JP2001279304A - 鎖状金属コロイド分散液及びその製造方法 - Google Patents
鎖状金属コロイド分散液及びその製造方法Info
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- JP2001279304A JP2001279304A JP2000091944A JP2000091944A JP2001279304A JP 2001279304 A JP2001279304 A JP 2001279304A JP 2000091944 A JP2000091944 A JP 2000091944A JP 2000091944 A JP2000091944 A JP 2000091944A JP 2001279304 A JP2001279304 A JP 2001279304A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＣＲＴやＰＤＰ、ＦＥＤ等のフラットパネル
ディスプレイ等の前面板などに用いられる帯電防止性、
電磁波遮蔽性、導電性に優れた機能性層を生成できる鎖
状金属コロイド分散液及びコロイド分散液の製造方法を
提供する。 【解決手段】 少なくとも１種の金属を含有し、鎖状金
属コロイドの平均主鎖長と平均太さの比が５以上５０以
下であり、かつ平均太さが２ｎｍ以上３０ｎｍ以下であ
る鎖状分散質を有することを特徴とする鎖状金属コロイ
ド分散液およびその製造方法。
ディスプレイ等の前面板などに用いられる帯電防止性、
電磁波遮蔽性、導電性に優れた機能性層を生成できる鎖
状金属コロイド分散液及びコロイド分散液の製造方法を
提供する。 【解決手段】 少なくとも１種の金属を含有し、鎖状金
属コロイドの平均主鎖長と平均太さの比が５以上５０以
下であり、かつ平均太さが２ｎｍ以上３０ｎｍ以下であ
る鎖状分散質を有することを特徴とする鎖状金属コロイ
ド分散液およびその製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、優れた導電性を有
する機能性層を生成することのできる鎖状金属コロイド
分散液及びその製造方法にする。
する機能性層を生成することのできる鎖状金属コロイド
分散液及びその製造方法にする。
【０００２】
【従来の技術】ＴＶブラウン管やコンピュータディスプ
レイとして用いられている陰極線管やプラズマディスプ
レーは、フェースパネル面に発生する静電気により埃が
付着して視認性が低下する他、電磁波を輻射して周囲に
悪影響を及ぼすなどの問題点を有している。 また陰極
線管のフラット化等により、反射防止機能が必要となっ
ている。 またフェースパネル面は手が触れたり、汚れ
を落とすことにより、擦り傷が発生しやすい問題があ
る。
レイとして用いられている陰極線管やプラズマディスプ
レーは、フェースパネル面に発生する静電気により埃が
付着して視認性が低下する他、電磁波を輻射して周囲に
悪影響を及ぼすなどの問題点を有している。 また陰極
線管のフラット化等により、反射防止機能が必要となっ
ている。 またフェースパネル面は手が触れたり、汚れ
を落とすことにより、擦り傷が発生しやすい問題があ
る。
【０００３】帯電防止、電磁波遮蔽および反射防止を目
的として、銀等の金属あるいはＩＴＯ等の導電性金属酸
化物を蒸着・スパッタ等で導電性層をフェースパネル面
に直接形成させる方法が提案されているが、膜形成には
真空処理や高温処理が必要であり、製造費が高価になっ
たり、生産性に問題があった。
的として、銀等の金属あるいはＩＴＯ等の導電性金属酸
化物を蒸着・スパッタ等で導電性層をフェースパネル面
に直接形成させる方法が提案されているが、膜形成には
真空処理や高温処理が必要であり、製造費が高価になっ
たり、生産性に問題があった。
【０００４】また、ゾル−ゲル法による塗布方式の導電
性薄膜の形成法も提案されているが（羽生等，Ｎａｔｉ
ｏｎａｌ Ｔｈｅｃｎｉｃａｌ Ｒｅｐｏｒｔ ４０，
Ｎｏ．１，（１９９４）９０）、高温処理が必要であ
り，透明基材であるプラスチックフイルム上やハードコ
ート上への積層は基材の変質が起こることにより，基材
として使用できる素材が限定されてしまう問題があっ
た。
性薄膜の形成法も提案されているが（羽生等，Ｎａｔｉ
ｏｎａｌ Ｔｈｅｃｎｉｃａｌ Ｒｅｐｏｒｔ ４０，
Ｎｏ．１，（１９９４）９０）、高温処理が必要であ
り，透明基材であるプラスチックフイルム上やハードコ
ート上への積層は基材の変質が起こることにより，基材
として使用できる素材が限定されてしまう問題があっ
た。
【０００５】導電性酸化物微粒子やコロイドを分散させ
た透明導電性塗料も提案されているが（例えば、特開平
６−３４４４８９号、特開平７−２６８２５１号）、得
られた透明導電性層の導電性が低い問題があった。
た透明導電性塗料も提案されているが（例えば、特開平
６−３４４４８９号、特開平７−２６８２５１号）、得
られた透明導電性層の導電性が低い問題があった。
【０００６】さらに、導電性をあげるため、金属微粒子
からなる透明導電膜が提案されるようになってきた（例
えば、特開平９−５５１７５号）。しかし、提案された
コロイドは粒子状の分散質であり導電性がまだ十分では
ないことがわかった。
からなる透明導電膜が提案されるようになってきた（例
えば、特開平９−５５１７５号）。しかし、提案された
コロイドは粒子状の分散質であり導電性がまだ十分では
ないことがわかった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の課題
を解決するためになされたものであって、１００〜２０
００Ω／□の表面抵抗を有することで、帯電防止性、電
磁波遮蔽性を有するほか、反射防止性、機械特性、防汚
性に加えて生産性にも優れたフェースパネルに貼り付け
ることの可能な低反射透明導電性積層フイルムにおい
て、導電性液の金属分散質の形状を制御した微細な鎖状
金属コロイド分散液を提供することにある。
を解決するためになされたものであって、１００〜２０
００Ω／□の表面抵抗を有することで、帯電防止性、電
磁波遮蔽性を有するほか、反射防止性、機械特性、防汚
性に加えて生産性にも優れたフェースパネルに貼り付け
ることの可能な低反射透明導電性積層フイルムにおい
て、導電性液の金属分散質の形状を制御した微細な鎖状
金属コロイド分散液を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、少なくと
