JP2001344750A - Coating device - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To manufacture high-function constitution layers by constituting a device which is applicable to manufacture of flexible disks, coats the surfaces of films with plural layers of thin films by plural vacuum deposition means, is capable of transporting the continuous films, is excellent in productivity and is capable of independently controlling the deposition conditions of the plural deposition means. SOLUTION: The transportation to supply and take up the films F onto a can 4 from a film roll R1 wound to a long size is performed by a film supplying means 2 and a film take-up means 3 and the plural deposition means 5 and 6 are installed to the can 4 along the transporting direction of the films F. Shutters 26 which are opened and closed in synchronization with the intermittent transportation of the films F are disposed between these deposition means. The surfaces of the films F are successively coated with the films according to the transportation while the deposition conditions, such as the vacuum degrees, introducing gas components and temperatures, of the plural deposition means are independently controlled.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、フィルム表面にス
パッタ法および／またはＣＶＤ法による複数の成膜手段
で薄膜を複数層積層してコーティングするコーティング
装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a coating apparatus for coating a thin film on a film surface by laminating a plurality of thin films by a plurality of film forming means by sputtering and / or CVD.

【０００２】[0002]

【従来の技術】磁気テープ、ハードディスク等の磁気記
録媒体においては、スパッタ法や蒸着法等の真空成膜法
によって作製した強磁性金属薄膜を記録層とする蒸着テ
ープや薄膜型ハードディスク等の磁気記録媒体が実用化
されている。このような磁気記録媒体では、高い磁気エ
ネルギーが容易に得られ、さらに非磁性基板の表面を平
滑にすることによって記録層の平滑な表面性を容易に達
成できるためスペーシングロスが少なく、高い電磁変換
特性を有する特徴があるため高密度記録材料に適してい
る。特にスパッタ法により得られた磁性層は蒸着法より
得られたものに比べて磁気エネルギーを高めることがで
きるため、ハードディスクのような高い記録密度が要求
される媒体に好適である。2. Description of the Related Art In a magnetic recording medium such as a magnetic tape or a hard disk, a magnetic recording medium such as a vapor-deposited tape or a thin-film hard disk having a ferromagnetic metal thin film as a recording layer produced by a vacuum film forming method such as a sputtering method or a vapor-depositing method. The medium has been put to practical use. In such a magnetic recording medium, a high magnetic energy can be easily obtained, and further, the surface of the nonmagnetic substrate can be easily smoothed by smoothing the surface of the nonmagnetic substrate. It is suitable for high-density recording materials because of its characteristic of having conversion characteristics. In particular, the magnetic layer obtained by the sputtering method can increase the magnetic energy as compared with that obtained by the vapor deposition method, and thus is suitable for a medium requiring a high recording density such as a hard disk.

【０００３】一方、可撓性基体上に記録層を設けてなる
フレキシブルディスク型の磁気記録媒体は、ハードディ
スクと比較して、耐衝撃性に優れ、低コストであるため
に非常に広く使用されている。通常、上記可撓性基体
（フィルム）上への記録層の形成は塗布法で行われ、例
えば、フィルム上に形成した下層磁性層もしくは下層非
磁性層上に、薄膜の磁性層を磁性塗料の塗布によって形
成した塗布型の磁気記録媒体（フレキシブルディスク）
が知られ、その記録容量の増大が図られ、３．５インチ
サイズで１００ＭＢを超えるものも提供されている。し
かしながら、その記録密度は未だハードディスクの１／
１０以下である。これは塗布法で磁性膜を形成している
ためで、ハードディスクのように磁性膜をスパッタ法で
作製しようとする試みが多数報告されているものの、未
だ実用化には至っていないことが大きな要因である。[0003] On the other hand, a flexible disk type magnetic recording medium having a recording layer provided on a flexible base is excellent in impact resistance and low cost as compared with a hard disk, so that it is widely used. I have. Usually, the recording layer is formed on the flexible substrate (film) by a coating method. For example, a thin magnetic layer is formed on a lower magnetic layer or a lower non-magnetic layer formed on a film by coating a magnetic paint. Coated magnetic recording medium (flexible disk) formed by coating
The recording capacity is increased, and a 3.5-inch size exceeding 100 MB is also provided. However, its recording density is still 1 /
10 or less. This is because the magnetic film is formed by the coating method, and although many attempts have been reported to produce a magnetic film by a sputtering method like a hard disk, it is a major factor that it has not yet been put to practical use. is there.

【０００４】基体フィルムへの真空成膜法による記録層
の形成の実用化を阻害する大きな理由としては、フィル
ム表面に高性能な磁性層や保護膜をコーティングする量
産方法が確立していないことがあげられる。A major reason that hinders practical use of forming a recording layer on a base film by a vacuum film forming method is that a mass production method for coating a high-performance magnetic layer or a protective film on the film surface has not been established. can give.

