JP2002052444A - 平面研削装置およびワ−クの研削方法 - Google Patents

平面研削装置およびワ−クの研削方法

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JP2002052444A
JP2002052444A JP2000239248A JP2000239248A JP2002052444A JP 2002052444 A JP2002052444 A JP 2002052444A JP 2000239248 A JP2000239248 A JP 2000239248A JP 2000239248 A JP2000239248 A JP 2000239248A JP 2002052444 A JP2002052444 A JP 2002052444A
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Keiichi Kosugi
桂一 小杉
Akinori Yui
明紀 由井
Yuichi Kiyama
裕一 木山
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Okamoto Machine Tool Works Ltd
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】寸法精度の優れたワ−クを与える平面研削装置
の提供。 【解決手段】ワ−クテ−ブル11に対向して砥石軸頭の
側面に取り付けられたセンサユニット90と、気体を吹
き付けるノズルと、基準ブロック100と、コラムを前
後方向に所定量移動させ、タッチプロ−ブを基準ブロッ
ク上面に接触させた際に、接触したことを検知する接触
検知手段と、その接触した際のワ−クテ−ブルから基準
ブロック上面までの高さHを記憶する記憶部と、ワ−ク
テ−ブルを左右方向に所定量移動させ、タッチプロ−ブ
をワ−ク上面に接触させた際に、接触したことを検知す
る接触検知手段と、その接触した際のワ−クテ−ブルか
らワ−ク上面までの高さhを記憶する記憶部と、研削終
了後の高さ(H+β)を記憶する記憶部と、および、前
記記憶部に記憶されたhとHの差に基づき、研削する取
り代量αを算出する演算手段と、を有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ワ−クテ−ブルの
温度分布の影響がワ−クの加工寸法に与える影響を小さ
くしたサドルタイプ、コラムタイプ、または門型タイプ
の平面研削装置に関するものである。また、本発明は、
ワ−クの平面研削加工方法に関する。
【0002】
【従来の技術】砥石によりテ−ブル上に設けられたワ−
クを研削するサドルタイプまたはコラムタイプの研削装
置は知られている(特開昭55−83567号、同59
−59349号、同61−173851号、特開平4−
13552号、特開2000−135675号、特許第
2694189号、特許第3023018号)。図5に
コラム型NC平面研削装置1の一例を示す。図中、10
は作業台部、11は水平方向(X軸方向)に往復移動可
能なテ−ブル、12は電磁チャック、13は前後方向
(Z軸方向)に往復移動可能なサドル、20は砥石装
置、21は砥石を垂直方向(Y軸方向)に移動する昇降
機構を備えたコラム、22は砥石頭、24は砥石軸に備
えられた砥石、70は操作盤、80はベッドである。
【0003】ワ−クの研削に当たって、予め総研削量と
テ−ブル反転毎の切り込み量が設定されており、研削時
にテ−ブル送りを行いながらその反転時毎に切り込み量
分づつ砥石を下降することによりさせ研削する。このN
C平面研削装置1では、テ−ブル11上の電磁チャック
12にワ−クを固定し、サドル13を移動させてZ軸方
向の位置を決め、テ−ブル11をX軸方向に往復移動さ
せる過程で砥石軸頭に備えられた回転している砥石24
をワ−クに接触させ、砥石軸頭をY軸方向に送りをかけ
てワ−クに切り込みを懸けて研削する。この際、ワ−ク
表面には図示されていない研削液供給ノズルより研削液
