JP2002090507A - Composition for forming film used for light diffuse- reflecting plate, light diffuse-reflecting plate and liquid crystal display - Google Patents
Composition for forming film used for light diffuse- reflecting plate, light diffuse-reflecting plate and liquid crystal displayInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレイ
等に用いる光拡散反射板に用いるための膜形成用組成
物、それから形成された膜を有する光拡散反射板、およ
びその光拡散反射板を有する液晶表示素子に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a film forming composition for use in a light diffusion reflector used for a liquid crystal display or the like, a light diffusion reflector having a film formed therefrom, and the light diffusion reflector. The present invention relates to a liquid crystal display device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】液晶ディスプレイは、均一で正面輝度が
高い面照明が必要なために、従来、バックライトユニッ
トを具備したものが主流であった。しかし近年、携帯用
端末の普及などの影響で、省電力の観点から半透過型お
よび反射型の液晶ディスプレイの採用が増加してきた。
半透過型および反射型液晶ディスプレイは、液晶パネル
下側にアルミニウム板等の反射板を設置し、パネル上部
からの光を反射させることにより輝度を得ている。しか
しこの方法によると、反射板が平面であるため、パネル
上部からの入射光の入射方向が斜めであった場合、反射
光の方向はパネル正面方向からずれ、十分な正面輝度が
得られない。2. Description of the Related Art Conventionally, a liquid crystal display having a backlight unit has been mainly used because a surface illumination which is uniform and has high front luminance is required. However, in recent years, due to the spread of portable terminals and the like, transflective and reflective liquid crystal displays have been increasingly used from the viewpoint of power saving.
In transflective and reflective liquid crystal displays, a reflective plate such as an aluminum plate is provided below the liquid crystal panel, and brightness is obtained by reflecting light from the upper part of the panel. However, according to this method, since the reflecting plate is flat, if the incident direction of the incident light from the upper part of the panel is oblique, the direction of the reflected light is shifted from the front direction of the panel, and sufficient front luminance cannot be obtained.
【０００３】半透過型および反射型液晶ディスプレイに
おける上記のような欠点を改良するため、いわゆる光拡
散板を用いる技術が提案されている。この方法は、反射
板表面に細かい凹凸形状を付することにより、反射光の
方向を拡散し、正面輝度を得るものである。例えば、特
開２０００−１１１８８６号公報では、ガラス基板を化
学的にエッチングすることにより粗面化したうえで金属
膜を形成し、反射板表面に凹凸形状を付する技術が開示
されている。この方法によると、ガラス基板の裏面をエ
ッチング液から保護する必要があるため工程が煩雑にな
るばかりでなく、腐食性のエッチング液を用いるため装
置上、プロセス上のコスト面で問題がある。また、特開
２０００−１９３８０７号公報には、フッ素化合物とア
ルコキシシランの加水分解物を含有する溶液状の組成物
を基板上に塗布し、塗膜とする際の相分離を利用して凹
凸形状を持つ膜を作り、その上に金属膜を形成する技術
が開示されている。この方法では、凹凸形状の制御が困
難で効率的な拡散光を得ることが難しく、また、基板と
の密着性に劣るばかりでなく、透明性が十分ではないた
め、半透過型の液晶表示素子に使用できるものではな
い。In order to improve the above-mentioned drawbacks in transflective and reflective liquid crystal displays, a technique using a so-called light diffusion plate has been proposed. In this method, the direction of the reflected light is diffused by providing fine irregularities on the surface of the reflector to obtain a front luminance. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-111886 discloses a technique in which a glass substrate is roughened by chemical etching, a metal film is formed, and the surface of the reflection plate is made uneven. According to this method, it is necessary to protect the back surface of the glass substrate from the etching solution, which not only complicates the process, but also involves a problem in terms of equipment and process cost because a corrosive etching solution is used. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-193807 discloses that a solution composition containing a hydrolyzate of a fluorine compound and an alkoxysilane is applied to a substrate, and the uneven shape is formed by utilizing phase separation when forming a coating film. There is disclosed a technique of forming a film having the above structure and forming a metal film thereon. In this method, it is difficult to control the uneven shape, and it is difficult to obtain efficient diffused light. Further, not only is the adhesiveness to the substrate inferior, but also the transparency is insufficient, so that a transflective liquid crystal display element is used. It cannot be used for
【０００４】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、その目的は、光拡散反射板に用いるための粗面を有
し、基板との密着性、耐熱性、透明性に優れ、反射型ま
たは半透過型の液晶表示素子の光拡散反射板に用いるた
めの膜を容易に形成することのできる組成物を提供する
ことにある。本発明の別の目的は、上記の組成物から形
成された膜を有する、光拡散機能に優れる光拡散反射板
を提供することにある。本発明のさらに別の目的は、上
記の光拡散反射板を有し、十分な正面輝度を持つ半透過
型および反射型の液晶表示素子を提供することにある。The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object the purpose of having a rough surface for use as a light diffusion reflector, having excellent adhesion to a substrate, heat resistance, transparency, and a reflection type. Another object is to provide a composition which can easily form a film for use in a light diffusion reflector of a transflective liquid crystal display element. Another object of the present invention is to provide a light diffusion reflector having a film formed from the above composition and having an excellent light diffusion function. Still another object of the present invention is to provide a transflective and reflective liquid crystal display device having the above-mentioned light diffusion reflector and having sufficient front luminance.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明は、第１に、
［Ａ］（ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和
カルボン酸無水物、（ａ２）エポキシ基含有不飽和化合
物、（ａ３）前記単量体（ａ１）および（ａ２）以外の
オレフィン系不飽和化合物の共重合体、［Ｂ］光散乱性
物質を含有することを特徴とする光拡散反射板に用いる
ための膜形成用組成物である（以下、「第１発明」とい
う）。本発明は第２に、上記［Ａ］成分、［Ｂ］成分の
他に、［Ｃ］多官能モノマー、および［Ｄ］重合開始剤
をさらに含有する組成物である（以下、「第２発明」と
いう）。本発明は第３に、上記第１発明または第２発明
において、［Ａ］成分以外のエポキシ化合物［Ｅ］をさ
らに含有する組成物である（以下、「第３発明」とい
う）。本発明は第４に、上記第１〜第３発明のいずれか
一つにおいて、［Ｆ］酸発生剤をさらに含有する組成物
である（以下、「第４発明」という）。本発明は第５
に、上記の組成物から形成された膜を有する光拡散反射
板からなる（以下、「第５発明」という）。本発明はさ
らに、上記の光拡散反射板を有する液晶表示素子からな
る（以下、「第６発明」という）。なお、本発明におい
て、「放射線」の語は、紫外線、遠紫外線、Ｘ線、電子
線、分子線、γ線、シンクロトロン放射線、プロトンビ
ーム線等を含む概念で用いられる。The present invention firstly provides:
[A] (a1) unsaturated carboxylic acid and / or unsaturated carboxylic anhydride, (a2) unsaturated compound containing an epoxy group, (a3) olefinic unsaturated other than the monomers (a1) and (a2) A film-forming composition for use in a light-diffusing reflector, which comprises a copolymer of a compound and [B] a light-scattering substance (hereinafter referred to as "first invention"). Secondly, the present invention is a composition further containing a polyfunctional monomer [C] and a polymerization initiator [D] in addition to the above components [A] and [B] (hereinafter referred to as “second invention”). "). Thirdly, the present invention is the composition according to the first or second invention, further comprising an epoxy compound [E] other than the component [A] (hereinafter, referred to as “third invention”). Fourth, the present invention is the composition according to any one of the first to third inventions, further comprising [F] an acid generator (hereinafter, referred to as “fourth invention”). The present invention is the fifth
And a light diffusion reflector having a film formed from the above composition (hereinafter, referred to as a "fifth invention"). The present invention further comprises a liquid crystal display device having the above-mentioned light diffusion reflector (hereinafter, referred to as “sixth invention”). In the present invention, the term “radiation” is used as a concept including ultraviolet rays, far ultraviolet rays, X-rays, electron beams, molecular beams, γ rays, synchrotron radiation, proton beam rays, and the like.
【０００６】以下、本発明の光拡散反射板に用いるため
の膜形成用組成物について詳述する。第１発明の光拡散
反射板に用いるための膜形成用組成物は、［Ａ］（ａ
１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボン酸
無水物、（ａ２）エポキシ基含有不飽和化合物、（ａ
３）前記単量体（ａ１）および（ａ２）以外のオレフィ
ン系不飽和化合物の共重合体、ならびに［Ｂ］光散乱性
物質を含有することを特徴とする。以下、第１発明の光
拡散反射板に用いるための膜形成用組成物の各成分につ
いて説明する。Hereinafter, the film-forming composition for use in the light diffusion reflector of the present invention will be described in detail. The film-forming composition for use in the light diffusion reflector of the first invention is [A] (a
1) unsaturated carboxylic acid and / or unsaturated carboxylic anhydride, (a2) epoxy group-containing unsaturated compound, (a
3) It is characterized by containing a copolymer of an olefinically unsaturated compound other than the monomers (a1) and (a2), and [B] a light-scattering substance. Hereinafter, each component of the film forming composition for use in the light diffusion reflector of the first invention will be described.
【０００７】共重合体［Ａ］ 共重合体［Ａ］は、化合物（ａ１）、（ａ２）および
（ａ３）を共重合することによって得られる。上記化合
物（ａ１）としては、たとえばアクリル酸、メタクリル
酸、クロトン酸等の不飽和モノカルボン酸；マレイン
酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸
等の不飽和ジカルボン酸；およびこれら不飽和ジカルボ
ン酸の無水物が挙げられる。これらのうち、アクリル
酸、メタクリル酸、無水マレイン酸等が、共重合反応
性、アルカリ水溶液に対する溶解性、および、入手が容
易である点から好ましく用いられる。これら（ａ１）成
分は単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いても
良い。 Copolymer [A] Copolymer [A] is obtained by copolymerizing compounds (a1), (a2) and (a3). Examples of the compound (a1) include unsaturated monocarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, and crotonic acid; unsaturated dicarboxylic acids such as maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, and itaconic acid; An anhydride of dicarboxylic acid may be mentioned. Among them, acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride and the like are preferably used in view of copolymerization reactivity, solubility in an aqueous alkali solution, and easy availability. These components (a1) may be used alone or in combination of two or more.
【０００８】共重合体［Ａ］は、化合物（ａ１）から誘
導される構成単位を好ましくは１〜５０重量％、とくに
好ましくは、５〜４０重量％含有している。この範囲の
使用において、共重合体［Ａ］は、密着性、塗布性及び
耐熱性において最適の性能を示すこととなる。The copolymer [A] contains a constituent unit derived from the compound (a1) preferably in an amount of 1 to 50% by weight, particularly preferably 5 to 40% by weight. In the use in this range, the copolymer [A] exhibits optimum performance in adhesion, coating properties and heat resistance.
【０００９】上記化合物（ａ２）としては、（メタ）ア
クリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸２-メチルグ
リシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−
プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリ
ル酸グリシジル等の（メタ）アクリル酸グリシジルエス
テルおよびその誘導体類；（メタ）アクリル酸−３，４
−エポキシブチル、（メタ）アクリル酸−４，５−エポ
キシペンチル、（メタ）アクリル酸−６，７−エポキシ
ヘプチル、α−エチルアクリル酸−６，７−エポキシヘ
プチル等の不飽和エポキシ化合物等を挙げることができ
る。これらのうち、（メタ）アクリル酸グリシジル、
（メタ）アクリル酸２-メチルグリシジルが共重合反応
性、平坦化性等の面から好ましく用いられる。これら
（ａ２）成分は単独で、あるいは２種以上を組み合わせ
て用いても良い。The compound (a2) includes glycidyl (meth) acrylate, 2-methyl glycidyl (meth) acrylate, α-ethyl glycidyl acrylate, α-n-
Glycidyl (meth) acrylates and derivatives thereof, such as glycidyl propyl acrylate and glycidyl α-n-butyl acrylate; (meth) acrylic acid-3,4
Unsaturated epoxy compounds such as epoxybutyl, 4,5-epoxypentyl (meth) acrylate, 6,7-epoxyheptyl (meth) acrylate, and 6,7-epoxyheptyl α-ethylacrylate; Can be mentioned. Of these, glycidyl (meth) acrylate,
2-Methylglycidyl (meth) acrylate is preferably used from the viewpoints of copolymerization reactivity, flatness and the like. These components (a2) may be used alone or in combination of two or more.
【００１０】共重合体［Ａ］は、化合物（ａ２）から誘
導される構成単位を好ましくは５〜８０重量％、とくに
好ましくは、７〜７０重量％含有している。この範囲の
使用において、共重合体［Ａ］は、耐熱性及び密着性に
おいて最適の性能を示す。[0010] The copolymer [A] contains a structural unit derived from the compound (a2) preferably in an amount of 5 to 80% by weight, particularly preferably 7 to 70% by weight. In use in this range, the copolymer [A] exhibits optimum performance in heat resistance and adhesion.
【００１１】上記化合物（ａ３）としては、（メタ）ア
クリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）
アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸−２−エチルヘ
キシル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリ
ル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸トリシクロ
［５．２．１．０2,6］デカン−８−イル（当該技術分
野で慣用名として（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニ
ルといわれている）、（メタ）アクリル酸ジシクロペン
タニルオキシエチル、（メタ）アクリル酸イソボロニル
等の（メタ）アクリル酸エステル類；スチレン、α−メ
チルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ビニルナフタレン
等のビニル芳香族系化合物；インデン、１−メチルイン
デン等のインデン誘導体；フェニルマレイミド、ベンジ
ルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド、Ｎースクシ
ンイミジルー３−マレイミドベンゾエート、Ｎースクシン
イミジル−４−マレイミドブチレート、 Ｎースクシンイ
ミジル−６−マレイミドカプロエート、 Ｎースクシンイ
ミジルー３−マレイミドプロピオネート、Ｎ−（９−ア
クリジル）マレイミド等のジカルボニルイミド誘導体；
ブタジエン、イソプレン等の共役ジエン類等を挙げるこ
とができる。これらのうち、（メタ）アクリル酸エステ
ル類、ジカルボニルイミド誘導体等が密着性、平坦化性
等の点から好ましく用いられる。これら（ａ３）成分は
単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いても良
い。The compound (a3) includes methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, (meth)
Butyl acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane-8- (meth) acrylate (Meth) acrylates such as yl (commonly known in the art as dicyclopentanyl (meth) acrylate), dicyclopentanyloxyethyl (meth) acrylate, and isobornyl (meth) acrylate And vinyl aromatic compounds such as styrene, α-methylstyrene, p-methylstyrene and vinylnaphthalene; indene derivatives such as indene and 1-methylindene; phenylmaleimide, benzylmaleimide, cyclohexylmaleimide, and N-succinimidyl 3-maleimidobenzoate, N-succinimidyl-4-male Dicarbonylimide derivatives such as imidobutyrate, N-succinimidyl-6-maleimidocaproate, N-succinimidyl-3-maleimidopropionate, N- (9-acridyl) maleimide;
Examples thereof include conjugated dienes such as butadiene and isoprene. Among these, (meth) acrylates, dicarbonylimide derivatives, and the like are preferably used from the viewpoint of adhesion, flatness, and the like. These components (a3) may be used alone or in combination of two or more.
