JPH10333324A - Photosensitive paste - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a photosensitive paste capable of high precision patterning in a high aspect ratio. SOLUTION: This photosensitive paste contains inorg. fine particles and org. components including a photosensitive compd. as essential components. The total light transmissivity of the paste in 50 μm thickness in a g-line wavelength range is >=50% or the orthogenesis transmissivity of the paste in 50 μm thickness in a g-line wavelength range is >=50%.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は新規な感光性ペース
トに関するものであり、詳しくはプラズマディスプレイ
やプラズマアドレス液晶ディスプレイなどのディスプレ
イのパターン加工および回路材料などのパターン加工に
好適に用いられる感光性ペーストに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel photosensitive paste, and more particularly to a photosensitive paste suitably used for pattern processing of displays such as plasma displays and plasma addressed liquid crystal displays and pattern processing of circuit materials. It is about.

【０００２】[0002]

【従来の技術】近年、回路材料やディスプレイにおい
て、小型・高精細化が進んでおり、それに伴って、パタ
ーン加工技術の向上が望まれている。特に、プラズマデ
ィスプレイパネルの隔壁形成には、ガラスなどの無機材
料を高精度かつ高アスペクト比でパターン加工ができる
材料が望まれている。2. Description of the Related Art In recent years, miniaturization and high definition of circuit materials and displays have been advanced, and accordingly, improvement of pattern processing technology has been desired. In particular, a material capable of patterning an inorganic material such as glass with high precision and a high aspect ratio is desired for forming a partition wall of a plasma display panel.

【０００３】従来、無機材料のパターン加工を行う場
合、無機粉末と有機バインダからなるペーストによるス
クリーン印刷が多く用いられている。しかしながら、ス
クリーン印刷は精度の高いパターンを形成できないとい
う欠点があった。Conventionally, when patterning an inorganic material, screen printing using a paste composed of an inorganic powder and an organic binder is often used. However, screen printing has a drawback that it is not possible to form a highly accurate pattern.

【０００４】この問題を改良する手段として、特開平１
−２９６５３４号公報、特開平２−１６５５３８号公報
および特開平５−３４２９９２号公報では、感光性ペー
ストを用いてフォトリソグラフィ技術でパターンを形成
する方法が提案されている。しかしながら、感光性ペー
ストの感度や解像度が低いために、高アスペクト比と高
精細の隔壁が得られず、例えば８０μｍを越えるような
厚みのものをパターン加工する場合、複数回の加工工程
（スクリーン印刷・露光・現像）を必要とし、工程が長
くなる欠点があった。As means for improving this problem, Japanese Patent Laid-Open No.
JP-296534, JP-A-2-165538 and JP-A-5-342892 propose a method of forming a pattern by a photolithography technique using a photosensitive paste. However, since the sensitivity and resolution of the photosensitive paste are low, high aspect ratio and high definition partition walls cannot be obtained. For example, when patterning a material having a thickness exceeding 80 μm, a plurality of processing steps (screen printing (Exposure / development), resulting in a disadvantage that the process becomes long.

【０００５】また、特開平２−１６５５３８号公報で
は、感光性ペーストを転写紙上にコーティングした後、
転写フィルムをガラス基板上に転写して隔壁を形成する
方法が、また特開平３−５７１３８号公報では、フォト
レジスト層の溝に誘電体ペーストを充填して隔壁を形成
する方法がそれぞれ提案されている。また特開平４−１
０９５３６号公報では、感光性有機フィルムを用いて隔
壁を形成する方法が提案されている。しかしながら、こ
れらの方法では、転写フィルムやフォトレジストあるい
は有機フィルムを必要とするために工程が増えるという
問題点があった。また、高精細度や高アスペクト比を有
する隔壁を得るまでには至っていない。また、隔壁だけ
でなく、絶縁体層や誘電体層のパターン加工が必要にな
る場合があるが、隔壁と同様の課題がある。In Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-165538, after a photosensitive paste is coated on transfer paper,
A method of forming a partition by transferring a transfer film onto a glass substrate, and a method of forming a partition by filling a dielectric paste in a groove of a photoresist layer have been proposed in JP-A-3-57138. I have. Further, Japanese Patent Laid-Open No.
Japanese Patent Application Publication No. 09536 proposes a method of forming a partition using a photosensitive organic film. However, these methods have a problem that the number of steps is increased because a transfer film, a photoresist, or an organic film is required. In addition, the partition walls having a high definition and a high aspect ratio have not yet been obtained. In addition, in some cases, pattern processing of an insulator layer or a dielectric layer is required in addition to the partition, but there is a problem similar to that of the partition.

【０００６】一方、回路材料の分野では、ＩＣを実装す
るセラミック基板を精密に加工する技術が必要とされて
いるものの、現状ではスクリーン印刷やパンチングによ
るパターン形成が行われているため、回路材料の小形化
に伴う高精度のパターニング要求に対応するための技術
が必要とされている。On the other hand, in the field of circuit materials, a technique for precisely processing a ceramic substrate on which an IC is to be mounted is required. However, at present, patterns are formed by screen printing or punching. There is a need for a technology for responding to the demand for high-precision patterning accompanying miniaturization.

【０００７】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは感光性ペ
ーストの光線透過率に注目して鋭意検討を進めた結果、
ｇ線（４３６ｎｍ）波長領域での全光線透過率および直
進透過率を高くすることによって、高アスペクト比が優
れておりかつ高精度のパターン加工が可能となることを
見い出し、本発明に到達した。SUMMARY OF THE INVENTION The present inventors have conducted intensive studies by focusing on the light transmittance of the photosensitive paste.
The present inventors have found that by increasing the total light transmittance and the linear transmissivity in the g-line (436 nm) wavelength region, it is possible to achieve a high aspect ratio and to perform pattern processing with high accuracy, and have reached the present invention.

【０００８】本発明の目的は、高アスペクト比でかつ高
精度のパターン加工を可能にする感光性ペーストを提供
することにある。It is an object of the present invention to provide a photosensitive paste which enables high aspect ratio and high precision pattern processing.

【０００９】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、無
機微粒子と感光性化合物を含む有機成分を必須成分とす
る感光性ペーストであって、塗布膜厚５０μｍで測定し
た場合のｇ線波長領域での全光線透過率が５０％以上で
あることを特徴とする感光性ペーストによって達成され
る。この全光線透過率は、６０％以上であることが好ま
しい。SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is to provide a photosensitive paste containing, as essential components, an organic component containing inorganic fine particles and a photosensitive compound, and has a g-line wavelength as measured at a coating film thickness of 50 μm. This is achieved by a photosensitive paste characterized in that the total light transmittance in the region is at least 50%. The total light transmittance is preferably 60% or more.

【００１０】また本発明の上記目的は、無機微粒子と感
光性化合物を含む有機成分を必須成分とする感光性ペー
ストであって、塗布膜厚５０μｍで測定した場合のｇ線
波長領域での直進透過率が５０％以上であることを特徴
とする感光性ペーストによって達成される。この直進透
過率は、７０％以上であることが好ましい。It is another object of the present invention to provide a photosensitive paste containing an organic component containing inorganic fine particles and a photosensitive compound as an essential component, and a straight-line transmission in a g-line wavelength region when measured at a coating film thickness of 50 μm. This is achieved by a photosensitive paste characterized in that the ratio is 50% or more. This straight transmissivity is preferably 70% or more.

【００１１】さらに本発明の感光性ペーストにおいて
は、次の好ましい実施態様が包含される。Further, the photosensitive paste of the present invention includes the following preferred embodiments.

【００１２】(a) 前記無機微粒子６０〜９０重量部と有
機成分１０〜４０重量部を必須成分として含有すること (b) 前記無機微粒子が、ガラス微粒子であること (c) 前記ガラス微粒子として、ガラス転移温度が４００
〜５００℃、軟化点が４５０〜５５０℃、平均粒子径が
１〜６μｍの範囲のガラス微粒子を用いること (d) 前記ガラス微粒子として、平均屈折率が１．５５〜
１．８の範囲のガラス微粒子を用いること (e) 前記有機成分中に、分子内にカルボキシル基を含有
する重量平均分子量５００〜１０万のオリゴマもしくは
ポリマを１０〜９０重量％含むこと (f) 前記有機成分中に、分子内に不飽和２重結合を含有
する重量平均分子量５００〜１０万のオリゴマもしくは
ポリマを１０〜９０重量％含むこと (g) 前記有機成分中に、分子内にカルボキシル基と不飽
和２重結合を含有する重量平均分子量５００〜１０万の
オリゴマもしくはポリマを１０〜９０重量％含むこと (h) 前記有機成分中に、有機染料０．０５〜２重量％を
含有すること (i) プラズマディスプレイやプラズマアドレス液晶ディ
スプレイにおけるパターン形成に用いること (j) プラズマディスプレイやプラズマアドレス液晶ディ
スプレイにおける隔壁の形成に用いること(A) 60 to 90 parts by weight of the inorganic fine particles and 10 to 40 parts by weight of the organic component as essential components. (B) The inorganic fine particles are glass fine particles. Glass transition temperature 400
To 500 ° C, a softening point of 450 to 550 ° C, and an average particle diameter of 1 to 6 µm. (D) As the glass fine particles, an average refractive index of 1.55 to
(E) The organic component contains 10 to 90% by weight of an oligomer or a polymer having a carboxyl group in the molecule and having a weight average molecular weight of 500 to 100,000 (e). The organic component contains 10 to 90% by weight of an oligomer or a polymer having a weight average molecular weight of 500 to 100,000 containing an unsaturated double bond in the molecule, and (g) a carboxyl group in the molecule in the organic component. And 10 to 90% by weight of an oligomer or polymer having a weight average molecular weight of 500 to 100,000 containing an unsaturated double bond and (h) 0.05 to 2% by weight of an organic dye in the organic component. (i) To be used for pattern formation in plasma displays and plasma addressed liquid crystal displays. (j) To be used in plasma displays and plasma addressed liquid crystal displays. It is used in the formation

【００１３】[0013]

【発明の実施の形態】本発明の感光性ペーストは、無機
微粒子と感光性化合物を含む有機成分からなり、感光性
の有機成分によるフォトリソグラフィを用いたパターン
形成後に焼成を行って、無機物のパターンを形成するも
のである。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The photosensitive paste of the present invention comprises an organic component containing inorganic fine particles and a photosensitive compound, and is baked after forming a pattern by photolithography using the photosensitive organic component to form an inorganic pattern. Is formed.

【００１４】本発明において、感光性ペースト中の無機
微粒子の含有率は６０〜９０重量％、さらには６５〜９
０重量％であることが、焼成時の収縮率が小さく、また
焼成による形状変化が小さくなり好ましい。In the present invention, the content of the inorganic fine particles in the photosensitive paste is 60 to 90% by weight, and more preferably 65 to 9%.
It is preferable that the content is 0% by weight because the shrinkage during firing is small and the shape change due to firing is small.

【００１５】本発明者らは、無機微粒子と感光性化合物
を含む有機成分を必須成分とする感光性ペーストに関し
て鋭意研究を進めた結果、厚さ５０μｍの塗布膜につい
て測定した全光線透過率がｇ線波長領域で５０％以上、
より好ましくは６０％以上であることが、高アスペクト
比のパターン加工を行う上で有効な方法であることを見
い出した。また、透過率測定において、全光線透過率
（Ｔ１）から拡散透過率（Ｔ２）を差し引き、これを全
光線透過率で除した値Ｔ３＝（Ｔ１−Ｔ２）／Ｔ１を直
進透過率とした場合、ｇ線波長領域の直進透過率が５０
％以上である場合に、好ましくは７０％、より好ましく
は８０％以上においても高アスペクト比の優れた形状の
パターン化が可能なことを見い出した。The present inventors have conducted intensive studies on a photosensitive paste containing an inorganic component and an organic component containing a photosensitive compound as essential components. As a result, the total light transmittance measured for a coating film having a thickness of 50 μm was g. 50% or more in the line wavelength region,
More preferably, 60% or more has been found to be an effective method for performing pattern processing with a high aspect ratio. In the transmittance measurement, a value obtained by subtracting the diffuse transmittance (T2) from the total light transmittance (T1) and dividing the difference by the total light transmittance is defined as T3 = (T1−T2) / T1 as a straight-ahead transmittance. , The linear transmissivity in the g-line wavelength region is 50
%, It is found that patterning of an excellent shape having a high aspect ratio is possible even at 70%, preferably 80% or more.

【００１６】本発明において光線透過率の測定は、島津
製作所製の分光光度計（ＵＶ−３１０１ＰＣ）を用いて
行った。測定条件は次のとおりである。In the present invention, the light transmittance was measured using a spectrophotometer (UV-3101PC) manufactured by Shimadzu Corporation. The measurement conditions are as follows.

【００１７】 試料厚み ：５０μｍ 試料セル ：石英 スリット幅：７．５ｎｍ 測定速度 ：ＳＬＯＷ（約１００ｎｍ／ｍｉｎ） 光 源 ：ハロゲンランプ 測定波長 ：３６０〜８５０ｎｍ 白 板 ：ＢａＳＯ₄ （サンプル側） 副白板 ：ＢａＳＯ₄ （リファレンス側） 入射角 ：０° 試料室 ：マルチパーパス大形試料室ユニット（島津
製作所製ＭＰＣ−３１００型） 積分球 ：６０φ積分球 積分球窓 ：入口窓 １２（Ｗ）×２０（Ｈ）ｍｍ 出口窓 １２（Ｗ）×２４（Ｈ）ｍｍ ホトマル窓（球の下側）：１６ｍｍφ ＰｂＳセル窓（球の上側）：１６ｍｍφ 積分球の開口比率：１２．９％ 検出器 ：ホトマルおよびＰｂＳセル データ処理：ＭＣＢ１７ＪＨ２０／ＰＣ９８０１ 石英セル上に乾燥後厚みが５０μｍになるように感光性
ペーストを塗布した後、試料の上から石英セルを乗せ
て、測定サンプルを調整する。Sample thickness: 50 μm Sample cell: quartz Slit width: 7.5 nm Measurement speed: SLOW (about 100 nm / min) Light source: halogen lamp Measurement wavelength: 360 to 850 nm White plate: BaSO ₄ (sample side) Secondary white plate: BaSO ₄ (reference side) Incident angle: 0 ° Sample chamber: Multipurpose large sample chamber unit (MPC-3100, manufactured by Shimadzu Corporation) Integrating sphere: 60φ integrating sphere Integrating sphere window: Entrance window 12 (W) × 20 (H ) Mm Exit window 12 (W) × 24 (H) mm Photomal window (bottom of sphere): 16 mmφ PbS cell window (upper of sphere): 16 mmφ Opening ratio of integrating sphere: 12.9% Detector: Photomaru and PbS Cell data processing: MCB17JH20 / PC9801 After applying a photosensitive paste on a quartz cell so as to have a thickness of 50 μm after drying, Put the quartz cell from the top of the fee, to adjust the measurement sample.

