JP2001244409A - 高周波モジュール - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】高周波素子を収納した高周波素子パッケージを
回路基板に実装してなる高周波モジュール内の高周波信
号の伝送損失を低減する。 【解決手段】第1の誘電体基板11の表面に被着形成さ
れ、少なくとも一対の接続端子13a、13bを具備す
る第1の高周波線路12a、12b、12cとを具備す
る回路基板Bと、第2の誘電体基板1表面に搭載された
高周波素子2と、第2の誘電体基板1に形成され、高周
波素子2と接続され、端部に外部回路と接続するための
接続端子6a,6bが設けられた第2の高周波線路4
a、5aと、を有する高周波素子パッケージAとを具備
し、回路基板Bの表面に高周波素子パッケージAを実装
してなり、モジュール内の全高周波回路長をL1、回路
基板上の全高周波回路長をL2とした時、L2/L1を
0.5以下とする。
回路基板に実装してなる高周波モジュール内の高周波信
号の伝送損失を低減する。 【解決手段】第1の誘電体基板11の表面に被着形成さ
れ、少なくとも一対の接続端子13a、13bを具備す
る第1の高周波線路12a、12b、12cとを具備す
る回路基板Bと、第2の誘電体基板1表面に搭載された
高周波素子2と、第2の誘電体基板1に形成され、高周
波素子2と接続され、端部に外部回路と接続するための
接続端子6a,6bが設けられた第2の高周波線路4
a、5aと、を有する高周波素子パッケージAとを具備
し、回路基板Bの表面に高周波素子パッケージAを実装
してなり、モジュール内の全高周波回路長をL1、回路
基板上の全高周波回路長をL2とした時、L2/L1を
0.5以下とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】 本発明は、マイクロ波やミ
リ波の信号が伝送され、回路基板表面に高周波素子を搭
載したパッケージを実装してなる高周波モジュールの改
良に関する。
リ波の信号が伝送され、回路基板表面に高周波素子を搭
載したパッケージを実装してなる高周波モジュールの改
良に関する。
【0002】
【従来技術】 近年、高度情報化時代を迎え、情報伝達
に用いられる電波は1〜30GHzのマイクロ波領域か
ら、更に30〜300GHzのミリ波領域の周波数まで
活用することが検討されており、例えば、車間レーダー
のようなミリ波の電波を用いた応用システムも提案され
るようになっている。
に用いられる電波は1〜30GHzのマイクロ波領域か
ら、更に30〜300GHzのミリ波領域の周波数まで
活用することが検討されており、例えば、車間レーダー
のようなミリ波の電波を用いた応用システムも提案され
るようになっている。
【0003】このような高周波用のシステムにおいて
は、従来、1つの回路基板の表面にすべての高周波素子
を搭載収納し、高周波素子を蓋体などによって一括して
気密封止するマルチチップモジュールが知られている。
は、従来、1つの回路基板の表面にすべての高周波素子
を搭載収納し、高周波素子を蓋体などによって一括して
気密封止するマルチチップモジュールが知られている。
【0004】図3は、マルチチップモジュールの概略断
面図である。図3によれば、マルチチップモジュール3
1は配線基板32、枠体33、蓋体34とその内部の複
数の高周波素子35からなっている。それぞれの高周波
素子35は配線基板32表面に形成された高周波線路3
6とワイヤーボンディングによって接続されている。
面図である。図3によれば、マルチチップモジュール3
1は配線基板32、枠体33、蓋体34とその内部の複
数の高周波素子35からなっている。それぞれの高周波
素子35は配線基板32表面に形成された高周波線路3
6とワイヤーボンディングによって接続されている。
【0005】このようなマルチチップモジュールにおい
ては、複数の高周波素子を1つの基板の表面に搭載する
ために、高周波素子搭載基板全体のサイズが大きくなっ
てしまい、その結果、モジュールの反りや、枠体、蓋体
の変形等により気密封止の歩留まりに問題があった。
ては、複数の高周波素子を1つの基板の表面に搭載する
ために、高周波素子搭載基板全体のサイズが大きくなっ
てしまい、その結果、モジュールの反りや、枠体、蓋体
の変形等により気密封止の歩留まりに問題があった。
【0006】このような問題を解消するために、複数の
高周波素子を独立した複数のパッケージ内に気密に収納
し、その複数のパッケージを回路基板に実装してモジュ
ールを構成することが考えられる。
高周波素子を独立した複数のパッケージ内に気密に収納
し、その複数のパッケージを回路基板に実装してモジュ
ールを構成することが考えられる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】 しかしながら、高周
波素子を個別にパッケージに収納し、それを回路基板に
実装してなるモジュールの場合、信号周波数が10GH
z以上の高周波になると、パッケージと回路基板との接
続部において信号の伝送損失が大きくなり、またパッケ
ージ同士の接続に回路基板を経由するためにその線路部
の損失も加算されてしまい、高周波信号の損失がさらに
大きくなるために、回路が十分に動作し得ないと考えら
れていた。
波素子を個別にパッケージに収納し、それを回路基板に
実装してなるモジュールの場合、信号周波数が10GH
