JP2002082067A - 基板検査装置 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】被検査基板に対し精度の高い欠陥検査を効率よ
く行なう。 【解決手段】被検査基板上の欠陥部の位置座標を検出す
る位置座標検出手段は、前記被検査基板の側縁に沿って
二方向へ設けられた二組のガイドレール（７０３１，７
０３２，７０４）と、一方向に設けられた一組のガイド
レール（７０４）に沿って移動可能に設けられこの一方
向と直交する方向に光を射出する光源（７０７）と、前
記被検査基板を跨ぐ状態で他方向に設けられた一組のガ
イドレール（７０３１，７０３２）に沿って移動可能に
設けられ、前記光源から射出された光が投射される投射
部材（７４３）と、前記光源から射出された光線と前記
投射部材を前記欠陥部上に位置せしめ、前記各組のガイ
ドレールにおける前記光源及び前記投射部材の位置を基
に前記欠陥部の位置座標を検出する検出部とを備える。
く行なう。 【解決手段】被検査基板上の欠陥部の位置座標を検出す
る位置座標検出手段は、前記被検査基板の側縁に沿って
二方向へ設けられた二組のガイドレール（７０３１，７
０３２，７０４）と、一方向に設けられた一組のガイド
レール（７０４）に沿って移動可能に設けられこの一方
向と直交する方向に光を射出する光源（７０７）と、前
記被検査基板を跨ぐ状態で他方向に設けられた一組のガ
イドレール（７０３１，７０３２）に沿って移動可能に
設けられ、前記光源から射出された光が投射される投射
部材（７４３）と、前記光源から射出された光線と前記
投射部材を前記欠陥部上に位置せしめ、前記各組のガイ
ドレールにおける前記光源及び前記投射部材の位置を基
に前記欠陥部の位置座標を検出する検出部とを備える。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、液晶ディ
スプレイ（ＬＣＤ）のガラス基板などの欠陥検査に用い
られる基板検査装置に関する。
スプレイ（ＬＣＤ）のガラス基板などの欠陥検査に用い
られる基板検査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ＬＣＤに用いられるガラス基板の
欠陥を検査する装置には、ガラス基板表面に照明光を当
て、その反射光の光学的変化から前記ガラス基板の表面
の傷などの欠陥部分を観察するマクロ観察と、このマク
ロ観察で検出された欠陥部分を拡大して観察するミクロ
観察とを切り替えて行なうことを可能にしたものがあ
る。
欠陥を検査する装置には、ガラス基板表面に照明光を当
て、その反射光の光学的変化から前記ガラス基板の表面
の傷などの欠陥部分を観察するマクロ観察と、このマク
ロ観察で検出された欠陥部分を拡大して観察するミクロ
観察とを切り替えて行なうことを可能にしたものがあ
る。
【０００３】例えば、特開平５−３２２７８３号公報に
は、Ｘ、Ｙ方向に水平移動可能にしたＸ−Ｙステージに
対応させてマクロ観察系とミクロ観察系を設け、前記Ｘ
−Ｙステージ上に被検査基板を載置した状態から、前記
Ｘ−ＹステージをＸ、Ｙ方向の２次元方向に移動して被
検査基板の検査部位をマクロ観察系またはミクロ観察系
の観察領域に位置させることで、前記被検査基板の表面
の欠陥部分に対するマクロ観察またはミクロ観察を可能
にした装置が開示されている。
は、Ｘ、Ｙ方向に水平移動可能にしたＸ−Ｙステージに
対応させてマクロ観察系とミクロ観察系を設け、前記Ｘ
−Ｙステージ上に被検査基板を載置した状態から、前記
Ｘ−ＹステージをＸ、Ｙ方向の２次元方向に移動して被
検査基板の検査部位をマクロ観察系またはミクロ観察系
の観察領域に位置させることで、前記被検査基板の表面
の欠陥部分に対するマクロ観察またはミクロ観察を可能
にした装置が開示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、最近、ＬＣ
Ｄの大型化にともないガラス基板のサイズは、ますます
大型化の傾向にある。このため、このような大型サイズ
のガラス基板の欠陥検査において、上述したようなＸ−
ＹステージをＸ、Ｙ方向の２次元方向に水平移動するよ
うにした装置では、前記Ｘ−Ｙステージの移動範囲とし
てガラス基板の面積の４倍もの範囲が必要となり、ガラ
ス基板サイズの大型化とともに、装置の大型化を免れな
い。
Ｄの大型化にともないガラス基板のサイズは、ますます
大型化の傾向にある。このため、このような大型サイズ
のガラス基板の欠陥検査において、上述したようなＸ−
ＹステージをＸ、Ｙ方向の２次元方向に水平移動するよ
うにした装置では、前記Ｘ−Ｙステージの移動範囲とし
てガラス基板の面積の４倍もの範囲が必要となり、ガラ
ス基板サイズの大型化とともに、装置の大型化を免れな
い。
【０００５】また、このように構成した装置では、被検
査基板の表面が検査者の目の位置から遠く離れるため、
微小な傷に対する検査が困難である。さらに、検出され
た被検査基板表面の欠陥部の位置情報などを取得するこ
とも難しいことなどから、精度の高い欠陥検査を行なう
ことができないという問題がある。
査基板の表面が検査者の目の位置から遠く離れるため、
微小な傷に対する検査が困難である。さらに、検出され
た被検査基板表面の欠陥部の位置情報などを取得するこ
とも難しいことなどから、精度の高い欠陥検査を行なう
ことができないという問題がある。
【０００６】本発明の目的は、小型化を実現できるとと
もに、被検査基板に対し精度の高い欠陥検査を効率よく
行なうことができる基板検査装置を提供することにあ
る。
もに、被検査基板に対し精度の高い欠陥検査を効率よく
行なうことができる基板検査装置を提供することにあ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決し目的を
達成するために、本発明の基板検査装置は以下の如く構
成されている。
達成するために、本発明の基板検査装置は以下の如く構
成されている。
【０００８】（１）本発明の基板検査装置は、被検査基
板を保持する矩形状の基板保持手段と、この基板保持手
段を所定角度まで立ち上げる駆動手段と、前記基板保持
手段に、前記被検査基板の側縁の少なくとも直交する２
方向に沿って設けられ、前記被検査基板上の欠陥部の位
置座標を検出する位置座標検出手段と、ミクロ観察系を
支持し、前記被検査基板の面上を移動するよう設けられ
た観察系支持手段と、前記位置座標検出手段により検出
された欠陥部の位置座標に基づいて、前記観察系支持手
段のミクロ観察系を前記被検査基板上の対応する欠陥部
上に位置するよう移動制御する制御手段と、から構成さ
れ、前記位置座標検出手段は、前記被検査基板の側縁に
沿って二方向へ設けられた二組のガイドレールと、前記
二方向のうち一方向に設けられた一組のガイドレールに
沿って移動可能に設けられ、この一方向と直交する方向
に光を射出する光源と、前記被検査基板を跨ぐ状態で前
記二方向のうち他方向に設けられた一組のガイドレール
に沿って移動可能に設けられ、前記光源から射出された
光が投射される投射部材と、前記光源から射出された光
線と前記投射部材を前記欠陥部上に位置せしめ、前記各
組のガイドレールにおける前記光源及び前記投射部材の
位置を基に前記欠陥部の位置座標を検出する検出部と、
を備えている。
板を保持する矩形状の基板保持手段と、この基板保持手
段を所定角度まで立ち上げる駆動手段と、前記基板保持
手段に、前記被検査基板の側縁の少なくとも直交する２
方向に沿って設けられ、前記被検査基板上の欠陥部の位
置座標を検出する位置座標検出手段と、ミクロ観察系を
支持し、前記被検査基板の面上を移動するよう設けられ
た観察系支持手段と、前記位置座標検出手段により検出