【００１８】その後、上記の仕様・条件で、全光線透過
率Ｔ１を測定した後、積分球の直進光を測定する部分
（白板：出口窓にとりつける部分）を取り外し、直進光
の光を検出しないようにして、拡散透過率Ｔ２（散乱な
どによって直進せずに透過した光の割合である拡散透過
率）を測定し、さらに次式に従って直進透過率Ｔ３を計
算により求めた。Then, after measuring the total light transmittance T1 under the above-mentioned specifications and conditions, the portion for measuring the straight light of the integrating sphere (white plate: the portion attached to the exit window) is removed, and the light of the straight light is not detected. In this way, the diffuse transmittance T2 (diffuse transmittance, which is the ratio of light transmitted without traveling straight due to scattering or the like) was measured, and the straight transmissivity T3 was calculated by the following equation.

【００１９】Ｔ３＝（Ｔ１−Ｔ２）／Ｔ１ ただし、Ｔ１：全光線透過率、Ｔ２：拡散透過率、Ｔ
３：直進透過率 本発明において、全光線透過率を高くするためには、全
光線透過率が高い有機成分および無機成分を用いること
が有効である。また、直進透過率を高くするためには、
有機成分中の各成分がより均一に分散していることが大
事である。無機微粒子に関しては、無機微粒子の全光線
透過率が高いことに加えて、粉末内部の組成が均一であ
ることが重要であり、気泡などの組成ムラのないことが
重要である。T3 = (T1-T2) / T1, where T1: total light transmittance, T2: diffuse transmittance, T
3: Straight Transmissivity In the present invention, in order to increase the total light transmittance, it is effective to use an organic component and an inorganic component having a high total light transmittance. Also, in order to increase the straight transmissivity,
It is important that each component in the organic component is more uniformly dispersed. As for the inorganic fine particles, in addition to the high total light transmittance of the inorganic fine particles, it is important that the composition inside the powder is uniform, and it is important that there is no uneven composition such as bubbles.

【００２０】さらには、無機微粒子として用いるガラス
微粒子の平均屈折率と有機成分の平均屈折率を整合させ
ることも直進透過率の向上には有効である。平均屈折率
が好ましくは１．５５〜１．８のガラス微粒子を用い、
また有機成分として、屈折率が好ましくは１．５５〜
１．８の光反応性モノマを含有させ、平均屈折率を無機
微粒子の平均屈折率に近付けることが望ましい。Further, matching the average refractive index of the glass fine particles used as the inorganic fine particles with the average refractive index of the organic component is also effective in improving the straight transmittance. The average refractive index is preferably 1.55-1.8 using glass fine particles,
As the organic component, the refractive index is preferably 1.55 to
It is desirable that a photoreactive monomer of 1.8 be contained so that the average refractive index is close to the average refractive index of the inorganic fine particles.

【００２１】本発明の感光性ペーストは、無機微粒子と
感光性成分を含有する有機成分を必須成分とするが、以
下、各成分に関する詳細を示す。The photosensitive paste of the present invention contains, as essential components, an organic component containing inorganic fine particles and a photosensitive component. Details of each component will be described below.

【００２２】本発明で用いられる無機微粒子としては、
セラミックス、ガラス−セラミックス複合系、あるい
は、結晶化ガラス、非晶質ガラス、低融点ガラスなどの
ガラスなどが好ましく挙げられる。特に有用となるの
は、無機微粒子としてガラス微粒子を用いた場合であ
る。ガラス微粒子としては特に限定はないが、好ましく
はガラス転移温度４００〜５００℃で、軟化点が４５０
〜５５０℃のガラス微粒子であり、かかるガラス微粒子
をペースト中に３０重量％以上含有することによって、
通常のディスプレイに用いられるガラス基板上にパター
ン加工することができる。The inorganic fine particles used in the present invention include:
Preferred examples include ceramics, glass-ceramic composites, and glass such as crystallized glass, amorphous glass, and low melting point glass. It is particularly useful when glass fine particles are used as the inorganic fine particles. The glass particles are not particularly limited, but preferably have a glass transition temperature of 400 to 500 ° C and a softening point of 450 ° C.
-550 ° C. glass fine particles. By containing such glass fine particles in a paste in an amount of 30% by weight or more,
Pattern processing can be performed on a glass substrate used for an ordinary display.

【００２３】このようなガラス微粒子において、酸化珪
素はガラス中に、３〜６０重量％の範囲で配合すること
が好ましく、３重量％未満の場合はガラス層の緻密性、
強度や安定性が低下し、また熱膨脹係数が所望の値から
外れ、ガラス基板とのミスマッチが起こりやすい。ま
た、酸化珪素を３〜６０重量％以下とすることによっ
て、軟化点が低くなりガラス基板への焼き付けが可能に
なるなどの利点がある。酸化ホウ素はガラス中に、５〜
５０重量％の範囲で配合することによって、電気絶縁
性、強度、熱膨脹係数、絶縁層の緻密性などの電気、機
械および熱特性を向上させることができる。酸化ほう素
が多すぎるとガラスの安定性が低下する傾向になる。In such glass fine particles, silicon oxide is preferably incorporated in the glass in the range of 3 to 60% by weight, and when less than 3% by weight, the denseness of the glass layer is reduced.
The strength and stability are reduced, and the coefficient of thermal expansion deviates from a desired value, so that a mismatch with a glass substrate is likely to occur. Further, by setting the silicon oxide content to 3 to 60% by weight or less, there is an advantage that the softening point is reduced and baking on a glass substrate becomes possible. Boron oxide is contained in the glass
By blending in the range of 50% by weight, electrical, mechanical and thermal properties such as electrical insulation, strength, coefficient of thermal expansion and denseness of the insulating layer can be improved. If there is too much boron oxide, the stability of the glass tends to decrease.

【００２４】本発明では、酸化リチウム、酸化ナトリウ
ム、酸化カリウムのうち少なくとも１種類を好ましくは
２〜２０重量％含むガラス微粒子を用いることができる
が、これらリチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカ
リ金属の酸化物の添加量は好ましくは２０重量％以下、
より好ましくは１５重量％以下であり、これによって、
ペーストの安定性を向上させることができる。具体的に
酸化リチウムを含むガラス組成を例示すると、酸化物換
算表記で、 酸化リチウム ２〜１５重量％ 酸化珪素 １５〜５０重量％ 酸化ホウ素 １５〜４０重量％ 酸化バリウム ２〜１５重量％ 酸化アルミニウム ６〜１５重量％ の組成を含有することが好ましい。In the present invention, glass fine particles containing at least one of lithium oxide, sodium oxide and potassium oxide, preferably 2 to 20% by weight, can be used. The addition amount of the substance is preferably 20% by weight or less,
More preferably not more than 15% by weight, whereby
The stability of the paste can be improved. When a glass composition containing lithium oxide is specifically exemplified, in terms of oxide, lithium oxide 2 to 15% by weight silicon oxide 15 to 50% by weight boron oxide 15 to 40% by weight barium oxide 2 to 15% by weight aluminum oxide 6 Preferably, the composition contains about 15% by weight.

【００２５】また上記組成で、酸化リチウムの代わりに
酸化ナトリウムや酸化カリウムを用いてもよいが、ペー
ストの安定性の面で酸化リチウムが好ましい。In the above composition, sodium oxide or potassium oxide may be used instead of lithium oxide, but lithium oxide is preferable in terms of paste stability.

【００２６】また、本発明においては、酸化ビスマス、
酸化鉛および酸化亜鉛のうち少なくとも１種類をガラス
中に好ましくは５〜５０重量％含有するガラス微粒子を
用いることによって、ガラス基板上にパターン加工でき
る温度特性を有する感光性ガラスペーストを得ることが
できる。特に酸化ビスマスを５〜５０重量％含有するガ
ラスを用いることは、ペーストのポットライフが長くな
るなどの利点がある。かかる酸化物が５０重量％以上を
越えるとガラスの耐熱温度が低くなりすぎてガラス基板
上への焼き付けが難しくなる傾向がある。具体的に酸化
ビスマスを含むガラス組成を例示すると、酸化物換算表
記で、 酸化ビスマス １０〜４０重量％ 酸化珪素 ３〜５０重量％ 酸化ホウ素 １０〜４０重量％ 酸化バリウム ８〜２０重量％ 酸化アルミニウム １０〜３０重量％ の組成を含有することが好ましい。In the present invention, bismuth oxide,
By using glass fine particles containing preferably at least one kind of lead oxide and zinc oxide in glass, preferably, 5 to 50% by weight, a photosensitive glass paste having temperature characteristics that can be patterned on a glass substrate can be obtained. . In particular, the use of glass containing 5 to 50% by weight of bismuth oxide has advantages such as a longer pot life of the paste. If the content of the oxide exceeds 50% by weight or more, the heat-resistant temperature of the glass tends to be too low, so that baking on a glass substrate tends to be difficult. When a glass composition containing bismuth oxide is specifically illustrated, bismuth oxide is 10 to 40% by weight, silicon oxide is 3 to 50% by weight, boron oxide is 10 to 40% by weight, barium oxide is 8 to 20% by weight in terms of oxide, and aluminum oxide is 10%. Preferably, the composition contains about 30% by weight.

【００２７】また、酸化ビスマス、酸化鉛および酸化亜
鉛のような金属酸化物と、上記アルカリ金属酸化物の両
方を含有するガラスによって、より低いアルカリ含有量
で軟化点や熱膨脹係数のコントロールが容易になる。Further, the glass containing both the metal oxides such as bismuth oxide, lead oxide and zinc oxide and the above-mentioned alkali metal oxide makes it easy to control the softening point and the thermal expansion coefficient at a lower alkali content. Become.

【００２８】また、ガラス微粒子中に、酸化アルミニウ
ム、酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウ
ム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムなど、特に酸化アルミ
ニウム酸化バリウムや酸化亜鉛を添加することにより、
硬度や加工性を改良することができるが、軟化点、熱膨
脹係数、屈折率の制御の点からは、その含有量は４０重
量％以下が好ましく、より好ましくは２５％重量以下で
ある。Further, by adding aluminum oxide, barium oxide, calcium oxide, magnesium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, etc., particularly aluminum oxide barium oxide or zinc oxide to the glass fine particles,
Although the hardness and workability can be improved, the content is preferably 40% by weight or less, more preferably 25% by weight or less from the viewpoint of controlling the softening point, thermal expansion coefficient and refractive index.

【００２９】本発明では、低融点ガラスに、低融点ガラ
スの軟化点において溶融しない他の無機微粒子をフィラ
ーとして添加したものを用いることができる。これによ
り、隔壁パターンの体積収縮を抑制し、形状保持性を向
上できるため、隔壁高さばらつきによるクロストーク
（誤放電）防止、パターン形成性向上が可能となる。フ
ィラーの配合比は、無機微粒子に対して１０〜５０重量
％であることが好ましい。１０重量％未満では体積収縮
抑制および形状保持の効果が少なく、また５０重量％を
超えると基板の軟化点以下で焼き付けができなくなる傾
向を示す。フィラーの配合比は、より好ましくは１０〜
３０重量％である。In the present invention, a low-melting glass obtained by adding other inorganic fine particles which do not melt at the softening point of the low-melting glass as a filler can be used. Thereby, since the volume shrinkage of the partition pattern can be suppressed and the shape retention can be improved, it is possible to prevent crosstalk (erroneous discharge) due to the variation in partition height and to improve the pattern formability. The compounding ratio of the filler is preferably 10 to 50% by weight with respect to the inorganic fine particles. If the amount is less than 10% by weight, the effect of suppressing volume shrinkage and maintaining the shape is small. The compounding ratio of the filler is more preferably 10 to 10.
30% by weight.

【００３０】フィラーとしては、セラミックス粉末や高
融点ガラス粉末などを用いることができ、セラミックス
粉末では、アルミナ、ジルコニア、コーディエライト、
ムライト、スピネル、チタニアおよびシリカの群から選
ばれた少なくとも１種であることが好ましい。これらの
セラミックスは高い融点を有する成分であり、高融点ガ
ラス粉末と同様に隔壁パターンの焼成工程の温度では熱
的に変化を受けず、隔壁中に分散して粉末状態のまま残
留する。さらに、これらのセラミックス粉末は、それぞ
れ平均屈折率が１．５〜１．８の範囲であり、低融点ガ
ラス粉末と混合し、平均屈折率１．５〜１．８の無機微
粉末を得るのに好適である。さらに、低融点ガラス粉末
との屈折率差が±０．０５の範囲内のものを選定するこ
とが、全光線透過率を５０％以上にすることができて、
さらに、直進透過率も５０％以上になり、好ましい。チ
タニアやジルコニア等、平均屈折率が１．８を超えるも
のは、感光性ペースト中で散乱要因となり、光線の透過
を妨げ、パターン形成性を低下させるが、形成された隔
壁が白色化し、蛍光体層からの発光を反射して表示の輝
度を高める効果を発揮するため、少量添加することもで
きる。As the filler, ceramic powder, high melting point glass powder and the like can be used. As the ceramic powder, alumina, zirconia, cordierite,
It is preferably at least one selected from the group consisting of mullite, spinel, titania and silica. These ceramics are components having a high melting point and, like the high melting point glass powder, are not thermally changed at the temperature of the baking process of the partition wall pattern, are dispersed in the partition walls and remain in a powder state. Further, these ceramic powders each have an average refractive index in the range of 1.5 to 1.8, and are mixed with a low melting point glass powder to obtain an inorganic fine powder having an average refractive index of 1.5 to 1.8. It is suitable for. Further, by selecting a material having a refractive index difference within a range of ± 0.05 from the low melting point glass powder, the total light transmittance can be increased to 50% or more,
Further, the straight transmissivity is preferably 50% or more, which is preferable. Those having an average refractive index of more than 1.8, such as titania and zirconia, become scattering factors in the photosensitive paste, hinder the transmission of light rays, and reduce the pattern formability. A small amount can be added in order to reflect light emitted from the layer and exhibit the effect of increasing display brightness.

【００３１】本発明で用いられるもう一つのフィラーで
ある高融点ガラスとしては、ガラス転移点５００〜１２
００℃、軟化点５５０〜１２００℃を有するものが好ま
しい。このような高融点ガラスは、酸化珪素および酸化
アルミニウムをそれぞれ１５重量％以上含有する組成を
有するものが好ましく、これらの含有量合計が５０重量
％以上であることが必要な熱特性を得るのに有効であ
る。以下の酸化物換算組成を含有する高融点ガラス粉末
を用いることが好ましいが、これに限定されるものでは
ない。The high melting point glass which is another filler used in the present invention includes a glass transition point of 500 to 12
What has 00 degreeC and 550-1200 degreeC of softening points is preferable. Such a high-melting glass preferably has a composition containing 15% by weight or more of silicon oxide and 15% by weight of aluminum oxide, respectively. It is valid. It is preferable to use a high melting point glass powder containing the following oxide-equivalent composition, but the present invention is not limited to this.

【００３２】 酸化珪素 １５〜５０重量％ 酸化硼素 ５〜２０重量％ 酸化バリウム ２〜１０重量％ 酸化アルミニウム １５〜５０重量％ 本発明では、この高融点ガラス粉末と前記のセラミック
スとを同時に用いることも可能である。Silicon oxide 15 to 50% by weight Boron oxide 5 to 20% by weight Barium oxide 2 to 10% by weight Aluminum oxide 15 to 50% by weight In the present invention, the high melting point glass powder and the above ceramics may be used simultaneously. It is possible.