【０００５】現在、一般的に知られているスパッタ法や
ＣＶＤ法によるフィルム上への薄膜のコーティング装置
としては、次のようなものがある。まず、ウェブ式とし
て、例えば、特開平５−２７４６７３号に見られるよう
に、フィルムロールからフィルムを複数のキャン上に順
に供給して巻き付け、各キャンに対して配設したスパッ
タ法またはＣＶＤ法による複数の成膜手段によって、連
続的に搬送されるフィルムに磁性膜や保護膜を形成した
後、このフィルムを巻き取る装置がある。また、枚様式
として、あらかじめ所望のサイズ（形状）に切り取った
フィルムをホルダーに設置し、ハードディスクを製造す
る場合と同様に、上記ホルダーを独立した成膜室に設置
された複数の成膜手段に順次搬送し、フィルムに磁性膜
や保護膜を形成する装置がある。At present, as a generally known apparatus for coating a thin film on a film by a sputtering method or a CVD method, there is the following apparatus. First, as a web type, for example, as seen in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 5-274673, a film is sequentially supplied from a film roll onto a plurality of cans and wound, and a sputtering method or a CVD method provided for each can is used. There is an apparatus that forms a magnetic film or a protective film on a film that is continuously conveyed by a plurality of film forming means, and then winds the film. Also, as a sheet format, a film cut in advance to a desired size (shape) is set in a holder, and the holder is transferred to a plurality of film forming units installed in independent film forming chambers, as in the case of manufacturing a hard disk. There is an apparatus that sequentially conveys and forms a magnetic film and a protective film on a film.

【０００６】しかしながら、前者のウェブ式の場合は、
連続したフィルムの搬送であることで生産性が優れるも
のの、１つのキャン上では成膜手段の真空度、導入ガス
組成、温度等の成膜条件が同一となってしまうため、磁
気記録媒体のように各構成層に特殊な構造や機能を要求
する場合には、複数の成膜手段の各成膜条件の制御を独
立して行うのが困難であるために、複数の成膜室にそれ
ぞれキャンを配設する必要が生じ枚様式と同様に装置が
大型で複雑化する問題を有する。[0006] However, in the case of the former web type,
Although the productivity is excellent due to the continuous transport of the film, the film forming conditions such as the degree of vacuum of the film forming means, the composition of the introduced gas, the temperature, etc. are the same on one can, so that it can be used like a magnetic recording medium. If each constituent layer requires a special structure or function, it is difficult to independently control the film forming conditions of a plurality of film forming means. Therefore, there is a problem that the apparatus is large and complicated like the sheet type.

【０００７】また、後者の枚様式を用いる場合、各成膜
手段の成膜条件が独立して制御可能なため、十分に機能
が高い構成層を作製することが可能であるが、あらかじ
め所定形状に切断したフィルムをホルダーに設置する必
要があり、生産性に大きな問題があった。[0007] When the latter type is used, the film forming conditions of each film forming means can be controlled independently, so that a constituent layer having a sufficiently high function can be produced. It is necessary to install the cut film into a holder, which has a major problem in productivity.

【０００８】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、フレキシブ
ルディスクの製造に応用可能な、フィルム表面にスパッ
タ法および／またはＣＶＤ法による複数の成膜手段で薄
膜を複数層積層してコーティングするについて、連続し
たフィルムの搬送が可能で、かつ１つのキャン上で複数
の成膜手段における成膜条件を独立して制御可能とし
て、生産性に優れると共に高機能な構成層を作製可能な
コーティング装置を提供することを目的するものであ
る。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a method for coating a film surface by laminating a plurality of thin films by a plurality of film forming means by a sputtering method and / or a CVD method, which can be applied to the production of a flexible disk. Provides a coating device that can transport a continuous film and independently control the film forming conditions of a plurality of film forming means on one can, and is capable of producing highly functional constituent layers with excellent productivity. It is intended to do so.