された欠陥部の位置座標に基づいて、前記観察系支持手
段のミクロ観察系を前記被検査基板上の対応する欠陥部
上に位置するよう移動制御する制御手段と、から構成さ
れ、前記位置座標検出手段は、前記被検査基板の側縁に
沿って二方向へ設けられた二組のガイドレールと、前記
二方向のうち一方向に設けられた一組のガイドレールに
沿って移動可能に設けられ、この一方向と直交する方向
に光を射出する光源と、前記被検査基板を跨ぐ状態で前
記二方向のうち他方向に設けられた一組のガイドレール
に沿って移動可能に設けられ、前記光源から射出された
光が投射される投射部材と、前記光源から射出された光
線と前記投射部材を前記欠陥部上に位置せしめ、前記各
組のガイドレールにおける前記光源及び前記投射部材の
位置を基に前記欠陥部の位置座標を検出する検出部と、
を備えている。
【０００９】（２）本発明の基板検査装置は上記（１）
に記載の装置であり、かつ前記投射部材を前記一組のガ
イドレールに沿って電動力にて移動する二つの移動手段
を備え、前記二つの移動手段の一つはモーターを備え、
前記各移動手段は、前記モーターの駆動により動作され
る二つのプーリーとベルトからなり、さらに、前記各移
動手段の一つのプーリ同士を連結する連結軸を備えてい
る。
に記載の装置であり、かつ前記投射部材を前記一組のガ
イドレールに沿って電動力にて移動する二つの移動手段
を備え、前記二つの移動手段の一つはモーターを備え、
前記各移動手段は、前記モーターの駆動により動作され
る二つのプーリーとベルトからなり、さらに、前記各移
動手段の一つのプーリ同士を連結する連結軸を備えてい
る。
【００１０】（３）本発明の基板検査装置は上記（１）
または（２）に記載の装置であり、かつ前記投射部材を
前記被検査基板上から退避させる退避機構を備えてい
る。
または（２）に記載の装置であり、かつ前記投射部材を
前記被検査基板上から退避させる退避機構を備えてい
る。
【００１１】上記手段を講じた結果、それぞれ以下のよ
うな作用を奏する。
うな作用を奏する。
【００１２】（１）本発明の基板検査装置によれば、検
査者は目に近い位置で被検査基板のマクロ検査を行なう
ことができるので、楽な姿勢で欠陥検査を行なうことが
でき、基板保持手段がどのような角度に立ち上げられて
も、基板保持手段と一体になって位置座標検出手段を立
ち上げられることになるため、被検査基板をどのような
角度に傾斜しても、常に欠陥位置を正確に検知すること
ができる。特に大型の被検査基板を検査する場合、光と
投射部材を欠陥部に一致させることで、検査者から遠く
離れた欠陥部に対しても容易に位置情報を取り出すこと
ができる。さらに、基板保持手段の面積を被検査基板の
面積とほぼ同じ大きさに止めることができ、基板検査装
置の小型化を実現できるとともに、基板検査装置の設置
面積も大幅に小さくすることができる。
査者は目に近い位置で被検査基板のマクロ検査を行なう
ことができるので、楽な姿勢で欠陥検査を行なうことが
でき、基板保持手段がどのような角度に立ち上げられて
も、基板保持手段と一体になって位置座標検出手段を立
ち上げられることになるため、被検査基板をどのような
角度に傾斜しても、常に欠陥位置を正確に検知すること
ができる。特に大型の被検査基板を検査する場合、光と
投射部材を欠陥部に一致させることで、検査者から遠く
離れた欠陥部に対しても容易に位置情報を取り出すこと
ができる。さらに、基板保持手段の面積を被検査基板の
面積とほぼ同じ大きさに止めることができ、基板検査装
置の小型化を実現できるとともに、基板検査装置の設置
面積も大幅に小さくすることができる。
【００１３】（２）本発明の基板検査装置によれば、連
結軸を介して連結された二つのプーリーが同方向に回転
し、二つのベルトが同方向に作動するため、二つの移動
手段が同期して同方向へ移動し、投射部材は常に平行な
状態を保って移動する。
結軸を介して連結された二つのプーリーが同方向に回転
し、二つのベルトが同方向に作動するため、二つの移動
手段が同期して同方向へ移動し、投射部材は常に平行な
状態を保って移動する。
【００１４】（３）本発明の基板検査装置によれば、ミ
クロ観察の際、投射部材を被検査基板上から退避させる
ことで、ミクロ観察系が投射部材に衝突することがな
い。
クロ観察の際、投射部材を被検査基板上から退避させる
ことで、ミクロ観察系が投射部材に衝突することがな
い。
【００１５】
【発明の実施の形態】図１〜図３は、本発明の実施の形
態に係る基板検査装置の構成を示す図であり、図１は斜
視図、図２は側面図、図３は上面図である。図１〜図３
において、装置本体１上には、被検査基板３を保持する
ホルダ２が設けられている。図２に示すように、ホルダ
２はその基端部が支持軸１５により装置本体１に対し回
動自在に支持され、支持軸１５の周囲にプーリ１６が設
けられている。装置本体１にはモータ１８が備えられて
おり、モータ１８の回転軸１８１とプーリ１６に輪状の
ベルト１７が掛けられている。モータ１８の回転駆動力
を、回転軸１８１からベルト１７を介してプーリ１６に
伝達することで、支持軸１５を軸としてホルダ２を水平
な状態から例えば二点鎖線の位置まで、すなわち所定角
度θまで立ち上げ傾斜させることができる。
態に係る基板検査装置の構成を示す図であり、図１は斜
視図、図２は側面図、図３は上面図である。図１〜図３
において、装置本体１上には、被検査基板３を保持する
ホルダ２が設けられている。図２に示すように、ホルダ
２はその基端部が支持軸１５により装置本体１に対し回
動自在に支持され、支持軸１５の周囲にプーリ１６が設
けられている。装置本体１にはモータ１８が備えられて
おり、モータ１８の回転軸１８１とプーリ１６に輪状の
ベルト１７が掛けられている。モータ１８の回転駆動力
を、回転軸１８１からベルト１７を介してプーリ１６に
伝達することで、支持軸１５を軸としてホルダ２を水平
な状態から例えば二点鎖線の位置まで、すなわち所定角
度θまで立ち上げ傾斜させることができる。
【００１６】また、ホルダ２は枠状をなしており、その
周縁部でＬＣＤに用いられるガラス基板のような大型の
被検査基板３を載置保持する。ホルダ２において、その
周縁部に囲まれた空部は四角形状をなし、前記空部の面
積は被検査基板３の面積よりやや小さい。ホルダ２に
は、その周縁部に沿ってＸ軸方向とＹ軸方向に複数の円
柱状のピンからなる基板位置決め部材２０１がホルダ２
表面からやや突出するよう配置されている。ホルダ２上
で、被検査基板３の二辺を各基板位置決め部材２０１の
側部に接触させることで被検査基板３の位置決めがなさ
れる。また、ホルダ２の周縁部全周に沿って設けられた
図示しない複数の孔（吸着パッド）から、図示しない吸
引器により被検査基板３の周縁部がホルダ２表面に吸着
されることで、被検査基板３がホルダ２上で脱落しない
よう保持される。なお、ホルダ２の詳細な構成について
は後述する。
周縁部でＬＣＤに用いられるガラス基板のような大型の
被検査基板３を載置保持する。ホルダ２において、その
周縁部に囲まれた空部は四角形状をなし、前記空部の面
積は被検査基板３の面積よりやや小さい。ホルダ２に
は、その周縁部に沿ってＸ軸方向とＹ軸方向に複数の円
柱状のピンからなる基板位置決め部材２０１がホルダ２
表面からやや突出するよう配置されている。ホルダ２上
で、被検査基板３の二辺を各基板位置決め部材２０１の
側部に接触させることで被検査基板３の位置決めがなさ
れる。また、ホルダ２の周縁部全周に沿って設けられた
図示しない複数の孔（吸着パッド）から、図示しない吸
引器により被検査基板３の周縁部がホルダ２表面に吸着
されることで、被検査基板３がホルダ２上で脱落しない
よう保持される。なお、ホルダ２の詳細な構成について
は後述する。
【００１７】図１〜図３に示すように、装置本体１上に