【００３３】本発明で使用される無機微粒子の粒子径
は、作製しようとするパターンの形状を考慮して選ばれ
るが、平均粒子径（５０体積％粒子径、Ｄ５０とも呼
ぶ）が１〜６μｍのものが好ましく、より好ましくは、
次のような無機微粒子が適用される。すなわち、無機微
粒子は、形成しようとする隔壁（リブとも呼ぶ）のピッ
チ、高さや線幅を考慮して選ばれるが、平均粒子径が１
〜５．５μｍ、最大粒子径が３５μｍ以下、比表面積が
１．３〜４ｍ² ／ｇであることが好ましい。より好まし
くは１０体積％粒子径（Ｄ１０）０．５〜１．５μｍ、
５０体積％粒子径（Ｄ５０）１〜５μｍ、９０体積％粒
子径（Ｄ９０）：４〜１５μｍ、最大粒子径が３０μｍ
以下、比表面積１．５〜３．５ｍ² ／ｇを有しているこ
とが好ましい。さらに好ましくはＤ５０が２〜３．５μ
ｍ、比表面積１．５〜３ｍ² ／ｇである。The particle size of the inorganic fine particles used in the present invention is selected in consideration of the shape of the pattern to be produced, but the average particle size (50% by volume particle size, also referred to as D50) is 1 to 6 μm. Are preferred, more preferably
The following inorganic fine particles are applied. That is, the inorganic fine particles are selected in consideration of the pitch, height and line width of the partition (also referred to as rib) to be formed.
It is preferable that the maximum particle diameter is 35 μm or less and the specific surface area is 1.3 to ⁴ m ² / g. More preferably, 10% by volume particle diameter (D10) 0.5 to 1.5 μm,
50 volume% particle diameter (D50) 1-5 μm, 90 volume% particle diameter (D90): 4-15 μm, maximum particle diameter 30 μm
Hereinafter, it is preferable to have a specific surface area of 1.5 to 3.5 m ² / g. More preferably, D50 is 2 to 3.5 μm.
m, the specific surface area is 1.5 to 3 m ² / g.

【００３４】ここで、Ｄ１０、Ｄ５０、Ｄ９０は、それ
ぞれ、粒径の小さい無機微粒子から１０体積％、５０体
積％、９０体積％の無機微粒子の粒子径である。また、
最大粒子径は、粒子径の最大サイズである。Here, D10, D50, and D90 are the particle diameters of the inorganic fine particles of 10% by volume, 50% by volume, and 90% by volume, respectively, of the inorganic fine particles having a small particle diameter. Also,
The maximum particle size is the maximum size of the particle size.

【００３５】無機微粒子の粒度分布を、レーザー回折法
を利用した粒度分布計（マイクロトラックＨＲＡ粒度分
析計 ＭＯＤＥＬ Ｎｏ．９３２０−Ｘ１００）を用い
て測定した。測定条件は下記の通りで行った。The particle size distribution of the inorganic fine particles was measured using a particle size distribution analyzer (Microtrac HRA particle size analyzer Model No. 9320-X100) utilizing a laser diffraction method. The measurement conditions were as follows.

【００３６】試料量 ：１ｇ 分散条件 ：精製水中で１〜１．５分間超音波分散、分
散しにくい場合は０．２％ヘキサメタリン酸ナトリウム
水溶液中で行う。Sample amount: 1 g Dispersion conditions: Ultrasonic dispersion in purified water for 1 to 1.5 minutes. If dispersion is difficult, perform in a 0.2% aqueous sodium hexametaphosphate solution.

【００３７】粒子屈折率：無機微粒子の種類によって変
更する（リチウム系ガラス粉末では、１．６、ビスマス
系ガラス粉末では、１．８８の値を使用した。） 溶媒屈折率：１．３３ 測定数 ：２回 上記のような粒度分布をもった無機微粒子を用いること
により、無機微粒子の充填性が向上し、感光性ペースト
中の無機微粒子比率を増加させても気泡を巻き込むこと
が少なくなり、全光線透過率を５０％以上にすることが
できて、さらに直進透過率も５０％以上にすることがで
きる。これにより好ましい隔壁パターンの断面形状が形
成できる。無機微粒子の粒度が上記範囲より小さいと比
表面積が増えるため、粉末の凝集性があがり、有機成分
内への分散性が下がるため、気泡を巻き込みやすくな
る。そのため光散乱が増え、全光線透過率が５０％未満
になり、あるいは、直進透過率が５０％未満になり、リ
ブ中央部の太り、底部の硬化不足を生じる傾向を示す。Particle refractive index: changed depending on the type of inorganic fine particles (a lithium-based glass powder used a value of 1.6, and a bismuth-based glass powder used a value of 1.88.) Solvent refractive index: 1.33 Number of measurements : Twice The use of the inorganic fine particles having the particle size distribution as described above improves the filling property of the inorganic fine particles, and reduces the entrapment of bubbles even when the ratio of the inorganic fine particles in the photosensitive paste is increased. The light transmittance can be set to 50% or more, and the straight transmissivity can be set to 50% or more. Thereby, a preferable cross-sectional shape of the partition pattern can be formed. When the particle size of the inorganic fine particles is smaller than the above range, the specific surface area increases, so that the agglomeration property of the powder increases, and the dispersibility in the organic component decreases. For this reason, light scattering increases, and the total light transmittance becomes less than 50%, or the straight light transmittance becomes less than 50%, and the center of the rib tends to be thickened and the bottom is hardened insufficiently.

【００３８】また、発明者らは、無機微粒子として、形
状が球形であるガラス微粒子を用いることによって、高
アスペクト比のパターニングが可能であることを見い出
しだしている。ガラス微粒子として、球形率８０個数％
以上のガラス微粒子を５０重量％以上用いることによっ
て、表面積を小さくし、ペースト中の光散乱を抑制する
ことができる。Further, the inventors have found that patterning with a high aspect ratio can be performed by using glass fine particles having a spherical shape as the inorganic fine particles. 80 particles% sphericity as glass particles
By using 50% by weight or more of the above glass fine particles, the surface area can be reduced and light scattering in the paste can be suppressed.

【００３９】さらに、無機微粒子として、全光線透過率
が５０％以上のガラス微粒子を用いることが好ましい。
この場合のガラス微粒子は、５０体積％粒子径が１〜６
μｍ、１０体積％粒子径が０．４〜２μｍ、９０体積％
粒子径が４〜１０μｍ、比表面積０．２〜３ｍ² ／ｇの
ものが適している。Further, it is preferable to use glass fine particles having a total light transmittance of 50% or more as the inorganic fine particles.
The glass fine particles in this case have a 50% by volume particle diameter of 1 to 6.
μm, 10% by volume Particle size 0.4 to 2 μm, 90% by volume
Those having a particle diameter of 4 to 10 μm and a specific surface area of 0.2 to ³ m ² / g are suitable.

【００４０】酸化ビスマス、酸化鉛または酸化リチウム
を含むガラスは、平均屈折率が１．５６〜１．８、多く
の場合は１．６〜１．８になる。この場合、有機成分の
平均屈折率が１．５６以下の場合は、有機成分と無機微
粒子の屈折率差が大きくなり、光散乱のためパターン形
成が困難になる。The glass containing bismuth oxide, lead oxide or lithium oxide has an average refractive index of 1.56 to 1.8, and often 1.6 to 1.8. In this case, when the average refractive index of the organic component is 1.56 or less, the difference in the refractive index between the organic component and the inorganic fine particles becomes large, and light scattering makes pattern formation difficult.

【００４１】そこで、発明者らは、ガラス転移点が３５
０〜５５０℃のガラス微粒子を用いても、屈折率を１．
５６以上、さらには１．７以上の有機成分を含有する感
光性ペーストが、高アスペクト比で高精度のパターニン
グに有効であることを見い出した。しかし、有機成分の
平均屈折率を１．８以上にした場合は、屈折率が高すぎ
るため、逆に光散乱が大きくなり過ぎ好ましくない。特
に、酸化ビスマスを１０重量％以上含むガラス微粒子を
用いる場合、有機成分の屈折率は１．５６以上にするこ
とが好ましい。Therefore, the inventors have found that the glass transition point is 35%.
Even when glass fine particles of 0 to 550 ° C. are used, the refractive index is set to 1.
It has been found that a photosensitive paste containing 56 or more, more preferably 1.7 or more organic components is effective for high aspect ratio and high precision patterning. However, when the average refractive index of the organic component is set to 1.8 or more, the refractive index is too high, and light scattering is undesirably too large. In particular, when glass fine particles containing 10% by weight or more of bismuth oxide are used, the refractive index of the organic component is preferably 1.56 or more.

【００４２】また、本発明では用いる有機成分と無機微
粒子との平均屈折率の差を０．０５以下にすることによ
って、厚膜時のパターン加工性をさらに向上させること
ができる。ここに平均屈折率の差とは、無機微粒子の平
均屈折率から有機成分の平均屈折率を差し引いた値の絶
対値のことである。In the present invention, by setting the difference between the average refractive index of the organic component and the average refractive index of the inorganic fine particles to be 0.05 or less, the pattern workability at the time of thick film can be further improved. Here, the difference in the average refractive index is an absolute value of a value obtained by subtracting the average refractive index of the organic component from the average refractive index of the inorganic fine particles.

【００４３】本発明において使用される有機成分とは、
感光性ペースト中の有機成分（ペーストから無機成分を
除いた部分）のことであり、ペースト中で好ましくは１
０〜４０重量％を占める。The organic components used in the present invention include:
An organic component in the photosensitive paste (a part obtained by removing the inorganic component from the paste).
Accounts for 0-40% by weight.

【００４４】有機成分は、感光性モノマ、感光性オリゴ
マ、感光性ポリマのうち少なくとも１種類から選ばれた
感光性成分、およびバインダ、光重合開始剤、紫外線吸
収剤、増感剤、増感助剤、重合禁止剤、可塑剤、増粘
剤、有機溶媒、酸化防止剤、分散剤、有機あるいは無機
の沈殿防止剤などの添加剤成分を必要に応じて加えるこ
とで構成される。The organic component is a photosensitive component selected from at least one of a photosensitive monomer, a photosensitive oligomer, and a photosensitive polymer, and a binder, a photopolymerization initiator, an ultraviolet absorber, a sensitizer, and a sensitizer. It is constituted by adding additives such as an agent, a polymerization inhibitor, a plasticizer, a thickener, an organic solvent, an antioxidant, a dispersant, and an organic or inorganic suspending agent as required.

【００４５】本発明の感光性ペーストは関しては、感光
性成分の含有率が有機成分中の１０重量％以上、さらに
は、３０重量％以上であることが光に対する感度の点で
好ましい。感光性成分としては、光不溶化型と光可溶化
型の感光性成分があり、代表的なものとして、次の
（Ａ）〜（Ｅ）が挙げられる。Regarding the photosensitive paste of the present invention, the content of the photosensitive component in the organic component is preferably at least 10% by weight, more preferably at least 30% by weight in terms of sensitivity to light. As the photosensitive component, there are a photo-insolubilizing type and a photo-solubilizing type photosensitive component, and the following (A) to (E) are typical.

【００４６】光不溶化型の感光性成分としては、 （Ａ）分子内に不飽和基などを１つ以上有する官能性の
モノマ、オリゴマ、ポリマを含有するもの （Ｂ）芳香族ジアゾ化合物、芳香族アジド化合物、有機
ハロゲン化合物などの感光性化合物を含有するもの （Ｃ）ジアゾ系アミンとホルムアルデヒドとの縮合物な
ど、いわゆるジアゾ樹脂といわれるものなどがある。Examples of the photo-insolubilizing type photosensitive component include (A) a functional monomer, an oligomer, and a polymer having one or more unsaturated groups in a molecule; and (B) an aromatic diazo compound or an aromatic compound. Compounds containing photosensitive compounds such as azide compounds and organic halogen compounds (C) There are so-called diazo resins, such as condensates of diazo amines and formaldehyde.

【００４７】また、光可溶化型の感光性成分としては、 （Ｄ）ジアゾ化合物の無機塩や有機酸とのコンプレック
ス、キノンジアゾ類を含有するもの （Ｅ）キノンジアゾ類を適当なポリマバインダと結合さ
せた、例えばフェノールノボラック樹脂のナフトキノン
−１，２−ジアジド−５−スルフォン酸エステルなどが
ある。The photo-solubilizing type photosensitive component includes (D) a complex of an inorganic salt or an organic acid of a diazo compound, and a quinone diazo compound containing the quinone diazo compound. (E) A quinone diazo compound is bonded to an appropriate polymer binder. Further, for example, there is naphthoquinone-1,2-diazide-5-sulfonic acid ester of phenol novolak resin.

【００４８】本発明においては、上記のすべての感光性
成分を用いることができる。感光性ペーストとして、無
機微粒子と混合して簡便に用いることができる感光性成
分としては、上記（Ａ）の感光性成分が特に好ましい。In the present invention, all of the above photosensitive components can be used. The photosensitive component (A) is particularly preferable as the photosensitive component that can be easily used as a photosensitive paste by mixing with inorganic fine particles.

【００４９】感光性モノマとしては、活性な炭素−炭素
２重結合を有する化合物が多く用いられる。官能基とし
ては、ビニル基、アリル基、アクリレート基、メタクリ
レート基およびアクリルアミド基を有する単官能および
多官能化合物が挙げられる。感光性ペースト中に含まれ
る有機成分の屈折率を制御する方法としては、感光性モ
ノマの屈折率を制御する方法が簡便である。特に屈折率
１．５５〜１．８の感光性モノマを有機成分中に好まし
くは１０〜８０重量％、より好ましくは２０〜７０重量
％用いることによって、有機成分の屈折率を高めること
ができる。As the photosensitive monomer, a compound having an active carbon-carbon double bond is often used. Examples of the functional group include monofunctional and polyfunctional compounds having a vinyl group, an allyl group, an acrylate group, a methacrylate group, and an acrylamide group. As a method of controlling the refractive index of the organic component contained in the photosensitive paste, a method of controlling the refractive index of the photosensitive monomer is simple. In particular, by using a photosensitive monomer having a refractive index of 1.55 to 1.8 in the organic component, preferably 10 to 80% by weight, more preferably 20 to 70% by weight, the refractive index of the organic component can be increased.

【００５０】本発明において、感光性モノマとして、ベ
ンゼン環、ナフタレン環などの芳香環や硫黄原子を含有
するアクリレートモノマもしくはメタクリレートモノマ
を用いることが高屈折率化に有効である。特に、光反応
により硬化時の架橋密度を高くし、パターン形成性を向
上するためには、多官能アクリレートモノマもしくはメ
タクリレートモノマを用いることが高屈折率化に有効で
ある。In the present invention, it is effective to use an acrylate monomer or a methacrylate monomer containing an aromatic ring such as a benzene ring or a naphthalene ring or a sulfur atom as the photosensitive monomer to increase the refractive index. In particular, in order to increase the crosslink density at the time of curing by photoreaction and to improve the pattern formability, it is effective to use a polyfunctional acrylate monomer or methacrylate monomer to increase the refractive index.