が供給される。
【0004】総研削量は、図6にサイクル図示すように
粗研削代量と精研削代量に振り分けられ、粗研削ではテ
−ブル反転1回毎の切り込み代は大きく取られる。精研
削ではテ−ブル反転1回毎の切り込み代は粗研削時の取
り代量より小さい。砥石は加工原点の研削開始点位置ま
でワ−ク面から後退され、操作盤のボタンを押して、ま
たはハンドルを回して砥石底面をワ−ク表面に2〜3μ
m離れた位置まです速く近づけ、ついで手パハンドルを
手動で動かして砥石底面をワ−クに接触させ、粗研削が
開始される。
【0005】粗研削代量が研削され、粗研削が終了する
と、砥石は若干後退され、精研削の準備を取る。操作盤
のボタンを押して、またはハンドルを廻して砥石底面を
ワ−ク表面に2〜3μm離れた位置まです速く近づけ、
ついで手パハンドルを手動で動かして砥石底面をワ−ク
に接触させ、精研削が開始される。精研削代量が研削さ
れ、精研削が終了すると、砥石は若干後退され、ついで
砥石がワ−ク表面に0μmの切り込みを行うスパ−クア
ウトが0〜10回行われ、砥石は後退(リトラクト)
し、研削が終了する。
【0006】ワ−クの研削加工中には砥石が磨耗し、表
面粗さ、研削性、切残し量が変化するので、砥石の外周
を適時ドレッシングする必要がある(特開2000−1
35675号など前記特許公報参照)。ドレッサにはテ
−ブル上に備えられて使用される卓上ドレッサまたは、
砥石頭に設けられる頭上ドレッサが利用される。
【0007】平面研削装置において、テ−ブルと砥石軸
芯のY軸上の位置関係は設計上明確であり、従来、ワ−
クの研削取り代のワ−ク高さの測定は、テ−ブル表面を
基準点(0mm位置)として行っている。しかしながら
ワ−クの研削時間が長かったり、連続してワ−クの研削
がなされる場合、実運転中に熱変形等によるベッドの伸
縮があるので、テ−ブルと砥石軸芯のY軸上の位置関係
は精密には設定値と異なるものとなり、製品によっては
1〜3μm程度寸法精度がずれることがある。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明等は、タッチプ
ロ−ブを備えたセンサユニットと基準ブロックを用い、
ワ−クの研削取り代の値を基準ブロックとワ−クテ−ブ
ル表面間の高さと、ワ−クの研削面とワ−クテ−ブル表
面間の高さから算出する方法を着想し、本発明に到っ
た。
【0009】本発明の請求項1は、左右方向に往復移動
可能なワ−クテ−ブルと、前記ワ−クテ−ブルに対し前
後方向に移動可能なコラムに保持されたワ−クを加工す
るための砥石軸頭の砥石軸に軸承された砥石と、該砥石
軸を上下方向に昇降可能な送り機構と、砥石を回転させ
る駆動機構と、砥石軸の前後軸および上下軸の移動量を
数値制御する制御機構と、ポジショニング機能を有する
ワ−クテ−ブルの左右軸とを備える平面研削装置であっ
て、該平面研削装置は、ワ−クテ−ブルに対向して砥石
軸頭に取り付けられた先端にスタイラスを有するタッチ
プロ−ブを備えたセンサユニットと、ワ−クテ−ブル上
に備えられた基準ブロックとワ−クテ−ブルを前後方向
に所定量移動させ、タッチプロ−ブのスタイラスを基準
ブロック上面に接触させた際に、接触したことを検知す
る接触検知手段と、その接触した際のワ−クテ−ブルか
ら基準ブロック上面までの高さHiを記憶する記憶部
と、ワ−クテ−ブルを左右方向に所定量移動させ、タッ
チプロ−ブのスタイラスをワ−ク上面に接触させた際
に、接触したことを検知する接触検知手段と、その接触
した際のワ−クテ−ブルからワ−ク上面までの高さhi
を記憶する記憶部と、制御装置に入力された、研削終了
後の所望の加工ワ−クの高さ(H+β)を記憶する記憶
部と、および、前記記憶部に記憶されたhiとHiの差に
基づき、研削する取り代量αを算出する演算手段と、を
有することを特徴とする平面研削装置を提供するもので
ある。
【0010】熱膨張率の小さい基準ブロックを介してタ
ッチプロ−ブで測定された値である実際に研削された取
り代量が算出され、残取り代量も算出されるのでベッド
