JP2001220371A - 光学活性ベンズヒドロール類の製造法 - Google Patents
光学活性ベンズヒドロール類の製造法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】医薬の合成原料等として有用な光学活性ベンズ
ヒドロール類の製造法の提供。 【解決手段】一般式（Ｉ） 【化１】 〔式中、Ｒ1およびＲ2は同一又は異なり、水素原子等
を、Ａ環およびＢ環は更に置換基を有してもよいベンゼ
ン環を示す〕で表される化合物又はその塩を、一般式
（III） ＰＲ3Ｒ4Ｒ5 〔式中、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は、同一又は異なり、置換
基を有してもよい炭化水素基等を示す〕等で表されるホ
スフィン又はその塩、一般式（Ｖ） ＮＨＲ8Ｒ9 〔式中、Ｒ8およびＲ9は、同一又は異なり、水素原子等
を示す〕等で表されるアミン又はその塩、およびルテニ
ウム錯体から製造され、単離された光学活性なルテニウ
ム−ホスフィン−アミン錯体および塩基の存在下に水素
化することを特徴とする、一般式（II） 【化２】 〔式中、＊は不斉炭素の位置を、その他の記号は前記と
同意義を示す〕で表される化合物又はその塩の光学活性
体の製造法。
ヒドロール類の製造法の提供。 【解決手段】一般式（Ｉ） 【化１】 〔式中、Ｒ1およびＲ2は同一又は異なり、水素原子等
を、Ａ環およびＢ環は更に置換基を有してもよいベンゼ
ン環を示す〕で表される化合物又はその塩を、一般式
（III） ＰＲ3Ｒ4Ｒ5 〔式中、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は、同一又は異なり、置換
基を有してもよい炭化水素基等を示す〕等で表されるホ
スフィン又はその塩、一般式（Ｖ） ＮＨＲ8Ｒ9 〔式中、Ｒ8およびＲ9は、同一又は異なり、水素原子等
を示す〕等で表されるアミン又はその塩、およびルテニ
ウム錯体から製造され、単離された光学活性なルテニウ
ム−ホスフィン−アミン錯体および塩基の存在下に水素
化することを特徴とする、一般式（II） 【化２】 〔式中、＊は不斉炭素の位置を、その他の記号は前記と
同意義を示す〕で表される化合物又はその塩の光学活性
体の製造法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、医薬の合成原料な
どとして有用な光学活性ベンズヒドロール類の製造法に
関する。
どとして有用な光学活性ベンズヒドロール類の製造法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】光学活性なアルコール類を製造する方法
としては、パン酵母を使ってカルボニル化合物を不斉還
元する方法、酵素を用いてラセミのアルコール体を光学
分割する方法、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)を用
いてラセミのアルコール体を光学分割する方法、不斉水
素化触媒を用いてカルボニル化合物を不斉還元する方法
などが知られている。しかし、パン酵母を使ってカルボ
ニル化合物を不斉還元してラセミのアルコール体を得る
方法は、比較的高い光学純度のアルコール体が得られる
ものの、アルコール体の絶対配置が限られていたり、操
作が煩雑であるなどの難点がある。また、酵素を使って
ラセミのアルコール体を光学分割する方法は、理論収率
が最大でも50%であり効率的でない。高速液体クロマト
グラフィー(HPLC)を用いてラセミのアルコール体を光学
分割する方法は、大量処理は困難であるうえに理論収率
が最大でも50%であり効率的でない。
としては、パン酵母を使ってカルボニル化合物を不斉還
元する方法、酵素を用いてラセミのアルコール体を光学
分割する方法、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)を用
いてラセミのアルコール体を光学分割する方法、不斉水
素化触媒を用いてカルボニル化合物を不斉還元する方法
などが知られている。しかし、パン酵母を使ってカルボ
ニル化合物を不斉還元してラセミのアルコール体を得る
方法は、比較的高い光学純度のアルコール体が得られる
ものの、アルコール体の絶対配置が限られていたり、操
作が煩雑であるなどの難点がある。また、酵素を使って
ラセミのアルコール体を光学分割する方法は、理論収率
が最大でも50%であり効率的でない。高速液体クロマト
グラフィー(HPLC)を用いてラセミのアルコール体を光学
分割する方法は、大量処理は困難であるうえに理論収率
が最大でも50%であり効率的でない。
【０００３】不斉水素化触媒を用いてカルボニル化合物
を不斉還元する方法としては、例えば次のような報告が
ある。特開平11-189600には、ルテニウム錯体、なかで
もホスフィン配位子およびアミン配位子の少なくとも一
方が光学活性基であるルテニウム錯体を触媒に用いて、
カルボニル化合物を水素あるいは水素を供与する化合物
の存在下に還元してアルコール化合物を製造する方法が
記載されている。しかしながら、該方法をベンゾフェノ
ン類へ適用し、光学活性ベンズヒドロール類を製造する
ことは記載されていない。特開平9-235255には、ベンゾ
フェノン誘導体またはその塩を不斉水素化触媒の存在下
に水素化することを特徴とするベンズヒドロール誘導体
またはその塩の光学活性体の製造法が記載されている。
該方法において、光学活性ルテニウム-ホスフィン錯体
と光学活性アミン配位子を反応系中に添加し、高水素圧
下かつ高温度下で水素化が行われている。特開平11-189
558には、遷移金属触媒と光学活性含窒素化合物と塩基
の存在下に水素と反応させて不斉水素化し、光学活性ア
ルコール類を製造する方法が記載されている。しかしな
がら、該方法において、ホスフィン配位子を有するルテ
ニウム-ホスフィン-アミン錯体を用いることは記載され
ていない。
を不斉還元する方法としては、例えば次のような報告が
ある。特開平11-189600には、ルテニウム錯体、なかで
もホスフィン配位子およびアミン配位子の少なくとも一
方が光学活性基であるルテニウム錯体を触媒に用いて、
カルボニル化合物を水素あるいは水素を供与する化合物
の存在下に還元してアルコール化合物を製造する方法が
記載されている。しかしながら、該方法をベンゾフェノ
ン類へ適用し、光学活性ベンズヒドロール類を製造する
ことは記載されていない。特開平9-235255には、ベンゾ
フェノン誘導体またはその塩を不斉水素化触媒の存在下
に水素化することを特徴とするベンズヒドロール誘導体
またはその塩の光学活性体の製造法が記載されている。
該方法において、光学活性ルテニウム-ホスフィン錯体
と光学活性アミン配位子を反応系中に添加し、高水素圧
下かつ高温度下で水素化が行われている。特開平11-189
558には、遷移金属触媒と光学活性含窒素化合物と塩基
の存在下に水素と反応させて不斉水素化し、光学活性ア
ルコール類を製造する方法が記載されている。しかしな
がら、該方法において、ホスフィン配位子を有するルテ
ニウム-ホスフィン-アミン錯体を用いることは記載され
ていない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】医薬の合成原料として
有用な光学活性ベンズヒドロール類を製造するにあた
り、緩和な反応条件下で、効率的かつ高収率で光学活性
ベンズヒドロール類を得ることのできる工業的大量生産
に有利な製造法の開発が求められている。
有用な光学活性ベンズヒドロール類を製造するにあた
り、緩和な反応条件下で、効率的かつ高収率で光学活性
ベンズヒドロール類を得ることのできる工業的大量生産
に有利な製造法の開発が求められている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、光学活性
ベンズヒドロール類の製造法として、不斉還元法を鋭意
研究したところ、ルテニウム錯体とホスフィン類とアミ
ン類から導かれるルテニウム-ホスフィン-アミン錯体を
予め単離、好ましくは精製して用いることによって、予
想外にも原料の種類に大きく影響されることなく、低水
素圧かつ室温付近（例えば10℃から50℃）という緩和な
反応条件下でも、効率的かつ高収率で光学活性ベンズヒ
ドロール類が得られることを初めて見出し、この知見に
基づいて本発明を完成するに至った。すなわち、本発明
は、 １）一般式（Ｉ）
ベンズヒドロール類の製造法として、不斉還元法を鋭意
研究したところ、ルテニウム錯体とホスフィン類とアミ
ン類から導かれるルテニウム-ホスフィン-アミン錯体を
予め単離、好ましくは精製して用いることによって、予
想外にも原料の種類に大きく影響されることなく、低水
素圧かつ室温付近（例えば10℃から50℃）という緩和な
反応条件下でも、効率的かつ高収率で光学活性ベンズヒ
ドロール類が得られることを初めて見出し、この知見に
基づいて本発明を完成するに至った。すなわち、本発明
は、 １）一般式（Ｉ）
【化３】 〔式中、Ｒ1およびＲ2は、同一または異なって、水素原
子、置換基を有していてもよい炭化水素基または置換基
を有していてもよいアシル基を、Ａ環およびＢ環はさら
に置換基を有していてもよいベンゼン環を示す〕で表さ
れる化合物またはその塩を、一般式（III） ＰＲ3Ｒ4Ｒ5 〔式中、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は、同一または異なって、
置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、Ｒ3とＲ4
とは互いに結合して置換基を有していてもよい環状炭化
水素を形成していてもよい〕または一般式（IV） Ｒ3Ｒ4Ｐ−Ｗ−ＰＲ6Ｒ7 〔式中、Ｗは２価の炭化水素基を、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ6およ
びＲ7は、同一または異なって、置換基を有していても
よい炭化水素基を示し、Ｒ3とＲ4とは互いに結合して置
換基を有していてもよい環状炭化水素を形成していても
よく、Ｒ6とＲ7とは互いに結合して置換基を有していて
もよい環状炭化水素を形成していてもよい〕で表される
ホスフィンまたはその塩、一般式（Ｖ） ＮＨＲ8Ｒ9 〔式中、Ｒ8およびＲ9は、同一または異なって、水素原
子または置換基を有していてもよい炭化水素基を示す〕
または一般式（VI） Ｒ8ＨＮ−Ｚ−ＮＨＲ9 〔式中、Ｚは２価の炭化水素残基を、Ｒ8およびＲ9は、
同一または異なって、水素原子または置換基を有してい
てもよい炭化水素基を示す〕で表されるアミンまたはそ
の塩、およびルテニウム錯体から製造され、単離された
光学活性なルテニウム−ホスフィン−アミン錯体および
塩基の存在下に水素化することを特徴とする、一般式
（II）
子、置換基を有していてもよい炭化水素基または置換基
を有していてもよいアシル基を、Ａ環およびＢ環はさら
に置換基を有していてもよいベンゼン環を示す〕で表さ
れる化合物またはその塩を、一般式（III） ＰＲ3Ｒ4Ｒ5 〔式中、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は、同一または異なって、
置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、Ｒ3とＲ4
とは互いに結合して置換基を有していてもよい環状炭化
