガスをより完全に密閉空間内に封入することができるの
で、後者の方法によることがより好ましい。As a method of sealing a hydrophobic inert gas into a closed space formed between the support and the protective layer, a method of sealing the periphery of the support and the protective layer with a sealing member may be used. A method in which a vent is provided at one place in the attachment part, and a vacuum is applied thereto, followed by filling with a hydrophobic dry gas and then sealing the vent, or a phosphor layer with a support in a chamber filled with a hydrophobic inert gas. , The surroundings of the phosphor layer are replaced with a hydrophobic inert gas, and then a protective film is bonded on the phosphor layer via an adhesive layer. The latter method is more preferable because the hydrophobic inert gas can be completely enclosed in the closed space without containing air.

【００４７】封止剤や封止部材としては、気密性に優
れ、透湿度が低いものが好ましく、具体的にはエポキシ
系樹脂、フェノール系樹脂、シアノアクリレート系樹
脂、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリウレタ
ン系樹脂、アクリル系樹脂、エチレン酢酸ビニル系樹
脂、ポリオレフィン樹脂、クロロプレン系ゴム、ニトリ
ル系ゴムなどの有機高分子系接着剤や、シリコーン系接
着剤等を好ましくあげることができ、耐湿性に優れるエ
ポキシ系樹脂やシリコーン系接着剤を用いることがより
好ましい。さらに、上記のような接着剤の他、低融点ガ
ラス等の封着用ガラスを用いてガラス融着により封着し
てもよい。As the sealing agent and the sealing member, those having excellent airtightness and low moisture permeability are preferable. Specifically, epoxy resins, phenol resins, cyanoacrylate resins, vinyl acetate resins, and vinyl chloride Resins, polyurethane resins, acrylic resins, ethylene vinyl acetate resins, polyolefin resins, chloroprene rubbers, organic polymer adhesives such as nitrile rubbers, and silicone adhesives. It is more preferable to use an epoxy resin or a silicone adhesive having excellent properties. Further, in addition to the above-mentioned adhesive, sealing may be performed by glass sealing using sealing glass such as low melting point glass.

【００４８】以下、本発明を実施例によりさらに具体的
に説明する。Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.

【実施例】（実施例１）支持体としてアルミ蒸着された
５mm厚の石英ガラス板を蒸着器中に設置した。次に白金
ボート中にアルカリハライド輝尽性蛍光体（Cs・Br:0.01
Eu）を入れ、蒸着器を排気して2×10^-4Paの真空度とし
た。その後、白金ボート中の輝尽性蛍光体に電子銃から
2.3kVの加速電圧の電子線を30分間照射し、30μm／分の
速度で石英硝子上に輝尽性蛍光体を堆積させた。堆積
後、電子線の照射を止め、蒸着器中を大気圧に戻し、石
英ガラス板を取り出した。石英ガラス板上には太さ20μ
m、長さ900μmの針状の輝尽性蛍光体が密に立って堆積
していた。(Example 1) As a support, a 5 mm-thick quartz glass plate on which aluminum was deposited was placed in a vapor deposition device. Next, an alkali halide stimulable phosphor (Cs.Br:0.01
Eu) was charged, and the evaporator was evacuated to a vacuum degree of 2 × 10 ⁻⁴ Pa. After that, the stimulable phosphor in the platinum boat was transferred from the electron gun
An electron beam having an acceleration voltage of 2.3 kV was irradiated for 30 minutes, and a stimulable phosphor was deposited on the quartz glass at a speed of 30 μm / min. After the deposition, the irradiation of the electron beam was stopped, the inside of the evaporator was returned to the atmospheric pressure, and the quartz glass plate was taken out. 20μ thickness on quartz glass plate
Needle-like stimulable phosphor having a length of 900 μm and a length of 900 μm was densely deposited.

