JP2001349923A - 絶縁皮膜均一性判定試験器および試験装置 - Google Patents
絶縁皮膜均一性判定試験器および試験装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 正常な絶縁皮膜部分を破壊することなく、不
良個所の特定が容易であり、残留電荷効果・吸収現象に
対する対策が十分に施され、また、電気的ノイズに対し
て誤動作が生ぜず、ライン上の試験器、試験装置として
好適な絶縁皮膜均一性判定試験器および試験装置を安価
に提供する。 【解決手段】 一次側と二次側を完全に絶縁し、特殊シ
ールド処理を施したノイズカット用の絶縁トランス；
と、エナメル線に試験電圧を印加するための高圧発生回
路；と、前記試験電圧の電流を制限する電流制限抵抗
と、均一性不良個所に流れる電流を増幅し，判定レベル
と比較して均一性不良の検出を行う電流検出回路；と、
電流検出回路および外部からの各種信号の入出力回路Ｉ
／Ｏ；と、均一性不良個数をカウントして加算し、外部
に接点信号として出力するカウンター；と、から絶縁皮
膜均一性判定試験器を構成する。
良個所の特定が容易であり、残留電荷効果・吸収現象に
対する対策が十分に施され、また、電気的ノイズに対し
て誤動作が生ぜず、ライン上の試験器、試験装置として
好適な絶縁皮膜均一性判定試験器および試験装置を安価
に提供する。 【解決手段】 一次側と二次側を完全に絶縁し、特殊シ
ールド処理を施したノイズカット用の絶縁トランス；
と、エナメル線に試験電圧を印加するための高圧発生回
路；と、前記試験電圧の電流を制限する電流制限抵抗
と、均一性不良個所に流れる電流を増幅し，判定レベル
と比較して均一性不良の検出を行う電流検出回路；と、
電流検出回路および外部からの各種信号の入出力回路Ｉ
／Ｏ；と、均一性不良個数をカウントして加算し、外部
に接点信号として出力するカウンター；と、から絶縁皮
膜均一性判定試験器を構成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は走行する被試験電線
としてのエナメル線の絶縁皮膜のピンホール不良や絶縁
不良等の均一性不良を検出し、判定することが可能な絶
縁皮膜均一性判定試験器および試験装置に関する。
としてのエナメル線の絶縁皮膜のピンホール不良や絶縁
不良等の均一性不良を検出し、判定することが可能な絶
縁皮膜均一性判定試験器および試験装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】エナメル線の製造は図２にその概略を説
明するように（但し、本発明の絶縁皮膜均一性判定試験
装置も設置）、供線側素線１に塗料塗布装置２により塗
料を塗布し、焼付炉３により塗料を焼付るという、塗布
焼付工程を複数回繰り返して（図では繰り返し部分図示
せず）、所定厚さの絶縁皮膜を設けた後、引取キャプス
タン４を経由して巻取機６によりボビン（図示せず）に
巻取り製造される。前記ボビンに巻取られた製品は、巻
き終わりの所定長を試験片として採取し、絶縁皮膜のピ
ンホール特性や絶縁特性等を試験している。しかしなが
ら、エナメル線は長尺製品であるため、ボビン内部まで
全長に渡って検査することは出来ず、全長保証という点
では、満足できるものでなかった。なお、エナメル線の
均一性を試験する方法（装置）としては、ＪＩＳＣ３０
０３−６（ｂ）高電圧法が知られている。
明するように（但し、本発明の絶縁皮膜均一性判定試験
装置も設置）、供線側素線１に塗料塗布装置２により塗
料を塗布し、焼付炉３により塗料を焼付るという、塗布
焼付工程を複数回繰り返して（図では繰り返し部分図示
せず）、所定厚さの絶縁皮膜を設けた後、引取キャプス
タン４を経由して巻取機６によりボビン（図示せず）に
巻取り製造される。前記ボビンに巻取られた製品は、巻
き終わりの所定長を試験片として採取し、絶縁皮膜のピ
ンホール特性や絶縁特性等を試験している。しかしなが
ら、エナメル線は長尺製品であるため、ボビン内部まで
全長に渡って検査することは出来ず、全長保証という点
では、満足できるものでなかった。なお、エナメル線の
均一性を試験する方法（装置）としては、ＪＩＳＣ３０
０３−６（ｂ）高電圧法が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前記ＪＩＳの均一性試
験方法でも、ボビンに巻取られた製品から長さ３０ｍを
試験しているにすぎず、ボビン内部まで全長に渡って検
査することは出来ず、全長保証という点では、やはり満
足できるものでなかった。また、実際に製造装置のライ
ンに取付け試験する装置としては適用が難しかった。ま
た前記ＪＩＳの試験装置は、検出電流が高いため（例え