水素を形成していてもよい〕または一般式（IV） Ｒ3Ｒ4Ｐ−Ｗ−ＰＲ6Ｒ7 〔式中、Ｗは２価の炭化水素基を、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ6およ
びＲ7は、同一または異なって、置換基を有していても
よい炭化水素基を示し、Ｒ3とＲ4とは互いに結合して置
換基を有していてもよい環状炭化水素を形成していても
よく、Ｒ6とＲ7とは互いに結合して置換基を有していて
もよい環状炭化水素を形成していてもよい〕で表される
ホスフィンまたはその塩、一般式（Ｖ） ＮＨＲ8Ｒ9 〔式中、Ｒ8およびＲ9は、同一または異なって、水素原
子または置換基を有していてもよい炭化水素基を示す〕
または一般式（VI） Ｒ8ＨＮ−Ｚ−ＮＨＲ9 〔式中、Ｚは２価の炭化水素残基を、Ｒ8およびＲ9は、
同一または異なって、水素原子または置換基を有してい
てもよい炭化水素基を示す〕で表されるアミンまたはそ
の塩、およびルテニウム錯体から製造され、単離された
光学活性なルテニウム−ホスフィン−アミン錯体および
塩基の存在下に水素化することを特徴とする、一般式
（II）
【化４】 〔式中、＊は不斉炭素の位置を、その他の記号は前記と
同意義を示す〕で表される化合物またはその塩の光学活
性体の製造法； ２）Ａ環およびＢ環がさらに有していてもよい置換基
が、ハロゲン原子、置換されていてもよいヒドロキシ
基、置換されていてもよいアルキル基および置換されて
いてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアシル
基、エステル化されていてもよいカルボキシル基から選
ばれる１ないし４個である前記１）記載の製造法； ３）ホスフィンが光学活性ホスフィンである前記１）記
載の製造法； ４）アミンが光学活性アミンである前記１）記載の製造
法； ５）ホスフィンが光学活性ホスフィンであり、アミンが
光学活性アミンである前記１）記載の製造法； ６）ルテニウム-ホスフィン-アミン錯体が一般式（VI
I） ＲｕＸＹ（ＰＲ3Ｒ4Ｒ5）ｍ（ＮＨＲ8Ｒ9）ｎ ［式中、ＸおよびＹは同一または異なって水素原子、ハ
ロゲン原子またはカルボキシル基を、ｍおよびｎは同一
または異なって０ないし４の整数を、その他の記号は前
記１）記載と同意義を示す］で表される錯体である前記
１）記載の製造法； ７）ルテニウム-ホスフィン-アミン錯体が一般式（VII
I） ＲｕＸＹ（ＰＲ3Ｒ4Ｒ5）ｍ（Ｒ8ＨＮ−Ｚ−ＮＨＲ9）
ｎ ［式中、ＸおよびＹは同一または異なって水素原子、ハ
ロゲン原子またはカルボキシル基を、ｍおよびｎは同一
または異なって０ないし４の整数を、その他の記号は前
記１）記載と同意義を示す］で表される錯体である前記
１）記載の製造法； ８）ルテニウム-ホスフィン-アミン錯体が一般式（IX） ＲｕＸＹ（Ｒ3Ｒ4Ｐ−Ｗ−ＰＲ6Ｒ7）ｍ（ＮＨＲ8Ｒ9）
ｎ ［式中、ＸおよびＹは同一または異なって水素原子、ハ
ロゲン原子またはカルボキシル基を、ｍおよびｎは同一
または異なって０ないし４の整数を、その他の記号は前
記１）記載と同意義を示す］で表される錯体である前記
１）記載の製造法； ９）ルテニウム-ホスフィン-アミン錯体が一般式（Ｘ） ＲｕＸＹ（Ｒ3Ｒ4Ｐ−Ｗ−ＰＲ6Ｒ7）ｍ（Ｒ8ＨＮ−Ｚ
−ＮＨＲ9）ｎ ［式中、ＸおよびＹは同一または異なって水素原子、ハ
ロゲン原子またはカルボキシル基を、ｍおよびｎは同一
または異なって０ないし４の整数を、その他の記号は前
記１）記載と同意義を示す］で表される錯体である前記
１）記載の製造法； １０）ルテニウム-ホスフィン-アミン錯体が一般式（X
I） ＲｕＸＹ（xylBINAP）（DAIPEN） ［式中、ＸおよびＹは同一または異なって水素原子、ハ
ロゲン原子またはカルボキシル基を、xylBINAPは2，2’
-ビス〔ビス（3，5-ジメチルフェニル）ホスフィノ〕-
1，1’-ビナフチルを、DAIPENは1-イソプロピル-2，2-
ビス（p-メトキシフェニル）エチレンジアミンを示し、
xylBINAPおよびDAIPENの少なくとも一方は光学活性基を
示す］で表される錯体である前記９）記載の製造法； １１）ルテニウム-ホスフィン-アミン錯体が一般式（XI
I） ＲｕＸＹ（BINAP）（DPEN） ［式中、ＸおよびＹは同一または異なって水素原子、ハ
ロゲン原子またはカルボキシル基を、BINAPは2，2’-ビ
ス（ジフェニルホスフィノ）-1，1’-ビナフチルを、DP
ENは1，2-ジフェニルエチレンジアミンを示し、BINAPお
よびDPENの少なくとも一方は光学活性基を示す］で表さ
れる錯体である前記９）記載の製造法； １２）塩基が一般式（XIII） Ｍ（Ｙ1）ｑ ［式中、Ｍはアルカリ金属またはアルカリ土類金属を、
Ｙ1はヒドロキシ基、アルコキシ基またはアルキルチオ
基を、ｑは１または２を示す］で表される化合物である
前記１）記載の製造法； １３）（2-アミノ-5-クロロフェニル）(2,3-ジメトキシ
フェニル)メタノンまたはその塩を、xylBINAPまたはそ
の塩、DAIPENまたはその塩、およびルテニウム錯体から
製造され、単離された光学活性なルテニウム−ホスフィ
ン−アミン錯体［式中、xylBINAPは2，2’-ビス〔ビス
（3，5-ジメチルフェニル）ホスフィノ〕-1，1’-ビナ
フチルを、DAIPENは1-イソプロピル-2，2-ビス（p-メト
キシフェニル）エチレンジアミンを示し、xylBINAPおよ
びDAIPENの少なくとも一方は光学活性体を示す］および
塩基の存在下に水素化することを特徴とする、（2−ア
ミノ−5−クロロフェニル）（2，3−ジメトキシフェニ
ル）メタノールまたはその塩の光学活性体の製造法； １４）請求項１３記載の方法で得られる（2−アミノ−5
−クロロフェニル）（2，3−ジメトキシフェニル）メタ
ノールまたはその塩の光学活性体を、 Ｎ−アシル化して2-[Ｎ-（2，3-ジメトキシ−α−ヒ
ドロキシベンジル）−4−クロロフェニル]カルバモイル
−2，2-ジメチル酢酸エチルの光学活性体を製造し、 次いで還元して[5-クロロ−2−（3-ヒドロキシ−2，2
−ジメチルプロピル）アミノフェニル]（2，3-ジメトキ
シフェニル）メタノールまたはその塩の光学活性体を製
造し、 次いで環化反応に付して7-クロロ‐5−(2，3‐ジメト
キシフェニル)−1-(3-ヒドロキシ−2，2−ジメチルプロ
ピル)-2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒドロ−4，1−
ベンゾオキサゼピン−3−酢酸エチルの光学活性体を製
造し、 次いで加水分解して7-クロロ‐5−(2，3‐ジメトキシ
フェニル)−1-(3-ヒドロキシ−2，2−ジメチルプロピ
ル)-2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒドロ−4，1−ベ
ンゾオキサゼピン−3−酢酸またはその塩の光学活性体
を製造し、 次いでアミド化してＮ−[1-(2，2−ジメチルプロピル
−3-ヒドロキシ)-7-クロロ‐5−(2，3‐ジメトキシフェ
ニル)−2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒドロ−4，1−
ベンゾオキサゼピン−3−アセチル]ピペリジン−4−酢
酸エチルの光学活性体を製造し、 次いで加水分解してＮ−[1-(2，2−ジメチルプロピル
−3-ヒドロキシ)-7-クロロ‐5−(2，3‐ジメトキシフェ
ニル)−2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒドロ−4，1−
ベンゾオキサゼピン−3−アセチル]ピペリジン−4−酢
酸またはその塩の光学活性体を製造し、 次いでアセチル化することを特徴とするＮ−[1-(3-ア
セトキシ−2，2−ジメチルプロピル)-7-クロロ‐5−
(2，3‐ジメトキシフェニル)−2−オキソ−1，2，3，5
−テトラヒドロ−4，1−ベンゾオキサゼピン−3−アセ
チル]ピペリジン−4−酢酸またはその塩の光学活性体の
製造法などに関する。
同意義を示す〕で表される化合物またはその塩の光学活
性体の製造法； ２）Ａ環およびＢ環がさらに有していてもよい置換基
が、ハロゲン原子、置換されていてもよいヒドロキシ
基、置換されていてもよいアルキル基および置換されて
いてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアシル
基、エステル化されていてもよいカルボキシル基から選
ばれる１ないし４個である前記１）記載の製造法； ３）ホスフィンが光学活性ホスフィンである前記１）記
載の製造法； ４）アミンが光学活性アミンである前記１）記載の製造
法； ５）ホスフィンが光学活性ホスフィンであり、アミンが
光学活性アミンである前記１）記載の製造法； ６）ルテニウム-ホスフィン-アミン錯体が一般式（VI
I） ＲｕＸＹ（ＰＲ3Ｒ4Ｒ5）ｍ（ＮＨＲ8Ｒ9）ｎ ［式中、ＸおよびＹは同一または異なって水素原子、ハ
ロゲン原子またはカルボキシル基を、ｍおよびｎは同一
または異なって０ないし４の整数を、その他の記号は前
記１）記載と同意義を示す］で表される錯体である前記
１）記載の製造法； ７）ルテニウム-ホスフィン-アミン錯体が一般式（VII
I） ＲｕＸＹ（ＰＲ3Ｒ4Ｒ5）ｍ（Ｒ8ＨＮ−Ｚ−ＮＨＲ9）
ｎ ［式中、ＸおよびＹは同一または異なって水素原子、ハ
ロゲン原子またはカルボキシル基を、ｍおよびｎは同一
または異なって０ないし４の整数を、その他の記号は前
記１）記載と同意義を示す］で表される錯体である前記
１）記載の製造法； ８）ルテニウム-ホスフィン-アミン錯体が一般式（IX） ＲｕＸＹ（Ｒ3Ｒ4Ｐ−Ｗ−ＰＲ6Ｒ7）ｍ（ＮＨＲ8Ｒ9）
ｎ ［式中、ＸおよびＹは同一または異なって水素原子、ハ
ロゲン原子またはカルボキシル基を、ｍおよびｎは同一
または異なって０ないし４の整数を、その他の記号は前
記１）記載と同意義を示す］で表される錯体である前記
１）記載の製造法； ９）ルテニウム-ホスフィン-アミン錯体が一般式（Ｘ） ＲｕＸＹ（Ｒ3Ｒ4Ｐ−Ｗ−ＰＲ6Ｒ7）ｍ（Ｒ8ＨＮ−Ｚ
−ＮＨＲ9）ｎ ［式中、ＸおよびＹは同一または異なって水素原子、ハ
ロゲン原子またはカルボキシル基を、ｍおよびｎは同一
または異なって０ないし４の整数を、その他の記号は前
記１）記載と同意義を示す］で表される錯体である前記
１）記載の製造法； １０）ルテニウム-ホスフィン-アミン錯体が一般式（X
I） ＲｕＸＹ（xylBINAP）（DAIPEN） ［式中、ＸおよびＹは同一または異なって水素原子、ハ
ロゲン原子またはカルボキシル基を、xylBINAPは2，2’
-ビス〔ビス（3，5-ジメチルフェニル）ホスフィノ〕-
1，1’-ビナフチルを、DAIPENは1-イソプロピル-2，2-
ビス（p-メトキシフェニル）エチレンジアミンを示し、
xylBINAPおよびDAIPENの少なくとも一方は光学活性基を
示す］で表される錯体である前記９）記載の製造法； １１）ルテニウム-ホスフィン-アミン錯体が一般式（XI
I） ＲｕＸＹ（BINAP）（DPEN） ［式中、ＸおよびＹは同一または異なって水素原子、ハ
ロゲン原子またはカルボキシル基を、BINAPは2，2’-ビ
ス（ジフェニルホスフィノ）-1，1’-ビナフチルを、DP
ENは1，2-ジフェニルエチレンジアミンを示し、BINAPお
よびDPENの少なくとも一方は光学活性基を示す］で表さ
