JP2004085367A - Radiation image conversion panel - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation image conversion panel having excellent moisture resistance and durability, and capable of imparting highly-sensitive and excellent image quality usable for a long period in the excellent state. <P>SOLUTION: When providing a stimulable phosphor layer 2 on a substrate 1 and providing a transparent protective film 6 on the stimulable phosphor layer 2, the transparent protective film 6 comprises a moisture-proof film 5a having a transparent inorganic layer 4a on a substrate film 3a and a moisture-proof film 5b having a transparent inorganic layer 4b on a substrate film 3b, and is arranged so that the transparent inorganic layer 4b side of the moisture-proof film 5b is faced to the stimulable phosphor layer 2 side, and the stimulable phosphor layer 2 is sealed by the transparent protective film 6 and an adhesive 7. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、輝尽性蛍光体を利用する放射線像変換方法に用いられる放射線像変換パネルに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来の放射線写真法に代わる方法として、たとえば特開昭５５−１２１４５号に記載されているような輝尽性蛍光体を用いる放射線像変換方法が知られている。この方法は、輝尽性蛍光体を含有する放射線像変換パネル（蓄積性蛍光体シート）を利用するもので、被写体を透過した、あるいは被検体から発せられた放射線をパネルの輝尽性蛍光体に吸収させ、そののちに輝尽性蛍光体を可視光線、赤外線などの電磁波（励起光）で時系列的に励起することにより、輝尽性蛍光体中に蓄積されている放射線エネルギーを蛍光（輝尽発光光）として放出させ、この蛍光を光電的に読み取って電気信号を得、次いで得られた電気信号に基づいて被写体あるいは被検体の放射線画像を可視像として再生するものである。読取りを終えたパネルは、残存する画像の消去が行なわれた後、次の撮影のために備えられる。すなわち、放射線像変換パネルは繰り返し使用される。
【０００３】
この放射線像変換方法によれば、従来の放射線写真フィルムと増感紙との組合せを用いる放射線写真法による場合に比較して、はるかに少ない被曝線量で情報量の豊富な放射線画像を得ることができるという利点がある。さらに、従来の放射線写真法では一回の撮影ごとに放射線写真フィルムを消費するのに対して、この放射線像変換方法では放射線像変換パネルを繰返し使用するので資源保護、経済効率の面からも有利である。
【０００４】
このように、放射線像変換方法は非常に有利な画像形成方法であるが、この方法に用いられる放射線像変換パネルも従来の放射線写真法に用いられる増感紙と同様に、高感度で良好な画質を与えるものであって、放射線画像の画質を劣化させることなく長期間の使用に耐える性能を有するものであることが望ましい。
【０００５】
しかし、放射線像変換パネルの製造に用いられる輝尽性蛍光体は一般に吸湿性が大きく、通常の気候条件の室内に放置すると空気中の水分を吸収し、吸収した水分の増大にともなって蛍光体の放射線感度が低下し、時間の経過とともに著しく劣化するという問題があった。
【０００６】
また、一般に、輝尽性蛍光体に記録された放射線画像の潜像は、放射線照射後の時間の経過にともなって退行するため、再生される放射線画像信号の強度は放射線照射から励起光による走査までの時間が長いほど小さくなるという性質を有するが、輝尽性蛍光体が吸湿するとこの潜像退行の速さが速くなるため、吸湿した輝尽性蛍光体を有する放射線像変換パネルを用いると、放射線画像の読み取り時における再生信号の再現性が低下する傾向にあった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
上記のような輝尽性蛍光体の吸湿による劣化現象を防止するために、フィルム保護膜によって蛍光体層を封止する方法が知られている（例えば、特許第２８４３９９８号、特許第２８８６１６５号、特許第２８２９６０７号など）。フィルム保護膜による封止は、ガラス保護膜による封止に比較して軽量であり、Ｘ線吸収が低い等の利点があるが、ガラス保護膜による封止に比較して透湿度が高く、蛍光体の劣化が早く起こりやすいという問題を有している。また、キャスティングポリプロピレン（ＣＰＰ）等を熱融着してフィルム保護膜を設ける場合は、ＣＰＰが厚いために保護膜全体が厚膜になる傾向があり、輝尽性発光光が広がってしまい画像がぼけるという問題が生じる。
【０００８】
また、上述のように放射線像変換パネルは繰り返し使用されるため、画像劣化を防止の観点からは、搬送ローラ等の機械部分との接触によって保護層表面に傷がつくことを防止する必要もある。
【０００９】
本発明は上記事情に鑑みなされたものであって、防湿性、耐久性に優れ、長期間良好な状態で使用することのできる高感度で良好な画質を得ることが可能な放射線像変換パネルを提供することを目的とするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明の放射線像変換パネルは、基材フィルム上に透明無機層を有する防湿フィルムを少なくとも１層有する透明保護膜と輝尽性蛍光体層とを有する放射線像変換パネルであって、前記透明保護膜が、前記防湿フィルムの透明無機層側を前記輝尽性蛍光体層側に向けて配され、前記輝尽性蛍光体層を封止していることを特徴とするものである。
【００１１】
前記透明保護膜が前記防湿フィルムを２層以上積層したものである場合は、互いに隣りあう前記防湿フィルムが、一方の防湿フィルムの前記基材フィルム面上に他方の防湿フィルムの前記透明無機層を積層したものであることが好ましい。
【００１２】
また、前記輝尽性蛍光体層が基板上に設けられている場合、前記透明保護膜によって前記基板の前記輝尽性蛍光体層が設けられていない面側で接着するように設けてもよい。
【００１３】
前記透明無機層は、金属酸化物、金属窒化物または金属酸窒化物のいずれかからなるものであることが好ましい。
前記透明保護膜の膜厚は、５０μｍ以下であることが好ましい。
【００１４】
前記封止は、１００℃未満で硬化する樹脂により前記透明保護層を接着するものであることが好ましく、前記樹脂の水蒸気透過係数は５０ｇ・ｍｍ／（ｍ^２・ｄ）以下であることがより好ましい。
【００１５】
【発明の効果】
本発明の放射線像変換パネルは、基材フィルム上に透明無機層を有する防湿フィルムを少なくとも１層有する透明保護膜が、防湿フィルムの透明無機層側を輝尽性蛍光体層側に向けて配されるため、基材フィルムがパネル表面を覆うことになり、防傷性を高めることが可能になる。また、輝尽性蛍光体層を封止しているため、高い防湿性と耐久性を有するパネルとすることができる。さらに、従来のＣＰＰを熱融着することによって配する保護膜の場合には保護膜が厚膜となって、輝尽性発光光が広がってしまい画像がぼけるという問題があったが、本発明の放射線像変換パネルは、輝尽性蛍光体層を封止するものであるためＣＰＰを使用する必要がなく、保護膜を薄膜とすることができるため、高感度で良好な画質を得ることが可能なパネルとすることができる。
【００１６】
なお、輝尽性蛍光体層が基板上に設けられている場合に、基板の輝尽性蛍光体層が設けられていない面側で透明保護膜を接着することによって、輝尽性蛍光体層の側面からの吸湿をより効果的に防止することが可能となるためより高い防湿性と耐久性を有するパネルとすることができる。また、透明無機層を、金属酸化物、金属窒化物または金属酸窒化物のいずれかからなるものとすることにより、より高い防湿性を期待することができる。
【００１７】
また、透明保護膜全体の膜厚を５０μｍ以下とすることによって、輝尽性発光光が保護膜の内部で広がることが抑制されるので、より高感度で良好な画質を得ることが可能なパネルとすることができる。
【００１８】
また、封止を１００℃未満で硬化する樹脂により前記透明保護層を接着するものとすることにより、さらに高い防湿性と耐久性を有するパネルとすることができるとともに、保護膜を配するときに生じる防湿性の劣化を抑制することが可能となる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図１は本発明の第一の実施の形態を示す放射線像変換パネルの概略断面図、図２は本発明の第二の実施の形態を示す放射線像変換パネルの概略断面図である。
【００２０】
図１に示す放射線像変換パネル１０は、基板１上に輝尽性蛍光体層２を有し、基材フィルム３ａ上に透明無機層４ａを有する防湿フィルム５ａと、基材フィルム３ｂ上に透明無機層４ｂを有する防湿フィルム５ｂとからなる透明保護膜６を、防湿フィルム５ｂの透明無機層４ｂ側を輝尽性蛍光体層２側に向けて配されると共に、基板１上であって、輝尽性蛍光体層２の周りに封止枠８を有し、この封止枠８に接着剤７を用いて輝尽性蛍光体層２を封止してなるものである。図１では透明保護膜６が２枚の防湿フィルム５ａ、５ｂからなる構成を示しているが、１枚であってもよく、また２枚より多く積層してもかまわない。
【００２１】
保護膜の最も外側の層は、図１に示すように基材フィルムであることが好ましい。透明無機層は防傷性が低いため、これを保護膜の最外層とすると搬送ローラ等の機械部分との接触によって傷がつきやすいが、基材フィルムを最外層とすることによってより高い防傷性を発揮させることが可能となる。
【００２２】
防湿フィルムを２枚以上積層する場合は、図１に示すように互いに隣りあう防湿フィルム５ａ、５ｂは、透明無機層４ａと基材フィルム３ｂを向かい合わせに積層したものとすることが好ましい。透明無機層４ａと透明無機層４ｂとを向かい合わせに積層すると、保護膜中で光による干渉が発生しやすくなり、画像に悪影響を及ぼすため好ましくない。
【００２３】
図１に示す放射線像変換パネルは、基板１上の輝尽性蛍光体層２が設けられていない部分に、保護膜６を接着剤７によって接着し、輝尽性蛍光体層２を封止してなる構成を示しているが、図２に示す放射線像変換パネル２０のように、透明保護膜２６が基板２１の輝尽性蛍光体層２２が設けられていない面側で接着剤２７によって接着されていてもよい。
【００２４】