【００５１】具体的には、フェニル（メタ）アクリレー
ト、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル
（メタ）アクリレート、１−ナフチル（メタ）アクリレ
ート、２−ナフチル（メタ）アクリレート、ビスフェノ
ールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ−エ
チレンオキサイド付加物のジ（メタ）アクリレート、ビ
スフェノールＡ−プロピレンオキサイド付加物のジ（メ
タ）アクリレート、チオフェノール（メタ）アクリレー
ト、ベンジルメルカプタン（メタ）アクリレートまたは
これらの芳香環中の１〜５個の水素原子を塩素または臭
素原子に置換した化合物などを用いることができる。Specifically, phenyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 1-naphthyl (meth) acrylate, 2-naphthyl (meth) acrylate, bisphenol A di (meth) acrylate Di (meth) acrylate of bisphenol A-ethylene oxide adduct, di (meth) acrylate of bisphenol A-propylene oxide adduct, thiophenol (meth) acrylate, benzyl mercaptan (meth) acrylate, or 1 in these aromatic rings Compounds in which up to 5 hydrogen atoms have been replaced with chlorine or bromine atoms can be used.

【００５２】また、本発明では、分子内に、硫黄原子を
含有するモノマとして、チオール（メタ）アクリレート
基を有するモノマやフェニルスルフィド構造を含有する
モノマを用いることができる。これらの屈折率を向上さ
せるモノマに、種々の感光性モノマを組み合わせて用い
ることもできる。In the present invention, as the monomer containing a sulfur atom in the molecule, a monomer having a thiol (meth) acrylate group or a monomer containing a phenyl sulfide structure can be used. Various monomers can be used in combination with these monomers for improving the refractive index.

【００５３】感光性ペーストを構成する有機成分とし
て、光反応で形成される硬化物の物性の向上やペースト
の粘度の調整などの役割を果たす成分として、重量平均
分子量５００〜１０万のオリゴマまたはポリマが用いら
れる。そのオリゴマまたはポリマは、炭素−炭素２重結
合を有する化合物から選ばれた成分の重合または共重合
により得られる。As an organic component constituting the photosensitive paste, an oligomer or polymer having a weight average molecular weight of 500 to 100,000 is used as a component which plays a role of improving the physical properties of a cured product formed by a photoreaction and adjusting the viscosity of the paste. Is used. The oligomer or polymer is obtained by polymerization or copolymerization of a component selected from compounds having a carbon-carbon double bond.

【００５４】これらオリゴマまたはポリマは、感光性ペ
ーストの有効成分中に１０〜９０重量％含まれることが
好ましい。９０重量％より多いと重合度があがりにくく
なり、また１０重量％より小さいと粘度調整がしにく
く、印刷性が悪くなる傾向を示す。These oligomers or polymers are preferably contained in the active ingredient of the photosensitive paste in an amount of 10 to 90% by weight. If it is more than 90% by weight, the degree of polymerization is hard to increase, and if it is less than 10% by weight, viscosity adjustment is difficult and printability tends to deteriorate.

【００５５】共重合するモノマとしては、不飽和カルボ
ン酸などの不飽和酸を共重合することによって、感光後
にアルカリ水溶液での現像性を向上させることができ
る。不飽和カルボン酸の具体的な例として、アクリル
酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン
酸、フマル酸、ビニル酢酸またはこれらの酸無水物など
が挙げられる。As a monomer to be copolymerized, the developability in an aqueous alkaline solution can be improved after exposure by copolymerizing an unsaturated acid such as an unsaturated carboxylic acid. Specific examples of the unsaturated carboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, vinyl acetic acid, and acid anhydrides thereof.

【００５６】このようにして得られた側鎖にカルボキシ
ル基などの酸性基を有するポリマもしくはオリゴマの酸
価（ＡＶ）は、５０〜１８０、さらには７０〜１４０の
範囲が好ましい。酸価が１８０を超えると、現像許容幅
が狭くなり、また、酸価が５０以下になると未露光部の
現像液に対する溶解性が低下する傾向を示すようにな
り、現像液濃度を濃くすることになるため露光部まで剥
がれが発生し、高精細なパターンが得られにくくなる。The polymer or oligomer having an acidic group such as a carboxyl group in the side chain thus obtained has an acid value (AV) of preferably from 50 to 180, more preferably from 70 to 140. When the acid value exceeds 180, the allowable development width becomes narrow, and when the acid value becomes 50 or less, the solubility of the unexposed portion in the developer tends to decrease, and the developer concentration is increased. Therefore, peeling occurs to the exposed portion, and it is difficult to obtain a high-definition pattern.

【００５７】本発明では、以上に示したポリマもしくは
オリゴマに対して、光反応性基を側鎖または分子末端に
付加させることによって、感光性をもつ感光性ポリマや
感光性オリゴマとして用いることができる。In the present invention, by adding a photoreactive group to a side chain or a molecular terminal to the above-mentioned polymer or oligomer, it can be used as a photosensitive polymer or a photosensitive oligomer having photosensitivity. .

【００５８】好ましい光反応性基は、エチレン性不飽和
基を有するものである。エチレン性不飽和基としては、
ビニル基、アリル基、アクリル基およびメタクリル基な
どが挙げられる。Preferred photoreactive groups are those having an ethylenically unsaturated group. As the ethylenically unsaturated group,
Examples include a vinyl group, an allyl group, an acryl group and a methacryl group.

【００５９】このような側鎖をオリゴマやポリマに付加
させる方法は、ポリマ中のメルカプト基、アミノ基、水
酸基やカルボキシル基に対して、グリシジル基やイソシ
アネート基を有するエチレン性不飽和化合物やアクリル
酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはアリルク
ロライドを付加反応させて作る方法がある。A method for adding such a side chain to an oligomer or a polymer is based on a method in which an ethylenically unsaturated compound having a glycidyl group or an isocyanate group or an acrylic acid is added to a mercapto group, an amino group, a hydroxyl group or a carboxyl group in the polymer. There is a method in which chloride, methacrylic chloride or allyl chloride is added to make an addition reaction.

【００６０】グリシジル基を有するエチレン性不飽和化
合物としては、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グ
リシジル、アリルグリシジルエーテル、エチルアクリル
酸グリシジル、クロトニルグリシジルエーテル、クロト
ン酸グリシジルエーテル、イソクロトン酸グリシジルエ
ーテルなどが挙げられる。Examples of the ethylenically unsaturated compound having a glycidyl group include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, allyl glycidyl ether, glycidyl ethyl acrylate, crotonyl glycidyl ether, glycidyl ether crotonic acid, glycidyl ether isocrotonic acid, and the like. .

【００６１】イソシアネート基を有するエチレン性不飽
和化合物としては、（メタ）アクリロイルイソシアナー
ト、（メタ）アクリロイルエチルイソシアネートなどが
ある。また、グリシジル基やイソシアネート基を有する
エチレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライド、メタ
クリル酸クロライドまたはアリルクロライドは、ポリマ
中のメルカプト基、アミノ基、水酸基やカルボキシル基
に対して０．０５〜１モル等量付加させることが好まし
い。Examples of the ethylenically unsaturated compound having an isocyanate group include (meth) acryloyl isocyanate and (meth) acryloylethyl isocyanate. The ethylenically unsaturated compound having a glycidyl group or an isocyanate group, acrylic acid chloride, methacrylic acid chloride or allyl chloride is used in an amount of 0.05 to 1 mol based on the mercapto group, amino group, hydroxyl group or carboxyl group in the polymer. It is preferable to add an amount.

【００６２】バインダ成分が必要な場合には、ポリマと
して、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、
メタクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル重合
体、アクリル酸エステルーメタクリル酸エステル共重合
体、α−メチルスチレン重合体、ブチルメタクリレート
樹脂などを用いることができる。このバインダ成分の高
屈折率化を行なうことも、感光性有機成分の高屈折率化
に効果的である。When a binder component is required, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral,
A methacrylate polymer, an acrylate polymer, an acrylate-methacrylate copolymer, an α-methylstyrene polymer, a butyl methacrylate resin, or the like can be used. It is also effective to increase the refractive index of the binder component to increase the refractive index of the photosensitive organic component.

【００６３】本発明の感光性ペーストの有機成分は、感
光性モノマ、感光性オリゴマ、感光性ポリマあるいはバ
インダ等を含有するが、これらの成分はいずれも活性光
線のエネルギー吸収能力はないので、光反応を開始する
ためには光重合開始剤や増感剤を加えることが望まし
い。The organic components of the photosensitive paste of the present invention include photosensitive monomers, photosensitive oligomers, photosensitive polymers, binders, etc., but none of these components has the ability to absorb energy of actinic rays. In order to start the reaction, it is desirable to add a photopolymerization initiator or a sensitizer.

【００６４】感光性ペーストによるパターン形成は、露
光された部分の感光性成分（モノマ、オリゴマ、ポリ
マ）を重合および架橋させて溶剤不溶性にすることであ
り、上記のように感光性を示す官能基はラジカル重合性
であるため、その光重合開始剤はラジカル種を発生する
ものから選んで用いられる。The pattern formation by the photosensitive paste is to polymerize and cross-link the photosensitive components (monomers, oligomers, and polymers) in the exposed portions to make them insoluble in a solvent. Is a radical polymerizable, and its photopolymerization initiator is selected from those generating radical species.

【００６５】光重合開始剤の具体的な例として、ベンゾ
フェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビ
ス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ビス
（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジクロロ
ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルフェニル
ケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，３−ジ
エトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フ
ェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ
−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロ
ロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキ
サントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピ
ルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジ
ル、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメトキシエチ
ルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−
ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミノアントラキノ
ン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズア
ントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、４
−アジドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−
アジドベンジリデン）シクロヘキサン、２，６−ビス
（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサ
ノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−
メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニルプロパン
ジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、
１，３−ジフェニルプロパントリオン−２−（ｏ−エト
キシカルボニル）オキシム、２−メチル−［４−（メチ
ルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノ
ン、ナフタレンスルフォニルクロライド、キノリンスル
ホニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４，
４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフ
ィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホ
スフィン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロ
モフェニルスルホン、過酸化ベンゾイルおよびエオシ
ン、メチレンブルーなどの光還元性の色素とアスコルビ
ン酸、トリエタノールアミンなどの還元剤の組み合わせ
などが挙げられる。本発明では、これらの１種または２
種以上を使用することができる。光重合開始剤は、感光
性成分に対し好ましくは０．０５〜１０重量％の範囲で
添加され、より好ましくは、０．１〜１０重量％であ
る。重合開始剤の量が少なすぎると光感度が不良とな
り、光重合開始剤の量が多すぎる場合には露光部の残存
率が小さくなる恐れがある。Specific examples of the photopolymerization initiator include benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4,4-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, and 4,4-dichlorobenzophenone. , 4-benzoyl-4-methylphenyl ketone, dibenzyl ketone, fluorenone, 2,3-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenyl-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone , Pt-butyldichloroacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, benzyl, benzyldimethylketal, benzylmethoxyethylacetal, benzo Emissions, benzoin methyl ether, benzoin butyl ether, anthraquinone, 2-
t-butylanthraquinone, 2-aminoanthraquinone, β-chloroanthraquinone, anthrone, benzanthrone, dibensuberone, methyleneanthrone, 4
-Azidobenzalacetophenone, 2,6-bis (p-
(Azidobenzylidene) cyclohexane, 2,6-bis (p-azidobenzylidene) -4-methylcyclohexanone, 2-phenyl-1,2-butadione-2- (o-
Methoxycarbonyl) oxime, 1-phenylpropanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime,
1,3-diphenylpropanetrione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 2-methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone, naphthalenesulfonyl chloride, quinoline sulfonyl chloride, N-phenyl Thioacridone, 4,
Photoreducing dyes such as 4-azobisisobutyronitrile, diphenyl disulfide, benzothiazole disulfide, triphenylphosphine, camphorquinone, carbon tetrabromide, tribromophenyl sulfone, benzoyl peroxide and eosin, methylene blue, and ascorbic acid And a combination of reducing agents such as triethanolamine. In the present invention, one or two of these
More than one species can be used. The photopolymerization initiator is preferably added in the range of 0.05 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 10% by weight, based on the photosensitive component. If the amount of the polymerization initiator is too small, the photosensitivity becomes poor, and if the amount of the photopolymerization initiator is too large, the residual ratio of the exposed portion may be reduced.

【００６６】本発明では、光重合開始剤と共に増感剤を
使用し、感度を向上させたり反応に有効な波長範囲を拡
大することができる。増感剤の具体例としては、２，４
−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサント
ン、２，３−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シク
ロペンタノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベン
ザル）シクロヘキサノン、２，６−ビス（４−ジメチル
アミノベンザル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒ
ラーケトン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフ
ェノン、４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、
４，４−ビス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチ
ルアミノシンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミ
ノベンジリデンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノ
フェニルビニレン）イソナフトチアゾール、１，３−ビ
ス（４−ジメチルアミノフェニルビニレン）イソナフト
チアゾール、１，３−ビス（４−ジメチルアミノベンザ
ル）アセトン、１，３−カルボニルビス（４−ジエチル
アミノベンザル）アセトン、３，３−カルボニルビス
（７−ジエチルアミノクマリン）、Ｎ−フェニル−Ｎ−
エチルエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミ
ン、Ｎ−トリルジエタノールアミン、ジメチルアミノ安
息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソアミ
ル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾール、
１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオテトラゾー
ルなどが挙げられる。本発明ではこれらの増感剤を１種
または２種以上使用することができる。なお、増感剤の
中には光重合開始剤としても使用できるものがある。増
感剤を本発明の感光性ペーストに添加する場合、その添
加量は感光性成分に対して通常０．０５〜１０重量％、
より好ましくは０．１〜１０重量％である。増感剤の量
が少なすぎると光感度を向上させる効果が十分には発揮
されず、また増感剤の量が多すぎると露光部の残存率が
小さくなる恐れがある。In the present invention, the use of a sensitizer together with the photopolymerization initiator can improve the sensitivity or extend the wavelength range effective for the reaction. Specific examples of the sensitizer include 2, 4
-Diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,3-bis (4-diethylaminobenzal) cyclopentanone, 2,6-bis (4-dimethylaminobenzal) cyclohexanone, 2,6-bis (4-dimethylaminobenzal ) -4-Methylcyclohexanone, Michler's ketone, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, 4,4-bis (dimethylamino) chalcone,
4,4-bis (diethylamino) chalcone, p-dimethylaminocinnamylidene indanone, p-dimethylaminobenzylidene indanone, 2- (p-dimethylaminophenylvinylene) isonaphthothiazole, 1,3-bis (4- Dimethylaminophenylvinylene) isonaphthothiazole, 1,3-bis (4-dimethylaminobenzal) acetone, 1,3-carbonylbis (4-diethylaminobenzal) acetone, 3,3-carbonylbis (7-diethylaminocoumarin) ), N-phenyl-N-
Ethylethanolamine, N-phenylethanolamine, N-tolyldiethanolamine, isoamyl dimethylaminobenzoate, isoamyl diethylaminobenzoate, 3-phenyl-5-benzoylthiotetrazole,
1-phenyl-5-ethoxycarbonylthiotetrazole and the like. In the present invention, one or more of these sensitizers can be used. Some sensitizers can also be used as photopolymerization initiators. When a sensitizer is added to the photosensitive paste of the present invention, the addition amount is usually 0.05 to 10% by weight based on the photosensitive component,
More preferably, it is 0.1 to 10% by weight. If the amount of the sensitizer is too small, the effect of improving the photosensitivity will not be sufficiently exhibited, and if the amount of the sensitizer is too large, the residual ratio of the exposed portion may decrease.