ば２ｍＡ）、特に薄皮膜品においては、設定値如何によ
り正常な絶縁皮膜部分を破壊してしまうことがあるとい
う問題点があった。また、検出最小単位長が長いため、
不良個所の特定が難しいという問題点があった。また、
従来の装置は、残留電圧効果・吸収現象に対する対策が
不十分で、実際の試験設定条件と異なってしまうことが
ある為、高性能な増幅器を使用して安定化を図る必要が
あり、装置が高価になってしまうという問題点があっ
た。また、電気的ノイズに対する誤動作が生じやすいと
いう問題点があった。
験方法でも、ボビンに巻取られた製品から長さ３０ｍを
試験しているにすぎず、ボビン内部まで全長に渡って検
査することは出来ず、全長保証という点では、やはり満
足できるものでなかった。また、実際に製造装置のライ
ンに取付け試験する装置としては適用が難しかった。ま
た前記ＪＩＳの試験装置は、検出電流が高いため（例え
ば２ｍＡ）、特に薄皮膜品においては、設定値如何によ
り正常な絶縁皮膜部分を破壊してしまうことがあるとい
う問題点があった。また、検出最小単位長が長いため、
不良個所の特定が難しいという問題点があった。また、
従来の装置は、残留電圧効果・吸収現象に対する対策が
不十分で、実際の試験設定条件と異なってしまうことが
ある為、高性能な増幅器を使用して安定化を図る必要が
あり、装置が高価になってしまうという問題点があっ
た。また、電気的ノイズに対する誤動作が生じやすいと
いう問題点があった。
【０００４】本発明は、上記従来技術が有する各種問題
点を解決するためになされたものであり、正常な絶縁皮
膜部分を破壊することなく、不良個所の特定が容易であ
り、残留電荷効果・吸収現象に対する対策が十分に施さ
れ、また、電気的ノイズに対して誤動作が生ぜず、ライ
ン上の試験器、試験装置として好適な絶縁皮膜均一性判
定試験器および試験装置を安価に提供することを目的と
する。
点を解決するためになされたものであり、正常な絶縁皮
膜部分を破壊することなく、不良個所の特定が容易であ
り、残留電荷効果・吸収現象に対する対策が十分に施さ
れ、また、電気的ノイズに対して誤動作が生ぜず、ライ
ン上の試験器、試験装置として好適な絶縁皮膜均一性判
定試験器および試験装置を安価に提供することを目的と
する。
【０００５】
【課題を解決するための手段】第１の観点として本発明
は、走行する被試験電線としてのエナメル線の絶縁皮膜
のピンホール不良や絶縁不良等の均一性不良を検出し、
判定することが可能な試験器であって、一次側と二次側
を完全に絶縁し、ノイズが二次側に伝達されない様な特
殊シールド処理を施したノイズカット用の絶縁トラン
ス；と、前記トランスからの電源を整流し，パルストラ
ンスにより発振・昇圧し、定電圧回路を用いて一定の電
圧を出力させ，エナメル線に試験電圧を印加するための
高圧発生回路；と、前記試験電圧の電流を制限する電流
制限抵抗と、エナメル線の均一性不良個所において流れ
る電流を増幅し，判定レベルと比較して均一性不良の検
出を行うための電流検出回路；と、前記電流検出回路お
よび外部からの各種信号を入出力するための入出力回路
Ｉ／Ｏ；と、均一性不良個数をカウントして加算し、設
定された数値を超えたとき外部に接点信号として出力す
るカウンター；と、からなる絶縁皮膜均一性判定試験器
（以下、均一性試験器と略記する）にある。上記第１の
観点の均一性試験器では、先ずノイズカット用の絶縁ト
ランスによりノイズが二次側に伝達されないので、電気
的ノイズに対する誤動作が生じなくなる。また、前記高
圧発生回路は、例えばＤＣ１２Ｖより最大ＤＣ２０００
Ｖの高圧を発生させることが出来、設定レンジで任意設
定ができる。また検出電流は、例えば５μＡ〜１００μ
Ａ、また検出抵抗は、例えば動作１〜３ＭΩ／不動作４
〜９ＭΩである。なお、前記試験電圧の他に、検出する
ためのスレッショルド電圧（印加電圧が、どの程度降下
したら均一性不良と認識するかを決定するための基準電
圧（感度））があり、この電圧もボリューム等で調整可
能である。従って、これらの回路構成により、均一性不
良の検出がライン上で精度良く行える。
は、走行する被試験電線としてのエナメル線の絶縁皮膜
のピンホール不良や絶縁不良等の均一性不良を検出し、
判定することが可能な試験器であって、一次側と二次側
を完全に絶縁し、ノイズが二次側に伝達されない様な特
殊シールド処理を施したノイズカット用の絶縁トラン
ス；と、前記トランスからの電源を整流し，パルストラ
ンスにより発振・昇圧し、定電圧回路を用いて一定の電
圧を出力させ，エナメル線に試験電圧を印加するための
高圧発生回路；と、前記試験電圧の電流を制限する電流
制限抵抗と、エナメル線の均一性不良個所において流れ
る電流を増幅し，判定レベルと比較して均一性不良の検