れる錯体である前記９）記載の製造法； １２）塩基が一般式（XIII） Ｍ（Ｙ1）ｑ ［式中、Ｍはアルカリ金属またはアルカリ土類金属を、
Ｙ1はヒドロキシ基、アルコキシ基またはアルキルチオ
基を、ｑは１または２を示す］で表される化合物である
前記１）記載の製造法； １３）（2-アミノ-5-クロロフェニル）(2,3-ジメトキシ
フェニル)メタノンまたはその塩を、xylBINAPまたはそ
の塩、DAIPENまたはその塩、およびルテニウム錯体から
製造され、単離された光学活性なルテニウム−ホスフィ
ン−アミン錯体［式中、xylBINAPは2，2’-ビス〔ビス
（3，5-ジメチルフェニル）ホスフィノ〕-1，1’-ビナ
フチルを、DAIPENは1-イソプロピル-2，2-ビス（p-メト
キシフェニル）エチレンジアミンを示し、xylBINAPおよ
びDAIPENの少なくとも一方は光学活性体を示す］および
塩基の存在下に水素化することを特徴とする、（2−ア
ミノ−5−クロロフェニル）（2，3−ジメトキシフェニ
ル）メタノールまたはその塩の光学活性体の製造法； １４）請求項１３記載の方法で得られる（2−アミノ−5
−クロロフェニル）（2，3−ジメトキシフェニル）メタ
ノールまたはその塩の光学活性体を、 Ｎ−アシル化して2-[Ｎ-（2，3-ジメトキシ−α−ヒ
ドロキシベンジル）−4−クロロフェニル]カルバモイル
−2，2-ジメチル酢酸エチルの光学活性体を製造し、 次いで還元して[5-クロロ−2−（3-ヒドロキシ−2，2
−ジメチルプロピル）アミノフェニル]（2，3-ジメトキ
シフェニル）メタノールまたはその塩の光学活性体を製
造し、 次いで環化反応に付して7-クロロ‐5−(2，3‐ジメト
キシフェニル)−1-(3-ヒドロキシ−2，2−ジメチルプロ
ピル)-2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒドロ−4，1−
ベンゾオキサゼピン−3−酢酸エチルの光学活性体を製
造し、 次いで加水分解して7-クロロ‐5−(2，3‐ジメトキシ
フェニル)−1-(3-ヒドロキシ−2，2−ジメチルプロピ
ル)-2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒドロ−4，1−ベ
ンゾオキサゼピン−3−酢酸またはその塩の光学活性体
を製造し、 次いでアミド化してＮ−[1-(2，2−ジメチルプロピル
−3-ヒドロキシ)-7-クロロ‐5−(2，3‐ジメトキシフェ
ニル)−2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒドロ−4，1−
ベンゾオキサゼピン−3−アセチル]ピペリジン−4−酢
酸エチルの光学活性体を製造し、 次いで加水分解してＮ−[1-(2，2−ジメチルプロピル
−3-ヒドロキシ)-7-クロロ‐5−(2，3‐ジメトキシフェ
ニル)−2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒドロ−4，1−
ベンゾオキサゼピン−3−アセチル]ピペリジン−4−酢
酸またはその塩の光学活性体を製造し、 次いでアセチル化することを特徴とするＮ−[1-(3-ア
セトキシ−2，2−ジメチルプロピル)-7-クロロ‐5−
(2，3‐ジメトキシフェニル)−2−オキソ−1，2，3，5
−テトラヒドロ−4，1−ベンゾオキサゼピン−3−アセ
チル]ピペリジン−4−酢酸またはその塩の光学活性体の
製造法などに関する。
【０００６】一般式（Ｉ）および（II）中、Ｒ1および
Ｒ2は、同一または異なって、水素原子、置換基を有し
ていてもよい炭化水素基または置換基を有していてもよ
いアシル基を示す。ここで、「置換基を有していてもよ
い炭化水素基」における炭化水素基としては、アルキル
基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニ
ル基、アリール基などが挙げられ、「置換基を有してい
てもよいアシル基」におけるアシル基としては、アルカ
ノイル基、シクロアルカノイル基、アルケノイル基、シ
クロアルケノイル基、アリールカルボニル基、アルコキ
シカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アリ
ールオキシカルボニル基などが挙げられる。
Ｒ2は、同一または異なって、水素原子、置換基を有し
ていてもよい炭化水素基または置換基を有していてもよ
いアシル基を示す。ここで、「置換基を有していてもよ
い炭化水素基」における炭化水素基としては、アルキル
基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニ
ル基、アリール基などが挙げられ、「置換基を有してい
てもよいアシル基」におけるアシル基としては、アルカ
ノイル基、シクロアルカノイル基、アルケノイル基、シ
クロアルケノイル基、アリールカルボニル基、アルコキ
シカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アリ
ールオキシカルボニル基などが挙げられる。
【０００７】アルキル基の好適な例としては、炭素数１
ないし１０のアルキル基、例えばメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチ
ル、tert-ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペン
チル、１−エチルプロピル、ヘキシル、イソヘキシル、
１，１−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、
３，３−ジメチルブチル、２−エチルブチル、ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、デシルなどが挙げられる。なか
でも、炭素数１ないし６のアルキル基が好ましく、とり
わけネオペンチルが好ましい。
ないし１０のアルキル基、例えばメチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチ
ル、tert-ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペン
チル、１−エチルプロピル、ヘキシル、イソヘキシル、
１，１−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、
３，３−ジメチルブチル、２−エチルブチル、ヘプチ
ル、オクチル、ノニル、デシルなどが挙げられる。なか
でも、炭素数１ないし６のアルキル基が好ましく、とり
わけネオペンチルが好ましい。
【０００８】シクロアルキル基の好適な例としては、炭
素数３ないし１０のシクロアルキル基、例えばシクロプ
ロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル、シクロヘプチル、シクロオクチル、ビシクロ［２．
２．１］ヘプチル、ビシクロ［２．２．２］オクチル、
ビシクロ［３．２．１］オクチル、ビシクロ［３．２．
２］ノニル、ビシクロ［３．３．１］ノニル、ビシクロ
［４．２．１］ノニル、ビシクロ［４．３．１］デシル
などが挙げられる。
素数３ないし１０のシクロアルキル基、例えばシクロプ
ロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル、シクロヘプチル、シクロオクチル、ビシクロ［２．
２．１］ヘプチル、ビシクロ［２．２．２］オクチル、
ビシクロ［３．２．１］オクチル、ビシクロ［３．２．
２］ノニル、ビシクロ［３．３．１］ノニル、ビシクロ
［４．２．１］ノニル、ビシクロ［４．３．１］デシル
などが挙げられる。
【０００９】アルケニル基の好適な例としては、炭素数
２ないし１０のアルケニル基、例えばエテニル、１−プ
ロペニル、２−プロペニル、２−メチル−１−プロペニ
ル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、３−
メチルー２−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニ
ル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、４−メチル−３
−ペンテニル、１−ヘキセニル、３−ヘキセニル、５−
ヘキセニル、１−ヘプテニル、１−オクテニルなどが挙
げられる。シクロアルケニル基の好適な例としては、炭
素数３ないし１０のシクロアルケニル基、例えば２−シ
クロペンテン−１−イル、３−シクロペンテン−１−イ
ル、２−シクロヘキセン−１−イル、３−シクロヘキセ
ン−１−イルなどが挙げられる。
２ないし１０のアルケニル基、例えばエテニル、１−プ
ロペニル、２−プロペニル、２−メチル−１−プロペニ
ル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、３−
メチルー２−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニ
ル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、４−メチル−３
−ペンテニル、１−ヘキセニル、３−ヘキセニル、５−
ヘキセニル、１−ヘプテニル、１−オクテニルなどが挙
げられる。シクロアルケニル基の好適な例としては、炭
素数３ないし１０のシクロアルケニル基、例えば２−シ
クロペンテン−１−イル、３−シクロペンテン−１−イ
ル、２−シクロヘキセン−１−イル、３−シクロヘキセ
ン−１−イルなどが挙げられる。
【００１０】アリール基の好適な例としては、炭素数６
ないし１４のアリール基、例えばフェニル、ナフチル、
アントリル、フェナントリル、アセナフチレニル、ビフ
ェニリル、トリル（ｏ−，ｍ−，ｐ−）、キシリル、メ
シチル、クメニルなどが挙げられる。なかでもフェニ
ル、ナフチルなどが好ましい。
ないし１４のアリール基、例えばフェニル、ナフチル、
アントリル、フェナントリル、アセナフチレニル、ビフ
ェニリル、トリル（ｏ−，ｍ−，ｐ−）、キシリル、メ
シチル、クメニルなどが挙げられる。なかでもフェニ
ル、ナフチルなどが好ましい。
【００１１】アルカノイル基の好適な例は、炭素数１な
いし１８のアルカノイル基、例えばホルミル、アセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリ
ル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、ヘプタ
ノイル、オクタノイル、パルミトイル、ステアロイルな
どが挙げられる。中でもアセチル、ピバロイルなどが好
ましい。シクロアルカノイル基の好適な例は、炭素数４
ないし１１のシクロアルカノイル基、例えばシクロプロ
パンカルボニル、シクロブタンカルボニル、シクロペン
タンカルボニル、シクロヘキサンカルボニル、シクロヘ
プタンカルボニルなどが挙げられる。
いし１８のアルカノイル基、例えばホルミル、アセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリ
ル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、ヘプタ
ノイル、オクタノイル、パルミトイル、ステアロイルな
どが挙げられる。中でもアセチル、ピバロイルなどが好
ましい。シクロアルカノイル基の好適な例は、炭素数４