はホルダ２の両側縁に沿ってＹ軸方向へ一対のガイドレ
ール４，４が平行に配置されている。また、ホルダ２の
上方には、このホルダ２を跨ぐように門柱型の観察ユニ
ット支持部５が配置されており、この観察ユニット支持
部５はガイドレール４，４に沿って被検査基板３上方す
なわち図１中の実線で示す水平な状態に保持されたホル
ダ２上方をＹ軸方向へ移動可能に設けられている。
はホルダ２の両側縁に沿ってＹ軸方向へ一対のガイドレ
ール４，４が平行に配置されている。また、ホルダ２の
上方には、このホルダ２を跨ぐように門柱型の観察ユニ
ット支持部５が配置されており、この観察ユニット支持
部５はガイドレール４，４に沿って被検査基板３上方す
なわち図１中の実線で示す水平な状態に保持されたホル
ダ２上方をＹ軸方向へ移動可能に設けられている。
【００１８】観察ユニット支持部５には、観察ユニット
６が観察ユニット支持部５の移動方向（Ｙ軸方向）に対
して直交する方向（Ｘ軸方向）へ図示しないガイドレー
ルに沿って移動可能に支持されている。さらに観察ユニ
ット支持部５には、観察ユニット６の移動ラインに対向
するよう透過ライン照明光源７が設けられている。この
透過ライン照明光源７は、ホルダ２下方を通過する支持
部５の裏板５１上にＸ軸方向に沿って配置されており、
被検査基板３の下方から直線状の透過照明を行なうもの
で、観察ユニット支持部５とともにＹ軸方向へ移動可能
になっている。
６が観察ユニット支持部５の移動方向（Ｙ軸方向）に対
して直交する方向（Ｘ軸方向）へ図示しないガイドレー
ルに沿って移動可能に支持されている。さらに観察ユニ
ット支持部５には、観察ユニット６の移動ラインに対向
するよう透過ライン照明光源７が設けられている。この
透過ライン照明光源７は、ホルダ２下方を通過する支持
部５の裏板５１上にＸ軸方向に沿って配置されており、
被検査基板３の下方から直線状の透過照明を行なうもの
で、観察ユニット支持部５とともにＹ軸方向へ移動可能
になっている。
【００１９】観察ユニット６は、指標用照明光源８を設
けたミクロ観察ユニット９とマクロ観察用の部分マクロ
照明光源１０を有している。指標用照明光源８は、被検
査基板３上の欠陥位置を特定するためのもので、光学的
に集光されたスポット光を被検査基板３表面に投光す
る。このスポット光による被検査基板３表面からの反射
光は、部分マクロ照明光源１０による被検査基板３表面
からの反射光より明るいため、部分マクロ照明光源１０
によるマクロ観察中に、スポット光により目視で観察す
ることが可能である。
けたミクロ観察ユニット９とマクロ観察用の部分マクロ
照明光源１０を有している。指標用照明光源８は、被検
査基板３上の欠陥位置を特定するためのもので、光学的
に集光されたスポット光を被検査基板３表面に投光す
る。このスポット光による被検査基板３表面からの反射
光は、部分マクロ照明光源１０による被検査基板３表面
からの反射光より明るいため、部分マクロ照明光源１０
によるマクロ観察中に、スポット光により目視で観察す
ることが可能である。
【００２０】ミクロ観察ユニット９は、対物レンズ９
１、接眼レンズ９２、及び図示しない落射照明光源を有
する顕微鏡機能を備えており、検査者は被検査基板３表
面の像を対物レンズ９１を介して接眼レンズ９２により
観察することができる。またミクロ観察ユニット９に
は、三眼鏡筒を介してＴＶカメラ９３が取り付けられて
いる。なお、目視によるミクロ観察が不要な場合には、
直筒を介してＴＶカメラ９３のみを取り付けることもで
きる。ＴＶカメラ９３は、対物レンズ９１により得られ
る被検査基板３表面の観察像を撮像し、制御部１１へ送
る。制御部１１は、ＴＶカメラ９３で撮像された観察像
をＴＶモニタ１２に表示する。制御部１１には、検査者
が動作指示やデータ入力を行なうための入力部１１１が
接続されている。
１、接眼レンズ９２、及び図示しない落射照明光源を有
する顕微鏡機能を備えており、検査者は被検査基板３表
面の像を対物レンズ９１を介して接眼レンズ９２により
観察することができる。またミクロ観察ユニット９に
は、三眼鏡筒を介してＴＶカメラ９３が取り付けられて
いる。なお、目視によるミクロ観察が不要な場合には、
直筒を介してＴＶカメラ９３のみを取り付けることもで
きる。ＴＶカメラ９３は、対物レンズ９１により得られ
る被検査基板３表面の観察像を撮像し、制御部１１へ送
る。制御部１１は、ＴＶカメラ９３で撮像された観察像
をＴＶモニタ１２に表示する。制御部１１には、検査者
が動作指示やデータ入力を行なうための入力部１１１が
接続されている。
【００２１】部分マクロ照明光源１０は、マクロ観察に
用いられるものであり、水平状態に保持されたホルダ２
上の被検査基板３表面の一部分をマクロ照明光１０１で
照射する。また、被検査基板３表面に対する部分マクロ
照明光源１０の照明角度は、マクロ観察に最適な角度に
調整することができる。
用いられるものであり、水平状態に保持されたホルダ２
上の被検査基板３表面の一部分をマクロ照明光１０１で
照射する。また、被検査基板３表面に対する部分マクロ
照明光源１０の照明角度は、マクロ観察に最適な角度に
調整することができる。
【００２２】図４は、透過ライン照明光源７の構成例を
示す図である。図４に示すように、透過ライン照明光源
７は、光源部７１と中実のガラスロッド７２を有するも
のである。光源部７１から射出され反射板７１２により
乱反射された光がガラスロッド７２の端部に入射され、
ガラスロッド７２中で全反射伝送されるとともに、ガラ
スロッド７２の背部（下部）に沿って塗布加工された白
色縞７３により拡散されることで、ガラスロッド７２の
レンズ作用によりライン状の光が上方へ射出される。こ
の透過ライン照明は、上記の構成に限られるものではな
く、例えば蛍光灯などによるライン照明であってもよ
い。
示す図である。図４に示すように、透過ライン照明光源
７は、光源部７１と中実のガラスロッド７２を有するも
のである。光源部７１から射出され反射板７１２により
乱反射された光がガラスロッド７２の端部に入射され、
ガラスロッド７２中で全反射伝送されるとともに、ガラ
スロッド７２の背部（下部）に沿って塗布加工された白
色縞７３により拡散されることで、ガラスロッド７２の
レンズ作用によりライン状の光が上方へ射出される。こ
の透過ライン照明は、上記の構成に限られるものではな
く、例えば蛍光灯などによるライン照明であってもよ
い。
【００２３】図５は、本基板検査装置におけるホルダ２
の詳細な構成を示す図である。図５において図１と同一
な部分には同一符号を付してある。図５において、ホル
ダ２のＹ軸方向の両側面には、それぞれ保持部材７０１
１，７０１２が取り付けられている。また、ホルダ２の
Ｘ軸方向の一側面には、保持部材７０２が取り付けられ
ている。保持部材７０１１，７０１２，７０２の表面
は、ホルダ２の表面に対して段差を生じるよう下方に位
置している。保持部材７０１１，７０１２には、それぞ
れホルダ２側縁のＹ軸方向に沿うようガイドレール７０
３１，７０３２が設けられている。さらにガイド移動部
７０５１，７０５２が、それぞれガイドレール７０３
１，７０３２を跨ぐよう、ガイドレール７０３１、７０
３２に沿って移動可能に設けられている。また、保持部
材７０２には、ホルダ２側縁のＸ軸方向に沿うようガイ
ドレール７０４が設けられている。さらにガイド移動部
７０６が、ガイドレール７０４を跨ぐよう、ガイドレー
ル７０４に沿って移動可能に設けられている。
の詳細な構成を示す図である。図５において図１と同一
な部分には同一符号を付してある。図５において、ホル
ダ２のＹ軸方向の両側面には、それぞれ保持部材７０１
１，７０１２が取り付けられている。また、ホルダ２の
Ｘ軸方向の一側面には、保持部材７０２が取り付けられ