z以上の高周波になると、パッケージと回路基板との接
続部において信号の伝送損失が大きくなり、またパッケ
ージ同士の接続に回路基板を経由するためにその線路部
の損失も加算されてしまい、高周波信号の損失がさらに
大きくなるために、回路が十分に動作し得ないと考えら
れていた。
【0008】従って、本発明は、高周波素子を収納した
高周波素子パッケージを回路基板に実装してなる高周波
モジュール内の高周波信号の伝送損失を低減した高周波
モジュールを提供することを目的とするものである。
高周波素子パッケージを回路基板に実装してなる高周波
モジュール内の高周波信号の伝送損失を低減した高周波
モジュールを提供することを目的とするものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】 本発明者等は、前記課
題に鑑み、高周波素子をパッケージに収納し、それを回
路基板に実装してなる高周波モジュール構造について検
討を重ねた結果、回路基板上の高周波線路の長さを、パ
ッケージを実装した時のモジュール全体の高周波線路の
長さに対して特定の関係を満足するように回路設計する
ことによってモジュール全体における信号の伝送損失を
低減するに至った。
題に鑑み、高周波素子をパッケージに収納し、それを回
路基板に実装してなる高周波モジュール構造について検
討を重ねた結果、回路基板上の高周波線路の長さを、パ
ッケージを実装した時のモジュール全体の高周波線路の
長さに対して特定の関係を満足するように回路設計する
ことによってモジュール全体における信号の伝送損失を
低減するに至った。
【0010】即ち、本発明の高周波モジュールは、第1
の誘電体基板と、該第1の誘電体基板の表面に被着形成
され、少なくとも一対の接続端子を具備する第1の高周
波線路とを具備する回路基板と、第2の誘電体基板と、
該第2の誘電体基板表面に搭載された高周波素子と、前
記第2の誘電体基板に形成され、前記高周波素子と接続
されてなる第2の高周波線路と、外部回路と接続するた
めに設けられた接続端子とを有する複数の高周波素子パ
ッケージとを具備し、前記複数の高周波素子パッケージ
を前記回路基板の表面に実装してなる高周波モジュール
であって、前記モジュール内の全高周波回路長をL1、
前記回路基板内の全高周波回路長をL2とした時、L2/
L1で表される長さ比が0.5以下であることを特徴と
する。
の誘電体基板と、該第1の誘電体基板の表面に被着形成
され、少なくとも一対の接続端子を具備する第1の高周
波線路とを具備する回路基板と、第2の誘電体基板と、
該第2の誘電体基板表面に搭載された高周波素子と、前
記第2の誘電体基板に形成され、前記高周波素子と接続
されてなる第2の高周波線路と、外部回路と接続するた
めに設けられた接続端子とを有する複数の高周波素子パ
ッケージとを具備し、前記複数の高周波素子パッケージ
を前記回路基板の表面に実装してなる高周波モジュール
であって、前記モジュール内の全高周波回路長をL1、
前記回路基板内の全高周波回路長をL2とした時、L2/
L1で表される長さ比が0.5以下であることを特徴と
する。
【0011】なお、前記回路基板における第1の誘電体
基板が有機樹脂含有絶縁材料からなり、パッケージにお
ける第2の誘電体基板が、セラミックスからなることが
望ましく、さらに、前記第2の誘電体基板の誘電損失が
前記第1の誘電体基板よりも小さいことが望ましい。
基板が有機樹脂含有絶縁材料からなり、パッケージにお
ける第2の誘電体基板が、セラミックスからなることが
望ましく、さらに、前記第2の誘電体基板の誘電損失が
前記第1の誘電体基板よりも小さいことが望ましい。
【0012】さらに、本発明の他の態様としては、第3
の誘電体基板と、該第3の誘電体基板に形成された第3
の高周波線路と、外部回路と接続するために設けられた
接続端子とを有する配線基板と、をさらに具備し、パッ
ケージとともに回路基板表面に実装されることを特徴と
するものであり、かかる場合においても、前記L2/L1
で表される長さ比が0.5以下である関係を具備するこ
とを特徴とするものである。
の誘電体基板と、該第3の誘電体基板に形成された第3
の高周波線路と、外部回路と接続するために設けられた
接続端子とを有する配線基板と、をさらに具備し、パッ
ケージとともに回路基板表面に実装されることを特徴と
するものであり、かかる場合においても、前記L2/L1
で表される長さ比が0.5以下である関係を具備するこ
とを特徴とするものである。
【0013】そして、配線基板を具備する場合において
も、この配線基板における第3の誘電体基板の誘電損失
が第1の誘電体基板よりも小さいことが望ましい。
も、この配線基板における第3の誘電体基板の誘電損失
が第1の誘電体基板よりも小さいことが望ましい。
【0014】なお、上記の高周波モジュールは、いずれ
も前記高周波線路に周波数10GHz以上の高周波信号
が伝送される場合特に好適である。
も前記高周波線路に周波数10GHz以上の高周波信号
が伝送される場合特に好適である。
【0015】
【作用】 本発明によれば、複数の高周波素子を回路基
板上に搭載させたモジュールを構成する場合、1個ある
いは複数個の高周波素子を複数のパッケージに別けて気
密に封止させて、回路基板上に実装することによって、
従来のように複数の高周波素子を1つのパッケージ内に
気密封止する場合に比較して気密封止の信頼性を高める
ことができる。