ないし１１のシクロアルカノイル基、例えばシクロプロ
パンカルボニル、シクロブタンカルボニル、シクロペン
タンカルボニル、シクロヘキサンカルボニル、シクロヘ
プタンカルボニルなどが挙げられる。
【００１２】アルケノイル基の好適な例は、炭素数３な
いし１８のアルケノイル基、例えばアクリロイル、クロ
トノイル、オレオイルなどが挙げられる。シクロアルケ
ノイル基の好適な例は、炭素数４ないし１１のシクロア
ルケノイル基、例えば２−シクロヘキセンカルボニルな
どが挙げられる。アリールカルボニル基の好適な例は、
炭素数７ないし１４のアリールカルボニル基、例えばベ
ンゾイルなどが挙げられる。
いし１８のアルケノイル基、例えばアクリロイル、クロ
トノイル、オレオイルなどが挙げられる。シクロアルケ
ノイル基の好適な例は、炭素数４ないし１１のシクロア
ルケノイル基、例えば２−シクロヘキセンカルボニルな
どが挙げられる。アリールカルボニル基の好適な例は、
炭素数７ないし１４のアリールカルボニル基、例えばベ
ンゾイルなどが挙げられる。
【００１３】アルコキシカルボニル基としては、炭素数
２ないし５のアルコキシカルボニル基、例えばメトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニ
ル、ブトキシカルボニル、tert-ブトキシカルボニルな
どが挙げられる。アラルキルオキシカルボニル基として
は、炭素数８ないし１０のアラルキルオキシカルボニル
基、例えばベンジルオキシカルボニルなどが挙げられ
る。アリールオキシカルボニル基としては、炭素数７な
いし１５のアリールオキシカルボニル基、例えばフェノ
キシカルボニル、p−トリルオキシカルボニルなどが挙
げられる。
２ないし５のアルコキシカルボニル基、例えばメトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニ
ル、ブトキシカルボニル、tert-ブトキシカルボニルな
どが挙げられる。アラルキルオキシカルボニル基として
は、炭素数８ないし１０のアラルキルオキシカルボニル
基、例えばベンジルオキシカルボニルなどが挙げられ
る。アリールオキシカルボニル基としては、炭素数７な
いし１５のアリールオキシカルボニル基、例えばフェノ
キシカルボニル、p−トリルオキシカルボニルなどが挙
げられる。
【００１４】「置換基を有していてもよい炭化水素基」
および「置換基を有していてもよいアシル基」における
「炭化水素基」および「アシル基」の置換基としては、
例えばハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素
など）、１ないし３個のハロゲン原子（例、フッ素、塩
素、臭素、ヨウ素など）で置換されていてもよい炭素数
１ないし６のアルコキシ基、ヒドロキシ、ニトロ、置換
されていてもよいアミノ基等が挙げられる。置換基の数
は、例えば１ないし３個、好ましくは１または２個であ
る。
および「置換基を有していてもよいアシル基」における
「炭化水素基」および「アシル基」の置換基としては、
例えばハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素
など）、１ないし３個のハロゲン原子（例、フッ素、塩
素、臭素、ヨウ素など）で置換されていてもよい炭素数
１ないし６のアルコキシ基、ヒドロキシ、ニトロ、置換
されていてもよいアミノ基等が挙げられる。置換基の数
は、例えば１ないし３個、好ましくは１または２個であ
る。
【００１５】該「置換されていてもよいアミノ基」とし
ては、例えば炭化水素基あるいはアシル基でモノまたは
ジ置換されていてもよいアミノ基などが挙げられる。こ
こで炭化水素基あるいはアシル基としては、それぞれ前
記したものと同様なものなどが挙げられる。置換された
アミノ基としては、例えばメチルアミノ、ジメチルアミ
ノ、エチルアミノ、ジエチルアミノ、プロピルアミノ、
イソプロピルアミノ、ブチルアミノ、イソブチルアミ
ノ、tert-ブチルアミノ、ジブチルアミノ、ペンチルア
ミノ、ネオペンチルアミノ、ジアリルアミノ、シクロヘ
キシルアミノ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、
ベンゾイルアミノ、フェニルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−
フェニルアミノ、tert-ブトキシカルボニルアミノ、ベ
ンジルオキシカルボニルアミノ等が挙げられる。
ては、例えば炭化水素基あるいはアシル基でモノまたは
ジ置換されていてもよいアミノ基などが挙げられる。こ
こで炭化水素基あるいはアシル基としては、それぞれ前
記したものと同様なものなどが挙げられる。置換された
アミノ基としては、例えばメチルアミノ、ジメチルアミ
ノ、エチルアミノ、ジエチルアミノ、プロピルアミノ、
イソプロピルアミノ、ブチルアミノ、イソブチルアミ
ノ、tert-ブチルアミノ、ジブチルアミノ、ペンチルア
ミノ、ネオペンチルアミノ、ジアリルアミノ、シクロヘ
キシルアミノ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、
ベンゾイルアミノ、フェニルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−
フェニルアミノ、tert-ブトキシカルボニルアミノ、ベ
ンジルオキシカルボニルアミノ等が挙げられる。
【００１６】Ｒ1およびＲ2は、好ましくは、水素原子、
アルキル基、アリール基、アルカノイル基、アルコキシ
カルボニル基またはアラルキルオキシカルボニル基であ
る。Ｒ1およびＲ2は、さらに好ましくは、水素原子、炭
素数１ないし６のアルカノイル基（好ましくはアセチ
ル、ピバロイルなど）、炭素数２ないし５のアルコキシ
カルボニル基（好ましくはtert-ブトキシカルボニ
ル）、炭素数８ないし１０のアラルキルオキシカルボニ
ル基（好ましくはベンジルオキシカルボニル）などであ
る。
アルキル基、アリール基、アルカノイル基、アルコキシ
カルボニル基またはアラルキルオキシカルボニル基であ
る。Ｒ1およびＲ2は、さらに好ましくは、水素原子、炭
素数１ないし６のアルカノイル基（好ましくはアセチ
ル、ピバロイルなど）、炭素数２ないし５のアルコキシ
カルボニル基（好ましくはtert-ブトキシカルボニ
ル）、炭素数８ないし１０のアラルキルオキシカルボニ
ル基（好ましくはベンジルオキシカルボニル）などであ
る。
【００１７】一般式（Ｉ）および（II）中、Ａ環および
Ｂ環がさらに有していてもよい置換基としては、例えば
ハロゲン原子、置換されていてもよいヒドロキシ基、置
換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよい
アミノ基、置換基を有していてもよいアシル基、エステ
ル化されていてもよいカルボキシル基などが挙げられ
る。置換基の数は、例えば１ないし４個、好ましくは１
ないし３個である。
Ｂ環がさらに有していてもよい置換基としては、例えば
ハロゲン原子、置換されていてもよいヒドロキシ基、置
換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよい
アミノ基、置換基を有していてもよいアシル基、エステ
ル化されていてもよいカルボキシル基などが挙げられ
る。置換基の数は、例えば１ないし４個、好ましくは１
ないし３個である。
【００１８】ハロゲン原子としては、例えばフッ素、塩
素、臭素、ヨウ素が挙げられる。なかでも、塩素及び臭
素が好ましく、特に塩素が好ましい。「置換されていて
もよいヒドロキシ基」としては、ヒドロキシ基、それぞ
れ置換されていてもよいアルコキシ基、アルケニルオキ
シ基、アラルキルオキシ基、アシルオキシ基、アリール
オキシ基等が挙げられる。また、「置換されていてもよ
いヒドロキシ基」としては、「１ないし３個の炭化水素
基で置換されていてもよいシロキシ基」も挙げられる。
素、臭素、ヨウ素が挙げられる。なかでも、塩素及び臭
素が好ましく、特に塩素が好ましい。「置換されていて
もよいヒドロキシ基」としては、ヒドロキシ基、それぞ
れ置換されていてもよいアルコキシ基、アルケニルオキ
シ基、アラルキルオキシ基、アシルオキシ基、アリール
オキシ基等が挙げられる。また、「置換されていてもよ
いヒドロキシ基」としては、「１ないし３個の炭化水素
基で置換されていてもよいシロキシ基」も挙げられる。
【００１９】アルコキシ基の好適な例としては、炭素数
１ないし１０のアルコキシ基、例えばメトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブト
キシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシ、ペンチルオキ
シ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシ
ルオキシ、ヘプチルオキシ、ノニルオキシ、シクロブト
キシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシな
どが挙げられる。なかでも、炭素数１ないし４のアルコ
キシ基が好ましく、とりわけ、メトキシが好ましい。ア
ルケニルオキシ基の好適な例としては、炭素数２ないし
１０のアルケニルオキシ基、例えばアリル（allyl）オ
キシ、クロチルオキシ、２−ペンテニルオキシ、３−ヘ
キセニルオキシ、２−シクロペンテニルメトキシ、２−
シクロヘキセニルメトキシなどが挙げられる。アラルキ
ルオキシ基の好適な例としては、炭素数７ないし１０の
アラルキルオキシ基、例えばベンジルオキシ、フェネチ
ルオキシ等が挙げられる。アシルオキシ基の好適な例と
しては、炭素数２ないし１３のアシルオキシ基、さらに
好ましくは炭素数２ないし４のアルカノイルオキシ
（例、アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリル
オキシ、イソブチリルオキシなど）等が挙げられる。ア
リールオキシ基の好適な例としては、炭素数６ないし１
４のアリールオキシ基、例えばフェノキシ、ナフチルオ
キシ等が挙げられる。
１ないし１０のアルコキシ基、例えばメトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブト
キシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシ、ペンチルオキ
シ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシ
ルオキシ、ヘプチルオキシ、ノニルオキシ、シクロブト
キシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシな
どが挙げられる。なかでも、炭素数１ないし４のアルコ
キシ基が好ましく、とりわけ、メトキシが好ましい。ア
ルケニルオキシ基の好適な例としては、炭素数２ないし
１０のアルケニルオキシ基、例えばアリル（allyl）オ
キシ、クロチルオキシ、２−ペンテニルオキシ、３−ヘ
キセニルオキシ、２−シクロペンテニルメトキシ、２−
シクロヘキセニルメトキシなどが挙げられる。アラルキ
ルオキシ基の好適な例としては、炭素数７ないし１０の
アラルキルオキシ基、例えばベンジルオキシ、フェネチ
ルオキシ等が挙げられる。アシルオキシ基の好適な例と