ている。保持部材７０１１，７０１２，７０２の表面
は、ホルダ２の表面に対して段差を生じるよう下方に位
置している。保持部材７０１１，７０１２には、それぞ
れホルダ２側縁のＹ軸方向に沿うようガイドレール７０
３１，７０３２が設けられている。さらにガイド移動部
７０５１，７０５２が、それぞれガイドレール７０３
１，７０３２を跨ぐよう、ガイドレール７０３１、７０
３２に沿って移動可能に設けられている。また、保持部
材７０２には、ホルダ２側縁のＸ軸方向に沿うようガイ
ドレール７０４が設けられている。さらにガイド移動部
７０６が、ガイドレール７０４を跨ぐよう、ガイドレー
ル７０４に沿って移動可能に設けられている。
【００２４】保持部材７０２の各両端部には、それぞれ
プーリ７０９，７１０が軸支されている。プーリ７０９
とプーリ７１０にはベルト７１２が、輪状に掛けられて
いる。ベルト７１２の一部にはガイド移動部７０６が係
着されている。プーリー７１０には、モーター７１４の
回転軸７１６が嵌挿されている。ホルダ２のＸ軸方向の
一側面には、ガイド移動部７０６の存在を検知するため
の光学的なセンサ７１９，７２０が設けられている。
プーリ７０９，７１０が軸支されている。プーリ７０９
とプーリ７１０にはベルト７１２が、輪状に掛けられて
いる。ベルト７１２の一部にはガイド移動部７０６が係
着されている。プーリー７１０には、モーター７１４の
回転軸７１６が嵌挿されている。ホルダ２のＸ軸方向の
一側面には、ガイド移動部７０６の存在を検知するため
の光学的なセンサ７１９，７２０が設けられている。
【００２５】ガイド移動部７０６にはＹ軸方向の反射体
（ミラー）７０７が、被検査基板３表面に対して直角ま
たは鋭角をなすよう立設されている。また保持部材７０
１１と７０２の交差する位置にはホルダ２とほぼ同じ高
さを有する保持部材７２１が設けられている。保持部材
７２１上には、ガイドレール７０４の延長線上に、後述
するレーザー光源２１が設けられている。
（ミラー）７０７が、被検査基板３表面に対して直角ま
たは鋭角をなすよう立設されている。また保持部材７０
１１と７０２の交差する位置にはホルダ２とほぼ同じ高
さを有する保持部材７２１が設けられている。保持部材
７２１上には、ガイドレール７０４の延長線上に、後述
するレーザー光源２１が設けられている。
【００２６】保持部材７０１１，７０１２の各垂直面７
０１３，７０１４の両端部には、それぞれプーリ７０７
１，７０８１とプーリ７０７２，７０８２が軸支されて
いる。プーリ７０７１とプーリ７０８１にはベルト７１
１１が、プーリ７０７２とプーリ７０８２にはベルト７
１１２が、輪状に掛けられている。ベルト７１１１，７
１１２の各一部にはそれぞれガイド移動部７０５１，７
０５２が係着されている。プーリー７０７１には、モー
ター７１３の回転軸７１３１が嵌挿されている。ホルダ
２のＹ軸方向の一側面には、ガイド移動部７０５１の存
在を検知するための光学的なセンサ７１７，７１８が設
けられている。また、ホルダ２の下部には連結軸７３０
が配設されており、この連結軸７３０の両端部は、それ
ぞれプーリ７０８１とプーリ７０８２に嵌挿されてい
る。
０１３，７０１４の両端部には、それぞれプーリ７０７
１，７０８１とプーリ７０７２，７０８２が軸支されて
いる。プーリ７０７１とプーリ７０８１にはベルト７１
１１が、プーリ７０７２とプーリ７０８２にはベルト７
１１２が、輪状に掛けられている。ベルト７１１１，７
１１２の各一部にはそれぞれガイド移動部７０５１，７
０５２が係着されている。プーリー７０７１には、モー
ター７１３の回転軸７１３１が嵌挿されている。ホルダ
２のＹ軸方向の一側面には、ガイド移動部７０５１の存
在を検知するための光学的なセンサ７１７，７１８が設
けられている。また、ホルダ２の下部には連結軸７３０
が配設されており、この連結軸７３０の両端部は、それ
ぞれプーリ７０８１とプーリ７０８２に嵌挿されてい
る。
【００２７】ガイド移動部７０５１，７０５２のホルダ
２側の側面には、それぞれ支柱７４１，７４２が後述す
るように回動可能に軸支されている。これら支柱７４
１，７４２の各頂部には、それぞれ長尺板状の投射板７
４３の両端部が装着されている。投射板７４３の表面
は、例えば黒色をなすとともに、被検査基板３表面に対
して約４５°をなすよう傾斜し、反射体７０７の方向へ
向いている。このとき支柱７４１，７４２は被検査基板
３表面に対して直立した状態にある。
２側の側面には、それぞれ支柱７４１，７４２が後述す
るように回動可能に軸支されている。これら支柱７４
１，７４２の各頂部には、それぞれ長尺板状の投射板７
４３の両端部が装着されている。投射板７４３の表面
は、例えば黒色をなすとともに、被検査基板３表面に対
して約４５°をなすよう傾斜し、反射体７０７の方向へ
向いている。このとき支柱７４１，７４２は被検査基板
３表面に対して直立した状態にある。
【００２８】投射板７４３は、ガイド移動部７０５１と
７０５２の同期した移動に従い、被検査基板３上をその
表面に対して所定の隙間を有する平行な状態で、Ｙ軸方
向へ移動する。また、保持部材７２１付近におけるガイ
ドレール７０３１のホルダ２側に、後述するように支柱
７４１を回動させるためのガイド部材７４４が固着され
ている。
７０５２の同期した移動に従い、被検査基板３上をその
表面に対して所定の隙間を有する平行な状態で、Ｙ軸方
向へ移動する。また、保持部材７２１付近におけるガイ
ドレール７０３１のホルダ２側に、後述するように支柱
７４１を回動させるためのガイド部材７４４が固着され
ている。
【００２９】なお、センサ７１７または７１８にてガイ
ド移動部７０５１の存在が検知された場合、制御部１１
によりモータ７１３の駆動が自動的に停止される。すな
わちガイド移動部７０５１は、センサ７１７，７１８間
に対応するガイドレール７０３１上の区間のみを往復移
動できる。同様に、センサ７１９または７２０にてガイ
ド移動部７０６の存在が検知された場合、制御部１１に
よりモータ７１４の駆動が自動的に停止される。すなわ
ちガイド移動部７０６は、センサ７１９，７２０間に対
応するガイドレール７０４上の区間のみを往復移動でき
る。
ド移動部７０５１の存在が検知された場合、制御部１１
によりモータ７１３の駆動が自動的に停止される。すな
わちガイド移動部７０５１は、センサ７１７，７１８間
に対応するガイドレール７０３１上の区間のみを往復移
動できる。同様に、センサ７１９または７２０にてガイ
ド移動部７０６の存在が検知された場合、制御部１１に
よりモータ７１４の駆動が自動的に停止される。すなわ
ちガイド移動部７０６は、センサ７１９，７２０間に対
応するガイドレール７０４上の区間のみを往復移動でき
る。
【００３０】また、ホルダ２の基端部に取付けられた保
持部材７０２が、図２に示すように、支持軸１５により
装置本体１に対して回動自在に支持されている。このた
め、ホルダ２を図２中２点鎖線で示すように所定角度に
立ち上げ、または揺動動作させることができる。
持部材７０２が、図２に示すように、支持軸１５により
装置本体１に対して回動自在に支持されている。このた
め、ホルダ２を図２中２点鎖線で示すように所定角度に
立ち上げ、または揺動動作させることができる。
【００３１】また、図１に示す制御部１１は、ガイドレ
ール７０４，７０３１に沿って設けられた図示しない各
ガイドスケールにより検出される被検査基板３上の欠陥
部の位置座標（Ｘ、Ｙ）、Ｙスケール１３及びＸスケー
ル１４により検出される観察ユニット支持部５と観察ユ
ニット６の位置座標に対する管理をはじめとして、図示
しない各駆動機構による観察ユニット支持部５及び観察
ユニット６の移動の制御などを行なう。さらに制御部１