【００１２】共重合体［Ａ］は、化合物（ａ３）から誘
導される構成単位を好ましくは１〜４０重量％、とくに
好ましくは、２〜３５重量％含有している。この範囲の
使用において、共重合体［Ａ］は、密着性、耐熱性等に
おいて最適の性能を示す。The copolymer [A] contains the structural unit derived from the compound (a3) in an amount of preferably 1 to 40% by weight, particularly preferably 2 to 35% by weight. When used in this range, the copolymer [A] exhibits optimal performance in terms of adhesion, heat resistance, and the like.
【００１３】共重合体［Ａ］の好ましい例としては、
（メタ）アクリル酸／（メタ）アクリル酸グリシジル／
スチレン／フェニルマレイミド共重合体、（メタ）アク
リル酸／（メタ）アクリル酸グリシジル／スチレン／シ
クロヘキシルマレイミド共重合体、（メタ）アクリル酸
／（メタ）アクリル酸グリシジル／スチレン／（メタ）
アクリル酸トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカン−
８−イル共重合体、（メタ）アクリル酸／（メタ）アク
リル酸グリシジル／スチレン／ブタジエン共重合体、
（メタ）アクリル酸／（メタ）アクリル酸２−メチルグ
リシジル／スチレン／フェニルマレイミド共重合体等が
挙げられる。Preferred examples of the copolymer [A] include:
(Meth) acrylic acid / glycidyl (meth) acrylate /
Styrene / phenylmaleimide copolymer, (meth) acrylic acid / glycidyl (meth) acrylate / styrene / cyclohexylmaleimide copolymer, (meth) acrylic acid / glycidyl (meth) acrylate / styrene / (meth)
Tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decane acrylate
8-yl copolymer, (meth) acrylic acid / glycidyl (meth) acrylate / styrene / butadiene copolymer,
(Meth) acrylic acid / (2-methylglycidyl (meth) acrylate / styrene / phenylmaleimide copolymer).
【００１４】共重合体［Ａ］のポリスチレン換算重量平
均分子量（Ｍｗ）は、通常３，０００〜３００，００
０、好ましくは３，０００〜１００，０００、さらに好
ましくは、３，０００〜５０，０００の範囲である。共
重合体［Ａ］に、この範囲のＭｗを採用することによっ
て、透明性、保存安定性、密着性等の諸性能において優
れたバランスを示す膜を与えることができ、かつ保存安
定性に優れる組成物を得ることができる。The weight average molecular weight (Mw) of the copolymer [A] in terms of polystyrene is usually from 3,000 to 300,000.
0, preferably 3,000 to 100,000, more preferably 3,000 to 50,000. By employing Mw in this range for the copolymer [A], a film exhibiting an excellent balance in various properties such as transparency, storage stability and adhesion can be provided, and storage stability is excellent. A composition can be obtained.
【００１５】［Ｂ］粒子 ［Ｂ］粒子は、光拡散反射板に用いる膜として適度な粗
面を形成させる作用を持つ物質である。［Ｂ］粒子とし
ては、たとえば、シリカ、チタニア、アルミナ等の無機
酸化物粒子；ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル
酸ブチル、ポリスチレン、ベンゾグアナミン、スチレン
／ジビニルベンゼン共重合体、セルロース等の有機粒
子；雲母等の鉱物類；アルミニウム、錫、金等の金属粉
等が挙げられる。 [B] Particles [B] particles are substances having a function of forming a moderately rough surface as a film used for a light diffusion reflector. [B] Examples of the particles include inorganic oxide particles such as silica, titania, and alumina; organic particles such as polymethyl methacrylate, polybutyl methacrylate, polystyrene, benzoguanamine, styrene / divinylbenzene copolymer, and cellulose; mica; And the like; metal powders such as aluminum, tin, and gold.
【００１６】［Ｂ］粒子の形状は、粗面を形成しうる限
りいづれでも使用できるが、球形および略球形が好まし
い。粒径としては、１〜２０μｍが好ましく、とくに好
ましくは、１〜１０μｍである。このような形状、サイ
ズの粒子を使用することでパネル正面輝度を有効に向上
させることができる。目的とする液晶表示素子が反射型
の場合には、上記したような効率的な粗面を形成しうる
粒子形状を選択する観点から、［Ｂ］粒子としては、金
属酸化物粒子、有機粒子、鉱物粒子が好ましく用いられ
る。また、目的とする液晶表示素子が半透過型の場合に
は、粗面による光拡散機能に加えて粒子自体に散乱機能
を持たせることにより、より効率的に入射光を利用する
ことができることとなる。この観点からは、透明性が高
く、屈折率が［Ａ］成分と大きく異なり、光散乱効果が
大きい点から金属酸化物粒子が好ましく、シリカがとく
に好ましく用いられる。[B] The particles can be used in any shape as long as they can form a rough surface, but are preferably spherical and substantially spherical. The particle size is preferably from 1 to 20 μm, particularly preferably from 1 to 10 μm. By using particles having such a shape and size, the front luminance of the panel can be effectively improved. When the target liquid crystal display element is a reflection type, from the viewpoint of selecting a particle shape capable of forming an efficient rough surface as described above, as the [B] particles, metal oxide particles, organic particles, Mineral particles are preferably used. In addition, when the intended liquid crystal display element is of a semi-transmissive type, the incident light can be used more efficiently by providing the particles themselves with a scattering function in addition to the light diffusion function by the rough surface. Become. From this viewpoint, metal oxide particles are preferred from the viewpoint of high transparency, a large difference in refractive index from the component [A], and a large light scattering effect, and silica is particularly preferably used.
【００１７】このような［Ｂ］粒子の市販品としては、
シリカ等の無機酸化物粒子としては、ニプシールＳＳ−
１０、同ＳＳ−１５、同ＳＳ−１０Ａ、同ＳＳ−２０、
同ＳＳ―３０、同ＳＳ−３０、同ＳＳ−３０Ｐ、同ＳＳ
−３０Ａ、同ＳＳ−４０、同ＳＳ−５０、同ＳＳ−７
０、同ＳＳ−７２Ｆ、同ＳＳ−１１５、同ＳＳ―１７０
Ｘ、同Ｅ−７５、同Ｅ−１５０、同Ｅ−２００Ａ、同Ｅ
−２２０Ａ、同Ｋ−３００（以上、日本シリカ工業
（株）製）、サイリシア２５０、同２５０Ｎ、同２５
６、同２５６Ｎ、同３１０、同３２０、同３５０、同３
５８、同４３０、同４３１、同４４０、同４５０、同４
７０、同４３５、同４４５、同４３６、同４４６、同４
５６、同５３０、同５４０、同５５０、同７３０、同７
４０、同７７０（以上、富士シリシア化学（株）製）、
ミクロパール（積水化学（株）製）、トスパール１０
５、同１２０、同１３０、同１４５、同３１２０、同２
４０（以上、東芝シリコ−ン（株）製）、 ＡＥＲＯＳ
ＩＬ１３０、同２００、同２００Ｖ、同２００ＣＦ、同
２００ＦＡＤ、同３００、同３００ＣＦ、同３８０、同
Ｒ９７２、同Ｒ９７４、同ＲＸ２００、同ＲＹ２００、
同Ｒ２０２、同Ｒ８０５、同Ｒ８１２、同ＯＸ５０、同
ＴＴ６００、同ＭＯＸ１７０、同ＣＯＫ８４（以上、日
本アエロジル（株）製）；有機粒子としては、エポカラ
ー、ＥＰシリーズ、ＭＡシリーズ、エポスターＬ１５，
同ＭＳ，同Ｍ３０，同Ｓ１２，同Ｓ６，同Ｓ、エポスタ
ーＭＡ１００１，同１００２，同１００４，同１００
６，同１０１０，同１０１３、エポスターＧＰ−Ｈシリ
ーズ、シーホスターＫＥ−Ｅシリーズ，同ＫＥ−Ｐ（以
上、日本触媒（株）製）、テクポリマーＭＢシリーズ、
同ＥＭＡシリーズ、同ＭＢＸシリーズ、同ＳＢＸシリー
ズ、同ＢＭＸシリーズ、同ＭＢＰシリーズ、同ＳＢＰシ
リーズ（以上、積水化成品工業（株）製）、ＭＰシリー
ズ、ＭＲシリーズ、ＳＧＰシリーズ（以上、綜研化学
（株）製）ＰＢシリーズ（以上、花王（株）製）、ミク
ロパールシリーズ（以上、積水ファインケミカル（株）
製）、セルフローシリーズ（以上、チッソ（株）製）；
雲母等の鉱物類としては、天然雲母及び合成マイカパー
ル顔料、アルテミカＳＡ−１００、同ＳＢ−１００、同
ＹＢ−１００、同ＢＢ−１００（以上、日本光研工業
（株）製）等が挙げられる。Commercially available products of such [B] particles include:
As inorganic oxide particles such as silica, Nipsil SS-
10, SS-15, SS-10A, SS-20,
SS-30, SS-30, SS-30P, SS
-30A, SS-40, SS-50, SS-7
0, SS-72F, SS-115, SS-170
X, E-75, E-150, E-200A, E
-220A, K-300 (all manufactured by Nippon Silica Industry Co., Ltd.), Sylysia 250, 250N, 25
6, 256N, 310, 320, 350, 3
58, 430, 431, 440, 450, 4
70, 435, 445, 436, 446, 4
56, 530, 540, 550, 730, 7
40, 770 (all made by Fuji Silysia Chemical Ltd.),
Micropearl (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.), Tospearl 10
5, 120, 130, 145, 3120, 2
40 (Toshiba Silicon Corp.), AEROS
IL130, 200, 200V, 200CF, 200FAD, 300, 300CF, 380, R972, R974, RX200, RY200,
R202, R805, R812, OX50, TT600, MOX170, COK84 (all manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.); Epocolor, EP series, MA series, Eposter L15 as organic particles
Same MS, Same M30, Same S12, Same S6, Same S, Eposter MA1001, Same 1002, Same 1004, Same 100
6, 1010, 1013, Eposter GP-H series, Seahoster KE-E series, KE-P (all manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.), Techpolymer MB series,
The EMA series, MBX series, SBX series, BMX series, MBP series, SBP series (all made by Sekisui Chemical Co., Ltd.), MP series, MR series, SGP series (soken Chemical ( PB series (manufactured by Kao Corporation), Micropearl series (manufactured by Sekisui Fine Chemical Co., Ltd.)
Cell Flow Series (Chisso Corporation);
Examples of minerals such as mica include natural mica and synthetic mica pearl pigments, Artmica SA-100, SB-100, YB-100, and BB-100 (all manufactured by Nippon Koken Kogyo Co., Ltd.). Can be
【００１８】［Ｂ］粒子の添加量は、共重合体［Ａ］１
００重量部あたり、通常６０重量部を越えて３００重量
部以下であり、好ましくは８０重量部を越えて２００重
量部以下である。この範囲の使用で、光拡散反射に効率
的な粗面を形成することができる。[B] The amount of the particles added is as follows:
It is usually more than 60 parts by weight and not more than 300 parts by weight, preferably not less than 80 parts by weight and not more than 200 parts by weight, per 100 parts by weight. By using this range, it is possible to form a rough surface that is efficient for light diffuse reflection.
【００１９】また、［Ｂ］粒子を共重合体［Ａ］中に有
効に分散せしめるために、分散剤を併用することができ
る。このような分散剤としては、シランカップリング
剤、ウレタン系分散剤、ポリエチレンイミン系分散剤、
ポリオキシエチレンのエーテル類、ポリエチレングリコ
ールのエステル類等が挙げられるが、このうちでもシラ
ンカップリング剤、ウレタン系分散剤が好ましく用いら
れる。In order to effectively disperse the particles [B] in the copolymer [A], a dispersant may be used in combination. Such dispersants include silane coupling agents, urethane-based dispersants, polyethyleneimine-based dispersants,
Examples thereof include polyoxyethylene ethers and polyethylene glycol esters, and among them, a silane coupling agent and a urethane-based dispersant are preferably used.
【００２０】上記シランカップリング剤としては、例え
ばカルボキシル基、メタクリロイル基、イソシアネート
基、エポキシ基などの反応性置換基を有するシランカッ
プリング剤が挙げられ、具体的にはトリメトキシシリル
安息香酸、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシ
ラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリス（２
−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエチ
ル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−
（２−アミノエチル）３−アミノプロピルメチルトリメ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−クロロプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメ
トキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシ
アナートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキ
シプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキ
シシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどが挙
げられる。Examples of the silane coupling agent include silane coupling agents having a reactive substituent such as a carboxyl group, a methacryloyl group, an isocyanate group, and an epoxy group. Specific examples include trimethoxysilylbenzoic acid, γ Methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltris (2
-Methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) 3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-
(2-aminoethyl) 3-aminopropylmethyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ
-Glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-
Chloropropylmethyldimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, γ-isocyanatopropyltriethoxysilane, γ-glycidoxy Propyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane and the like.