【００６７】一方、本発明では重合禁止剤を使用するこ
とができる。重合禁止剤としては、ラジカル連鎖禁止作
用、三重項の消去作用、ハイドロパーオキサイドの分解
作用を有するものなら限定されず、１種または２種以上
を使用することができる。重合禁止剤の添加量は０．０
１〜５重量％が好ましく、より好ましくは０．０３〜３
重量％である。この範囲より少なければ重合禁止の効果
が発揮され難く、多くなりすぎるると感度が低下する。On the other hand, in the present invention, a polymerization inhibitor can be used. The polymerization inhibitor is not limited as long as it has a radical chain inhibiting action, a triplet eliminating action, and a hydroperoxide decomposing action, and one or more kinds can be used. The amount of polymerization inhibitor added is 0.0
It is preferably 1 to 5% by weight, more preferably 0.03 to 3% by weight.
% By weight. If the amount is less than this range, the effect of inhibiting polymerization is difficult to exert, and if the amount is too large, the sensitivity decreases.

【００６８】感光性ペーストには、光吸収剤を添加する
ことも有効である。紫外光や可視光の吸収効果が高い化
合物を添加することによって高アスペクト比、高精細お
よび高解像度が得られる。It is also effective to add a light absorber to the photosensitive paste. A high aspect ratio, high definition and high resolution can be obtained by adding a compound having a high absorption effect of ultraviolet light or visible light.

【００６９】光吸収剤としては有機系染料からなるも
の、中でも３５０〜４５０ｎｍの波長範囲で高い吸収係
数を有する有機系染料が好ましく用いられる。具体的に
はアゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染
料、キノリン系染料、アントラキノン系染料、ベンゾフ
ェノン系染料、ジフェニルシアノアクリレート系染料、
トリアジン系染料、ｐ−アミノ安息香酸系染料、シアノ
アクリレート系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物お
よびインドール系化合物などが使用される。有機系染料
は光吸収剤として添加した場合にも、焼成後の絶縁膜中
に残存しないので絶縁膜特性の低下を少なくできる点で
好ましい。これらの中でも、アゾ系およびベンゾフェノ
ン系染料が特に好ましく用いられる。As the light absorber, those composed of organic dyes, among which organic dyes having a high absorption coefficient in the wavelength range of 350 to 450 nm, are preferably used. Specifically, azo dyes, aminoketone dyes, xanthene dyes, quinoline dyes, anthraquinone dyes, benzophenone dyes, diphenylcyanoacrylate dyes,
Triazine dyes, p-aminobenzoic acid dyes, cyanoacrylate compounds, benzotriazole compounds and indole compounds are used. Even when the organic dye is added as a light absorbing agent, it is preferable because the organic dye does not remain in the insulating film after firing, so that the deterioration of the insulating film characteristics can be reduced. Among these, azo dyes and benzophenone dyes are particularly preferably used.

【００７０】かかる有機染料の添加量は０．０５〜５重
量％が好ましく、より好ましくは０．０５〜１重量％で
ある。添加量が少ないと光吸収剤の添加効果が減少し、
多すぎると焼成後の絶縁膜特性が低下する傾向があるの
で好ましくない。The addition amount of the organic dye is preferably 0.05 to 5% by weight, more preferably 0.05 to 1% by weight. If the amount is small, the effect of adding the light absorber is reduced,
If the amount is too large, the properties of the insulating film after firing tend to deteriorate, which is not preferable.

【００７１】本発明の実施において、有機系染料からな
る光吸収剤の添加方法の一例を上げると、有機系染料を
予め有機溶媒に溶解した溶液を作製し、それをペースト
作製時に混練する方法や、その有機溶媒中に無機微粒子
を混合した後、乾燥する方法が挙げられる。このような
方法によって無機微粒子の個々の粉末表面に有機染料膜
をコートした、いわゆるカプセル状の粉末を作製するこ
とができる。In the practice of the present invention, as an example of a method of adding a light absorber composed of an organic dye, a method of preparing a solution in which an organic dye is dissolved in an organic solvent in advance and kneading the solution at the time of preparing a paste, And a method in which inorganic fine particles are mixed in the organic solvent and then dried. By such a method, a so-called capsule-like powder in which the surface of each of the inorganic fine particles is coated with an organic dye film can be produced.

【００７２】感光性ペーストには、必要に応じて、保存
時の熱安定性を向上させるための重合禁止剤、アクリル
系共重合体の酸化を防ぐための酸化防止剤、その他の可
塑剤などを加えることができる。The photosensitive paste may contain, if necessary, a polymerization inhibitor for improving thermal stability during storage, an antioxidant for preventing oxidation of the acrylic copolymer, and other plasticizers. Can be added.

【００７３】本発明ではまた、感光性ペーストをガラス
基板に塗布するときの粘度を塗布方法に応じて調整する
ために、有機溶媒が使用される。有機溶媒としては、メ
チルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソル
ブ、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シク
ロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコー
ル、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジ
メチルスルフォキシド、γ−ブチルラクトン、ブロモベ
ンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロ
ベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸などの１種
または２種以上の有機溶媒混合物が用いられる。In the present invention, an organic solvent is used to adjust the viscosity when applying the photosensitive paste to the glass substrate according to the application method. As organic solvents, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl ethyl ketone, dioxane, acetone, cyclohexanone, cyclopentanone, isobutyl alcohol, isopropyl alcohol, tetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide, γ-butyl lactone, bromobenzene, chlorobenzene, dibromobenzene , Dichlorobenzene, bromobenzoic acid, a mixture of one or more organic solvents such as chlorobenzoic acid.

【００７４】感光性ペーストは、通常、無機微粒子、光
吸収剤、感光性ポリマ、感光性モノマ、光重合開始剤、
増感剤および溶媒などの各種成分を所定の組成となるよ
うに調合した後、３本ローラや混練機で均質に混合分散
し作製することができる。The photosensitive paste is usually composed of inorganic fine particles, a light absorber, a photosensitive polymer, a photosensitive monomer, a photopolymerization initiator,
After blending various components such as a sensitizer and a solvent so as to have a predetermined composition, the mixture can be homogeneously mixed and dispersed using a three-roller or a kneader.

【００７５】ペーストの粘度は無機微粒子、増粘剤、有
機溶媒、可塑剤および沈殿防止剤など添加割合によって
適宜調整されるが、その範囲は好ましくは２，０００〜
２０万ｃｐｓ（センチ・ポイズ）である。例えば、ガラ
ス基板への塗布をスクリーン印刷法以外にスピンコート
法で行う場合は、２００〜５，０００ｃｐｓが好まし
い。スクリーン印刷法で１回塗布して膜厚１０〜２０μ
ｍを得るには、５万〜２０万ｃｐｓが好ましい。ブレー
ドコーター法やダイコーター法などを用いる場合は、
２，０００〜２０，０００ｃｐｓが好ましい。The viscosity of the paste is appropriately adjusted by the addition ratio of inorganic fine particles, a thickener, an organic solvent, a plasticizer, a suspending agent, and the like.
It is 200,000 cps (centipoise). For example, when the coating on the glass substrate is performed by a spin coating method other than the screen printing method, 200 to 5,000 cps is preferable. Coated once by screen printing method, film thickness 10-20μ
In order to obtain m, 50,000 to 200,000 cps is preferable. When using a blade coater method or a die coater method,
2,000-20,000 cps is preferred.

【００７６】次に、感光性ペーストを用いてパターン加
工を行う一例について説明するが、本発明はこれに限定
されない。Next, an example of performing pattern processing using a photosensitive paste will be described, but the present invention is not limited to this.

【００７７】ガラス基板やセラミックの基板上に、感光
性ペーストが全面塗布もしくは部分的に塗布される。塗
布方法としては、スクリーン印刷法、バーコーター、ロ
ールコーター、ダイコーター、ブレードコーターなど公
知の方法を用いることができる。塗布厚みは、塗布回
数、スクリーンのメッシュおよびペーストの粘度を選ぶ
ことによって調整できる。On a glass substrate or a ceramic substrate, a photosensitive paste is applied entirely or partially. As a coating method, a known method such as a screen printing method, a bar coater, a roll coater, a die coater, and a blade coater can be used. The coating thickness can be adjusted by selecting the number of coatings, the mesh of the screen, and the viscosity of the paste.

【００７８】ここでペーストを基板上に塗布する場合、
基板と塗布膜との密着性を高めるために基板の表面処理
を行うことができる。表面処理液としては、シランカッ
プリング剤、例えば、ビニルトリクロロシラン、ビニル
トリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、トリ
ス（２−メトキシエトキシ）ビニルシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−（メタクリロ
キシプロピル）トリメトキシシラン、γ−（２−アミノ
エチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロ
ロプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキ
シシランなど、あるいは有機金属例えば、有機チタン、
有機アルミニウムおよび有機ジルコニウムなどが挙げら
れる。シランカップリング剤あるいは有機金属を有機溶
媒、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、
エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルアルコ
ール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチル
アルコールなどで０．１〜５％の濃度に希釈したものが
用いられる。次に、この表面処理液をスピナーなどで基
板上に均一に塗布した後に、８０〜１４０℃で１０〜６
０分間乾燥することによって表面処理がなされる。Here, when applying the paste on the substrate,
Surface treatment of the substrate can be performed to enhance the adhesion between the substrate and the coating film. Examples of the surface treatment liquid include silane coupling agents such as vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, tris (2-methoxyethoxy) vinylsilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ- (methacrylic acid). Roxypropyl) trimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, and the like, or an organic metal such as , Organic titanium,
Organic aluminum and organic zirconium are exemplified. A silane coupling agent or an organic metal in an organic solvent, for example, ethylene glycol monomethyl ether,
What was diluted to a concentration of 0.1 to 5% with ethylene glycol monoethyl ether, methyl alcohol, ethyl alcohol, propyl alcohol, butyl alcohol, or the like is used. Next, this surface treatment liquid is uniformly applied on a substrate by a spinner or the like, and then is applied at 80 to 140 ° C. for 10 to 6 hours.
Surface treatment is performed by drying for 0 minutes.

【００７９】表面処理液の塗布後、露光装置を用いて露
光を行なう。露光は通常のフォトリソグラフィで行われ
るように、フォトマスクを用いてマスク露光する方法が
一般的である。用いられるマスクは、感光性有機成分の
種類によってネガ型もしくはポジ型のどちらかを選定す
る。また、フォトマスクを用いずに、レーザ光などで直
接描画する方法を用いることもできる。After the application of the surface treatment liquid, exposure is performed using an exposure apparatus. As in the case of performing exposure by ordinary photolithography, a method of performing mask exposure using a photomask is generally used. As the mask to be used, either a negative type or a positive type is selected depending on the type of the photosensitive organic component. Alternatively, a method of directly drawing with a laser beam or the like without using a photomask can be used.

【００８０】露光装置としては、ステッパー露光機やプ
ロキシミティ露光機などを用いることができる。また、
大面積の露光を行なう場合は、ガラス基板などの基板上
に感光性ペーストを塗布した後、搬送しながら露光を行
なうことによって、小さな露光面積の露光機で大きな面
積を露光することができる。As an exposure device, a stepper exposure device, a proximity exposure device, or the like can be used. Also,
In the case of performing exposure over a large area, a large area can be exposed by an exposure machine having a small exposure area by applying a photosensitive paste onto a substrate such as a glass substrate and then performing exposure while transporting the photosensitive paste.

【００８１】この際使用される活性光源としては、例え
ば、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線およびレーザ光な
どが挙げられる。これらの中で紫外線が最も好ましく、
その光源として、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超
高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用でき
る。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。露光
条件は塗布厚みによって異なるが、１〜５０ｍＷ／ｃｍ
² の出力の超高圧水銀灯を用いて０．５〜３０分間露光
を行なうことができる。The active light source used at this time includes, for example, near ultraviolet rays, ultraviolet rays, electron beams, X-rays, and laser beams. Of these, ultraviolet rays are most preferred,
As the light source, for example, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a halogen lamp, a germicidal lamp, and the like can be used. Among these, an ultra-high pressure mercury lamp is preferred. Exposure conditions vary depending on the coating thickness, but 1 to 50 mW / cm
Exposure can be performed for 0.5 to 30 minutes using an ultra-high pressure mercury lamp with an output of ² .

【００８２】本発明ではこのように塗布された感光性ペ
ースト表面に酸素遮断膜を設けることによって、パター
ン形状を向上させることができる。酸素遮断膜の一例と
しては、ポリビニルアルコールやセルロースなどの膜、
あるいはポリエステルなどのフィルムが挙げられる。In the present invention, the pattern shape can be improved by providing an oxygen blocking film on the surface of the photosensitive paste applied as described above. As an example of the oxygen barrier film, a film of polyvinyl alcohol or cellulose,
Alternatively, a film such as polyester is used.

【００８３】ポリビニルアルコール膜の形成方法は、濃
度が１〜３重量％の水溶液をスピナーなどの方法で基板
上に均一に塗布した後、７０〜９０℃で１０〜６０分間
乾燥することによって水分を蒸発させて行なう方法であ
る。ポリビニルアルコール塗布によって感度が向上する
理由は次のように推定されている。すなわち、感光性成
分が光反応する際に、空気中の酸素が存在すると光硬化
の反応が妨害されると考えられるが、ポリビニルアルコ
ール膜があると余分な酸素が遮断され露光時に感度が向
上するので好ましい。ポリエステル、ポリプロピレンお
よびポリエチレンなどの透明なフィルムを用いる場合
は、塗布後の感光性ペーストの上に、これらのフィルム
を張り付けて用いる方法がある。The polyvinyl alcohol film is formed by uniformly applying an aqueous solution having a concentration of 1 to 3% by weight on a substrate by a method such as a spinner and then drying at 70 to 90 ° C. for 10 to 60 minutes to remove water. This is a method of performing evaporation. The reason why the sensitivity is improved by applying polyvinyl alcohol is presumed as follows. That is, when the photosensitive component undergoes a photoreaction, the presence of oxygen in the air is considered to hinder the photocuring reaction, but the presence of a polyvinyl alcohol film blocks excess oxygen and improves sensitivity during exposure. It is preferred. When a transparent film such as polyester, polypropylene, or polyethylene is used, there is a method in which these films are attached to the photosensitive paste after application.