も１種の金属を含有し、鎖状金属コロイドの平均主鎖長
と平均太さの比が５以上５０以下であり、かつ平均太さ
が２ｎｍ以上３０ｎｍ以下である鎖状分散質を有するこ
とを特徴とする鎖状金属コロイドによって達成された。
前記の鎖状金属コロイドは少なくとも１種以上の第８族
あるいは第１Ｂ族の金属元素を含むことが好ましい。
も１種の金属を含有し、鎖状金属コロイドの平均主鎖長
と平均太さの比が５以上５０以下であり、かつ平均太さ
が２ｎｍ以上３０ｎｍ以下である鎖状分散質を有するこ
とを特徴とする鎖状金属コロイドによって達成された。
前記の鎖状金属コロイドは少なくとも１種以上の第８族
あるいは第１Ｂ族の金属元素を含むことが好ましい。
【０００９】該鎖状金属コロイドの鎖状分散質の平均主
鎖長が１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下のものを使用した低
反射透明導電性積層フイルムはより低いヘイズ性を有
し、解像度に優れており、好ましい。該鎖状金属コロイ
ドの鎖状分散質の平均主鎖長が２００ｎｍ以上１５００
ｎｍ以下のものを使用した低反射透明導電性積層フイル
ムはより低い表面抵抗性を有し、電磁波遮蔽性に優れて
おり、好ましい。該鎖状金属コロイドの鎖状分散質の平
均主鎖長が１００ｎｍ以上２００ｎｍ以下のものを使用
した低反射透明導電性積層フイルムはヘイズ性と表面抵
抗性のバランスがとれており、好ましい。
鎖長が１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下のものを使用した低
反射透明導電性積層フイルムはより低いヘイズ性を有
し、解像度に優れており、好ましい。該鎖状金属コロイ
ドの鎖状分散質の平均主鎖長が２００ｎｍ以上１５００
ｎｍ以下のものを使用した低反射透明導電性積層フイル
ムはより低い表面抵抗性を有し、電磁波遮蔽性に優れて
おり、好ましい。該鎖状金属コロイドの鎖状分散質の平
均主鎖長が１００ｎｍ以上２００ｎｍ以下のものを使用
した低反射透明導電性積層フイルムはヘイズ性と表面抵
抗性のバランスがとれており、好ましい。
【００１０】該鎖状金属コロイド分散液は分散安定剤と
還元剤を混合した水溶液に、少なくとも２種類の金属の
塩を添加反応させた後、限外ろ過器により不純物を取り
除く製造方法により達成された。また、金属微粒子の分
散液中に別の金属微粒子または金属塩を存在させ、還元
剤を添加反応させた後、限外ろ過器により不純物を取り
除く製造方法によっても達成することができた。
還元剤を混合した水溶液に、少なくとも２種類の金属の
塩を添加反応させた後、限外ろ過器により不純物を取り
除く製造方法により達成された。また、金属微粒子の分
散液中に別の金属微粒子または金属塩を存在させ、還元
剤を添加反応させた後、限外ろ過器により不純物を取り
除く製造方法によっても達成することができた。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を詳し
く説明する。鎖状金属コロイドはその分散質が少なくと
も１種以上の金属を含有し、平均主鎖長と平均太さの比
が５以上５０以下であり、かつ平均太さが２ｎｍ以上３
０ｎｍ以下であることを特徴としている。鎖状金属コロ
イド分散質は分岐してもよく、分岐鎖の総長さが最も短
くなるように主鎖を設定する。
く説明する。鎖状金属コロイドはその分散質が少なくと
も１種以上の金属を含有し、平均主鎖長と平均太さの比
が５以上５０以下であり、かつ平均太さが２ｎｍ以上３
０ｎｍ以下であることを特徴としている。鎖状金属コロ
イド分散質は分岐してもよく、分岐鎖の総長さが最も短
くなるように主鎖を設定する。
【００１２】前記鎖状金属コロイドの平均太さが２ｎｍ
未満の場合はコロイド自体の導電性が低くなり、本発明
の目的を達成しうる程度の低抵抗値を有する層を得るこ
とができない。平均太さが３０ｎｍを越える場合には、
金属による光の吸収が大きくなり、このために導電層の
光透過率が低下すると同時にヘイズが大きくなる。この
ようなフイルムを、陰極線管の前面板として用いると、
表示画像の解像度が低下する。コロイドの長さが太さの
５倍を下回る場合、導電層を作成した際に、コロイド同
士の接合が多くなり、目的を達成しうる程度の低抵抗値
を得ることができない。また、５０倍を越えると凝集し
やすくなり液の安定性が悪くなる。また、ヘイズも大き
くなる。
未満の場合はコロイド自体の導電性が低くなり、本発明
の目的を達成しうる程度の低抵抗値を有する層を得るこ
とができない。平均太さが３０ｎｍを越える場合には、
金属による光の吸収が大きくなり、このために導電層の
光透過率が低下すると同時にヘイズが大きくなる。この
ようなフイルムを、陰極線管の前面板として用いると、
表示画像の解像度が低下する。コロイドの長さが太さの
５倍を下回る場合、導電層を作成した際に、コロイド同
士の接合が多くなり、目的を達成しうる程度の低抵抗値
を得ることができない。また、５０倍を越えると凝集し
やすくなり液の安定性が悪くなる。また、ヘイズも大き
くなる。
【００１３】前記鎖状金属コロイドは、例えばＡｕ、Ａ
ｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ
などの第８族あるいは第１Ｂ族の金属元素を１種以上含
んでいれば特に制限はなく、単独金属コロイドであって
もよいが、耐候性などに優れた複合金属コロイドのほう
がより好ましい。そのなかで銀とパラジウムとのからな
るものがより好ましく、その際、パラジウムの含有量と
しては５〜３０ｗｔ％が好ましく、パラジウムが少ない
と耐候性が悪く、パラジウムが多くなると導電性が低下
する。
ｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｒｈ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ
などの第８族あるいは第１Ｂ族の金属元素を１種以上含
んでいれば特に制限はなく、単独金属コロイドであって
もよいが、耐候性などに優れた複合金属コロイドのほう
がより好ましい。そのなかで銀とパラジウムとのからな
るものがより好ましく、その際、パラジウムの含有量と
しては５〜３０ｗｔ％が好ましく、パラジウムが少ない
と耐候性が悪く、パラジウムが多くなると導電性が低下
する。
【００１４】鎖状金属コロイドは鋭意研究の結果、以下
の条件で製造することができることが分かった。 （ｉ）分散安定剤と還元剤を混合した水溶液に、少なく