の熱膨張率の影響を受けることはない。
【0011】本発明の請求項2は、上記平面研削装置に
おいて、スタイラスを有するタッチプロ−ブを備えたセ
ンサユニットは、砥石軸頭の側面に配置され、基準ブロ
ックは、ワ−クテ−ブル上に載置されたワ−クの前側側
端から0〜100mm以内に設置されることを特徴とす
る。
【0012】センサユニットが砥石軸に軸承された砥石
を保護する砥石ガ−ドに配備されるので、砥石軸とセン
サユニット間の距離が確定し、砥石径の算出や、タッチ
プロ−ブ/ワ−ク表面間距離、タッチプロ−ブ/基準ブ
ロック表面間距離が砥石軸を起点として算出できる。ま
た、基準ブロックは、ワ−クテ−ブル上に載置されたワ
−クの前側側端から0〜100mm以内に設置されるの
で、基準ブロックがワ−クテ−ブルの左右端に設けられ
たときよりもワ−クに近く、ワ−クとほぼ同じ温度のテ
−ブル上で距離が測定されることとなり、テ−ブルの温
度分布の影響を受けない。
【0013】本発明の請求項3は、平面研削装置のワ−
クテ−ブルの左右方向の反転位置と、コラムの前後方向
の反転位置と、研削加工された後の所望のワ−ク厚み
(H+β)を制御装置に入力し、コラムを前後方向に所
定量移動させ、タッチプロ−ブのスタイラスを基準ブロ
ック上面に接触させてワ−クテ−ブルから基準ブロック
上面までの高さHを測定し、ついで、ワ−クテ−ブルを
左右方向に所定量移動させ、タッチプロ−ブのスタイラ
スをワ−ク上面に接触させてワ−クテ−ブルからワ−ク
上面までの高さhを測定し、総研削代量αをα=(h−
H−β)と算出し、この総研削代量αを粗研削取り代量
α1と精研削取り代量α2に制御装置で振り分け、粗研削
する取り代量α1を算出するとともに、基準ブロック上
面の高さHを基準にして粗研削加工開始位置Y1を決定
し、砥石軸を粗研削加工開始位置Y1に位置決めし、粗
研削を行った後、コラムを前後方向に所定量移動させ、
タッチプロ−ブのスタイラスを基準ブロック上面に接触
させてワ−クテ−ブルから基準ブロック上面までの高さ
1を測定し、ついで、ワ−クテ−ブルを左右方向に所
定量移動させ、タッチプロ−ブのスタイラスをワ−ク上
面に接触させてワ−クテ−ブルからワ−ク上面までの高
さh1を測定し、精研削する取り代量α2を(h1−H1
β)式より算出するとともに、基準ブロック上面の高さ
iを基準にして精研削加工開始位置Y2を決定し、砥石
軸を精研削加工開始位置Y2に位置決めし、精研削を行
った後、コラムを前後方向に所定量移動させ、タッチプ
ロ−ブのスタイラスを基準ブロック上面に接触させてワ
−クテ−ブルから基準ブロック上面までの高さHiを測
定し、ついで、ワ−クテ−ブルを左右方向に所定量移動
させ、タッチプロ−ブのスタイラスをワ−ク上面に接触
させてワ−クテ−ブルからワ−ク上面までの高さhi
測定し、ワ−クの仕上がり寸法(hi−Hi)の値を演算
し、(hi−Hi)=βのときは、研削終了とし、(hi
−Hi)<βのときは、(hi−Hi−β)の量更に補正
の精研削を行うことを制御装置に入力し、補正研削を行
うことを特徴とする、ワ−クの研削方法を提供するもの
である。
【0014】コラム型平面研削装置を用い、ワ−クを研
削する際、精研削終了後、加工されたワ−クの高さを基
準ブロックの高さ位置を基準に求め、さらに補正の精研
削が必要とされたときは製品取り代量を補正して研削を
行うので寸法精度の良好な加工ワ−クが得られる。
【0015】本発明の請求項4は、ベッドに対し、左右
方向および前後方向に往復移動可能なワ−クテ−ブル
と、前記ワ−クテ−ブルに対し上方に設けられた砥石軸
頭の砥石軸に軸承された砥石と、該砥石軸を上下方向に
昇降可能な送り機構と、砥石を回転させる駆動機構と、
ワ−クテ−ブルの左右軸および前後軸並びに砥石軸の上
下軸の移動量を数値制御する制御機構とを有する平面研
削装置であって、該平面研削装置は、ワ−クテ−ブルに
対向して砥石軸頭に取り付けられた先端にのスタイラス
を有するタッチプロ−ブを備えたセンサユニットと、ワ
−クテ−ブル上に備えられた基準ブロックとワ−クテ−