【０００９】[0009]

【課題を解決するための手段】前記課題は本発明のコー
ティング装置、つまり、フィルム表面にスパッタ法およ
び／またはＣＶＤ法で薄膜を複数層積層してコーティン
グするコーティング装置において、長尺で巻かれたフィ
ルムロールから平滑担持面を有するドラム状のキャン上
にフィルムを供給するフィルム供給手段ならびにフィル
ム表面への薄膜コーティング後に前記キャン上のフィル
ムを巻き取るフィルム巻取り手段を有し、フィルムの搬
送を断続的に行うと共に、前記キャン上に巻き付けられ
たフィルムと対向して、スパッタ成膜手段もしくはＣＶ
Ｄ成膜手段から選ばれる複数の成膜手段をフィルムの搬
送方向に沿って設置し、これらの成膜手段間に前記フィ
ルムの断続的搬送に同期して開閉し、各成膜手段毎に密
閉可能な処理室を形成するシャッターを設け、各成膜手
段の真空度、導入ガス組成、温度等の成膜条件を独立し
て制御可能とし、フィルム上に薄膜を搬送に応じて順次
コーティングすることを特徴とするコーティング装置に
よって達成することができる。An object of the present invention is to provide a coating apparatus according to the present invention, that is, a coating apparatus that coats a film surface by laminating a plurality of thin films by sputtering and / or CVD. Film feed means for feeding a film from a film roll onto a drum-shaped can having a smooth carrying surface, and film winding means for winding the film on the can after thin film coating on the film surface, and intermittently transport the film And a sputtering film forming means or CV facing the film wound on the can.
D A plurality of film forming means selected from film forming means are installed along the direction of transport of the film, and are opened and closed in synchronism with the intermittent transport of the film between these film forming means, and each film forming means is sealed. Provide a shutter that forms a possible processing chamber, make it possible to independently control the film forming conditions such as the degree of vacuum, the composition of the introduced gas, and the temperature of each film forming means, and coat the thin film on the film sequentially according to the transport This can be achieved by a coating apparatus characterized by the following.

【００１０】前記成膜手段間に独立した温度制御手段を
有することが望ましい。また、前記成膜手段と温度制御
手段を互いに独立したユニットに構成し、各ユニット間
の電気伝導および熱伝導を抑制するのが好適である。[0010] It is desirable to have an independent temperature control means between the film forming means. Further, it is preferable that the film forming means and the temperature control means are configured as independent units to suppress electric conduction and heat conduction between the units.

【００１１】[0011]

【発明の効果】上記のような本発明によれば、フィルム
供給手段ならびにフィルム巻取り手段により長尺で巻か
れたフィルムロールからキャン上にフィルムを供給し巻
き取る搬送を断続的に行うと共にキャンに複数の成膜手
段をフィルムの搬送方向に沿って設置し、これらの成膜
手段間にフィルムの断続的搬送に同期して開閉し、各成
膜手段毎に密閉可能な処理室を形成するシャッターを設
けたことにより、１つのキャン上に配設された複数の成
膜手段の真空度、導入ガス組成、温度等の成膜条件を独
立して制御しつつフィルム上に薄膜を搬送に応じて順次
コーティングすることが可能となり、連続したフィルム
の搬送であることで生産性が優れ、かつ、各成膜手段の
成膜条件が独立して制御可能なため、十分に機能が高い
構成層を作製することができ、装置の簡素化、小型化が
図れると共に、高記録密度に対応した記録層を有するフ
レキシブルディスクの量産の実用化が確立できる。According to the present invention as described above, the feeding and winding of the film from the long film roll wound by the film feeding means and the film winding means onto the can are carried out intermittently. A plurality of film forming means are installed in the direction of transport of the film, and are opened and closed in synchronization with the intermittent transport of the film between these film forming means to form a process chamber which can be sealed for each film forming means. With the provision of a shutter, the thin film can be transported on the film while independently controlling the film forming conditions such as the degree of vacuum, the composition of the introduced gas, and the temperature of the film forming means arranged on one can. It is possible to coat components sequentially with high performance because the film is continuously transported and the productivity is excellent, and the film forming conditions of each film forming means can be controlled independently. Make Bets can be, simplification of the apparatus, downsizing can be achieved, can establish the practical mass production of a flexible disc having a recording layer corresponding to high recording density.

【００１２】また、各成膜手段間に独立した温度制御手
段を設けるか、各成膜手段と温度制御手段を互いに独立
したユニットに構成し、各ユニット間の電気伝導および
熱伝導を抑制すると、各成膜手段における成膜条件の独
立制御がさらに良好に行え、より高機能な薄膜のコーテ
ィングが実施できる。[0012] Further, if an independent temperature control means is provided between the film forming means or the film forming means and the temperature control means are formed in independent units to suppress electric conduction and heat conduction between the units, Independent control of film forming conditions in each film forming means can be performed more favorably, and a more sophisticated thin film coating can be performed.

【００１３】[0013]

【発明の実施の形態】以下に本発明のコーティング装置
の実施の形態を示し、本発明をさらに詳細に説明する。
図１は一つの実施の形態にかかるコーティング装置の機
構図、図２は要部の拡大断面図である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the coating apparatus of the present invention will be shown, and the present invention will be described in more detail.
FIG. 1 is a mechanism diagram of a coating apparatus according to one embodiment, and FIG. 2 is an enlarged sectional view of a main part.