とも２種類の金属の塩を添加反応させた後、限外ろ過器
により不純物を取り除く方法。ここで分散安定剤の濃度
は高いことが望ましく、１％以上４０％以下が望まし
く、１０％以上４０％以下が特に望ましい。 （ｉｉ）金属微粒子の分散物をあらかじめ作成してお
き、別の金属微粒子または金属塩を存在させ、還元剤を
添加反応させた後、限外ろ過器により不純物を取り除く
方法。ここで金属微粒子は単独金属でも合金でもよい。
金属塩としては、特に制限はないがNa2[PdCl4]などの錯
イオンが望ましい。また、あらかじめ作成した金属微粒
子の粒径、安定剤の添加、反応温度により鎖状金属コロ
イドの太さ、長さを制御することができる。安定剤を添
加することにより、細く、短くすることができ、また反
応温度を高くすることで長くすることができる。但し、
あまり高すぎると分断されてしまうことが分かった。
の条件で製造することができることが分かった。 （ｉ）分散安定剤と還元剤を混合した水溶液に、少なく
とも２種類の金属の塩を添加反応させた後、限外ろ過器
により不純物を取り除く方法。ここで分散安定剤の濃度
は高いことが望ましく、１％以上４０％以下が望まし
く、１０％以上４０％以下が特に望ましい。 （ｉｉ）金属微粒子の分散物をあらかじめ作成してお
き、別の金属微粒子または金属塩を存在させ、還元剤を
添加反応させた後、限外ろ過器により不純物を取り除く
方法。ここで金属微粒子は単独金属でも合金でもよい。
金属塩としては、特に制限はないがNa2[PdCl4]などの錯
イオンが望ましい。また、あらかじめ作成した金属微粒
子の粒径、安定剤の添加、反応温度により鎖状金属コロ
イドの太さ、長さを制御することができる。安定剤を添
加することにより、細く、短くすることができ、また反
応温度を高くすることで長くすることができる。但し、
あまり高すぎると分断されてしまうことが分かった。
【００１５】
【実施例】以下、本発明を実施例により説明するが、本
発明はこれら実施例に限定されるものではない。
発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００１６】＜導電性金属コロイド分散液作成＞ ａ）導電性金属コロイド分散液の調製 本実施例、比較例で用いた金属微粒子分散液、鎖状金属
コロイド分散液は以下の方法で調製した。
コロイド分散液は以下の方法で調製した。
【００１７】金属微粒子分散液(C-1：比較例１)はメタ
ノール・水混合溶媒（メタノール４０重量部／水６０重
量部）にあらかじめポリビニルアルコールを金属１重量
部当り０．０１重量部加え、金属微粒子が金属換算で２
重量％になるように硝酸銀を加えて、次いで還流器付フ
ラスコで９０℃で窒素雰囲気下５時間加熱し、これをさ
らに加熱しながらメタノールを除去し、水を加えて所定
の濃度に調整した。
ノール・水混合溶媒（メタノール４０重量部／水６０重
量部）にあらかじめポリビニルアルコールを金属１重量
部当り０．０１重量部加え、金属微粒子が金属換算で２
重量％になるように硝酸銀を加えて、次いで還流器付フ
ラスコで９０℃で窒素雰囲気下５時間加熱し、これをさ
らに加熱しながらメタノールを除去し、水を加えて所定
の濃度に調整した。
【００１８】金属微粒子分散液(C-2：比較例２)は３０
重量％のクエン酸ナトリウム水溶液３００ｃｃに３０重
量％の硫酸第一鉄を５０ｃｃ加え混合し、窒素雰囲気下
で温度を２０℃に保ち、激しく攪拌しながら１０％硝酸
銀を５０ｃｃ添加し反応させ、これを限外ろ過器を使っ
て不純物を除き、水を加えて所定の濃度に調製した。
重量％のクエン酸ナトリウム水溶液３００ｃｃに３０重
量％の硫酸第一鉄を５０ｃｃ加え混合し、窒素雰囲気下
で温度を２０℃に保ち、激しく攪拌しながら１０％硝酸
銀を５０ｃｃ添加し反応させ、これを限外ろ過器を使っ
て不純物を除き、水を加えて所定の濃度に調製した。
【００１９】金属微粒子分散液(C-3：比較例３)は温度
を１℃に保ち、反応させる以外金属微粒子分散液(C-2)
と同様にして調製した。
を１℃に保ち、反応させる以外金属微粒子分散液(C-2)
と同様にして調製した。
【００２０】金属微粒子分散液(C-4：比較例４)は温度
を３５℃に保ち、反応させる以外金属微粒子分散液(C-
2)と同様にして調製した。
を３５℃に保ち、反応させる以外金属微粒子分散液(C-
2)と同様にして調製した。
【００２１】金属微粒子分散液(C-5：比較例５)は硝酸
銀を塩化金酸に変えて、反応させる以外金属微粒子分散
液(C-2)と同様にして調製した。
銀を塩化金酸に変えて、反応させる以外金属微粒子分散
液(C-2)と同様にして調製した。
【００２２】金属微粒子分散液(C-6：比較例６)は硝酸
銀を塩化白金酸に変えて、反応させる以外金属微粒子分
散液(C-2)と同様にして調製した。
銀を塩化白金酸に変えて、反応させる以外金属微粒子分
散液(C-2)と同様にして調製した。
【００２３】金属微粒子分散液(C-7：比較例７)は硝酸
銀を硝酸銅に変えて、反応させる以外金属微粒子分散液
(C-2)と同様にして調製した。
銀を硝酸銅に変えて、反応させる以外金属微粒子分散液
(C-2)と同様にして調製した。
【００２４】金属微粒子分散液(C-8：比較例８)はメタ
ノール・水混合溶媒（メタノール４０重量部／水６０重
量部）にあらかじめポリビニルアルコールを金属１重量
部当り０．０１重量部加え、金属微粒子が金属換算で２
重量％になるように硝酸銀及び硝酸パラジウムを加え
て、ついで還流器付フラスコで９０℃で窒素雰囲気下５
時間加熱し、これをさらに加熱しながらメタノールを除
去し、水を加えて所定の濃度に調整した。
ノール・水混合溶媒（メタノール４０重量部／水６０重
量部）にあらかじめポリビニルアルコールを金属１重量
部当り０．０１重量部加え、金属微粒子が金属換算で２
重量％になるように硝酸銀及び硝酸パラジウムを加え
て、ついで還流器付フラスコで９０℃で窒素雰囲気下５
時間加熱し、これをさらに加熱しながらメタノールを除
去し、水を加えて所定の濃度に調整した。
【００２５】金属微粒子分散液(C-9：比較例９)は前記
調製した金属微粒子分散液(C-1)にポリビニルアルコー
ルをＰｄ金属１重量部当り０．０１重量部となるように
加え、これに金属微粒子(C-1)と金属Ｐｄの重量比が
９：１となるように硝酸パラジウム水溶液を加え、つい
で硝酸パラジウムと等モル数の硫酸第一鉄を５分間かけ
て添加し、窒素雰囲気下で１時間反応させ、水を加えて
所定の濃度に調製した。
