JP2002052393A - 浄水装置 - Google Patents

浄水装置

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JP2002052393A
JP2002052393A JP2000278898A JP2000278898A JP2002052393A JP 2002052393 A JP2002052393 A JP 2002052393A JP 2000278898 A JP2000278898 A JP 2000278898A JP 2000278898 A JP2000278898 A JP 2000278898A JP 2002052393 A JP2002052393 A JP 2002052393A
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water
photocatalyst
catalyst
ozone
air
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JP2000278898A
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Inventor
Mitsuru Matsui
満 松井
Shigenori Suzuki
重則 鈴木
Saburo Okamoto
三郎 岡本
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EMUZU JAPAN KK
Original Assignee
EMUZU JAPAN KK
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光触媒の有する光化学反応効果を長期的に維
持できる浄化殺菌力の高い浄水装置を提供すること。 【解決手段】 触媒収納室に光触媒の充填率を下げた状
態で収納して浄水する原水を触媒収納室の下側より流入
して該光触媒を水流で撹拌して光触媒同士を擦り合わせ
ることにより、光触媒の汚れを物理的に防止し、また内
筒とも接触させることにより汚れを防ぎ光源の透過率の
減衰を防ぎ光化学反応効果を長期的に維持できる、また
光触媒を水流で撹拌することにより紫外線が当たる機会
を増やし光化学反応を促進させ高い浄水効果を得ること
が出来る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、水を浄化殺菌する
浄水装置に関するもので、水に空気またはオゾンを混入
した流れを発生し、紫外線を照射して光触媒で浄化殺菌
する、プールや浴槽等に適用される浄水装置に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】従来、プールや浴槽等において、入浴の
度に汚れや湯垢の浮遊や菌の繁殖が発生するため、湯を
交換したりあるいは浴槽の掃除をすることが必要とな
る。そこで、浄水装置を使って殺菌浄化する場合、水質
等によっては分解しきれない汚れ成分が触媒や浄化装置
の管壁表面に徐々に付着し、浄水機能の低下があった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
光触媒浄化装置では紫外線の活用が低下して光化学反応
効果を長期的に維持することができなかった。本発明
は、以上のような欠点をなくすためになされたものであ
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明に係る浄水装置は、水を浄化する水槽と、殺菌
作用のある紫外線ランプ、この紫外線ランプの周囲に設
けられ、紫外線の照射により浄化殺菌作用を発揮する光
触媒、前記光触媒を触媒収納室に充填率を下げた状態で
収納、浄化する原水を触媒収納室の下側より流入して光
触媒を水流で撹拌して光触媒同士を擦り合わせることに
より、光触媒の汚れを物理的に防止し、また、光源側の
内筒とも接触させることにより汚れを防ぎ光源の透過率
の減衰を防ぎ、また光触媒を水流で撹拌することにより
紫外線が当たる機会を増やし光化学反応を促進させ浄水
能力を高める。
【0005】
【発明の実施形態】以下、図面を参照して本発明の実施
の形態を説明する。
【0006】図1は、本発明に係る浄水装置Fの基本型
で1は外筒である、2は内筒で紫外線を透過する石英ガ
ラス等で出来ている、3上板、4下板で外筒1とフラン
ジで取り付けられており、また、内筒2をシール器具5
及びシールOリング6で保持している。7は紫外線を発
光する紫外線ランプで、内筒2の中にクリアランスを保
って設けられておりこのクリアランスに自然対流による
空気流または強制送風によって紫外線ランプの発熱を処
理している。
【0007】8は光触媒で、担体はセラミックで酸化チ
タン等で処理されたものである。9はレデュサーで原水
流入口10より流入した原水の流れに空気またはオゾン
発生器11で発生したオゾンを混入する。この気泡12
を含んだ水は、光触媒8が逆流出しない様な触媒逆流出
防止網13を設置した流入口14より流入して、触媒収
納室15内の光触媒8を上方に持ち上げる。触媒収納室
15は、下板4と浄化した水が通過出来る様な小さな穴
が沢山明けられている触媒流出防止多孔板16の間で構
成されていて、水の流れで上方に持ち上げられた光触媒
8が流出しないようになっている。
【0008】触媒収納室15の下側から流入する流入口
14を浄水槽の中心より偏奇して設置、渦流が発生する
ようにすることにより光触媒8を水流でより撹拌して光
触媒同士を擦り合わせることにより、より一層の光触媒
8の汚れを物理的に防止し、また、光源側の内筒2の石
英ガラス管等とも積極的に接触させることにより内筒2
の石英ガラス管等の汚れを防ぎ光源の透過率の減衰を防
ぎ、また光触媒8を水流で撹拌することにより紫外線が