また、図１に示す放射線像変換パネルは輝尽性蛍光体層の周りに封止枠を設けたものを示しているが、図３に示す放射線像変換パネル３０ように、封止枠を設けることなく、接着剤３７によって直接、輝尽性蛍光体層３２を封止する構成としてもよい。
【００２５】
なお、図１、図２および図３の放射線像変換パネルは、いずれも輝尽性蛍光体層と保護膜との間に何ら別の層を有していないものを示しているが、保護膜全体が厚膜とならず、内部で輝尽性発光光が広がらない程度の厚みの層（２〜３μｍ程度）、例えば蒸着層、樹脂塗布層（糊層等）などを設けることは何ら差し支えない。透明保護膜の膜厚は、５０μｍ以下であることが好ましく、さらには３０μｍ以下であることが好ましい。
【００２６】
以下、さらに各層について詳細に説明する。
透明無機層は、金属酸化物、金属窒化物または金属酸窒化物のいずれかからなることが好ましい。より具体的には、無機層は波長３００ｎｍから１０００ｎｍで光吸収がなくかつガスバリア性を有する無機物質を蒸着した透明な蒸着層であることが好ましい。波長３００ｎｍから１０００ｎｍで光吸収がない無機物質としては、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化窒化ケイ素、酸化窒化アルミニウム等を好ましくあげることができる。これらのうち特に酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素は光透過率が高くかつガスバリア性が高い、すなわちクラックやマイクロポアが少なく緻密な膜を形成することができるのでより好ましく用いることができる。防湿フィルムを２枚以上積層する場合、それぞれの防湿フィルムの透明無機層は異なる材質からなるものであっても、同じ材質からなるものであってもよい。
【００２７】
透明無機層は、スパッタリング、ＰＶＤ法、ＣＶＤ法等の真空堆積法によって、基材フィルム上に直接敷設される。いずれの方法によっても、無機層の透明性、バリヤー性は大きく変わらないので、適宜選択することが可能であるが、形成上の容易性、簡便性の観点からはＣＶＤ法、中でもＰＥ−ＣＶＤ（Ｐｌａｓｍａ　ｅｎｈａｎｃｅｄ　ＣＶＤ　）、ＥＣＲ−ＰＥ−ＣＶＤ法等の方法が好ましい。
【００２８】
基材フィルムは、たとえば、酢酸セルロース、ニトロセルロースなどのセルロース誘導体；あるいはポリメチルメタクリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリカーボネート、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニルコポリマー、フッ素系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、アクリル、ポリパラキシリレン、ＰＥＴ、塩酸ゴム、塩化ビニリデン共重合体等の合成高分子物質のような透明な高分子物質のフィルムを用いることができる。
【００２９】
保護膜は、乾燥雰囲気下で、接着剤を用いて輝尽性蛍光体層を封止することによって設ける。封止は減圧下で行うことが好ましい。このようにすることにより、特に気圧の低い状態における、蛍光体層と保護膜との間の剥離を抑制することができる。
【００３０】
輝尽性蛍光体層の封止に用いられる接着剤は、特に限定されるものではないが１００℃未満で硬化する樹脂であることが好ましく、樹脂の水蒸気透過係数が５０ｇ・ｍｍ／（ｍ^２・ｄ）以下であることが好ましい。より具体的には、ビニル系、アクリル系、ポリアミド系、エポキシ系、ゴム系、ウレタン系等の各種の接着剤を使用することができる。なお、この接着剤は、防湿フィルムを２枚以上積層する場合の防湿フィルムの貼り合わせにも用いることができる。
【００３１】
また、蛍光体層の側面からの吸湿を充分に防止するため、特に図１に示すように基板上の輝尽性蛍光体層が設けられていない部分に保護膜を接着剤で接着する場合には、放射線像変換パネルの端面をガラス、エポキシ樹脂、ＵＶ硬化樹脂あるいは金属（ソルダー）等で封止することが好ましい。なお、蛍光体層の吸湿による性能劣化を防ぐため、蒸着槽（蒸着機）からの取り出しから端面の封止までは、真空あるいは乾燥した空気または不活性ガスや疎水性の不活性ガス中で行うことが好ましい。
【００３２】
本発明の放射線像変換パネルに用いられる輝尽性蛍光体の例としては、
特公平７−８４５８８号等に記載されている一般式　（Ｍ_１−ｆ・Ｍ_ｆ ^Ｉ）Ｘ・ｂＭ^ＩＩＩＸ３″：ｃＡ（Ｉ）で表される輝尽性蛍光体が好ましい。輝尽発光輝度の点から一般式（Ｉ）における　Ｍ^Ｉとしては、Ｒｂ，Ｃｓおよび／またはＣｓを含有したＮａ、同Ｋが好ましく、特にＲｂおよびＣｓから選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属が好ましい。Ｍ^ＩＩＩとしてはＹ，Ｌａ，Ｌｕ，Ａｌ，ＧａおよびＩｎから選ばれる少なくとも一種の三価金属が好ましい。Ｘ″としては、Ｆ，ＣｌおよびＢｒから選ばれる少なくとも一種のハロゲンが好ましい。Ｍ^ＩＩＩＸ３″の含有率を表すｂ値は０≦ｂ≦１０^−２の範囲から選ばれるのが好ましい。
【００３３】
一般式（Ｉ）において、賦活剤ＡとしてはＥｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｇｄ，Ｓｍ，ＴｌおよびＮａから選ばれる少なくとも一種の金属が好ましく、特にＥｕ，Ｃｅ，Ｓｍ，ＴｌおよびＮａから選ばれる少なくとも一種の金属が好ましい。また、賦活剤の量を表すＣ値は１０^−６＜Ｃ＜０．１の範囲から選ばれるのが輝尽発光輝度の点から好ましい。
【００３４】
また、さらに以下の輝尽性蛍光体も用いることができる。
米国特許第３，８５９，５２７号明細書に記載されているＳｒＳ：Ｃｅ，Ｓｍ、ＳｒＳ：Ｅｕ，Ｓｍ、ＴｈＯ_２：Ｅｒ、およびＬａ_２Ｏ_２Ｓ：Ｅｕ，Ｓｍ、
【００３５】
特開昭５５−１２１４２号に記載されている　ＺｎＳ：Ｃｕ，Ｐｂ、ＢａＯ・ｘＡｌ_２Ｏ_３：Ｅｕ（ただし、０．８≦ｘ≦１０）、および、Ｍ^ＩＩＯ・ｘＳｉＯ_２：Ａ（ただし、Ｍ^ＩＩはＭｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｚｎ，Ｃｄ、またはＢａであり、ＡはＣｅ，Ｔｂ，Ｅｕ，Ｔｍ，Ｐｂ，Ｔｌ，ＢｉまたはＭｎであり、ｘは０．５≦ｘ≦２．５である）、
【００３６】
特開昭５５−１２１４３号に記載されている　（Ｂａ_{１−Ｘ−ｙ}，Ｍｇ_Ｘ，Ｃａ_ｙ）ＦＸ：ａＥｕ^２＋（ただし、Ｘ　はＣｌおよびＢｒのうちの少なくとも一種であり、ｘおよびｙは、０＜ｘ＋ｙ≦０．６、かつｘｙ≠０であり、ａは、１０^−６≦ａ≦５×１０^−２である）、
【００３７】
特開昭５５−１２１４４号に記載されている　ＬｎＯＸ：ｘＡ（ただし、ＬｎはＬａ，Ｙ，Ｇｄ、およびＬｕのうちの少なくとも一種、ＸはＣｌおよびＢｒのうちの少なくとも一種、ＡはＣｅおよびＴｂのうちの少なくとも一種、そして、ｘは、０＜ｘ＜０．１である）、
【００３８】
特開昭５５−１２１４５号に記載されている（Ｂａ_１−Ｘ，Ｍ^２＋ _Ｘ）ＦＸ：ｙＡ（ただし、Ｍ^２＋はＭｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｚｎ、およびＣｄのうちの少なくとも一種、ＸはＣｌ，ＢｒおよびＩのうちの少なくとも一種、ＡはＥｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｐｒ，Ｈｏ，Ｎｄ，ＹｂおよびＥｒのうちの少なくとも一種、そしてｘは０≦ｘ≦０．６、ｙは０≦ｙ≦０．２である）、
【００３９】
特開昭５５−１６００７８号に記載されているＭ^ＩＩＦＸ・ｘＡ：ｙＬｎ（ただし、Ｍ^ＩＩはＢａ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｍｇ，ＺｎおよびＣｄのうちの少なくとも一種、ＡはＢｅＯ，ＭｇＯ，ＣａＯ，ＳｒＯ，ＢａＯ，ＺｎＯ，Ａｌ_２Ｏ_３，Ｙ_２Ｏ_３，Ｌａ_２Ｏ_３，Ｉｎ_２Ｏ_３，ＳｉＯ_２，ＴｉＯ_２，ＺｒＯ_２，ＧｅＯ_２，ＳｎＯ_２，Ｎｂ_２Ｏ_５，Ｔａ_２Ｏ_５およびＴｈＯ_２のうちの少なくとも一種、ＬｎはＥｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｐｒ，Ｈｏ，Ｎｄ，Ｙｂ，Ｅｒ，ＳｍおよびＧｄのうちの少なくとも一種、ＸはＣｌ，ＢｒおよびＩのうちの少なくとも一種であり、ｘおよびｙはそれぞれ　５×１０^−５≦ｘ≦０．５、および０＜ｙ≦０．２である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００４０】
特開昭５６−１１６７７７号に記載されている（Ｂａ_１−Ｘ，Ｍ^ＩＩ _Ｘ）Ｆ_２・ａＢａＸ_２：ｙＥｕ，ｚＡ（ただし、Ｍ^ＩＩはベリリウム，マグネシウム，カルシウム，ストロンチウム，亜鉛およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Ｘは塩素，臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一種、Ａはジルコニウムおよびスカンジウムのうちの少なくとも一種であり、ａ、ｘ、ｙ、およびｚはそれぞれ　０．５≦ａ≦１．２５、０≦ｘ≦１、１０^−６≦ｙ≦２×１０^−１、および０＜ｚ≦１０^−２である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００４１】
特開昭５７−２３６７３号に記載されている（Ｂａ_１−Ｘ，Ｍ^ＩＩ _Ｘ）Ｆ_２・ａＢａＸ_２：ｙＥｕ，ｚＢ（ただし、Ｍ^ＩＩはベリリウム，マグネシウム，カルシウム，ストロンチウム，亜鉛およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Ｘは塩素，臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一種であり、ａ、ｘ、ｙ、およびｚはそれぞれ０．５≦ａ≦１．２５、０≦ｘ≦１、１０^−６≦ｙ≦２×１０^−１、および０＜ｚ≦１０^−２である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００４２】
特開昭５７−２３６７５号に記載されている（Ｂａ_１−Ｘ，Ｍ^ＩＩ _Ｘ）Ｆ_２・ａＢａＸ_２：ｙＥｕ，ｚＡ（ただし、Ｍ^ＩＩはベリリウム，マグネシウム，カルシウム，ストロンチウム，亜鉛およびカドミウムのうちの少なくとも一種、Ｘは塩素，臭素およびヨウ素のうちの少なくとも一種、Ａは砒素および硅素のうちの少なくとも一種であり、ａ、ｘ、ｙ、およびｚはそれぞれ０．５≦ａ≦１．２５、０≦ｘ≦１、１０^−６≦ｙ≦２×１０^−１、および０＜ｚ≦５×１０^−１である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００４３】
特開昭５８−６９２８１号に記載されている　Ｍ^ＩＩＩＯＸ：ｘＣｅ（ただし、Ｍ^ＩＩＩはＰｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，ＹｂおよびＢｉからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属であり、ＸはＣｌおよびＢｒのうちのいずれか一方あるいはその両方であり、ｘは０＜ｘ＜０．１である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００４４】