調製した金属微粒子分散液(C-1)にポリビニルアルコー
ルをＰｄ金属１重量部当り０．０１重量部となるように
加え、これに金属微粒子(C-1)と金属Ｐｄの重量比が
９：１となるように硝酸パラジウム水溶液を加え、つい
で硝酸パラジウムと等モル数の硫酸第一鉄を５分間かけ
て添加し、窒素雰囲気下で１時間反応させ、水を加えて
所定の濃度に調製した。
【００２６】鎖状金属コロイド分散液(C-10：実施例１)
は３０重量％のクエン酸ナトリウム水溶液３００ｃｃに
３０重量％の硫酸第一鉄を５０ｃｃ加え混合し、窒素雰
囲気下で温度を１℃に保ち、攪拌しながら１０％硝酸銀
を４５ｃｃと１４％硝酸パラジウムを５ｃｃ添加し反応
させ、これを限外ろ過器を使って不純物を除き、水を加
えて所定の濃度に調製した。
は３０重量％のクエン酸ナトリウム水溶液３００ｃｃに
３０重量％の硫酸第一鉄を５０ｃｃ加え混合し、窒素雰
囲気下で温度を１℃に保ち、攪拌しながら１０％硝酸銀
を４５ｃｃと１４％硝酸パラジウムを５ｃｃ添加し反応
させ、これを限外ろ過器を使って不純物を除き、水を加
えて所定の濃度に調製した。
【００２７】鎖状金属コロイド分散液(C-11：実施例２)
は前記調製した金属微粒子分散液(C-1)を窒素雰囲気下
で温度を１℃に保ち、攪拌しながら、金属微粒子(C-1)
と金属Ｐｄの重量比が９：１となるようにNa2[PdCl4]水
溶液を加え混合し反応させ、これにポリビニルアルコー
ルを金属１重量部当り０．０１重量部となるように加
え、３重量％の硫酸第一鉄をＰｄの０．２倍モル相当加
え反応させ、これを限外ろ過器を使って不純物を除き、
水を加えて所定の濃度に調製した。
は前記調製した金属微粒子分散液(C-1)を窒素雰囲気下
で温度を１℃に保ち、攪拌しながら、金属微粒子(C-1)
と金属Ｐｄの重量比が９：１となるようにNa2[PdCl4]水
溶液を加え混合し反応させ、これにポリビニルアルコー
ルを金属１重量部当り０．０１重量部となるように加
え、３重量％の硫酸第一鉄をＰｄの０．２倍モル相当加
え反応させ、これを限外ろ過器を使って不純物を除き、
水を加えて所定の濃度に調製した。
【００２８】鎖状金属コロイド分散液(C-12：実施例３)
は金属微粒子分散液(C-1)を金属微粒子分散液(C-2)に変
える以外は鎖状金属コロイド分散液(C-11)と同様にして
調製した。
は金属微粒子分散液(C-1)を金属微粒子分散液(C-2)に変
える以外は鎖状金属コロイド分散液(C-11)と同様にして
調製した。
【００２９】鎖状金属コロイド分散液(C-13：実施例４)
は金属微粒子分散液(C-1)を金属微粒子分散液(C-3)に変
える以外は鎖状金属コロイド分散液(C-11)と同様にして
調製した。
は金属微粒子分散液(C-1)を金属微粒子分散液(C-3)に変
える以外は鎖状金属コロイド分散液(C-11)と同様にして
調製した。
【００３０】鎖状金属コロイド分散液(C-14：実施例５)
は金属微粒子分散液(C-1)を金属微粒子分散液(C-4)に変
える以外は鎖状金属コロイド分散液(C-11)と同様にして
調製した。
は金属微粒子分散液(C-1)を金属微粒子分散液(C-4)に変
える以外は鎖状金属コロイド分散液(C-11)と同様にして
調製した。
【００３１】鎖状金属コロイド分散液(C-15：実施例６)
は温度を２５℃に保ち、反応させる以外は鎖状金属コロ
イド分散液(C-12)と同様にして調製した。
は温度を２５℃に保ち、反応させる以外は鎖状金属コロ
イド分散液(C-12)と同様にして調製した。
【００３２】鎖状金属コロイド分散液(C-16：実施例７)
は温度を２５℃に保ち、反応させる以外は鎖状金属コロ
イド分散液(C-13)と同様にして調製した。
は温度を２５℃に保ち、反応させる以外は鎖状金属コロ
イド分散液(C-13)と同様にして調製した。
【００３３】鎖状金属コロイド分散液(C-17：実施例８)
は温度を２５℃に保ち、反応させる以外は鎖状金属コロ
イド分散液(C-14)と同様にして調製した。
は温度を２５℃に保ち、反応させる以外は鎖状金属コロ
イド分散液(C-14)と同様にして調製した。
【００３４】鎖状金属コロイド分散液(C-18：比較例１
０)は温度を５０℃に保ち、反応させる以外は鎖状金属
コロイド分散液(C-12)と同様にして調製した。
０)は温度を５０℃に保ち、反応させる以外は鎖状金属
コロイド分散液(C-12)と同様にして調製した。
【００３５】鎖状金属コロイド分散液(C-19：実施例９)
は温度を５０℃に保ち、反応させる以外は鎖状金属コロ
イド分散液(C-13)と同様にして調製した。
は温度を５０℃に保ち、反応させる以外は鎖状金属コロ
イド分散液(C-13)と同様にして調製した。
【００３６】鎖状金属コロイド分散液(C-20：比較例１
１)は温度を５０℃に保ち、反応させる以外は鎖状金属
コロイド分散液(C-14)と同様にして調製した。
１)は温度を５０℃に保ち、反応させる以外は鎖状金属
コロイド分散液(C-14)と同様にして調製した。
【００３７】鎖状金属コロイド分散液(C-21：実施例１
０)は温度を５０℃に保ち、ポリビニールアルコールを
３倍量添加反応させる以外は鎖状金属コロイド分散液(C
-12)と同様にして調製した。
０)は温度を５０℃に保ち、ポリビニールアルコールを
３倍量添加反応させる以外は鎖状金属コロイド分散液(C
-12)と同様にして調製した。
【００３８】鎖状金属コロイド分散液(C-22：実施例１
１)は温度を５０℃に保ち、ポリビニールアルコールを
３倍量添加反応させる以外は鎖状金属コロイド分散液(C
-13)と同様にして調製した。
１)は温度を５０℃に保ち、ポリビニールアルコールを
３倍量添加反応させる以外は鎖状金属コロイド分散液(C
-13)と同様にして調製した。
【００３９】鎖状金属コロイド分散液(C-23：実施例１
２)は温度を５０℃に保ち、ポリビニールアルコールを
３倍量添加反応させる以外は鎖状金属コロイド分散液(C
-14)と同様にして調製した。
２)は温度を５０℃に保ち、ポリビニールアルコールを
３倍量添加反応させる以外は鎖状金属コロイド分散液(C
-14)と同様にして調製した。
【００４０】鎖状金属コロイド分散液(C-24：実施例１
３)は温度を５０℃に保ち、硫酸第一鉄を０．１倍モル
添加反応させる以外は鎖状金属コロイド分散液(C-12)と
同様にして調製した。
３)は温度を５０℃に保ち、硫酸第一鉄を０．１倍モル
添加反応させる以外は鎖状金属コロイド分散液(C-12)と
同様にして調製した。