板上に搭載させたモジュールを構成する場合、1個ある
いは複数個の高周波素子を複数のパッケージに別けて気
密に封止させて、回路基板上に実装することによって、
従来のように複数の高周波素子を1つのパッケージ内に
気密封止する場合に比較して気密封止の信頼性を高める
ことができる。
【0016】また、本発明によれば、高周波モジュール
の全高周波回路長L1に対して、回路基板の全高周波回
路長L2のL2/L1の長さ比を0.5以下とすることに
よって、従来のマルチチップモジュールに比較して遜色
ない良好な伝送特性を得ることができる。
の全高周波回路長L1に対して、回路基板の全高周波回
路長L2のL2/L1の長さ比を0.5以下とすることに
よって、従来のマルチチップモジュールに比較して遜色
ない良好な伝送特性を得ることができる。
【0017】また、回路基板がパッケージに対して大型
で、上記のような回路長の関係を形成することが難しい
場合には、別途、回路基板の誘電体基板よりも低損失の
誘電体材料からなる誘電体基板に高周波線路が形成され
た配線基板を回路基板上の高周波線路間に実装して、高
周波信号をこの配線基板の高周波線路にバイパスするこ
とによって、低誘電損失の誘電体基板に形成された線路
長を長くすることができる結果、回路基板のサイズに係
わらず、線路長を上記の範囲に制御することが可能とな
る。
で、上記のような回路長の関係を形成することが難しい
場合には、別途、回路基板の誘電体基板よりも低損失の
誘電体材料からなる誘電体基板に高周波線路が形成され
た配線基板を回路基板上の高周波線路間に実装して、高
周波信号をこの配線基板の高周波線路にバイパスするこ
とによって、低誘電損失の誘電体基板に形成された線路
長を長くすることができる結果、回路基板のサイズに係
わらず、線路長を上記の範囲に制御することが可能とな
る。
【0018】
【発明の実施の形態】 以下、本発明の高周波モジュー
ルを図面に基づき詳述する。
ルを図面に基づき詳述する。
【0019】図1は、本発明の高周波モジュールの一例
を説明するための概略断面図である。図1の高周波モジ
ュールは、基本的に高周波素子パッケージAと回路基板
Bによって構成されている。 (高周波素子パッケージA)高周波素子パッケージAに
よれば、誘電体基板1の表面には、高周波素子2がとも
に搭載されており、蓋体3によって気密に封止されてい
る。また誘電体基板1表面には入力用高周波線路4aと
出力用高周波線路4bが形成されており、各線路4a、
4bの一方の端部は、それぞれ高周波素子2と接続され
ている。また、各線路4a、4bの他方の端部は、誘電
体基板1を貫通して形成されたスルーホール導体5a、
5bを経由して、誘電体基板1の裏面に導出され、誘電
体基板1の裏面に形成された外部回路と接続するための
接続端子6a、6bとが接続されている。また、誘電体
基板1内部には、グランド層7が形成されており、各線
路4a、4bはグランド層7とともにマイクロストリッ
プ線路型の高周波線路を形成している。なお、内部のグ
ランド層7のスルーホール導体5a、5b部には開口8
が形成されており、スルーホール導体5a、5bとは電
気的に非接触となっている。
を説明するための概略断面図である。図1の高周波モジ
ュールは、基本的に高周波素子パッケージAと回路基板
Bによって構成されている。 (高周波素子パッケージA)高周波素子パッケージAに
よれば、誘電体基板1の表面には、高周波素子2がとも
に搭載されており、蓋体3によって気密に封止されてい
る。また誘電体基板1表面には入力用高周波線路4aと
出力用高周波線路4bが形成されており、各線路4a、
4bの一方の端部は、それぞれ高周波素子2と接続され
ている。また、各線路4a、4bの他方の端部は、誘電
体基板1を貫通して形成されたスルーホール導体5a、
5bを経由して、誘電体基板1の裏面に導出され、誘電
体基板1の裏面に形成された外部回路と接続するための
接続端子6a、6bとが接続されている。また、誘電体
基板1内部には、グランド層7が形成されており、各線
路4a、4bはグランド層7とともにマイクロストリッ
プ線路型の高周波線路を形成している。なお、内部のグ
ランド層7のスルーホール導体5a、5b部には開口8
が形成されており、スルーホール導体5a、5bとは電
気的に非接触となっている。
【0020】なお、図1の高周波モジュールにおいて
は、上記の構造からなる2つの高周波素子パッケージA
1、A2を具備するものである。 (高周波素子パッケージの他の構造について)図1の高
周波素子パッケージAでは、垂直方向への信号の伝達に
あたってスルーホール導体5を用いているが、この部分
には、例えば、グランド層7にスロットを形成し、この
スロットを介して、第1の誘電体基板表面に形成した線
路と、裏面に形成した線路とを対峙させた周知の構造に
よって電磁結合させることもできる。前記のスルーホー
ル導体や電磁結合を用いて高周波信号を基板に垂直に伝
送させるパッケージの回路基板への搭載方法は図1に示
した方法以外に、パッケージを逆さまにして、それを凹
部を設けた回路基板の凹部にパッケージを載置してパッ
ケージの接続端子と回路基板の接続端子をほぼ同一面に
なるようにして、ワイヤーボンディング等でそれぞれの
接続端子を接続することもできる。
は、上記の構造からなる2つの高周波素子パッケージA
1、A2を具備するものである。 (高周波素子パッケージの他の構造について)図1の高