特開昭５８−２０６６７８号に記載されているＢａ_１−ＸＭ_Ｘ／２Ｌ_Ｘ／２ＦＸ：ｙＥｕ^２＋（ただし、ＭはＬｉ，Ｎａ，Ｋ，ＲｂおよびＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属を表わし；Ｌは、Ｓｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕ，Ａｌ，Ｇａ，ＩｎおよびＴｌからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属を表わし；Ｘ　は、Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンを表わし；そして、ｘは１０^−２≦ｘ≦０．５、ｙは０＜ｙ≦０．１である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００４５】
特開昭５９−２７９８０号に記載のＢａＦＸ・ｘＡ：ｙＥｕ^２＋（ただし、Ｘは、Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；Ａはテトラフルオロホウ酸化合物の焼成物であり；そして、ｘは１０^−６≦ｘ≦０．１、ｙは０＜ｙ≦０．１　である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００４６】
特開昭５９−４７２８９号に記載されているＢａＦＸ・ｘＡ：ｙＥｕ^２＋（ただし、Ｘは、Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；Ａは、ヘキサフルオロケイ酸，ヘキサフルオロチタン酸およびヘキサフルオロジルコニウム酸の一価もしくは二価金属の塩からなるヘキサフルオロ化合物群より選ばれる少なくとも一種の化合物の焼成物であり；そして、ｘは１０^−６≦ｘ≦０．１、ｙは０＜ｙ≦０．１　である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００４７】
特開昭５９−５６４７９号に記載されているＢａＦＸ・ｘＮａＸ′：ａＥｕ^２＋（ただし、ＸおよびＸ′は、それぞれＣｌ、Ｂｒ、およびＩのうちの少なくとも一種であり、ｘおよびａはそれぞれ０＜ｘ≦２、および０＜ａ≦０．２である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００４８】
特開昭５９−５６４８０号に記載されているＭ^ＩＩＦＸ・ｘＮａＸ′：ｙＥｕ^２＋：ｚＡ（ただし、Ｍ^ＩＩは、Ｂａ，ＳｒおよびＣａからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；Ｘ　およびＸ′は、それぞれＣｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；Ａは、Ｖ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｆｅ，ＣｏおよびＮｉより選ばれる少なくとも一種の遷移金属であり；そして、ｘは０＜ｘ≦２、ｙは０＜ｙ≦０．２、およびｚは０＜ｚ≦１０^−２である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００４９】
特開昭５９−７５２００号に記載されている　Ｍ^ＩＩＦＸ・ａＭ^ＩＸ′・ｂＭ′^ＩＩＸ″_２・ｃＭ^ＩＩＩＸ_３・ｘＡ：ｙＥｕ^２＋（ただし、Ｍ^ＩＩはＢａ，ＳｒおよびＣａからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；Ｍ^ＩはＬｉ，Ｎａ，Ｋ，ＲｂおよびＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり；Ｍ′^ＩＩはＢｅおよびＭｇからなる群より選ばれる少なくとも一種の二価金属であり；Ｍ^ＩＩＩはＡｌ，Ｇａ，ＩｎおよびＴｌからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属であり；Ａは金属酸化物であり；ＸはＣｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；Ｘ′，Ｘ″および　Ｘは、Ｆ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そして、ａは０≦ａ≦２、ｂは０≦ｂ≦１０^−２、ｃは０≦ｃ≦１０^−２、かつａ＋ｂ＋ｃ≧１０^−６であり；ｘ　は０＜ｘ≦０．５、ｙは０＜ｙ≦０．２　である）の組成式で表わされる蛍光体、
【００５０】
特開昭６０−８４３８１号に記載されている　Ｍ^ＩＩＸ_２・ａＭ^ＩＩＸ′_２：ｘＥｕ^２＋（ただし、Ｍ^ＩＩはＢａ，Ｓｒおよび　Ｃａからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；ＸおよびＸ′はＣｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであって、かつ　Ｘ≠Ｘ′であり；そしてａは０．１≦ａ≦１０．０、ｘは０＜ｘ≦０．２である）の組成式で表わされる輝尽性蛍光体、
【００５１】
特開昭６０−１０１１７３号に記載されているＭ^ＩＩＦＸ・ａＭ^ＩＸ′：ｘＥｕ^２＋（ただし、Ｍ^{ＩＩ 　は}Ｂａ，ＳｒおよびＣａからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；Ｍ^ＩはＲｂおよびＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり；ＸはＣｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；Ｘ′はＦ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そしてａおよびｘはそれぞれ０≦ａ≦４．０および０＜ｘ≦０．２である）の組成式で表わされる輝尽性蛍光体、
【００５２】
特開昭６２−２５１８９号に記載されているＭ^ＩＸ：ｘＢｉ（　ただし、Ｍ^ＩはＲｂおよびＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり；Ｘ　はＣｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そしてｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の数値である）の組成式で表わされる輝尽性蛍光体、
【００５３】
特開平２−２２９８８２号に記載のＬｎＯＸ：ｘＣｅ（但し、ＬｎはＬａ，Ｙ，ＧｄおよびＬｕのうちの少なくとも一つ、ＸはＣｌ，ＢｒおよびＩのうちの少なくとも一つ、ｘは０＜ｘ≦０．２　であり、ＬｎとＸとの比率が原子比で０．５００＜Ｘ／Ｌｎ≦０．９９８であり、かつ輝尽性励起スペクトルの極大波長λが５５０ｎｍ＜λ＜７００ｎｍ）で表わされるセリウム賦活希土類オキシハロゲン化物蛍光体、
などをあげることができる。
【００５４】
また、上記特開昭６０−８４３８１号に記載されているＭ^ＩＩＸ_２・ａＭ^ＩＩＸ′_２：ｘＥｕ^２＋輝尽性蛍光体には、以下に示すような添加物がＭ^ＩＩＸ_２・ａＭ^ＩＩＸ′_２　１モル当り以下の割合で含まれていてもよい。
【００５５】
特開昭６０−１６６３７９号に記載されているｂＭ^ＩＸ″（ただし、Ｍ^ＩはＲｂおよびＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり、Ｘ″はＦ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そしてｂは０＜ｂ≦１０．０である）；特開昭６０−２２１４８３号に記載されているｂＫＸ″・ｃＭｇＸ_２・ｄＭ^ＩＩＩＸ′_３（ただし、Ｍ^ＩＩＩはＳｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｇｄおよび　Ｌｕからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属であり、Ｘ″、Ｘ　およびＸ′はいずれもＦ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そしてｂ、ｃおよびｄはそれぞれ、０≦ｂ≦２．０、０≦ｃ≦２．０、０≦ｄ≦２．０であって、かつ２×１０^−５≦ｂ＋ｃ＋ｄである）；特開昭６０−２２８５９２号に記載されている　ｙＢ（ただし、ｙは２×１０^−４≦ｙ≦２×１０^−１である）；特開昭６０−２２８５９３号に記載されている　ｂＡ（ただし、ＡはＳｉＯ_２およびＰ_２Ｏ_５からなる群より選ばれる少なくとも一種の酸化物であり、そしてｂは１０^−４≦ｂ≦２×１０^−１である）；特開昭６１−１２０８８３号に記載されているｂＳｉＯ（ただし、ｂは０＜ｂ≦３×１０^−２である）；特開昭６１−１２０８８５号に記載されているｂＳｎＸ″_２（ただし、Ｘ″はＦ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そしてｂは０＜ｂ≦１０^−３である）；特開昭６１−２３５４８６号に記載されているｂＣｓＸ″・ｃＳｎＸ_２（ただし、Ｘ″およびＸ　はそれぞれＦ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、そしてｂおよびｃはそれぞれ、０＜ｂ≦１０．０　および１０^−６≦ｃ≦２×１０^−２である）；および特開昭６１−２３５４８７号に記載されているｂＣｓＸ″・ｙＬｎ^３＋（ただし、Ｘ″はＦ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、ＬｎはＳｃ，Ｙ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，ＹｂおよびＬｕからなる群より選ばれる少なくとも一種の希土類元素であり、そしてｂおよびｙはそれぞれ、０＜ｂ≦１０．０および１０^−６≦ｙ≦１．８×１０^−１である）。
【００５６】
上記の輝尽性蛍光体のうちで、二価ユーロピウム賦活アルカリ土類金属フッ化ハロゲン化物系蛍光体（例えばＢａＦＩ：Ｅｕ）ユーロピウム賦活アルカリ金属ハロゲン化物系蛍光体（例えばＣｓＢｒ：Ｅｕ）、ヨウ素を含有する二価ユーロピウム賦活アルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体、ヨウ素を含有する希土類元素賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体、およびヨウ素を含有するビスマス賦活アルカリ金属ハロゲン化物系蛍光体は高輝度の輝尽発光を示すことから好ましく用いることができ、またこれらの蛍光体は針状結晶とすることができるので、特に吸湿性が問題となりやすいため、本発明の保護層を用いることによって効果的な防湿を図ることができる。
【００５７】
蛍光体層は、蒸着法、スパッタ法、塗布法など公知の方法により支持体上に形成することができる。蒸着法においては、まず支持体を蒸着装置内に設置した後、装置内を排気して１０^−４Ｐａ程度の真空度とする。次いで、輝尽性蛍光体の少なくとも一つを抵抗加熱法、エレクトロンビーム法等の方法で加熱蒸発させて支持体表面に輝尽性蛍光体を所望の厚さに堆積させる。蒸着工程を複数回に分けて輝尽性蛍光体層を形成することも可能である。また、蒸着工程では複数の抵抗加熱器あるいはエレクトロンビームを用いて共蒸着し、支持体上で目的とする輝尽性蛍光体を合成すると同時に輝尽性蛍光体層を形成することもできる。蒸着終了後、輝尽性蛍光体層を加熱処理してもよい。