【００１４】本実施形態のコーティング装置１は、フィ
ルム供給手段２ならびにフィルム巻取り手段３を有し、
キャン４上にコーティングを行うフィルムＦを巻き付け
ると共に、フィルムＦの搬送を断続的に行い、この断続
搬送に対応してフィルムＦの供給および巻き取りを行
う。The coating apparatus 1 of this embodiment has a film supply means 2 and a film winding means 3,
The film F to be coated is wound on the can 4 and the film F is intermittently conveyed, and the film F is supplied and wound in accordance with the intermittent conveyance.

【００１５】フィルム供給手段２は、ロール状に長尺で
巻かれた未使用のフィルムロールＲ１（原反）を保持す
る巻出し軸１１を備え、このフィルムロールＲ１からフ
ィルムＦを繰り出し、送りローラ１２、供給側ガイドロ
ーラ１３を介してフィルムＦをキャン４外周に巻き付け
るように供給する。フィルム巻取り手段３は、表面への
コーティングが終了したフィルムＦをロール状に巻き取
る巻取り軸１４を備え、キャン４から剥離されたフィル
ムＦを巻取り側ガイドローラ１５を介して、上記巻取り
軸１４に巻き取って処理後フィルムロールＲ２とする。The film supply means 2 is provided with an unwinding shaft 11 for holding an unused film roll R1 (raw material) wound in a long shape in a roll form, and unwinds a film F from the film roll R1 and feeds the film F. 12. The film F is supplied via the supply-side guide roller 13 so as to be wound around the outer periphery of the can 4. The film take-up means 3 includes a take-up shaft 14 for taking up the film F, the surface of which has been coated, in a roll form. The film is wound around a take-up shaft 14 to obtain a processed film roll R2.

【００１６】上記フィルム供給手段２およびフィルム巻
取り手段３は、キャン４の外周部に形成された真空チャ
ンバー２１に連通してフィルムＦの走行経路に沿って形
成された真空チャンバー２２内に配設されている。The film supply means 2 and the film winding means 3 are provided in a vacuum chamber 22 formed along the running path of the film F in communication with a vacuum chamber 21 formed on the outer periphery of the can 4. Have been.

【００１７】また、フィルム供給手段２における巻出し
軸１１の部分に続いてベーキングユニット１６が設置さ
れ、フィルムロールＲ１から繰り出されたフィルムＦを
前段処理として所定温度に加熱してベーキングを行う。
ベーキングユニット１６の下流部分にはシャッター１７
が配設され、このシャッター１７は巻出し軸１１に対す
るフィルムロールＲ１の脱着時に閉じられ、大気開放部
分の低減化を図る。同様にフィルム巻取り手段３の上流
部分にもシャッター１８が配設され、このシャッター１
８は巻取り軸１４に対するフィルムロールＲ２の脱着時
に閉じられ、大気開放部分の低減化を図る。A baking unit 16 is installed following the unwinding shaft 11 in the film supply means 2, and the film F unwound from the film roll R1 is heated to a predetermined temperature as a pre-process to perform baking.
A shutter 17 is provided downstream of the baking unit 16.
The shutter 17 is closed when the film roll R1 is attached to and detached from the unwinding shaft 11, so that a portion exposed to the atmosphere is reduced. Similarly, a shutter 18 is provided at an upstream portion of the film winding means 3.
Reference numeral 8 is closed when the film roll R2 is attached to and detached from the take-up shaft 14, so that the portion exposed to the atmosphere is reduced.

【００１８】なお、巻出し軸１１および巻取り軸１４
は、真空チャンバー２２外に設置してもよい。The unwinding shaft 11 and the winding shaft 14
May be installed outside the vacuum chamber 22.

【００１９】前記ベーキングユニット１６は、基材がプ
ラスチック製のフィルムＦであるため、コーティング前
にフィルムＦのベーキングを行い、フィルムＦ中の揮発
成分を除去するものである。ベーキングユニット１６は
後述のスパッタ成膜手段５およびＣＶＤ成膜手段６から
独立して存在するように設置されている。なお、上記ベ
ーキングユニット１６は、フィルムロールＲ１にあらか
じめベーキング処理されているものでは、コーティング
装置１には不要となる場合がある。Since the base material is a plastic film F, the baking unit 16 removes volatile components in the film F by baking the film F before coating. The baking unit 16 is installed so as to exist independently of the later-described sputtering film forming means 5 and CVD film forming means 6. The baking unit 16 may not be necessary in the coating apparatus 1 if the baking process has been performed on the film roll R1 in advance.