周波素子パッケージAでは、垂直方向への信号の伝達に
あたってスルーホール導体5を用いているが、この部分
には、例えば、グランド層7にスロットを形成し、この
スロットを介して、第1の誘電体基板表面に形成した線
路と、裏面に形成した線路とを対峙させた周知の構造に
よって電磁結合させることもできる。前記のスルーホー
ル導体や電磁結合を用いて高周波信号を基板に垂直に伝
送させるパッケージの回路基板への搭載方法は図1に示
した方法以外に、パッケージを逆さまにして、それを凹
部を設けた回路基板の凹部にパッケージを載置してパッ
ケージの接続端子と回路基板の接続端子をほぼ同一面に
なるようにして、ワイヤーボンディング等でそれぞれの
接続端子を接続することもできる。
【0021】また、スルーホール導体5や電磁結合を用
いた基板に垂直な伝送を行わずに、パッケージ内部の高
周波線路を水平方向に伸ばし、パッケージ枠体を貫通さ
せて気密を保ちながら高周波信号をパッケージ内部から
パッケージ外部に導出するパッケージについても適用で
きる。このような場合には、回路基板に凹部を設け、そ
こにパッケージを載置してパッケージの接続端子と回路
基板の接続端子をほぼ同一面になるようにして、ワイヤ
ーボンディング等でそれぞれの接続端子を接続する。 (回路基板)一方、回路基板Bによれば、誘電体基板1
1の少なくとも表面には高周波線路12が被着形成され
ており、その高周波線路12には、前記パッケージAを
実装する領域が設けられており、高周波線路12は、パ
ッケージAの接続端子6a、6bの間隔で離間して形成
されている。即ち、回路基板Bの高周波線路は、12
a、12b、12cの3本の線路から構成されている。
なお、高周波線路12aおよび12cの端部には、さら
に高周波モジュールを他の回路と接続するための接続端
子13a、13bが設けられている。また、誘電体基板
11の内部には、グランド層14が形成されており、前
記高周波線路12a、12b、12cとともにマイクロ
ストリップ線路を形成している。なお、このグランド層
14は、誘電体基板11の裏面であってもよい。
いた基板に垂直な伝送を行わずに、パッケージ内部の高
周波線路を水平方向に伸ばし、パッケージ枠体を貫通さ
せて気密を保ちながら高周波信号をパッケージ内部から
パッケージ外部に導出するパッケージについても適用で
きる。このような場合には、回路基板に凹部を設け、そ
こにパッケージを載置してパッケージの接続端子と回路
基板の接続端子をほぼ同一面になるようにして、ワイヤ
ーボンディング等でそれぞれの接続端子を接続する。 (回路基板)一方、回路基板Bによれば、誘電体基板1
1の少なくとも表面には高周波線路12が被着形成され
ており、その高周波線路12には、前記パッケージAを
実装する領域が設けられており、高周波線路12は、パ
ッケージAの接続端子6a、6bの間隔で離間して形成
されている。即ち、回路基板Bの高周波線路は、12
a、12b、12cの3本の線路から構成されている。
なお、高周波線路12aおよび12cの端部には、さら
に高周波モジュールを他の回路と接続するための接続端
子13a、13bが設けられている。また、誘電体基板
11の内部には、グランド層14が形成されており、前
記高周波線路12a、12b、12cとともにマイクロ
ストリップ線路を形成している。なお、このグランド層
14は、誘電体基板11の裏面であってもよい。
【0022】上記パッケージAおよび回路基板Bにおい
て、高周波線路4a、4b、12a、12b、12cは
グランド層7、14とともに、マイクロストリップ線路
を形成しているものであるが、この線路4a、4b、1
2a、12b、12cの平面的にみた両側にグランド層
を形成した、いわゆるコプレーナ線路構造であってもよ
く、さらにこのコプレーナ線路構造に前記グランド層
7、14を付加したグランド付きコプレーナ線路構造で
あってもよい。 (実装構造)上記の回路基板Bの表面には、上記の2つ
のパッケージAが載置され、パッケージAの接続端子6
a、6bと回路基板Bの高周波線路12aと高周波線路
12b、あるいは高周波線路12bと高周波線路12c
の各端部と半田などの導電性接着剤15によって実装さ
れる。
て、高周波線路4a、4b、12a、12b、12cは
グランド層7、14とともに、マイクロストリップ線路
を形成しているものであるが、この線路4a、4b、1
2a、12b、12cの平面的にみた両側にグランド層
を形成した、いわゆるコプレーナ線路構造であってもよ
く、さらにこのコプレーナ線路構造に前記グランド層
7、14を付加したグランド付きコプレーナ線路構造で
あってもよい。 (実装構造)上記の回路基板Bの表面には、上記の2つ
のパッケージAが載置され、パッケージAの接続端子6
a、6bと回路基板Bの高周波線路12aと高周波線路
12b、あるいは高周波線路12bと高周波線路12c
の各端部と半田などの導電性接着剤15によって実装さ
れる。
【0023】かかる構造の高周波モジュールにおいて
は、電極13aから入力された信号は、高周波線路12
aを経由して高周波素子パッケージA1の接続端子6a
−スルーホール導体5aを含む高周波線路4a−高周波
素子2−スルーホール導体5bを含む高周波線路4b−
接続端子6bから出力され、さらに高周波線路12bを
経由して、前記と同様にパッケージA2内を伝送し、接
続端子6bから高周波線路12cを経由して接続端子1
3bから外部回路に接続される。