１は、指標用照明光源８の光軸と対物レンズ９１の光軸
との間隔Ｘ0 を予め自身の図示しないメモリに記憶して
いる。制御部１１は、上記各ガイドスケールから与えら
れた被検査基板３上の欠陥部の位置座標（Ｘ、Ｙ）にミ
クロ観察ユニット９における対物レンズ９１の観察軸が
合致するよう、観察ユニット支持部５及び観察ユニット
６を移動制御する。
ール７０４，７０３１に沿って設けられた図示しない各
ガイドスケールにより検出される被検査基板３上の欠陥
部の位置座標（Ｘ、Ｙ）、Ｙスケール１３及びＸスケー
ル１４により検出される観察ユニット支持部５と観察ユ
ニット６の位置座標に対する管理をはじめとして、図示
しない各駆動機構による観察ユニット支持部５及び観察
ユニット６の移動の制御などを行なう。さらに制御部１
１は、指標用照明光源８の光軸と対物レンズ９１の光軸
との間隔Ｘ0 を予め自身の図示しないメモリに記憶して
いる。制御部１１は、上記各ガイドスケールから与えら
れた被検査基板３上の欠陥部の位置座標（Ｘ、Ｙ）にミ
クロ観察ユニット９における対物レンズ９１の観察軸が
合致するよう、観察ユニット支持部５及び観察ユニット
６を移動制御する。
【００３２】また制御部１１は、指標用照明光源８のス
ポット中心を被検査基板３上の欠陥部に位置させた状態
で、検査者により入力部１１１から所定の指示が与えら
れた場合、Ｙスケール１３及びＸスケール１４の図示し
ない検出部により検出された位置座標データから前記欠
陥部の位置座標を求め、この求めた位置座標と、指標用
照明光源８の光軸と対物レンズ９１の光軸との間隔Ｘ0
を示すデータに基づいて、被検査基板３上の前記欠陥部
に対物レンズ９１の観察軸が合致するよう、観察ユニッ
ト支持部５及び観察ユニット６を移動制御する。
ポット中心を被検査基板３上の欠陥部に位置させた状態
で、検査者により入力部１１１から所定の指示が与えら
れた場合、Ｙスケール１３及びＸスケール１４の図示し
ない検出部により検出された位置座標データから前記欠
陥部の位置座標を求め、この求めた位置座標と、指標用
照明光源８の光軸と対物レンズ９１の光軸との間隔Ｘ0
を示すデータに基づいて、被検査基板３上の前記欠陥部
に対物レンズ９１の観察軸が合致するよう、観察ユニッ
ト支持部５及び観察ユニット６を移動制御する。
【００３３】図６は、本基板検査装置における位置検出
部の構成を示す図である。図６において図５と同一な部
分には同一符号を付してある。この位置検出部は、レー
ザー光源部２１１及びシリンドリカルレンズ２１２，２
１３からなるレーザー光源２１と、レーザー光源部２１
１から発せられたレーザー光をＹ軸方向に反射する反射
体（ミラー）７０７からなっている。反射体７０７は、
被検査基板３表面に対して直角または鋭角をなすよう立
設されている。
部の構成を示す図である。図６において図５と同一な部
分には同一符号を付してある。この位置検出部は、レー
ザー光源部２１１及びシリンドリカルレンズ２１２，２
１３からなるレーザー光源２１と、レーザー光源部２１
１から発せられたレーザー光をＹ軸方向に反射する反射
体（ミラー）７０７からなっている。反射体７０７は、
被検査基板３表面に対して直角または鋭角をなすよう立
設されている。
【００３４】光源２１のレーザー光源部２１１から発せ
られシリンドリカルレンズ２１２，２１３を透過したレ
ーザー光は、被検査基板３表面に対してほぼ垂直な面状
のレーザー光になり、Ｘ軸方向へ射出される。このレー
ザー光は反射体７０７で直角方向すなわちＹ軸方向へ反
射され被検査基板３表面に対してほぼ垂直な面状のレー
ザー光７５０になり、投影板７４３の傾斜した表面に投
射される。
られシリンドリカルレンズ２１２，２１３を透過したレ
ーザー光は、被検査基板３表面に対してほぼ垂直な面状
のレーザー光になり、Ｘ軸方向へ射出される。このレー
ザー光は反射体７０７で直角方向すなわちＹ軸方向へ反
射され被検査基板３表面に対してほぼ垂直な面状のレー
ザー光７５０になり、投影板７４３の傾斜した表面に投
射される。
【００３５】図７は、本基板検査装置における検査状況
を示す図である。図７に示すように、装置本体１の上方
には、ホルダ２上の被検査基板３の全面を照射する全面
マクロ照明光源３０が設置されている。この全面マクロ
照明光源３０は、点光源としてのメタルハライドランプ
３１と、このメタルハライドランプ３１に対向するよう
配置された反射ミラー３２と、反射ミラー３２の下方に
配置されたフレネルレンズ３３からなる。反射ミラー３
２は、装置本体１に対してほぼ４５°傾けて設けられて
おり、メタルハライドランプ３１からの光を反射し、フ
レネルレンズ３３に与える。フレネルレンズ３３は、反
射ミラー３２で反射された光を図示のように収束光にし
て、ホルダ２上の被検査基板３全面に照射する。なお図
１に示すように、装置本体１には、観察ユニット支持部
５のＹ軸方向の位置座標を検出するためのＹスケール１
３が設けられ、観察ユニット支持部５には、観察ユニッ
ト６のＸ軸方向の位置座標を検出するためのＸスケール
１４が設けられている。
を示す図である。図７に示すように、装置本体１の上方
には、ホルダ２上の被検査基板３の全面を照射する全面
マクロ照明光源３０が設置されている。この全面マクロ
照明光源３０は、点光源としてのメタルハライドランプ
３１と、このメタルハライドランプ３１に対向するよう
配置された反射ミラー３２と、反射ミラー３２の下方に
配置されたフレネルレンズ３３からなる。反射ミラー３
２は、装置本体１に対してほぼ４５°傾けて設けられて
おり、メタルハライドランプ３１からの光を反射し、フ
レネルレンズ３３に与える。フレネルレンズ３３は、反
射ミラー３２で反射された光を図示のように収束光にし
て、ホルダ２上の被検査基板３全面に照射する。なお図
１に示すように、装置本体１には、観察ユニット支持部
５のＹ軸方向の位置座標を検出するためのＹスケール１
３が設けられ、観察ユニット支持部５には、観察ユニッ
ト６のＸ軸方向の位置座標を検出するためのＸスケール
１４が設けられている。
【００３６】以上のように構成された本基板検査装置の
動作を説明する。まず、被検査基板３表面のマクロ観察
を行なう場合、検査者は入力部１１１から制御部１１に
所定の指示を与えることで、制御部１１の駆動制御によ
り観察ユニット支持部５を図１に示す初期位置に後退さ
せる。その後、検査者が水平な状態になっているホルダ
２上に被検査基板３を供給する。この状態で、複数の基
板位置決め部材２０１に被検査基板３を押し当てて位置
決めされるとともに、上記吸引器により被検査基板３が
ホルダ２上から脱落しないように吸着保持され、マクロ
観察による欠陥検査が開始される。
動作を説明する。まず、被検査基板３表面のマクロ観察
を行なう場合、検査者は入力部１１１から制御部１１に
所定の指示を与えることで、制御部１１の駆動制御によ
り観察ユニット支持部５を図１に示す初期位置に後退さ
せる。その後、検査者が水平な状態になっているホルダ
２上に被検査基板３を供給する。この状態で、複数の基
板位置決め部材２０１に被検査基板３を押し当てて位置
決めされるとともに、上記吸引器により被検査基板３が
ホルダ２上から脱落しないように吸着保持され、マクロ
観察による欠陥検査が開始される。
【００３７】次に、マクロ照明を用いて被検査基板３の
全面を一括してマクロ観察する場合について説明する。
この全面マクロ観察の場合、検査者は図２に示すモータ
１８を起動して、回転軸１８１及びベルト１７を介して
プーリ１６により支持軸１５を回転させ、この支持軸１
５を中心にホルダ２を所定の角度θ、好ましくは３０〜
４５°に傾斜させた後、モータ１８を停止してホルダ２
を静止させる。次いで、検査者は図７に示すメタルハラ
イドランプ３１を点灯させ、メタルハライドランプ３１