【００４９】次に、9μｍ厚のポリエチレンテレフタレ
ート(PET)保護膜に防汚層を塗工した。 防汚層用塗布
液は、フッ素系共重合体樹脂溶液（旭硝子(株)製：ルミ
フロンLF504X(30%キシレン溶液)）40g、有機フィラーと
してメラミン−ホルムアルデヒド（(株)日本触媒:エポ
スターS6）28.4g、分散剤としてアルミカップリング剤
（味の素(株):プレンアクトAL-M）0.5g、メチルエチル
ケトン（MEK）200gの混合液を、3mmφのジルコニアボー
ルを使用したボールミルにより 20時間分散混合した
後、ルミフロンLF504X（30％キシレン溶液）360gを追加
し、さらに４時間分散した。その後、シリコーンマクロ
モノマー（チッソ(株)製：サイラプレンFM-DA26)5.6g、
架橋剤としてポリイソシアネート（住友バイエルウレタ
ン(株)：スミジュールN3300(固形分100%)）44.4g、触媒
としてジブチルチンジラウレート（共同薬品(株)：KS12
60）1.4mg、MEK 800gを追加混合し、塗布液を調整し
た。Next, an antifouling layer was applied to a polyethylene terephthalate (PET) protective film having a thickness of 9 μm. The coating solution for the antifouling layer is 40 g of a fluorine-based copolymer resin solution (Lumiflon LF504X (30% xylene solution) manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) and melamine-formaldehyde (Nippon Shokubai Co., Ltd .: Eposter S6) 28.4 as an organic filler. g, a mixed solution of 0.5 g of an aluminum coupling agent (Ajinomoto Co., Inc .: Plenact AL-M) and 200 g of methyl ethyl ketone (MEK) as a dispersant was dispersed and mixed by a ball mill using zirconia balls of 3 mmφ for 20 hours. 360 g of LF504X (30% xylene solution) was added, and the mixture was further dispersed for 4 hours. Then, 5.6 g of a silicone macromonomer (manufactured by Chisso Corporation: Cylaprene FM-DA26),
44.4 g of polyisocyanate (Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd .: Sumidur N3300 (solid content 100%)) as a crosslinking agent and dibutyltin dilaurate as a catalyst (Kyodo Yakuhin Co., Ltd .: KS12
60) 1.4 mg and 800 g of MEK were additionally mixed to prepare a coating solution.

【００５０】耐熱再剥離フイルム（ PANAC(株)：CT38）
を貼り合わせて裏打ちした 9μm厚PETフイルム（東レ
(株)：ルミラー9-F53)上に、この塗布液をロールコータ
ーで塗布した後、120℃で 20分間熱処理して乾燥すると
ともに熱硬化させ、厚さ2μmの防汚層を設けた。Heat-removable film (PANAC Corporation: CT38)
9μm thick PET film (Toray
This coating solution was applied on a roll coater on Co., Ltd .: Lumirror 9-F53), heat-treated at 120 ° C. for 20 minutes, dried and thermally cured to provide a 2 μm-thick antifouling layer.

【００５１】次に、防汚層を設けた9μm厚 PETフイルム
を耐熱再剥離フイルムから剥離し、防汚層と反対側に、
ポリエステル樹脂溶液（東洋紡績(株)：バイロン30SS）
を塗布、乾燥して接着層（接着剤塗布重量2g/m²）を設
けた。Next, the 9 μm-thick PET film provided with the antifouling layer was peeled off from the heat-resistant re-peelable film, and on the opposite side of the antifouling layer,
Polyester resin solution (Toyobo Co., Ltd .: Byron 30SS)
Was applied and dried to form an adhesive layer (adhesive application weight 2 g / m ² ).

【００５２】水分量 0.001％以下の６フッ化エタンによ
り空気を置換したチャンバー内に支持体付き蛍光体層を
入れ、蛍光体層周囲の空気を６フッ化エタンに置換した
後、蛍光体層上に接着層を介してPETフィルムを接着し
た。The phosphor layer with the support was placed in a chamber in which the air was replaced with ethane hexafluoride having a water content of 0.001% or less, and the air around the phosphor layer was replaced with ethane hexafluoride. A PET film was adhered to the film via an adhesive layer.