は、電極13aから入力された信号は、高周波線路12
aを経由して高周波素子パッケージA1の接続端子6a
−スルーホール導体5aを含む高周波線路4a−高周波
素子2−スルーホール導体5bを含む高周波線路4b−
接続端子6bから出力され、さらに高周波線路12bを
経由して、前記と同様にパッケージA2内を伝送し、接
続端子6bから高周波線路12cを経由して接続端子1
3bから外部回路に接続される。
【0024】本発明によれば、上記の高周波モジュール
全体の高周波信号の伝送損失を低減するために、回路基
板B上の高周波線路長をできるだけ短くする。通常、回
路基板上の高周波線路は高周波信号をある位置から別の
位置まで伝送させるために存在するが、本発明では、回
路基板上でパッケージとパッケージを接続するための接
続パターンとして用いられる。具体的には、上記の高周
波モジュールにおける高周波信号が伝送される全回路
長、即ち、接続端子13aから接続端子13bまでの全
回路長をL1、回路基板上の全回路長、則ち、高周波線
路12a、高周波線路12b、高周波線路12cの各長
さの合計(L21+L22+L23)をL2としたとき、L2/
L1で表される比率が0.5以下、特に0.4以下、さ
らには0.2以下とすることが重要である。
全体の高周波信号の伝送損失を低減するために、回路基
板B上の高周波線路長をできるだけ短くする。通常、回
路基板上の高周波線路は高周波信号をある位置から別の
位置まで伝送させるために存在するが、本発明では、回
路基板上でパッケージとパッケージを接続するための接
続パターンとして用いられる。具体的には、上記の高周
波モジュールにおける高周波信号が伝送される全回路
長、即ち、接続端子13aから接続端子13bまでの全
回路長をL1、回路基板上の全回路長、則ち、高周波線
路12a、高周波線路12b、高周波線路12cの各長
さの合計(L21+L22+L23)をL2としたとき、L2/
L1で表される比率が0.5以下、特に0.4以下、さ
らには0.2以下とすることが重要である。
【0025】即ち、モジュール内の高周波線路におい
て、信号処理に寄与しない回路基板上の高周波線路の距
離(長さ)をできるだけ短くすることが必要である。通
常、高周波素子パッケージは、素子を搭載し封止するた
めの必要最小限の大きさに設計され、これを更に小さく
することは困難である。回路基板上の高周波線路は高周
波信号を伝送させるだけなので、回路設計や部品レイア
ウトの工夫により短くできる可能性がある。高周波信号
が回路基板を伝送する長さをモジュール全体の高周波回
路長の0.5以下にするために、回路基板B側の高周波
線路を伝送線路としてではなく、むしろパッケージとパ
ッケージを接続するための接続パターンとして使用する
ことにより、モジュール全体における高周波信号伝送の
損失を低減することができる。
て、信号処理に寄与しない回路基板上の高周波線路の距
離(長さ)をできるだけ短くすることが必要である。通
常、高周波素子パッケージは、素子を搭載し封止するた
めの必要最小限の大きさに設計され、これを更に小さく
することは困難である。回路基板上の高周波線路は高周
波信号を伝送させるだけなので、回路設計や部品レイア
ウトの工夫により短くできる可能性がある。高周波信号
が回路基板を伝送する長さをモジュール全体の高周波回
路長の0.5以下にするために、回路基板B側の高周波
線路を伝送線路としてではなく、むしろパッケージとパ
ッケージを接続するための接続パターンとして使用する
ことにより、モジュール全体における高周波信号伝送の
損失を低減することができる。
【0026】高周波素子パッケージAの誘電体基板およ
び回路基板Bの誘電体基板を形成する材料としては、ア
ルミナ、AlN、Si3N4、ムライトなどを主成分とす
るセラミック材料、ガラス材料、ガラスセラミック材
料、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、テフロンなどのフ
ッ素系樹脂などの有機樹脂系材料、有機樹脂−セラミッ
ク複合系材料などが用いられる。
び回路基板Bの誘電体基板を形成する材料としては、ア
ルミナ、AlN、Si3N4、ムライトなどを主成分とす
るセラミック材料、ガラス材料、ガラスセラミック材
料、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、テフロンなどのフ
ッ素系樹脂などの有機樹脂系材料、有機樹脂−セラミッ
ク複合系材料などが用いられる。
【0027】高周波素子パッケージの誘電体基板として
は、誘電損失が小さいとともに、気密封止が可能である
ことが好適である。特に望ましい誘電体材料としては、
アルミナ、AlN、ガラスセラミックス等の無機材料が
挙げられる。
は、誘電損失が小さいとともに、気密封止が可能である
ことが好適である。特に望ましい誘電体材料としては、
アルミナ、AlN、ガラスセラミックス等の無機材料が
挙げられる。
【0028】また、回路基板の誘電体基板としては、誘
電損失が小さいとともに低価格であることが好適であ
る。特に望ましい誘電体材料としては、ガラス−フッ素
樹脂、ガラス−エポキシ樹脂等の有機樹脂含有絶縁材料
が挙げられる。
電損失が小さいとともに低価格であることが好適であ
る。特に望ましい誘電体材料としては、ガラス−フッ素
樹脂、ガラス−エポキシ樹脂等の有機樹脂含有絶縁材料
が挙げられる。
【0029】最も好適な組み合わせとして、高周波素子