当たる機会を増やし光化学反応を促進させ浄水能力を高
める。
【0009】17は気液分離室で分離した空気またはオ
ゾンは、上板3に設けられた自動空気抜き18より直接
またはオゾン分解触媒装置(図示せず)を通して大気に
放出され、浄化された水は、浄水流出口19よりプール
または浴槽等に供給される。20は触媒室仕切多孔板で
触媒室を分割することにより触媒の上下方向の分散を向
上することが出来る。
【0010】図2は、本発明に係る浄水装置Fの他の実
施例で、気液分離室17の浄水の一部を循環ポンプ22
によって循環パイプA23・緩衝室24・循環パイプB
25を介してレデュサー9で空気またはオゾン発生器1
1で発生したオゾンを混合、混合水となって、整流室2
6に送達して触媒支持多孔板21を通して触媒収納室1
5に送り込み、また、触媒収納室15の下方より流入し
た原水と混合して光触媒8を水流で撹拌して光触媒8同
士を擦り合わせることにより、光触媒8の汚れを物理的
に防止し、また、光源側の内筒2の石英ガラス管等とも
積極的に接触させることにより汚れを防ぎ光源の減衰を
防ぎ、また光触媒8を水流で撹拌することにより紫外線
が当たる機会を増やし光化学反応を促進させ浄水能力を
高める。
【0011】21は触媒支持多孔板でレデュサー9で空
気またはオゾンを混入した水が通過出来、光触媒8が触
媒収納室15より脱落しない様な小さな穴が沢山明けら
れている、16は触媒流出防止多孔板で浄化した水が通
過出来る様小さな穴が沢山明けられている、光触媒8は
原水流入口14より流入した原水の流れで上方に持ち上
げられるが、この触媒流出防止多孔板16で流出しない
ようになっている。空気またはオゾンの混入は原水では
なく、気液分離室17の浄水の一部を循環ポンプ22に
よって環水してレデュサー9で空気またはオゾンを混合
するため安定した混入が出来る。
【0012】次に、本発明の浄水装置Fの作動を図2に
ついて説明する。プールや浴槽等の浄化すべき原水は浄
水装置Fの原水の流入口10より流入し、触媒収納室1
5の下側に設けられた整流室26より空気またはオゾン
を混合した水を触媒支持多孔板21を通して触媒収納室
15に送り込まれた水と混流して光触媒8と接触、この
時、光触媒8の表面に紫外線照射することにより、光触
媒8の表面に活性電子が現れその活性電子が、溶存酸素
とかレデュサー9で混入させたオゾンまたは空気の酸素
の一部を極酸素化し、あるいは水を活性なOHラジカル
(励起現象)にして、これら活性化した極酸素・OHラ
ジカルが原水中の有機物・細菌を安全な炭酸ガスと水に
分解する。
【0013】光触媒8は充填率を下げた状態で充填して
いるので触媒収納室15の下側より流入した水と触媒8
はよく接触するので前記分解作用が促進される。このと
き撹拌によって光触媒8同士を擦り合わせることによ
り、光触媒8の汚れを物理的に防止し、また、光源側の
内筒2の石英ガラス管等とも接触させることにより汚れ
を防ぎ光源の透過率の減衰を防ぎ、また光触媒8を水流
で撹拌することにより紫外線が当たる機会を増やし光化
学反応を促進させ浄水能力を高めることが出来、耐久性
のある高性能な浄水装置が出来る。
【0014】運転を停止する場合、操作盤28を操作し
て、循環ポンプ22・紫外線ランプ7・オゾン発生器1
1を停止すると共に逆止弁29を作動してレデュサー9
よりオゾン発生器11等への水の逆流を防ぐことが出来
る。
【0015】
【発明の効果】本発明に係る装置は、触媒収納容器に光
触媒の充填率を下げて収納して浄水する原水を触媒収納
室の下側より流入して該触媒を水流で撹拌して光触媒同
士を擦り合わせることにより、光触媒の汚れを物理的に
防止し、また内筒とも接触させることにより内筒の汚れ
を防ぎ光源の透過度の減衰を防ぎ光触媒の光化学反応効
果が長期的に維持できる、また触媒を水流で撹拌するこ
とにより紫外線が光触媒同士の間を透過して個々の光触
媒に対しても当たる機会を増やし光化学反応を促進させ
高い浄水効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施の形態に係る浄水装置の概略
構成を示す図。
【図2】 本発明の他の一実施の形態に係る浄水装置の
概略構成を示す図。
【符号の説明】
F 浄水装置 1 外筒 2 内筒 3 上板 4 下板 5 シール器具 6 シールOリング 7 紫外線ランプ 8 光触媒 9 レデュサー 10 原水流入口 11 オゾン発生器 12 気泡 13 触媒逆流出防止網 14 流入口 15 触媒収納室 16 触媒流出防止多孔板 17 気液分離室 18 自動空気抜き 19 浄水流出口 20 触媒室仕切多孔板 21 触媒支持多孔板 22 循環ポンプ 23 循環パイプA 24 緩衝室 25 循環パイプB 26 整流室 27 遮蔽板 28 操作盤 29 逆止弁
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成12年8月24日(2000.8.2
4)
【手続補正1】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正内容】
【図1】
【図2】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C02F 1/50 531 C02F 1/50 531R 540 540A 550 550B 560 560C 1/78 1/78 (72)発明者 岡本 三郎 神奈川県藤沢市鵠沼橘2−4−12 Fターム(参考) 4D037 AA09 AB03 BA18 CA12 4D050 AA10 AB06 BB01 BB02 BC06 BC09 BD02 CA07 4G069 AA03 BA04A BA04B BA13B BA48A CA05 CA10 CA11 DA08 EA02Y EE07