【００２１】ウレタン系分散剤としては、芳香族ジイソ
シアナート類と片末端に水酸基を有するポリラクトン類
および／または両末端に水酸基を有するポリラクトン類
との反応生成物が好ましく、特に、トリレンジイソシア
ナート類と片末端に水酸基を有するポリカプロラクトン
および／または両末端に水酸基を有するポリカプロラク
トンとの反応生成物が好ましい。これらウレタン系分散
剤の具体例としては、商品名で、ＥＦＫＡ（エフカーケ
ミカルズビーブイ（ＥＦＫＡ）社製）、Disperbyk(ビッ
クケミー（ＢＹＫ）社製）、ディスパロン（楠本化成
（株）製）等を挙げることができる。The urethane-based dispersant is preferably a reaction product of an aromatic diisocyanate and a polylactone having a hydroxyl group at one end and / or a polylactone having a hydroxyl group at both ends, and particularly preferred is tolylene diisocyanate. A reaction product of the compound and a polycaprolactone having a hydroxyl group at one end and / or a polycaprolactone having a hydroxyl group at both ends is preferred. Specific examples of these urethane-based dispersants include trade names such as EFKA (manufactured by EFKA Chemicals, Inc., EFKA), Disperbyk (manufactured by BYK (BYK)), and Dispalon (manufactured by Kusumoto Kasei Co., Ltd.). be able to.
【００２２】上記分散剤を使用する場合の使用量は、
［Ｂ］粒子１００重量部に対して、通常１００重量部以
下、好ましくは０．０１〜７０重量部である。この範囲
の使用量において、［Ｂ］粒子を［Ａ］成分中に有効に
分散せしめ、しかも形成後の光拡散反射板に用いる膜の
密着性、耐熱性等の諸物性を損なうことがない。When the above dispersant is used, the amount used is
[B] The amount is usually 100 parts by weight or less, preferably 0.01 to 70 parts by weight, based on 100 parts by weight of the particles. In the use amount in this range, the [B] particles are effectively dispersed in the [A] component, and various physical properties such as adhesion and heat resistance of a film used for the formed light diffusion reflector are not impaired.
【００２３】第２発明は、第１発明の光拡散反射板に用
いるための膜用組成物中に、さらに［Ｃ］多官能モノマ
ー、および［Ｄ］重合開始剤を含有せしめ、膜形成工程
において、多官能モノマーのラジカルによる硬化反応を
利用する方法に適した組成物を提供するものである。以
下に第２発明における［Ｃ］成分と［Ｄ］成分について
詳述する。According to a second aspect of the present invention, the film composition for use in the light-diffusing reflector of the first aspect further comprises a polyfunctional monomer [C] and a polymerization initiator [D], and the film forming step Another object of the present invention is to provide a composition suitable for a method utilizing a curing reaction of a polyfunctional monomer by a radical. Hereinafter, the component [C] and the component [D] in the second invention will be described in detail.
【００２４】上記［Ｃ］成分である多官能性モノマー
は、重合可能なエチレン性不飽和結合を２個以上有し、
後述の［Ｄ］重合開始剤に放射線照射および／または加
熱したとき発生するラジカル種によって重合しうる単量
体からなる。本発明で用いられる［Ｃ］多官能性モノマ
ーとしては、２官能または３官能以上の（メタ）アクリ
レートが好ましく用いられ、そのうち３官能以上の（メ
タ）アクリレートが特に好ましい。上記２官能（メタ）
アクリレートとしては、例えばエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、１,６−ヘキサンジオールジ
（メタ）アクリレート、１,９−ノナンジオールジ（メ
タ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレ
ンジアクリレートなどが挙げられる。その市販品として
は、例えばアロニックスＭ−２１０、同Ｍ−２４０、同
Ｍ−６２００（以上、東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲ
ＡＤ ＨＤＤＡ、同ＨＸ−２２０、同Ｒ−６０４（以
上、日本化薬（株）製）、ビスコート２６０、同３１
２、同３３５ＨＰ（以上、大阪有機化学工業（株）製）
などが挙げられる。The polyfunctional monomer as the component (C) has two or more polymerizable ethylenically unsaturated bonds,
It comprises a monomer that can be polymerized by radical species generated when the polymerization initiator [D] described below is irradiated with radiation and / or heated. As the [C] polyfunctional monomer used in the present invention, a difunctional or trifunctional or higher (meth) acrylate is preferably used, and among them, a trifunctional or higher (meth) acrylate is particularly preferable. The above bifunctional (meta)
Examples of the acrylate include ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, and tetraethylene glycol di ( (Meth) acrylate, bisphenoxyethanol full orange acrylate and the like. Commercially available products include, for example, Aronix M-210, M-240, and M-6200 (all manufactured by Toagosei Co., Ltd.), KAYAR
AD HDDA, HX-220, R-604 (all manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Viscoat 260, 31
2. 335 HP (all manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.)
And the like.
【００２５】上記３官能以上の（メタ）アクリレートと
しては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）ア
クリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリ
レート、トリ（（メタ）アクリロイロキシエチル）フォ
スフェート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アク
リレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アク
リレートなどが挙げられる。その市販品としては、例え
ばアロニックスＭ−３０９、同Ｍ−４００、同Ｍ−４０
２、同Ｍ−４０５、同Ｍ−４５０、同Ｍ−７１００、同
Ｍ−８０３０、同Ｍ−８０６０、同Ｍ−１３１０、同Ｔ
Ｏ−１４５０，同Ｍ−１６００、同Ｍ−１９６０、同Ｍ
−８１００、同Ｍ−８５３０、同Ｍ−８５６０、同Ｍ−
９０５０、同ＴＯ−１４５０（以上、東亞合成（株）
製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＭＰＴＡ、同ＤＰＨＡ、同Ｄ
ＰＣＡ−２０、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、
同ＤＰＣＡ−１２０、同ＭＡＸ−３５１０（以上、日本
化薬（株）製）、ビスコート２９５、同３００、同３６
０、同ＧＰＴ、同３ＰＡ、同４００（以上、大阪有機化
学工業（株）製）などが挙げられる。これらの２官能ま
たは３官能以上の（メタ）アクリレートは、単独である
いは組み合わせて用いられる。Examples of the trifunctional or higher-functional (meth) acrylate include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, tri ((meth) acryloyloxyethyl) phosphate, and pentaerythritol tetra (meth) acrylate. (Meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate and the like. As commercially available products, for example, Aronix M-309, M-400, and M-40
2, M-405, M-450, M-7100, M-8030, M-8060, M-1310, T
O-1450, M-1600, M-1960, M
-8100, same M-8530, same M-8560, same M-
9050, TO-1450 (Toagosei Co., Ltd.)
KAYARAD TMPTA, DPHA, D
PCA-20, DPCA-30, DPCA-60,
DPCA-120, MAX-3510 (all manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), VISCOAT 295, 300, 36
0, the same GPT, the same 3PA, and the same 400 (all manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.). These bifunctional or trifunctional or higher (meth) acrylates are used alone or in combination.
【００２６】［Ｃ］成分の使用量は、［Ａ］成分１００
重量部あたり、通常、１０〜２００重量部、好ましくは
２０〜１５０重量部である。この範囲の使用量におい
て、高耐熱性、密着性及び耐薬品性に優れた膜を与え
る。The amount of the component [C] used is 100 parts of the component [A].
It is usually 10 to 200 parts by weight, preferably 20 to 150 parts by weight, per part by weight. When used in this range, a film having excellent heat resistance, adhesion and chemical resistance is provided.
【００２７】本発明で用いられる［Ｄ］成分は、熱およ
び／または放射線によりラジカルを発生し、上記［Ｃ］
成分の重合を開始する能力を有する化合物である。この
ような化合物のうち、感熱ラジカル重合開始剤として
は、例えばビイミダゾール系化合物、ベンゾイン系化合
物、トリアジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ベ
ンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キ
ノン系化合物、キサントン系化合物、アゾ系化合物等を
挙げることができるが、これらのうちでもビイミダゾー
ル系化合物、トリアジン系化合物、アセトフェノン系化
合物、アゾ系化合物が好ましい。The component [D] used in the present invention generates a radical by heat and / or radiation, and the above-mentioned component [C]
It is a compound that has the ability to initiate polymerization of components. Among such compounds, examples of the heat-sensitive radical polymerization initiator include biimidazole compounds, benzoin compounds, triazine compounds, acetophenone compounds, benzophenone compounds, α-diketone compounds, polynuclear quinone compounds, and xanthone compounds. Compounds, azo compounds and the like can be mentioned, and among them, biimidazole compounds, triazine compounds, acetophenone compounds and azo compounds are preferable.
【００２８】上記ビイミダゾール化合物としては、２，
２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）
−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−ブ
ロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４
−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダ
ゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，
４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダ
ゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）
−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビ
イミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロ
ロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−
１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−ブロ
モフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−
１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−
ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェ
ニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス
（２，４，６−トリブロモフェニル）−４，４’，５，
５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール等を
挙げることができる。The biimidazole compounds include 2,2
2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5
5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl)
-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2-bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4
-Ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,
4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl)
-4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra Phenyl-
1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2-bromophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-
1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2,4-
Dibromophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2,4,6-tribromophenyl) -4,4 ′, 5
5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole and the like can be mentioned.
【００２９】これらのビイミダゾール系化合物のうち、
好ましい化合物は２，２’−ビス（２−クロロフェニ
ル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’
−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロ
フェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−
１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，
６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テト
ラフェニル−１，２’−ビイミダゾールであり、特に好
ましい化合物としては２，２’−ビス（２，４−ジクロ
ロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−
１，２’−ビイミダゾールである。Of these biimidazole compounds,
Preferred compounds are 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'
-Biimidazole, 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-
1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2,4,
6-trichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole, and particularly preferred compounds are 2,2′-bis (2,4-dichlorophenyl) -4, 4 ', 5,5'-tetraphenyl-
1,2'-biimidazole.
【００３０】また、上記トリアジン系化合物の具体例と
しては、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ
−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロ
メチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（５−メチルフ
ラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロ
ロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（フラン−２
−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（４−ジエチルアミ
ノ−２−メチルフェニル）エテニル］−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−
（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル］−４，６−
ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４
−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシスチリル）
−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジ
ン、２−（４−ｎ−ブトキシフェニル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等のハロメチル
基を有するトリアジン系化合物を挙げることができる。Specific examples of the above triazine compounds include 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s
-Triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (5-methylfuran-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s -Triazine, 2- [2- (furan-2
-Yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s- Triazine, 2- [2-
(3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -4,6-
Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4
-Methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-ethoxystyryl)
Triazine compounds having a halomethyl group such as -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine and 2- (4-n-butoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine are exemplified. be able to.
【００３１】これらのトリアジン系化合物のうち、２−
［２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル］−
４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンが
好ましい。これらトリアジン系化合物は、単独でまたは
２種以上を混合して使用することができる。Of these triazine compounds, 2-
[2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl]-
4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine is preferred. These triazine compounds can be used alone or in combination of two or more.
【００３２】上記アセトフェノン系化合物の具体例とし
ては、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロ
パン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチ
オ）フェニル］−２−モルフォリノプロパノン−１、２
−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォ
リノフェニル）ブタノン−１、１−ヒドロキシ−シクロ
ヘキシル−フェニル−ケトン、２，２−ジメトキシ−
１，２−ジフェニルエタン−１−オン等を挙げることが
できる。Specific examples of the acetophenone compound include 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one and 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone. -1, 2
-Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone-1,1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2,2-dimethoxy-
1,2-diphenylethan-1-one and the like can be mentioned.
【００３３】これらのアセトフェノン系化合物のうち、
特に、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−
モルフォリノフェニル）ブタノン−１が好ましい。前記
アセトフェノン系化合物は、単独で、または２種以上を
混合して使用することができる。Of these acetophenone compounds,
In particular, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-
Morpholinophenyl) butanone-1 is preferred. The acetophenone-based compounds can be used alone or in combination of two or more.
【００３４】前記アゾ系化合物の具体例としては、２，
２‘−アゾビス（４−メトキシー２，４−ジメチルバレ
ロニトリル）、２，２‘−アゾビス（４−ジメチルバレ
ロニトリル）、２，２‘−アゾビス（２−メチルプロピ
オニトリル）、２，２‘−アゾビス（２−メチルブチロ
ニトリル）、１，１‘−アゾビス（シクロヘキサンー１
−カルボニトリル）、４，４‘−アゾビス（４−シアノ
バレリックアシッド）、１，１‘−アゾビス（１−アセ
トキシー１−フェニルエタン）等を挙げることができ
る。これらのアゾ系化合物のうち、特に２，２‘−アゾ
ビス（４−メトキシー２，４−ジメチルバレロニトリ
ル）、２，２‘−アゾビス（４−ジメチルバレロニトリ
ル）、２，２‘−アゾビス（２−メチルプロピオニトリ
ル）、２，２‘−アゾビス（２−メチルブチロニトリ
ル）、１，１‘−アゾビス（シクロヘキサンー１−カル
ボニトリル）等が好ましく使用できる。Specific examples of the azo compound include 2,2
2'-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis (4-dimethylvaleronitrile), 2,2'-azobis (2-methylpropionitrile), 2,2 ' -Azobis (2-methylbutyronitrile), 1,1'-azobis (cyclohexane-1
-Carbonitrile), 4,4'-azobis (4-cyanovaleric acid), 1,1'-azobis (1-acetoxy-1-phenylethane) and the like. Among these azo compounds, in particular, 2,2′-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis (4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis (2 -Methylpropionitrile), 2,2'-azobis (2-methylbutyronitrile), 1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile) and the like can be preferably used.
【００３５】上記のごとき感熱ラジカル重合開始剤の使
用量は、［Ｃ］多官能性モノマー１００重量部に対し
て、通常、０．０１〜４０重量部、好ましくは０．５〜
３０重量部、さらに好ましくは１〜２０重量部である。The amount of the heat-sensitive radical polymerization initiator as described above is usually 0.01 to 40 parts by weight, preferably 0.5 to 40 parts by weight, per 100 parts by weight of the polyfunctional monomer [C].
The amount is 30 parts by weight, more preferably 1 to 20 parts by weight.