パッケージの誘電体基板が、アルミナからなり、回路基
板の誘電体基板がガラス−エポキシ樹脂からなることが
性能とコストの面から望ましい。
パッケージの誘電体基板が、アルミナからなり、回路基
板の誘電体基板がガラス−エポキシ樹脂からなることが
性能とコストの面から望ましい。
【0030】なお、高周波モジュール上の高周波回路長
において、高周波素子内の回路網については、実質無視
し、高周波素子内の回路長は、素子の高周波線路と接続
される電極間の距離とみなす。また、高周波素子パッケ
ージと回路基板との境界部は、接続部における中心位置
とする。
において、高周波素子内の回路網については、実質無視
し、高周波素子内の回路長は、素子の高周波線路と接続
される電極間の距離とみなす。また、高周波素子パッケ
ージと回路基板との境界部は、接続部における中心位置
とする。
【0031】本発明の高周波モジュールにおいて、図1
で説明した高周波モジュールは、回路基板の大きさが小
さく、パッケージのみで前記回路長の比率を満足するこ
とができるが、回路設計の上で、回路基板のサイズが高
周波素子パッケージのサイズよりも非常に大きい場合、
高周波素子パッケージ内の高周波回路長のみでは、前記
の回路長の比率を満足させることが難しい。
で説明した高周波モジュールは、回路基板の大きさが小
さく、パッケージのみで前記回路長の比率を満足するこ
とができるが、回路設計の上で、回路基板のサイズが高
周波素子パッケージのサイズよりも非常に大きい場合、
高周波素子パッケージ内の高周波回路長のみでは、前記
の回路長の比率を満足させることが難しい。
【0032】かかるような場合、図2に示すように、回
路基板Bの表面に高周波パッケージA以外に、配線基板
Cを回路基板Bの表面に実装する。この配線基板Cは、
回路基板Bの誘電体基板よりも低い誘電損失の誘電体材
料からなる誘電体基板20とその表面に形成された高周
波線路21とを具備する。また、高周波線路21の両端
には、接続端子22がそれぞれ設けられている。
路基板Bの表面に高周波パッケージA以外に、配線基板
Cを回路基板Bの表面に実装する。この配線基板Cは、
回路基板Bの誘電体基板よりも低い誘電損失の誘電体材
料からなる誘電体基板20とその表面に形成された高周
波線路21とを具備する。また、高周波線路21の両端
には、接続端子22がそれぞれ設けられている。
【0033】そして、この配線基板Cを回路基板Bの表
面にて所定間隔をもって形成されたの高周波線路23に
対して、高周波線路21形成面が回路基板B側に対向す
るように載置し、回路基板Bの高周波線路23と配線基
板Cの接続端子22とを半田などの導電性接着剤によっ
て接続する。
面にて所定間隔をもって形成されたの高周波線路23に
対して、高周波線路21形成面が回路基板B側に対向す
るように載置し、回路基板Bの高周波線路23と配線基
板Cの接続端子22とを半田などの導電性接着剤によっ
て接続する。
【0034】かかる構成によって、回路基板B上を伝送
された信号は、配線基板C実装部分で、配線基板C側の
高周波線路21にバイパスされることになる。この配線
基板Cの誘電体基板20の誘電損失は回路基板の誘電体
基板25よりも低いために配線基板C側の高周波線路を
伝送させることによって、信号の減衰を低減することが
可能となる。
された信号は、配線基板C実装部分で、配線基板C側の
高周波線路21にバイパスされることになる。この配線
基板Cの誘電体基板20の誘電損失は回路基板の誘電体
基板25よりも低いために配線基板C側の高周波線路を
伝送させることによって、信号の減衰を低減することが
可能となる。
【0035】また、このような構成において、高周波モ
ジュール内の全高周波回路長をL1、回路基板B上の全
高周波回路長(L21+L22+L23+L24)をL2とした
時、L2/L1が0.5以下、特に0.4以下、さらに
0.2以下となるように調整することが可能となる。
ジュール内の全高周波回路長をL1、回路基板B上の全
高周波回路長(L21+L22+L23+L24)をL2とした
時、L2/L1が0.5以下、特に0.4以下、さらに
0.2以下となるように調整することが可能となる。
【0036】このように配線基板Cを用いることによっ
て回路基板Bのサイズが大きい場合においても、上記の
高周波回路長の比率を0.5以下に容易に調整すること
が可能となる。
て回路基板Bのサイズが大きい場合においても、上記の
高周波回路長の比率を0.5以下に容易に調整すること
が可能となる。
【0037】なお、この図2においては、配線基板Cの
高周波線路21は、誘電体基板20の表面に被着形成さ
れた単なる線路によって形成したが、この配線基板Cに
おいては、もちろん誘電体基板の表面、裏面および内部
に所定の高周波回路を形成してもよい。
高周波線路21は、誘電体基板20の表面に被着形成さ
れた単なる線路によって形成したが、この配線基板Cに
おいては、もちろん誘電体基板の表面、裏面および内部
に所定の高周波回路を形成してもよい。
【0038】なお、上記の図1および図2に示した高周
波モジュールにおいては、説明の便宜上、高周波回路が
一本の線路によって形成された場合について説明した
が、この高周波回路は、当然2本以上の高周波線路によ
って構成されていてもよく、その場合においてもそれら
2本以上の高周波線路の合計長が全高周波回路長とな
る。但し、回路基板や高周波素子パッケージ内の電源、