【００８４】露光後に、露光部分と非露光部分の現像液
に対する溶解度差を利用して、現像が行なわれるが、こ
の場合、浸漬法やスプレー法およびブラシ法などが用い
られる。現像液には、感光性ペースト中の有機成分が溶
解可能な有機溶媒が用いられる。また、その有機溶媒中
にその溶解力が失われない範囲で、水を添加してもよ
い。After the exposure, development is carried out utilizing the difference in solubility between the exposed portion and the non-exposed portion in the developing solution. In this case, an immersion method, a spray method, a brush method, or the like is used. An organic solvent that can dissolve the organic components in the photosensitive paste is used for the developer. In addition, water may be added to the organic solvent as long as the dissolving power is not lost.

【００８５】感光性ペースト中にカルボキシル基などの
酸性基をもつ化合物が存在する場合は、アルカリ水溶液
で現像できる。アルカリ水溶液としては水酸化ナトリウ
ムや炭酸ナトリウムおよび水酸化カルシウム水溶液など
が使用できるが、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成
時にアルカリ成分を除去しやすいので好ましい。When a compound having an acidic group such as a carboxyl group is present in the photosensitive paste, development can be performed with an aqueous alkali solution. As the alkaline aqueous solution, sodium hydroxide, sodium carbonate, calcium hydroxide aqueous solution and the like can be used. However, it is preferable to use an organic alkaline aqueous solution since the alkaline component can be easily removed at the time of firing.

【００８６】有機アルカリとしては、一般的なアミン化
合物を用いることができる。具体的には、テトラメチル
アンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアン
モニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエ
タノールアミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃
度は通常０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．１
〜５重量％である。アルカリ濃度が低すぎる場合は可溶
部が除去されず、アルカリ濃度が高すぎる場合は、パタ
ーン部を剥離させ、また非可溶部を腐食させる恐れがあ
る。また、現像時の現像は、２０〜５０℃の温度で行な
うことが工程管理上好ましい。As the organic alkali, a general amine compound can be used. Specific examples include tetramethylammonium hydroxide, trimethylbenzylammonium hydroxide, monoethanolamine, diethanolamine and the like. The concentration of the alkaline aqueous solution is usually 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 10% by weight.
~ 5% by weight. If the alkali concentration is too low, the soluble portion is not removed, and if the alkali concentration is too high, the pattern portion may be peeled off and the non-soluble portion may be corroded. Further, the development at the time of development is preferably performed at a temperature of 20 to 50 ° C. in terms of process control.

【００８７】本発明では次に焼成炉にて焼成される。焼
成雰囲気や温度は、ペーストや基板の種類によって異な
るが、空気中、窒素あるいは水素などの雰囲気中で焼成
される。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト式
の連続型焼成炉を用いることができる。In the present invention, it is fired in a firing furnace. The firing atmosphere and temperature vary depending on the type of paste or substrate, but firing is performed in air, nitrogen, hydrogen, or the like. As the firing furnace, a batch-type firing furnace or a belt-type continuous firing furnace can be used.

【００８８】また焼成温度は通常４００〜１，０００℃
である。ガラス基板上にパターン加工する場合は、５０
０〜６００℃の温度で１０〜６０分間保持して焼成を行
うことができる。The firing temperature is usually 400 to 1,000 ° C.
It is. When patterning on a glass substrate, 50
The sintering can be performed by holding at a temperature of 0 to 600 ° C. for 10 to 60 minutes.

【００８９】本発明の感光性ペーストは、１回の塗布で
プラズマディスプレイの隔壁として必要とされる高さを
有する厚みを確保し、パターン露光・現像により高アス
ペクト比、高精細なパターン形状を作製することを可能
にする。The photosensitive paste of the present invention secures a thickness having a height required as a partition of a plasma display by one application, and produces a high aspect ratio and high definition pattern shape by pattern exposure and development. To be able to

【００９０】感光性ペーストの主成分である無機微粒子
および有機成分はいずれも露光波長の光に対する吸収能
力はないので、これらの主成分を混合した組成物は波長
３５０〜５４０ｎｍの範囲で８０％位の光線透過率を示
す。しかし、無機微粒子は有機成分中に分散状態で存在
するため、その界面で光を反射する。その反射により感
光性ペーストの塗布膜の底部までの光の透過が阻害さ
れ、光反応のための光量が少なくなる。このような透過
率の低下を少なくするための手段として、無機微粒子の
平均屈折率と有機成分の平均屈折率をできるだけ近付け
る方法が有効である。一般的に、無機微粒子として用い
られるガラス微粒子の平均屈折率は、有機成分の平均屈
折率より高いので、ガラス微粒子の組成の調整によりガ
ラス微粒子の平均屈折率を低くし、一方、有機成分とし
て屈折率を高める成分を導入して、その平均屈折率を高
める方法が実用的であり、有効である。Neither the inorganic fine particles nor the organic components, which are the main components of the photosensitive paste, have the ability to absorb the light of the exposure wavelength, so that a composition containing these main components is about 80% in the wavelength range of 350 to 540 nm. Is shown. However, since the inorganic fine particles exist in a dispersed state in the organic component, light is reflected at the interface. The reflection hinders the transmission of light to the bottom of the coating film of the photosensitive paste, and reduces the amount of light for the photoreaction. As a means for reducing such a decrease in transmittance, it is effective to make the average refractive index of the inorganic fine particles and the average refractive index of the organic component as close as possible. In general, the average refractive index of glass fine particles used as inorganic fine particles is higher than the average refractive index of organic components. Therefore, the average refractive index of glass fine particles is lowered by adjusting the composition of glass fine particles, while the refractive index of organic fine particles is reduced. A method of introducing a component for increasing the refractive index to increase the average refractive index is practical and effective.

【００９１】このようにして無機微粒子の平均屈折率と
有機成分の平均屈折率の差を小さくすることにより、塗
布膜を透過する有効光量が増加するので、塗布厚みを厚
くしても優れたパターンが形成されるようになる。ま
た、フォトマスクの線幅の再現性も無機微粒子と有機成
分の平均屈折率の整合に伴って良好となる。By reducing the difference between the average refractive index of the inorganic fine particles and the average refractive index of the organic component in this manner, the effective amount of light transmitted through the coating film increases. Is formed. Also, the reproducibility of the line width of the photomask is improved with the matching of the average refractive index between the inorganic fine particles and the organic component.

【００９２】感光性ペーストには、上述のように露光に
よって光反応を開始するための光開始剤が添加され、多
くの場合、感度の向上および露光光源から発する光の波
長範囲をよりよく活用するための波長増感のために増感
剤が加えられる。これらが加えられた感光性ペーストで
は、波長範囲３４０〜４００ｎｍの光はほぼ完全に吸収
される。As described above, a photoinitiator for initiating a photoreaction by exposure is added to the photosensitive paste, and in many cases, the sensitivity is improved and the wavelength range of light emitted from the exposure light source is better utilized. A sensitizer is added for wavelength sensitization. In the photosensitive paste to which these are added, light in the wavelength range of 340 to 400 nm is almost completely absorbed.

【００９３】さらに本発明の感光性ペーストに光吸収剤
として加えられる有機染料は、形成されるパターン形状
を所望のものとすることに有効に作用している。プラズ
マディスプレイの隔壁として有効なパターンの断面形状
は矩形ないし底部がやや広がった台形であるが、光吸収
剤が存在しない場合には、しばしば、中膨れの曲線状の
断面形状を有するパターンが形成される。これは、これ
らの発生原因となる不要な散乱光を光吸収剤が吸収して
いるためと推定される。Further, the organic dye added to the photosensitive paste of the present invention as a light absorbing agent effectively acts to make a desired pattern shape. The cross-sectional shape of a pattern effective as a partition wall of a plasma display is rectangular or trapezoidal with a slightly widened bottom, but in the absence of a light absorber, a pattern having a medium swelling curved cross-sectional shape is often formed. You. This is presumed to be because the light absorber absorbs unnecessary scattered light that causes these generations.

【００９４】無機微粒子、感光性成分、光重合開始剤、
増感剤、重合禁止剤および光吸収剤として有効に作用す
る成分を加えた実用される感光性ペーストの透過スペク
トルには、ｇ線（４３６ｎｍ）波長領域に透過のピーク
があることを本発明者らは見い出している。Inorganic fine particles, photosensitive components, photopolymerization initiator,
The present inventors have found that the transmission spectrum of a practically used photosensitive paste to which a component effectively acting as a sensitizer, a polymerization inhibitor and a light absorber is added has a transmission peak in a g-line (436 nm) wavelength region. Are found.

【００９５】このｇ線波長領域の全光線透過率および直
進透過率を種々の感光性ペーストで測定した値と形成さ
れるパターンの形状を観測した結果から、それぞれ５０
％以上の値を示す場合に望ましい形状をもつ高アスペク
ト比のパターンが形成されることが明らかになった。The total light transmittance and the straight light transmittance in the g-ray wavelength range were measured with various photosensitive pastes, and the results of observing the shape of the formed pattern were as follows.
It has been clarified that a pattern having a high aspect ratio having a desirable shape is formed when the value is not less than%.

【００９６】以下に、本発明を実施例により具体的に説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、実施例中の濃度（％）は重量％である。Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.
The concentration (%) in the examples is% by weight.

【００９７】[0097]

【実施例】【Example】

（実施例１）感光性ペーストは、有機成分の各成分およ
び光吸収剤をコート処理した無機微粒子を添加し、混練
機で混練するという手順で作成した。粘度はγ−ブチル
ラクトンの量で調整したが、ペースト中の溶媒量は１０
〜４０％になるように調整した。Example 1 A photosensitive paste was prepared by adding inorganic fine particles coated with each component of an organic component and a light absorbing agent, and kneading the mixture with a kneading machine. The viscosity was adjusted by the amount of γ-butyl lactone, but the amount of solvent in the paste was 10
Adjusted to be ~ 40%.

【００９８】光線透過率を測定するためのサンプルは、
３０ｃｍ角の石英基板上に、８０℃で３０分乾燥した
後、５０μｍ厚みの感光性ペースト層が形成されるよう
に溶媒を含む感光性ペーストを塗布した。光線透過率の
測定は、島津製作所製の分光光度計（ＵＶ−１３０１Ｐ
Ｃ）を用いてｇ線（４３６ｎｍ）波長の光に関して行っ
た。A sample for measuring the light transmittance is as follows:
After drying at 80 ° C. for 30 minutes on a 30 cm square quartz substrate, a photosensitive paste containing a solvent was applied so as to form a 50 μm thick photosensitive paste layer. The light transmittance was measured using a spectrophotometer (UV-1301P, manufactured by Shimadzu Corporation).
C) using g-line (436 nm) wavelength light.

【００９９】パターン形成用のサンプルは、ソーダガラ
ス基板上に、スクリーン印刷により、均一に塗布した。
塗布膜にピンホールなどの発生を回避するために塗布、
乾燥を数回以上繰り返し行い、乾燥厚みが１８０μｍに
なるように塗布した。途中の乾燥は８０℃で１０分間行
った。その後、８０℃で４０分乾燥した。A sample for pattern formation was uniformly applied on a soda glass substrate by screen printing.
Coating to avoid pinholes on the coating film,
Drying was repeated several times or more, and coating was performed so that the dry thickness became 180 μm. Drying was performed at 80 ° C. for 10 minutes. Then, it dried at 80 degreeC for 40 minutes.

【０１００】プラズマディスプレイ用の隔壁パターン形
成を目的としたフォトマスク（ストライプ状パターン、
パターンピッチ１５０μｍ、線幅２０μｍ）を介してパ
ターン形成用サンプルに露光を行った。露光は、５０ｍ
Ｗ／ｃｍ² の出力の超高圧水銀灯で１Ｊ／ｃｍ² の紫外
線露光を行った。A photomask (stripe pattern,
The sample for pattern formation was exposed through a pattern pitch of 150 μm and a line width of 20 μm). Exposure is 50m
Ultraviolet light exposure of 1 J / cm ² was performed using an ultra-high pressure mercury lamp having an output of W / cm ² .

【０１０１】その後、３５℃に保持したモノエタノール
アミンの０．３重量％水溶液をシャワーで１２０秒間か
けることにより現像し、その後シャワースプレーを用い
て水洗浄し、光硬化していないスペース部分を除去し
て、ガラス基板上にストライプ状の隔壁を形成した。Thereafter, a 0.3% by weight aqueous solution of monoethanolamine kept at 35 ° C. is developed by applying a shower for 120 seconds, and then washed with water using a shower spray to remove a space portion that has not been photocured. Then, a stripe-shaped partition was formed on the glass substrate.

【０１０２】隔壁パターンの加工を終了したガラス基板
を８０℃で１５分乾燥した後、５６０℃で１５分焼成
し、隔壁を形成した。この焼成により約３０％程度の収
縮が生じた。The glass substrate on which the processing of the partition pattern was completed was dried at 80 ° C. for 15 minutes, and then baked at 560 ° C. for 15 minutes to form a partition. This firing caused a shrinkage of about 30%.

【０１０３】使用したガラス微粒子の組成は、Ｌｉ
₂ Ｏ：９％、ＳｉＯ₂ ：２２％、Ｂ₂ Ｏ₃ ：３３％、Ｂ
ａＯ：４％、Ａｌ₂ Ｏ₃ ：２３％、ＺｎＯ：２％、Ｍｇ
Ｏ：７％であり、その平均屈折率は１．５８６であっ
た。また、このガラス微粒子のガラス転移点とガラス軟
化点はそれぞれ４７６℃、５１９℃であり、平均粒子径
（Ｄ５０）は２．６μｍ、Ｄ１０が０．９μｍ、Ｄ９０
が７．８μｍ、最大粒子径２２μｍの粉末であった。ま
た、比表面積は、２．１０ｍ²／ｇの粉末であった。The composition of the glass particles used was Li
₂ O: 9%, SiO ₂ : 22%, B ₂ O ₃ : 33%, B
aO: 4%, Al ₂ O ₃ : 23%, ZnO: 2%, Mg
O: 7%, and the average refractive index was 1.586. The glass transition point and the glass softening point of the glass fine particles were 476 ° C. and 519 ° C., respectively, and the average particle diameter (D50) was 2.6 μm, D10 was 0.9 μm, and D90
Was 7.8 μm and the maximum particle size was 22 μm. The powder had a specific surface area of 2.10 m ² / g.

【０１０４】この実施例１では、ガラス微粒子として、
この組成のガラス粉末に対して、光吸収剤をコーティン
グ処理したガラス微粒子を使用した。また、光吸収剤と
してスダンＩＶを用い、粉末に対して０．１０重量％を
使用した。In the first embodiment, as the glass fine particles,
Glass fine particles obtained by coating a glass powder having this composition with a light absorbing agent were used. Sudan IV was used as a light absorber, and 0.10% by weight of the powder was used.