【００３６】また［Ｄ］重合開始剤のうち、感放射線性
ラジカル重合開始剤としては、例えばベンジル、ジアセ
チルなどのα−ジケトン類；ベンゾインなどのアシロイ
ン類；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエ
ーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルなどのアシロ
インエーテル類；チオキサントン、２,４−ジエチルチ
オキサントン、チオキサントン−４−スルホン酸、ベン
ゾフェノン、４,４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾ
フェノン、４,４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフ
ェノンなどのベンゾフェノン類；アセトフェノン、ｐ−
ジメチルアミノアセトフェノン、α,α’−ジメトキシ
アセトキシベンゾフェノン、２,２’−ジメトキシ−２
−フェニルアセトフェノン、ｐ−メトキシアセトフェノ
ン、２−メチル［４−（メチルチオ）フェニル］−２−
モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジ
メチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブ
タン−１−オンなどのアセトフェノン類；アントラキノ
ン、１,４−ナフトキノンなどのキノン類；フェナシル
クロライド、トリブロモメチルフェニルスルホン、トリ
ス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンなどのハロゲ
ン化合物；２,４,６−トリメチルベンゾイルジフェニル
ホスフィンオキサイド、ビス（２,６−ジメトキシベン
ゾイル）−２,４,４−トリメチル−ペンチルホスフィン
オキサイド、ビス（２,４,６−トリメチルベンゾイル）
フェニルホスフィンオキサイドなどのアシルホスフィン
オキサイド；およびジ−ｔ−ブチルパーオキサイドなど
の過酸化物が挙げられる。[D] Among the polymerization initiators, examples of the radiation-sensitive radical polymerization initiator include α-diketones such as benzyl and diacetyl; acyloins such as benzoin; benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl. Acyloin ethers such as ethers; thioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, thioxanthone-4-sulfonic acid, benzophenone, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, and 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone Benzophenones; acetophenone, p-
Dimethylaminoacetophenone, α, α′-dimethoxyacetoxybenzophenone, 2,2′-dimethoxy-2
-Phenylacetophenone, p-methoxyacetophenone, 2-methyl [4- (methylthio) phenyl] -2-
Acetophenones such as morpholino-1-propanone and 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one; quinones such as anthraquinone and 1,4-naphthoquinone; phenacyl chloride , Tribromomethylphenylsulfone, tris (trichloromethyl) -s-triazine and the like; 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl -Pentylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl)
Acyl phosphine oxides such as phenyl phosphine oxide; and peroxides such as di-t-butyl peroxide.
【００３７】これら感放射線ラジカル重合開始剤の市販
品としては、たとえばＩＲＧＡＣＵＲＥ−１８４、同３
６９、同５００、同６５１、同９０７、同１７００、同
８１９、同１２４、同１０００、同２９５９、同１４
９、同１８００、同１８５０、Ｄａｒｏｃｕｒ−１１７
３、同１１１６、同２９５９、同１６６４、同４０４３
（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、Ｋ
ＡＹＡＣＵＲＥ−ＤＥＴＸ 、同 ＭＢＰ、同 ＤＭＢ
Ｉ 、同 ＥＰＡ、同 ＯＡ（以上、日本化薬（株）
製）、ＬＵＣＩＲＩＮ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ Ｃｏ.ＬＴ
Ｄ 製）、ＶＩＣＵＲＥ−１０、同５５（以上、ＳＴＡ
ＵＦＦＥＲ Ｃｏ.ＬＴＤ 製）、ＴＲＩＧＯＮＡＬＰ
１（ＡＫＺＯ Ｃｏ.ＬＴＤ 製）、ＳＡＮＤＯＲＡＹ
１０００（ＳＡＮＤＯＺ Ｃｏ.ＬＴＤ 製）、ＤＥ
ＡＰ（ＡＰＪＯＨＮ Ｃｏ.ＬＴＤ 製）、ＱＵＡＮＴ
ＡＣＵＲＥ−ＰＤＯ、同 ＩＴＸ、同 ＥＰＤ（以上、
ＷＡＲＤＢＬＥＫＩＮＳＯＰ Ｃｏ.ＬＴＤ 製）等が
挙げられる。また、これら感放射線性ラジカル重合開始
剤と感放射線性増感剤とを併用することによって酸素に
よる失活の少ない、高感度の感放射線性組成物を得るこ
とも可能である。Commercial products of these radiation-sensitive radical polymerization initiators include, for example, IRGACURE-184 and IRGACURE-184.
69, 500, 651, 907, 1700, 819, 124, 1000, 2959, 14
9, 1800, 1850, Darocur-117
3, 1116, 2959, 1664, 4043
(The above is made by Ciba Specialty Chemicals), K
AYACURE-DETX, MBP, DMB
I, EPA, OA (Nippon Kayaku Co., Ltd.)
LUCIIRIN TPO (BASF Co.LT)
D), VICURE-10, 55 (above, STA
UFFER Co. LTD), TRIGONALP
1 (AKZO Co. LTD), SANDORAY
1000 (manufactured by Sandoz Co. Ltd.), DE
AP (manufactured by APJOHN Co. LTD), QUANT
ACURE-PDO, ITX, EPD
WARDBLEKINSOP Co., Ltd.). Also, by using these radiation-sensitive radical polymerization initiators and radiation-sensitive sensitizers in combination, it is possible to obtain a high-sensitivity radiation-sensitive composition with little deactivation by oxygen.
【００３８】感放射線性ラジカル重合開始剤の使用量
は、［Ｃ］多官能性モノマー１００重量部に対して、通
常、０．０１〜６０重量部、好ましくは０．５〜５０重
量部、さらに好ましくは１〜４０重量部である。The radiation-sensitive radical polymerization initiator is used in an amount of usually 0.01 to 60 parts by weight, preferably 0.5 to 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polyfunctional monomer [C]. Preferably it is 1 to 40 parts by weight.
【００３９】第３発明は、第１発明または第２発明の組
成物中に、さらに［Ａ］成分以外のエポキシ化合物
［Ｅ］を含有せしめ、膜形成工程において、エポキシ化
合物の反応を利用する方法に適した組成物を提供するも
のである。以下に第３発明における［Ｅ］成分について
詳述する。A third aspect of the present invention is a method in which an epoxy compound [E] other than the component [A] is further added to the composition of the first or second aspect of the invention, and the reaction of the epoxy compound is used in the film forming step. The present invention provides a composition suitable for: Hereinafter, the component [E] in the third invention will be described in detail.
【００４０】［Ｅ］［Ａ］成分以外のエポキシ化合物
は、［Ａ］成分中のカルボキシル基および／または後述
する［Ｆ］酸発生剤から発生する酸によって、重合また
は架橋反応を起こし、組成物塗膜の硬化反応を行う作用
を奏する成分である。上記［Ｅ］成分たるエポキシ化合
物としては、ビスフェノールＡ系エポキシ樹脂、水素化
ビスフェノールＡ系エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ系
エポキシ樹脂、水素化ビスフェノールＦ系エポキシ樹
脂、ビスフェノールＳ系エポキシ樹脂、水素化ビスフェ
ノールＳ系エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ系エポキ
シ樹脂、水素化ビスフェノールＡＤ系エポキシ樹脂、ノ
ボラック型エポキシ樹脂、環式脂肪族系エポキシ樹脂、
複素環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル系樹脂、グ
リシジルアミン系樹脂、エポキシ化油、エポキシノボラ
ック樹脂等のエポキシ樹脂およびその臭素化物；[E] The epoxy compound other than the component [A] undergoes a polymerization or cross-linking reaction due to a carboxyl group in the component [A] and / or an acid generated from an acid generator [F] described below. It is a component having an effect of performing a curing reaction of a coating film. Examples of the epoxy compound as the component [E] include bisphenol A epoxy resin, hydrogenated bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, hydrogenated bisphenol F epoxy resin, bisphenol S epoxy resin, and hydrogenated bisphenol S epoxy resin. Epoxy resin, bisphenol AD epoxy resin, hydrogenated bisphenol AD epoxy resin, novolak epoxy resin, cycloaliphatic epoxy resin,
Epoxy resins such as heterocyclic epoxy resins, glycidyl ester resins, glycidylamine resins, epoxidized oils, epoxy novolak resins and brominated products thereof;
【００４１】ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、
ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノー
ルＳジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡＤジグリ
シジルエーテル、水素化ビスフェノールＡジグリシジル
エーテル、水素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテ
ル、水素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、水
素化ビスフェノールＡＤジグリシジルエーテル、臭素化
ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフ
ェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノー
ルＳジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡＤ
ジグリシジルエーテル等の芳香族系エポキシ化合物等を
挙げることができる。Bisphenol A diglycidyl ether,
Bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether, bisphenol AD diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol F diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol S diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol AD diglycidyl ether, Brominated bisphenol A diglycidyl ether, brominated bisphenol F diglycidyl ether, brominated bisphenol S diglycidyl ether, brominated bisphenol AD
Examples thereof include aromatic epoxy compounds such as diglycidyl ether.
【００４２】これらのエポキシ化合物のうち、硬化後の
膜の硬度が高く、他の膜物性に対する悪影響が少ない点
でエポキシ樹脂が好ましく、特に、ビスフェノールＡ系
エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、環式脂肪族
系エポキシ樹脂等のエポキシ基を２〜１００個有するエ
ポキシ樹脂が好適に用いられる。Among these epoxy compounds, epoxy resins are preferred because they have a high hardness after curing and have little adverse effect on the physical properties of other films. In particular, bisphenol A epoxy resins, novolak epoxy resins, and cyclic fats are preferred. Epoxy resins having 2 to 100 epoxy groups, such as group-based epoxy resins, are preferably used.
【００４３】これらエポキシ樹脂の市販品としては、ビ
スフェノールＡ型エポキシ樹脂としてエピコート８２
８、同８３４、同１００１、同１００２、同１００３、
同１００４、同１００７、同１００９、同１０１０、同
１５７ＳＳ６５、同１０３２Ｈ６０（以上、油化シェル
エポキシ（株）製）等を、ビスフェノールＦ型エポキシ
樹脂としてエピコート８０６、同８０６Ｌ、同８０７
（以上、油化シェルエポキシ（株）製）、ノボラック型
エポキシ樹脂としてエピコート１５２、同１５４（以
上、油化シェルエポキシ（株）製）、ＥＰＰＮ２０１、
同２０２（以上、日本化薬（株）製）、ＥＯＣＮ−１０
２、ＥＯＣＮ−１０３Ｓ、ＥＯＣＮ−１０４Ｓ、ＥＯＣ
Ｎ−１０２０、ＥＯＣＮ−１０２５、ＥＯＣＮ−１０２
７（以上、日本化薬（株）製）、エピコート１８０Ｓ７
５（油化シェルエポキシ（株）製）等を、多官能エポキ
シ樹脂としてエピコート１０３２Ｈ６０（油化シェルエ
ポキシ（株）製）、環式脂肪族エポキシ樹脂として、Ｃ
Ｙ１７５、ＣＹ１７７、ＣＹ１７９（以上、ＣＩＢＡ−
ＧＥＩＧＹ Ａ．Ｇ製）、ＥＲＬ−４２３４、ＥＲＬ−
４２９９、ＥＲＬ−４２２１、ＥＲＬ−４２０６（以
上、Ｕ．Ｃ．Ｃ社製）、ショーダイン５０９（昭和電工
（株）製）、アラルダイトＣＹ−１８２、同ＣＹ−１９
２、同ＣＹ−１８４（以上、ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ
Ａ．Ｇ製）、エピクロン２００、同４００（以上、大日
本インキ工業（株）製）、エピコート８７１、同８７２
（以上、油化シェルエポキシ（株）製）、ＥＤ−５６６
１、ＥＤ−５６６２（以上、セラニーズコーティング
（株）製）等を挙げることができる。Commercial products of these epoxy resins include Epicoat 82 as a bisphenol A type epoxy resin.
8, 834, 1001, 1002, 1003,
1004, 1007, 1009, 1010, 157SS65, 1032H60 (all manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.), etc. as bisphenol F type epoxy resin, Epicoat 806, 806L, 807
(Both manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.), Epicoat 152 and 154 as novolak type epoxy resins (both manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.), EPPN201,
202 (all manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), EOCN-10
2, EOCN-103S, EOCN-104S, EOC
N-1020, EOCN-1025, EOCN-102
7 (all manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Epikote 180S7
5 (manufactured by Yuka Shell Epoxy), Epicoat 1032H60 (manufactured by Yuka Shell Epoxy) as a polyfunctional epoxy resin, and C
Y175, CY177, CY179 (above, CIBA-
GEIGY A. G), ERL-4234, ERL-
4299, ERL-4221, ERL-4206 (manufactured by UCC), Shodyne 509 (manufactured by Showa Denko KK), Araldite CY-182, CY-19
2, CY-184 (above, CIBA-GEIGY
A. G), Epicron 200, Epicron 400 (all manufactured by Dainippon Ink Industries, Ltd.), Epicoat 871, 872
(The above are manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.), ED-566
1, ED-5662 (all made by Celanese Coatings Co., Ltd.) and the like.
【００４４】［Ｅ］成分の添加量は［Ａ］成分１００重
量部あたり、通常、１〜２５０重量部であり、好ましく
は、３〜２００重量部である。この範囲の使用量で密着
性、塗布性及び耐熱性に優れた、光拡散反射板に用いる
膜を得ることができる。なお、共重合体［Ａ］も「エポ
キシ化合物」といいうるが、共重合体［Ａ］は分子内に
カルボキシル基を同時に含有している点で［Ｅ］成分と
は異なる。The amount of the component [E] is usually 1 to 250 parts by weight, preferably 3 to 200 parts by weight, per 100 parts by weight of the component [A]. With the use amount in this range, it is possible to obtain a film which is excellent in adhesion, coatability and heat resistance and is used for a light diffusion reflector. Note that the copolymer [A] can also be referred to as an “epoxy compound”, but differs from the component [E] in that the copolymer [A] has a carboxyl group in the molecule at the same time.