【００５８】
スパッタ法においては、蒸着法と同様に支持体をスパッタ装置内に設置した後装置内を一旦排気して１０^−４Ｐａ程度の真空度とし、次いでスパッタ用のガスとしてＡｒ，Ｎｅ等の不活性ガスをスパッタ装置内に導入して１０^−１Ｐａ程度のガス圧とする。次に、輝尽性蛍光体をターゲットとして、スパッタリングすることにより、保護層表面に輝尽性蛍光体を所望の厚さに堆積させる。スパッタ工程においても蒸着法と同様に、複数回に分けて輝尽性蛍光体層を形成することも可能であるし、また、それぞれ異なった輝尽性蛍光体からなる複数のターゲットを用いて、同時あるいは順次、ターゲットをスパッタリングして輝尽性蛍光体層を形成することも可能である。また、スパッタ法においては、必要に応じてＯ_２、Ｈ_２やハロゲン等のガスを導入して反応性スパッタを行ってもよい。スパッタ終了後、輝尽性蛍光体層を加熱処理してもよい。
【００５９】
塗布法においては、蛍光体を溶剤とともに充分に混合して結合剤溶液中に輝尽性蛍光体が均一に分散した塗布液を調製し、この塗布液を支持体の表面に均一に塗布することにより塗膜を形成する。この塗布操作は、通常の塗布手段、たとえば、ドクターブレード、ロールコーター、ナイフコーターなどを用いることにより行なうことができる。
【００６０】
蛍光体層の層厚は、目的とする放射線像変換パネルの特性、蛍光体の種類、結合剤と蛍光体との混合比などによって異なり、２０μｍ〜１ｍｍ程度とするのが一般的であるが、５０μｍ〜５００μｍとすることがより好ましい。
【００６１】
基板としては、従来の放射線像変換パネルの支持体として公知の材料から任意に選ぶことができる。また、支持体と蛍光体層の結合を強化するため、あるいは放射線像変換パネルとしての感度もしくは画質（鮮鋭度、粒状性）を向上させるために、蛍光体層が設けられる側の支持体表面にゼラチンなどの高分子物質を塗布して接着性付与層としたり、あるいは二酸化チタンなどの光反射性物質からなる光反射層、もしくはカーボンブラックなどの光吸収性物質からなる光吸収層などを設けることが知られているが、本発明において用いられる支持体についても、これらの各種の層を設けることができる。それらの構成は所望の放射線像変換パネルの目的、用途などに応じて任意に選択することができる。
【００６２】
なお、特開昭５８−２００２００号に記載されているように、得られる画像の鮮鋭度を向上させる目的で、支持体の蛍光体層側の表面（支持体の蛍光体層側の表面に接着性付与層、光反射層または光吸収層などが設けられている場合には、その表面を意味する）に微小凹凸が形成されていてもよい。
以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明する。
【００６３】
【実施例】
（実施例１）
＜透明保護膜の作製＞
基材フィルムとして厚さ１２μｍのＰＥＴ表面に有機プライマー層を１．５μｍ厚で塗布し、その上に有機ケイ素化合物（ヘキサメチルジシロキサン）を用いたプラズマＣＶＤ法により酸素を供給しながら製膜することで酸化ケイ素層を５０ｎｍ厚で設け防湿フィルムを作製した。その後、この防湿フィルム２枚を同方向に（一方の表面側が酸化ケイ素層面となるように）、２．５μｍ厚のポリエステル樹脂層を介してドライラミネートにより貼り合わせ、５３０ｍｍ角２７μ厚の透明保護膜を得た。透湿度は、０．１ｇ／ｍ^２であった。
【００６４】
＜透明保護膜とガラス封止枠との接着＞
ソーダガラス製封止枠（縦、横４５０ｍｍ角、厚さ０．５ｍｍ、幅６ｍｍ、内角部Ｒ＝２ｍｍφ）と上記で作製した透明保護膜の酸化ケイ素層面とを２液硬化性エポキシ樹脂（ＸＢ５０４７、ＸＢ５０６７：バンティコ（株）製、水蒸気透過係数はいずれも０．５ｇ・ｍｍ／（ｍ^２・ｄ））を用いて接着した。この際、封止枠中心と保護層中心が合うように重ね合わせ、枠面と接触する保護層表面で接着し、４０℃で１日硬化させ、保護層とガラス封止枠との接合体とした。樹脂の水蒸気透過係数は、樹脂を約１ｍｍ厚で均一に所定の面積に成型後、充分に硬化させて測定サンプルを作製し、このサンプルの厚さをノギスで有効数字三桁まで正確に測定し、続いて、ＪＩＳ　Ｚ０２０８（カップ法）を用いてそのサンプルの透湿度を求め、測定サンプル厚さ（ミリ単位）を乗じることによって求めた。
【００６５】
＜輝尽性蛍光体層の作製＞
基板として縦、横４５０ｍｍ角、５ｍｍφの減圧孔を隣りあう２辺から孔中心まで１１ｍｍの距離の角部に有する、片面に縁部（縁幅８ｍｍ）を除いてＡｌ蒸着反射層が敷設された８ｍｍ厚のソーダガラス板を準備した。反射層面上の周縁から８ｍｍまでの部分と減圧孔部にマスクを配置し、マスクが配置されていない反射層面上に蒸着されるように蒸着機中に設置した。次に所定の位置にＥｕＢｒ_ｍタブレットおよびＣｓＢｒタブレットを配置し、蒸着機を排気して１．０Ｐａの真空度とした。続いて、基板をヒーターで１００℃に加熱した。その後、白金ボート中のＥｕＢｒ_ｍタブレットおよびＣｓＢｒタブレットを加温して、マスク部分を除いた基板上一面に輝尽性蛍光体を（ＣｓＢｒ：Ｅｕ）を５００μｍ堆積させた。乾燥雰囲気下、蒸着機中を大気圧に戻して基板を取り出した。基板上には太さ約８μｍの針状輝尽性蛍光体が基板垂直方向に互いにやや隙間を空けて林立していた。
【００６６】
＜輝尽性蛍光体の封止＞
上記のように作製された、接着部（周縁から８ｍｍ）と減圧孔を除いてＣｓＢｒ：Ｅｕ輝尽性蛍光体が蒸着形成された、Ａｌ蒸着反射層敷設ソーダガラス支持体と、封止枠が接合された透明保護膜を接着剤（ＳＵ２１５３−９：サンコレック社製、水蒸気透過係数は上記と同様の方法で測定して２０ｇ・ｍｍ／（ｍ^２・ｄ））を用いて圧力をかけながら接着し、常温（２５℃）で１２時間硬化させた。さらに減圧孔にＥＤＰＭゴムを埋め込み、接着剤（ＳＵ２１５３−９）で接着することで減圧孔を密閉した。これによって、蒸着輝尽性蛍光体層が支持体、封止枠、保護膜によって密閉された構造が形成された。続いて、この密閉構造体の封止孔ＥＤＰＭゴムに注射針を刺し通し、真空ポンプにより内部の気体を抜き取り減圧状態とした。その後、減圧孔のＥＤＰＭゴム上に接着剤（ＳＵ２１５３−９）を付着されたガラス栓で栓をた。その後、透明保護膜の端（４ｃｍ長）を基板の裏に折り込み、紫外線硬化樹脂（ＸＮＲ５５１６：ナガセケムテックス（株））を用いて接着し、放射線像変換パネルを完成させた。
【００６７】
（実施例２）
ソーダガラス製封止枠と透明保護膜の酸化ケイ素層面とを２液硬化性ウレタン樹脂（ＳＵ２１５３−９：サンユレック製）を用いて接着した以外は実施例１と同様にして、放射線像変換パネルを作製した。
【００６８】
（実施例３）
ＢａＩ水溶液（３．５Ｎ）２０００ｍｌとＥｕＢｒ_３水溶液（０．２Ｎ）１００ｍｌを反応容器に入れ、この母液を攪拌しながら８２℃で保温した。フッ化アンモニウム溶液（８Ｎ）２００ｍｌを反応母液中にポンプを用いて注入し、沈殿物を生成した。その後２時間熟成を行った後、沈殿物を濾過してメタノールで洗浄し乾燥させることでＢａＦＩ結晶を得た。これをアルミナの超微粒子粉体と均一に混合した後、石英ボードに充填してチューブ炉を用いて水素ガス雰囲気下８２５℃で１．５時間焼成してユーロピウム付活されたＢＦＩ蛍光体粒子を得た。続いてＢＦＩ蛍光体粒子を分級して平均粒径３μｍの粒子を得た。
【００６９】
蛍光体層を上記で得たユーロピウム付活されたＢＦＩ蛍光体粒子３００ｇ、ポリウレタン樹脂１１ｇ、ビスフェノール型エポキシ樹脂１／４ｇのメチルエチルケトン−トルエン混合溶媒に添加し、プロペラミキサーによって分散することで粘度２５〜３０ｐｓの塗布液を調整した。この塗布液をドクターブレード法で下塗り層付きＰＥＴフィルム上に塗布した後、１００℃で１５分乾燥させて２５０μ厚の蛍光体層を形成した。この蛍光体層を使用した以外は、実施例２と同様にして放射線像変換パネルを作製した。
【００７０】
（比較例１）
ソーダガラス製封止枠と透明保護膜の基材側とを２液硬化性エポキシ樹脂を用いて接着した以外は実施例１と同様にして放射線像変換パネルを作製した。
【００７１】
（比較例２）
実施例１で作製した透明保護膜の酸化ケイ素層ともう一枚の透明保護膜の酸化ケイ素層とを２．５μｍ厚の透明ポリウレタン樹脂層を介してドライラミネートして透明保護膜を得た。この保護膜の基材側とソーダガラス製封止枠とを２液硬化性エポキシ樹脂を用いて接着した以外は実施例１と同様にして放射線像変換パネルを作製した。
【００７２】
（評価方法）
上記実施例１〜３、比較例１および２で作製した放射線像変換パネルの厚さ、鮮鋭度、耐久性の指標として輝尽発光光低下率、保護膜の剥離性において評価した結果を表１に示す。なお、鮮鋭度および輝尽発光光低下率は以下の方法により測定したものである。
【００７３】
＜鮮鋭度＞
放射線像変換パネルに、管電圧８０ｋＶｐのＸ線を照射したのち、波長６５０ｎｍで走査して蛍光体を励起し、蛍光体層から放射される輝尽発光を受光して電気信号に変換し、これを画像再生装置によって画像として再生して表示装置上に画像を得た。これをコンピュータで解析することにより、得られた画像の変調伝達関数（ＭＴＦ）（空間周波数：２サイクル／ｍｍ）を得た。ＭＴＦ値が高いほど鮮鋭度がよいことを示す。
【００７４】
＜輝尽発光光低下率＞
放射線像変換パネルにＸ線を照射し、ラインセンサーにて保護層側から線状の励起光を照射し、その際に検出された輝尽発光光検出量を初期値とし、この放射線像変換パネルを５５℃９５％恒温槽中で３０日間経時し、再び輝尽発光光（サーモ後値）を測定し、以下の式により輝尽発光光低下率を算出した。
輝尽発光光低下率（％）＝｛（初期値−サーモ後値）／初期値｝×１００
結果を表１に示す。
【００７５】
【表１】

【００７６】
表１から明らかなように、本発明の放射線像変換パネルは、基材フィルム上に透明無機層を有する防湿フィルムを少なくとも１層有する透明保護膜が、防湿フィルムの透明無機層側を輝尽性蛍光体層側に向けて配されるため、防傷性を高めることが可能になるとともに、接着剤を用いて輝尽性蛍光体層を封止しているため、高い防湿性と耐久性を有するパネルとすることができた。また、保護膜の厚さを薄く構成することができたので、高感度で良好な画質を得ることが可能となった。
【００７７】
一方、防湿フィルムの基材フィルム側を輝尽性蛍光体層側に向けて配された比較例１では、耐久性が悪く、また、保護膜が剥離しやすかった。また、比較例２の放射線像変換パネルは、透明無機層を互いに向かい合わせに積層しているために、保護膜中で光による干渉が発生して画像にアーティファクトが生じ、また、保護膜が剥離しやすかった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第一の実施の形態を示す放射線像変換パネルの概略断面図
【図２】本発明の第二の実施の形態を示す放射線像変換パネルの概略断面図
【図３】本発明の第三の実施の形態を示す放射線像変換パネルの概略断面図
【符号の説明】
１　　基板
２　　輝尽性蛍光体層
３ａ　基材フィルム
３ｂ　基材フィルム
４ａ　透明無機層
４ｂ　透明無機層
５ａ　防湿フィルム
５ｂ　防湿フィルム
６　　透明保護膜
７　　接着剤
１０　放射線像変換パネル[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a radiation image conversion panel used in a radiation image conversion method using a stimulable phosphor.