【００５３】続いて、フッ素系共重合体樹脂溶液（旭硝
子(株)製：ルミフロンLF504X (30％キシレン溶液)）40
g、架橋剤としてポリイソシアネート（日本ポリウレタ
ン(株):コロネートHX）44.4g、触媒としてジブチルチン
ジラウレート（共同薬品(株)：KS1260)1.4mg、黄変防止
剤としてエポキシ樹脂（油化シェルエポキシ(株)：エピ
コート#1001(固形)）0.6ｇ、滑り剤として反応性シリコ
ーン（チッソ(株)：FM-DA26）0.2g、MEK 15gを混合して
側面硬化被膜塗布液を調整した。Subsequently, a fluorine-based copolymer resin solution (Lumiflon LF504X (30% xylene solution) manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) 40
g, 44.4 g of a polyisocyanate (Nippon Polyurethane Co., Ltd .: Coronate HX) as a cross-linking agent, 1.4 mg of dibutyltin dilaurate (Kyodo Yakuhin Co., Ltd .: KS1260) as a catalyst, and an epoxy resin (oiled shell epoxy Co., Ltd .: 0.6 g of Epicoat # 1001 (solid)), 0.2 g of reactive silicone (FM-DA26, Chisso Corp.) and 15 g of MEK as a slipping agent were mixed to prepare a coating solution for a side surface cured film.

【００５４】先に製造した保護層が付設された蛍光体層
の各側面に、この塗布液をチャンバー中で塗布し、乾燥
させて、膜厚約25μmの側面硬化皮膜を形成した。This coating solution was applied in a chamber to each side surface of the phosphor layer provided with the protective layer prepared above and dried to form a side cured film having a thickness of about 25 μm.

【００５５】以上のようにして、支持体と保護層との間
に密閉空間が形成されており、この密閉空間内に蛍光体
層とフッ素系化合物の疎水性不活性ガスとが封入され、
側面が側面硬化被膜により保護された放射線像変換パネ
ルを得た。As described above, the sealed space is formed between the support and the protective layer, and the phosphor layer and the hydrophobic inert gas of the fluorine compound are sealed in the sealed space.
There was obtained a radiation image storage panel whose side surfaces were protected by a side surface cured film.

【００５６】（実施例２）実施例１で使用した保護層に
換えて、蛍光体層上に石英ガラス板と同サイズに切断し
た日本板硝子(株)製の UFF0.40ガラス板を保護膜として
乗せ、周縁部をエポキシ系の接着剤（日本チバガイギー
(株)製 AV138+HV998）で接着して封止し、蛍光体層とフ
ッ素系化合物の疎水性不活性ガスとが封入された放射線
像変換パネルを得た。(Example 2) Instead of the protective layer used in Example 1, a UFF0.40 glass plate manufactured by Nippon Sheet Glass Co., Ltd. cut on the phosphor layer to the same size as a quartz glass plate was used as a protective film. Put it on the periphery and use epoxy adhesive (Nippon Ciba Geigy)
Then, a radiation image conversion panel in which the phosphor layer and a hydrophobic inert gas of a fluorine compound were sealed was obtained.

【００５７】（実施例３）実施例１で使用した６フッ化
エタンに換えて、３フッ化窒素（水分量0.001％以下）
を使用した以外は同様にして放射線像変換パネルを得
た。(Example 3) Instead of ethane hexafluoride used in Example 1, nitrogen trifluoride (water content 0.001% or less)
A radiation image conversion panel was obtained in the same manner except that was used.

【００５８】（実施例４）実施例１で使用した６フッ化
エタンに換えて、ＣＨ₂ ＦＣＦ₃ （HFC-134a）を使用し
た以外は同様にして放射線像変換パネルを得た。Example 4 A radiation image conversion panel was obtained in the same manner except that CH ₂ FCF ₃ (HFC-134a) was used instead of ethane hexafluoride used in Example 1.

【００５９】（比較例１）実施例１で使用した６フッ化
エタンに換えて、乾燥Ｎ₂ガス（含水量0.001mg/l）を使
用した以外は同様にして放射線像変換パネルを得た。Comparative Example 1 A radiation image conversion panel was obtained in the same manner as in Example 1, except that dry N ₂ gas (water content: 0.001 mg / l) was used instead of ethane hexafluoride.

【００６０】（比較例２）実施例２で使用した６フッ化
エタンに換えて、乾燥Ｎ₂ガス（含水量0.001mg/l）を使
用した以外は同様にして放射線像変換パネルを得た。Comparative Example 2 A radiation image conversion panel was obtained in the same manner except that dry N ₂ gas (water content 0.001 mg / l) was used instead of ethane hexafluoride used in Example 2.