【００２０】キャン４は、円筒ドラム状（図１では内部
構造は図示せず）に形成され、外周面にはフィルムＦを
添わせる金属製の平滑担持面を有している。このキャン
４は、図２に示すように、円筒状のキャン本体部４１の
周面部が、後述の真空チャンバー２１の分割された処理
室２１ａに対応しこれと同数の独立した担持ユニット４
２に分割形成されている。各担持ユニット４２の円弧状
表面部は円筒面を構成する鏡面研磨金属板４３で形成さ
れ、各鏡面研磨金属板４３の端部における各担持ユニッ
ト４２の境界部分が電気伝導および熱伝導を抑制する絶
縁材料による隔壁４４で保持され、各担持ユニット４２
が仕切られている。The can 4 is formed in a cylindrical drum shape (the internal structure is not shown in FIG. 1), and has on its outer peripheral surface a smooth metal carrying surface to which a film F is attached. As shown in FIG. 2, the can 4 has a cylindrical can body 41 having a peripheral surface corresponding to a divided processing chamber 21a of a vacuum chamber 21 to be described later.
It is divided into two parts. The arc-shaped surface portion of each carrier unit 42 is formed of a mirror-polished metal plate 43 constituting a cylindrical surface, and the boundary between the carrier units 42 at the end of each mirror-polished metal plate 43 suppresses electric conduction and heat conduction. Each carrier unit 42 is held by a partition 44 made of an insulating material.
Is partitioned.

【００２１】上記のようにキャン４外周を絶縁材料によ
る隔壁４４で区画し独立した担持ユニット４２の構造と
し、隣接する担持ユニット４２からの伝熱を抑制し、各
担持ユニット４２における鏡面研磨金属板４３を異なる
温度に保持可能である。さらに各担持ユニット４２で独
立したバイアスの設定が可能となる。As described above, the outer periphery of the can 4 is partitioned by the partition wall 44 made of an insulating material to form an independent supporting unit 42, heat transfer from the adjacent supporting unit 42 is suppressed, and the mirror-polished metal plate in each supporting unit 42 is formed. 43 can be kept at different temperatures. Further, it is possible to set an independent bias for each carrying unit 42.

【００２２】なお、各担持ユニット４２内に温度制御手
段（加熱手段または冷却手段）を配設して、鏡面研磨金
属板４３の温度、すなわちこの金属板４３に接している
フィルムＦの温度を各担持ユニット４２で独立制御する
ようにしてもよい。また、前記キャン４は外周部分をユ
ニット化せず、従来から知られているような金属製の円
筒体で構成してもよい。A temperature control means (heating means or cooling means) is provided in each carrier unit 42 to control the temperature of the mirror-polished metal plate 43, that is, the temperature of the film F in contact with the metal plate 43. The carrying unit 42 may perform independent control. Further, the can 4 may be formed of a conventionally known metal cylinder without forming the outer peripheral unit as a unit.

【００２３】キャン４外周の真空チャンバー２１は、キ
ャン４の外周面から離れた位置に所定の空間を形成する
ように周壁２３が設けられ、この周壁２３の外側には同
心状に内枠体２４および外枠体２５が配設されている。
上記周壁２３および内枠体２４に放射方向に開閉作動す
るシャッター２６（図１で放射方向の壁は全てシャッタ
ーである）が等間隔に配設され、このシャッター２６に
よって前記真空チャンバー２１が各ユニットに仕切られ
てる。閉状態にあるシャッター２６、キャン４外周面お
よび真空チャンバー周壁２３によって囲まれた密閉可能
な各処理室２１ａが独立したユニットとなる。図１の場
合、キャン４の外周に等間隔に１４個の処理室２１ａが
形成されている。The vacuum chamber 21 on the outer periphery of the can 4 is provided with a peripheral wall 23 at a position away from the outer peripheral surface of the can 4 so as to form a predetermined space. And an outer frame 25 are provided.
Shutters 26 (all the radial walls in FIG. 1 are shutters) are provided at equal intervals on the peripheral wall 23 and the inner frame 24 so as to open and close in the radial direction. It is divided into Each of the hermetically sealable processing chambers 21a surrounded by the shutter 26 in the closed state, the outer peripheral surface of the can 4, and the peripheral wall 23 of the vacuum chamber is an independent unit. In the case of FIG. 1, 14 processing chambers 21a are formed on the outer periphery of the can 4 at equal intervals.

【００２４】上記のように各成膜手段５，６に独立した
処理室２１ａとなる空間を形成することで、成膜時の真
空度や導入ガス組成の独立した制御が可能となり、各薄
膜の作製条件を詳細に設計することが可能となる。By forming an independent processing chamber 21a in each of the film forming means 5 and 6 as described above, it is possible to independently control the degree of vacuum and the composition of the introduced gas during film formation. Manufacturing conditions can be designed in detail.