ブルを前後方向に所定量移動させ、タッチプロ−ブのス
タイラスを基準ブロック上面に接触させた際に、接触し
たことを検知する接触検知手段と、その接触した際のワ
−クテ−ブルから基準ブロック上面までの高さHiを記
憶する記憶部と、ワ−クテ−ブルを左右方向に所定量移
動させ、タッチプロ−ブのスタイラスをワ−ク上面に接
触させた際に、接触したことを検知する接触検知手段
と、その接触した際のワ−クテ−ブルからワ−ク上面ま
での高さhiを記憶する記憶部と、制御装置に入力され
た、研削終了後の所望の加工ワ−クの高さ(H+β)を
記憶する記憶部と、および、前記記憶部に記憶されたh
iとHiの差に基づき、研削する取り代量αを算出する演
算手段と、を有することを特徴とする平面研削装置を提
供するものである。
【0016】サドル型の平面研削装置において、熱膨張
率の小さい基準ブロックを介してタッチプロ−ブで測定
された値である実際に研削された取り代量が算出され、
残取り代量も算出されるのでベッドの熱膨張率の影響を
受けることはない。
【0017】本発明の請求項5は、平面研削装置のワ−
クテ−ブルの左右方向の反転位置および前後方向の反転
位置と、研削加工された後の所望のワ−ク厚み(H+
β)を制御装置に入力し、ワ−クテ−ブルを前後方向に
所定量移動させ、タッチプロ−ブのスタイラスを基準ブ
ロック上面に接触させてワ−クテ−ブルから基準ブロッ
ク上面までの高さHを測定し、コラムを前後方向に所定
量移動させ、タッチプロ−ブのスタイラスを基準ブロッ
ク上面に接触させてワ−クテ−ブルから基準ブロック上
面までの高さHを測定し、ついで、ワ−クテ−ブルを左
右方向に所定量移動させ、タッチプロ−ブのスタイラス
をワ−ク上面に接触させてワ−クテ−ブルからワ−ク上
面までの高さhを測定し、総研削代量αをα=(h−H
−β)と算出し、この総研削代量αを粗研削取り代量α
1と精研削取り代量α2に制御装置で振り分け、粗研削す
る取り代量α1を算出するとともに、基準ブロック上面
の高さHを基準にして粗研削加工開始位置Y1を決定
し、砥石軸を粗研削加工開始位置Y1に位置決めし、粗
研削を行った後、ワ−クテ−ブルを前後方向に所定量移
動させ、タッチプロ−ブのスタイラスを基準ブロック上
面に接触させてワ−クテ−ブルから基準ブロック上面ま
での高さH1を測定し、ついで、ワ−クテ−ブルを左右
方向に所定量移動させ、タッチプロ−ブのスタイラスを
ワ−ク上面に接触させてワ−クテ−ブルからワ−ク上面
までの高さh1を測定し、精研削する取り代量α2をを
(h1−H1−β)式より算出するとともに、基準ブロッ
ク上面の高さHiを基準にして精研削加工開始位置Y2
決定し、砥石軸を精研削加工開始位置Y2に位置決め
し、精研削を行った後、ワ−クテ−ブルを前後方向に所
定量移動させ、タッチプロ−ブのスタイラスを基準ブロ
ック上面に接触させてワ−クテ−ブルから基準ブロック
上面までの高さHiを測定し、ついで、ワ−クテ−ブル
を左右方向に所定量移動させ、タッチプロ−ブのスタイ
ラスをワ−ク上面に接触させてワ−クテ−ブルからワ−
ク上面までの高さhiを測定し、ワ−クの仕上がり寸法
(hi−Hi)の値を演算し、(hi−Hi)=βのとき
は、研削終了とし、(hi−Hi)<βのときは、(hi
−Hi−β)の量更に補正の精研削を行うことを制御装
置に入力し、補正研削を行うことを特徴とする、ワ−ク
の研削方法を提供するものである。
【0018】サドル型平面研削装置を用い、ワ−クを研
削する際、精研削終了後、加工されたワ−クの高さを基
準ブロックの高さ位置を基準に求め、さらに補正の精研
削が必要とされたときは製品取り代量を補正して研削を
行うので寸法精度の良好な加工ワ−クが得られる。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、図を用いて本発明をさらに
詳細に説明する。図1は、平面研削装置の一部を切り欠
いた正面図、図2はタッチプロ−ブを備えるセンサユニ
ットの正面図、図3は本発明のワ−クの平面研削方法の
フロ−図である。図4は研削前のワ−クの寸法と、研削
