JP2001246319A - 超音波発振装置及び超音波発振方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 この発明は被洗浄物の洗浄効果を高めるため
に、種々の発振波形を組み合わせることができるように
した超音波発振装置を提供することにある。 【解決手段】 高周波振動子２４を振動させる高周波電
力を出力する高周波発振器３１を備えた超音波発振装置
において、上記高周波発振器には、この高周波発振器か
ら出力される高周波電力の波形を連続波とパルス波とに
選択的に設定する第１のスイッチ４８が設けられている
ことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は高周波振動子を高
周波振動させるための高周波発振置及び高周波発振方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】たとえば、液晶表示装置や半導体装置の
製造工程においては、ガラス基板や半導体ウエハなどの
被洗浄物を高い清浄度で洗浄することが要求される工程
がある。上記被洗浄物を洗浄する方式としては、洗浄液
中に複数枚の被洗浄物を浸漬するデイップ方式や被洗浄
物に向けて洗浄液を噴射して一枚づつ洗浄する枚葉方式
があり、最近では高い清浄度が得られるとともに、コス
ト的に有利な枚葉方式が採用されることが多くなってき
ている。

【０００３】枚葉方式の１つとして被洗浄物に噴射され
る洗浄液に高周波振動を付与し、その振動作用によって
上記被洗浄物からパーティクルを効率よく除去するよう
にした洗浄方式が実用化されている。

【０００４】洗浄液に付与する振動は、従来は２０〜５
０ｋＨｚ程度の高周波であったが、最近では６００〜２
０００ｋＨｚ程度の極高周波帯域の音波を付与する高周
波洗浄装置が実用化されている。

【０００５】高周波洗浄装置は高周波電力を出力する高
周波発振器を備えており、この高周波発振器から出力さ
れる高周波電力によって高周波振動子が駆動されるよう
になっている。高周波振動子の振動は洗浄液に付与され
る。それによって、被洗浄物が高周波洗浄されるように
なっている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】従来の超音波発振装置
は、出力される高周波電力の波形が連続波もしくはパル
ス波のどちらか一方に設定されていた。高周波電力の波
形が連続波もしくはパルス波のいずれであっても、ある
程度の洗浄効果を得ることができる。

【０００７】しかしながら、被洗浄物の汚れ状態、つま
り被洗浄物に付着したパーティクルの付着度合や大きさ
などによっては、洗浄液に連続波やパルス波のどちらか
一方だけを付与したのでは十分な洗浄効果が得られない
ということがあった。

【０００８】たとえば、被洗浄物に付着力の強いパーテ
ィクルが多く付着している場合には、連続波よりも被洗
浄物に与える衝撃力の大きなパルス波で洗浄した方がよ
い。

【０００９】しかしながら、パルス波だけによって被洗
浄物を洗浄しつづけると、被洗浄物に形成された微細な
回路パターンを損傷させる虞がある。そこで、被洗浄物
をパルス波によって短時間だけ洗浄することが考えられ
るが、洗浄時間が短いと洗浄効果も低くなるということ
があるから、そのような場合にはパルス波よりも被洗浄
物に与える衝撃力が低い連続波によって一定時間以上の
洗浄を行い、所定の洗浄効果を得ることが要求される。

【００１０】つまり、洗浄効果を高めるためには、被洗
浄物に付着したパーティクルの付着度合や大きさなどの
汚染状態に応じてパルス波と連続波とを選択するだけで
なく、パルス波と連続波とを適宜組み合わせて被洗浄物
を洗浄することが効果的であるが、従来の超音波発振装
置では上述したようにパルス波と連続波とのどちらか一
方だけしか得ることができなかったので、被洗浄物の汚
染状態に応じて最適の状態で被洗浄物を洗浄するという
ことができなかった。

【００１１】この発明の目的は、被洗浄物に付着したパ
ーティクルの種類や形状など、被洗浄物の汚染状態に応
じて連続波とパルス波とを選択したり、組み合わせるこ
とで、洗浄効果を向上させることができるようにした超
音波発振装置および高周波発振方向を提供することにな
る。

【００１２】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、高周
波振動子を振動させる高周波電力を出力する高周波発振
器を備えた超音波発振装置において、上記高周波発振器
には、この高周波発振器から出力される高周波電力の波
形を連続波とパルス波とに選択的に設定する第１のスイ
ッチが設けられていることを特徴とする超音波発振装置
にある。