制御信号、中間周波信号などの信号が伝送される回路に
ついては高周波回路から除外する。即ち、本発明の高周
波回路とは、搬送波近傍の周波数の信号が伝送する回路
を意味するものである。
波モジュールにおいては、説明の便宜上、高周波回路が
一本の線路によって形成された場合について説明した
が、この高周波回路は、当然2本以上の高周波線路によ
って構成されていてもよく、その場合においてもそれら
2本以上の高周波線路の合計長が全高周波回路長とな
る。但し、回路基板や高周波素子パッケージ内の電源、
制御信号、中間周波信号などの信号が伝送される回路に
ついては高周波回路から除外する。即ち、本発明の高周
波回路とは、搬送波近傍の周波数の信号が伝送する回路
を意味するものである。
【0039】
【実施例】本発明の効果を確認すべく、以下の実験を行
なった。まず、10GHzにおける誘電正接が0.00
06のアルミナセラミックスを用いて誘電体基板を作製
し、さらに誘電体基板の表面および裏面に導体材料とし
てタングステンを用いてマイクロストリップ線路を形成
し、表面および裏面のマイクロストリップ線路の端部を
スルーホール導体によって接続し、図1で示したような
高周波素子パッケージAの評価用サンプルを作製した。
評価用サンプルは、図1の高周波素子を搭載する凹部は
形成せず、入力端子と出力端子をパッケージ内で直接タ
ングステンメタライズで接続し、金属からなる蓋体を誘
電体基板の枠体表面に接着し、気密に封止した2つの評
価用サンプルを作製した。
なった。まず、10GHzにおける誘電正接が0.00
06のアルミナセラミックスを用いて誘電体基板を作製
し、さらに誘電体基板の表面および裏面に導体材料とし
てタングステンを用いてマイクロストリップ線路を形成
し、表面および裏面のマイクロストリップ線路の端部を
スルーホール導体によって接続し、図1で示したような
高周波素子パッケージAの評価用サンプルを作製した。
評価用サンプルは、図1の高周波素子を搭載する凹部は
形成せず、入力端子と出力端子をパッケージ内で直接タ
ングステンメタライズで接続し、金属からなる蓋体を誘
電体基板の枠体表面に接着し、気密に封止した2つの評
価用サンプルを作製した。
【0040】一方、10GHzにおける誘電正接が0.
05であるガラス織布にエポキシ樹脂を含浸した複合材
料を用いて誘電体基板を作製し、さらにその表面に導体
材料として銅を用いてマイクロストリップ線路を形成
し、図1に示した構造の回路基板Bを作製した。なお、
回路基板のマイクロストリップ線路を引回し、回路基板
における高周波線路長が異なる数種の回路基板を準備し
た。
05であるガラス織布にエポキシ樹脂を含浸した複合材
料を用いて誘電体基板を作製し、さらにその表面に導体
材料として銅を用いてマイクロストリップ線路を形成
し、図1に示した構造の回路基板Bを作製した。なお、
回路基板のマイクロストリップ線路を引回し、回路基板
における高周波線路長が異なる数種の回路基板を準備し
た。
【0041】さらに、配線基板として、10GHzにお
ける誘電正接が0.0006であるアルミナを用いて誘
電体基板を形成し、その誘電体基板表面に導体材料とし
てタングステンを用いてコプレーナ線路を形成し、図2
に示した構造の配線基板Cを作製した。
ける誘電正接が0.0006であるアルミナを用いて誘
電体基板を形成し、その誘電体基板表面に導体材料とし
てタングステンを用いてコプレーナ線路を形成し、図2
に示した構造の配線基板Cを作製した。
【0042】そして、上記の評価用サンプルと配線基板
を回路基板の表面に半田を用いて実装した。
を回路基板の表面に半田を用いて実装した。
【0043】なお、各モジュールにおける全高周波回路
長L1と回路基板上の全高周波回路長L2とのL2/L1比
を表に示した。
長L1と回路基板上の全高周波回路長L2とのL2/L1比
を表に示した。
【0044】そして、高周波モジュールにおける回路基
板の端部に形成された接続端子間における周波数1GH
z、10GHzの高周波信号の伝送損失を評価し、その
結果を表1に示した。
板の端部に形成された接続端子間における周波数1GH
z、10GHzの高周波信号の伝送損失を評価し、その
結果を表1に示した。
【0045】
【表1】
【0046】表1の結果によれば、周波数が1GHzと
低周波の場合には、いずれの場合においても損失はすべ
て0.5dB以下で問題とならないが、周波数が10G
Hzと高周波になると、比較品では損失が2dBを超
え、回路動作上問題になる場合が出てくる。本発明に基
づき、L2/L1比が0.5以下、特に0.2以下とする
ことによって、損失は2dB以下となり優れた伝送特性
を示した。
低周波の場合には、いずれの場合においても損失はすべ
て0.5dB以下で問題とならないが、周波数が10G
Hzと高周波になると、比較品では損失が2dBを超
え、回路動作上問題になる場合が出てくる。本発明に基
づき、L2/L1比が0.5以下、特に0.2以下とする
ことによって、損失は2dB以下となり優れた伝送特性
を示した。
【0047】
【発明の効果】 以上詳述した通り、本発明の高周波モ
ジュールによれば、回路基板上の全高周波回路の長さを
モジュールの全高周波回路長の1/2以下に設定するこ
とによって、高周波素子を個別にパッケージ化した場合
においても、モジュール全体としての高周波信号の損失
を低減することができる。
ジュールによれば、回路基板上の全高周波回路の長さを