しては、炭素数２ないし１３のアシルオキシ基、さらに
好ましくは炭素数２ないし４のアルカノイルオキシ
（例、アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリル
オキシ、イソブチリルオキシなど）等が挙げられる。ア
リールオキシ基の好適な例としては、炭素数６ないし１
４のアリールオキシ基、例えばフェノキシ、ナフチルオ
キシ等が挙げられる。
【００２０】上記したアルコキシ基、アルケニルオキシ
基、アラルキルオキシ基、アシルオキシ基およびアリー
ルオキシ基は、置換可能な位置に１ないし２個の置換基
を有していてもよく、このような置換基としては、例え
ばハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素な
ど）、１ないし３個のハロゲン原子（例、フッ素、塩
素、臭素、ヨウ素など）で置換されていてもよい炭素数
１ないし６のアルコキシ基、ヒドロキシ、ニトロ、アミ
ノ等が挙げられる。
基、アラルキルオキシ基、アシルオキシ基およびアリー
ルオキシ基は、置換可能な位置に１ないし２個の置換基
を有していてもよく、このような置換基としては、例え
ばハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素な
ど）、１ないし３個のハロゲン原子（例、フッ素、塩
素、臭素、ヨウ素など）で置換されていてもよい炭素数
１ないし６のアルコキシ基、ヒドロキシ、ニトロ、アミ
ノ等が挙げられる。
【００２１】「１ないし３個の炭化水素基で置換されて
いてもよいシロキシ基」における炭化水素基としては、
例えばアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、
シクロアルケニル基、アリール基、アラルキル基、アル
キニル基などが挙げられる。これらの炭化水素基におけ
る炭素数は、好ましくは１ないし１４である。アルキル
基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニ
ル基およびアリール基としては、それぞれＲ1およびＲ2
として例示したものが挙げられる。アラルキル基の好適
な例としては、炭素数７ないし１５のアラルキル基、例
えばベンジル、フェネチル、１−フェニルエチル、１−
フェニルプロピル、２−フェニルプロピル、３−フェニ
ルプロピル、α−ナフチルメチル、α−ナフチルエチ
ル、β−ナフチルメチル、β−ナフチルエチルなどが挙
げられる。アルキニル基の好適な例としては、炭素数２
ないし１０のアルキニル基、例えばエチニル基、２−プ
ロピニル基などが挙げられる。炭化水素基は、好ましく
は、炭素数１ないし１０のアルキル基、炭素数６ないし
１４のアリール基である。
いてもよいシロキシ基」における炭化水素基としては、
例えばアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、
シクロアルケニル基、アリール基、アラルキル基、アル
キニル基などが挙げられる。これらの炭化水素基におけ
る炭素数は、好ましくは１ないし１４である。アルキル
基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニ
ル基およびアリール基としては、それぞれＲ1およびＲ2
として例示したものが挙げられる。アラルキル基の好適
な例としては、炭素数７ないし１５のアラルキル基、例
えばベンジル、フェネチル、１−フェニルエチル、１−
フェニルプロピル、２−フェニルプロピル、３−フェニ
ルプロピル、α−ナフチルメチル、α−ナフチルエチ
ル、β−ナフチルメチル、β−ナフチルエチルなどが挙
げられる。アルキニル基の好適な例としては、炭素数２
ないし１０のアルキニル基、例えばエチニル基、２−プ
ロピニル基などが挙げられる。炭化水素基は、好ましく
は、炭素数１ないし１０のアルキル基、炭素数６ないし
１４のアリール基である。
【００２２】「１ないし３個の炭化水素基で置換されて
いてもよいシロキシ基」の好適な例としては、例えば炭
素数１ないし４のアルキル基および炭素数６ないし１４
のアリール基から選ばれる基で１ないし３個置換された
シロキシ基（例、トリメチルシロキシ、トリエチルシロ
キシ、 tert-ブチルジメチルシロキシ、トリイソプロピ
ルシロキシ、 tert-ブチルジフェニルシロキシなど）な
どが挙げられる。とりわけ、tert-ブチルジメチルシロ
キシが好ましい。
いてもよいシロキシ基」の好適な例としては、例えば炭
素数１ないし４のアルキル基および炭素数６ないし１４
のアリール基から選ばれる基で１ないし３個置換された
シロキシ基（例、トリメチルシロキシ、トリエチルシロ
キシ、 tert-ブチルジメチルシロキシ、トリイソプロピ
ルシロキシ、 tert-ブチルジフェニルシロキシなど）な
どが挙げられる。とりわけ、tert-ブチルジメチルシロ
キシが好ましい。
【００２３】「置換されていてもよいアルキル基」にお
けるアルキル基としては、Ｒ1およびＲ2として例示した
ものが挙げられる。なかでも、炭素数１ないし６のアル
キル基が好ましく、とりわけメチルが好ましい。
けるアルキル基としては、Ｒ1およびＲ2として例示した
ものが挙げられる。なかでも、炭素数１ないし６のアル
キル基が好ましく、とりわけメチルが好ましい。
【００２４】「置換されていてもよいアルキル基」にお
ける置換基としては、例えばハロゲン原子（例、フッ
素、塩素、臭素、ヨウ素など）、１ないし３個のハロゲ
ン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素など）で置換
されていてもよい炭素数１ないし６のアルコキシ基、ヒ
ドロキシ、ニトロ、置換されていてもよいアミノ基等が
挙げられる。置換基の数は、例えば１ないし３個、好ま
しくは１または２個である。
ける置換基としては、例えばハロゲン原子（例、フッ
素、塩素、臭素、ヨウ素など）、１ないし３個のハロゲ
ン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素など）で置換
されていてもよい炭素数１ないし６のアルコキシ基、ヒ
ドロキシ、ニトロ、置換されていてもよいアミノ基等が
挙げられる。置換基の数は、例えば１ないし３個、好ま
しくは１または２個である。
【００２５】該「置換されていてもよいアミノ基」およ
びＡ環およびＢ環がさらに有していてもよい置換基とし
ての「置換されていてもよいアミノ基」としては、例え
ば炭化水素基またはアシル基でモノまたはジ置換されて
いてもよいアミノ基が挙げられる。ここで、炭化水素
基、アシル基としては、Ｒ1およびＲ2として例示したも
のが挙げられる。なかでも、炭素数２ないし１８のアル
カノイル基、炭素数７ないし１４のアリールカルボニル
基等が好ましい。置換されたアミノ基としては、例えば
メチルアミノ、ジメチルアミノ、エチルアミノ、ジエチ
ルアミノ、プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、ブチ
ルアミノ、イソブチルアミノ、tert-ブチルアミノ、ジ
ブチルアミノ、ペンチルアミノ、ネオペンチルアミノ、
ジアリルアミノ、シクロヘキシルアミノ、アセチルアミ
ノ、プロピオニルアミノ、ベンゾイルアミノ、フェニル
アミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ、tert-ブト
キシカルボニルアミノ、ベンジルオキシカルボニルアミ
ノ等が挙げられる。
びＡ環およびＢ環がさらに有していてもよい置換基とし
ての「置換されていてもよいアミノ基」としては、例え
ば炭化水素基またはアシル基でモノまたはジ置換されて
いてもよいアミノ基が挙げられる。ここで、炭化水素
基、アシル基としては、Ｒ1およびＲ2として例示したも
のが挙げられる。なかでも、炭素数２ないし１８のアル
カノイル基、炭素数７ないし１４のアリールカルボニル
基等が好ましい。置換されたアミノ基としては、例えば
メチルアミノ、ジメチルアミノ、エチルアミノ、ジエチ
ルアミノ、プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、ブチ
ルアミノ、イソブチルアミノ、tert-ブチルアミノ、ジ
ブチルアミノ、ペンチルアミノ、ネオペンチルアミノ、
ジアリルアミノ、シクロヘキシルアミノ、アセチルアミ
ノ、プロピオニルアミノ、ベンゾイルアミノ、フェニル
アミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ、tert-ブト
キシカルボニルアミノ、ベンジルオキシカルボニルアミ
ノ等が挙げられる。
【００２６】「アシル基」としては、Ｒ1およびＲ2とし
て例示したものが挙げられる。なかでも、炭素数２ない
し１８のアルカノイル基、炭素数７ないし１４のアリー
ルカルボニル基等が好ましい。
て例示したものが挙げられる。なかでも、炭素数２ない
し１８のアルカノイル基、炭素数７ないし１４のアリー
ルカルボニル基等が好ましい。
【００２７】「エステル化されていてもよいカルボキシ
ル基」としては、カルボキシル基、炭素数２ないし５の
アルコキシカルボニル基、炭素数８ないし１０のアラル
キルオキシカルボニル基、炭素数７ないし１５のアリー
ルオキシカルボニル基等が挙げられる。「炭素数２ない
し５のアルコキシカルボニル基」、「炭素数８ないし１
０のアラルキルオキシカルボニル基」および「炭素数７
ないし１５のアリールオキシカルボニル基」としては、
それぞれＲ1およびＲ2として例示したものが挙げられ
る。
ル基」としては、カルボキシル基、炭素数２ないし５の
アルコキシカルボニル基、炭素数８ないし１０のアラル
キルオキシカルボニル基、炭素数７ないし１５のアリー
ルオキシカルボニル基等が挙げられる。「炭素数２ない
し５のアルコキシカルボニル基」、「炭素数８ないし１
０のアラルキルオキシカルボニル基」および「炭素数７
ないし１５のアリールオキシカルボニル基」としては、
それぞれＲ1およびＲ2として例示したものが挙げられ
る。
【００２８】Ａ環およびＢ環がさらに有していてもよい
置換基は、好ましくは、ハロゲン原子、置換されていて
もよいヒドロキシ基、置換されていてもよい炭素数１な
いし４のアルキル基および置換されていてもよいアミノ
基から選ばれる１ないし４個である。なかでも、ハロゲ
ン原子（好ましくは塩素原子）；炭素数１ないし４のア
ルコキシ基（好ましくはメトキシ）；炭素数１ないし４
のアルキル基で１ないし３個置換されたシロキシ基（好
ましくはtert-ブチルジメチルシロキシ）；炭素数２な
いし５のアルコキシカルボニル基または炭素数８ないし
１０のアラルキルオキシカルボニル基で置換されていて
もよいアミノ基（好ましくはtert-ブトキシカルボニル
アミノ、ベンジルオキシカルボニルアミノなど）で置換
されていてもよい炭素数１ないし４のアルキル基（好ま
しくはベンジルオキシカルボニルアミノメチルなど）；
炭素数２ないし５のアルコキシカルボニル基または炭素
数８ないし１０のアラルキルオキシカルボニル基で置換
されていてもよいアミノ基（好ましくはtert-ブトキシ
カルボニルアミノ、ベンジルオキシカルボニルアミノな
ど）などが好ましい。
置換基は、好ましくは、ハロゲン原子、置換されていて
もよいヒドロキシ基、置換されていてもよい炭素数１な
いし４のアルキル基および置換されていてもよいアミノ
基から選ばれる１ないし４個である。なかでも、ハロゲ