【００１３】請求項２の発明は、上記高周波発振器は制
御部を有し、この制御部は、上記第１のスイッチの切り
換えを制御して出力される高周波電力の波形の連続波と
パルス波との組み合わせを設定することを特徴とする請
求項１記載の超音波発振装置にある。

【００１４】請求項３の発明は、上記高周波発振器に
は、上記高周波振動子のインピーダンス特性に応じて発
振周波数を設定する第２のスイッチと、上記高周波発振
器から出力される高周波電力の発振時間及び発振間隔を
設定する第３のスイッチとが設けられていることを特徴
とする請求項１記載の超音波発振装置にある。

【００１５】請求項４の発明は、上記高周波発振器に
は、高周波電力の振動の周波数を周波数変調する第４の
スイッチが設けられていることを特徴とする請求項１記
載の超音波発振装置にある。

【００１６】請求項５の発明は、高周波振動子を振動さ
せる高周波電力を出力する高周波発振器を備えた超音波
発振装置において、上記高周波発振器には、高周波振動
子のインピーダンス特性に応じて高周波電力の振動の周
波数を周波数変調するスイッチが設けられていることを
特徴とする超音波発振装置にある。

【００１７】請求項６の発明は、高周波振動子を振動さ
せるための高周波電力を発生する高周波発振方法におい
て、高周波電力の波形を連続波とパルス波とに選択的に
設定する工程と、高周波電力の波形の連続波とパルス波
との組み合わせを設定する工程とを特徴とする高周波発
振方法にある。

【００１８】請求項１の発明によれば、第１のスイッチ
によって高周波電力の波形を連続波とパルス波とに選択
的に設定し、被洗浄物を所望する波形の高周波振動で洗
浄することができる。

【００１９】請求項２の発明によれば、第１のスイッチ
の切り換え制御部によって制御するようにしたことで、
高周波電力の波形の連続波とパルス波との組み合わせ自
動的に、しかも任意に行うことができる。

【００２０】請求項３の発明によれば、第２のスイッチ
によって高周波振動子のインピーダンス特性に応じた発
振周波数を設定することができ、第３のスイッチによっ
て高周波電力のレベルを設定することができる。

【００２１】請求項４と請求項５の発明によれば、第４
のスイッチによって高周波電力の振動の周波数を周波数
変調できるから、高周波振動子の発振効率を向上させる
ことができる。

【００２２】請求項６の発明によれば、高周波電力の波
形を、連続波とパルス波とを任意に組み合わせることが
できるから、被洗浄物の汚れ状態に応じて最適な波形の
高周波振動で洗浄することが可能となる。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下、この発明の一実施の形態を
図面を参照して説明する。

【００２４】図１と図２に示すこの発明の超音波発振装
置は高周波発振器３１を有し、この高周波発振器３１に
はマッチング回路部２７を介して高周波洗浄機１０が接
続されている。

【００２５】図２に示すように、上記高周波洗浄機１０
は本体１１を有する。この本体１１は上面が開放した凹
部１２が長手方向に沿って形成された上部材１３と、こ
の上部材１３の下面に第１のシ−ル材１４を介して液密
に接合固定された下部材１５とによって細長い角柱状に
形成されている。

【００２６】上記上部材１３の下部壁の幅方向中央部分
には長手方向に沿って嵌合孔１６が穿設され、上記下部
材１５の上面の幅方向中央部分には上記嵌合孔１６に嵌
合する凸部１７が形成されている。

【００２７】上記下部材１５の凸部１７が形成された幅
方向中央部分には、一端を上面に開口させ、他端を下面
に開口させた空間部１８が長手方向に沿って形成されて
いる。この空間部１８の断面形状は、一端（上端）から
他端（下端）にゆくにつれて幅寸法が小さくなるテ−パ
状をなしていて、その下端開口は上端よりも狭幅となっ
たノズル口１９に形成されている。上記空間部１８に
は、上記下部材１５に形成された一対の供給路２０から
洗浄液が供給されるようになっている。

【００２８】上記空間部１８の開口した上端はタンタ
ル、チタンあるいはそれらの合金などによって矩形板状
に形成された振動板２１によって液密に閉塞されてい
る。つまり、この振動板２１は、その下面周辺部が所定
の厚さを有する枠状の第２のシ−ル材２２を介して上記
上部材１３の凹部１２の内底面に接合されている。

