JP2002080447A - 第四級アンモニウム塩化合物、その製造法及び応用 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 【解決手段】一般式（１）： 【化１】 ［式中、Ｒ¹及びＲ²は、同一又は異なって炭素数１〜３
のアルキル基を示す。Ｒ ³は、置換されていることのあ
る炭素数６〜１８のアルキル基を示す。Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ
⁶は、同一又は異なって水素原子又は炭素数１〜３のア
ルキル基を示す。Ｘは、有機酸又は無機酸の残基を示
す。ｈ、ｉ及びｋは、同一又は異なって０〜１７の整数
を示し、ｊは０又は１を示し、ｈ、ｉ、ｊ及びｋの和は
１７以下である。ｌは、０〜１８の整数を示す。ｍは、
０又は１を示す。］で表わされる第四級アンモニウム塩
化合物、その製造方法及びその応用。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は第四級アンモニウム
塩化合物、その製造方法及びその応用に関する。

【０００２】

【従来の技術】抗菌剤、耐電防止剤などの表面処理剤と
しては種々のものが提案されているが、環境への流出を
防ぐために、高分子材料などに容易に表面特性を付与す
る手段が望まれている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、抗菌
性、帯電防止性などの表面特性を有する化合物、特に高
分子材料に抗菌性、帯電防止性などの表面特性を付与し
得る化合物を提供することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明は、下記の各項に
示す発明に係る。 項１ 一般式（１）：

【０００５】

【化８】

【０００６】［式中、Ｒ¹及びＲ²は、同一又は異なっ
て、炭素数１〜３のアルキル基を示す。Ｒ³は、置換さ
れていることのある炭素数６〜１８のアルキル基を示
す。Ｒ⁴、Ｒ ⁵及びＲ⁶は、同一又は異なって、水素原子
又は炭素数１〜３のアルキル基を示す。Ｘは、有機酸又
は無機酸の残基を示す。ｈ、ｉ及びｋは、同一又は異な
って０〜１７の整数を示し、ｊは０又は１を示し、ｈ、
ｉ、ｊ及びｋの和は１７以下である。ｌは、０〜１８の
整数を示す。ｍは０又は１を示す。］で表わされる第四
級アンモニウム塩化合物。 項２ 項１に記載の化合物を有効成分として含有する抗
菌剤。 項３ 項１に記載の化合物を有効成分として含有する耐
電防止剤。 項４ 一般式（１）で表される第四級アンモニウム塩化
合物の製造方法であって、一般式（２）：

【０００７】

【化９】

【０００８】［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｘ、ｈ、ｉ、
ｊ、ｋ及びｌは、それぞれ上記項１と同じ。］で表わさ
れる第４級アンモニウム塩化合物と、一般式（３）で表
される化合物

【０００９】

【化１０】

【００１０】［式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びｍは、それぞ
れ上記項１と同じ。］とを反応させることを特徴とする
方法。 項５ 一般式（４）

【００１１】

【化１１】

【００１２】［式中、Ｒ¹及びＲ²は、同一又は異なっ
て、炭素数１〜３のアルキル基を示す。Ｒ³は、置換さ
れていることのある炭素数６〜１８のアルキル基を示
す。Ｒ⁴、Ｒ ⁵及びＲ⁶は、同一又は異なって、水素原子
又は炭素数１〜３のアルキル基を示す。Ｘは、有機酸又
は無機酸の残基を示す。ｈ、ｉ及びｋは、同一又は異な
って０〜１７の整数を示し、ｊは０又は１を示し、ｈ、
ｉ、ｊ及びｋの和は１７以下である。ｌは、０〜１８の
整数を示す。ｍは０又は１を示す。］で表される繰返し
単位を含むポリマー。 項６ 一般式（４）で表される繰返し単位を含むポリマ
ーであることを特徴とする抗菌剤。 項７ 一般式（４）で表される繰返し単位を含むポリマ
ーであることを特徴とする帯電防止剤。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下に、本発明を詳細に説明す
る。

【００１４】上記一般式中に示される各基は、より具体
的には、それぞれ以下の通りである。

【００１５】炭素数１〜３のアルキル基としては、メチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基が挙
げられる。