【０１０５】上記のガラス微粒子７０重量部に配合した
有機成分は、感光性ポリマ（Ｘ−４００７）：１０重量
部、感光性モノマ（ＧＸ）：２０重量部を主体とし、そ
れに光重合開始剤（ＩＣ−３６９）：３．０重量部およ
び増感剤（ＤＥＴＸ−Ｓ）：１．８重量部を配合したも
のである。これらの有機成分の平均屈折率の計算値は
１．５９であり、ガラス微粒子の平均屈折率と近似して
いる。The organic components blended in 70 parts by weight of the above glass fine particles are mainly composed of 10 parts by weight of a photosensitive polymer (X-4007) and 20 parts by weight of a photosensitive monomer (GX), and a photopolymerization initiator ( IC-369): 3.0 parts by weight and a sensitizer (DETX-S): 1.8 parts by weight. The calculated value of the average refractive index of these organic components is 1.59, which is close to the average refractive index of the glass fine particles.

【０１０６】これらのガラス微粒子および有機成分を配
合した感光性ペーストの光透過スペクトルは、ｇ線波長
領域に透過率のピークを有する形状を示し、厚さ５０μ
ｍの感光性ペースト塗布膜で測定したｇ線波長領域での
全光線透過率は６０％であり、ｇ線波長領域での直進透
過率は７０％であった。The light transmission spectrum of the photosensitive paste containing these glass fine particles and the organic component shows a shape having a transmittance peak in the g-line wavelength region and a thickness of 50 μm.
The total light transmittance in the g-line wavelength region measured on the photosensitive paste coating film of m was 60%, and the straight-line transmittance in the g-line wavelength region was 70%.

【０１０７】パターン形成用サンプルについて露光・現
像を行って形成したパターンの形状を電子顕微鏡観察し
た。得られたパターン断面形状は、高さ２２０μｍ、半
値幅４６μｍであり、高アスペクト比の隔壁パターンが
得られた。The sample for pattern formation was exposed and developed, and the shape of the pattern formed was observed with an electron microscope. The obtained pattern cross section had a height of 220 μm and a half width of 46 μm, and a partition pattern with a high aspect ratio was obtained.

【０１０８】また、焼成後に得られた隔壁についても断
面形状を観察したところ、高さ１５５μｍ、半値幅３３
μｍであった。その断面形状は下部に向かってやや広が
った台形状であり、底部の幅は４６μｍであった。Further, when the cross-sectional shape of the partition wall obtained after the firing was observed, the height was 155 μm and the half width was 33.
μm. The cross-sectional shape was a trapezoidal shape slightly expanding toward the lower part, and the width at the bottom was 46 μm.

【０１０９】（実施例２）塗布厚みを２００μｍ、有機
成分の組成を感光性ポリマー（Ｘ−４００７）：１５重
量部、感光性モノマー（ＧＸ）：１５重量部を主体と
し、それに光重合開始剤（ＩＣ−３６９）：２．４重量
部および増感剤（ＤＥＴＸ−Ｓ）：２．４重量部とした
以外は実施例１と同様に行った。これらの有機成分の平
均屈折率の計算値は１．５８であり、ｇ線での全光線透
過率および直進透過率はそれぞれ６０％と７０％であっ
た。Example 2 The coating thickness was 200 μm, the composition of the organic component was mainly 15 parts by weight of a photosensitive polymer (X-4007), 15 parts by weight of a photosensitive monomer (GX), and a photopolymerization initiator. (IC-369): 2.4 parts by weight and sensitizer (DETX-S): 2.4 parts by weight were carried out in the same manner as in Example 1. The calculated average refractive index of these organic components was 1.58, and the total light transmittance and the straight transmittance at g-line were 60% and 70%, respectively.

【０１１０】得られたパターン断面形状は、高さ２００
μｍ、半値幅５０μｍであり、高アスペクト比の隔壁パ
ターンが得られた。焼成後に得られた隔壁について観察
を行ったところ、高さ１４０μｍ、半値幅３５μｍであ
った。The obtained pattern cross section has a height of 200
μm, the half width was 50 μm, and a partition pattern having a high aspect ratio was obtained. Observation of the partition walls obtained after the baking revealed a height of 140 μm and a half width of 35 μm.

【０１１１】（実施例３）実施例１と同じ組成のガラス
を用い、ガラス粉末の粒子サイズとして、平均粒子径
（Ｄ５０）３．９μｍ、Ｄ１０が１．０μｍ、Ｄ９０が
１２．２μｍ、最大粒子径３０μｍ、比表面積は、１．
４０ｍ²／ｇの粉末を用いた。それ以外は、実施例２と
同様に行った。Example 3 Using glass having the same composition as in Example 1, the average particle size (D50) of 3.9 μm, D10 of 1.0 μm, D90 of 12.2 μm, and maximum particle size of the glass powder were as follows. The diameter is 30 μm and the specific surface area is 1.
40 m ² / g powder was used. Other than that, it carried out similarly to Example 2.

【０１１２】ｇ線での全光線透過率および直進透過率
は、それぞれ６５％と７２％であった。また、得られた
パターン断面形状は、高さ２００μｍ、半値幅４２μｍ
であり、高アスペクト比の隔壁パターンが得られた。さ
らに、５６５℃で１５分間、焼成後に得られた隔壁につ
いて観察を行ったところ、断面は台形形状で、高さ１３
０μｍ、半値幅３０μｍの隔壁であった。The total light transmittance and the straight light transmittance at the g-line were 65% and 72%, respectively. The obtained pattern cross-section has a height of 200 μm and a half width of 42 μm.
And a partition pattern with a high aspect ratio was obtained. Further, when the partition walls obtained after firing at 565 ° C. for 15 minutes were observed, the cross section was trapezoidal and the height was 13
The partition walls had a thickness of 0 μm and a half width of 30 μm.

【０１１３】（実施例４）実施例１と同じガラス粉末を
用い、塗布厚み１８０μｍ、有機成分の組成を、感光性
ポリマ（Ｘ−４００７）１５重量部、感光性モノマ（Ｍ
ＧＰ４００）１５重量部を混合したペーストに、光重合
開始剤（ＩＣ−３６９）７．２重量部、重合禁止剤（Ｈ
ＱＭＥ）０．５重量部、分散剤（ノプコスパース０９
２，サンノプコ社製）０．５重量部、および紫外線吸収
剤１．７重量部にした以外は、実施例１と同様に行なっ
た。紫外線吸収剤としては、１，２，３−ベンゾトリア
ゾールを１．２重量部とＵｖｉｎｕｌ３０３９（ＢＡＳ
Ｆジャパン社製）０．５重量部を用いた。また、ペース
トの粘度を調整する有機溶媒としてはγ−ブチロラクト
ンを用いた。Example 4 The same glass powder as in Example 1 was used, the coating thickness was 180 μm, and the composition of the organic component was changed to 15 parts by weight of a photosensitive polymer (X-4007) and a photosensitive monomer (M).
GP400) (15 parts by weight), 7.2 parts by weight of a photopolymerization initiator (IC-369), and a polymerization inhibitor (H).
QME) 0.5 parts by weight, dispersant (NOPCOSPARSE 09)
2, Sannopco) and the same procedure as in Example 1 except that 0.5 parts by weight and 1.7 parts by weight of the ultraviolet absorber were used. As an ultraviolet absorber, 1.2 parts by weight of 1,2,3-benzotriazole and Uvinul 3039 (BAS
0.5 parts by weight (F Japan Co., Ltd.). Γ-butyrolactone was used as an organic solvent for adjusting the viscosity of the paste.

【０１１４】ｇ線での全光線透過率および直進透過率を
測定したところ、それぞれ７０％と８２％であった。得
られたパターン断面形状は、高さ１８０μｍ、半値幅３
６μｍであり、高アスペクト比の隔壁パターンが得られ
た。さらに、５６５℃で１５分間、焼成後に得られた隔
壁について観察を行ったところ、断面は矩形形状で、高
さ１２５μｍ、半値幅２５μｍの隔壁であった。When the total light transmittance and the straight light transmittance at the g-line were measured, they were 70% and 82%, respectively. The obtained pattern cross-section has a height of 180 μm and a half width of 3
6 μm, a partition pattern having a high aspect ratio was obtained. Further, when the partition walls obtained after firing at 565 ° C. for 15 minutes were observed, the partition walls were rectangular in shape, and had a height of 125 μm and a half-value width of 25 μm.

【０１１５】（実施例５）実施例１のガラス粉末を用い
てガラス−フィラー複合粉末を作製した。フィラーとし
て、酸化珪素３８．２％、酸化ホウ素９．２％、酸化バ
リウム５．１％、酸化カルシウム４．４％、酸化アルミ
ニウム３４．５％、酸化チタン２．１％、酸化マグネシ
ウム４．８％からなり、ガラス転移点６５２℃、軟化点
７４６℃の高融点ガラスを用いた。この高融点ガラスの
平均粒子径は２．５μｍ、最大粒子径は１０．０μｍで
あり、屈折率は１．５８であった。複合粉末として、ガ
ラス粉末７０重量％とフィラー成分の高融点ガラス３０
重量％の割合に調合した。Example 5 Using the glass powder of Example 1, a glass-filler composite powder was produced. As a filler, 38.2% of silicon oxide, 9.2% of boron oxide, 5.1% of barium oxide, 4.4% of calcium oxide, 34.5% of aluminum oxide, 2.1% of titanium oxide, and 4.8 of magnesium oxide %, And a high melting point glass having a glass transition point of 652 ° C. and a softening point of 746 ° C. was used. The average particle size of this high melting point glass was 2.5 μm, the maximum particle size was 10.0 μm, and the refractive index was 1.58. As a composite powder, 70% by weight of glass powder and high melting point glass 30 of filler component
% By weight.

【０１１６】次に、複合粉末に対して０．１５％のアゾ
系染料スダンIVをアセトンに溶解し、分散剤を加えてホ
モジナイザーで均質に撹拌し、この溶液に複合粉末を添
加して均質に分散・混合後、ロータリーエバポレーター
を用いて１５０〜２００℃の温度で乾燥し、アセトンを
蒸発させた。Next, 0.15% of the azo dye Sudan IV with respect to the composite powder was dissolved in acetone, a dispersant was added thereto, and the mixture was stirred homogeneously with a homogenizer. After the dispersion and mixing, the mixture was dried at a temperature of 150 to 200 ° C. using a rotary evaporator to evaporate acetone.

【０１１７】一方、溶媒（γ−ブチロラクトン）中の感
光性ポリマ（Ｘ−４００７）を４０％溶液になるように
混合し、撹拌しながら６０℃まで加熱し全てのポリマを
均質に溶解した。次いで、溶液を室温まで冷却し、この
ポリマ溶液５５％に、感光性モノマ（ＭＧＰ４００）２
５％、光重合開始剤（ＩＣ−３６９）６％、安定剤
（１，２，３−ベンゾトリアゾール）４％、および重合
禁止剤（ＨＱＭＥ）０．１４％を加えて溶解させた。そ
の後、この溶液を４００メッシュのフィルターを用いて
濾過し、有機ビヒクルを作製した。On the other hand, the photosensitive polymer (X-4007) in the solvent (γ-butyrolactone) was mixed so as to form a 40% solution, and heated to 60 ° C. with stirring to dissolve all the polymers homogeneously. Next, the solution was cooled to room temperature, and a photosensitive monomer (MGP400) 2 was added to 55% of the polymer solution.
5%, a photopolymerization initiator (IC-369) 6%, a stabilizer (1,2,3-benzotriazole) 4%, and a polymerization inhibitor (HQME) 0.14% were added and dissolved. Thereafter, this solution was filtered using a 400-mesh filter to produce an organic vehicle.

【０１１８】得られた有機ビヒクル６５重量部に対し
て、上記のガラス粉末およびフィラーを含有する複合粉
末７０重量部を３本ローラで混合・分散して、感光性ペ
ーストを調製した。A photosensitive paste was prepared by mixing and dispersing 70 parts by weight of the above-mentioned glass powder and the composite powder containing filler with three rollers with respect to 65 parts by weight of the obtained organic vehicle.

【０１１９】次に、実施例１と同様にして、ｇ線波長領
域での全光線透過率、直進透過率を測定したところ、そ
れぞれ５５％、５４％であった。実施例２に従って、隔
壁パターンを形成したところ、パターン断面形状は、高
さ１８０μｍ、半値幅４０μｍであり高アスペクト比の
隔壁パターンが得られた。次に、５７５℃で１５分間、
焼成後に得られた隔壁の断面形状は、高さ１３５μｍ、
半値幅３０μｍであった。その断面形状は下部に向かっ
て広がった台形形状であった。Next, in the same manner as in Example 1, the total light transmittance and the straight light transmittance in the g-line wavelength region were measured, and were 55% and 54%, respectively. When a partition wall pattern was formed according to Example 2, the partition wall pattern had a height of 180 μm, a half width of 40 μm, and a high aspect ratio. Next, at 575 ° C. for 15 minutes,
The cross-sectional shape of the partition wall obtained after firing has a height of 135 μm,
The half width was 30 μm. Its cross-sectional shape was a trapezoidal shape that expanded toward the bottom.

【０１２０】（実施例６）実施例１のガラス粉末を使用
して、フィラーとしてコーディエライト粉末を用いた。
コーディエライト粉末の平均粒子径Ｄ５０は２．３μ
ｍ、Ｄ１０が１μｍ、Ｄ９０が５．０μｍで、最大粒子
径は１２μｍで、屈折率は１．５６であった。複合粉末
として、ガラス粉末８０％とフィラー成分２０％の割合
に調合した。次に、実施例４と同じようにして感光性ペ
ーストを作製し、全光線透過率、直進透過率を測定した
ところ、それぞれ６０％、７５％であった。パターン断
面形状は、高さ１８０μｍ、半値幅４０μｍであり高ア
スペクト比の隔壁パターンが得られた。また、５７５℃
で２０分間、焼成後に得られた隔壁の断面形状は、高さ
１２８μｍ、半値幅３０μｍであった。その断面は均一
な台形形状であった。(Example 6) The glass powder of Example 1 was used, and cordierite powder was used as a filler.
The average particle diameter D50 of cordierite powder is 2.3μ.
m, D10 were 1 μm, D90 was 5.0 μm, the maximum particle diameter was 12 μm, and the refractive index was 1.56. As a composite powder, the mixture was prepared to have a ratio of glass powder of 80% and a filler component of 20%. Next, a photosensitive paste was prepared in the same manner as in Example 4, and the total light transmittance and the straight light transmittance were measured. The results were 60% and 75%, respectively. The pattern cross-sectional shape was 180 μm in height and 40 μm in half width, and a partition pattern with a high aspect ratio was obtained. 575 ° C
The cross-sectional shape of the partition wall obtained after baking for 20 minutes was 128 μm in height and 30 μm in half width. Its cross section was a uniform trapezoidal shape.