[0002]
[Prior art]
As a method for replacing the conventional radiography method, for example, a radiation image conversion method using a stimulable phosphor as described in JP-A No. 55-12145 is known. This method uses a radiation image conversion panel (storable phosphor sheet) containing a stimulable phosphor, and the radiation transmitted through the subject or emitted from the subject is the stimulable phosphor of the panel. Then, the stimulable phosphor is excited in time series with electromagnetic waves (excitation light) such as visible light and infrared light, and the radiation energy accumulated in the stimulable phosphor is converted into fluorescence ( The fluorescence is photoelectrically read to obtain an electrical signal, and then a radiographic image of the subject or the subject is reproduced as a visible image based on the obtained electrical signal. The panel which has finished reading is prepared for the next photographing after the remaining image is erased. That is, the radiation image conversion panel is used repeatedly.
[0003]
According to this radiographic image conversion method, it is possible to obtain a radiographic image with a large amount of information with a much smaller exposure dose than in the case of the radiographic method using a combination of a conventional radiographic film and an intensifying screen. There is an advantage that you can. Furthermore, the conventional radiographic method consumes a radiographic film for each radiographing, whereas this radiographic image conversion method uses a radiographic image conversion panel repeatedly, which is advantageous from the viewpoint of resource protection and economic efficiency. It is.
[0004]
As described above, the radiation image conversion method is a very advantageous image forming method. However, the radiation image conversion panel used in this method is high in sensitivity and good like the intensifying screen used in conventional radiography. It is desirable to provide an image quality and to have a performance capable of withstanding long-term use without degrading the image quality of the radiation image.
[0005]
However, photostimulable phosphors used in the production of radiation image conversion panels are generally highly hygroscopic and absorb moisture in the air when left in a room with normal climatic conditions. There was a problem that the radiation sensitivity of the resin deteriorated and deteriorated with time.
[0006]
In general, the latent image of the radiographic image recorded on the photostimulable phosphor is regressed with the lapse of time after irradiation, so that the intensity of the reconstructed radiographic image signal is scanned from the irradiation to the excitation light. However, if the stimulable phosphor absorbs moisture, the latent image retraction speed increases, so when using a radiation image conversion panel having a moisture-stimulated phosphor. The reproducibility of the reproduction signal at the time of reading the radiation image tended to decrease.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
In order to prevent the degradation phenomenon due to moisture absorption of the photostimulable phosphor as described above, a method of sealing the phosphor layer with a film protective film is known (for example, Patent No. 2844398, Patent No. 2886165, Patent No. 2829607). Sealing with a film protective film has advantages such as lighter weight and lower X-ray absorption compared to sealing with a glass protective film, but has higher moisture permeability and higher fluorescence than sealing with a glass protective film. It has a problem that body deterioration tends to occur quickly. In addition, when a film protective film is provided by heat-sealing casting polypropylene (CPP) or the like, since the CPP is thick, the entire protective film tends to be thick, and the photostimulable luminescent light spreads and the image is enlarged. The problem of blurring arises.
[0008]
In addition, since the radiation image conversion panel is repeatedly used as described above, it is necessary to prevent the surface of the protective layer from being damaged due to contact with a mechanical part such as a conveyance roller from the viewpoint of preventing image deterioration. .
[0009]
The present invention has been made in view of the above circumstances, and is a radiation image conversion panel that is excellent in moisture resistance and durability, and can be used in a good condition for a long period of time and can obtain a high sensitivity and good image quality. It is intended to provide.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
The radiation image conversion panel of the present invention is a radiation image conversion panel having a transparent protective film having at least one moisture-proof film having a transparent inorganic layer on a base film and a stimulable phosphor layer, wherein the transparent protection The film is characterized in that the moisture-proof film is disposed with the transparent inorganic layer side facing the photostimulable phosphor layer, and seals the photostimulable phosphor layer.
[0011]
When the transparent protective film is a laminate of two or more layers of the moisture-proof film, the moisture-proof films adjacent to each other have the transparent inorganic layer of the other moisture-proof film on the base film surface of the one moisture-proof film. It is preferable that they are laminated.
[0012]
Further, when the photostimulable phosphor layer is provided on the substrate, the stimulable phosphor layer may be provided so as to adhere to the surface side of the substrate where the photostimulable phosphor layer is not provided. .
[0013]
The transparent inorganic layer is preferably made of any one of a metal oxide, a metal nitride, and a metal oxynitride.
The thickness of the transparent protective film is preferably 50 μm or less.
[0014]
The sealing is preferably performed by adhering the transparent protective layer with a resin that is cured at a temperature lower than 100 ° C.²-D) It is more preferable that it is the following.
[0015]
【The invention's effect】
In the radiation image conversion panel of the present invention, a transparent protective film having at least one moisture-proof film having a transparent inorganic layer on a base film is disposed with the transparent inorganic layer side of the moisture-proof film facing the stimulable phosphor layer side. Therefore, the base film covers the panel surface, and the scratch resistance can be improved. Moreover, since the photostimulable phosphor layer is sealed, a panel having high moisture resistance and durability can be obtained. Further, in the case of a protective film provided by heat-sealing a conventional CPP, the protective film becomes thick, and there is a problem that the photostimulable emission light spreads and the image is blurred. This radiation image conversion panel seals the photostimulable phosphor layer, so there is no need to use CPP, and the protective film can be made thin, so that high sensitivity and good image quality can be obtained. Possible panels.
[0016]
In addition, when the photostimulable phosphor layer is provided on the substrate, the photostimulable phosphor layer is adhered by adhering a transparent protective film on the surface side of the substrate where the photostimulable phosphor layer is not provided. Since it becomes possible to more effectively prevent moisture absorption from the side surface of the panel, a panel having higher moisture resistance and durability can be obtained. Further, when the transparent inorganic layer is made of any one of a metal oxide, a metal nitride, and a metal oxynitride, higher moisture resistance can be expected.
[0017]
In addition, by setting the film thickness of the entire transparent protective film to 50 μm or less, it is possible to prevent the stimulable light emission from spreading inside the protective film, so that it is possible to obtain a higher image quality with higher sensitivity. It can be.
[0018]
Moreover, when the said transparent protective layer shall be adhere | attached with resin hardened | cured at less than 100 degreeC, it can be set as the panel which has still higher moisture-proof property and durability, and when arranging a protective film It is possible to suppress the resulting moisture-proof deterioration.
[0019]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic sectional view of a radiation image conversion panel showing a first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a schematic sectional view of a radiation image conversion panel showing a second embodiment of the present invention.
[0020]
A radiation image conversion panel 10 shown in FIG. 1 has a stimulable phosphor layer 2 on a substrate 1, a moisture-proof film 5a having a transparent inorganic layer 4a on a base film 3a, and a transparent on the base film 3b. A transparent protective film 6 comprising a moisture-proof film 5b having an inorganic layer 4b is disposed with the transparent inorganic layer 4b side of the moisture-proof film 5b facing the stimulable phosphor layer 2 side, and on the substrate 1, The photostimulable phosphor layer 2 is provided with a sealing frame 8, and the photostimulable phosphor layer 2 is sealed with an adhesive 7 on the sealing frame 8. Although FIG. 1 shows a configuration in which the transparent protective film 6 is composed of two moisture-proof films 5a and 5b, the transparent protective film 6 may be one or may be laminated more than two.
[0021]
The outermost layer of the protective film is preferably a base film as shown in FIG. Since the transparent inorganic layer has low scratch resistance, if it is the outermost layer of the protective film, it will be easily scratched by contact with mechanical parts such as the transport roller, but it will be higher by using the base film as the outermost layer. It becomes possible to exhibit the nature.
[0022]
When two or more moisture-proof films are laminated, the moisture-proof films 5a and 5b adjacent to each other as shown in FIG. 1 are preferably laminated with the transparent inorganic layer 4a and the base film 3b facing each other. If the transparent inorganic layer 4a and the transparent inorganic layer 4b are laminated face to face, interference by light tends to occur in the protective film, which adversely affects the image.
[0023]
In the radiation image conversion panel shown in FIG. 1, a protective film 6 is adhered to an area on the substrate 1 where the stimulable phosphor layer 2 is not provided with an adhesive 7 to seal the stimulable phosphor layer 2. As shown in the radiation image conversion panel 20 shown in FIG. 2, the transparent protective film 26 is formed by an adhesive 27 on the surface side of the substrate 21 where the photostimulable phosphor layer 22 is not provided. It may be adhered.
[0024]
In addition, the radiation image conversion panel shown in FIG. 1 is one in which a sealing frame is provided around the stimulable phosphor layer. However, like the radiation image conversion panel 30 shown in FIG. Alternatively, the photostimulable phosphor layer 32 may be directly sealed with the adhesive 37.