【００１６】炭素数が６〜１８のアルキル基としては、
直鎖状又は分枝鎖状のいずれであってもよく、例えば、
ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−
デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−ト
リデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル
基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オ
クタデシル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル基
等が挙げられる。これらの中でも、炭素数８〜１８のア
ルキル基が、殺菌力に優れているのでより好ましい。

【００１７】炭素数が６〜１８のアルキル基が置換され
ている場合、その置換基としては、塩素原子，臭素原
子，ヨウ素原子等のハロゲン原子、水酸基、アルコキシ
基等が挙げられる。

【００１８】炭素数６〜１８のアルキル基は、これら置
換基を１〜３個、好ましくは１〜２個有することができ
る。

【００１９】Ｘは、有機酸又は無機酸の残基を示す。本
願明細書において、“残基”とは、有機酸又は無機酸か
ら水素原子を除いた残りの部分を意味する。具体的に
は、有機酸の残基としては、ＲＣＯＯで表されるカルボ
ン酸残基が挙げられる。ここで、Ｒは、炭素数１〜６の
アルキル基を示し、Ｒがメチル基（即ち、ＸがＣＨ₃Ｃ
ＯＯ）となる場合が好ましい。無機酸の残基としては、
Ｉ、Ｂr、Ｃl、ＮＯ₃等の無機酸の残基が挙げられる。
一般式（１）で表される化合物の残基としては、Ｉ，Ｂ
ｒ及びＣｌが好ましい。

【００２０】式（１）においては、これら残基は負に荷
電し、Ｘ^-（アニオン）となっている。

【００２１】上記一般式（１）で表わされる第四級アン
モニウム塩化合物の好ましい化合物群を、以下に示す。

【００２２】ｊが０である一般式（１）の第四級アンモ
ニウム塩化合物。

【００２３】Ｒ¹及びＲ²が同一又は異なってメチル基，
エチル基又はｎ−プロピル基、Ｒ³が炭素数６〜１８の
直鎖状のアルキル基、Ｒ⁴がメチル基、Ｒ⁵及びＲ⁶が水
素原子、ｈが０〜８の整数、ｉが０〜８の整数、ｊが
０、ｋが０〜８の整数、ｈ，ｉ，ｊ及びｋの和が０〜
８、ｌが０〜３の整数である一般式（１）の第四級アン
モニウム塩化合物。

【００２４】一般式（１）で表される化合物のうち、特
に好ましい化合物としては、具体的には、Ｒ¹及びＲ²が
メチル基、Ｒ³がオクチル、デシル、ドデシル、テトラ
デシル又はヘキサデシル基、Ｒ⁴がメチル基、Ｒ⁵及びＲ
⁶が水素原子、ｈ及びｌが１、ｉ，ｊ、ｋ及びｍが０で
ある一般式（１）の第四級アンモニウム塩化合物が挙げ
られる。

【００２５】一般式（１）で表わされる化合物は、例え
ば、下記反応式−Ｉに示す方法により製造される。

【００２６】

【化１２】

【００２７】一般式（２）で表わされるアルコールとし
ては、２，３−ビス（ジメチルオクチルアンモニウムブ
ロマイド）−１−プロパノール、２，３−ビス（ジメチ
ルデシルアンモニウムブロマイド）−１−プロパノー
ル、２，３−ビス（ジメチルドデシルアンモニウムブロ
マイド）−１−プロパノール、２，３−ビス（ジメチル
テトラデシルアンモニウムブロマイド）−１−プロパノ
ール、２，３−ビス（ジメチルヘキサデシルアンモニウ
ムブロマイド）−１−プロパノール（以下、“ｉＰｒ−
１６”とする）等が好ましく例示される。

【００２８】一般式（２）の化合物は、例えば特開2000
-80064号公報に記載されている方法に従って製造するこ
とができる。

【００２９】一般式（３）で表わされる化合物として
は、メタクリロイルイソシアネート（以下、“ＭＡＩ”
とする）、メタクリル酸（２−イソシアナートエチル）
などを使用するのが好ましい。一般式（３）の化合物
は、工業的に容易に入手できる。