出を行うための電流検出回路；と、前記電流検出回路お
よび外部からの各種信号を入出力するための入出力回路
Ｉ／Ｏ；と、均一性不良個数をカウントして加算し、設
定された数値を超えたとき外部に接点信号として出力す
るカウンター；と、からなる絶縁皮膜均一性判定試験器
（以下、均一性試験器と略記する）にある。上記第１の
観点の均一性試験器では、先ずノイズカット用の絶縁ト
ランスによりノイズが二次側に伝達されないので、電気
的ノイズに対する誤動作が生じなくなる。また、前記高
圧発生回路は、例えばＤＣ１２Ｖより最大ＤＣ２０００
Ｖの高圧を発生させることが出来、設定レンジで任意設
定ができる。また検出電流は、例えば５μＡ〜１００μ
Ａ、また検出抵抗は、例えば動作１〜３ＭΩ／不動作４
〜９ＭΩである。なお、前記試験電圧の他に、検出する
ためのスレッショルド電圧（印加電圧が、どの程度降下
したら均一性不良と認識するかを決定するための基準電
圧（感度））があり、この電圧もボリューム等で調整可
能である。従って、これらの回路構成により、均一性不
良の検出がライン上で精度良く行える。
【０００６】第２の観点として本発明は、前記試験電圧
はＤＣレベルでエナメル線に常時印加され、均一性不良
の検出は実際に流れた電流値を計測して行う均一性試験
器にある。上記第２の観点の均一性試験器では、均一性
不良の検出は実際に流れた電流値を計測して行うため、
残留電圧効果・吸収現象に対して効果的となり、実際の
試験設定条件を維持することができる。また、高性能な
増幅器を使用して安定化を図る必要が無くなるので、装
置が安価に製造できる。
はＤＣレベルでエナメル線に常時印加され、均一性不良
の検出は実際に流れた電流値を計測して行う均一性試験
器にある。上記第２の観点の均一性試験器では、均一性
不良の検出は実際に流れた電流値を計測して行うため、
残留電圧効果・吸収現象に対して効果的となり、実際の
試験設定条件を維持することができる。また、高性能な
増幅器を使用して安定化を図る必要が無くなるので、装
置が安価に製造できる。
【０００７】第３の観点として本発明は、均一性不良の
検出の最小動作時間が１０ｍｓ、エナメル線の測定最小
単位長さで１ｍである均一性試験器にある。上記第３の
観点の均一性試験器では、均一性不良の検出の最小動作
時間が１０ｍｓ、エナメル線の測定最小単位長さで１ｍ
なので、検出最小単位長が短くなり、不良個所の特定が
容易に出来るようになる。
検出の最小動作時間が１０ｍｓ、エナメル線の測定最小
単位長さで１ｍである均一性試験器にある。上記第３の
観点の均一性試験器では、均一性不良の検出の最小動作
時間が１０ｍｓ、エナメル線の測定最小単位長さで１ｍ
なので、検出最小単位長が短くなり、不良個所の特定が
容易に出来るようになる。
【０００８】第４の観点として本発明は、前記均一性試
験器を本体として用いた絶縁皮膜均一性判定試験装置で
あって、前記均一性試験器の電流制限抵抗を経由した試
験電圧の（＋）極が検出滑車５に接続され、該検出滑車
５に焼付後の走行するエナメル線１ａを接触させ、また
試験電圧の（−）極が供線側素線１に接続され、また前
記均一性試験器８は各種信号がコントロール可能な集中
コントローラ９と各種信号の制御を行うシーケンサ７と
通信でき、また集中コントローラ９は各種データの記録
または演算処理が可能なデータ処理装置１０と通信でき
る絶縁皮膜均一性判定試験装置（以下、均一性試験装置
と略記する）にある。上記第４の観点の均一性試験装置
では、上記第１の観点の均一性試験器を本体として用い
ることにより、第１の観点の均一性試験器の作用・効果
が得られ、均一性不良の検出がライン上で精度良く行え
る。また、データは集中コントローラ９に取り込まれ専
用プリンタ、或いは上位パソコンに通信され記録として
残される。
験器を本体として用いた絶縁皮膜均一性判定試験装置で
あって、前記均一性試験器の電流制限抵抗を経由した試
験電圧の（＋）極が検出滑車５に接続され、該検出滑車
５に焼付後の走行するエナメル線１ａを接触させ、また
試験電圧の（−）極が供線側素線１に接続され、また前
記均一性試験器８は各種信号がコントロール可能な集中
コントローラ９と各種信号の制御を行うシーケンサ７と
通信でき、また集中コントローラ９は各種データの記録
または演算処理が可能なデータ処理装置１０と通信でき
る絶縁皮膜均一性判定試験装置（以下、均一性試験装置
と略記する）にある。上記第４の観点の均一性試験装置
では、上記第１の観点の均一性試験器を本体として用い
ることにより、第１の観点の均一性試験器の作用・効果
が得られ、均一性不良の検出がライン上で精度良く行え
る。また、データは集中コントローラ９に取り込まれ専