ン原子（好ましくは塩素原子）；炭素数１ないし４のア
ルコキシ基（好ましくはメトキシ）；炭素数１ないし４
のアルキル基で１ないし３個置換されたシロキシ基（好
ましくはtert-ブチルジメチルシロキシ）；炭素数２な
いし５のアルコキシカルボニル基または炭素数８ないし
１０のアラルキルオキシカルボニル基で置換されていて
もよいアミノ基（好ましくはtert-ブトキシカルボニル
アミノ、ベンジルオキシカルボニルアミノなど）で置換
されていてもよい炭素数１ないし４のアルキル基（好ま
しくはベンジルオキシカルボニルアミノメチルなど）；
炭素数２ないし５のアルコキシカルボニル基または炭素
数８ないし１０のアラルキルオキシカルボニル基で置換
されていてもよいアミノ基（好ましくはtert-ブトキシ
カルボニルアミノ、ベンジルオキシカルボニルアミノな
ど）などが好ましい。
【００２９】Ａ環における置換基は、好ましくはハロゲ
ン原子（好ましくは塩素原子）；炭素数１ないし４のア
ルコキシ基（好ましくはメトキシ）；炭素数２ないし５
のアルコキシカルボニル基または炭素数８ないし１０の
アラルキルオキシカルボニル基で置換されていてもよい
アミノ基（好ましくはtert-ブトキシカルボニルアミ
ノ、ベンジルオキシカルボニルアミノなど）で置換され
ていてもよい炭素数１ないし４のアルキル基（好ましく
はtert-ブトキシカルボニルアミノメチル、ベンジルオ
キシカルボニルアミノメチルなど）；炭素数２ないし５
のアルコキシカルボニル基または炭素数８ないし１０の
アラルキルオキシカルボニル基で置換されていてもよい
アミノ基（好ましくはtert-ブトキシカルボニルアミ
ノ、ベンジルオキシカルボニルアミノなど）である。Ａ
環は、置換基として、炭素数１ないし４のアルコキシ基
（好ましくはメトキシ）を２個有しているか、炭素数２
ないし５のアルコキシカルボニル基または炭素数８ない
し１０のアラルキルオキシカルボニル基で置換されてい
てもよいアミノ基（好ましくはtert-ブトキシカルボニ
ルアミノ、ベンジルオキシカルボニルアミノなど）で置
換されていてもよい炭素数１ないし４のアルキル基（好
ましくはtert-ブトキシカルボニルアミノメチル、ベン
ジルオキシカルボニルアミノメチルなど）を１個有して
いることが好ましい。
ン原子（好ましくは塩素原子）；炭素数１ないし４のア
ルコキシ基（好ましくはメトキシ）；炭素数２ないし５
のアルコキシカルボニル基または炭素数８ないし１０の
アラルキルオキシカルボニル基で置換されていてもよい
アミノ基（好ましくはtert-ブトキシカルボニルアミ
ノ、ベンジルオキシカルボニルアミノなど）で置換され
ていてもよい炭素数１ないし４のアルキル基（好ましく
はtert-ブトキシカルボニルアミノメチル、ベンジルオ
キシカルボニルアミノメチルなど）；炭素数２ないし５
のアルコキシカルボニル基または炭素数８ないし１０の
アラルキルオキシカルボニル基で置換されていてもよい
アミノ基（好ましくはtert-ブトキシカルボニルアミ
ノ、ベンジルオキシカルボニルアミノなど）である。Ａ
環は、置換基として、炭素数１ないし４のアルコキシ基
（好ましくはメトキシ）を２個有しているか、炭素数２
ないし５のアルコキシカルボニル基または炭素数８ない
し１０のアラルキルオキシカルボニル基で置換されてい
てもよいアミノ基（好ましくはtert-ブトキシカルボニ
ルアミノ、ベンジルオキシカルボニルアミノなど）で置
換されていてもよい炭素数１ないし４のアルキル基（好
ましくはtert-ブトキシカルボニルアミノメチル、ベン
ジルオキシカルボニルアミノメチルなど）を１個有して
いることが好ましい。
【００３０】Ｂ環における置換基は、好ましくはハロゲ
ン原子（好ましくは塩素原子）；炭素数１ないし４のア
ルキル基で１ないし３個置換されたシロキシ基（好まし
くはtert-ブチルジメチルシロキシ）などである。Ｂ環
は、置換基として、ハロゲン原子（好ましくは塩素原
子）を１または２個有するか、炭素数１ないし４のアル
キル基で１ないし３個置換されたシロキシ基（好ましく
はtert-ブチルジメチルシロキシ）を１個有しているこ
とが好ましい。また、これらの置換基のＢ環上の置換位
置は、式−ＮＲ1Ｒ2 （記号は前記と同意義を示す）で
示される基に対して、パラ位であることが好ましい。Ａ
環とＢ環とは、同一種の置換基を同一の置換位置に有し
ない、すなわち対称の関係にないことが好ましい。
ン原子（好ましくは塩素原子）；炭素数１ないし４のア
ルキル基で１ないし３個置換されたシロキシ基（好まし
くはtert-ブチルジメチルシロキシ）などである。Ｂ環
は、置換基として、ハロゲン原子（好ましくは塩素原
子）を１または２個有するか、炭素数１ないし４のアル
キル基で１ないし３個置換されたシロキシ基（好ましく
はtert-ブチルジメチルシロキシ）を１個有しているこ
とが好ましい。また、これらの置換基のＢ環上の置換位
置は、式−ＮＲ1Ｒ2 （記号は前記と同意義を示す）で
示される基に対して、パラ位であることが好ましい。Ａ
環とＢ環とは、同一種の置換基を同一の置換位置に有し
ない、すなわち対称の関係にないことが好ましい。
【００３１】一般式（Ｉ）で表される化合物またはその
塩は、特開平9-235255などに記載された公知化合物であ
り、自体公知の方法、例えば特開平6-239843（ヨーロッ
パ特許公報567026号）、特開平8-298995、「D．A．Wals
h，シンセシス（Synthesis）1980，ｐ．677」などに記
載の方法又はそれらに準じる方法により製造することが
できる。
塩は、特開平9-235255などに記載された公知化合物であ
り、自体公知の方法、例えば特開平6-239843（ヨーロッ
パ特許公報567026号）、特開平8-298995、「D．A．Wals
h，シンセシス（Synthesis）1980，ｐ．677」などに記
載の方法又はそれらに準じる方法により製造することが
できる。
【００３２】一般式（Ｉ）で表される化合物の塩として
は、例えば無機塩基との塩、有機塩基との塩、無機酸と
の塩、有機酸との塩、塩基性または酸性アミノ酸との塩
などが挙げられる。無機塩基との塩の好適な例として
は、例えばナトリウム塩、カリウム塩などのアルカリ金
属塩；カルシウム塩、マグネシウム塩などのアルカリ土
類金属塩；ならびにアルミニウム塩、アンモニウム塩な
どが挙げられる。有機塩基との塩の好適な例としては、
例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジ
ン、ピコリン、エタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、ジシクロヘキシルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジベンジルエチレンジアミンなどとの塩が挙げ
られる。無機酸との塩の好適な例としては、例えば塩
酸、硫酸、硝酸、臭素酸、ヨウ素酸、ホウフッ化水素
酸、過塩素酸、リン酸などとの塩が挙げられる。有機酸
との塩の好適な例としては、例えばギ酸、酢酸、トリフ
ルオロ酢酸、フマル酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン
酸、クエン酸、コハク酸、リンゴ酸、メタンスルホン
酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸など
との塩が挙げられる。塩基性アミノ酸との塩の好適な例
としては、例えばアルギニン、リジン、オルニチンなど
との塩が挙げられる。酸性アミノ酸との塩の好適な例と
しては、例えばアスパラギン酸、グルタミン酸などとの
塩が挙げられる。一般式（Ｉ）で表される化合物の塩
は、好ましくは、塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、臭素酸塩、
ヨウ素酸塩、ホウフッ化水素酸塩、過塩素酸塩等の無機
塩；ギ酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、酒石酸塩
等、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p-ト
ルエンスルホン酸塩等の有機酸塩などである。
は、例えば無機塩基との塩、有機塩基との塩、無機酸と
の塩、有機酸との塩、塩基性または酸性アミノ酸との塩
などが挙げられる。無機塩基との塩の好適な例として
は、例えばナトリウム塩、カリウム塩などのアルカリ金
属塩；カルシウム塩、マグネシウム塩などのアルカリ土
類金属塩；ならびにアルミニウム塩、アンモニウム塩な
どが挙げられる。有機塩基との塩の好適な例としては、
例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジ
ン、ピコリン、エタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、ジシクロヘキシルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジベンジルエチレンジアミンなどとの塩が挙げ
られる。無機酸との塩の好適な例としては、例えば塩
酸、硫酸、硝酸、臭素酸、ヨウ素酸、ホウフッ化水素
酸、過塩素酸、リン酸などとの塩が挙げられる。有機酸
との塩の好適な例としては、例えばギ酸、酢酸、トリフ
ルオロ酢酸、フマル酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン
酸、クエン酸、コハク酸、リンゴ酸、メタンスルホン
酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸など
との塩が挙げられる。塩基性アミノ酸との塩の好適な例
としては、例えばアルギニン、リジン、オルニチンなど
との塩が挙げられる。酸性アミノ酸との塩の好適な例と
しては、例えばアスパラギン酸、グルタミン酸などとの
塩が挙げられる。一般式（Ｉ）で表される化合物の塩
は、好ましくは、塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、臭素酸塩、
ヨウ素酸塩、ホウフッ化水素酸塩、過塩素酸塩等の無機
塩；ギ酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、酒石酸塩
等、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p-ト
ルエンスルホン酸塩等の有機酸塩などである。
【００３３】本発明の製造法において用いられる「光学
活性なルテニウム-ホスフィン-アミン錯体」は、一般式
（III）または一般式（IV）で表されるホスフィンまた
はその塩、一般式（Ｖ）または一般式（VI）で表される
アミンまたはその塩、およびルテニウム錯体を、自体公
知の方法、例えばJ. Am. Chem. Soc.,120, 13529 (199
8)；Angew. Chem. Int. Ed., 37, 1703 (1998)；特開平
11-189600などに記載の方法またはそれらに準じる方法
にしたがって、反応させることによって製造することが
できる。ここで、一般式（III）〜（IV）で表される化
合物の少なくとも一つが光学活性体であることが好まし
い。本反応において、ホスフィン、アミンおよびルテニ
ウム錯体の反応系への添加時期および添加順序は特に限
定されず、これらを反応系へ同時に添加してもよいし、