【００３０】一般式（２）の化合物と、一般式（３）の
化合物との反応は、通常溶媒中又は無溶媒のいずれであ
っても行うことができるが、溶媒中で行うのが好まし
い。使用される溶媒としては、有機溶媒が好ましく、例
えば、酢酸エチル等のエステル類、アセトン等のケトン
類、酢酸、蟻酸等のカルボン酸類が挙げられる。また、
溶媒の使用量は、特に限定はされないが、一般式（２）
の化合物１重量部当たり通常１〜１００重量部程度が好
ましい。

【００３１】一般式（２）の化合物と、一般式（３）の
化合物との使用割合は、通常（２）に対して（３）を１
〜５０倍モル程度とするのがよい。

【００３２】反応は、通常０〜８０℃程度で、常圧にて
１〜４０時間程度行われる。

【００３３】一般式（１）で表わされる化合物の他の製
造方法としては、下記反応式−IIに示す方法も挙げられ
る。

【００３４】

【化１３】

【００３５】即ち、 一般式（１）

【００３６】

【化１４】

【００３７】［式中、Ｒ¹及びＲ²は、同一又は異なっ
て、炭素数１〜３のアルキル基を示す。Ｒ³は、置換さ
れていることのある炭素数６〜１８のアルキル基を示
す。Ｒ⁴、Ｒ ⁵及びＲ⁶は、同一又は異なって、水素原子
又は炭素数１〜３のアルキル基を示す。Ｘは、有機酸又
は無機酸の残基を示す。ｈ、ｉ及びｋは、同一又は異な
って０〜１７の整数を示し、ｊは０又は１を示し、ｈ、
ｉ、ｊ及びｋの和は１７以下である。ｌは、０〜１８の
整数を示す。ｍは０又は１を示す。]で表される第四級
アンモニウム塩化合物の製造方法であって、一般式
（５）：

【００３８】

【化１５】

【００３９】［式中、Ｘ、ｈ、ｉ、ｊ、ｋ及びｌは、そ
れぞれ前記と同じ。］で表わされるアルコールと、一般
式（３）

【００４０】

【化１６】

【００４１】［式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びｍは、それぞ
れ前記と同じ。］で表される化合物とを反応させ、一般
式（６）

【００４２】

【化１７】

【００４３】［式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｘ、ｈ、ｉ、
ｊ、ｋ、ｌ及びｍは、それぞれ前記と同じ。］で表され
る化合物を得る工程；及び一般式（６）で表される化合
物と、一般式（７）

【００４４】

【化１８】

【００４５】［式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は、それぞれ前
記と同じ。］で表される化合物とを反応させて一般式
（１）で表わされるダイマー型の第四級アンモニウム塩
化合物を得る工程、を含むことを特徴とする方法によっ
ても、一般式（１）の化合物を得ることができる。

【００４６】一般式（５）で表わされる化合物として
は、例えば、２，３−ジブロモ−１−プロパノール、
２，３−ジクロロ−１−プロパノール２，３−ジヨード
−１−プロパノール等が使用できる。

【００４７】一般式（７）で表される化合物としては、
ジメチルオクチルアミン、ジメチルデシルアミン、ジメ
チルドデシルアミン、ジメチルテトラデシルアミン、ジ
メチルヘキサデシルアミン等が好ましく例示される。

【００４８】一般式（５）及び（７）の化合物は、工業
的に容易に入手することができる。

【００４９】一般式（５）の化合物と一般式（３）の化
合物との反応は、通常溶媒中又は無溶媒のいずれであっ
ても行うことができるが、本発明においては、溶媒中で
行うのが好ましい。使用される溶媒としては、有機溶媒
が好ましく、例えば、酢酸エチル等のエステル類、アセ
トン等のケトン類、酢酸、蟻酸等のカルボン酸類等が挙
げられる。また、溶媒の使用量は、特に限定はされない
が、一般式（５）の化合物１重量部当たり通常１〜２０
重量部程度が好ましい。一般式（５）の化合物と一般式
（３）の化合物との使用割合は、通常（５）の化合物１
モルに対して（３）を１〜３モル程度である。第１工程
における反応は、通常０〜８０℃程度で、常圧にて０．
２〜５時間程度行われる。