用プリンタ、或いは上位パソコンに通信され記録として
残される。
【０００９】第５の観点として本発明は、引取キャプス
タン４の信号をシーケンサ７を介して集中コントローラ
９に取り込むことにより、エナメル線の単位長さあたり
の不良個数が任意設定されることを均一性試験装置にあ
る。上記第５の観点の均一性試験装置では、エナメル線
の単位長さあたりの不良個数が任意設定されるので、ラ
イン上の試験装置として好ましくなる。
タン４の信号をシーケンサ７を介して集中コントローラ
９に取り込むことにより、エナメル線の単位長さあたり
の不良個数が任意設定されることを均一性試験装置にあ
る。上記第５の観点の均一性試験装置では、エナメル線
の単位長さあたりの不良個数が任意設定されるので、ラ
イン上の試験装置として好ましくなる。
【００１０】第６の観点として本発明は、前記集中コン
トローラ９とシーケンサ７により、複数台の均一性試験
器８がコントロールされ、また試験データはデータ処理
装置１０で記録される均一性試験装置にある。上記第６
の観点の均一性試験装置では、複数台の均一性試験器８
がコントロールされ、また試験データはデータ処理装置
１０で記録されるので、試験装置として好ましくなる。
トローラ９とシーケンサ７により、複数台の均一性試験
器８がコントロールされ、また試験データはデータ処理
装置１０で記録される均一性試験装置にある。上記第６
の観点の均一性試験装置では、複数台の均一性試験器８
がコントロールされ、また試験データはデータ処理装置
１０で記録されるので、試験装置として好ましくなる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の内容を、図に示す
実施の形態により更に詳細に説明する。なお、これによ
り本発明が限定されるものではない。図１は本発明の均
一性試験器の回路構成の一例を説明するための回路構成
図である。図２は本発明の均一性試験装置をエナメル線
製造ラインに設置した例を示す略図である。また図３は
集中コントローラとシーケンサにより、複数台の均一性
判定試験器をコントロールしている例を説明するための
構成図である。これらの図において、１は供線側素線、
１ａはエナメル線、２は塗料塗布装置、３は焼付炉、４
は引取キャプスタン、５は検出滑車、６は巻取機（巻取
ボビン）、７はシーケンサ、８は均一性試験器、９は集
中コントローラ、また１０はデータ処理装置、また２０
は均一性試験装置である。
実施の形態により更に詳細に説明する。なお、これによ
り本発明が限定されるものではない。図１は本発明の均
一性試験器の回路構成の一例を説明するための回路構成
図である。図２は本発明の均一性試験装置をエナメル線
製造ラインに設置した例を示す略図である。また図３は
集中コントローラとシーケンサにより、複数台の均一性
判定試験器をコントロールしている例を説明するための
構成図である。これらの図において、１は供線側素線、
１ａはエナメル線、２は塗料塗布装置、３は焼付炉、４
は引取キャプスタン、５は検出滑車、６は巻取機（巻取
ボビン）、７はシーケンサ、８は均一性試験器、９は集
中コントローラ、また１０はデータ処理装置、また２０
は均一性試験装置である。
【００１２】−実施形態１− 本発明の均一性試験器の回路構成の一例を図１を用いて
説明する。本発明の均一性試験器は、一次側と二次側を
完全に絶縁し、ノイズが二次側に伝達されない様な特殊
シールド処理を施したノイズカット用の絶縁トランス
と、前記トランスからの電源をＤＣ１２Ｖに整流し，パ
ルストランスにより発振・昇圧し、定電圧回路を用いて
一定の電圧を出力させ，被試験電線にＤＣレベルで常時
印加するための試験電圧発生回路と、前記試験電圧の電
流を制限する電流制限抵抗と、均一性不良個所において
流れる電流を増幅し，判定レベルと比較して均一性不良
を検出するための電流検出回路と、前記電流検出回路お
よび外部回路からの各種信号を入出力するための絶縁型
の入出力回路Ｉ／Ｏと、均一性不良個数をカウントして
加算し、設定された数値を超えれば外部に接点信号とし
て出力可能なカウンターと、からなる。試験電圧はパル
ス印加型でなく、ＤＣレベルで常時供給しており、検出
は実際に流れた電流値を計測しているので、残留電圧効
果の対策手段（残留電圧の処理方法）として好ましい。
また、均一性判定試験の最小検出動作時間が１０ｍｓ、
エナメル銅線の測定最小単位長さで１ｍである。前記外
部回路は例えばシーケンサや集中コントローラである。
説明する。本発明の均一性試験器は、一次側と二次側を
完全に絶縁し、ノイズが二次側に伝達されない様な特殊
シールド処理を施したノイズカット用の絶縁トランス
と、前記トランスからの電源をＤＣ１２Ｖに整流し，パ