【００２９】上記振動板２１の上面には同じく枠状の押
え板２３が接合され、上記上部材１３にねじ２０ａによ
って固定されている。それによって、上記空間部１８の
上端開口は液密に閉塞されている。

【００３０】上記振動板２１の上面の幅方向中央部分、
つまり上記空間部１８と対応する部位には高周波振動子
２４が上記振動板２１の長手方向に沿って取着されてい
る。この高周波振動子２４には、たとえば抵抗が５０Ω
の第１の同軸ケ−ブル２５ａの芯線の一端が電気的に接
続されている。この第１の同軸ケ−ブル２５ａの他端に
は第１のソケット２６ａが設けられ、この第１のソケッ
ト２６ａはマッチング回路部２７の一端に設けられた第
１のポ−ト２７ａに着脱自在に接続される。なお、第１
の同軸ケ−ブル２５ａの被覆線はア−スされている。

【００３１】上記マッチング回路部２７の他端には第２
のポ−ト２７ｂが設けられ、この第２のポ−ト２７ｂに
は第２の同軸ケ−ブル２５ｂの一端に設けられた第２の
ソケット２６ｂが着脱自在に接続される。この第２の同
軸ケ−ブル２５ｂの他端は上記高周波発振器３１に接続
される。この高周波発振器３１は図３に示すように周波
数シセサイザ３２を有する。この周波数シンセサイザ３
２からは所定の周波数の波形が出力されるようになって
いて、その周波数は制御部としてのＣＰＵ３３によって
変換制御されるようになっている。

【００３２】上記周波数シンセサイザ３２から出力され
た所定周波数の波形は、高周波パワ−アンプ３４で増幅
され、上記第２の同軸ケ−ブル２５ｂの電圧、電流をモ
ニタするＣＭカップラ−（通過形電力計）３５で出力が
モニタ−されて上記マッチング回路部２７へ出力され
る。

【００３３】図４に上記高周波発振器３１の詳細な構成
を示す。つまり、電源４１からの交流１００Ｖはフィル
タ４２によって雑音を除去されてからヒューズ４３、ス
イッチ４４、ブレーカー４５を介して交流１００Ｖを全
波整流する整流器４６に入力する。

【００３４】整流器４６で全波整流された電力は電解コ
ンデンサー４７に入力する。この電解コンデンサー４７
には第１のスイッチ４８が設けられている。この第１の
スイッチ４８は上記ＣＰＵ３３によって連続側とパルス
側とに自動的に切り換え操作されるようになっていて、
パルス側に切り換えると全波整流された電力は電解コン
デンサー４７をパスするため、パルス波形となって上記
パワーアンプ３４に入力し、連続側に切り換えると電解
コンデンサー４７によって連続波形に変換されて上記パ
ワーアンプ３４に入力するようになっている。

【００３５】上記パワーアンプ３４はボリューム３４ａ
を有するとともに、高周波成分を作り出すＰＬＬ回路５
１が接続されている。このＰＬＬ回路５１には第２のス
イッチ５２が接続されている。この第２のスイッチ５２
は上記パワーアンプ３４から出力される高周波電力の発
振周波数を設定するためのもので、この実施の形態では
上記電力の発振周波数を１６００ｋＨｚの高周波電力に
設定するようになっている。

【００３６】上記ＰＬＬ回路５１が接続されたＣＰＵ３
３には、上記パワーアンプ３４から出力される高周波電
力の発振時間及び発振間隔（デューティ比）を制御する
第３のスイッチ５３が設けられている。この第３のスイ
ッチ５３によって高周波電力のデューティ比を制御する
ことができる。

【００３７】つまり、パワーアンプ３４から連続波を出
力するときに、第３のスイッチ５３によって設定される
デューティ比が０であれば連続波となるが、デューティ
比を所定の値に設定すれば、図５（ｆ）に示すように連
続波を所定の周期で分割したバースト波を得ることがで
きる。また、パワーアンプ３４からパルス波を出力する
ときに、第３のスイッチ５３によってデューティ比を変
化させれば、このパルス波のパワーレベルを調整するこ
とができるようになっている。