【００５０】一般式（５）の化合物と一般式（３）の化
合物との反応終了後、通常、得られた反応混合物から一
般式（６）の化合物を精製し、第２工程に供する。

【００５１】一般式（７）の化合物の使用量は、通常、
第１工程で用いた一般式（５）の化合物１モルに対して
２〜４モル程度である。第２工程における反応は、通常
０〜８０℃程度で、常圧又は５０〜５００MPa程度の加
圧条件下にて１０〜９６時間程度行われる。

【００５２】反応生成物である一般式（１）の化合物
は、通常の分離、精製手段、例えば再結晶、溶媒抽出
法、カラムクロマトグラフィー法等を用いて、容易に単
離、精製することができる。

【００５３】一般式（１）で表される化合物は、各種の
菌（緑膿菌、大腸菌等のグラム陰性菌；黄色ブドウ球
菌、枯草菌等のグラム陽性菌；或いはカビ、酵母等）に
対して優れた抗菌作用を有している。また、一般式
（１）の化合物は、帯電防止性を有している。

【００５４】従って、本発明の一般式（１）の化合物
は、抗菌剤又は耐電防止剤の有効成分として使用するこ
とができ、本発明は、一般式（１）で表わされる化合物
を有効成分として含有する抗菌剤及び帯電防止剤（以
下、「本発明抗菌剤」、「本発明帯電防止剤」という場
合がある。）も含むものである。尚、本発明において、
抗菌剤とは、殺菌作用又は静菌作用を奏し得る製剤を意
味する。従って、本発明の抗菌剤は、殺菌剤として使用
することもできる。

【００５５】本発明の一般式（１）の化合物を抗菌剤及
び帯電防止剤の有効成分として用いる場合は、他の成分
を加えずそのまま使用してもよいが、通常は、抗菌剤又
は耐電防止剤に通常用いられる固体担体、液体担体等と
混合し、必要に応じて界面活性剤、その他の成分を添加
して、乳剤、水和剤、粒剤、微粒剤、粉剤、塗布剤、ス
プレー剤、エアゾール、煙霧剤等の形態に調製して使用
する。

【００５６】本発明において、上記各種形態に調製する
に当たり、一般式（１）の化合物の配合量はその形態に
応じて適宜設定することができ、約０．０００１〜１０
０重量％、好ましくは約０．００１〜１０重量％とする
ことができる。調製された製剤は、目的に応じて、その
ままで、又は担体若しくは水で希釈して用いることがで
きる。希釈する場合は、その目的に応じた濃度に希釈す
ればよいが、好ましくは、本発明の一般式（１）の化合
物を、０．００００１〜５０重量％含有するように希釈
して使用するのがよい。

【００５７】本発明抗菌剤及び帯電防止剤は、上記した
ような液体製剤を、ガーゼ、不織布、綿、紙等に保持さ
せて使用することもできる。上記抗菌剤の１回の使用量
は、製剤の種類、使用場所、使用方法、対象となる菌の
種類等によって異なり、特に限定されるものではなく、
例えば、本発明抗菌剤を容器等の抗菌ないし殺菌に用い
る場合は、上記したような濃度の製剤をそのまま又は上
記したような濃度に希釈して、適宜量用いることができ
る。例えば、ガーゼ等に保持させて使用する場合は、ガ
ーゼ等に１ｍ２当たり０．０００１〜１０ｇとなるよう
な量で用いることが好ましい。耐電防止剤についても、
用途に応じた量を適宜設定すればよい。

【００５８】本発明一般式（１）の化合物を抗菌剤や耐
電防止剤として用いる場合、上記した使用法以外にも、
抗菌剤や耐電防止剤の慣用されている使用法、例えば、
高分子材料に配合するなどして用いることができる。

【００５９】また、一般式（１）で表される化合物は殺
藻剤、防腐剤、繊維または繊維の後処理剤、紙処理剤、
凝集剤、洗浄剤などの用途にも用いることができる。こ
れら用途においても、常法に従って一般式（１）の化合
物を使用すればよい。

【００６０】一般式（１）の化合物は分子中に二重結合
を有しているので、常法に従って重合させ、一般式
（４）で表される繰返し単位を含むポリマー（以下、単
に“本発明のポリマー”という場合がある）を得ること
ができる。