取り代量と基礎ブロックの高さの相関を示す図である。
【0020】図1に示す平面研削装置において、11は
水平方向(X軸方向)に往復移動可能なテ−ブル、wは
該テ−ブル上に置かれたワ−ク、22は砥石軸頭、24
は砥石軸に備えられた砥石、25は砥石カバ−、90は
タッチプロ−ブを備えたセンサユニット、91はスタイ
ラス、100は基準ブロックである。
【0021】図2に示すセンサユニット90において、
91はスタイラス、92はプロ−ブ、93はモジュ−
ル、94はジャンク、95はスピンドル、96は配線、
97はインタ−ファ−ス、98は平面研削装置の制御機
構、99は吹き付けるノズルで、スタイラス先端がワ−
クに触れている部分に0.4〜0.6Mpaの乾燥空気
を吹き付ける。接触検知手段であるセンサユニット90
は、砥石軸の軸芯からスタイラス先端が接触した被検査
物(ワ−クまたは基準ブロック)表面間の距離を測定す
るように設ける。制御機構98は、記憶部、演算部を備
える。
【0022】
【実施例】実施例1 図3のワ−クの平面研削方法のフロ−図を用いて、ワ−
クを粗研削、ついで精研削する例を以下に述べる。ま
ず、平面研削装置の電源および操作盤の電源をonと
し、テ−ブルの左右方向の反転位置と前後方向の反転位
置をティ−チングする(開始)200。テ−ブル11を
左方向に移動、ついでテ−ブルを後方向に後退させた
後、図示されていないサ−ボモ−タによりボ−ルネジを
回転させることにより砥石頭22を下降させ、センサユ
ニット90のタッチプロ−ブのスタイラス91を基準ブ
ロック表面に接触させ、基準測定201を行い、テ−ブ
ル表面から基準ブロック表面間の距離Hを制御装置98
に伝達し、記憶部に記録する。
【0023】砥石軸頭22を上昇させ、テ−ブル11を
前方向に前進させた後、砥石頭22を下降させ、センサ
ユニット90のスタイラス91をワ−クw表面に接触さ
せ、ワ−ク測定202を行い、テ−ブル表面からワ−ク
表面間の距離hを制御装置98に伝達し、記憶部に記録
する。
【0024】砥石径を制御装置98に入力し、ワ−ク表
面と砥石底面の間の距離Lを制御装置の演算部で計算
し、記憶部に記録する203。または、砥石軸頭22を
上昇させ、テ−ブル11を左方向に移動させた後、砥石
軸頭22を下降させて基準ブロックに砥石底面を接触さ
せ、その際の砥石軸のY軸方向の高さをサ−ボモ−タよ
り算出させ、前記基準測定201時の砥石軸のY軸方向
の高さとの差(L)を制御装置の演算部で計算し、記憶
部に記録する203。なお、この工程は、必須ではな
い。
【0025】研削終了後のワ−クの高さ(H+β)を制
御装置に入力し、総研削取り代量αを式α=(h−H−
β)より演算して求め、これを粗研削する研削代量α1
と精研削する研削代量α2とに振り分けて粗研削する研
削代量α1を算出し、制御装置に伝達するとともに、基
準ブロック上面の高さHを基準にして粗研削加工開始位
置Y1を決定する。図5に示すように、総研削取り代量
αは粗研削代量α1と精研削代量α2とに振り分けられ、
研削終了後のワ−クの高さ(H+β)は(h−α)に等
しいこととなる。
【0026】砥石軸頭22を上昇させ、粗研削加工開始
位置Y1に砥石を移動する205(図1の左側砥石参
照)。粗研削を開始し、算出された粗研削代量α1に相
当する研削取り代の研削を行う206。テ−ブル11を
左方向に移動、ついでテ−ブルを後方向に後退させた
後、図示されていないサ−ボモ−タによりボ−ルネジを
回転させることにより砥石軸頭22を下降させ、表面が
洗浄され、乾燥空気の吹付けにより乾燥された基準ブロ
ックの表面にセンサユニットのスタイラス91を接触さ
せ、粗研削の基準測定207を行い、テ−ブル表面から
基準ブロック表面間の距離H1を制御装置98に伝達
し、記憶部に記録する。
【0027】砥石軸頭22を上昇させ、テ−ブル11を
前方向に前進させた後、砥石軸頭22を下降させ、表面
が洗浄され、乾燥空気の吹付けにより乾燥されたワ−ク
w表面にセンサユニット90のスタイラス91を接触さ
せ、ワ−ク測定208を行い、テ−ブル表面からワ−ク