【００４１】鎖状金属コロイド分散液(C-25：比較例１
２)は温度を５０℃に保ち、硫酸第一鉄を０．１倍モル
添加反応させる以外は鎖状金属コロイド分散液(C-13)と
同様にして調製した。
２)は温度を５０℃に保ち、硫酸第一鉄を０．１倍モル
添加反応させる以外は鎖状金属コロイド分散液(C-13)と
同様にして調製した。
【００４２】鎖状金属コロイド分散液(C-26：比較例１
３)は温度を５０℃に保ち、硫酸第一鉄を０．１倍モル
添加反応させる以外は鎖状金属コロイド分散液(C-14)と
同様にして調製した。
３)は温度を５０℃に保ち、硫酸第一鉄を０．１倍モル
添加反応させる以外は鎖状金属コロイド分散液(C-14)と
同様にして調製した。
【００４３】鎖状金属コロイド分散液(C-27：実施例１
４)は金属微粒子分散液(C-2)を金属微粒子分散液(C-5)
に変えて、反応させる以外は鎖状金属コロイド分散液(C
-15)と同様にして調製した。
４)は金属微粒子分散液(C-2)を金属微粒子分散液(C-5)
に変えて、反応させる以外は鎖状金属コロイド分散液(C
-15)と同様にして調製した。
【００４４】鎖状金属コロイド分散液(C-28：実施例１
５)は金属微粒子分散液(C-2)を金属微粒子分散液(C-6)
に変えて、反応させる以外は鎖状金属コロイド分散液(C
-16)と同様にして調製した。
５)は金属微粒子分散液(C-2)を金属微粒子分散液(C-6)
に変えて、反応させる以外は鎖状金属コロイド分散液(C
-16)と同様にして調製した。
【００４５】鎖状金属コロイド分散液(C-29：実施例１
６)は金属微粒子分散液(C-2)を金属微粒子分散液(C-6)
に変えて、反応させる以外は鎖状金属コロイド分散液(C
-17)と同様にして調製した。
６)は金属微粒子分散液(C-2)を金属微粒子分散液(C-6)
に変えて、反応させる以外は鎖状金属コロイド分散液(C
-17)と同様にして調製した。
【００４６】鎖状金属コロイド分散液(C-30：比較例１
４)は３０重量％のクエン酸ナトリウム水溶液３００ｃ
ｃの濃度を０．０１％に変える以外は鎖状金属コロイド
分散液(C-10)と同様にして調製した。
４)は３０重量％のクエン酸ナトリウム水溶液３００ｃ
ｃの濃度を０．０１％に変える以外は鎖状金属コロイド
分散液(C-10)と同様にして調製した。
【００４７】上述した調整法にしたがって作成した金属
コロイドのＴＥＭ観察結果からその平均粒径あるいは平
均太さ及び平均主鎖長を読み取り表１に示した。なお、
表１中、微粒子の形態は球形であるため、「平均長
さ」、「平均太さ」の欄は空白である。
コロイドのＴＥＭ観察結果からその平均粒径あるいは平
均太さ及び平均主鎖長を読み取り表１に示した。なお、
表１中、微粒子の形態は球形であるため、「平均長
さ」、「平均太さ」の欄は空白である。
【００４８】
【表１】
【００４９】表１に示した金属コロイドを使って導電性
層を支持フイルム上に塗設しその性能を調べた。
層を支持フイルム上に塗設しその性能を調べた。
【００５０】＜低反射透明導電性積層フイルム試料作成
＞ （１）ハードコート層塗布液の調整： （表面処理したアルミナ分散液の調製）セラミックコー
トのベッセルに各試薬を以下の量計量した。 シクロヘキサノン ３３７ｇ ＰＭ−２（日本化薬(株)製リン酸基含有メタクリレート） ３１ｇ ＡＫＰ−Ｇ０１５（住友化学工業(株)製アルミナ：粒径15nm） ９２ｇ 上記混合液をサンドミルにて１６００ｒｐｍ、１０時間
微細分散した。メディアは１ｍｍΦのジルコニアビーズ
を１４００ｇ用いた。
＞ （１）ハードコート層塗布液の調整： （表面処理したアルミナ分散液の調製）セラミックコー
トのベッセルに各試薬を以下の量計量した。 シクロヘキサノン ３３７ｇ ＰＭ−２（日本化薬(株)製リン酸基含有メタクリレート） ３１ｇ ＡＫＰ−Ｇ０１５（住友化学工業(株)製アルミナ：粒径15nm） ９２ｇ 上記混合液をサンドミルにて１６００ｒｐｍ、１０時間
微細分散した。メディアは１ｍｍΦのジルコニアビーズ
を１４００ｇ用いた。
【００５１】（ハードコート層用塗布液の調製）表面処
理したアルミナ微粒子の４３重量％シクロヘキサノン分
散液１１６ｇに、メタノール９７ｇ、イソプロパノール
１６３ｇおよびメチルイソブチルケトン１６３ｇを加え
た。混合液に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレ
ートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混
合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）２００ｇを加えて
溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュ
ア９０７、チバガイギー社製）７．５ｇおよび光増感剤
（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）５．０ｇ
を加えて溶解した。混合物を３０分間攪拌した後、孔径
１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハード
コート層用塗布液を調製した。
理したアルミナ微粒子の４３重量％シクロヘキサノン分
散液１１６ｇに、メタノール９７ｇ、イソプロパノール
１６３ｇおよびメチルイソブチルケトン１６３ｇを加え
た。混合液に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレ
ートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混
合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）２００ｇを加えて
溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュ
ア９０７、チバガイギー社製）７．５ｇおよび光増感剤
（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）５．０ｇ
を加えて溶解した。混合物を３０分間攪拌した後、孔径
１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハード
コート層用塗布液を調製した。
【００５２】（２）透明導電性層形成用塗布液の調製 表１に示した金属コロイド溶液をイソプロパノールで希