からの光を反射ミラー３２及びフレネルレンズ３３を介
して、収束光としてホルダ２上の被検査基板３全面に照
射させる。この状態で、検査者はホルダ２上の被検査基
板３を目視により被検査基板３上の傷や汚れなどの欠陥
検査を行なう。なお、ホルダ２を所定の角度に傾斜させ
静止させた状態で欠陥検査を行なうだけでなく、モータ
ー１８の回転方向を周期的に変えるよう制御部１１によ
り制御することで、支持軸１５を中心にホルダ２を所定
範囲の角度内で揺動させながら欠陥検査を行なうことも
できる。この場合、メタルハライドランプ３１からの照
射光の被検査基板３への入射角が可変になるため、被検
査基板３を様々な角度から入射する照射光にて観察する
ことができる。
全面を一括してマクロ観察する場合について説明する。
この全面マクロ観察の場合、検査者は図２に示すモータ
１８を起動して、回転軸１８１及びベルト１７を介して
プーリ１６により支持軸１５を回転させ、この支持軸１
５を中心にホルダ２を所定の角度θ、好ましくは３０〜
４５°に傾斜させた後、モータ１８を停止してホルダ２
を静止させる。次いで、検査者は図７に示すメタルハラ
イドランプ３１を点灯させ、メタルハライドランプ３１
からの光を反射ミラー３２及びフレネルレンズ３３を介
して、収束光としてホルダ２上の被検査基板３全面に照
射させる。この状態で、検査者はホルダ２上の被検査基
板３を目視により被検査基板３上の傷や汚れなどの欠陥
検査を行なう。なお、ホルダ２を所定の角度に傾斜させ
静止させた状態で欠陥検査を行なうだけでなく、モータ
ー１８の回転方向を周期的に変えるよう制御部１１によ
り制御することで、支持軸１５を中心にホルダ２を所定
範囲の角度内で揺動させながら欠陥検査を行なうことも
できる。この場合、メタルハライドランプ３１からの照
射光の被検査基板３への入射角が可変になるため、被検
査基板３を様々な角度から入射する照射光にて観察する
ことができる。
【００３８】検査者は、図７に示すようにホルダ２を所
定角度まで立ち上げた状態で被検査基板３の表面をマク
ロ照射し、そのマクロ観察において被検査基板３上で欠
陥部ａを認識すると、上記操作部（ジョイスティック）
を操作しモーター７１４を駆動して回転軸７１６を一方
向または他方向へ回転させることで、プーリー７１０，
７０９を介してベルト７１２をＸ軸の一方向または他方
向へ作動させる。これにより、被検査基板３面上の欠陥
部ａに対しガイドレール７０４に沿ってガイド移動部７
０６上の反射体７０７を移動してレーザー光７５０を欠
陥部ａに一致させる。
定角度まで立ち上げた状態で被検査基板３の表面をマク
ロ照射し、そのマクロ観察において被検査基板３上で欠
陥部ａを認識すると、上記操作部（ジョイスティック）
を操作しモーター７１４を駆動して回転軸７１６を一方
向または他方向へ回転させることで、プーリー７１０，
７０９を介してベルト７１２をＸ軸の一方向または他方
向へ作動させる。これにより、被検査基板３面上の欠陥
部ａに対しガイドレール７０４に沿ってガイド移動部７
０６上の反射体７０７を移動してレーザー光７５０を欠
陥部ａに一致させる。
【００３９】さらに検査者は、上記操作部を操作しモー
ター７１３を駆動して回転軸７１３１を一方向または他
方向へ回転させることで、プーリー７０７１，７０８１
を介してベルト７１１１をＹ軸の一方向または他方向へ
作動させる。これにより、被検査基板３面上の欠陥部ａ
に対しガイドレール７０３１に沿ってガイド移動部７０
５１とともに支柱７４１及び投射板７４３を移動して、
投射板７４３の下辺７４３１を欠陥部ａ上に一致させ
る。このとき、プーリー７０８１の回転に伴い、連結軸
７３０を介してプーリー７０８２がプーリー７０８１と
同方向に回転し、プーリー７０７２，７０８２を介して
ベルト７１１２がベルト７１１１と同方向に作動してい
る。すなわち、ガイド移動部７０５１と７０５２が同期
してＹ軸の同方向へ移動するため、投射板７４３は常に
Ｘ軸と平行な状態でＹ軸方向へ移動する。
ター７１３を駆動して回転軸７１３１を一方向または他
方向へ回転させることで、プーリー７０７１，７０８１
を介してベルト７１１１をＹ軸の一方向または他方向へ
作動させる。これにより、被検査基板３面上の欠陥部ａ
に対しガイドレール７０３１に沿ってガイド移動部７０
５１とともに支柱７４１及び投射板７４３を移動して、
投射板７４３の下辺７４３１を欠陥部ａ上に一致させ
る。このとき、プーリー７０８１の回転に伴い、連結軸
７３０を介してプーリー７０８２がプーリー７０８１と
同方向に回転し、プーリー７０７２，７０８２を介して
ベルト７１１２がベルト７１１１と同方向に作動してい
る。すなわち、ガイド移動部７０５１と７０５２が同期
してＹ軸の同方向へ移動するため、投射板７４３は常に
Ｘ軸と平行な状態でＹ軸方向へ移動する。
【００４０】なお、欠陥位置を指定する際には、上記と
は逆に投射板７４３を欠陥部ａに一致させた後で、レー
ザー光７５０を一致させてもよい。
は逆に投射板７４３を欠陥部ａに一致させた後で、レー
ザー光７５０を一致させてもよい。
【００４１】その後、検査者は上記フットスイッチをＯ
Ｎにする。すると、このときのガイドレール７０３１，
７０４に沿って設けられた図示しない各ガイドスケール
の値、すなわち投射板７４３の所定の原点からＹ軸方向
への変位量と反射体７０７の所定の原点からＸ軸方向へ
の変位量とが、上記各ガイドスケールの図示しない各検
出部により前記欠陥部ａの位置座標（Ｘ，Ｙ）として検
出され、この検出結果が前記各検出部から制御部１１へ
出力される。
Ｎにする。すると、このときのガイドレール７０３１，
７０４に沿って設けられた図示しない各ガイドスケール
の値、すなわち投射板７４３の所定の原点からＹ軸方向
への変位量と反射体７０７の所定の原点からＸ軸方向へ
の変位量とが、上記各ガイドスケールの図示しない各検
出部により前記欠陥部ａの位置座標（Ｘ，Ｙ）として検
出され、この検出結果が前記各検出部から制御部１１へ
出力される。
【００４２】以降、検査者が被検査基板３上で欠陥部を
認識する度に同様の動作を繰り返すことで、各欠陥部の
各位置座標（Ｘ、Ｙ）を示すデータが制御部１１に取り
込まれ記憶される。検査者は、以上のようなマクロ観察
を被検査基板３全面について終了すると、再びモータ１
８を起動して、回転軸１８１及びベルト１７を介してプ
ーリ１６により支持軸１５を上述と反対の方向に回転さ
せ、ホルダ２を最初の水平な状態に戻す。以上のマクロ
観察が終了すると、以下に示す投射板７４３の退避操作
が行なわれた後、ミクロ観察が行なわれる。
認識する度に同様の動作を繰り返すことで、各欠陥部の
各位置座標（Ｘ、Ｙ）を示すデータが制御部１１に取り
込まれ記憶される。検査者は、以上のようなマクロ観察
を被検査基板３全面について終了すると、再びモータ１
８を起動して、回転軸１８１及びベルト１７を介してプ
ーリ１６により支持軸１５を上述と反対の方向に回転さ
せ、ホルダ２を最初の水平な状態に戻す。以上のマクロ
観察が終了すると、以下に示す投射板７４３の退避操作
が行なわれた後、ミクロ観察が行なわれる。
【００４３】図８（ａ）〜（ｄ）は、投射板７４３の退
避機構を示す図であり、図８（ａ）はガイド移動部７０
５１部分の上面図、図８（ｂ）はその側面図、図８
（ｃ）はガイド部材７４４部分の上面図、図８（ｄ）は
その側面図である。前述した投射板７４３を欠陥部ａ上
に一致させる動作中は、図８（ａ），図８（ｂ）に示す
ように支柱７４１，７４２は直立した状態にあり、投射
板７４３は約４５°傾斜した状態で被検査基板３の上方
に位置している。なお、支柱７４１，７４２は、それぞ
れ回転軸７４１１，７４２１（不図示）により、ガイド
移動部７０５１，７０５２に回動自在に支持されてい