ルストランスにより発振・昇圧し、定電圧回路を用いて
一定の電圧を出力させ，被試験電線にＤＣレベルで常時
印加するための試験電圧発生回路と、前記試験電圧の電
流を制限する電流制限抵抗と、均一性不良個所において
流れる電流を増幅し，判定レベルと比較して均一性不良
を検出するための電流検出回路と、前記電流検出回路お
よび外部回路からの各種信号を入出力するための絶縁型
の入出力回路Ｉ／Ｏと、均一性不良個数をカウントして
加算し、設定された数値を超えれば外部に接点信号とし
て出力可能なカウンターと、からなる。試験電圧はパル
ス印加型でなく、ＤＣレベルで常時供給しており、検出
は実際に流れた電流値を計測しているので、残留電圧効
果の対策手段（残留電圧の処理方法）として好ましい。
また、均一性判定試験の最小検出動作時間が１０ｍｓ、
エナメル銅線の測定最小単位長さで１ｍである。前記外
部回路は例えばシーケンサや集中コントローラである。
【００１３】−実施形態２− 本発明の均一性試験装置の一例を図２を用いて説明す
る。本発明の均一性試験装置２０は、前記実施形態１の
均一性試験器８に、各種信号がコントロール可能なシー
ケンサ７と集中コントローラ９およびデータ処理装置１
０を付加した構成の均一性試験装置である。前記シーケ
ンサ７と集中コントローラ９の処理方法は、インターフ
ェイスとして絶縁型の入出力回路Ｉ／Ｏを内蔵し、不良
を検出する毎にシーケンサ７に出力を行っている。出力
を受けたシーケンサ７は、集中コントローラ９に完了信
号を出力して一連の処理を終了する。また、エナメル線
製造装置の引取キャプスタン４の信号をシーケンサ７を
介して集中コントローラ９に取り込むことにより、エナ
メル線１ａの単位長さあたりの不良個数を任意設定する
ことができる。また、均一性試験器８により得られたデ
ータは集中コントローラ９及びデータ処理装置１０に通
信され記録される。前記データ処理装置１０は、例えば
専用プリンタ、上位パソコンである。
る。本発明の均一性試験装置２０は、前記実施形態１の
均一性試験器８に、各種信号がコントロール可能なシー
ケンサ７と集中コントローラ９およびデータ処理装置１
０を付加した構成の均一性試験装置である。前記シーケ
ンサ７と集中コントローラ９の処理方法は、インターフ
ェイスとして絶縁型の入出力回路Ｉ／Ｏを内蔵し、不良
を検出する毎にシーケンサ７に出力を行っている。出力
を受けたシーケンサ７は、集中コントローラ９に完了信
号を出力して一連の処理を終了する。また、エナメル線
製造装置の引取キャプスタン４の信号をシーケンサ７を
介して集中コントローラ９に取り込むことにより、エナ
メル線１ａの単位長さあたりの不良個数を任意設定する
ことができる。また、均一性試験器８により得られたデ
ータは集中コントローラ９及びデータ処理装置１０に通
信され記録される。前記データ処理装置１０は、例えば
専用プリンタ、上位パソコンである。
【００１４】−実施形態３− 本発明の均一性試験装置２０を用い、走行するエナメル
線１ａの絶縁皮膜のピンホール不良や絶縁不良等の均一
性不良を検出し、判定している例を図２を用いて説明す
る。供線側芯線１に、前記試験器本体８より供給される
測定電源の（−）極を接続し（実際の接続部は芯線１と
導通する鉄ボビン部）、引取キャプスタン４と巻取機６
間に検出滑車５を設けて測定電源の（＋）極を接続し、
この検出滑車５に焼付後の走行するエナメル線１ａを接
触させ、絶縁皮膜の均一性不良個所において検出滑車５
に流れる電流を試験器本体８で増幅し、判定レベルと比
較して均一性不良を検出し、試験器本体８に設けられて
いるＬＥＤの検出表示灯（図示せず）を点灯させるとと
もに、カウンター（図示せず）で不良数をカウントし
た。また試験器本体８にはオシロで検出信号が確認でき
るようにモニター端子が設けられている（図示せず）。
また、シーケンサ７は引取キャプスタン４に取り付けた
センサ（図示せず）からの信号よりエナメル線の製造速
度を演算し、エナメル線の単位長さ当たりの不良個数を
任意設定し、判定レベルを作りだしている。また、前記
集中コントローラ９からのデータはデータ処理装置１０
に出力され、プリンタで記録される。なお、前記検出滑
車５には、低電流とはいえ最大２０００Ｖ迄の高圧が印
加されるため、絶縁間隔が充分にある高圧用の配線材と
高圧プローブを使用している。
線１ａの絶縁皮膜のピンホール不良や絶縁不良等の均一
性不良を検出し、判定している例を図２を用いて説明す
る。供線側芯線１に、前記試験器本体８より供給される
測定電源の（−）極を接続し（実際の接続部は芯線１と
導通する鉄ボビン部）、引取キャプスタン４と巻取機６
間に検出滑車５を設けて測定電源の（＋）極を接続し、
この検出滑車５に焼付後の走行するエナメル線１ａを接