【００３８】上記パワーアンプ３４から出力される高周
波電力の進行波と反射波はＶＳＷＲ検出器５４によって
検出される。このＶＳＷＲ検出器５４からの検出信号は
演算回路５５で演算処理されて上記パワーアンプ３４及
びＣＰＵ３３にフィードバックされる。パワーアンプ３
４では、演算回路５５からの信号によってボリューム３
４ａの設定に基づき上記パワーアンプ３４から発振され
る高周波電力の電力を補正するようになっている。

【００３９】さらに、上記ＰＬＬ回路５１には第４のス
イッチ５６を介して低周波発振回路５７が接続されてい
る。上記第４のスイッチ５６をオンすると、上記ＰＬＬ
回路５１を介して上記パワーアンプ３４から発振出力さ
れる高周波電力が上記低周波発振回路５７で作られた周
波数に基づいて周波数変調されるようになっている。こ
の実施の形態では、第２のスイッチ５２で設定された１
６００ｋＨｚの高周波電力の出力周波数を１５９０〜１
６１０ｋＨｚの範囲で周波数変調する。

【００４０】それによって、高周波振動子２４のインピ
ーダンス特性が部分的に不均一であっても、この高周波
振動子２４から出力される高周波振動の音圧を均一化で
きるようになっている。

【００４１】つまり、高周波振動子２４は、通常、粉末
のセラミック原料を圧縮成形してから焼成して製造され
るため、その全領域においてインピーダンス特性が一定
になりにくい。そのため、高周波振動子２４の全領域に
所定の周波数の高周波電力を一様に供給しても、出力が
一定にならないということがある。

【００４２】しかしながら、高周波振動子２４に供給す
る高周波電力を所定の周波数の範囲で周波数変調するこ
とで、高周波振動子２４の全領域におけるインピーダン
ス特性が一定でなくとも、各領域にインピーダンス特性
に応じた周波数の高周波電力を供給することができるた
め、高周波振動子２４から出力される超音波の強さをほ
ぼ均一化することができる。

【００４３】なお、上記低周波発振回路５７で作られる
周波数はポテンショメータ５８によって設定できるよう
になっている。

【００４４】図４に示すように、上記高周波発振器３１
には時間計６１及びリレー回路６２が設けられている。
時間計６１は発振時間を計測するとともに、その計測時
間をリセットするリセットスイッチ６３が設けられ、リ
レー回路６２は複数のランプ６４によって各種の表示を
行うようになっている。

【００４５】なお、上記第１乃至第４のスイッチ４８，
５２，５３，５６の動作は、上記ＣＰＵ３３によって自
動的に動作させることができるようになっている。

【００４６】また、上記電源４１からの電力の一部は、
高周波発振器３１を冷却するためのファン６５及びＣＰ
Ｕ３３を駆動するために交流電圧を直流電圧に変換する
コンバータ６６に入力されるようになっている。

【００４７】つぎに、上記超音波発振装置を用いて図５
（ａ）〜（ｆ）に示す波形の高周波電力を発振出力する
場合について説明する。

【００４８】まず、図５（ａ）に示す第１の波形の高周
波電力を出力する場合には、スイッチ４４をオンにして
電源を入れたならば、ＣＰＵ３３によって第１の波形が
出力される状態に設定する。ＣＰＵ３３の設定に基づ
き、第１のスイッチ４８は発振動作が開始される発振初
期時にはパルス側に切り換わり、パルス発振（この実施
の形態では１パルス発振）が終了すると同時に連続側に
切り換わる。

【００４９】それによって、第１のスイッチ４８がパル
ス側に切り換わった発振初期時には整流器４６で全波整
流された電力が電解コンデンサー４７をパスするため、
パワーアンプ３４からは第２のスイッチ５２によって設
定された周波数の高周波電力がパルス発振されることに
なる。

【００５０】高周波電力のパルス発振が終了すると、第
１のスイッチ４８が連続側に切り換わるから、整流器４
６で全波整流された電力は電解コンデンサー４７で平滑
化されてパワーアンプ３４に入力する。

【００５１】それによって、電解コンデンサー４７から
の電力は、パルス発振よりも低いパワーレベルで、しか
も第２のスイッチ５２の設定に基づく周波数で連続発振
することになる。つまり、第１の波形は発振の初期には
パルス発振で、その後は連続発振となる。