時間差をおいて別々に添加してもよい。このようにして
得られる光学活性なルテニウム-ホスフィン-アミン錯体
は、公知の手段、例えば濃縮、溶媒抽出、分留、結晶
化、再結晶、クロマトグラフィー等によって単離し、好
ましくは精製した後、本発明の製造法に用いられる。す
なわち、該ルテニウム-ホスフィン-アミン錯体は、一般
式（I）で表される化合物またはその塩から、一般式（I
I）表される化合物またはその塩の光学活性体を製造す
る反応に対して、反応系外で製造され、単離された後に
反応系内に適用される。ここで単離されるルテニウム-
ホスフィン-アミン錯体は、単一の化合物であってもよ
いが、例えば、一般式（VII）、（VIII）、（IX）また
は（Ｘ）の何れかで表される化合物またはその塩であっ
て、ｍまたはｎが必ずしも一致していない化合物同士の
混合物であってもよい。
活性なルテニウム-ホスフィン-アミン錯体」は、一般式
（III）または一般式（IV）で表されるホスフィンまた
はその塩、一般式（Ｖ）または一般式（VI）で表される
アミンまたはその塩、およびルテニウム錯体を、自体公
知の方法、例えばJ. Am. Chem. Soc.,120, 13529 (199
8)；Angew. Chem. Int. Ed., 37, 1703 (1998)；特開平
11-189600などに記載の方法またはそれらに準じる方法
にしたがって、反応させることによって製造することが
できる。ここで、一般式（III）〜（IV）で表される化
合物の少なくとも一つが光学活性体であることが好まし
い。本反応において、ホスフィン、アミンおよびルテニ
ウム錯体の反応系への添加時期および添加順序は特に限
定されず、これらを反応系へ同時に添加してもよいし、
時間差をおいて別々に添加してもよい。このようにして
得られる光学活性なルテニウム-ホスフィン-アミン錯体
は、公知の手段、例えば濃縮、溶媒抽出、分留、結晶
化、再結晶、クロマトグラフィー等によって単離し、好
ましくは精製した後、本発明の製造法に用いられる。す
なわち、該ルテニウム-ホスフィン-アミン錯体は、一般
式（I）で表される化合物またはその塩から、一般式（I
I）表される化合物またはその塩の光学活性体を製造す
る反応に対して、反応系外で製造され、単離された後に
反応系内に適用される。ここで単離されるルテニウム-
ホスフィン-アミン錯体は、単一の化合物であってもよ
いが、例えば、一般式（VII）、（VIII）、（IX）また
は（Ｘ）の何れかで表される化合物またはその塩であっ
て、ｍまたはｎが必ずしも一致していない化合物同士の
混合物であってもよい。
【００３４】一般式（III）〜（Ｘ）に関し、Ｒ3、
Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9で示される「置換基
を有していてもよい炭化水素基」における炭化水素基と
しては、前記「１ないし３個の炭化水素基で置換されて
いてもよいシロキシ基」における炭化水素基として例示
したものが挙げられる。
Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9で示される「置換基
を有していてもよい炭化水素基」における炭化水素基と
しては、前記「１ないし３個の炭化水素基で置換されて
いてもよいシロキシ基」における炭化水素基として例示
したものが挙げられる。
【００３５】Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9
で示される「置換基を有していてもよい炭化水素基」に
おける置換基としては、例えば「ハロゲン原子」、「ニ
トロ基」、「シアノ基」、「置換されていてもよいアシ
ル基」、「置換されていてもよいアミノ基」、「置換さ
れていてもよいヒドロキシ基」、「置換されていてもよ
いチオール基」、「エステル化されていてもよいカルボ
キシル基」などが挙げられる。置換基の数は、例えば１
ないし５個、好ましくは１ないし３個である。
で示される「置換基を有していてもよい炭化水素基」に
おける置換基としては、例えば「ハロゲン原子」、「ニ
トロ基」、「シアノ基」、「置換されていてもよいアシ
ル基」、「置換されていてもよいアミノ基」、「置換さ
れていてもよいヒドロキシ基」、「置換されていてもよ
いチオール基」、「エステル化されていてもよいカルボ
キシル基」などが挙げられる。置換基の数は、例えば１
ないし５個、好ましくは１ないし３個である。
【００３６】「ハロゲン原子」としては、フッ素、塩
素、臭素およびヨウ素が挙げられ、なかでもフッ素およ
び塩素が好ましい。「置換されていてもよいアシル基」
におけるアシル基としては、Ｒ1およびＲ2として例示し
たものが挙げられる。該アシル基は、置換可能な位置に
１ないし３個の置換基を有していてもよく、このような
置換基としては、例えば１ないし３個のハロゲン原子
（例、フッ素、塩素、ヨウ素など）で置換されていても
よい炭素数１ないし６のアルキル基、１ないし３個のハ
ロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素など）で
置換されていてもよい炭素数１ないし６のアルコキシ
基、ハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素な
ど）、ニトロ、ヒドロキシ、アミノ等が挙げられる。
素、臭素およびヨウ素が挙げられ、なかでもフッ素およ
び塩素が好ましい。「置換されていてもよいアシル基」
におけるアシル基としては、Ｒ1およびＲ2として例示し
たものが挙げられる。該アシル基は、置換可能な位置に
１ないし３個の置換基を有していてもよく、このような
置換基としては、例えば１ないし３個のハロゲン原子
（例、フッ素、塩素、ヨウ素など）で置換されていても
よい炭素数１ないし６のアルキル基、１ないし３個のハ
ロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素など）で
置換されていてもよい炭素数１ないし６のアルコキシ
基、ハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素な
ど）、ニトロ、ヒドロキシ、アミノ等が挙げられる。
【００３７】「置換されていてもよいアミノ基」、「置
換されていてもよいヒドロキシ基」および「エステル化
されていてもよいカルボキシル基」としては、それぞれ
Ａ環およびＢ環における置換基として例示したものが挙
げられる。
換されていてもよいヒドロキシ基」および「エステル化
されていてもよいカルボキシル基」としては、それぞれ
Ａ環およびＢ環における置換基として例示したものが挙
げられる。
【００３８】置換されていてもよいチオール基として
は、チオール基、アルキルチオ、シクロアルキルチオ、
アラルキルチオ、アシルチオ、アリールチオなどが挙げ
られる。アルキルチオ基の好適な例としては、炭素数１
ないし１０のアルキルチオ基、例えばメチルチオ、エチ
ルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチ
オ、イソブチルチオ、sec−ブチルチオ、tert−ブチル
チオ、ペンチルチオ、イソペンチルチオ、ネオペンチル
チオ、ヘキシルチオ、ヘプチルチオ、ノニルチオ等が挙
げられる。シクロアルキルチオ基の好適な例としては、
炭素数３ないし１０のシクロアルキルチオ基、例えばシ
クロブチルチオ、シクロペンチルチオ、シクロヘキシル
チオ等が挙げられる。アラルキルチオ基の好適な例とし
ては、炭素数７ないし１０のアラルキルチオ基、例えば
ベンジルチオ、フェネチルチオ等が挙げられる。アシル
チオ基の好適な例としては、炭素数２ないし１３のアシ
ルチオ基、さらに好ましくは炭素数２ないし４のアルカ
ノイルチオ基（例、アセチルチオ、プロピオニルチオ、
ブチリルチオ、イソブチリルチオなど）等が挙げられ
る。アリールチオ基の好適な例としては、炭素数６ない
し１４のアリールチオ基、例えばフェニルチオ、ナフチ
ルチオ等が挙げられる。
は、チオール基、アルキルチオ、シクロアルキルチオ、
アラルキルチオ、アシルチオ、アリールチオなどが挙げ
られる。アルキルチオ基の好適な例としては、炭素数１
ないし１０のアルキルチオ基、例えばメチルチオ、エチ
ルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチ
オ、イソブチルチオ、sec−ブチルチオ、tert−ブチル
チオ、ペンチルチオ、イソペンチルチオ、ネオペンチル
チオ、ヘキシルチオ、ヘプチルチオ、ノニルチオ等が挙
げられる。シクロアルキルチオ基の好適な例としては、
炭素数３ないし１０のシクロアルキルチオ基、例えばシ
クロブチルチオ、シクロペンチルチオ、シクロヘキシル
チオ等が挙げられる。アラルキルチオ基の好適な例とし
ては、炭素数７ないし１０のアラルキルチオ基、例えば
ベンジルチオ、フェネチルチオ等が挙げられる。アシル
チオ基の好適な例としては、炭素数２ないし１３のアシ
ルチオ基、さらに好ましくは炭素数２ないし４のアルカ
ノイルチオ基（例、アセチルチオ、プロピオニルチオ、
ブチリルチオ、イソブチリルチオなど）等が挙げられ
る。アリールチオ基の好適な例としては、炭素数６ない
し１４のアリールチオ基、例えばフェニルチオ、ナフチ
ルチオ等が挙げられる。
【００３９】Ｒ3とＲ4とが互いに結合して形成する「置
換基を有していてもよい環状炭化水素」において、環状
炭化水素としては、ベンゼン環、炭素数３ないし１０の
シクロアルカン（例、シクロブタン、シクロペンタン、
シクロヘキサンなど）、炭素数３ないし１０のシクロア
ルケン（例、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘ
キセンなど）などが挙げられる。また、該「置換基を有
していてもよい環状炭化水素」における置換基として
は、Ｒ3などで示される「置換基を有していてもよい炭
化水素基」における置換基として例示したものが挙げら
れる。置換基の数は、例えば１ないし５個、好ましくは
１ないし３個である。
換基を有していてもよい環状炭化水素」において、環状
炭化水素としては、ベンゼン環、炭素数３ないし１０の
シクロアルカン（例、シクロブタン、シクロペンタン、
シクロヘキサンなど）、炭素数３ないし１０のシクロア
ルケン（例、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘ
キセンなど）などが挙げられる。また、該「置換基を有
していてもよい環状炭化水素」における置換基として
は、Ｒ3などで示される「置換基を有していてもよい炭
化水素基」における置換基として例示したものが挙げら
れる。置換基の数は、例えば１ないし５個、好ましくは
１ないし３個である。
【００４０】また、Ｒ6とＲ7とが互いに結合して形成す
る「置換基を有していてもよい環状炭化水素」として
は、Ｒ3とＲ4とが互いに結合して形成する「置換基を有
していてもよい環状炭化水素」が挙げられる。
る「置換基を有していてもよい環状炭化水素」として
は、Ｒ3とＲ4とが互いに結合して形成する「置換基を有
していてもよい環状炭化水素」が挙げられる。
【００４１】一般式（III）〜（Ｘ）に関し、Ｚおよび
Ｗで示される「２価の炭化水素基」としては、例えば
「２価の非環状炭化水素基」および「２価の環状炭化水
素基」が挙げられる。「２価の非環状炭化水素基」とし
ては、炭素数１ないし８のアルキレン、炭素数２ないし