触させ、絶縁皮膜の均一性不良個所において検出滑車５
に流れる電流を試験器本体８で増幅し、判定レベルと比
較して均一性不良を検出し、試験器本体８に設けられて
いるＬＥＤの検出表示灯（図示せず）を点灯させるとと
もに、カウンター（図示せず）で不良数をカウントし
た。また試験器本体８にはオシロで検出信号が確認でき
るようにモニター端子が設けられている（図示せず）。
また、シーケンサ７は引取キャプスタン４に取り付けた
センサ（図示せず）からの信号よりエナメル線の製造速
度を演算し、エナメル線の単位長さ当たりの不良個数を
任意設定し、判定レベルを作りだしている。また、前記
集中コントローラ９からのデータはデータ処理装置１０
に出力され、プリンタで記録される。なお、前記検出滑
車５には、低電流とはいえ最大２０００Ｖ迄の高圧が印
加されるため、絶縁間隔が充分にある高圧用の配線材と
高圧プローブを使用している。
【００１５】−実施形態４− 前記シーケンサ７と集中コントローラ９により、複数台
（例えば５台）の均一性判定試験器をコントロールして
いる例を図３の構成図を用いて説明する。前記集中コン
トローラ９は５台の均一性判定試験器でカウントされた
不良数をデータ処理装置１０のプリンタで印字するため
に集中コントロールする装置である。
（例えば５台）の均一性判定試験器をコントロールして
いる例を図３の構成図を用いて説明する。前記集中コン
トローラ９は５台の均一性判定試験器でカウントされた
不良数をデータ処理装置１０のプリンタで印字するため
に集中コントロールする装置である。
【００１６】−実施形態５− 本発明の試験装置において、均一性不良発生時の作動の
一例について説明する。常時、検出滑車５に試験電源を
印加しているが、均一性不良箇所が発生すると出力信号
としてシーケンサ７に出力される。この信号はシーケン
サ７が受け付けた後、復帰させる必要がある。そこでシ
ーケンサ７が最低限追従できる可能速度（１０ｍｓ）
で、復帰信号を集中コントローラ９に出力している。前
記集中コントローラ９とシーケンサ７はこの信号を繰り
返し通信している。尚、この出力信号をラッチ信号と呼
称する。次に、前記シーケンサ７と試験器本体８の通信
回路の一例について説明する。シーケンサ７と試験器本
体８の中間に集中コントローラ９があり、均一性不良発
生時のデータを通信しているものである。先ず、集中コ
ントローラ９は試験器本体８からラッチ信号を入力する
と、シーケンサ７へ出力する。シーケンサ７は信号を入
力するとともに、集中コントローラ９に信号復帰の指令
を出力する。更に、不良発生個数は試験器本体８のカウ
ンタにフィードバックされる。前記した相互通信を繰り
返し、不良個数が設定値を超えたとき、シーケンサ７は
異常発生と認識し、巻き取りボビンの切換え指示（警
報）を出す。そして、ボビンの切換えが実施されると、
信号は集中コントローラ９に送られ、付属のデータ処理
装置１０のプリンタに印字される。前記した通信、作動
を順次繰り返し試験が継続される。
一例について説明する。常時、検出滑車５に試験電源を
印加しているが、均一性不良箇所が発生すると出力信号
としてシーケンサ７に出力される。この信号はシーケン
サ７が受け付けた後、復帰させる必要がある。そこでシ
ーケンサ７が最低限追従できる可能速度（１０ｍｓ）
で、復帰信号を集中コントローラ９に出力している。前
記集中コントローラ９とシーケンサ７はこの信号を繰り
返し通信している。尚、この出力信号をラッチ信号と呼
称する。次に、前記シーケンサ７と試験器本体８の通信
回路の一例について説明する。シーケンサ７と試験器本
体８の中間に集中コントローラ９があり、均一性不良発
生時のデータを通信しているものである。先ず、集中コ
ントローラ９は試験器本体８からラッチ信号を入力する
と、シーケンサ７へ出力する。シーケンサ７は信号を入
力するとともに、集中コントローラ９に信号復帰の指令
を出力する。更に、不良発生個数は試験器本体８のカウ
ンタにフィードバックされる。前記した相互通信を繰り
返し、不良個数が設定値を超えたとき、シーケンサ７は
異常発生と認識し、巻き取りボビンの切換え指示（警
報）を出す。そして、ボビンの切換えが実施されると、
信号は集中コントローラ９に送られ、付属のデータ処理
装置１０のプリンタに印字される。前記した通信、作動
を順次繰り返し試験が継続される。
【００１７】
【発明の効果】本発明の均一性試験器、試験装置は、印
加電圧・検出電流値を広範囲で任意設定できる方式とし
たので、特に薄皮膜品においても、正常な絶縁皮膜部分
を破壊することがなくなった。また、本発明の試験器、
試験装置は、均一性判定試験の検出動作時間が最小１０
ｍｓ、エナメル線の測定最小単位長さで１ｍであるの