【００６１】本発明のポリマーは、一般式（４）で表さ
れる繰返し単位のみからなるホモポリマーであってもよ
いが、通常、他の繰返し単位を含むコポリマーである。
本発明のポリマーは、一般式（１）で表される化合物
と、必要に応じて当該化合物と共重合しうる単量体（例
えば、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステ
ル、メタクリル酸エステル等のアクリル系単量体、スチ
レン、酢酸ビニル、塩化ビニル等のビニル系単量体、エ
チレン、プロピレン等のオレフィン系単量体）とを、常
法に従って重合することにより得ることができる。本発
明のポリマーがコポリマーである場合、一般式（４）で
表される繰返し単位と、他の単量体に由来する繰返し単
位との割合（モル比）は、通常１：１０〜１：１０,０
００程度である。

【００６２】本発明のポリマーの分子量は、その種類、
用途に応じて適宜設定できるものであるが、通常、数平
均分子量で１,０００〜１,０００,０００程度、好まし
くは、３，０００〜３０，０００程度である。

【００６３】本発明のポリマーは、例えば、一般式
（１）の化合物、アゾビスイソブチロニトリル，過酸化
ベンゾイル，ｔ−ブチルヒドロペルオキシド，過硫酸カ
リウム，ジｔ−ブチルペルオキシド，トリブチルホウ素
/Ｏ₂（Ｂ(Ｂｕ)₃/Ｏ₂）などの開始剤（通常、全単量体
１００重量部に対して０．０１〜１重量部程度使用）及
び必要に応じて前記に例示した他の単量体との混合物
を、キシレン，ベンゼン、トルエン、メチルアルコー
ル、アセトン、テトラヒドロフランなどの溶媒（通常、
全単量体１００重量部に対して０〜１０,０００重量部
程度使用）中にて、−８０〜１４０℃程度にて、或いは
光照射下にて１〜４８時間程度重合させることにより得
ることができる。ポリマーが得られたことは、ＮＭＲ、
ＩＲ、元素分析、分子量測定により確認することができ
る。

【００６４】一般式（１）の化合物は、抗菌性や帯電防
止性を有しているが、一般式（１）の化合物を用いて得
られたポリマー、即ち、一般式（４）を繰返し単位とし
て含むポリマーも、それ自体抗菌作用や帯電防止作用を
有している。

【００６５】従って、本発明ポリマーは、ポリマー型の
抗菌剤、耐電防止剤などとして、他の高分子材料（例え
ば、ポリオレフィン系重合体、アクリル系重合体、ビニ
ル系重合体）に常法に従って練り込んで（ブレンドし
て）、各種成形品とすることができる。本発明のポリマ
ーが一般式(1)の化合物と他の単量体とを共重合させて
得られた共重合体である場合には、他の単量体を繰返し
単位として含む高分子に配合すると相溶しやすくなる。
また、本発明のポリマーが共重合体であれば、抗菌性や
帯電防止性などの表面処理機能が直接導入されており、
それ自体抗菌作用、帯電防止作用などを有しているの
で、該共重合体をそのまま常法に従って成形すれば、抗
菌性や帯電防止性有する成形体［例えば、電子部品材
料、耐電防止用包装材（フィルムや容器）、抗菌性包装
材（フィルムや容器）］が得られる。

【００６６】他の高分子に配合する場合の配合量は、所
望の表面特性（抗菌性ないし帯電防止性）に応じて適宜
設定することができるが、通常、他の高分子１００重量
部に対して本発明のポリマー０．０１〜１０重量部程度
である。

【００６７】また、一般式（４）を繰返し単位として含
むポリマーも、殺藻剤、防腐剤、繊維または繊維の後処
理剤、紙処理剤、凝集剤、洗浄剤などに使用可能である
ことが期待できる。

【００６８】このように、本発明のポリマーは抗菌作
用、帯電防止作用などの種々の作用を有しており、従っ
て、該ポリマーを各種高分子材料の成型時に混合ないし
混練することにより、高分子材料に配合して抗菌、帯電
防止などの処理をした成型品を容易に製造することが可
能になる。また、ポリマーとして配合した場合は環境中
に溶出しにくく、効果の持続性及び人体、環境等に対す
る安全性の向上が期待できる。さらに、本発明のポリマ
ーが一般式(1)の化合物と他の単量体とを共重合させて
得られた共重合体をそのまま成形した成形品も、効果の
持続性などに優れている。