【００６１】（評価実験）得られたパネルを60℃90％RH
の温湿度に置き、４週間経時した時点で輝尽性発光の変
化を調べ、以下の３段階で耐湿性を評価した。 ○：低下５％未満 △：低下５％以上１０％未満 ×：低下１０％以上 結果を第１表に示す。(Evaluation Experiment) The obtained panel was heated at 60 ° C. and 90% RH.
After 4 weeks, the change in stimulable luminescence was examined, and the moisture resistance was evaluated in the following three stages. ：: Less than 5% decrease Δ: 5% or more and less than 10% ×: 10% or more decrease The results are shown in Table 1.

【００６２】[0062]

【表１】 実施例から明らかなように、9μmと薄い PET上に防汚層
を設けた保護層のように、透湿度がゼロでない保護層を
用いた場合でも、疎水性不活性ガスによる封止によっ
て、従来の乾燥ガスを封入した放射線像変換パネルに比
べ、耐湿性が大幅に向上された。[Table 1] As is evident from the examples, even when a protective layer having a non-zero moisture permeability is used, such as a protective layer having an antifouling layer formed on a thin PET film having a thickness of 9 μm, the conventional sealing method using a hydrophobic inert gas is used. Moisture resistance was greatly improved compared to a radiation image conversion panel in which a dry gas was sealed.

【００６３】以上の実験結果から明らかなように、本発
明の放射線像変換パネルは耐湿性に非常に優れ、蛍光体
層の吸湿による画質劣化が少ないことが明らかである。As is clear from the above experimental results, it is clear that the radiation image conversion panel of the present invention is very excellent in moisture resistance, and the image quality is hardly deteriorated due to moisture absorption of the phosphor layer.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】本発明の第一の実施の形態を示す放射線発光パ
ネルの断面図FIG. 1 is a sectional view of a radiation-emitting panel according to a first embodiment of the present invention.

【図２】本発明の第二の実施の形態を示す放射線発光パ
ネルの断面図FIG. 2 is a sectional view of a radiation-emitting panel according to a second embodiment of the present invention.

【図３】本発明の第三の実施の形態を示す放射線発光パ
ネルの断面図FIG. 3 is a sectional view of a radiation-emitting panel according to a third embodiment of the present invention.

【図４】柱状形態の蛍光体で構成された蛍光体層と支持
体を模式的に表した断面図FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a phosphor layer composed of a phosphor in a columnar form and a support.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 放射線発光パネル 11 蛍光体層 12 密閉空間 13 保護層 14 支持体 15 接着層 21 蛍光体層 22 密閉空間 23 保護層 24 支持体 25 封止剤 26 防汚層 27 接着層 30 放射線像変換パネル 31 蛍光体層 32 密閉空間 33 保護層 34 支持体 35 封止剤 10 Radiation emitting panel 11 Phosphor layer 12 Enclosed space 13 Protective layer 14 Support 15 Adhesive layer 21 Phosphor layer 22 Enclosed space 23 Protective layer 24 Support 25 Sealant 26 Antifouling layer 27 Adhesive layer 30 Radiation image conversion panel 31 Phosphor layer 32 Enclosed space 33 Protective layer 34 Support 35 Sealant

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 支持体と保護層との間に、気相堆積法に
より設けられた蛍光体層を有する放射線発光パネルにお
いて、前記支持体と前記保護層との間に密閉空間が形成
されており、該密閉空間内に前記蛍光体層と疎水性不活
性ガスとが封入されていることを特徴とする放射線発光
パネル。1. A radiation-emitting panel having a phosphor layer provided between a support and a protective layer by a vapor deposition method, wherein a closed space is formed between the support and the protective layer. A radiation emitting panel, wherein the phosphor layer and a hydrophobic inert gas are sealed in the closed space. 【請求項２】 前記疎水性不活性ガスがフッ素系化合物
であることを特徴とする請求項１記載の放射線発光パネ
ル。2. The radiation-emitting panel according to claim 1, wherein the hydrophobic inert gas is a fluorine-based compound. 【請求項３】 前記蛍光体が輝尽性蛍光体であることを
特徴とする請求項１または２記載の放射線発光パネル。3. The radiation-emitting panel according to claim 1, wherein the phosphor is a stimulable phosphor.