[0025]
The radiation image conversion panels of FIGS. 1, 2 and 3 are all shown without any other layer between the stimulable phosphor layer and the protective film. There is no problem in providing a layer having a thickness (about 2 to 3 μm), such as a vapor-deposited layer or a resin coating layer (such as a glue layer), which does not form a thick film as a whole and does not spread the stimulable emission light inside. . The film thickness of the transparent protective film is preferably 50 μm or less, and more preferably 30 μm or less.
[0026]
Hereinafter, each layer will be described in detail.
The transparent inorganic layer is preferably made of any one of metal oxide, metal nitride, and metal oxynitride. More specifically, the inorganic layer is preferably a transparent vapor deposition layer in which an inorganic substance that does not absorb light and has a gas barrier property is deposited at a wavelength of 300 nm to 1000 nm. Preferred examples of the inorganic substance that does not absorb light at a wavelength of 300 nm to 1000 nm include silicon oxide, silicon nitride, aluminum oxide, aluminum nitride, zirconium oxide, tin oxide, silicon oxynitride, and aluminum oxynitride. Among these, aluminum oxide, silicon oxide, and silicon oxynitride are particularly preferable because they have high light transmittance and high gas barrier properties, that is, a dense film with few cracks and micropores can be formed. When two or more moisture-proof films are laminated, the transparent inorganic layers of each moisture-proof film may be made of different materials or the same material.
[0027]
The transparent inorganic layer is directly laid on the base film by a vacuum deposition method such as sputtering, PVD method, or CVD method. In any method, the transparency and barrier properties of the inorganic layer are not greatly changed, and can be appropriately selected. From the viewpoint of ease of formation and simplicity, the CVD method, particularly PE-CVD ( (Plasma enhanced CVD) and ECR-PE-CVD methods are preferred.
[0028]
The base film is, for example, a cellulose derivative such as cellulose acetate or nitrocellulose; or polymethyl methacrylate, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polycarbonate, polyvinyl acetate, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, fluororesin, polyethylene, polypropylene, polyester A transparent polymer material film such as a synthetic polymer material such as acrylic, polyparaxylylene, PET, hydrochloric acid rubber, and vinylidene chloride copolymer can be used.
[0029]
The protective film is provided by sealing the photostimulable phosphor layer with an adhesive in a dry atmosphere. Sealing is preferably performed under reduced pressure. By doing so, it is possible to suppress peeling between the phosphor layer and the protective film, particularly in a state where the atmospheric pressure is low.
[0030]
The adhesive used for sealing the photostimulable phosphor layer is not particularly limited, but is preferably a resin that cures at less than 100 ° C., and the water vapor transmission coefficient of the resin is 50 g · mm / (m.²D) It is preferable that More specifically, various types of adhesives such as vinyl, acrylic, polyamide, epoxy, rubber, and urethane can be used. In addition, this adhesive agent can be used also for bonding of a moisture-proof film in the case of laminating two or more moisture-proof films.
[0031]
Further, in order to sufficiently prevent moisture absorption from the side surface of the phosphor layer, in particular, when a protective film is adhered to the portion on the substrate where the stimulable phosphor layer is not provided as shown in FIG. The end face of the radiation image conversion panel is preferably sealed with glass, epoxy resin, UV curable resin, metal (solder) or the like. In order to prevent performance degradation due to moisture absorption of the phosphor layer, the removal from the vapor deposition tank (vapor deposition machine) to the sealing of the end face should be performed in vacuum or dry air, inert gas, or hydrophobic inert gas. Is preferred.
[0032]
Examples of stimulable phosphors used in the radiation image conversion panel of the present invention include:
General formula described in Japanese Patent Publication No. 7-84588 etc. (M_1-f・ M_f ^I) X ・ bM^IIIX3 ″: Stimulable phosphor represented by cA (I) is preferable. M in the general formula (I) from the viewpoint of stimulable emission luminance.^IAre preferably Na and K containing Rb, Cs and / or Cs, and particularly preferably at least one alkali metal selected from Rb and Cs. M^IIIIs preferably at least one trivalent metal selected from Y, La, Lu, Al, Ga and In. X ″ is preferably at least one halogen selected from F, Cl and Br. M^IIIThe b value representing the content of X3 ″ is 0 ≦ b ≦ 10.^-2It is preferable to be selected from these ranges.
[0033]
In the general formula (I), the activator A is preferably at least one metal selected from Eu, Tb, Ce, Tm, Dy, Ho, Gd, Sm, Tl and Na, particularly Eu, Ce, Sm, Tl and At least one metal selected from Na is preferred. The C value representing the amount of activator is 10^-6<C <0.1 is preferably selected from the viewpoint of stimulated emission luminance.
[0034]
Furthermore, the following photostimulable phosphors can also be used.
SrS: Ce, Sm, SrS: Eu, Sm, ThO described in US Pat. No. 3,859,527₂: Er and La₂O₂S: Eu, Sm,
[0035]
ZnS: Cu, Pb, BaO.xAl described in JP-A-55-12142₂O₃: Eu (provided that 0.8 ≦ x ≦ 10) and M^IIO · xSiO₂: A (however, M^IIIs Mg, Ca, Sr, Zn, Cd, or Ba, A is Ce, Tb, Eu, Tm, Pb, Tl, Bi, or Mn, and x is 0.5 ≦ x ≦ 2.5) ,
[0036]
It is described in JP-A-55-12143 (Ba_1-X-y, Mg_X, Ca_y) FX: aEu²⁺(Where X is at least one of Cl and Br, x and y are 0 <x + y ≦ 0.6 and xy ≠ 0, and a is 10^-6≦ a ≦ 5 × 10^-2),
[0037]
LnOX: xA described in JP-A-55-12144 (where Ln is at least one of La, Y, Gd, and Lu, X is at least one of Cl and Br, and A is Ce and Tb) At least one of x and x is 0 <x <0.1),
[0038]
It is described in JP-A-55-12145 (Ba_1-X, M²⁺ _X) FX: yA (however, M²⁺Is at least one of Mg, Ca, Sr, Zn and Cd, X is at least one of Cl, Br and I, A is Eu, Tb, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Yb and At least one of Er, and x is 0 ≦ x ≦ 0.6, y is 0 ≦ y ≦ 0.2),
[0039]
M described in JP-A-55-160078^IIFX · xA: yLn (M^IIIs at least one of Ba, Ca, Sr, Mg, Zn and Cd, A is BeO, MgO, CaO, SrO, BaO, ZnO, Al₂O₃, Y₂O₃, La₂O₃, In₂O₃, SiO₂, TiO₂, ZrO₂, GeO₂, SnO₂, Nb₂O₅, Ta₂O₅And ThO₂Ln is at least one of Eu, Tb, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Sm and Gd, and X is at least one of Cl, Br and I. Yes, x and y are 5x10 each^-5≦ x ≦ 0.5, and 0 <y ≦ 0.2))
[0040]
It is described in JP-A-56-116777 (Ba_1-X, M^II _X) F₂・ ABaX₂: YEu, zA (however, M^IIIs at least one of beryllium, magnesium, calcium, strontium, zinc and cadmium, X is at least one of chlorine, bromine and iodine, A is at least one of zirconium and scandium, and a, x, y, And z are 0.5 ≦ a ≦ 1.25, 0 ≦ x ≦ 1, 10^-6≦ y ≦ 2 × 10^-1, And 0 <z ≦ 10^-2A phosphor represented by a composition formula of
[0041]
It is described in JP-A-57-23673 (Ba_1-X, M^II _X) F₂・ ABaX₂: YEu, zB (however, M^IIIs at least one of beryllium, magnesium, calcium, strontium, zinc and cadmium, X is at least one of chlorine, bromine and iodine, and a, x, y and z are each 0.5 ≦ a ≦ 1 .25, 0 ≦ x ≦ 1, 10^-6≦ y ≦ 2 × 10^-1, And 0 <z ≦ 10^-2A phosphor represented by a composition formula of
[0042]
It is described in JP-A-57-23675 (Ba_1-X, M^II _X) F₂・ ABaX₂: YEu, zA (however, M^IIIs at least one of beryllium, magnesium, calcium, strontium, zinc and cadmium, X is at least one of chlorine, bromine and iodine, A is at least one of arsenic and silicon, a, x, y, And z are 0.5 ≦ a ≦ 1.25, 0 ≦ x ≦ 1, 10^-6≦ y ≦ 2 × 10^-1, And 0 <z ≦ 5 × 10^-1A phosphor represented by a composition formula of
[0043]
M described in JP-A-58-69281^IIIOX: xCe (however, M^IIIIs at least one trivalent metal selected from the group consisting of Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb and Bi, and X is one of Cl and Br Or both, wherein x is 0 <x <0.1),
[0044]
Ba described in JP-A-58-206678_1-XM_{X / 2}L_{X / 2}FX: yEu²⁺(Wherein M represents at least one alkali metal selected from the group consisting of Li, Na, K, Rb and Cs; L represents Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Gd, Tb; , Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu, Al, Ga, In and Tl represent at least one trivalent metal; X is at least selected from the group consisting of Cl, Br and I Represents a type of halogen; and x is 10^-2≦ x ≦ 0.5, y is 0 <y ≦ 0.1))
[0045]
BaFX.xA: yEu described in JP-A-59-27980²⁺(Where X is at least one halogen selected from the group consisting of Cl, Br and I; A is a calcined product of a tetrafluoroboric acid compound; and x is 10^-6≦ x ≦ 0.1, y is 0 <y ≦ 0.1))
[0046]
BaFX.xA: yEu described in JP-A-59-47289²⁺Wherein X is at least one halogen selected from the group consisting of Cl, Br and I; A is a monovalent or divalent metal salt of hexafluorosilicic acid, hexafluorotitanic acid and hexafluorozirconic acid A calcined product of at least one compound selected from the group of hexafluoro compounds consisting of: and x is 10^-6≦ x ≦ 0.1, y is 0 <y ≦ 0.1))
[0047]
BaFX · xNaX ′: aEu described in JP-A-59-56479²⁺Where X and X ′ are each at least one of Cl, Br, and I, and x and a are 0 <x ≦ 2 and 0 <a ≦ 0.2, respectively. Phosphors represented,
[0048]
M described in JP-A-59-56480^IIFX · xNaX ′: yEu²⁺: ZA (however, M^IIIs at least one alkaline earth metal selected from the group consisting of Ba, Sr and Ca; X and X ′ are at least one halogen selected from the group consisting of Cl, Br and I, respectively; , V, Cr, Mn, Fe, Co and Ni; and x is 0 <x ≦ 2, y is 0 <y ≦ 0.2, and z is 0 <z ≦ 10^-2A phosphor represented by a composition formula of
[0049]
M described in JP-A-59-75200^IIFX ・ aM^IX '· bM'^IIX ″₂・ CM^IIIX₃XA: yEu²⁺(However, M^IIIs at least one alkaline earth metal selected from the group consisting of Ba, Sr and Ca;^IIs at least one alkali metal selected from the group consisting of Li, Na, K, Rb and Cs;^IIIs at least one divalent metal selected from the group consisting of Be and Mg;^IIIIs at least one trivalent metal selected from the group consisting of Al, Ga, In and Tl; A is a metal oxide; X is at least one halogen selected from the group consisting of Cl, Br and I X ′, X ″ and X are at least one halogen selected from the group consisting of F, Cl, Br and I; and a is 0 ≦ a ≦ 2 and b is 0 ≦ b ≦ 10;^-2, C is 0 ≦ c ≦ 10^-2And a + b + c ≧ 10^-6X is 0 <x ≦ 0.5 and y is 0 <y ≦ 0.2))
[0050]
M described in JP-A-60-84381^IIX₂・ AM^IIX '₂: XEu²⁺(However, M^IIIs at least one alkaline earth metal selected from the group consisting of Ba, Sr and Ca; X and X ′ are at least one halogen selected from the group consisting of Cl, Br and I, and X ≠ X And a is a stimulable phosphor represented by a composition formula of 0.1 ≦ a ≦ 10.0 and x is 0 <x ≦ 0.2.