表面間の距離h1を制御装置98に伝達し、記憶部に記
録する。
【0028】精研削する取り代量α2を(h1−H1
β)式より算出するとともに、基準ブロック上面の高さ
1を基準にして精研削加工開始位置Y2を決定する20
9。
【0029】砥石軸を精研削加工開始位置Y2に位置決
めする210。
【0030】精研削を開始し、算出されたα2量の切り
込み研削を行う211.テ−ブル11を左方向に移動、
ついでテ−ブルを後方向に後退させた後、図示されてい
ないサ−ボモ−タによりボ−ルネジを回転させることに
より砥石軸頭22を下降させ、表面が洗浄され、乾燥空
気の吹付けにより乾燥された基準ブロック表面にセンサ
ユニト90のスタイラス91を接触させ、精研削の基準
測定212を行い、テ−ブル表面から基準ブロック表面
間の距離Hiを制御装置98に伝達し、記憶部に記録す
る。
【0031】砥石軸頭22を上昇させ、テ−ブル11を
前方向に前進させた後、砥石軸頭22を下降させ、表面
が洗浄された、乾燥空気の吹付けにより乾燥されたワ−
クw表面にセンサユニット90のスタイラス91を接触
させ、ワ−ク測定213を行い、テ−ブル表面からワ−
ク表面間の距離hiを制御装置98に伝達し、記憶部に
記録する。
【0032】ワ−クの仕上がり寸法の値(Hi+β)を
求めるに、(hi−Hi)=βの関係を利用し、(hi
i)の値を制御装置の演算部で比較する214。(hi
−Hi)=βのときは、研削終了215とし、その時点
で精研削はテ−ブルが反転位置に戻るまで行われ、反転
位置に戻ったところで精研削が終了される。(hi
i)<βのときは、(hi−Hi−β)の量(この補正
研削量は(α-h+hi)に相当する。)更に補正の精研
削を行うことが制御装置より指示され216、補正の精
研削を行う217。
【0033】補正研削217が行われ、製品寸法が算出
され、(hi−Hi=β)のときはその時点で精研削はテ
−ブルが反転位置に戻るまで行われ、反転位置に戻った
ところで補正研削が終了される215。
【0034】本発明の別態様として、制御装置の演算部
に補正研削の研削取り代量を算出させる工程216を制
御装置で行わず、作業者が補正研削の研削取り代量を制
御装置に入力させるときは、その入力した値が(hi
i)>βとなることを制御装置の演算部が算出したと
きにアラ−ム信号を発信する工程218を加えた変更に
する。
【0035】
【発明の効果】本発明のワ−クの平面研削方法は、テ−
ブルの温度分布の影響を受けず、寸法精度の良好な研削
ワ−クを与える。
【図面の簡単な説明】
【図1】 平面研削装置の一部を切り欠いた正面図であ
る。
【図2】 センサユニットの正面図である。
【図3】 本発明のワ−クの平面研削方法のフロ−図で
ある。
【図4】 研削前のワ−クの寸法と、研削取り代量と基
礎ブロックの高さの相関を示す図である。
【図5】 平面研削装置の斜視図である。
【図6】 ワ−クの平面研削のフロ−線図である。
【符号の説明】
1 平面研削装置 W ワ−ク 11 テ−ブル 22 砥石軸頭 24 砥石 90 センサユニット 91 スタイラス 98 制御装置 100 基準ブロック
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3C029 BB06 3C034 AA07 CA04 CA12 CA13 CB01 DD12 3C043 BA01 BA12 CC03

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 左右方向に往復移動可能なワ−クテ−ブ
    ルと、前記ワ−クテ−ブルに対し前後方向に移動可能な
    コラムに保持されたワ−クを加工するための砥石軸頭の
    砥石軸に軸承された砥石と、該砥石軸を上下方向に昇降
    可能な送り機構と、砥石を回転させる駆動機構と、砥石
    軸の前後軸および上下軸の移動量を数値制御する制御機
    構と、ポジショニング機能を有するワ−クテ−ブルの左
    右軸とを備える平面研削装置であって、該平面研削装置