モジュールの全高周波回路長の1/2以下に設定するこ
とによって、高周波素子を個別にパッケージ化した場合
においても、モジュール全体としての高周波信号の損失
を低減することができる。
【図1】本発明の高周波モジュールの一例を説明するた
めの概略断面図である。
めの概略断面図である。
【図2】本発明の高周波モジュールの他の例を説明する
ための概略断面図である。
ための概略断面図である。
【図3】従来のマルチチップモジュールの構造を説明す
るための概略断面図である。
るための概略断面図である。
1 誘電体基板 2 高周波素子 3 蓋体 4 高周波線路 5 スルーホール導体 6 接続端子 7 グランド層 8 開口 A パッケージ B 回路基板 C 配線基板
Claims (8)
- 【請求項1】第1の誘電体基板と、該第1の誘電体基板
の表面に被着形成され、少なくとも一対の接続端子を具
備する第1の高周波線路とを具備する回路基板と、第2
の誘電体基板と、該第2の誘電体基板表面に搭載された
高周波素子と、前記第2の誘電体基板に形成され、前記
高周波素子と接続されてなる第2の高周波線路と、外部
回路と接続するために設けられた接続端子とを有する複
数の高周波素子パッケージとを具備し、前記複数の高周
波素子パッケージを前記回路基板の表面に実装してなる
高周波モジュールであって、前記モジュール内の全高周
波回路長をL1、前記回路基板内の全高周波回路長をL2
とした時、L2/L1で表される長さ比が0.5以下であ
ることを特徴とする高周波モジュール。 - 【請求項2】前記第1の誘電体基板が有機樹脂含有絶縁
材料からなり、前記第2の誘電体基板が、セラミックス
からなることを特徴とする請求項1記載の高周波モジュ
ール。 - 【請求項3】前記第2の誘電体基板の誘電損失が前記第
1の誘電体基板よりも小さいことを特徴とする請求項1
または請求項2記載の高周波モジュール。 - 【請求項4】前記高周波線路に周波数10GHz以上の
高周波信号が伝送される請求項1乃至請求項3のいずれ
か記載の高周波モジュール。 - 【請求項5】第1の誘電体基板と、該第1の誘電体基板
の表面に被着形成され、少なくとも一対の接続端子とを
具備する第1の高周波線路とを有する回路基板と、第2
の誘電体基板と、該第2の誘電体基板表面に搭載された
高周波素子と、前記第2の誘電体基板に形成され、前記
高周波素子と接続されてなる第2の高周波線路と、外部
回路と接続するために設けられた接続端子とを有する複
数の高周波素子パッケージと、第3の誘電体基板と、該
第3の誘電体基板に形成された第3の高周波線路と、外
部回路と接続するために設けられた接続端子とを有する
配線基板と、を具備し、前記回路基板の表面に、前記複
数の高周波素子パッケージおよび前記配線基板を実装し
てなる高周波モジュールであって、前記モジュール内の
全高周波回路長をL1、前記回路基板内の全高周波回路
長をL2とした時、L 2/L1で表される長さ比が0.5
以下であることを特徴とする高周波モジュール。 - 【請求項6】前記第1の誘電体基板が有機樹脂含有絶縁
材料からなり、前記第2の誘電体基板および前記第3の
誘電体基板が、セラミックスからなることを特徴とする
請求項5記載の高周波モジュール。 - 【請求項7】前記第3の誘電体基板の誘電損失が前記第
1の誘電体基板よりも小さいことを特徴とする請求項5
または請求項6記載の高周波モジュール。 - 【請求項8】前記高周波線路に周波数10GHz以上の
高周波信号が伝送される請求項5乃至請求項7のいずれ
か記載の高周波モジュール。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010161416A (ja) * | 2010-04-07 | 2010-07-22 | Hitachi Ltd | 電子装置 |
JP2010192918A (ja) * | 2002-04-29 | 2010-09-02 | Interconnect Portfolio Llc | ダイレクト・コネクト形信号システム |
JP2016163006A (ja) * | 2015-03-05 | 2016-09-05 | 株式会社東芝 | マイクロ波半導体パッケージ及びマイクロ波半導体モジュール |
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2000
- 2000-02-29 JP JP2000053999A patent/JP2001244409A/ja active Pending
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---|---|---|---|---|
JP2010192918A (ja) * | 2002-04-29 | 2010-09-02 | Interconnect Portfolio Llc | ダイレクト・コネクト形信号システム |
JP2010161416A (ja) * | 2010-04-07 | 2010-07-22 | Hitachi Ltd | 電子装置 |
JP2016163006A (ja) * | 2015-03-05 | 2016-09-05 | 株式会社東芝 | マイクロ波半導体パッケージ及びマイクロ波半導体モジュール |
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