【００２５】前記処理室２１ａ（ユニット）には、４つ
のスパッタ成膜手段５と３つのＣＶＤ成膜手段６とによ
る成膜手段が、および４つの加熱手段７と１つの冷却手
段８とによる温度制御手段が配設されている。すなわ
ち、フィルムＦの搬送方向の上流側から、第１の加熱手
段７、第１のスパッタ成膜手段５、第２の加熱手段７、
第２のスパッタ成膜手段５、第３の加熱手段７、第３の
スパッタ成膜手段５、第４の加熱手段７、第４のスパッ
タ成膜手段５、１つ空いて、冷却手段８、第１のＣＶＤ
成膜手段６、第２のＣＶＤ成膜手段６、第３のＣＶＤ成
膜手段６が、順に設置されている。The processing chamber 21a (unit) has a film forming means composed of four sputter film forming means 5 and three CVD film forming means 6, and a temperature formed by four heating means 7 and one cooling means 8. Control means are provided. That is, from the upstream side in the transport direction of the film F, the first heating means 7, the first sputtering film forming means 5, the second heating means 7,
A second sputter film forming means 5, a third heating means 7, a third sputter film forming means 5, a fourth heating means 7, a fourth sputter film forming means 5, one cooling means, First CVD
The film forming means 6, the second CVD film forming means 6, and the third CVD film forming means 6 are installed in this order.

【００２６】各スパッタ成膜手段５は、キャン４の外周
面の鏡面研磨金属板４３に対向して先端部にスパッタタ
ーゲット５１を保持したスパッタカソード５２が設置さ
れ、所望の組成のコーティング層（磁性層）をフィルム
Ｆ表面に順に成膜する。スパッタターゲット５１は成膜
する薄膜の組成の対応した材質に設けられ、その材質に
適した処理温度に前段の各加熱手段７によりフィルムＦ
を所定温度に加熱する。また、各スパッタ成膜手段５が
配設された各処理室２１ａは、所定の真空度に減圧さ
れ、必要に応じてガスが導入される。Each sputter film forming means 5 has a sputter cathode 52 holding a sputter target 51 at the end thereof facing the mirror-polished metal plate 43 on the outer peripheral surface of the can 4, and has a coating layer (magnetic layer) having a desired composition. Are sequentially formed on the surface of the film F. The sputtering target 51 is provided on a material corresponding to the composition of the thin film to be formed, and is heated to a processing temperature suitable for the material by the heating means 7 in the preceding stage.
Is heated to a predetermined temperature. Further, the pressure in each processing chamber 21a in which each sputtering film forming means 5 is disposed is reduced to a predetermined degree of vacuum, and gas is introduced as necessary.

【００２７】各ＣＶＤ成膜手段６は、キャン４の外周面
の鏡面研磨金属板４３に対向してＣＶＤの活性種を発生
させるＣＶＤ６１ガンを備え、磁性層表面に保護膜を成
膜する。各ＣＶＤ成膜手段６が配設された各処理室２１
ａは所定の真空度に減圧され、成膜組成に対応した処理
ガスが導入される。Each of the CVD film forming means 6 is provided with a CVD 61 gun for generating active species for CVD, facing the mirror-polished metal plate 43 on the outer peripheral surface of the can 4, and forms a protective film on the surface of the magnetic layer. Each processing chamber 21 in which each CVD film forming means 6 is disposed
The pressure a is reduced to a predetermined degree of vacuum, and a processing gas corresponding to the film forming composition is introduced.

【００２８】図示していないが、各処理室２１ａには独
立して真空度が調整可能な減圧手段が設置される。減圧
手段の真空ポンプは、一般的なロータリーポンプやクラ
イオポンプ、ターボポンプなどが使用でき、排気は真空
チャンバー２１、２２の全体と各成膜手段５，６が設置
された各ユニットの処理室２１ａの両方から行う。つま
り、真空チャンバー２１，２２全体をある程度の真空度
とし、各処理室２１ａをそれぞれの成膜処理に適した真
空度に調整制御する。Although not shown, each processing chamber 21a is provided with a decompression means capable of independently adjusting the degree of vacuum. A general rotary pump, a cryopump, a turbo pump, or the like can be used as a vacuum pump of the decompression means. The exhaust is performed by exhausting the entire vacuum chambers 21 and 22 and the processing chamber 21a of each unit in which the film forming means 5 and 6 are installed. Do from both. That is, the entire vacuum chambers 21 and 22 are set to a certain degree of vacuum, and the respective processing chambers 21a are adjusted and controlled to a degree of vacuum suitable for each film forming process.