釈し、孔径１μｍのＰＴＦＥ製フィルターでろ過して透
明導電性層用塗布液を調製した。
釈し、孔径１μｍのＰＴＦＥ製フィルターでろ過して透
明導電性層用塗布液を調製した。
【００５３】（３）反射防止層用塗布液の調整 ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨ
Ａ、日本化薬（株）製）２ｇと光重合開始剤（イルガキ
ュア９０７、チバガイギー社製）８０ｍｇおよび光増感
剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）３０ｍ
ｇをメチルエチルケトン５０ｇ、シクロヘキサノン５０
ｇの混合液に加えて溶解した。混合物を３０分間撹拌し
た後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過
して低反射防止層用塗布液を調製した。
エリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨ
Ａ、日本化薬（株）製）２ｇと光重合開始剤（イルガキ
ュア９０７、チバガイギー社製）８０ｍｇおよび光増感
剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）３０ｍ
ｇをメチルエチルケトン５０ｇ、シクロヘキサノン５０
ｇの混合液に加えて溶解した。混合物を３０分間撹拌し
た後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過
して低反射防止層用塗布液を調製した。
【００５４】（４）防汚層用塗布液の調製 熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２１４、日本合成
ゴム（株）製）にイソプロピルアルコールを加えて、
０．６重量％の粗分散液を調製した。粗分散液を、更に
超音波分散し、防汚層用塗布液を調製した。
ゴム（株）製）にイソプロピルアルコールを加えて、
０．６重量％の粗分散液を調製した。粗分散液を、更に
超音波分散し、防汚層用塗布液を調製した。
【００５５】［試料１〜３０］低反射透明導電性積層フ
イルムの作製：１７５μｍのポリエチレンテレフタレー
トフイルムにワイヤーバーを用いてハードコート塗布液
を層厚８μｍになるように塗布・乾燥し、紫外線照射し
ハードコート層を作製した。コロナ処理を施した後、上
記銀コロイド塗布液をワイヤーバーで塗布量が７０ｍｇ
／ｍ2になるように塗布し、１２０℃５分乾燥した。次
いで、反射防止層を膜厚７０ｎｍになるように塗布・乾
燥し、紫外線照射した。さらに、防汚層用塗布液を同様
に＃３のワイヤーバーで塗布し１２０℃で乾燥・熱処理
を行った。
イルムの作製：１７５μｍのポリエチレンテレフタレー
トフイルムにワイヤーバーを用いてハードコート塗布液
を層厚８μｍになるように塗布・乾燥し、紫外線照射し
ハードコート層を作製した。コロナ処理を施した後、上
記銀コロイド塗布液をワイヤーバーで塗布量が７０ｍｇ
／ｍ2になるように塗布し、１２０℃５分乾燥した。次
いで、反射防止層を膜厚７０ｎｍになるように塗布・乾
燥し、紫外線照射した。さらに、防汚層用塗布液を同様
に＃３のワイヤーバーで塗布し１２０℃で乾燥・熱処理
を行った。
【００５６】作成した試料を以下に示す方法で評価し
た。結果を表２に示した。 （低反射導電性積層フイルム防止膜の評価） (1)表面抵抗率 ４端子法表面抵抗率計（三菱油化(株)製「ロレスタＦ
Ｐ」）により測定。 (2)透過率・ヘイズ ヘイズメーター（日本電色工業(株)製 ＭＯＤＥＬ １
００１ＤＰ）を用いて測定。 (3)平均反射率 分光光度計（日本分光(株)製）を用いて、４５０〜６５
０ｎｍの波長領域における入射光５゜における正反射の
平均反射率を評価。 (4)鉛筆硬度 積層フイルムを温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２
時間調湿した後、ＪＩＳ−Ｓ−６００６が規定する試験
用鉛筆を用いて、ＪＩＳ−Ｋ−５４００が規定する鉛筆
硬度評価方法に従い、１ｋｇの加重にて傷が全く認めら
れない硬度。 (5)防汚性 積層フイルム表面に指紋を付着させ、東レ(株)製トレシ
ーを用いてふき取って評価（○は指紋が完全にふき取れ
た状態、×は指紋の一部がふき取れずに残った状態）。
た。結果を表２に示した。 （低反射導電性積層フイルム防止膜の評価） (1)表面抵抗率 ４端子法表面抵抗率計（三菱油化(株)製「ロレスタＦ
Ｐ」）により測定。 (2)透過率・ヘイズ ヘイズメーター（日本電色工業(株)製 ＭＯＤＥＬ １
００１ＤＰ）を用いて測定。 (3)平均反射率 分光光度計（日本分光(株)製）を用いて、４５０〜６５
０ｎｍの波長領域における入射光５゜における正反射の
平均反射率を評価。 (4)鉛筆硬度 積層フイルムを温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２
時間調湿した後、ＪＩＳ−Ｓ−６００６が規定する試験
用鉛筆を用いて、ＪＩＳ−Ｋ−５４００が規定する鉛筆
硬度評価方法に従い、１ｋｇの加重にて傷が全く認めら
れない硬度。 (5)防汚性 積層フイルム表面に指紋を付着させ、東レ(株)製トレシ
ーを用いてふき取って評価（○は指紋が完全にふき取れ
た状態、×は指紋の一部がふき取れずに残った状態）。
【００５７】
【表２】
【００５８】本発明金属コロイド液を使用して作成した
試料は透過率５８〜６２％、ヘイズ１．０％以下と光学
特性が極めて良好で、１００〜２０００Ω／□の範囲に
含まれる適切な表面抵抗率、１％以下の優れた平均反射
率を有する低反射透明導電性積層フイルムであることが
分かる。特に、実施例３、４、７、１１、１５は鎖状金
属コロイドの平均主鎖長が１００ｎｍ以下で０．５％以
下の低へイズであることが分かる。また、実施例１、
５、６、８、９、１０、１２、１３、１５、１６は平均
主鎖長２００〜１５００ｎｍで５００Ω／□以下の極め
て良好な低抵抗性を有していることが分かる。実施例２
は１００〜２００ｎｍの長さでヘイズと低抵抗性にバラ
ンスのとれた性能を有していることが分かる。一方、比
較例の１〜９のように鎖状ではない金属コロイドを使用
して作成した試料は表面抵抗が大きく電磁波遮蔽性に乏
しいことがわかる。また、比較例１０〜１４のように鎖
状のものでも本発明で規定する平均太さ２〜３０ｎｍ、
長さが太さの５〜５０倍から外れたものも表面抵抗が大