[0051]
M described in JP-A-60-101173^IIFX ・ aM^IX ′: xEu²⁺(However, M^{II Is}At least one alkaline earth metal selected from the group consisting of Ba, Sr and Ca;^IIs at least one alkali metal selected from the group consisting of Rb and Cs; X is at least one halogen selected from the group consisting of Cl, Br and I; X ′ is composed of F, Cl, Br and I At least one halogen selected from the group; and a and x are 0 ≦ a ≦ 4.0 and 0 <x ≦ 0.2, respectively.
[0052]
M described in JP-A No. 62-25189^IX: xBi (however, M^IIs at least one alkali metal selected from the group consisting of Rb and Cs; X is at least one halogen selected from the group consisting of Cl, Br and I; and x is in the range of 0 <x ≦ 0.2 A stimulable phosphor represented by a composition formula of
[0053]
LnOX: xCe described in JP-A-2-229882 (where Ln is at least one of La, Y, Gd and Lu, X is at least one of Cl, Br and I, and x is 0 <x ≦ 0.2, the ratio of Ln to X is 0.500 <X / Ln ≦ 0.998 in atomic ratio, and the maximum wavelength λ of the stimulable excitation spectrum is represented by 550 nm <λ <700 nm) Cerium activated rare earth oxyhalide phosphor,
Etc.
[0054]
Further, the M described in JP-A-60-84381^IIX₂・ AM^IIX '₂: XEu²⁺In the stimulable phosphor, an additive as shown below is M.^IIX₂・ AM^IIX '₂It may be contained in the following ratio per mole.
[0055]
BM described in JP-A-60-166379^IX ″ (however, M^IIs at least one alkali metal selected from the group consisting of Rb and Cs, X ″ is at least one halogen selected from the group consisting of F, Cl, Br and I, and b is 0 <b ≦ 10. BKX ″ · cMgX described in JP-A-60-222143₂・ DM^IIIX '₃(However, M^IIIIs at least one trivalent metal selected from the group consisting of Sc, Y, La, Gd and Lu, and X ″, X and X ′ are all at least one selected from the group consisting of F, Cl, Br and I And b, c and d are 0 ≦ b ≦ 2.0, 0 ≦ c ≦ 2.0, 0 ≦ d ≦ 2.0, respectively, and 2 × 10^-5≦ b + c + d); yB described in JP-A-60-228592 (where y is 2 × 10)^-4≦ y ≦ 2 × 10^-1BA described in JP-A-60-228593 (where A is SiO)₂And P₂O₅And at least one oxide selected from the group consisting of^-4≦ b ≦ 2 × 10^-1BSiO described in JP-A-61-120883 (where b is 0 <b ≦ 3 × 10)^-2BSnX ″ described in JP-A-61-120885₂(Where X ″ is at least one halogen selected from the group consisting of F, Cl, Br and I, and b is 0 <b ≦ 10^-3BCsX ″ · cSnX described in JP-A No. 61-235486₂(Where X ″ and X are each at least one halogen selected from the group consisting of F, Cl, Br and I, and b and c are 0 <b ≦ 10.0 and 10 respectively.^-6≦ c ≦ 2 × 10^-2And bCsX ″ · yLn described in JP-A No. 61-235487³⁺(Where X ″ is at least one halogen selected from the group consisting of F, Cl, Br and I, and Ln is Sc, Y, Ce, Pr, Nd, Sm, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, And at least one rare earth element selected from the group consisting of Tm, Yb and Lu, and b and y are 0 <b ≦ 10.0 and 10 respectively.^-6≦ y ≦ 1.8 × 10^-1Is).
[0056]
Among the photostimulable phosphors described above, divalent europium-activated alkaline earth metal fluorohalide-based phosphors (for example, BaFI: Eu) europium-activated alkali metal halide-based phosphors (for example, CsBr: Eu), iodine The divalent europium activated alkaline earth metal halide phosphor containing iodine, the rare earth element activated rare earth oxyhalide phosphor containing iodine, and the bismuth activated alkali metal halide phosphor containing iodine have high brightness. These phosphors can be preferably used because they exhibit complete light emission, and since these phosphors can be made into needle-like crystals, hygroscopicity tends to be a problem. Can be achieved.
[0057]
The phosphor layer can be formed on the support by a known method such as vapor deposition, sputtering, or coating. In the vapor deposition method, first, a support is placed in a vapor deposition apparatus, and then the apparatus is evacuated.^-4The degree of vacuum is about Pa. Next, at least one of the photostimulable phosphor is heated and evaporated by a resistance heating method, an electron beam method, or the like, so that the photostimulable phosphor is deposited on the support surface in a desired thickness. It is also possible to form the photostimulable phosphor layer by dividing the vapor deposition process into a plurality of times. Further, in the vapor deposition step, the photostimulable phosphor layer can be formed at the same time as the desired photostimulable phosphor is synthesized on the support by co-evaporation using a plurality of resistance heaters or electron beams. After the vapor deposition, the photostimulable phosphor layer may be heat-treated.
[0058]
In the sputtering method, as in the vapor deposition method, after the support is installed in the sputtering apparatus, the inside of the apparatus is temporarily evacuated.^-4The degree of vacuum is about Pa, and then an inert gas such as Ar or Ne is introduced into the sputtering apparatus as a sputtering gas.^-1The gas pressure is about Pa. Next, the photostimulable phosphor is deposited in a desired thickness on the surface of the protective layer by sputtering using the photostimulable phosphor as a target. In the sputtering process, as in the vapor deposition method, it is possible to form the photostimulable phosphor layer by dividing it into a plurality of times, and using a plurality of targets each made of different photostimulable phosphors, It is also possible to form the photostimulable phosphor layer by sputtering the target simultaneously or sequentially. Further, in the sputtering method, if necessary, O₂, H₂Alternatively, reactive sputtering may be performed by introducing a gas such as halogen. After completion of sputtering, the photostimulable phosphor layer may be heat-treated.
[0059]
In the coating method, the phosphor is thoroughly mixed with a solvent to prepare a coating solution in which the stimulable phosphor is uniformly dispersed in the binder solution, and this coating solution is uniformly applied to the surface of the support. To form a coating film. This coating operation can be performed by using a normal coating means, for example, a doctor blade, a roll coater, a knife coater or the like.
[0060]
The layer thickness of the phosphor layer varies depending on the characteristics of the intended radiation image conversion panel, the type of phosphor, the mixing ratio of the binder and the phosphor, and is generally about 20 μm to 1 mm. More preferably, the thickness is 50 μm to 500 μm.
[0061]
The substrate can be arbitrarily selected from materials known as a support for conventional radiation image conversion panels. Further, in order to enhance the bonding between the support and the phosphor layer, or to improve the sensitivity or image quality (sharpness, graininess) as a radiation image conversion panel, the support surface on the side where the phosphor layer is provided is provided. Apply a polymer substance such as gelatin to form an adhesion-imparting layer, or provide a light reflecting layer made of a light reflecting substance such as titanium dioxide, or a light absorbing layer made of a light absorbing substance such as carbon black. However, these various layers can also be provided for the support used in the present invention. These configurations can be arbitrarily selected according to the purpose and application of the desired radiation image conversion panel.
[0062]
As described in JP-A-58-200200, for the purpose of improving the sharpness of the obtained image, the surface of the support on the phosphor layer side (adhered to the surface of the support on the phosphor layer side). In the case where a property-imparting layer, a light reflecting layer, a light absorbing layer, or the like is provided, it means that the surface thereof has fine irregularities.
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.
[0063]
【Example】
Example 1
<Preparation of transparent protective film>
An organic primer layer having a thickness of 1.5 μm is applied to a 12 μm-thick PET surface as a base film, and a film is formed thereon while supplying oxygen by a plasma CVD method using an organosilicon compound (hexamethyldisiloxane). Thus, a silicon oxide layer was provided with a thickness of 50 nm to produce a moisture-proof film. Thereafter, the two moisture-proof films are bonded in the same direction (with one surface side being a silicon oxide layer surface) by a dry lamination through a 2.5 μm thick polyester resin layer, and a 530 mm square 27 μm thick transparent protective film Got. Moisture permeability is 0.1g / m²Met.
[0064]
<Adhesion between transparent protective film and glass sealing frame>
A soda glass sealing frame (vertical, horizontal 450 mm square, thickness 0.5 mm, width 6 mm, inner corner portion R = 2 mmφ) and the silicon oxide layer surface of the transparent protective film produced above are two-component curable epoxy resin (XB5047). , XB5067: manufactured by Bantico Co., Ltd., each having a water vapor transmission coefficient of 0.5 g · mm / (m²-Adhered using d)). At this time, the center of the sealing frame and the center of the protective layer are overlapped, adhered on the surface of the protective layer in contact with the frame surface, cured at 40 ° C. for one day, and the bonded body of the protective layer and the glass sealing frame; did. The water vapor transmission coefficient of the resin is approximately 1 mm thick, uniformly molded into a predetermined area, and then fully cured to prepare a measurement sample. The thickness of this sample is accurately measured with calipers to three significant figures. Subsequently, the moisture permeability of the sample was obtained using JIS Z0208 (cup method), and obtained by multiplying the measured sample thickness (in millimeters).