る。
避機構を示す図であり、図８（ａ）はガイド移動部７０
５１部分の上面図、図８（ｂ）はその側面図、図８
（ｃ）はガイド部材７４４部分の上面図、図８（ｄ）は
その側面図である。前述した投射板７４３を欠陥部ａ上
に一致させる動作中は、図８（ａ），図８（ｂ）に示す
ように支柱７４１，７４２は直立した状態にあり、投射
板７４３は約４５°傾斜した状態で被検査基板３の上方
に位置している。なお、支柱７４１，７４２は、それぞ
れ回転軸７４１１，７４２１（不図示）により、ガイド
移動部７０５１，７０５２に回動自在に支持されてい
る。
【００４４】図１に実線で示すように、ホルダ２を水平
にした状態でミクロ観察ユニット９によるミクロ観察を
行なう場合、対物レンズ９１が投射板７４３に衝突しな
いよう、投射板７４３を被検査基板３上から退避させな
ければならない。この場合、操作者は上記操作部を操作
してモーター７１３を駆動し、ガイド移動部７０５１と
７０５２を保持部材７０２方向へ移動する。やがて支柱
７４１が図８（ｃ）に示すガイド部材７４４に到達する
と、図８（ｄ）に示すように、支柱７４１下部の突起部
がガイド部材７４４の斜面７４４１に沿って徐々に上方
へ押し上げられる。これに伴い、支柱７４１，７４２
は，それぞれ回転軸７４１１，７４２１周りに回動し、
最終的に被検査基板３と平行な状態になる。このとき支
柱７４１，７４２は、ホルダ２とガイドレール７０４の
間の空間の延長部に収まり退避された状態になるため、
ホルダ２より下方に位置する。これにより、ミクロ観察
の際、対物レンズ９１が投射板７４３に衝突することは
ない。
にした状態でミクロ観察ユニット９によるミクロ観察を
行なう場合、対物レンズ９１が投射板７４３に衝突しな
いよう、投射板７４３を被検査基板３上から退避させな
ければならない。この場合、操作者は上記操作部を操作
してモーター７１３を駆動し、ガイド移動部７０５１と
７０５２を保持部材７０２方向へ移動する。やがて支柱
７４１が図８（ｃ）に示すガイド部材７４４に到達する
と、図８（ｄ）に示すように、支柱７４１下部の突起部
がガイド部材７４４の斜面７４４１に沿って徐々に上方
へ押し上げられる。これに伴い、支柱７４１，７４２
は，それぞれ回転軸７４１１，７４２１周りに回動し、
最終的に被検査基板３と平行な状態になる。このとき支
柱７４１，７４２は、ホルダ２とガイドレール７０４の
間の空間の延長部に収まり退避された状態になるため、
ホルダ２より下方に位置する。これにより、ミクロ観察
の際、対物レンズ９１が投射板７４３に衝突することは
ない。
【００４５】続いて、前述したマクロ観察により検出し
た各欠陥部について、ミクロ観察ユニット９によりミク
ロ観察を行なう場合について説明する。まず制御部１１
により、上記メモリに記憶された欠陥部の位置座標
（Ｘ、Ｙ）が読み出され、続いて、この位置座標（Ｘ、
Ｙ）にミクロ観察ユニット９における対物レンズ９１の
観察軸が合致するよう、観察ユニット支持部５及び観察
ユニット６がガイドレール４，４及びＸ上記図示しない
ガイドレールに沿って移動制御される。
た各欠陥部について、ミクロ観察ユニット９によりミク
ロ観察を行なう場合について説明する。まず制御部１１
により、上記メモリに記憶された欠陥部の位置座標
（Ｘ、Ｙ）が読み出され、続いて、この位置座標（Ｘ、
Ｙ）にミクロ観察ユニット９における対物レンズ９１の
観察軸が合致するよう、観察ユニット支持部５及び観察
ユニット６がガイドレール４，４及びＸ上記図示しない
ガイドレールに沿って移動制御される。
【００４６】これにより、検査者はミクロ観察ユニット
９の接眼レンズ９２を覗くことで、対物レンズ９１を介
して得られる被検査基板３上の欠陥部を顕微鏡によるミ
クロ観察することができる。また、ＴＶカメラ９３に対
物レンズ９１より得られる被検査基板３表面の欠陥部が
撮像され、その像がＴＶモニタ１２に表示され、検査者
がその像を見ることでミクロ観察が行なわれる。
９の接眼レンズ９２を覗くことで、対物レンズ９１を介
して得られる被検査基板３上の欠陥部を顕微鏡によるミ
クロ観察することができる。また、ＴＶカメラ９３に対
物レンズ９１より得られる被検査基板３表面の欠陥部が
撮像され、その像がＴＶモニタ１２に表示され、検査者
がその像を見ることでミクロ観察が行なわれる。
【００４７】本実施の形態の基板検査装置によれば、被
検査基板３を保持したホルダ２を支持軸１５を中心に回
動させて所定角度立ち上げることで、検査者は目に近い
位置で、かつ欠陥の見やすい角度に被検査基板３を傾斜
させてマクロ検査を行なうことができるので、楽な姿勢
で精度の高い目視検査を行なうことができる。また、ホ
ルダ２がどのような角度に立ち上げられても、ホルダ２
と一体になって位置座標検出部を立ち上げられることに
なるため、被検査基板３をどのような角度に傾斜して
も、常に欠陥位置を正確に検知することができる。さら
に、投射板７４３にレーザー光７５０を投射することに
より、レーザー指標点が投射板７４３上にはっきりと映
し出されることから、目視により容易に欠陥位置に合わ
せることができる。
検査基板３を保持したホルダ２を支持軸１５を中心に回
動させて所定角度立ち上げることで、検査者は目に近い
位置で、かつ欠陥の見やすい角度に被検査基板３を傾斜
させてマクロ検査を行なうことができるので、楽な姿勢
で精度の高い目視検査を行なうことができる。また、ホ
ルダ２がどのような角度に立ち上げられても、ホルダ２
と一体になって位置座標検出部を立ち上げられることに
なるため、被検査基板３をどのような角度に傾斜して
も、常に欠陥位置を正確に検知することができる。さら
に、投射板７４３にレーザー光７５０を投射することに
より、レーザー指標点が投射板７４３上にはっきりと映
し出されることから、目視により容易に欠陥位置に合わ
せることができる。
【００４８】また、位置座標検出部を構成するガイド移
動部７０５１，７０６を電気的に駆動させるため、検査
者が上記操作部を操作することにより手元で反射体７０
７と投射板７４３の動作をコントロールすることができ
る。よって、特に大型の被検査基板を検査する場合、レ
ーザー光と投射板７４３を欠陥部に一致させることで、
検査者から遠く離れた欠陥部に対しても容易に位置情報
を取り出すことができる。
動部７０５１，７０６を電気的に駆動させるため、検査
者が上記操作部を操作することにより手元で反射体７０
７と投射板７４３の動作をコントロールすることができ
る。よって、特に大型の被検査基板を検査する場合、レ
ーザー光と投射板７４３を欠陥部に一致させることで、
検査者から遠く離れた欠陥部に対しても容易に位置情報
を取り出すことができる。
【００４９】さらにホルダ２に対し、被検査基板３面上
における観察ユニット支持部５の一方向に沿った移動
と、観察ユニット支持部５の移動方向と直交する方向へ
の観察ユニット６の移動により、観察ユニット６を被検
査基板３上のいずれの位置にも移動させることができ
る。よって、ホルダ２の面積を被検査基板３の面積とほ
ぼ同じ大きさに止めることができ、基板検査装置の小型
化を実現できるとともに、基板検査装置の設置面積も大
幅に小さくすることができる。
における観察ユニット支持部５の一方向に沿った移動
と、観察ユニット支持部５の移動方向と直交する方向へ
の観察ユニット６の移動により、観察ユニット６を被検
査基板３上のいずれの位置にも移動させることができ
る。よって、ホルダ２の面積を被検査基板３の面積とほ
ぼ同じ大きさに止めることができ、基板検査装置の小型
化を実現できるとともに、基板検査装置の設置面積も大
幅に小さくすることができる。
【００５０】なお、ガイド移動部７０５１，７０５２と
投射板７４３を駆動させるために、ガイド付きボールネ