【００６９】

【実施例】以下、本発明を実施例及び試験例により説明
する。

【００７０】実施例１ ２，３−ビス（ジメチルヘキサデシルアンモニウムブロ
マイド）−１−プロパノール（ｉ−Ｐｒ−１６）１ｇ
（１.３２mmol）を、酢酸５０ｍｌ中に攪拌分散させ、
氷冷後、ＭＡＩ １.５ｇ（１３.５mmol）を加えた。０
℃で３時間、さらに室温で２時間攪拌した。次いで、６
０℃に加熱して均一系とした後、数分間攪拌した。その
後、反応混合物を室温まで冷却し、析出物を濾別し、酢
酸エチルから再結晶した（収率約２０％）。

【００７１】m.p.：１３２−１３５℃ 元素分析 実測値；Ｃ：６０.７７，Ｈ：１０.０５，Ｎ：４.５１ 計算値；Ｃ：６０.９６，Ｈ：１０.４４，Ｎ：４.８４

【００７２】実施例２ 実施例２−１ ２，３−ジブロモプロパノール（ＤＢＰ） ２．１４ｇ
（９.８mmol）を、酢酸エチル１０ｍｌに溶かし、氷冷
下で、ＭＡＩ １.７ｇ（１４.９mmol）を滴下して加
え、１５分間反応させた後、濃縮し、残留物を酢酸エチ
ル/ヘキサン混合物から再結晶した（収率約６０％）。
一般式（６）において、Ｘ＝臭素原子、ｈ、ｊ、ｋ及び
ｍ＝０、ｉ及びｌ＝１、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶＝水素原子で
ある化合物が得られたことを、¹Ｈ−ＮＭＲ及び元素分
析で確認した。

【００７３】m.p.：９０℃ 元素分析 実測値；Ｃ：２９.５０，Ｈ： ３.２９，Ｎ：４.４８ 計算値；Ｃ：２９.２１，Ｈ： ３.３７，Ｎ：４.２６

【００７４】実施例２−２ ジメチルヘキサデシルアミン２．６９ｇ（１０mmol）
と、上記実施例２−１で得られた化合物１．６４ｇ（５
mmol）、溶媒としてエタノール（５ｍｌ）を高圧パック
に充填し、これを超高圧反応装置に入れて、６８℃、２
００ＭＰａの条件下で４８時間反応させた。反応混合物
をロータリーエバポレーターを用いて減圧濃縮し、析出
した結晶をジエチルエーテルで洗浄後、エタノールから
再結晶を行い、結晶を精製して目的化合物を得た（収率
約５０％）。

【００７５】m.p.：１３２−１３５℃ 元素分析： 実測値；Ｃ：６０.７７，Ｈ：１０.２２，Ｎ：４.６３ 計算値；Ｃ：６０.９６，Ｈ：１０.４４，Ｎ：４.８４

【００７６】実施例３ アゾビスイソブチルニトリル０．０５ｇを重合開始剤と
して用い、実施例２で得られた化合物１ｇ、メタクリル
酸メチル５ｇを７０℃にて２時間重合させた。得られた
ポリマーを元素分析及びＩＲにかけ、実施例２で得られ
た化合物とメタクリル酸メチルが共重合したポリマーが
得られた。

【００７７】元素分析 実測値；Ｃ：２４．６６， Ｈ：８．１１，Ｎ：０．３
３ 得られたポリマーの数平均分子量（ＧＰＣにより測定）
は、８０００であった。

【００７８】実施例４（ＬＡＳ法による４級化率の測
定） 実施例３で得られたポリマーと、ポリメタクリル酸メチ
ル（ＰＭＭＡ）をそれぞれ０．０５ｇずつ量り取り、そ
れらに２０ｍｌの０．１ｍＭ ＬＡＳ水溶液（直鎖ドデ
シルベンゼンスルホン酸ナトリウムの水溶液；LAS ０．
０１７ｇ−蒸留水 ５００ｍｌ）を加え、５分間撹拌し
た。その後、未反応のＬＡＳ水溶液を洗い流すために、
３０ｍｌの蒸留水中で撹拌しながら洗浄した。その濾液
をそれぞれ５０ｍｌにメスアップした。これらの溶液の
ＯＤ₂₂₃を測定し、逆滴定検量線法により４級化率（μm
ol/ｇ）を測定した。