きく電磁波遮蔽性に乏しいこと、また、比較例１２以外
はヘイズが大きいことが明らかである。また、比較例１
４のように使用する安定剤の濃度が低いと鎖状金属コロ
イドが形成できないず、目標の性能が得られないことが
わかる。
試料は透過率５８〜６２％、ヘイズ１．０％以下と光学
特性が極めて良好で、１００〜２０００Ω／□の範囲に
含まれる適切な表面抵抗率、１％以下の優れた平均反射
率を有する低反射透明導電性積層フイルムであることが
分かる。特に、実施例３、４、７、１１、１５は鎖状金
属コロイドの平均主鎖長が１００ｎｍ以下で０．５％以
下の低へイズであることが分かる。また、実施例１、
５、６、８、９、１０、１２、１３、１５、１６は平均
主鎖長２００〜１５００ｎｍで５００Ω／□以下の極め
て良好な低抵抗性を有していることが分かる。実施例２
は１００〜２００ｎｍの長さでヘイズと低抵抗性にバラ
ンスのとれた性能を有していることが分かる。一方、比
較例の１〜９のように鎖状ではない金属コロイドを使用
して作成した試料は表面抵抗が大きく電磁波遮蔽性に乏
しいことがわかる。また、比較例１０〜１４のように鎖
状のものでも本発明で規定する平均太さ２〜３０ｎｍ、
長さが太さの５〜５０倍から外れたものも表面抵抗が大
きく電磁波遮蔽性に乏しいこと、また、比較例１２以外
はヘイズが大きいことが明らかである。また、比較例１
４のように使用する安定剤の濃度が低いと鎖状金属コロ
イドが形成できないず、目標の性能が得られないことが
わかる。
【００５９】
【発明の効果】本発明の鎖状金属コロイド分散液は、鎖
状の金属分散質としたことにより帯電防止性および電磁
波遮蔽性が優れたフイルムを提供することができる。
状の金属分散質としたことにより帯電防止性および電磁
波遮蔽性が優れたフイルムを提供することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０９Ｃ 3/10 Ｃ０９Ｃ 3/10 ５Ｇ４３５ Ｃ０９Ｄ 5/24 Ｃ０９Ｄ 5/24 201/00 201/00 (72)発明者 脇 幸吉 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真 フイルム株式会社内 (72)発明者 小川 恵三 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真 フイルム株式会社内 (72)発明者 石丸 信吾 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真 フイルム株式会社内 Ｆターム(参考） 4D006 GA06 MA22 MC22 MC22X PB20 PC80 4G065 AA01 AA04 AA05 AB13Y AB32X AB38X BB06 CA01 DA06 DA09 EA02 FA01 FA02 4J037 AA04 CA03 CA05 CA15 CA20 CB09 CC15 DD09 DD20 DD24 EE28 EE33 EE43 FF11 FF15 4J038 CD091 EA011 FA121 FA122 HA066 HA216 JA19 JA33 KA03 KA04 KA12 KA20 NA05 NA19 NA20 4K017 AA08 BA02 BA03 BA05 BA06 CA04 CA09 EJ01 FB07 5G435 AA11 EE03 GG32 GG33 GG43 KK05 KK10
Claims (7)
- 【請求項１】 少なくとも１種の金属を含有し、鎖状金
属コロイドの平均主鎖長と平均太さの比が５以上５０以
下であり、かつ平均太さが２ｎｍ以上３０ｎｍ以下であ
る鎖状分散質を有することを特徴とする鎖状金属コロイ
ド分散液。 - 【請求項２】 該鎖状分散質が第８族かあるいは第１Ｂ
族の遷移金属を１種以上含むことを特徴とする請求項１
に記載の鎖状金属コロイド分散液。 - 【請求項３】 該鎖状分散質の平均主鎖長が１０ｎｍ以
上１００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１また
は２に記載の鎖状金属コロイド分散液。 - 【請求項４】 該鎖状分散質の平均主鎖長が１００ｎｍ
以上２００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜
３のいずれかに記載の鎖状金属コロイド分散液。 - 【請求項５】 該鎖状分散質の平均主鎖長が２００ｎｍ
以上１５００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１
〜４のいずれかに記載の鎖状金属コロイド分散液。 - 【請求項６】 分散安定剤と還元剤を混合した水溶液
に、少なくとも２種類の金属の塩を添加反応させた後、
限外ろ過器により不純物を取り除くことを特徴とする請
求項１〜５のいずれかに記載の鎖状金属コロイド分散液
の製造方法。 - 【請求項７】 金属微粒子の分散液中に別の金属微粒子
または金属塩を存在させ、還元剤を添加反応させた後、
限外ろ過器により不純物を取り除くことを特徴とする請
求項１〜５のいずれかに記載の鎖状金属コロイド分散液
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000091944A JP2001279304A (ja) | 2000-03-29 | 2000-03-29 | 鎖状金属コロイド分散液及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000091944A JP2001279304A (ja) | 2000-03-29 | 2000-03-29 | 鎖状金属コロイド分散液及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001279304A true JP2001279304A (ja) | 2001-10-10 |
Family
ID=18607349