【００４５】第４発明は、上記第１〜第３発明のうちの
いずれか一つにおいて、［Ｆ］酸発生剤をさらに含有す
る組成物である。［Ｆ］成分は、放射線照射または熱に
より酸を発生する感放射線性酸発生剤または感熱酸発生
剤であり、前記［Ａ］成分および／または［Ｅ］成分の
架橋・硬化反応を行う化合物である。感放射線性酸発生
剤としては、ジアリールヨードニウム塩類、トリアリー
ルスルホニウム塩類等を挙げられ、これらを好ましく使
用できる。また、感熱酸発生剤としては、スルホニウム
塩（前述のトリアリールスルホニウム塩を除く）、ベン
ゾチアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩等
が挙げられ、これらのうちでもスルホニウム塩（前述の
トリアリールスルホニウム塩を除く）、ベンゾチアゾニ
ウム塩類が好ましく用いられる。A fourth invention is the composition according to any one of the first to third inventions, further comprising [F] an acid generator. The component [F] is a radiation-sensitive acid generator or a heat-sensitive acid generator that generates an acid by irradiation or heat, and is a compound that performs a crosslinking / curing reaction of the component [A] and / or the component [E]. is there. Examples of the radiation-sensitive acid generator include diaryliodonium salts and triarylsulfonium salts, and these can be preferably used. Examples of the thermal acid generator include sulfonium salts (excluding the above-mentioned triarylsulfonium salts), benzothiazonium salts, ammonium salts, phosphonium salts and the like. Among these, sulfonium salts (the above-mentioned triarylsulfonium salts). Salts), and benzothiazonium salts are preferably used.
【００４６】上記ジアリールヨードニウム塩類として
は、例えばジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレ
ート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネ
ート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネ
ート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスル
ホナート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテ
ート、ジフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナ
ート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムテト
ラフルオロボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨ
ードニウムヘキサフルオロホスホネート、４−メトキシ
フェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネ
ート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリ
フルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルフ
ェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、４−メト
キシフェニルフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスル
ホナート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨー
ドニウムテトラフルオロボレート、ビス（４−ｔｅｒｔ
−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセ
ネート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨード
ニウムトリフルオロメタンスルホナート、ビス（４−ｔ
ｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロア
セテート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨー
ドニウム−ｐ−トルエンスルホナート等が挙げられる。
これらのうちでも、ジフェニルヨードニウムヘキサフル
オロホスホネートが好適に用いられる。Examples of the above diaryliodonium salts include diphenyliodonium tetrafluoroborate, diphenyliodonium hexafluorophosphonate, diphenyliodonium hexafluoroarsenate, diphenyliodonium trifluoromethanesulfonate, diphenyliodonium trifluoroacetate, diphenyliodonium-p-toluenesulfonate. Nate, 4-methoxyphenylphenyliodonium tetrafluoroborate, 4-methoxyphenylphenyliodonium hexafluorophosphonate, 4-methoxyphenylphenyliodonium hexafluoroarsenate, 4-methoxyphenylphenyliodonium trifluoromethanesulfonate, 4-methoxyphenylphenyliodonium Li trifluoroacetate, 4-methoxyphenyl phenyl iodonium -p- toluenesulfonate, bis (4-tert- butylphenyl) iodonium tetrafluoroborate, bis (4-tert
-Butylphenyl) iodonium hexafluoroarsenate, bis (4-tert-butylphenyl) iodonium trifluoromethanesulfonate, bis (4-t
tert-butylphenyl) iodonium trifluoroacetate, bis (4-tert-butylphenyl) iodonium-p-toluenesulfonate and the like.
Among these, diphenyliodonium hexafluorophosphonate is preferably used.
【００４７】上記トリアリールスルホニウム塩類として
は、例えばトリフェニルスルホニウムテトラフルオロボ
レート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホス
ホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロア
ルセネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメ
タンスルホナート、トリフェニルスルホニウムトリフル
オロアセテート、トリフェニルスルホニウム−ｐ−トル
エンスルホナート、４−メトキシフェニルジフェニルス
ルホニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフェ
ニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネー
ト、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキ
サフルオロアルセネート、４−メトキシフェニルジフェ
ニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４
−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオ
ロアセテート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホ
ニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−フェニルチオ
フェニルジフェニルテトラフルオロボレート、４−フェ
ニルチオフェニルジフェニルヘキサフルオロホスホネー
ト、４−フェニルチオフェニルジフェニルヘキサフルオ
ロアルセネート、４−フェニルチオフェニルジフェニル
トリフルオロメタンスルホナート、４−フェニルチオフ
ェニルジフェニルトリフルオロアセテート、４−フェニ
ルチオフェニルジフェニル−ｐ−トルエンスルホナート
等が挙げられる。これらのうちでも、トリフェニルスル
ホニウムトリフルオロメタンスルホナートが好適に用い
られる。The above triarylsulfonium salts include, for example, triphenylsulfonium tetrafluoroborate, triphenylsulfonium hexafluorophosphonate, triphenylsulfonium hexafluoroarsenate, triphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate, triphenylsulfonium trifluoroacetate, Phenylsulfonium-p-toluenesulfonate, 4-methoxyphenyldiphenylsulfonium tetrafluoroborate, 4-methoxyphenyldiphenylsulfonium hexafluorophosphonate, 4-methoxyphenyldiphenylsulfonium hexafluoroarsenate, 4-methoxyphenyldiphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate , 4
-Methoxyphenyldiphenylsulfonium trifluoroacetate, 4-methoxyphenyldiphenylsulfonium-p-toluenesulfonate, 4-phenylthiophenyldiphenyltetrafluoroborate, 4-phenylthiophenyldiphenylhexafluorophosphonate, 4-phenylthiophenyldiphenylhexafluoro Arsenate, 4-phenylthiophenyldiphenyltrifluoromethanesulfonate, 4-phenylthiophenyldiphenyltrifluoroacetate, 4-phenylthiophenyldiphenyl-p-toluenesulfonate and the like can be mentioned. Among these, triphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate is preferably used.
【００４８】上記スルホニウム塩（前記のトリアリール
スルホニウム塩を除く）の具体例としては、４−アセト
フェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチ
モネート、４−アセトキシフェニルジメチルスルホニウ
ム ヘキサフルオロアルセネート、ジメチル−４−（ベ
ンジルオキシカルボニルオキシ）フェニルスルホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル−４−（ベ
ンゾイルオキシ）フェニルスルホニウム ヘキサフルオ
ロアンチモネート、ジメチル−４−（ベンゾイルオキ
シ）フェニルスルホニウム ヘキサフルオロアルセネー
ト、ジメチル−３−クロロ−４−アセトキシフェニルス
ルホニウム ヘキサフルオロアンチモネートなどのアル
キルスルホニウム塩；ベンジル−４−ヒドロキシフェニ
ルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネー
ト、ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニ
ウム ヘキサフルオロホスフェート、４−アセトキシフ
ェニルベンジルメチルスルホニウム ヘキサフルオロア
ンチモネート、ベンジル−４−メトキシフェニルメチル
スルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ベンジ
ル−２−メチル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホ
ニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−３
−クロロ−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム
ヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシベンジル
−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサ
フルオロホスフェートなどのベンジルスルホニウム塩；Specific examples of the above sulfonium salts (excluding the above-mentioned triarylsulfonium salts) include 4-acetophenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate, 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroarsenate, dimethyl-4- (benzyl) Oxycarbonyloxy) phenylsulfonium hexafluoroantimonate, dimethyl-4- (benzoyloxy) phenylsulfonium hexafluoroantimonate, dimethyl-4- (benzoyloxy) phenylsulfonium hexafluoroarsenate, dimethyl-3-chloro-4-acetoxy Alkylsulfonium salts such as phenylsulfonium hexafluoroantimonate; benzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexa Fluoroantimonate, benzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluorophosphate, 4-acetoxyphenylbenzylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, benzyl-4-methoxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, benzyl-2-methyl-4-hydroxy Phenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, benzyl-3
Benzylsulfonium salts such as -chloro-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroarsenate, 4-methoxybenzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluorophosphate;
【００４９】ジベンジル−４−ヒドロキシフェニルスル
ホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル
−４−ヒドロキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオ
ロホスフェート、４−アセトキシフェニルジベンジルス
ルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジ
ル−４−メトキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオ
ロアンチモネート、ジベンジル−３−クロロ−４−ヒド
ロキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオロアルセネ
ート、ジベンジル−３−メチル−４−ヒドロキシ−５−
ｔｅｒｔ−ブチルフェニルスルホニウム ヘキサフルオ
ロアンチモネート、ベンジル−４−メトキシベンジル−
４−ヒドロキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオロ
ホスフェートなどのジベンジルスルホニウム塩；ｐ−ク
ロロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニ
ウム ヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−ニトロベン
ジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘ
キサフルオロアンチモネート、ｐ−クロロベンジル−４
−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフル
オロホスフェート、ｐ−ニトロベンジル−３−メチル−
４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフ
ルオロアンチモネート、３,５−ジクロロベンジル−４
−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフル
オロアンチモネート、ｏ−クロロベンジル−３−クロロ
−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサ
フルオロアンチモネートなどの置換ベンジルスルホニウ
ム塩等が挙げられる。これらのうちでも４−アセトキシ
フェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアルセ
ネート、ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスル
ホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、４−アセト
キシフェニルベンジルメチルスルホニウム ヘキサフル
オロアンチモネート、ジベンジル−４−ヒドロキシフェ
ニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、４
−アセトキシフェニルベンジルスルホニウム ヘキサフ
ルオロアンチモネート等が好ましく用いられる。Dibenzyl-4-hydroxyphenylsulfonium hexafluoroantimonate, dibenzyl-4-hydroxyphenylsulfonium hexafluorophosphate, 4-acetoxyphenyldibenzylsulfonium hexafluoroantimonate, dibenzyl-4-methoxyphenylsulfonium hexafluoroantimonate, Dibenzyl-3-chloro-4-hydroxyphenylsulfonium hexafluoroarsenate, dibenzyl-3-methyl-4-hydroxy-5-
tert-butylphenylsulfonium hexafluoroantimonate, benzyl-4-methoxybenzyl-
Dibenzylsulfonium salts such as 4-hydroxyphenylsulfonium hexafluorophosphate; p-chlorobenzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, p-nitrobenzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, p-chloro Benzyl-4
-Hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluorophosphate, p-nitrobenzyl-3-methyl-
4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, 3,5-dichlorobenzyl-4
And substituted benzylsulfonium salts such as -hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate and o-chlorobenzyl-3-chloro-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate. Among them, 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroarsenate, benzyl-4-hydroxyphenylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, 4-acetoxyphenylbenzylmethylsulfonium hexafluoroantimonate, dibenzyl-4-hydroxyphenylsulfonium hexafluoroantimonate Nate, 4
-Acetoxyphenylbenzylsulfonium hexafluoroantimonate and the like are preferably used.
【００５０】上記ベンゾチアゾニウム塩類としては３−
ベンジルベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロアンチモ
ネート、３−ベンジルベンゾチアゾニウム ヘキサフル
オロホスフェート、３−ベンジルベンゾチアゾニウム
テトラフルオロボレート、３−（ｐ−メトキシベンジ
ル）ベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネー
ト、３−ベンジル−２−メチルチオベンゾチアゾニウム
ヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジル−５−
クロロベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネ
ートなどのベンジルベンゾチアゾニウム塩が挙げられ
る。これらのうち、３−ベンジルベンゾチアゾニウム
ヘキサフルオロアンチモネート等が好ましく用いられ
る。これら［Ｆ］成分の使用量は、組成物が［Ｅ］成分
を含有しない場合は［Ａ］成分１００重量部当たり通常
０．０５〜２０重量部、好ましくは０．１〜１０重量部
であり、組成物が［Ｅ］成分を含有する場合は［Ａ］成
分と［Ｅ］成分の合計１００重量部当たり、通常０．０
５〜２０重量部、好ましくは０．１〜１０重量部であ
る。この範囲の使用において良好な硬化特性が得られ、
硬化後の膜の諸物性を損なうことがない。The benzothiazonium salts include 3-
Benzylbenzothiazonium hexafluoroantimonate, 3-benzylbenzothiazonium hexafluorophosphate, 3-benzylbenzothiazonium
Tetrafluoroborate, 3- (p-methoxybenzyl) benzothiazonium hexafluoroantimonate, 3-benzyl-2-methylthiobenzothiazonium hexafluoroantimonate, 3-benzyl-5-
Benzylbenzothiazonium salts such as chlorobenzothiazonium hexafluoroantimonate. Of these, 3-benzylbenzothiazonium
Hexafluoroantimonate and the like are preferably used. When the composition does not contain the component [E], the amount of the component [F] is usually 0.05 to 20 parts by weight, preferably 0.1 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of the component [A]. When the composition contains the component [E], the composition is usually added in an amount of 0.0 to 100 parts by weight of the total of the components [A] and [E].
It is 5 to 20 parts by weight, preferably 0.1 to 10 parts by weight. Good curing properties are obtained in this range of use,
The physical properties of the cured film are not impaired.
【００５１】その他の添加剤 本発明の光拡散反射板に用いるための膜用組成物中に
は、必要に応じて上記以外の添加剤を含有させることが
できる。たとえば、組成物の塗布性等を改善するため
に、界面活性剤を配合することもできる。界面活性剤と
しては例えば、フッ素系界面活性剤及びシリコーン系界
面活性剤を好適に用いることが出来る。 Other Additives The film composition for use in the light diffusion reflector of the present invention may contain additives other than those described above, if necessary. For example, a surfactant can be blended in order to improve the coating properties and the like of the composition. As the surfactant, for example, a fluorine-based surfactant and a silicone-based surfactant can be suitably used.