ジやリニアモータを用いることもできる。また、ＬＥＤ
のような光型の平行光束を発する光源を用いることも可
能で、この光源を反射体７０７に変えガイド移動部７０
６に取付けてもよい。さらに、投射板７４３はレーザー
光等のスリット光またはスポット光を投影できるもので
あれば、長尺板に限定されず、線材や三角柱の棒体であ
ってもよい。
投射板７４３を駆動させるために、ガイド付きボールネ
ジやリニアモータを用いることもできる。また、ＬＥＤ
のような光型の平行光束を発する光源を用いることも可
能で、この光源を反射体７０７に変えガイド移動部７０
６に取付けてもよい。さらに、投射板７４３はレーザー
光等のスリット光またはスポット光を投影できるもので
あれば、長尺板に限定されず、線材や三角柱の棒体であ
ってもよい。
【００５１】なお、本発明は上記各実施の形態のみに限
定されず、要旨を変更しない範囲で適宜変形して実施で
きる。
定されず、要旨を変更しない範囲で適宜変形して実施で
きる。
【００５２】
【発明の効果】本発明によれば、小型化を実現できると
ともに、被検査基板に対し精度の高い欠陥検査を効率よ
く行なうことができる基板検査装置を提供できる。
ともに、被検査基板に対し精度の高い欠陥検査を効率よ
く行なうことができる基板検査装置を提供できる。
【図１】本発明の実施の形態に係る基板検査装置の構成
を示す斜視図。
を示す斜視図。
【図２】本発明の実施の形態に係る基板検査装置の構成
を示す側面図。
を示す側面図。
【図３】本発明の実施の形態に係る基板検査装置の構成
を示す上面図。
を示す上面図。
【図４】本発明の実施の形態に係る基板検査装置におけ
る透過ライン照明の構成例を示す図。
る透過ライン照明の構成例を示す図。
【図５】本発明の実施の形態に係る基板検査装置におけ
るホルダの詳細な構成を示す図。
るホルダの詳細な構成を示す図。
【図６】本発明の実施の形態に係る基板検査装置におけ
る位置検出部の構成を示す図。
る位置検出部の構成を示す図。
【図７】本発明の実施の形態に係る基板検査装置におけ
る検査状況を示す図。
る検査状況を示す図。
【図８】本発明の実施の形態に係る基板検査装置におけ
る投射板の退避機構を示す図。
る投射板の退避機構を示す図。
１…装置本体 ２…ホルダ ３…被検査基板 ４…ガイドレール ５…観察ユニット支持部 ６…観察ユニット ７…透過ライン照明光源 ８…指標用照明光源 ９…ミクロ観察ユニット １０…部分マクロ照明光源 １１…制御部 １２…ＴＶモニタ １３…Ｙスケール １４…Ｘスケール １５…支持軸 １６…プーリ １７…ベルト １８…モータ ２１…レーザー光源 ３０…全面マクロ照明光源 ３１…メタルハライドランプ ３２…反射ミラー ３３…フレネルレンズ
Claims (3)
- 【請求項１】被検査基板を保持する矩形状の基板保持手
段と、 この基板保持手段を所定角度まで立ち上げる駆動手段
と、 前記基板保持手段に、前記被検査基板の側縁の少なくと
も直交する２方向に沿って設けられ、前記被検査基板上
の欠陥部の位置座標を検出する位置座標検出手段と、 ミクロ観察系を支持し、前記被検査基板の面上を移動す
るよう設けられた観察系支持手段と、 前記位置座標検出手段により検出された欠陥部の位置座
標に基づいて、前記観察系支持手段のミクロ観察系を前
記被検査基板上の対応する欠陥部上に位置するよう移動
制御する制御手段と、を具備し、 前記位置座標検出手段は、 前記被検査基板の側縁に沿って二方向へ設けられた二組
のガイドレールと、 前記二方向のうち一方向に設けられた一組のガイドレー
ルに沿って移動可能に設けられ、この一方向と直交する
方向に光を射出する光源と、 前記被検査基板を跨ぐ状態で前記二方向のうち他方向に
設けられた一組のガイドレールに沿って移動可能に設け
られ、前記光源から射出された光が投射される投射部材
と、 前記光源から射出された光線と前記投射部材を前記欠陥
部上に位置せしめ、前記各組のガイドレールにおける前
記光源及び前記投射部材の位置を基に前記欠陥部の位置
座標を検出する検出部と、を備えたことを特徴とする基
板検査装置。 - 【請求項２】前記投射部材を前記一組のガイドレールに
沿って電動力にて移動する二つの移動手段を備え、 前記二つの移動手段の一つはモーターを備え、 前記各移動手段は、 前記モーターの駆動により動作される二つのプーリーと
ベルトからなり、 さらに、前記各移動手段の一つのプーリ同士を連結する
連結軸を備えたことを特徴とする請求項１に記載の基板
検査装置。 - 【請求項３】前記投射部材を前記被検査基板上から退避
させる退避機構を備えた請求項１または２に記載の基板
検査装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000268945A JP2002082067A (ja) | 2000-09-05 | 2000-09-05 | 基板検査装置 |
| TW090106381A TW493071B (en) | 2000-09-05 | 2001-03-19 | Substrate inspecting device |
| KR1020010014503A KR100885560B1 (ko) | 2000-09-05 | 2001-03-21 | 기판검사장치 |
| CNB011120509A CN1179206C (zh) | 2000-09-05 | 2001-03-26 | 基片检验装置 |
| CN01208700U CN2470821Y (zh) | 2000-09-05 | 2001-03-26 | 基片检验装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000268945A JP2002082067A (ja) | 2000-09-05 | 2000-09-05 | 基板検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002082067A true JP2002082067A (ja) | 2002-03-22 |
| JP2002082067A5 JP2002082067A5 (ja) | 2007-10-18 |
Family
ID=18755644
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000268945A Pending JP2002082067A (ja) | 2000-09-05 | 2000-09-05 | 基板検査装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002082067A (ja) |
| KR (1) | KR100885560B1 (ja) |
| CN (2) | CN2470821Y (ja) |
| TW (1) | TW493071B (ja) |
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| KR20020019376A (ko) | 2002-03-12 |
| KR100885560B1 (ko) | 2009-02-24 |
| CN1179206C (zh) | 2004-12-08 |
| TW493071B (en) | 2002-07-01 |
| CN2470821Y (zh) | 2002-01-09 |
| CN1341853A (zh) | 2002-03-27 |
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|
| A977 | Report on retrieval |
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