【０１２１】（実施例７）ガラス組成として、酸化リチ
ウム６．７％、酸化珪素２２％、酸化ホウ素３２％、酸
化バリウム３．９％、酸化アルミニウム１９％、酸化亜
鉛５．５％、酸化マグネシウム５．５％、酸化カルシウ
ム４．１％のガラス粉末を使用した。このガラス粉末
は、平均屈折率１．５８、ガラス転移点４９７℃、軟化
点５３０℃、平均粒子径Ｄ５０は２．２μｍ、Ｄ１０が
０．８μｍ、Ｄ９０が６．８μｍおよび最大粒子径２２
μｍで、比表面積は２．１３ｍ²／ｇであった。(Example 7) As glass compositions, 6.7% of lithium oxide, 22% of silicon oxide, 32% of boron oxide, 3.9% of barium oxide, 19% of aluminum oxide, 5.5% of zinc oxide, magnesium oxide A glass powder of 5.5% and 4.1% of calcium oxide was used. This glass powder has an average refractive index of 1.58, a glass transition point of 497 ° C., a softening point of 530 ° C., an average particle size D50 of 2.2 μm, D10 of 0.8 μm, D90 of 6.8 μm and a maximum particle size of 22.
In μm, the specific surface area was 2.13 m ² / g.

【０１２２】次に、ガラス粉末を変更した以外は実施例
２と同様に行なった。次に、ｇ線での全光線透過率およ
び直進透過率は、それぞれ５５％と６０％であった。Next, the same procedure as in Example 2 was carried out except that the glass powder was changed. Next, the total light transmittance and the straight transmissivity at the g-line were 55% and 60%, respectively.

【０１２３】得られたパターン断面形状は、高さ１９５
μｍ、半値幅４５μｍであり、高アスペクト比の隔壁パ
ターンが得られた。焼成後に得られた隔壁について観察
を行ったところ、高さ１３３μｍ、半値幅３１μｍの矩
形断面の良好なパターン形状が得られた。The cross-sectional shape of the obtained pattern was 195 in height.
μm and a half-value width of 45 μm, and a partition pattern having a high aspect ratio was obtained. Observation was performed on the partition walls obtained after the firing, and a favorable pattern shape of a rectangular cross section having a height of 133 μm and a half width of 31 μm was obtained.

【０１２４】（比較例１）実施例１と同じ組成のガラス
微粒子を用い、光吸収剤の量を０．２０％とした。ガラ
ス微粒子の配合量を８５重量部とし、それに組み合わせ
る有機成分１５重量部としては次の組成を有するものを
用いた。感光性ポリマ（Ｘ−４００７）：２０％、感光
性モノマ（ＴＭＰＴＡ）：１４％、光重合開始剤（ＩＣ
−９０６）：４．０％、増感剤（ＤＥＴＸ−Ｓ）：４．
３％、増感助剤（ＥＰＡ）：０．５％、溶媒（γ−ブチ
ロラクトン）５７％。この有機成分の乾燥膜の平均屈折
率は１．５５であった。Comparative Example 1 Glass fine particles having the same composition as in Example 1 were used, and the amount of the light absorber was set to 0.20%. The blending amount of the glass fine particles was 85 parts by weight, and the organic component having the following composition was used as 15 parts by weight of the organic component to be combined therewith. Photosensitive polymer (X-4007): 20%, Photosensitive monomer (TMPTA): 14%, Photopolymerization initiator (IC
-906): 4.0%, sensitizer (DETX-S): 4.
3%, sensitizing aid (EPA): 0.5%, solvent (γ-butyrolactone) 57%. The average refractive index of the dried film of the organic component was 1.55.

【０１２５】このような配合を有する感光性ペーストの
光線透過率はｇ線において、全光線透過率が４５％、直
進透過率は１５％以下であった。The light transmittance of the photosensitive paste having such a composition was such that the total light transmittance was 45% and the straight transmissivity was 15% or less at g-line.

【０１２６】得られたパターンの形状を電子顕微鏡で観
察したところ、パターンの側面に膨らみが生じている。
パターン下部の重合硬化が不十分なため、下部のサイド
が削り取られたような形状を示している。When the shape of the obtained pattern was observed with an electron microscope, swelling occurred on the side surface of the pattern.
Since the lower part of the pattern is insufficiently polymerized and cured, the lower side is shaped like a scraped-off part.

【０１２７】（比較例２）実施例１と同じ組成のガラス
を用い、ガラス粉末の粒子サイズとして、平均粒子径Ｄ
５０が７．１μｍ、Ｄ１０が１．３μｍ、Ｄ９０が１
６．５μｍ、最大粒子径３５μｍ、比表面積０．８６ｍ
²／ｇのガラス粉末を用いた以外は実施例１と同様に行
った。ｇ線波長における全光線透過率は４０％で、直進
透過率も３０％であった。また、得られたパターン断面
形状は、中央部に太りが認められ、下部がえぐられた形
状となった。Comparative Example 2 A glass having the same composition as in Example 1 was used.
50 is 7.1 μm, D10 is 1.3 μm, D90 is 1
6.5 μm, maximum particle diameter 35 μm, specific surface area 0.86 m
^The procedure was performed in the same manner as in Example 1 except that ² / g of glass powder was used. The total light transmittance at the g-line wavelength was 40%, and the straight transmittance was 30%. Further, in the obtained pattern cross-sectional shape, a thick portion was recognized in the center portion, and the lower portion was hollowed out.

【０１２８】（比較例３）実施例１と同じ組成のガラス
を用い、ガラス粉末の粒子サイズとして、平均粒子径Ｄ
５０が０．９μｍ、Ｄ１０が０．４μｍ、Ｄ９０が２．
１μｍ、最大粒子径５．５μｍ、比表面積２．５６ｍ²
／ｇのガラス粉末を用いた以外は実施例２と同様に行っ
た。ｇ線波長における全光線透過率は１０％で、直進透
過率も１２％であった。また、隔壁パターンを形成する
ため露光・現像条件を検討したが、隔壁の下部まで光が
到達できず、隔壁パターンは形成できなかった。Comparative Example 3 A glass having the same composition as in Example 1 was used.
50 is 0.9 μm, D10 is 0.4 μm, and D90 is 2.
1 μm, maximum particle size 5.5 μm, specific surface area 2.56 m ²
/ G glass powder was used in the same manner as in Example 2. The total light transmittance at the g-line wavelength was 10%, and the straight traveling transmittance was 12%. Exposure and development conditions were examined to form a partition pattern. However, light could not reach the lower part of the partition, and the partition pattern could not be formed.

【０１２９】なお、上記で使用した略記号はそれぞれ次
のものを意味する。The abbreviations used above mean the following, respectively.

【０１３０】Ｘ−４００７：４０％メタアクリル酸、３
０％メチルメタアクリレート、３０％スチレンからなる
共重合体のカルボキシル基に対して０．４当量のグリシ
ジルメタアクリレートを付加重合させた重量平均分子量
４３，０００、酸価９５の感光性ポリマー ＧＸ：X-4007: 40% methacrylic acid, 3
Photosensitive polymer having a weight average molecular weight of 43,000 and an acid value of 95 obtained by addition-polymerizing 0.4 equivalent of glycidyl methacrylate to a carboxyl group of a copolymer composed of 0% methyl methacrylate and 30% styrene GX:

【化１】 ＴＭＰＴＡ： トリメチロールプロパントリアクリレート ＭＧＰ４００：X₂N-CH(CH₃)-CH₂-(OCH₂CH(CH₃))n-NＸ₂ ここでX=-CH₂CH(OH)-CH₂O-CO-C(CH₃)=CH₂ n=２〜10 ＩＣ−３６９：Irgacure 369（チバガイギー社製品） ２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフ
ォリノフェニル）ブタノン−１ ＩＣ−９０７：２−メチル−１−［４−（メチルチオ）
フェニル］−２−モルフォリノプロパノン ＨＱＭＥ：ハイドロキノンモノメチルエーテル ＤＥＴＸ−Ｓ： ２，４−ジエチルチオキサントン ＥＰＡ： ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステルEmbedded image TMPTA: trimethylol propane triacrylate _{MGP400: X 2 N-CH (} CH 3) -CH 2 - (OCH 2 CH (CH 3)) n-NX 2 wherein _{X = -CH 2 CH (OH)} -CH 2 O -CO-C (CH ₃ ) = CH ₂ n = 2-10 IC-369: Irgacure 369 (product of Ciba-Geigy) 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone-1 IC- 907: 2-methyl-1- [4- (methylthio)
Phenyl] -2-morpholinopropanone HQME: hydroquinone monomethyl ether DETX-S: 2,4-diethylthioxanthone EPA: ethyl p-dimethylaminobenzoate

【０１３１】[0131]

【発明の効果】本発明の感光性ペーストによって、高ア
スペクト比かつ高精度のパターン加工が可能になると共
にパターン形状が良好となり、焼成後に形成される隔壁
をより優れたものにすることができる。これによって、
ディスプレイや回路材料などの厚膜で高精度のパターン
加工が可能になり、精細性の向上および工程の簡略化が
可能になる。特に、簡便かつ高精度のプラズマディスプ
レイパネルの隔壁を形成することができる。According to the photosensitive paste of the present invention, a high-aspect-ratio and high-precision pattern processing can be performed, the pattern shape can be improved, and the partition formed after firing can be made more excellent. by this,
High-precision pattern processing can be performed with a thick film such as a display or circuit material, so that the definition can be improved and the process can be simplified. In particular, a simple and highly accurate partition wall of a plasma display panel can be formed.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０９Ｄ 201/02 Ｃ０９Ｄ 201/02 201/08 201/08 Ｇ０２Ｆ 1/1343 Ｇ０２Ｆ 1/1343 Ｇ０３Ｆ 7/027 Ｇ０３Ｆ 7/027 Ｈ０１Ｊ 9/02 Ｈ０１Ｊ 9/02 Ｆ 17/04 17/04 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on front page (51) Int.Cl. ⁶ Identification code FI C09D 201/02 C09D 201/02 201/08 201/08 G02F 1/1343 G02F 1/1343 G03F 7/027 G03F 7/027 H01J 9 / 02 H01J 9/02 F 17/04 17/04

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 無機微粒子と感光性化合物を含む有機成
分を必須成分とする感光性ペーストであって、塗布膜厚
５０μｍで測定した場合のｇ線波長領域での全光線透過
率が５０％以上であることを特徴とする感光性ペース
ト。1. A photosensitive paste containing, as an essential component, an organic component containing inorganic fine particles and a photosensitive compound, and has a total light transmittance of 50% or more in the g-line wavelength region when measured at a coating film thickness of 50 μm. A photosensitive paste, characterized in that: 【請求項２】 塗布膜厚５０μｍで測定した場合のｇ線
波長領域での該全光線透過率が６０％以上であることを
特徴とする請求項１記載の感光性ペースト。2. The photosensitive paste according to claim 1, wherein the total light transmittance in a g-ray wavelength region is 60% or more when measured at a coating film thickness of 50 μm. 【請求項３】 無機微粒子と感光性化合物を含む有機成
分を必須成分とする感光性ペーストであって、塗布膜厚
５０μｍで測定した場合のｇ線波長領域での直進透過率
が５０％以上であることを特徴とする感光性ペースト。3. A photosensitive paste containing an organic component containing inorganic fine particles and a photosensitive compound as an essential component, and having a linear transmissivity of 50% or more in a g-line wavelength region when measured at a coating film thickness of 50 μm. A photosensitive paste, comprising: 【請求項４】 塗布膜厚５０μｍで測定した場合のｇ線
波長領域での該直進透過率が７０％以上であることを特
徴とする請求項３記載の感光性ペースト。4. The photosensitive paste according to claim 3, wherein the linear transmissivity in the g-line wavelength region when measured at a coating film thickness of 50 μm is 70% or more. 【請求項５】 前記無機微粒子６０〜９０重量部と該有
機成分１０〜４０重量部を必須成分として含有すること
を特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の感光性ペ
ースト。5. The photosensitive paste according to claim 1, wherein said photosensitive paste contains 60 to 90 parts by weight of said inorganic fine particles and 10 to 40 parts by weight of said organic component as essential components. 【請求項６】 前記無機微粒子が、ガラス微粒子である
ことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の感光
性ペースト。6. The photosensitive paste according to claim 1, wherein the inorganic fine particles are glass fine particles. 【請求項７】 前記ガラス微粒子として、ガラス転移温
度が４００〜５００℃、軟化点が４５０〜５５０℃、平
均粒子径が１〜６μｍの範囲のガラス微粒子を用いるこ
とを特徴とする請求項６記載の感光性ペースト。7. The glass fine particles having a glass transition temperature of 400 to 500 ° C., a softening point of 450 to 550 ° C., and an average particle diameter of 1 to 6 μm. Photosensitive paste. 【請求項８】 前記ガラス微粒子として、平均屈折率が
１．５５〜１．８の範囲のガラス微粒子を用いることを
特徴とする請求項６または請求項７記載の感光性ペース
ト。8. The photosensitive paste according to claim 6, wherein glass fine particles having an average refractive index in the range of 1.55 to 1.8 are used as the glass fine particles. 【請求項９】 前記有機成分中に、分子内にカルボキシ
ル基を含有する重量平均分子量５００〜１０万のオリゴ
マもしくはポリマを１０〜９０重量％含むことを特徴と
する請求項１〜５のいずれかに記載の感光性ペースト。9. The organic component according to claim 1, wherein an oligomer or a polymer having a carboxyl group in the molecule and having a weight average molecular weight of 500 to 100,000 is contained in an amount of 10 to 90% by weight. 3. The photosensitive paste according to item 1. 【請求項１０】 前記有機成分中に、分子内に不飽和２
重結合を含有する重量平均分子量５００〜１０万のオリ
ゴマもしくはポリマを１０〜９０重量％含むことを特徴
とする請求項１〜５のいずれかに記載の感光性ペース
ト。10. The organic component, wherein unsaturated 2 is contained in the molecule.
The photosensitive paste according to any one of claims 1 to 5, comprising an oligomer or a polymer having a weight average molecular weight of 500 to 100,000 containing a heavy bond in an amount of 10 to 90% by weight. 【請求項１１】 前記有機成分中に、分子内にカルボキ
シル基と不飽和２重結合を含有する重量平均分子量５０
０〜１０万のオリゴマもしくはポリマを１０〜９０重量
％含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載
の感光性ペースト。11. The organic component has a weight average molecular weight of 50 containing a carboxyl group and an unsaturated double bond in the molecule.
The photosensitive paste according to any one of claims 1 to 5, comprising 10 to 90% by weight of the oligomer or polymer of 0 to 100,000. 【請求項１２】 前記有機成分中に、有機染料０．０５
〜２重量％を含有することを特徴とする請求項１〜１１
のいずれかに記載の感光性ペースト。12. An organic dye having an organic dye content of 0.05.
12. The composition according to claim 1, wherein the content is about 2% by weight.
A photosensitive paste according to any one of the above. 【請求項１３】 プラズマディスプレイやプラズマアド
レス液晶ディスプレイにおけるパターン形成に用いるこ
とを特徴とする請求項１〜１２のいずれかに記載の感光
性ペースト。13. The photosensitive paste according to claim 1, which is used for pattern formation in a plasma display or a plasma addressed liquid crystal display. 【請求項１４】 プラズマディスプレイやプラズマアド
レス液晶ディスプレイにおける隔壁の形成に用いること
を特徴とする請求項１〜１３のいずれかに記載の感光性
ペースト。14. The photosensitive paste according to claim 1, which is used for forming a partition in a plasma display or a plasma addressed liquid crystal display.