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】浄水槽の内側に紫外線を透過する石英ガラ
    ス等で出来た内筒を配し、この中に紫外線ランプを設
    置、浄水槽の内の触媒室に光触媒を少量収納して浄化す
    べき水を触媒室の下側から流入して光触媒を水流で撹拌
    することにより光化学反応を促進させることを特徴とす
    る浄水装置。
  2. 【請求項2】光触媒の収納棚を多段にしたことを特徴と
    する請求項1に記載の浄水装置。
  3. 【請求項3】触媒室の下側から流入する浄化すべき水の
    流入口を浄水槽の中心より偏奇して設置、渦流が発生す
    るようにしたことを特徴とする請求項1及び請求項2に
    記載の浄水装置。
  4. 【請求項4】光触媒の効果を上げるため原水に空気又は
    オゾンを注入するようにしたことを特徴とする請求項1
    〜3に記載の浄水装置。
  5. 【請求項5】浄水の一部を還流してこの還流水に空気又
    はオゾンを注入、これを原水流入の触媒室の底部より原
    水に流入、混流するようにしたことを特徴とする請求項
    1〜3に記載の浄水装置。
JP2000278898A 2000-08-09 2000-08-09 浄水装置 Pending JP2002052393A (ja)

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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2014117669A (ja) * 2012-12-18 2014-06-30 Ricoh Co Ltd 流体浄化装置
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CN108773895A (zh) * 2018-07-19 2018-11-09 苏州方舟环保科技有限公司 一种含硼有机废水处理设备
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CN112808177A (zh) * 2021-01-05 2021-05-18 广东环境保护工程职业学院 一种反应器以及包含该反应器的voc处理***
CN113149176A (zh) * 2021-04-20 2021-07-23 上海瑜科环境工程有限公司 一种催化湿式氧化反应器

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