【００５２】フッ素系界面活性剤としては、少なくとも
１個のフルオロアルキルまたはフルオロアルキレン基を
有する化合物を用いることができ、その具体例として
は、１，２，２，２−テトラフルオロオクチル（１，
１，２，２−テトラフルオロプロピル）エーテル、１，
２，２，２−テトラフルオロヘキシルエーテル、オクタ
エチレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフルオ
ロブチル）エーテル、ヘキサエチレングリコールジ
（１，１，２，２，３，３−ヘキサフルオロペンチル）
エーテル、オクタプロピレングリコールジ（１，１，
２，２−テトラフルオロブチル）エーテル、ヘキサプロ
ピレングリコールジ（１，１，２，２，３，３−ヘキサ
フルオロペンチル）エーテル、パーフルオロドデシルス
ルホン酸ナトリウム、１，１，２，２，８，８，９，
９，１０，１０−デカフルオロドデカン、１，１，２，
２，３，３−ヘキサフルオロデカン等を挙げることがで
きる。この他にも、フルオロアルキルベンゼンスルホン
酸ナトリウム類、フルオロアルキルオキシエチレンエー
テル類、ジグリセリンテトラキスフルオロアルキルポリ
オキシエチレンエーテル類、パーフルオロアルキルポリ
オキシエタノール類、パーフルオロアルキルアルコキシ
レート類、フッ素系アルキルエスエル類も好適に用いる
ことができる。As the fluorine-based surfactant, a compound having at least one fluoroalkyl or fluoroalkylene group can be used, and specific examples thereof include 1,2,2,2-tetrafluorooctyl (1,
1,2,2-tetrafluoropropyl) ether, 1,
2,2,2-tetrafluorohexyl ether, octaethylene glycol di (1,1,2,2-tetrafluorobutyl) ether, hexaethylene glycol di (1,1,2,2,3,3-hexafluoropentyl) )
Ether, octapropylene glycol di (1,1,
2,2-tetrafluorobutyl) ether, hexapropylene glycol di (1,1,2,2,3,3-hexafluoropentyl) ether, sodium perfluorododecylsulfonate, 1,1,2,2,8, 8, 9,
9,10,10-decafluorododecane, 1,1,2,2
2,3,3-hexafluorodecane and the like can be mentioned. In addition, sodium fluoroalkylbenzene sulfonates, fluoroalkyloxyethylene ethers, diglycerin tetrakisfluoroalkylpolyoxyethylene ethers, perfluoroalkylpolyoxyethanols, perfluoroalkylalkoxylates, and fluorine-based alkyl esters Can also be suitably used.
【００５３】これらフッ素系界面活性剤の市販品として
は、ＢＭ−１０００，ＢＭ−１１００（以上、ＢＭ Ｃ
ｈｅｍｉｅ社製）、エフトップＥＦ３０１、同３０３、
同３５２（以上、新秋田化成（株）製）、メガファック
Ｆ１４２Ｄ、同Ｆ１７１、同１７２、同１７３、同Ｆ１
８３、同Ｆ１７８、同Ｆ１９１、同Ｆ４７１（以上、大
日本インキ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同４３
１、同１７０Ｃ、同ＦＣ１７１、同ＦＣ４３０、同ＦＣ
４３１（以上、住友スリーエム（株）製）、アサヒガー
ドＡＧ７１０、サーフロンＳ−３８２、ＳＣ−１０１、
１０２、１０３、１０４、１０５、１０６（以上、旭硝
子（株）製）等が挙げられる。Commercial products of these fluorine-based surfactants include BM-1000 and BM-1100 (above, BMC C)
Hemie), F-top EF301, 303
352 (all manufactured by Shin-Akita Kasei Co., Ltd.), MegaFac F142D, F171, 172, 173, and F1
83, F178, F191, and F471 (all manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.), Florad FC430, and 43
1, 170C, FC171, FC430, FC
431 (all manufactured by Sumitomo 3M Limited), Asahi Guard AG710, Surflon S-382, SC-101,
102, 103, 104, 105, and 106 (all manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.).
【００５４】またシリコーン系界面活性剤としては、オ
ルガノシロキサンポリマー ＫＰ３４１（信越化学工業
（株）製）、アクリル酸系またはメタクリル酸系（共）
重合体ポリフローＮｏ.５７、９５（以上、共栄油脂化
学工業（株）製）、東レシリコーンＤＣ３ＰＡ、同ＤＣ
７ＰＡ、同ＳＨ１１ＰＡ、同ＳＨ２１ＰＡ、同ＳＨ２８
ＰＡ、同ＳＨ２９ＰＡ、同ＳＨ３０ＰＡ、同ＦＳ−１２
６５−３００（以上、東レシリコーン（株）製）、ＴＳ
Ｆ−４４４０、ＴＳＦ−４３００、ＴＳＦ−４４４５、
ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ−４４６０、ＴＳＦ−４４５
２（以上、東芝シリコーン（株）製）等の市販品を挙げ
ることができる。Examples of the silicone-based surfactant include organosiloxane polymer KP341 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), acrylic acid-based or methacrylic acid-based (co)
Polymer polyflow Nos. 57 and 95 (all manufactured by Kyoei Yushi Kagaku Kogyo KK), Toray Silicone DC3PA, DC
7PA, SH11PA, SH21PA, SH28
PA, SH29PA, SH30PA, FS-12
65-300 (manufactured by Toray Silicone Co., Ltd.), TS
F-4440, TSF-4300, TSF-4445,
TSF-4446, TSF-4460, TSF-445
2 (both manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.).
【００５５】また、上記のフッ素系界面活性剤及びシリ
コーン系界面活性剤の他、ポリオキシエチレンラウリル
エーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポ
リオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチ
レンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチル
フェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニル
エーテル等のポリオキシエチレンアリールエーテル類、
ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレング
リコールジステアレート等の、ポリエチレングリコール
ジアルキルエステル類等も好適に用いることができる。
これらの界面活性剤は単独でまたは２種類以上を組み合
わせて使用する事ができる。これらの界面活性剤の使用
割合は、その種類や硬化剤組成物を構成する各成分の種
類や割合によっても異なるが、好ましくは、成分［Ａ］
１００部に対して０〜１０重量部、より好ましくは０．
０００１〜５重量部の範囲で使用される。In addition to the above-mentioned fluorine-based surfactants and silicone-based surfactants, polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether and polyoxyethylene oleyl ether, and polyoxyethylene Octyl phenyl ether, polyoxyethylene aryl ethers such as polyoxyethylene nonyl phenyl ether,
Polyethylene glycol dialkyl esters such as polyethylene glycol dilaurate and polyethylene glycol distearate can also be suitably used.
These surfactants can be used alone or in combination of two or more. The usage ratio of these surfactants differs depending on the type and ratio of each component constituting the curing agent composition, but preferably the component [A] is used.
0 to 10 parts by weight, more preferably 0.1 to 100 parts by weight, per 100 parts.
It is used in the range of 0001 to 5 parts by weight.
【００５６】また本発明の組成物には基板または下層と
の密着性を改良するための接着助剤を配合することもで
きる。また本発明の組成物には、必要に応じて保存安定
剤、消泡剤等も配合することができる。The composition of the present invention may also contain an adhesion aid for improving the adhesion to the substrate or the lower layer. The composition of the present invention may also contain a storage stabilizer, an antifoaming agent, and the like, if necessary.
【００５７】溶剤 本発明の光拡散反射板に用いるための膜用組成物は、固
形分濃度が好ましくは１０〜５０重量％となるように溶
媒に均一に分散した状態に調製される。この際に用いら
れる溶剤としては、ジアセトンアルコール、プロピレン
グリコール等のアルコール類；エチレングリコールモノ
メチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル等のグリコールエーテル類；メチルセロソルブアセテ
ート、エチルセロソルブアセテート等のエチレングリコ
ールアルキルエーテルアセテート類；ジエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエ
チルエーテル等のジエチレングリコールアルキルエーテ
ル類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセ
テート等のプロピレングリコールアルキルエーテルアセ
テート類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノ
ン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、２−ヒドロ
キシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸
エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチ
ル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、
エトキシ酢酸エチル、オキシ酢酸エチル、２−ヒドロキ
シ−３−メチルブタン酸メチル、３−メチル−３−メト
キシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチ
ルプロピオネート、３−メチル−３−メトキシブチルブ
チレート、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸
エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキ
シプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸ブチ
ル等のエステル類を用いることができる。これらの溶剤
は、単独でまたは混合して用いることができる。 Solvent The film composition for use in the light diffusion reflector of the present invention is prepared in a state of being uniformly dispersed in a solvent so that the solid content concentration is preferably 10 to 50% by weight. Examples of the solvent used in this case include alcohols such as diacetone alcohol and propylene glycol; glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether; ethylene glycol alkyl ether acetate such as methyl cellosolve acetate and ethyl cellosolve acetate. Diethylene glycol alkyl ethers such as diethylene glycol monomethyl ether and diethylene glycol monoethyl ether; propylene glycol alkyl ether acetates such as propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate and propylene glycol monopropyl ether acetate; toluene, xylene and the like Aromatic hydrocarbons;
Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, methyl isobutyl ketone, methyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxypropionate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, 2-hydroxy-2-methylpropionic acid ethyl,
Ethyl ethoxyacetate, ethyl oxyacetate, methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl propionate, 3-methyl-3-methoxybutyl butyrate And esters such as ethyl acetate, butyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate and butyl 3-methoxypropionate. These solvents can be used alone or as a mixture.
【００５８】さらに必要に応じて、ベンジルエチルエー
テル、ジヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、アセ
トニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル
酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアル
コール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエ
チル、マレイン酸ジエチル、γ− ブチロラクトン、炭
酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセ
テート、カルビトールアセテート等の高沸点溶剤を添加
することもできる。If necessary, benzyl ethyl ether, dihexyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, acetonylacetone, isophorone, caproic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl High boiling solvents such as alcohol, benzyl acetate, ethyl benzoate, diethyl oxalate, diethyl maleate, γ-butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, phenyl cellosolve acetate, carbitol acetate and the like can also be added.
【００５９】光拡散反射板の形成方法 次に、第１〜第４発明の光拡散反射板の用いるための膜
形成用組成物を用いて第５発明の光拡散反射板を形成す
る方法について述べる。基板上に、本発明の組成物から
粗面を有する膜を形成し、その上に金属蒸着を施すこと
により本発明の光拡散反射板となる。 Method for Forming Light Diffusing Reflector Next, a method for forming the light diffusing reflector of the fifth invention using the film-forming composition for using the light diffusing reflector of the first to fourth inventions will be described. . A light-diffusing reflector of the present invention is obtained by forming a film having a rough surface from the composition of the present invention on a substrate, and performing metal deposition on the film.
【００６０】本発明の光拡散反射板を形成するには、ま
ず本発明の光拡散反射板に用いる膜形成用組成物を基体
の表面に塗布し、予備焼成を行うことにより溶剤を除去
して硬化性組成物の塗膜を形成する。塗布方法はとくに
限定されず、例えばスプレー法、ロールコート法、回転
塗布法等の適宜の方法を採用できる。予備焼成の条件
は、組成物溶液の各成分の種類、使用割合等によっても
異なるが、好ましくは、６０〜１２０℃で３０秒〜２０
分間程度である。塗膜の厚さとしては、溶媒除去後の膜
厚として、好ましくは１〜２０μｍ、より好ましくは１
〜１０μｍである。In order to form the light-diffusing reflector of the present invention, first, the film-forming composition used for the light-diffusing reflector of the present invention is applied to the surface of a substrate, and the solvent is removed by performing preliminary firing. A coating film of the curable composition is formed. The application method is not particularly limited, and for example, an appropriate method such as a spray method, a roll coating method, and a spin coating method can be adopted. The conditions for the pre-firing vary depending on the type of each component of the composition solution, the usage ratio, and the like, but are preferably at 60 to 120 ° C. for 30 seconds to 20 seconds.
About a minute. The thickness of the coating film is preferably 1 to 20 μm, more preferably 1 to 20 μm, after removing the solvent.
〜１０10 μm.
【００６１】ここで膜形成用組成物が、第２発明の組成
物において［Ｄ］成分として感放射線性ラジカル重合開
始剤を含有するものである場合、または第４発明の組成
物において［Ｆ］成分として感放射線性酸発生剤を含有
するものである場合には、この後、放射線を照射するこ
とにより塗膜表面を硬化させる。このとき照射する放射
線としては、例えば紫外線、遠紫外線、Ｘ線、電子線、
分子線、γ線、シンクロトロン放射線、プロトンビーム
線等を使用することができる。Here, when the film-forming composition contains the radiation-sensitive radical polymerization initiator as the component [D] in the composition of the second invention, or [F] in the composition of the fourth invention. When a radiation-sensitive acid generator is contained as a component, the surface of the coating film is cured by irradiating radiation. The radiation applied at this time is, for example, ultraviolet light, far ultraviolet light, X-ray, electron beam,
Molecular beam, γ-ray, synchrotron radiation, proton beam beam and the like can be used.
【００６２】放射線照射の際、所定のパターンマスクを
介して放射線を照射し、次いで現像液により現像し、不
要な部分を除去することもできる。現像液としては、例
えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウ
ム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモ
ニア水などの無機アルカリ類；エチルアミン、ｎ−プロ
ピルアミンなどの第一級アミン類；ジエチルアミン、ジ
−ｎ−プロピルアミンなどの第二級アミン類；トリエチ
ルアミン、メチルジエチルアミン、Ｎ−メチルピロリド
ンなどの第三級アミン類；ジメチルエタノールアミン、
トリエタノールアミンなどのアルコールアミン類；テト
ラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアン
モニウムヒドロキシド、コリンなどの第四級アンモニウ
ム塩；ピロール、ピペリジン、１,８−ジアザビシクロ
［５.４.０］−７−ウンデセン、１,５−ジアザビシク
ロ［４.３.０］−５−ノナンなどの環状アミン類のアル
カリ類からなるアルカリ水溶液を用いることができる。
また上記アルカリ水溶液に、メタノール、エタノールな
どの水溶性有機溶媒、界面活性剤などを適当量添加した
水溶液を現像液として使用することもできる。At the time of radiation irradiation, it is possible to irradiate radiation through a predetermined pattern mask and then develop with a developer to remove unnecessary portions. Examples of the developer include inorganic alkalis such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium silicate, sodium metasilicate, and aqueous ammonia; primary amines such as ethylamine and n-propylamine; diethylamine; Secondary amines such as -n-propylamine; tertiary amines such as triethylamine, methyldiethylamine, N-methylpyrrolidone; dimethylethanolamine;
Alcohol amines such as triethanolamine; quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide and choline; pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene; An alkaline aqueous solution comprising an alkali of a cyclic amine such as 1,5-diazabicyclo [4.3.0] -5-nonane can be used.
In addition, an aqueous solution obtained by adding an appropriate amount of a water-soluble organic solvent such as methanol or ethanol, a surfactant, or the like to the above-mentioned alkaline aqueous solution can also be used as a developer.
【００６３】現像時間は、好ましくは３０〜１８０秒間
である。また現像方法は液盛り法、ディッピング法など
のいずれでもよい。現像後、流水洗浄を３０〜９０秒間
行い、圧縮空気や圧縮窒素で風乾させることによって、
基板上の水分を除去し、パターン状被膜が形成される。The development time is preferably 30 to 180 seconds. Further, the developing method may be any of a puddle method and a dipping method. After development, washing with running water is performed for 30 to 90 seconds, and air-dried with compressed air or compressed nitrogen,
The moisture on the substrate is removed, and a patterned film is formed.