【００７９】

【表１】

【００８０】試験例１ 殺菌試験 保存培地からEscherichia coli K12 W3110 及びStaphyl
ococcus aureus IFO 12732 を別々のＮＢ培地５ｍｌに
接種し、３７℃で１８時間静置培養した定常期細胞を、
無菌水でＯＤ₆₆₀＝０．１となるように調製し、無菌水
で１００倍希釈したものを菌体懸濁液として使用した。
２００ｍｌの三角フラスコに菌体懸濁液４０ｍｌを加
え、さらに実施例３のポリマーと、ＰＭＭＡを別々に各
々０．２ｇずつ加えた。それらを37℃で振盪培養し、３
０分後に培養液を０．５ｍｌずつ取り、Nutrient Agar
に塗布し、３７℃で２４時間静置培養した後、コロニー
数を測定した。

【００８１】

【表２】

【００８２】

【表３】

【００８３】実験例２ 実施例３で得られたポリマー及びＰＭＭＡをそれぞれフ
ィルムに成形し、JISK 6911に従って表面抵抗を測定し
た。またオネストメーター法により、１０ｋＶ帯電圧に
おける半減時間を求めた。結果を表４に示す。

【００８４】

【表４】

【００８５】本願発明のポリマーには帯電防止機能が認
められた。

【００８６】

【発明の効果】一般式（１）で表される第４級アンモニ
ウム塩化合物は、抗菌活性及び帯電防止作用を有し、ま
た、一般式（１）で表される化合物を用いて得られた、
一般式（４）で表される繰返し単位を含むポリマーも抗
菌活性及び帯電防止作用を有する。ポリマー型の抗菌剤
及び帯電防止剤は、樹脂に混練して成形品とした場合、
あるいはそれ自体を成形品とした場合、環境中に流出し
にくく、抗菌性及び帯電防止性が持続するので好まし
い。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｃ 269/02 Ｃ０７Ｃ 269/02 Ｃ０８Ｆ 20/34 Ｃ０８Ｆ 20/34 Ｃ０９Ｋ 3/16 １０４ Ｃ０９Ｋ 3/16 １０４Ｅ １０４Ｃ (72)発明者 樺山 峰明 徳島県鳴門市瀬戸町明神丸山85番地の１ 富田製薬株式会社内 (72)発明者 武知 博憲 徳島県徳島市雑賀町西開11番地の２ 徳島 県立工業技術センター内 (72)発明者 津村 忠 徳島県徳島市雑賀町西開11番地の２ 徳島 県立工業技術センター内 (72)発明者 野々村 俊夫 徳島県徳島市雑賀町西開11番地の２ 徳島 県立工業技術センター内 (72)発明者 郡 寿也 徳島県徳島市雑賀町西開11番地の２ 徳島 県立工業技術センター内 (72)発明者 妹尾 真紀子 徳島県徳島市南常三島町２丁目１番地 徳 島大学工学部化学応用工学科内 (72)発明者 福井 智也 徳島県徳島市南常三島町２丁目１番地 徳 島大学工学部化学応用工学科内 (72)発明者 前田 拓也 徳島県徳島市南常三島町２丁目１番地 徳 島大学工学部生物工学科内 (72)発明者 釼木 順一 徳島県徳島市南常三島町２丁目１番地 徳 島大学工学部生物工学科内 Ｆターム(参考） 4C086 AA01 AA02 AA03 AA04 FA03 MA04 NA14 ZB35 4C206 AA01 AA02 AA03 AA04 FA42 HA18 MA04 NA14 ZB35 4H006 AA01 AA03 AB03 BB16 BB17 4H011 AA02 AD01 BA01 BB13 BB19 DD01 DF03 4J100 AL08P BA08P BA32P BA34P BD00P CA01 DA58 DA71 JA43 JA50 JA57