    は、 ワ−クテ−ブルに対向して砥石軸頭に取り付けられた先
    端にスタイラスを有するタッチプロ−ブを備えたセンサ
    ユニットと、 ワ−クテ−ブル上に備えられた基準ブロックとワ−クテ
    −ブルを前後方向に所定量移動させ、タッチプロ−ブの
    スタイラスを基準ブロック上面に接触させた際に、接触
    したことを検知する接触検知手段と、その接触した際の
    ワ−クテ−ブルから基準ブロック上面までの高さHi
    記憶する記憶部と、 ワ−クテ−ブルを左右方向に所定量移動させ、タッチプ
    ロ−ブのスタイラスをワ−ク上面に接触させた際に、接
    触したことを検知する接触検知手段と、その接触した際
    のワ−クテ−ブルからワ−ク上面までの高さhiを記憶
    する記憶部と、 制御装置に入力された、研削終了後の所望の加工ワ−ク
    の高さ(H+β)を記憶する記憶部と、および、 前記記憶部に記憶されたhiとHiの差に基づき、研削す
    る取り代量αを算出する演算手段と、を有することを特
    徴とする平面研削装置。
  2. 【請求項2】 センサユニットは、砥石軸頭の側面に配
    置され、基準ブロックは、ワ−クテ−ブル上に載置され
    たワ−クの前側側端から0〜100mm以内に設置され
    ることを特徴とする、請求項1に記載の平面研削装置。
  3. 【請求項3】 平面研削装置のワ−クテ−ブルの左右方
    向の反転位置と、コラムの前後方向の反転位置と、研削
    加工された後の所望のワ−ク厚み(H+β)を制御装置
    に入力し、 コラムを前後方向に所定量移動させ、タッチプロ−ブの
    スタイラスを基準ブロック上面に接触させてワ−クテ−
    ブルから基準ブロック上面までの高さHを測定し、 ついで、ワ−クテ−ブルを左右方向に所定量移動させ、
    タッチプロ−ブのスタイラスをワ−ク上面に接触させて
    ワ−クテ−ブルからワ−ク上面までの高さhを測定し、
    総研削代量αをα=(h−H−β)と算出し、この総研
    削代量αを粗研削取り代量α1と精研削取り代量α2に制
    御装置で振り分け、粗研削する取り代量α1を算出する
    とともに、基準ブロック上面の高さHを基準にして粗研
    削加工開始位置Y1を決定し、 砥石軸を粗研削加工開始位置Y1に位置決めし、粗研削
    を行った後、 コラムを前後方向に所定量移動させ、タッチプロ−ブの
    スタイラスを基準ブロック上面に接触させてワ−クテ−
    ブルから基準ブロック上面までの高さH1を測定し、 ついで、ワ−クテ−ブルを左右方向に所定量移動させ、
    タッチプロ−ブのスタイラスをワ−ク上面に接触させて
    ワ−クテ−ブルからワ−ク上面までの高さh1を測定
    し、 精研削する取り代量α2を(h1−H1−β)式より算出
    するとともに、基準ブロック上面の高さHiを基準にし
    て精研削加工開始位置Y2を決定し、 砥石軸を精研削加工開始位置Y2に位置決めし、精研削
    を行った後、 コラムを前後方向に所定量移動させ、タッチプロ−ブの
    スタイラスを基準ブロック上面に接触させてワ−クテ−
    ブルから基準ブロック上面までの高さHiを測定し、 ついで、ワ−クテ−ブルを左右方向に所定量移動させ、
    タッチプロ−ブのスタイラスをワ−ク上面に接触させて
    ワ−クテ−ブルからワ−ク上面までの高さhiを測定
    し、 ワ−クの仕上がり寸法(hi−Hi)の値を演算し、 (hi−Hi)=βのときは、研削終了とし、 (hi−Hi)<βのときは、(hi−Hi−β)の量更に
    補正の精研削を行うことを制御装置に入力し、補正研削
    を行うことを特徴とするワ−クの研削方法。
  4. 【請求項4】 ベッドに対し、左右方向および前後方向
    に往復移動可能なワ−クテ−ブルと、前記ワ−クテ−ブ
    ルに対し上方に設けられた砥石軸頭の砥石軸に軸承され
    た砥石と、該砥石軸を上下方向に昇降可能な送り機構