【００６４】その後、本焼成を行うことにより、光拡散
反射板に用いる粗面を有する膜が形成されるが、このと
きの本焼成の条件は、通常１５０〜２５０℃で３０分〜
２時間程度が採用される。Thereafter, by performing the main baking, a film having a rough surface used for the light diffusion reflector is formed. The conditions of the main baking at this time are usually 150 to 250 ° C. for 30 minutes to 30 minutes.
About two hours are employed.
【００６５】次いで、金属蒸着を施すことにより、本発
明の光拡散反射板とすることができる。このとき蒸着に
用いる金属としては特に限定されないが、可視光領域に
おいて高い反射率を持つ金属が好ましく用いられる。こ
の観点からアルミニウム、銀、およびこれらのうちの少
なくとも１種を含有する合金が好ましい。Next, the light diffusion reflector of the present invention can be obtained by performing metal deposition. At this time, the metal used for vapor deposition is not particularly limited, but a metal having a high reflectance in a visible light region is preferably used. From this viewpoint, aluminum, silver, and an alloy containing at least one of these are preferable.
【００６６】また、ここで膜形成用組成物が、第２発明
の組成物において［Ｄ］成分として感熱性ラジカル重合
開始剤を含有するものである場合、または第４発明の組
成物において［Ｆ］成分として感熱性酸発生剤を含有す
るものである場合には、上記の予備焼成後、放射線照射
工程を行わずに本焼成を行い、その後金属蒸着工程を実
施することにより、本発明の光拡散反射板とすることが
できるこのとき、予備焼成および本焼成のそれぞれは、
１段階でまたは２段階以上の工程の組み合わせとして行
うことができる。The composition for forming a film here contains the heat-sensitive radical polymerization initiator as the component [D] in the composition of the second invention, or [F] in the composition of the fourth invention. When the composition contains a heat-sensitive acid generator as a component, after the above-mentioned preliminary baking, main baking is performed without performing a radiation irradiation step, and then a metal vapor deposition step is performed. At this time, each of the preliminary firing and the main firing can be a diffuse reflection plate,
It can be performed in one step or as a combination of two or more steps.
【００６７】次に本発明の液晶表示素子について説明す
る。本発明の液晶表示素子は、第５発明の光拡散反射板
を有する。液晶素子の構造としては適宜の構造が可能で
あるが、例えば、図１および図２に示した如く、基板１
上に本発明の光拡散反射板２３とカラーフィルター層４
を形成し、液晶層６を介して対向電極７と対向基板８を
有する構造が挙げられる。この場合、図１のように光拡
散反射板２３を構成する金属層３に電極の機能を持たせ
ても良いし、図２の如く、カラーフィルター層４上に電
極５を形成しても良い。また、必要に応じて、カラーフ
ィルター層４上に保護膜を形成しても良い。別の構造の
例としては、図３および図４に示した如く、基板１上に
本発明の光拡散反射板２３を形成し、液晶層５を介して
カラーフィルター層４、対向電極７および対向基板８を
有する構造が挙げられる。この場合、図３の如くカラー
フィルター４の上方に対向電極７を有する構造であって
も良いし、図４の如くカラーフィルター４の下方に対向
電極７を有する構造であっても良い。また、必要に応じ
てカラーフィルター層４の下方に保護膜を形成しても良
い。図３および図４の構造では、光拡散反射板２３を構
成する金属層３が電極の機能を司る。Next, the liquid crystal display device of the present invention will be described. The liquid crystal display device of the present invention has the light diffusion reflector of the fifth invention. As the structure of the liquid crystal element, an appropriate structure is possible. For example, as shown in FIGS.
Above, the light diffusion reflector 23 and the color filter layer 4 of the present invention
And a structure having a counter electrode 7 and a counter substrate 8 via a liquid crystal layer 6. In this case, the metal layer 3 constituting the light diffusion reflector 23 may have the function of an electrode as shown in FIG. 1, or the electrode 5 may be formed on the color filter layer 4 as shown in FIG. . Further, a protective film may be formed on the color filter layer 4 as needed. As another example of the structure, as shown in FIGS. 3 and 4, the light diffusion reflector 23 of the present invention is formed on the substrate 1, and the color filter layer 4, the counter electrode 7, and the counter electrode 7 are interposed via the liquid crystal layer 5. A structure having the substrate 8 is exemplified. In this case, a structure having the counter electrode 7 above the color filter 4 as shown in FIG. 3 or a structure having the counter electrode 7 below the color filter 4 as shown in FIG. Further, a protective film may be formed below the color filter layer 4 as needed. In the structure shown in FIGS. 3 and 4, the metal layer 3 constituting the light diffusing reflector 23 functions as an electrode.
【００６８】また、本発明の光拡散反射板に用いる膜を
形成するための組成物は、以下の実施例から明らかなよ
うに、光拡散反射板に用いる膜を簡易に形成することが
でき、その膜は密着性、耐熱性に優れ、膜上に金属蒸着
した光拡散反射板は優れた光拡散特性を示すものであ
る。Further, the composition for forming the film used for the light diffusion reflector of the present invention can easily form the film used for the light diffusion reflector, as is apparent from the following examples. The film is excellent in adhesion and heat resistance, and the light-diffusing reflector having metal deposited on the film exhibits excellent light-diffusing characteristics.
【００６９】[0069]
【実施例】以下、実施例によって本発明をさらに詳細に
説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもの
ではない。The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples.
【００７０】合成例１（共重合体［Ａ１］の合成） （ａ１）成分としてメタクリル酸を２０重量部、（ａ
２）成分としてメタクリル酸グリシジルを４５重量部、
（ａ３）成分としてスチレン２０重量部とシクロヘキシ
ルマレイミド１５重量部をジエチレングリコールメチル
エチルエーテルアセテート２５０重量部中に添加混合
し、アゾビスバレロニトリル（ＡＤＶＮ）６重量部を添
加した後、７０℃で６時間重合し、共重合体［Ａ１］濃
度が２８重量％である重合体溶液を得た。共重合体［Ａ
１］のポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は６，
０００であった。 Synthesis Example 1 (Synthesis of Copolymer [A1] ) As a component (a1), 20 parts by weight of methacrylic acid,
2) 45 parts by weight of glycidyl methacrylate as a component,
(A3) As a component, 20 parts by weight of styrene and 15 parts by weight of cyclohexylmaleimide are added and mixed in 250 parts by weight of diethylene glycol methyl ethyl ether acetate, and 6 parts by weight of azobisvaleronitrile (ADVN) is added. Polymerization resulted in a polymer solution having a copolymer [A1] concentration of 28% by weight. Copolymer [A
1] has a weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene of 6,
000.
【００７１】合成例２（共重合体［Ａ２］の合成） （ａ１）成分としてメタクリル酸を２０重量部、（ａ
２）成分としてメタクリル酸グリシジルを４５重量部、
（ａ３）成分としてスチレン２０重量部とフェニルマレ
イミド１５重量部をジエチレングリコールメチルエチル
エーテルアセテート２５０重量部中に添加混合し、アゾ
ビスバレロニトリル（ＡＤＶＮ）６重量部を添加した
後、７０℃で６時間重合し、共重合体［Ａ２］濃度が２
８．２重量％である重合体溶液を得た。共重合体［Ａ
２］のポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は６，
５００であった。 Synthesis Example 2 (Synthesis of Copolymer [A2] ) As a component (a1), 20 parts by weight of methacrylic acid,
2) 45 parts by weight of glycidyl methacrylate as a component,
(A3) As components, 20 parts by weight of styrene and 15 parts by weight of phenylmaleimide are added and mixed in 250 parts by weight of diethylene glycol methyl ethyl ether acetate, and 6 parts by weight of azobisvaleronitrile (ADVN) are added. Polymerized to a copolymer [A2] concentration of 2
A polymer solution of 8.2% by weight was obtained. Copolymer [A
2] has a polystyrene equivalent weight average molecular weight (Mw) of 6,
500.
【００７２】合成例３（共重合体［Ａ３］の合成） （ａ１）成分としてメタクリル酸を２０重量部、（ａ
２）成分としてメタクリル酸グリシジルを４５重量部、
（ａ３）成分としてスチレン２０重量部とメタクリル酸
トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカン−８−イル１
５重量部をジエチレングリコールメチルエチルエーテル
アセテート２５０重量部中に添加混合し、アゾビスバレ
ロニトリル（ＡＤＶＮ）６重量部を添加した後、７０℃
で６時間重合し、共重合体［Ａ３］濃度が２９．１重量
％である重合体溶液を得た。共重合体［Ａ３］のポリス
チレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は７，０００であっ
た。 Synthesis Example 3 (Synthesis of Copolymer [A3] ) As a component (a1), 20 parts by weight of methacrylic acid,
2) 45 parts by weight of glycidyl methacrylate as a component,
(A3) As a component, 20 parts by weight of styrene and tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan-8-yl methacrylate 1
5 parts by weight were added to 250 parts by weight of diethylene glycol methyl ethyl ether acetate, mixed, and 6 parts by weight of azobisvaleronitrile (ADVN) was added.
For 6 hours to obtain a polymer solution having a copolymer [A3] concentration of 29.1% by weight. The polystyrene equivalent weight average molecular weight (Mw) of the copolymer [A3] was 7,000.
【００７３】実施例１ 上記合成例１で合成した共重合体［Ａ１］を含む溶液
（共重合体［Ａ１］１００重量部（固形分）に相当）を
ジエチレングリコールメチルエチルエーテルアセテート
を加え、総量４５０重量部の溶液とした後、シランカッ
プリング剤としてγ―グリシドキシプロピルジエトキシ
シラン７重量部、成分［Ｂ］としてトスパール１４５
（日本シリカ工業（株）製）１５０重量部、成分［Ｃ］
としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（東
亞合成（株）製）６０重量部、成分［Ｄ］として１，１
‘−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）
（熱ラジカル発生剤、和光純薬（株）製）２重量部、Ｓ
Ｈ２８ＰＡ（東レシリコーン（株）製）０．０５重量部
を添加し十分に攪拌した後、孔径１０μｍのポリフロン
製フィルターを用いて濾過し、膜形成用組成物［Ｓ１］
を得た。Example 1 A solution containing the copolymer [A1] synthesized in the above Synthesis Example 1 (corresponding to 100 parts by weight (solid content) of the copolymer [A1]) was added with diethylene glycol methyl ethyl ether acetate to give a total amount of 450 parts. Parts by weight of a solution, 7 parts by weight of γ-glycidoxypropyldiethoxysilane as a silane coupling agent, and Tospearl 145 as a component [B].
(Nippon Silica Industry Co., Ltd.) 150 parts by weight, component [C]
60 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and 1,1 as component [D]
'-Azobis (cyclohexane-1-carbonitrile)
(Thermal radical generator, Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 2 parts by weight, S
After adding 0.05 part by weight of H28PA (manufactured by Toray Silicone Co., Ltd.) and sufficiently stirring, the mixture was filtered through a polyflon filter having a pore size of 10 μm to obtain a film-forming composition [S1].
I got
【００７４】粗面を有する膜の形成 ガラス基板上に、上記の膜形成用組成物［Ｓ１］をスピ
ンコータを用いて粒子の凹凸が出るように塗布し、ホッ
トプレートにより８０℃５分間予備焼成を行って塗膜を
形成した。その後、塗膜が形成された基板を、クリーン
オーブン中２３０℃３０分間の条件で本焼成し、粗面を
有する膜を得た。On the glass substrate on which a film having a rough surface is formed , the above-mentioned composition [S1] for film formation is applied using a spin coater so that the particles have irregularities, and is prebaked at 80 ° C. for 5 minutes using a hot plate. To form a coating. Thereafter, the substrate on which the coating film was formed was baked in a clean oven at 230 ° C. for 30 minutes to obtain a film having a rough surface.
【００７５】粗面を有する膜の評価 透明性 上記で形成した粗面を有する膜膜について、Haze gard
plas装置＜型番Cat.No4725＞（ＢＹＫ Ｇａｒｄｎｅｒ
（株）製）にて透明性（積算透過率）を測定した。結果
を表１に示す。 Evaluation Transparency of Rough Film Having Roughness The film having a rough surface formed as described above was measured for Haze gard.
No.2547 plas device (Model No. Cat.No4725) (BYK Gardner
(Manufactured by Co., Ltd.)). Table 1 shows the results.
【００７６】耐熱性；上記で透明性（積算透過率）を測
定した後、クリーンオーブンにて２５０℃６０分の追加
ベークを実施した。追加ベーク後、再度透明性を測定し
て、追加ベーク前後の変化割合を計算した。結果を表１
に示す。Heat resistance: After measuring the transparency (integrated transmittance) as described above, additional baking was performed at 250 ° C. for 60 minutes in a clean oven. After the additional baking, the transparency was measured again, and the change ratio before and after the additional baking was calculated. Table 1 shows the results
Shown in
【００７７】光拡散反射板の形成；前記と同様に形成し
た粗面を有する膜上に、真空蒸着装置により、約１，５
００Åのアルミニウム膜を成膜し、光拡散反射板を得
た。Formation of a light-diffusing reflector; about 1,5 on a film having a rough surface formed in the same manner as described above, using a vacuum evaporation apparatus.
An aluminum film having a thickness of 00 ° was formed to obtain a light diffusion reflector.
【００７８】密着性 ＪＩＳ Ｋ−５４００（１９００）８．５の付着性試験
のうち、８．５・２の碁盤目テープ法にしたがって、上
記で形成した光拡散反射板に１００個の碁盤目をカッタ
ーナイフで形成して付着性試験を行った。その際、残っ
た碁盤目の数を表１に示す。Adhesion In the adhesion test according to JIS K-5400 (1900) 8.5, 100 cross-cuts were formed on the light diffusion reflector formed above according to the 8.5-2 cross-cut tape method. An adhesion test was performed by forming with a cutter knife. Table 1 shows the number of grids remaining at that time.