[0065]
<Preparation of photostimulable phosphor layer>
The substrate has a vertical and horizontal 450 mm square, 5 mmφ decompression hole at the corner of a distance of 11 mm from the adjacent two sides to the hole center, and an Al deposited reflective layer is laid on one side except for the edge (edge width 8 mm). An 8 mm thick soda glass plate was prepared. A mask was placed in a portion from the peripheral edge on the reflective layer surface to 8 mm and the decompression hole portion, and was placed in a vapor deposition machine so as to be deposited on the reflective layer surface where the mask was not placed. Next, EuBr_mA tablet and a CsBr tablet were placed, and the vapor deposition machine was evacuated to a vacuum of 1.0 Pa. Subsequently, the substrate was heated to 100 ° C. with a heater. After that, EuBr in a platinum boat_mThe tablet and CsBr tablet were heated, and a stimulable phosphor (CsBr: Eu) was deposited to 500 μm on the entire surface of the substrate excluding the mask portion. Under a dry atmosphere, the inside of the vapor deposition machine was returned to atmospheric pressure, and the substrate was taken out. On the substrate, needle-like photostimulable phosphors having a thickness of about 8 μm were erected with a slight gap therebetween in the direction perpendicular to the substrate.
[0066]
<Sealing of stimulable phosphor>
An Al-deposited reflective layer laying soda glass support on which a CsBr: Eu photostimulable phosphor was vapor-deposited except for the bonded portion (8 mm from the periphery) and the decompression hole, prepared as described above, and a sealing frame The bonded transparent protective film was adhesive (SU2153-9: manufactured by Suncorek Co., Ltd., the water vapor transmission coefficient was measured by the same method as above, and 20 g · mm / (m²-Adhering while applying pressure using d)) and curing at room temperature (25 ° C) for 12 hours. Further, EDPM rubber was embedded in the decompression hole and adhered with an adhesive (SU2153-9) to seal the decompression hole. As a result, a structure in which the vapor-deposited photostimulable phosphor layer was sealed by the support, the sealing frame, and the protective film was formed. Subsequently, an injection needle was pierced through the sealing hole EDPM rubber of the sealed structure, and the internal gas was extracted by a vacuum pump to obtain a reduced pressure state. Then, the stopper was plugged with a glass stopper in which an adhesive (SU2153-9) was attached on the EDPM rubber in the decompression hole. Thereafter, the end (4 cm length) of the transparent protective film was folded on the back of the substrate and adhered using an ultraviolet curable resin (XNR5516: Nagase ChemteX Corporation) to complete a radiation image conversion panel.
[0067]
(Example 2)
A radiation image conversion panel was prepared in the same manner as in Example 1 except that the soda glass sealing frame and the silicon oxide layer surface of the transparent protective film were bonded using a two-component curable urethane resin (SU2153-9: manufactured by Sanyu Rec). Produced.
[0068]
Example 3
2000 ml BaI aqueous solution (3.5 N) and EuBr₃100 ml of an aqueous solution (0.2N) was put in a reaction vessel, and this mother liquor was kept at 82 ° C. with stirring. 200 ml of an ammonium fluoride solution (8N) was injected into the reaction mother liquor using a pump to produce a precipitate. After aging for 2 hours, the precipitate was filtered, washed with methanol and dried to obtain BaFI crystals. This was mixed uniformly with the ultrafine powder of alumina, filled in a quartz board, and baked at 825 ° C. for 1.5 hours in a hydrogen gas atmosphere using a tube furnace to give europium activated BFI phosphor particles. Obtained. Subsequently, the BFI phosphor particles were classified to obtain particles having an average particle diameter of 3 μm.
[0069]
The phosphor layer is added to 300 g of europium-activated BFI phosphor particles obtained above, 11 g of polyurethane resin, and 1/4 g of bisphenol-type epoxy resin in a methyl ethyl ketone-toluene mixed solvent, and dispersed by a propeller mixer to obtain a viscosity of 25 to 25. A coating solution of 30 ps was prepared. This coating solution was applied onto a PET film with an undercoat layer by the doctor blade method and then dried at 100 ° C. for 15 minutes to form a 250 μm thick phosphor layer. A radiation image conversion panel was produced in the same manner as in Example 2 except that this phosphor layer was used.
[0070]
(Comparative Example 1)
A radiation image conversion panel was produced in the same manner as in Example 1 except that the soda glass sealing frame and the base side of the transparent protective film were bonded using a two-component curable epoxy resin.
[0071]
(Comparative Example 2)
The transparent protective film was obtained by dry laminating the silicon oxide layer of the transparent protective film produced in Example 1 and the silicon oxide layer of the other transparent protective film through a 2.5 μm thick transparent polyurethane resin layer. A radiation image conversion panel was produced in the same manner as in Example 1 except that the substrate side of the protective film and the soda glass sealing frame were bonded using a two-component curable epoxy resin.
[0072]
(Evaluation methods)
Table 1 shows the evaluation results of the photostimulated emission reduction rate and the protective film peelability as indicators of thickness, sharpness, and durability of the radiation image conversion panels prepared in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2. Shown in The sharpness and the stimulated emission light reduction rate were measured by the following methods.
[0073]
<Sharpness>
After irradiating the radiation image conversion panel with X-rays with a tube voltage of 80 kVp, the phosphor is excited by scanning at a wavelength of 650 nm, and the stimulated luminescence emitted from the phosphor layer is received and converted into an electrical signal. Was reproduced as an image by the image reproducing device to obtain an image on the display device. This was analyzed by a computer to obtain a modulation transfer function (MTF) (spatial frequency: 2 cycles / mm) of the obtained image. A higher MTF value indicates better sharpness.
[0074]
<Stimulated light emission reduction rate>
The radiation image conversion panel is irradiated with X-rays, and the line sensor is irradiated with linear excitation light from the protective layer side. The detected amount of the photostimulated luminescence detected at that time is set as an initial value. This was aged for 30 days in a constant temperature chamber at 55 ° C. and 95%, and the stimulated emission light (post-thermo value) was measured again, and the reduction rate of the stimulated emission light was calculated by the following formula.
Stimulated emission light reduction rate (%) = {(initial value−post-thermo value) / initial value} × 100
The results are shown in Table 1.
[0075]
[Table 1]

[0076]
As is clear from Table 1, in the radiation image conversion panel of the present invention, the transparent protective film having at least one moisture-proof film having a transparent inorganic layer on the base film is stimulable on the transparent inorganic layer side of the moisture-proof film. Since it is arranged toward the phosphor layer side, it becomes possible to improve the scratch resistance and the stimulable phosphor layer is sealed with an adhesive, so it has high moisture resistance and durability. It was possible to make a panel with. In addition, since the protective film can be made thin, high sensitivity and good image quality can be obtained.
[0077]
On the other hand, in Comparative Example 1 in which the base film side of the moisture-proof film was directed toward the stimulable phosphor layer side, the durability was poor and the protective film was easy to peel off. In the radiation image conversion panel of Comparative Example 2, since the transparent inorganic layers are laminated so as to face each other, light interference occurs in the protective film, resulting in artifacts in the image, and the protective film is peeled off. It was easy.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic sectional view of a radiation image conversion panel showing a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic sectional view of a radiation image conversion panel showing a second embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a schematic sectional view of a radiation image conversion panel showing a third embodiment of the present invention.
[Explanation of symbols]
1 Substrate
2 Stimulable phosphor layer
3a Base film
3b Base film
4a Transparent inorganic layer
4b Transparent inorganic layer
5a Moisture-proof film
5b Moisture-proof film
6 Transparent protective film
7 Adhesive
10 Radiation image conversion panel

Claims (7)

基材フィルム上に透明無機層を有する防湿フィルムを少なくとも１層有する透明保護膜と輝尽性蛍光体層とを有する放射線像変換パネルであって、前記透明保護膜が、前記防湿フィルムの透明無機層側を前記輝尽性蛍光体層側に向けて配され、前記輝尽性蛍光体層を封止していることを特徴とする放射線像変換パネル。A radiation image conversion panel having a transparent protective film having at least one moisture-proof film having a transparent inorganic layer on a base film and a stimulable phosphor layer, wherein the transparent protective film is a transparent inorganic film of the moisture-proof film A radiation image conversion panel, characterized in that a layer side is arranged facing the photostimulable phosphor layer side and the photostimulable phosphor layer is sealed. 前記透明保護膜が前記防湿フィルムを２層以上積層したものであって、互いに隣りあう前記防湿フィルムが、一方の防湿フィルムの前記基材フィルム面上に他方の防湿フィルムの前記透明無機層を積層したものであることを特徴とする請求項１記載の放射線像変換パネル。The transparent protective film is formed by laminating two or more layers of the moisture-proof film, and the moisture-proof films adjacent to each other are laminated with the transparent inorganic layer of the other moisture-proof film on the base film surface of one moisture-proof film. The radiation image conversion panel according to claim 1, wherein 前記輝尽性蛍光体層が基板上に設けられており、前記透明保護膜が前記基板の前記輝尽性蛍光体層が設けられていない面側で接着されていることを特徴とする請求項１または２記載の放射線像変換パネル。The photostimulable phosphor layer is provided on a substrate, and the transparent protective film is bonded on the surface side of the substrate on which the photostimulable phosphor layer is not provided. The radiation image conversion panel according to 1 or 2. 前記透明無機層が金属酸化物、金属窒化物または金属酸窒化物のいずれかからなるものであることを特徴とする請求項１、２または３記載の放射線像変換パネル。4. The radiation image conversion panel according to claim 1, wherein the transparent inorganic layer is made of any one of a metal oxide, a metal nitride, and a metal oxynitride. 前記透明保護膜の膜厚が５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１から４いずれか１項記載の放射線像変換パネル。The radiation image conversion panel according to claim 1, wherein the transparent protective film has a thickness of 50 μm or less. 前記封止が１００℃未満で硬化する樹脂により前記透明保護層を接着するものであることを特徴とする請求項１から５いずれか１項記載の放射線像変換パネル。6. The radiation image conversion panel according to claim 1, wherein the transparent protective layer is adhered by a resin that cures at a temperature lower than 100 ° C. 6. 前記樹脂の水蒸気透過係数が５０ｇ・ｍｍ／（ｍ^２・ｄ）以下であることを特徴とする請求項６記載の放射線像変換パネル。The radiation image conversion panel according to claim 6, wherein the water vapor transmission coefficient of the resin is 50 g · mm / (m ² · d) or less.

Images