    と、砥石を回転させる駆動機構と、ワ−クテ−ブルの左
    右軸および前後軸並びに砥石軸の上下軸の移動量を数値
    制御する制御機構とを有する平面研削装置であって、該
    平面研削装置は、 ワ−クテ−ブルに対向して砥石軸頭に取り付けられた先
    端にスタイラスを有するタッチプロ−ブを備えたセンサ
    ユニットと、 ワ−クテ−ブル上に備えられた基準ブロックとワ−クテ
    −ブルを前後方向に所定量移動させ、タッチプロ−ブの
    スタイラスを基準ブロック上面に接触させた際に、接触
    したことを検知する接触検知手段と、その接触した際の
    ワ−クテ−ブルから基準ブロック上面までの高さHi
    記憶する記憶部と、 ワ−クテ−ブルを左右方向に所定量移動させ、タッチプ
    ロ−ブのスタイラスをワ−ク上面に接触させた際に、接
    触したことを検知する接触検知手段と、その接触した際
    のワ−クテ−ブルからワ−ク上面までの高さhiを記憶
    する記憶部と、 制御装置に入力された、研削終了後の所望の加工ワ−ク
    の高さ(H+β)を記憶する記憶部と、および、 前記記憶部に記憶されたhiとHiの差に基づき、研削す
    る取り代量αを算出する演算手段と、を有することを特
    徴とする平面研削装置。
  5. 【請求項5】 平面研削装置のワ−クテ−ブルの左右方
    向の反転位置および前後方向の反転位置と、研削加工さ
    れた後の所望のワ−ク厚み(H+β)を制御装置に入力
    し、 ワ−クテ−ブルを前後方向に所定量移動させ、タッチプ
    ロ−ブのスタイラスを基準ブロック上面に接触させてワ
    −クテ−ブルから基準ブロック上面までの高さHを測定
    し、 コラムを前後方向に所定量移動させ、タッチプロ−ブの
    スタイラスを基準ブロック上面に接触させてワ−クテ−
    ブルから基準ブロック上面までの高さHを測定し、 ついで、ワ−クテ−ブルを左右方向に所定量移動させ、
    タッチプロ−ブのスタイラスをワ−ク上面に接触させて
    ワ−クテ−ブルからワ−ク上面までの高さhを測定し、
    総研削代量αをα=(h−H−β)と算出し、この総研
    削代量αを粗研削取り代量α1と精研削取り代量α2に制
    御装置で振り分け、粗研削する取り代量α1を算出する
    とともに、基準ブロック上面の高さHを基準にして粗研
    削加工開始位置Y1を決定し、 砥石軸を粗研削加工開始位置Y1に位置決めし、粗研削
    を行った後、 ワ−クテ−ブルを前後方向に所定量移動させ、タッチプ
    ロ−ブのスタイラスを基準ブロック上面に接触させてワ
    −クテ−ブルから基準ブロック上面までの高さH1を測
    定し、 ついで、ワ−クテ−ブルを左右方向に所定量移動させ、
    タッチプロ−ブのスタイラスをワ−ク上面に接触させて
    ワ−クテ−ブルからワ−ク上面までの高さh1を測定
    し、 精研削する取り代量α2を(h1−H1−β)式より算出
    するとともに、基準ブロック上面の高さHiを基準にし
    て精研削加工開始位置Y2を決定し、 砥石軸を精研削加工開始位置Y2に位置決めし、精研削
    を行った後、 ワ−クテ−ブルを前後方向に所定量移動させ、タッチプ
    ロ−ブのスタイラスを基準ブロック上面に接触させてワ
    −クテ−ブルから基準ブロック上面までの高さHiを測
    定し、 ついで、ワ−クテ−ブルを左右方向に所定量移動させ、
    タッチプロ−ブのスタイラスをワ−ク上面に接触させて
    ワ−クテ−ブルからワ−ク上面までの高さhiを測定
    し、 ワ−クの仕上がり寸法(hi−Hi)の値を演算し、 (hi−Hi)=βのときは、研削終了とし、 (hi−Hi)<βのときは、(hi−Hi−β)の量更に
    補正の精研削を行うことを制御装置に入力し、補正研削
    を行うことを特徴とするワ−クの研削方法。
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