で、不良個所の特定が容易となった。また残留電荷効果
・吸収現象に対する対策が十分となり、実際の試験設定
条件と同じとすることができるようになった。また、電
気的ノイズに対して誤動作が生じなくなり、測定精度が
向上した。従って、ライン試験器、試験装置として好ま
しいものとなったので、本発明は産業に寄与する効果が
極めて大である。
加電圧・検出電流値を広範囲で任意設定できる方式とし
たので、特に薄皮膜品においても、正常な絶縁皮膜部分
を破壊することがなくなった。また、本発明の試験器、
試験装置は、均一性判定試験の検出動作時間が最小１０
ｍｓ、エナメル線の測定最小単位長さで１ｍであるの
で、不良個所の特定が容易となった。また残留電荷効果
・吸収現象に対する対策が十分となり、実際の試験設定
条件と同じとすることができるようになった。また、電
気的ノイズに対して誤動作が生じなくなり、測定精度が
向上した。従って、ライン試験器、試験装置として好ま
しいものとなったので、本発明は産業に寄与する効果が
極めて大である。
【図１】本発明の均一性試験器の回路構成の一例を説明
するための回路構成図である。
するための回路構成図である。
【図２】本発明の均一性試験装置をエナメル線製造ライ
ンに設置した例を示す略図である。
ンに設置した例を示す略図である。
【図３】集中コントローラとシーケンサにより、複数台
の均一性判定試験器をコントロールしている例を説明す
るための構成図である。
の均一性判定試験器をコントロールしている例を説明す
るための構成図である。
１ 供線側素線 １ａ エナメル線 ２ 塗料塗布槽 ３ 焼付炉 ４ 引取キャプスタン ５ 検出滑車 ６ 巻取機（巻取ボビン） ７ シーケンサ ８ 均一性試験器 ９ 集中コントローラ １０ データ処理装置 ２０ 均一性試験装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 阿弥 隆 東京都武蔵野市境南町２丁目８番４号 株 式会社新日本科学製作所内 Ｆターム(参考） 2G015 AA27 BA04 CA05 2G060 AA09 AA10 AD04 AE01 AE03 AF02 AF07 AG07 EA02 EA07 EB01 GA01 HA01 HC07 HC08 HC15 HC21 HC22 HD01 HE03 KA12
Claims (6)
- 【請求項１】 走行する被試験電線としてのエナメル線
の絶縁皮膜のピンホール不良や絶縁不良等の均一性不良
を検出し、判定することが可能な試験器であって、 一次側と二次側を完全に絶縁し、ノイズが二次側に伝達
されない様な特殊シールド処理を施したノイズカット用
の絶縁トランス；と、前記トランスからの電源を整流
し，パルストランスにより発振・昇圧し、定電圧回路を
用いて一定の電圧を出力させ，エナメル線に試験電圧を
印加するための高圧発生回路；と、前記試験電圧の電流
を制限する電流制限抵抗と、エナメル線の均一性不良個
所において流れる電流を増幅し，判定レベルと比較して
均一性不良の検出を行うための電流検出回路；と、前記
電流検出回路および外部からの各種信号を入出力するた
めの入出力回路Ｉ／Ｏ；と、均一性不良個数をカウント
して加算し、設定された数値を超えたとき外部に接点信
号として出力するカウンター；と、からなることを特徴
とする絶縁皮膜均一性判定試験器。 - 【請求項２】 前記試験電圧はＤＣレベルでエナメル線
に常時印加され、均一性不良の検出は実際に流れた電流
値を計測して行うことを特徴とする請求項１記載の絶縁
皮膜均一性判定試験器。 - 【請求項３】 均一性不良の検出の最小動作時間が１０
ｍｓ、エナメル線の測定最小単位長さで１ｍであること
を特徴とする請求項１または２記載の絶縁皮膜均一性判
定試験器。 - 【請求項４】 前記絶縁皮膜均一性判定試験器を本体と
して用いた絶縁皮膜均一性判定試験装置であって、前記
絶縁皮膜均一性判定試験器の電流制限抵抗を経由した試
験電圧の（＋）極が検出滑車５に接続され、該検出滑車
５に焼付後の走行するエナメル線１ａを接触させ、また
試験電圧の（−）極が供線側素線１に接続され、また前
記絶縁皮膜均一性判定試験器８は各種信号がコントロー
ル可能な集中コントローラ９と各種信号の制御を行うシ
ーケンサ７と通信でき、また集中コントローラ９は各種
データの記録または演算処理が可能なデータ処理装置１
０と通信できることを特徴とする絶縁皮膜均一性判定試
験装置。 - 【請求項５】 引取キャプスタン４の信号をシーケンサ
７を介して集中コントローラ９に取り込むことにより、
エナメル線の単位長さあたりの不良個数が任意設定され
ることを特徴とする請求項４記載の絶縁皮膜均一性判定
試験装置。 - 【請求項６】 前記集中コントローラ９とシーケンサ７