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000091944A Pending JP2001279304A (ja) | 2000-03-29 | 2000-03-29 | 鎖状金属コロイド分散液及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001279304A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004007125A1 (ja) * | 2002-07-16 | 2004-01-22 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | コロイド溶液の製造方法及びコロイド粒子が表面に定着した担持体、並びに燃料電池カソード、燃料電池アノード、それらの製造方法及びそれらを用いた燃料電池、並びに低温酸化触媒、その製造方法及びそれを用いた燃料電池用燃料改質装置 |
| JP2006233252A (ja) * | 2005-02-23 | 2006-09-07 | Mitsubishi Materials Corp | ワイヤー状の金微粒子と、その製造方法および含有組成物ならびに用途 |
| JP2009120867A (ja) * | 2007-11-12 | 2009-06-04 | Konica Minolta Holdings Inc | 金属ナノワイヤ、金属ナノワイヤの製造方法及び金属ナノワイヤを含む透明導電体 |
| JP2009129732A (ja) * | 2007-11-26 | 2009-06-11 | Konica Minolta Holdings Inc | 金属ナノワイヤを用いた透明導電膜の製造方法及びそれを用いて製造された透明導電膜 |
| JP2009127092A (ja) * | 2007-11-26 | 2009-06-11 | Konica Minolta Holdings Inc | 金属ナノワイヤ、及び金属ナノワイヤを含む透明導電体 |
| JP2009215594A (ja) * | 2008-03-10 | 2009-09-24 | Fujifilm Corp | 金属ナノワイヤー及びその製造方法、並びに水性分散物及び透明導電体 |
| JP2013155440A (ja) * | 2013-03-04 | 2013-08-15 | Konica Minolta Inc | 金属ナノワイヤの製造方法 |
-
2000
- 2000-03-29 JP JP2000091944A patent/JP2001279304A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004007125A1 (ja) * | 2002-07-16 | 2004-01-22 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | コロイド溶液の製造方法及びコロイド粒子が表面に定着した担持体、並びに燃料電池カソード、燃料電池アノード、それらの製造方法及びそれらを用いた燃料電池、並びに低温酸化触媒、その製造方法及びそれを用いた燃料電池用燃料改質装置 |
| EP1547708A1 (en) * | 2002-07-16 | 2005-06-29 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Method for preparing colloidal solution and carrier having colloidal particles fixed on surface thereof, fuel cell cathode, fuel cell anode and method for preparing the same and fuel cell using the same, and low temperature oxidation catalyst, method for preparing the same and fuel cell fuel modifyi |
| EP1547708A4 (en) * | 2002-07-16 | 2008-10-29 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | PROCESS FOR PREPARING A COLLOIDAL SOLUTION, COMPOSITE CARRIER HAVING A CARRIER AND COLLOIDAL PARTICLES FIXED ON THE SURFACE OF THE FUEL CELL MATERIAL, CATHODE AND ANODE AND PROCESS FOR PREPARING THE SAME, FUEL CELL USING SAME, LOW OXIDATION CATALYST YOU |
| JP2006233252A (ja) * | 2005-02-23 | 2006-09-07 | Mitsubishi Materials Corp | ワイヤー状の金微粒子と、その製造方法および含有組成物ならびに用途 |
| JP2009120867A (ja) * | 2007-11-12 | 2009-06-04 | Konica Minolta Holdings Inc | 金属ナノワイヤ、金属ナノワイヤの製造方法及び金属ナノワイヤを含む透明導電体 |
| JP2009129732A (ja) * | 2007-11-26 | 2009-06-11 | Konica Minolta Holdings Inc | 金属ナノワイヤを用いた透明導電膜の製造方法及びそれを用いて製造された透明導電膜 |
| JP2009127092A (ja) * | 2007-11-26 | 2009-06-11 | Konica Minolta Holdings Inc | 金属ナノワイヤ、及び金属ナノワイヤを含む透明導電体 |
| JP2009215594A (ja) * | 2008-03-10 | 2009-09-24 | Fujifilm Corp | 金属ナノワイヤー及びその製造方法、並びに水性分散物及び透明導電体 |
| US8349467B2 (en) | 2008-03-10 | 2013-01-08 | Fujifilm Corporation | Metal nanowires, method for producing the same, and aqueous dispersion thereof |
| JP2013155440A (ja) * | 2013-03-04 | 2013-08-15 | Konica Minolta Inc | 金属ナノワイヤの製造方法 |
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