【００２９】前記加熱手段７および冷却手段８は、処理
室２１ａ内のキャン４と対向する位置にフィルムＦの温
度を制御するために設置され、具体的には、加熱手段７
は赤外線ヒーターや熱プレートで構成され、冷却手段８
としては各種冷媒による冷却プレートで構成される。こ
れらは例えばフィルムＦの温度が高い方が薄膜の特性が
向上するスパッタ成膜手段５に対しては、このスパッタ
成膜手段５の前段に加熱手段７を設置し、この温度より
低い温度で保護膜を成膜するＣＶＤ成膜手段６の前段に
冷却手段８を設置している。The heating means 7 and the cooling means 8 are installed at a position facing the can 4 in the processing chamber 21a to control the temperature of the film F.
Is composed of an infrared heater or a heat plate,
Is composed of a cooling plate using various refrigerants. For example, in the case of the sputter film forming means 5 in which the higher the temperature of the film F is, the better the characteristics of the thin film are, the heating means 7 is installed in front of the sputter film forming means 5 and the protection is performed at a temperature lower than this temperature. A cooling means 8 is provided before the CVD film forming means 6 for forming a film.

【００３０】上記のような装置におけるフィルムＦ表面
へのコーティングは次のようなステップで行う。まず各
シャッター２６を開き、フィルムＦを処理室２１ａのユ
ニットサイズに相当する長さだけ搬送して停止する。こ
の状態で各シャッター２６を閉じ、各成膜手段５，６ま
たは温度制御手段７，８に応じたガスを各処理室２１ａ
に独立して導入し、コーティングまたは温度制御を行
う。その際、各処理室２１ａを排気し、所定の真空度に
保持する。続いてシャッター２６を開き、フィルムＦを
処理室２１ａのユニットサイズに相当する長さだけ搬送
し、停止する。このフィルムＦの断続的搬送と成膜とを
繰り返すことによって、フィルムＦの所定面積に薄膜を
順次コーティングする。コーティングが終了したフィル
ムＦは順次フィルム巻取り手段３によって巻き取られ、
全てのコーティングが終了した後、取り出される。The coating on the surface of the film F in the above apparatus is performed in the following steps. First, each shutter 26 is opened, and the film F is transported by the length corresponding to the unit size of the processing chamber 21a and stopped. In this state, each shutter 26 is closed, and a gas corresponding to each of the film forming units 5 and 6 or the temperature control units 7 and 8 is supplied to each processing chamber 21a.
To perform coating or temperature control independently. At this time, each processing chamber 21a is evacuated and maintained at a predetermined degree of vacuum. Subsequently, the shutter 26 is opened, the film F is transported by a length corresponding to the unit size of the processing chamber 21a, and the film F is stopped. By repeating the intermittent conveyance and film formation of the film F, a predetermined area of the film F is sequentially coated with a thin film. The coated film F is sequentially wound by the film winding means 3,
After all coating is completed, it is removed.

【００３１】なお、このコーティング装置１は、フレキ
シブルディスク用の磁気記録媒体を製造するためのもの
で、コーティング後のフィルムＦは円盤状に打ち抜き加
工等が施されるもので、シャッター２６に対応して停止
した部分については製品に使用しないようにする。The coating apparatus 1 is for manufacturing a magnetic recording medium for a flexible disk, and the coated film F is punched into a disk shape or the like. Do not use the stopped parts in products.

【００３２】上記のような実施の形態のコーティング装
置１によれば、１つのキャン４の外周にスパッタ成膜手
段５、ＣＶＤ成膜手段６による複数の成膜手段、および
複数の温度制御手段７，８を配設し、それらを設置した
真空チャンバー２１の各処理室２１ａを開閉作動するシ
ャッター２６によって仕切り、独立に成膜条件を設定制
御可能としたことで、順次フィルムＦ表面に積層する薄
膜の機能が高められ、得られる磁性層、保護膜の性質が
優れ、フレキシブルディスクとした際に、ハードディス
クに匹敵する高記録密度化が可能となると共に、処理効
率に優れ量産も可能となる。According to the coating apparatus 1 of the embodiment as described above, a plurality of film forming means including the sputter film forming means 5 and the CVD film forming means 6 and a plurality of temperature control means 7 are provided on the outer periphery of one can 4. , 8 are arranged, and each processing chamber 21a of the vacuum chamber 21 in which they are installed is partitioned by a shutter 26 that opens and closes, and the film forming conditions can be set and controlled independently, so that the thin films sequentially laminated on the surface of the film F And the properties of the obtained magnetic layer and protective film are excellent. When a flexible disk is used, high recording density comparable to that of a hard disk can be achieved, and processing efficiency is excellent and mass production is possible.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】本発明の一つの実施形態に係るコーティング装
置の機構図FIG. 1 is a mechanism diagram of a coating apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図２】図１の要部拡大断面図FIG. 2 is an enlarged sectional view of a main part of FIG. 1;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１ コーティング装置 Ｆ フィルム R1 フィルムロール ２ フィルム供給手段 ３ フィルム巻取り手段 ４ キャン ５ スパッタ成膜手段 ６ ＣＶＤ成膜手段 ７ 加熱手段（温度制御手段） ８ 冷却手段（温度制御手段） 11 巻出し軸 14 巻取り軸 16 ベーキングユニット 17,18 シャッター 21,22 真空チャンバー 21a 処理室 26 シャッター 42 担持ユニット 43 鏡面研磨金属板 44 隔壁（絶縁材料） 51 スパッタターゲット 52 スパッタカソード 61 ＣＶＤガン DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Coating apparatus F Film R1 Film roll 2 Film supply means 3 Film winding means 4 Can 5 Sputter film formation means 6 CVD film formation means 7 Heating means (Temperature control means) 8 Cooling means (Temperature control means) 11 Unwinding shaft 14 Take-up shaft 16 Baking unit 17,18 Shutter 21,22 Vacuum chamber 21a Processing chamber 26 Shutter 42 Carrying unit 43 Mirror-polished metal plate 44 Partition wall (insulating material) 51 Sputter target 52 Sputter cathode 61 CVD gun