【００７９】実施例２ 上記合成例１で合成した共重合体［Ａ２］を含む溶液
（共重合体［Ａ１］１００重量部（固形分）に相当）を
ジエチレングリコールメチルエチルエーテルアセテート
を加え、総量４５０重量部の溶液とした後、シランカッ
プリング剤としてγ―グリシドキシプロピルジエトキシ
シラン７重量部、成分［Ｂ］としてトスパール１４５
（日本シリカ工業（株）製）１５０重量部、成分［Ｅ］
としてエピコート１０３２Ｈ６０（ビスフェノールＡ型
エポキシ樹脂、油化シェルエポキシ（株）製）４０重量
部、成分［Ｆ］としてサンエイド１００Ｌ（スルホニウ
ム塩型酸発生剤、三新化学（株）製）５重量部、ＳＨ２
８ＰＡ（東レシリコーン（株）製）０．０５重量部を添
加し十分に攪拌した後、孔径１０μｍのポリフロン製フ
ィルターを用いて濾過し、膜形成用組成物［Ｓ２］を得
た。［Ｓ１］の代わりに［Ｓ２］を用いて実施例１と同
様にして粗面を有する膜、および光拡散反射板を形成
し、評価した。結果を表１に示す。Example 2 A solution containing the copolymer [A2] synthesized in the above Synthesis Example 1 (corresponding to 100 parts by weight (solid content) of the copolymer [A1]) was added with diethylene glycol methyl ethyl ether acetate to give a total amount of 450 parts. Parts by weight of a solution, 7 parts by weight of γ-glycidoxypropyldiethoxysilane as a silane coupling agent, and Tospearl 145 as a component [B].
(Nippon Silica Industry Co., Ltd.) 150 parts by weight, component [E]
40 parts by weight of Epicoat 1032H60 (bisphenol A type epoxy resin, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.), 5 parts by weight of 100 L of San Aid (sulfonium salt type acid generator, manufactured by Sanshin Chemical Co., Ltd.) as component [F] SH2
After adding 0.05 parts by weight of 8PA (manufactured by Toray Silicone Co., Ltd.) and sufficiently stirring, the mixture was filtered using a polyflon filter having a pore diameter of 10 μm to obtain a film-forming composition [S2]. A film having a rough surface and a light diffusion reflector were formed and evaluated in the same manner as in Example 1 using [S2] instead of [S1]. Table 1 shows the results.
【００８０】実施例３ 実施例１において、共重合体［Ａ−１］を含む溶液の代
わりに前記合成例３で合成した共重合体［Ａ−３］を含
む溶液（共重合体［Ａ−３］１００重量部（固形分）に
相当）を用いた他は実施例１と同様に実施し、膜形成用
組成物［Ｓ３］得た。［Ｓ１］の代わりに［Ｓ３］を用
いて実施例１と同様にして粗面を有する膜、および光拡
散反射板を形成し、評価した。結果を表１に示す。Example 3 In Example 1, instead of the solution containing the copolymer [A-1], the solution containing the copolymer [A-3] synthesized in the above Synthesis Example 3 (the copolymer [A- [3] A film-forming composition [S3] was obtained in the same manner as in Example 1, except that 100 parts by weight (solid content) was used. Using [S3] instead of [S1], a film having a rough surface and a light diffusion reflector were formed and evaluated in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results.
【００８１】実施例４ 実施例１において、成分［Ｂ］の無機粒子トスパール１
４５（日本シリカ工業（株）製）の代わりに、成分
［Ｂ］としてアクリル系粒子テクポリマーＭＢ２０Ｘ−
５（積水化成品工業（株）製）１５０重量部を使用した
他は実施例１と同様に実施し、膜形成用組成物［Ｓ４］
得た。［Ｓ１］の代わりに［Ｓ４］を用いて実施例１と
同様にして粗面を有する膜、および光拡散反射板を形成
し、評価した。結果を表１に示す。Example 4 In Example 1, the inorganic particles Tospearl 1 of the component [B] were used.
45 (manufactured by Nippon Silica Industry Co., Ltd.) instead of acrylic particle Techpolymer MB20X-
5 (manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd.), except that 150 parts by weight was used.
Obtained. Using [S4] instead of [S1], a film having a rough surface and a light diffusion reflector were formed and evaluated in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results.
【００８２】実施例５ 実施例１において、成分［Ｄ］として１，１‘−アゾビ
ス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）（熱ラジカ
ル発生剤、和光純薬（株）製）の代わりに、２−メチル
−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリ
ノプロパン−１−オン（熱ラジカル発生剤、イルガキュ
ア９０７；チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製）
３０重量部を使用した他は実施例１と同様に実施し、膜
形成用組成物［Ｓ５］得た。［Ｓ１］の代わりに［Ｓ
５］を用いて実施例１と同様にして予備焼成を行って塗
膜を形成した。得られた塗膜に所定パターンマスクを用
いて３６５ｎｍでの強度が１０ｍＷ／ｃｍ2である紫外
線を３０秒間照射した。この際の紫外線照射は酸素雰囲
気下（空気中）で行った。次いでテトラメチルアンモニ
ウムヒドロキシド０．１４重量％水溶液で２５℃で１分
間現像した後、純水で１分間リンスした。これらの操作
により、不要な部分を除去した。その後、塗膜が形成さ
れた基板を、クリーンオーブン中２３０℃３０分間の条
件で本焼成し、粗面を有する膜を得た。また、得られた
粗面を有する膜を用いて、同様にアルミニウム蒸着を行
い、光拡散反射板を形成し、評価した。結果を表１に示
す。Example 5 Example 1 was repeated except that 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile) (thermal radical generator, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was used as component [D]. Methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one (thermal radical generator, Irgacure 907; manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
Except for using 30 parts by weight, the same procedure as in Example 1 was carried out to obtain a film-forming composition [S5]. [S1] instead of [S1]
5] to perform a preliminary firing in the same manner as in Example 1 to form a coating film. The obtained coating film was irradiated with ultraviolet light having an intensity of 10 mW / cm 2 at 365 nm for 30 seconds using a predetermined pattern mask. The ultraviolet irradiation at this time was performed in an oxygen atmosphere (in air). Next, the film was developed with a 0.14% by weight aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide at 25 ° C. for 1 minute, and then rinsed with pure water for 1 minute. Unnecessary portions were removed by these operations. Thereafter, the substrate on which the coating film was formed was baked in a clean oven at 230 ° C. for 30 minutes to obtain a film having a rough surface. In addition, using the obtained film having a rough surface, aluminum vapor deposition was performed in the same manner to form a light diffusion reflector, and evaluation was performed. Table 1 shows the results.
【００８３】実施例６ 実施例５において、成分［Ｂ］の無機粒子トスパール１
４５（日本シリカ工業（株）製）の代わりに、成分
［Ｂ］としてアクリル系粒子テクポリマーＭＢ２０Ｘ−
５（積水化成品工業（株）製）１５０重量部を使用した
他は実施例５と同様に実施し、膜形成用組成物［Ｓ６］
得た。［Ｓ５］の代わりに［Ｓ６］を用いて実施例５と
同様にして粗面を有する膜、および光拡散反射板を形成
し、評価した。結果を表１に示す。Example 6 In Example 5, the inorganic particles Tospearl 1 of the component [B] were used.
45 (manufactured by Nippon Silica Industry Co., Ltd.) instead of acrylic particle Techpolymer MB20X-
5 (manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd.), except that 150 parts by weight was used.
Obtained. Using [S6] instead of [S5], a film having a rough surface and a light diffusion reflector were formed and evaluated in the same manner as in Example 5. Table 1 shows the results.
【００８４】実施例７ 実施例１において、成分［Ｂ］の使用量を９０重量部と
した他は実施例１と同様に実施し、膜形成用組成物［Ｓ
７］を得た。［Ｓ１］の代わりに［Ｓ７］を用いて実施
例１と同様にして粗面を有する膜、および光拡散反射板
を形成し、評価した。結果を表１に示す。Example 7 A film-forming composition [S] was prepared in the same manner as in Example 1, except that the amount of the component [B] was changed to 90 parts by weight.
7]. Using [S7] instead of [S1], a film having a rough surface and a light diffusion reflector were formed and evaluated in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the results.
【００８５】[0085]
【表１】 [Table 1]
【００８６】実施例８ 光拡散特性；実施例１および７で形成した光拡散反射板
について、三次元変角光度計（（株）村上色彩技術研究
所製）を用い、３０゜入射時の散乱特性を−１０゜から
７０゜まで変角してそれぞれ測定した。結果を図５に示
す。Example 8 Light-diffusing characteristics; scattering of the light-diffusing reflectors formed in Examples 1 and 7 using a three-dimensional goniophotometer (manufactured by Murakami Color Research Laboratory Co., Ltd.) at 30 ° incidence. The characteristics were measured while changing the angle from -10 ° to 70 °. The results are shown in FIG.
【００８７】上記実施例で明らかなように、本発明の組
成物から得られた膜は、良好な基板との密着性、耐熱
性、透明性を有しており、金属蒸着を行った光拡散反射
板は優れた拡散特性を有していることが分かる。As is clear from the above examples, the film obtained from the composition of the present invention has good adhesion to the substrate, heat resistance and transparency, and is light-diffused by metal evaporation. It can be seen that the reflector has excellent diffusion characteristics.
【００８８】[0088]
【発明の効果】本発明によれば、光拡散反射板に用いる
ための粗面を有し、基板との密着性や耐熱性、透明性に
優れ、反射型または半透過型の液晶表示素子の光拡散反
射板に用いるための膜を容易に形成することのできる組
成物が提供される。さらに、本発明により、優れた拡散
特性を持つ光拡散反射板、それを有する優れた液晶表示
素子が提供される。According to the present invention, a reflective or semi-transmissive liquid crystal display device having a rough surface for use as a light diffusion reflector, having excellent adhesion to a substrate, heat resistance, and transparency is provided. Provided is a composition capable of easily forming a film for use in a light diffusion reflector. Further, the present invention provides a light diffusion reflector having excellent diffusion characteristics and an excellent liquid crystal display device having the same.
【図１】液晶表示素子の構造を示す模式図である。FIG. 1 is a schematic view showing a structure of a liquid crystal display element.
【図２】液晶表示素子の構造を示す模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram illustrating a structure of a liquid crystal display element.
【図３】液晶表示素子の構造を示す模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram illustrating a structure of a liquid crystal display element.
【図４】液晶表示素子の構造を示す模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram showing a structure of a liquid crystal display element.
【図５】３０゜入射時の散乱特性を示すグラフである。FIG. 5 is a graph showing scattering characteristics at 30 ° incidence.
１ 基板 ２ 光拡散反射板に用いるための膜 ３ 金属層 ２３ 光拡散反射板 ４ カラーフィルター層 ５ 電極 ６ 液晶層 ７ 対向電極 ８ 対向基板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Film | membrane used for a light-diffusion reflector 3 Metal layer 23 Light-diffusion reflector 4 Color filter layer 5 Electrode 6 Liquid crystal layer 7 Counter electrode 8 Counter substrate
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 5/08 Ｇ０２Ｂ 5/08 Ａ Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５２０ Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５２０ (72)発明者 山田 義隆 東京都中央区築地二丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内 Ｆターム(参考） 2H042 BA02 BA12 BA14 BA20 DA02 DA04 DA12 DA14 DA21 DC02 DE04 2H091 FA16Z FA41Z FB02 FB08 FC26 LA30 4J002 AB012 BC032 BG062 CD003 CD023 CD053 CD063 CD113 CD191 DA076 DA096 DA116 DE136 DE146 DJ016 DJ046 EE038 EE048 EE058 EH077 EU118 EU186 EU188 EV279 EV299 EV308 GP00 4J036 AA01 AD01 AF06 AK10 DA10 DB14 DB20 DB23 DB28 DC40 DC45 DC48 DD01 FA03 FA05 FB02 FB03 FB18 GA02 GA03 GA04 GA22 GA23 GA24 GA25 GA26 HA02 HA03 JA01 JA15──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G02B 5/08 G02B 5/08 A G02F 1/1335 520 G02F 1/1335 520 (72) Inventor Yoshitaka Yamada Tokyo 2-11-04 Tsukiji, Chuo-ku, Tokyo F-term (reference) 2S042 BA02 BA12 BA14 BA20 DA02 DA04 DA12 DA14 DA21 DC02 DE04 2H091 FA16Z FA41Z FB02 FB08 FC26 LA30 4J002 AB012 BC032 BG062 CD003 CD076 DA096 DA116 DE136 DE146 DJ016 DJ046 EE038 EE048 EE058 EH077 EU118 EU186 EU188 EV279 EV299 EV308 GP00 4J036 AA01 AD01 AF06 AK10 DA10 DB14 DB20 DB23 DB28 DC40 DC45 DC48 DD01 FA03 FA05 FB02 FB03 FB18 GA02 GA03 GA23 GA23 GA23 GA23
Claims (7)
／または不飽和カルボン酸無水物、（ａ２）エポキシ基
含有不飽和化合物、（ａ３）前記単量体（ａ１）および
（ａ２）以外のオレフィン系不飽和化合物の共重合体、
ならびに［Ｂ］粒子を含有することを特徴とする、光拡
散反射板に用いるための膜形成用組成物。1. (A) (a1) an unsaturated carboxylic acid and / or an unsaturated carboxylic anhydride, (a2) an epoxy group-containing unsaturated compound, (a3) other than the monomers (a1) and (a2) A copolymer of an olefinically unsaturated compound of
And [B] a film-forming composition for use in a light-diffusing reflector, characterized by containing particles.
または鉱物粒子である請求項１に記載の組成物。2. The composition according to claim 1, wherein the particles (B) are inorganic oxide particles, organic particles or mineral particles.
剤［Ｄ］をさらに含有する請求項１または２に記載の組
成物。3. The composition according to claim 1, further comprising a polyfunctional monomer [C] and a polymerization initiator [D].
をさらに含有する請求項１〜３のいずれか一項に記載の
組成物。4. An epoxy compound [E] other than the component [A]
The composition according to any one of claims 1 to 3, further comprising:
１〜４のいずれか一項に記載の組成物。5. The composition according to claim 1, further comprising an acid generator [F].
成物から形成された膜を有する光拡散反射板。6. A light-diffusing reflector having a film formed from the composition according to claim 1. Description:
液晶表示素子。7. A liquid crystal display device having the light diffusion reflector according to claim 6.
Priority Applications (3)
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|---|---|---|---|
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