【００５２】このような第１の高周波電力の波形を高周
波振動子２４に入力すれば、被洗浄物を最初は高いパワ
ーのパルス発振で洗浄でき、その後はパワーの低い連続
発振で所定時間洗浄することができる。

【００５３】そのため、最初のパルス発振によって被洗
浄物からは比較的強固に付着して落ち難い状態であった
り、粒径が大きなパーティクルを除去することができ、
次に連続発振を所定時間継続して行うことで、被洗浄物
に通常の状態で付着したり、比較的粒径の小さなパーテ
ィクルなど、短時間で除去できなかったパーティクルを
確実に除去することができる。

【００５４】図５（ｂ）に示す第２の波形の高周波電力
の波形を出力する場合には、ＣＰＵ３３によって第２の
波形が出力される状態に設定する。ＣＰＵ３３の設定に
基づき発振動作が開始されると、まず、第１のスイッチ
４８は発振動作が開始してから所定時間経過するまでは
連続側に切り換えられる。

【００５５】それによって、整流器４６で全波整流され
た電力は、第２のスイッチ５２で設定された周波数に基
づいて連続発振する。連続発振が所定時間行われると、
第１のスイッチ４８がパルス側に切り換えられるから、
整流器４６で全波整流された電力は電解コンデンサー４
７をパスして所定の周波数でパルス発振する。

【００５６】したがって、このような発振波形によれ
ば、所定時間の連続発振によって被洗浄物に付着したほ
とんどのパーティクルは除去されるものの、連続発振で
は除去されないパーティクルが最後のパルス発振によっ
て除去されることになるから、この場合も第１の波形と
同様、被洗浄物に付着したパーティクルの付着状態や大
きさなどが一定でなくとも、十分な洗浄効果を得ること
ができる。

【００５７】図５（ｃ）に示す第３の波形の高周波電力
の波形を出力する場合には、ＣＰＵ３３によって第３の
波形が出力される状態に設定する。ＣＰＵ３３の設定に
基づき発振が開始されると、第１のスイッチ４８は上記
ＣＰＵ３３からの制御信号によって所定時間ごとに連続
側からパルス側に切り換えられる。

【００５８】それによって、第３の高周波電力の波形
は、パルス発振と連続発振とが繰り返されることになる
から、被洗浄物に比較的除去し難いパーティクルが多く
付着している場合に、この第３の波形を適用すれば、パ
ルス発振だけで被洗浄物を洗浄する場合に比べて被洗浄
物に衝撃を与え過ぎることなく、洗浄効果を高めること
ができる。

【００５９】図５（ｄ）に示す第４の波形は連続波であ
って、この波形を出力するよう、ＣＰＵ３３を設定する
と、第１のスイッチ４８は連続側に切り換えられる。そ
れによって、整流器４６で全波整流された電力は電解コ
ンデンサー４７で平滑化されてパワーアンプ３４に入力
するから、第２のスイッチ５２によって設定された周波
数に基づいた連続発振が行われる。

【００６０】第４の波形である連続波を発振させる場合
に、第３のスイッチ５３によってデューティ比を０から
所定の値に設定すれば、図５（ｆ）に示すように、連続
波が所定の周期で分断されたバースト波を得ることがで
きる。この周期はデューティ比によって任意に設定する
ことができる。なお、図５（ｆ）の波形を第６の波形と
する。

【００６１】図５（ｅ）に示す第５の波形はパルス波で
あって、この波形を出力するよう、ＣＰＵ３３を設定す
ると、第１のスイッチ４８はパルス側に切り換えられ
る。それによって、整流器４６で全波整流された電力は
電解コンデンサー４７をパスしてパワーアンプ３４に入
力するから、第２のスイッチ５２によって設定された周
波数に基づいたパルス発振が行われる。

【００６２】第５の波形であるパルス波を発振させる場
合に、第３のスイッチ５３によってデューティ比を所定
の値に設定すれば、パルス波の出力レベルを調整するこ
とができるから、被洗浄物の汚れ状態に適した出力レベ
ルで被洗浄物を洗浄することができる。

【００６３】このように、第１のスイッチ４８の切り換
えをＣＰＵ３３によって制御することで、パルス波と連
続波を組み合わせた発振波形を得ることができるから、
被洗浄物に付着したパーティクルの種類や大きさなどに
応じて発振波形を設定すれば、洗浄効果を向上させるこ
とができる。