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長尾 信 神奈川県小田原市扇町２丁目12番１号 富 士写真フイルム株式会社内 Ｆターム(参考） 4K029 AA11 AA25 BB02 CA05 DA02 DA08 DA12 KA03 KA09 4K030 BB12 CA07 CA12 EA03 GA14 HA02 JA06 JA09 JA10 KA12 KA22 KA28 KA41 5D112 AA24 FA04 FA09 FB25 GB03 KK03  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Nobu Nagao 2-12-1, Ogimachi, Odawara-shi, Kanagawa Prefecture Fuji Photo Film Co., Ltd. F-term (reference) 4K029 AA11 AA25 BB02 CA05 DA02 DA08 DA12 KA03 KA09 4K030 BB12 CA07 CA12 EA03 GA14 HA02 JA06 JA09 JA10 KA12 KA22 KA28 KA41 5D112 AA24 FA04 FA09 FB25 GB03 KK03

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 フィルム表面にスパッタ法および／また
はＣＶＤ法で薄膜を複数層積層してコーティングするコ
ーティング装置において、 長尺で巻かれたフィルムロールから平滑担持面を有する
ドラム状のキャン上にフィルムを供給するフィルム供給
手段ならびにフィルム表面への薄膜コーティング後に前
記キャン上のフィルムを巻き取るフィルム巻取り手段を
有し、フィルムの搬送を断続的に行うと共に、 前記キャン上に巻き付けられたフィルムと対向して、ス
パッタ成膜手段もしくはＣＶＤ成膜手段から選ばれる複
数の成膜手段をフィルムの搬送方向に沿って設置し、 これらの成膜手段間に前記フィルムの断続的搬送に同期
して開閉し、各成膜手段毎に密閉可能な処理室を形成す
るシャッターを設け、各成膜手段の真空度、導入ガス組
成、温度等の成膜条件を独立して制御可能とし、フィル
ム上に薄膜を搬送に応じて順次コーティングすることを
特徴とするコーティング装置。1. A coating apparatus for coating a film surface by laminating a plurality of thin films by a sputtering method and / or a CVD method, wherein a film is wound from a long roll on a drum-shaped can having a smooth carrying surface. And a film winding means for winding the film on the can after the thin film coating on the film surface, intermittently transporting the film, and facing the film wound on the can. Then, a plurality of film forming means selected from a sputter film forming means or a CVD film forming means are installed in the film conveying direction, and are opened and closed between these film forming means in synchronization with the intermittent conveyance of the film. A shutter for forming a process chamber that can be sealed is provided for each film forming means, the degree of vacuum of each film forming means, and the composition of the introduced gas. A coating apparatus characterized in that film forming conditions such as temperature and temperature can be controlled independently, and a thin film is sequentially coated on a film according to conveyance. 【請求項２】 前記成膜手段間に独立した温度制御手段
を有することを特徴とする請求項１に記載のコーティン
グ装置。2. The coating apparatus according to claim 1, further comprising independent temperature control means between said film forming means. 【請求項３】 前記成膜手段と温度制御手段を互いに独
立したユニットに構成し、各ユニット間の電気伝導およ
び熱伝導を抑制したことを特徴とする請求項１または２
に記載のコーティング装置。3. The apparatus according to claim 1, wherein the film forming unit and the temperature control unit are configured as independent units, and electrical and thermal conduction between the units are suppressed.
The coating apparatus according to claim 1.