により、複数台の絶縁皮膜均一性判定試験器８がコント
ロールされ、また試験データはデータ処理装置１０で記
録されることを特徴とする請求項４または５記載の絶縁
皮膜均一性判定試験装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000169883A JP2001349923A (ja) | 2000-06-07 | 2000-06-07 | 絶縁皮膜均一性判定試験器および試験装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000169883A JP2001349923A (ja) | 2000-06-07 | 2000-06-07 | 絶縁皮膜均一性判定試験器および試験装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001349923A true JP2001349923A (ja) | 2001-12-21 |
Family
ID=18672675
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000169883A Pending JP2001349923A (ja) | 2000-06-07 | 2000-06-07 | 絶縁皮膜均一性判定試験器および試験装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001349923A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101509881B (zh) * | 2009-02-27 | 2012-06-27 | 东莞市康汇聚线材科技有限公司 | 漆包线在线漏电检测方法 |
| CN102539483A (zh) * | 2012-02-10 | 2012-07-04 | 铜陵鑫晟源工业技术有限责任公司 | 一种漆包线在线检测设备 |
| CN103323495A (zh) * | 2013-06-28 | 2013-09-25 | 合肥凯邦电机有限公司 | 绕线设备的伤线检测装置 |
| CN104062556A (zh) * | 2013-03-21 | 2014-09-24 | 日立金属株式会社 | 绝缘特性的检查装置及检查方法、绝缘电线的制造方法 |
| CN109470926A (zh) * | 2018-03-02 | 2019-03-15 | 国网浙江省电力公司嘉兴供电公司 | 一种电缆直流电阻测量装置及其应用方法 |
-
2000
- 2000-06-07 JP JP2000169883A patent/JP2001349923A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101509881B (zh) * | 2009-02-27 | 2012-06-27 | 东莞市康汇聚线材科技有限公司 | 漆包线在线漏电检测方法 |
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| US20140285214A1 (en) * | 2013-03-21 | 2014-09-25 | Hitachi Metals, Ltd. | Electrical insulating property tester, electrical insulating property testing method and electrically insulated wire producing method |
| JP2014182053A (ja) * | 2013-03-21 | 2014-09-29 | Hitachi Metals Ltd | 絶縁特性の検査装置、絶縁特性の検査方法及び絶縁電線の製造方法 |
| CN103323495A (zh) * | 2013-06-28 | 2013-09-25 | 合肥凯邦电机有限公司 | 绕线设备的伤线检测装置 |
| CN103323495B (zh) * | 2013-06-28 | 2016-02-24 | 合肥凯邦电机有限公司 | 绕线设备的伤线检测装置 |
| CN109470926A (zh) * | 2018-03-02 | 2019-03-15 | 国网浙江省电力公司嘉兴供电公司 | 一种电缆直流电阻测量装置及其应用方法 |
| CN109470926B (zh) * | 2018-03-02 | 2020-10-16 | 国网浙江省电力公司嘉兴供电公司 | 一种电缆直流电阻测量装置及其应用方法 |
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