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（１）： 【化１】 ［式中、Ｒ¹及びＲ²は、同一又は異なって、炭素数１〜
   ３のアルキル基を示す。Ｒ³は、置換されていることの
   ある炭素数６〜１８のアルキル基を示す。Ｒ⁴、Ｒ ⁵及び
   Ｒ⁶は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数１〜３
   のアルキル基を示す。Ｘは、有機酸又は無機酸の残基を
   示す。ｈ、ｉ及びｋは、同一又は異なって０〜１７の整
   数を示し、ｊは０又は１を示し、ｈ、ｉ、ｊ及びｋの和
   は１７以下である。ｌは、０〜１８の整数を示す。ｍは
   ０又は１を示す。］で表わされる第四級アンモニウム塩
   化合物。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の化合物を有効成分とし
   て含有する抗菌剤。
3. 【請求項３】 請求項１に記載の化合物を有効成分とし
   て含有する耐電防止剤。
4. 【請求項４】 一般式（１） 【化２】 ［式中、Ｒ¹及びＲ²は、同一又は異なって、炭素数１〜
   ３のアルキル基を示す。Ｒ³は、置換されていることの
   ある炭素数６〜１８のアルキル基を示す。Ｒ⁴、Ｒ ⁵及び
   Ｒ⁶は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数１〜３
   のアルキル基を示す。Ｘは、有機酸又は無機酸の残基を
   示す。ｈ、ｉ及びｋは、同一又は異なって０〜１７の整
   数を示し、ｊは０又は１を示し、ｈ、ｉ、ｊ及びｋの和
   は１７以下である。ｌは、０〜１８の整数を示す。ｍは
   ０又は１を示す。］で表される第四級アンモニウム塩化
   合物の製造方法であって、一般式（２）： 【化３】 ［式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｘ、ｈ、ｉ、ｊ、ｋ及びｌ
   は、それぞれ前記と同じ。］で表わされる第４級アンモ
   ニウム塩化合物と、一般式（３）で表される化合物 【化４】 ［式中、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びｍはそれぞれ前記と同
   じ。］とを反応させることを特徴とする方法。
5. 【請求項５】 一般式（４） 【化５】 ［式中、Ｒ¹及びＲ²は、同一又は異なって、炭素数１〜
   ３のアルキル基を示す。Ｒ³は、置換されていることの
   ある炭素数６〜１８のアルキル基を示す。Ｒ⁴、Ｒ ⁵及び
   Ｒ⁶は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数１〜３
   のアルキル基を示す。Ｘは、有機酸又は無機酸の残基を
   示す。ｈ、ｉ及びｋは、同一又は異なって０〜１７の整
   数を示し、ｊは０又は１を示し、ｈ、ｉ、ｊ及びｋの和
   は１７以下である。ｌは、０〜１８の整数を示す。ｍは
   ０又は１を示す。］で表される繰返し単位を含むポリマ
   ー。
6. 【請求項６】 一般式（４） 【化６】 ［式中、Ｒ¹及びＲ²は、同一又は異なって、炭素数１〜
   ３のアルキル基を示す。Ｒ³は、置換されていることの
   ある炭素数６〜１８のアルキル基を示す。Ｒ⁴、Ｒ ⁵及び
   Ｒ⁶は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数１〜３
   のアルキル基を示す。Ｘは、有機酸又は無機酸の残基を
   示す。ｈ、ｉ及びｋは、同一又は異なって０〜１７の整
   数を示し、ｊは０又は１を示し、ｈ、ｉ、ｊ及びｋの和
   は１７以下である。ｌは、０〜１８の整数を示す。ｍは
   ０又は１を示す。］で表される繰返し単位を含むポリマ
   ーであることを特徴とする抗菌剤。
7. 【請求項７】 一般式（４） 【化７】 ［式中、Ｒ¹及びＲ²は、同一又は異なって、炭素数１〜
   ３のアルキル基を示す。Ｒ³は、置換されていることの
   ある炭素数６〜１８のアルキル基を示す。Ｒ⁴、Ｒ ⁵及び
   Ｒ⁶は、同一又は異なって、水素原子又は炭素数１〜３
   のアルキル基を示す。Ｘは、有機酸又は無機酸の残基を
   示す。ｈ、ｉ及びｋは、同一又は異なって０〜１７の整
   数を示し、ｊは０又は１を示し、ｈ、ｉ、ｊ及びｋの和
   は１７以下である。ｌは、０〜１８の整数を示す。ｍは
   ０又は１を示す。］で表される繰返し単位を含むポリマ
   ーであることを特徴とする帯電防止剤。