【００６４】しかも、パルス波と連続波とを組み合わせ
た第１乃至第３の波形だけでなく、連続波だけの第４の
波形やパルス波だけの第５の波形を発振させることがで
きるから、第１乃至第３の波形で対応できない場合に
も、対応することが可能となる。

【００６５】さらに、第３のスイッチによってデューテ
ィ比を設定すれば、連続波を発振させるときには、連続
波からバースト波を得ることができ、パルス波を発振さ
せるときには、そのパルス波の出力レベルを変ええるこ
とができるから、そのことによっても種々の洗浄条件に
対応した発振波形を設定することができる。

【００６６】第１乃至第６の波形で高周波電力を発振さ
せる場合、ＣＰＵ３３によって第４のスイッチ５６をオ
ンにすれば、パワーアンプ３４から発振出力される高周
波電力をＦＭ変調することができる。この実施の形態の
場合、１６００ｋＨｚの周波数で発振される高周波電力
を１５９０〜１６１０ｋＨｚの範囲で変調させることが
できる。

【００６７】そのため、高周波電力が供給される高周波
振動子２４のインピーダンス特性が全領域で均一でなく
とも、高周波振動子２４から出力される振動の強さをほ
ぼ一定にすることができるから、そのことによって被洗
浄物を均一に洗浄することが可能となる。

【００６８】周波数変調の周波数を作る低周波発振回路
５７にはポテンショメータ５８が接続されているから、
この低周波発振回路５７で作られる周波数をポテンショ
メータ５８によって設定することができる。つまり、高
周波電力を１５９０〜１６１０ｋＨｚ以外の範囲でも周
波数変調することができる。

【００６９】

【発明の効果】以上のようにこの発明は、高周波発振器
から出力される高周波電力を連続波とパルス波とのどち
らか一方または組み合わせによって発振させることがで
きる。

【００７０】そのため、被洗浄物の汚染状態に応じて高
周波振動子に供給する高周波電力の発振波形を制御する
ことで、洗浄効果を高めることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の一実施の形態を示す超音波発振装置
の構成図。

【図２】高周波洗浄機の断面図。

【図３】高周波発振器の概略図。

【図４】高周波発振器の回路図。

【図５】高周波発振器によって得られる波形の説明図。

【符号の説明】

３１…高周波発振器 ３３…ＣＰＵ（制御部） ４８…第１のスイッチ ５２…第２のスイッチ ５３…第３のスイッチ ５６…第４のスイッチ

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 高周波振動子を振動させる高周波電力を
   出力する高周波発振器を備えた超音波発振装置におい
   て、 上記高周波発振器には、この高周波発振器から出力され
   る高周波電力の波形を連続波とパルス波とに選択的に設
   定する第１のスイッチが設けられていることを特徴とす
   る超音波発振装置。
2. 【請求項２】 上記高周波発振器は制御部を有し、この
   制御部は、上記第１のスイッチの切り換えを制御して出
   力される高周波電力の波形の連続波とパルス波との組み
   合わせを設定することを特徴とする請求項１記載の超音
   波発振装置。
3. 【請求項３】 上記高周波発振器には、上記高周波振動
   子のインピーダンス特性に応じて発振周波数を設定する
   第２のスイッチと、上記高周波発振器から出力される高
   周波電力の時間及び発振間隔を設定する第３のスイッチ
   とが設けられていることを特徴とする請求項１記載の超
   音波発振装置。
4. 【請求項４】 上記高周波発振器には、高周波電力の振
   動の周波数を周波数変調する第４のスイッチが設けられ
   ていることを特徴とする請求項１記載の超音波発振装
   置。
5. 【請求項５】 高周波振動子を振動させる高周波電力を
   出力する高周波発振器を備えた超音波発振装置におい
   て、 上記高周波発振器には、高周波振動子のインピーダンス
   特性に応じて高周波電力の波形の周波数を周波数変調す
   るスイッチが設けられていることを特徴とする超音波発
   振装置。
6. 【請求項６】 高周波振動子を振動させるための高周波
   電力を発生する高周波発振方法において、 高周波電力の波形を連続波とパルス波とに選択的に設定
   する工程と、 高周波電力の波形の連続波とパルス波との組み合わせを
   設定する工程とを特徴とする高周波発振方法。