８のアルケニレン、炭素数２ないし８のアルキニレンな
どが挙げられる。炭素数１ないし８のアルキレンとして
は、例えば、−CH2−、−(CH2)2-、−(CH2)3−、−(C
H2)4−、−(CH2)5−、−(CH2)6−、−(CH2)7−、−(C
H2)8−、−CH(CH3)−、−C(CH3)2−、−(CH(CH3))2−、
−(CH2)2C(CH3)2−、−(CH2)3C(CH3)2−などが挙げられ
る。炭素数２ないし８のアルケニレンとしては、例え
ば、−CH＝CH−、−CH2−CH＝CH−、−C(CH3)2−CH＝CH
−、−CH2−CH＝CH−CH2−、−CH2−CH2−CH＝CH−、−
CH＝CH−CH＝CH−、−CH＝CH−CH2−CH2−CH2−などが
挙げられる。炭素数２ないし８のアルキニレンとして
は、例えば、−C≡C−、−CH2−C≡C−、−CH2−C≡C−
CH2−CH2−などが挙げられる。
Ｗで示される「２価の炭化水素基」としては、例えば
「２価の非環状炭化水素基」および「２価の環状炭化水
素基」が挙げられる。「２価の非環状炭化水素基」とし
ては、炭素数１ないし８のアルキレン、炭素数２ないし
８のアルケニレン、炭素数２ないし８のアルキニレンな
どが挙げられる。炭素数１ないし８のアルキレンとして
は、例えば、−CH2−、−(CH2)2-、−(CH2)3−、−(C
H2)4−、−(CH2)5−、−(CH2)6−、−(CH2)7−、−(C
H2)8−、−CH(CH3)−、−C(CH3)2−、−(CH(CH3))2−、
−(CH2)2C(CH3)2−、−(CH2)3C(CH3)2−などが挙げられ
る。炭素数２ないし８のアルケニレンとしては、例え
ば、−CH＝CH−、−CH2−CH＝CH−、−C(CH3)2−CH＝CH
−、−CH2−CH＝CH−CH2−、−CH2−CH2−CH＝CH−、−
CH＝CH−CH＝CH−、−CH＝CH−CH2−CH2−CH2−などが
挙げられる。炭素数２ないし８のアルキニレンとして
は、例えば、−C≡C−、−CH2−C≡C−、−CH2−C≡C−
CH2−CH2−などが挙げられる。
【００４２】「２価の環状炭化水素基」としては、炭素
数５ないし８のシクロアルカン、炭素数５ないし８のシ
クロアルケン、炭素数６ないし１４の芳香族炭化水素
（例、ベンゼン、ナフタレン、インデン、アントラセン
など）、炭素数１２ないし２０の環集合炭化水素（例、
ビフェニル、シクロヘキシルベンゼン、１，１’−ビナ
フチル、１，２’−ビナフチルなど）から任意の２個の
水素原子を除いて得られる２価基などが挙げられる。こ
れらシクロアルカン、炭素数５ないし８のシクロアルケ
ン、炭素数６ないし１４の芳香族炭化水素および炭素数
１２ないし２０の環集合炭化水素は、炭素数１ないし４
のアルキル基（例、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピルなど）などの置換基を１ないし４個有していても
よい。「２価の環状炭化水素基」の具体例としては、
１，２−シクロペンチレン、１，３−シクロペンチレ
ン、１，２−シクロヘキシレン、１，３−シクロヘキシ
レン、１，４−シクロヘキシレン、１，２−シクロヘプ
チレン、１，３−シクロヘプチレン、１，４−シクロヘ
プチレン、３−シクロヘキセン−１，４−イレン、３−
シクロヘキセン−１，２−イレン、２，５−シクロヘキ
サジエン−１，４−イレン、１，２−フェニレン、１，
３−フェニレン、１，４−フェニレン、１，４−ナフチ
レン、１，６−ナフチレン、２，６−ナフチレン、２，
７−ナフチレン、１，５−インデニレン、２，５−イン
デニレン、１，１’−ビナフチル−２，２’−ジイルな
どが挙げられる。
数５ないし８のシクロアルカン、炭素数５ないし８のシ
クロアルケン、炭素数６ないし１４の芳香族炭化水素
（例、ベンゼン、ナフタレン、インデン、アントラセン
など）、炭素数１２ないし２０の環集合炭化水素（例、
ビフェニル、シクロヘキシルベンゼン、１，１’−ビナ
フチル、１，２’−ビナフチルなど）から任意の２個の
水素原子を除いて得られる２価基などが挙げられる。こ
れらシクロアルカン、炭素数５ないし８のシクロアルケ
ン、炭素数６ないし１４の芳香族炭化水素および炭素数
１２ないし２０の環集合炭化水素は、炭素数１ないし４
のアルキル基（例、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピルなど）などの置換基を１ないし４個有していても
よい。「２価の環状炭化水素基」の具体例としては、
１，２−シクロペンチレン、１，３−シクロペンチレ
ン、１，２−シクロヘキシレン、１，３−シクロヘキシ
レン、１，４−シクロヘキシレン、１，２−シクロヘプ
チレン、１，３−シクロヘプチレン、１，４−シクロヘ
プチレン、３−シクロヘキセン−１，４−イレン、３−
シクロヘキセン−１，２−イレン、２，５−シクロヘキ
サジエン−１，４−イレン、１，２−フェニレン、１，
３−フェニレン、１，４−フェニレン、１，４−ナフチ
レン、１，６−ナフチレン、２，６−ナフチレン、２，
７−ナフチレン、１，５−インデニレン、２，５−イン
デニレン、１，１’−ビナフチル−２，２’−ジイルな
どが挙げられる。
【００４３】ＺおよびＷは、好ましくは炭素数１ないし
８のアルキレン（好ましくはエチレン）、フェニレン、
１，１’−ビナフチル−２，２’−ジイルなどである。
８のアルキレン（好ましくはエチレン）、フェニレン、
１，１’−ビナフチル−２，２’−ジイルなどである。
【００４４】一般式（III）で表されるホスフィンの具
体例としては、例えばトリメチルホスフィン、トリエチ
ルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリフェニルホ
スフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリ（p-ト
リル）ホスフィン、ジフェニルメチルホスフィン、ジメ
チルフェニルホスフィンなどの三級ホスフィンが挙げら
れる。また、該ホスフィンは、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5が、
三種とも異なる基である光学活性ホスフィン、またはＲ
3、Ｒ4およびＲ5の少なくとも一種が光学活性基である
光学活性ホスフィンであることが好ましい。
体例としては、例えばトリメチルホスフィン、トリエチ
ルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリフェニルホ
スフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリ（p-ト
リル）ホスフィン、ジフェニルメチルホスフィン、ジメ
チルフェニルホスフィンなどの三級ホスフィンが挙げら
れる。また、該ホスフィンは、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5が、
三種とも異なる基である光学活性ホスフィン、またはＲ
3、Ｒ4およびＲ5の少なくとも一種が光学活性基である
光学活性ホスフィンであることが好ましい。
【００４５】一般式（IV）で表されるホスフィンの具体
例としては、例えばビス(ジフェニルホスフィノ)メタ
ン；ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン；ビス(ジフェ
ニルホスフィノ)プロパン；ビス(ジフェニルホスフィ
ノ)ブタン；ビス(ジメチルホスフィノ)エタン；ビス(ジ
メチルホスフィノ)プロパン；2，2’-ビス（ジフェニル
ホスフィノ）-1，1’-ビナフチル （以下、BINAPと略
記することがある）；BINAPのナフチル環にアルキル基
やアリール基等の置換基をもつBINAP誘導体（2，2’-ビ
ス（ジフェニルホスフィノ）-6,6’-ジメチル-1，1’-
ビナフチル）；BINAPのナフチル環が部分的に水素化さ
れたBINAP誘導体、たとえばH8 BINAP （2，2’-ビス
（ジフェニルホスフィノ）-5,6,7,8,5’,6’,7’,8’−
オクタヒドロ−1，1’-ビナフチル）；BINAPのリン原子
上の1個のベンゼン環にアルキル基置換基を1ないし5個
有するBINAP誘導体、たとえば2，2’-ビス（ジ-p-トリ
ルホスフィノ）-1，1’-ビナフチル （Tol- BINAP）、
2，2’-ビス〔ビス（3，5-ジメチルフェニル）ホスフィ
ノ〕-1，1’-ビナフチル （Xyl-BINAP）；2，2’-ビス
（ジシクロヘキシルホスフィノ）-6，6’-ジメチル-1，
1’-ビフェニル （BICHEP）；2，3-ビス（ジフェニル
ホスフィノ）ブタン （CHIRAPHOS）；1-シクロヘキシ
ル-1，2-ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン （CYCP
HOS）；1，2-ビス〔（o-メトキシフェニル）フェニルホ
スフィノ〕エタン （DIPAMP）；1，2-ビス（ジフェニ
ルホスフィノ）プロパン （PROPHOS）；2，4-ビス（ジ
フェニルホスフィノ）ペンタン （SKEWPHOS）などの3
級ホスフィンなどが挙げられる。該ホスフィンは、好ま
しくは光学活性ホスフィンであり、なかでも、BINAP、H
8 BINAP、Tol- BINAP、Xyl-BINAP、BICHEP、CHIRAPHO
S、CYCPHOS、DIPAMP、PROPHOS、SKEWPHOSなどの光学活
性ホスフィンが好ましい。とりわけ、BINAP、Xyl-BINAP
などが好ましい。
例としては、例えばビス(ジフェニルホスフィノ)メタ
ン；ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン；ビス(ジフェ
ニルホスフィノ)プロパン；ビス(ジフェニルホスフィ
ノ)ブタン；ビス(ジメチルホスフィノ)エタン；ビス(ジ
メチルホスフィノ)プロパン；2，2’-ビス（ジフェニル
ホスフィノ）-1，1’-ビナフチル （以下、BINAPと略
記することがある）；BINAPのナフチル環にアルキル基
やアリール基等の置換基をもつBINAP誘導体（2，2’-ビ
ス（ジフェニルホスフィノ）-6,6’-ジメチル-1，1’-
ビナフチル）；BINAPのナフチル環が部分的に水素化さ
れたBINAP誘導体、たとえばH8 BINAP （2，2’-ビス
（ジフェニルホスフィノ）-5,6,7,8,5’,6’,7’,8’−
オクタヒドロ−1，1’-ビナフチル）；BINAPのリン原子
上の1個のベンゼン環にアルキル基置換基を1ないし5個
有するBINAP誘導体、たとえば2，2’-ビス（ジ-p-トリ
ルホスフィノ）-1，1’-ビナフチル （Tol- BINAP）、
2，2’-ビス〔ビス（3，5-ジメチルフェニル）ホスフィ
ノ〕-1，1’-ビナフチル （Xyl-BINAP）；2，2’-ビス
（ジシクロヘキシルホスフィノ）-6，6’-ジメチル-1，
1’-ビフェニル （BICHEP）；2，3-ビス（ジフェニル
ホスフィノ）ブタン （CHIRAPHOS）；1-シクロヘキシ
ル-1，2-ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン （CYCP
HOS）；1，2-ビス〔（o-メトキシフェニル）フェニルホ
スフィノ〕エタン （DIPAMP）；1，2-ビス（ジフェニ
ルホスフィノ）プロパン （PROPHOS）；2，4-ビス（ジ
フェニルホスフィノ）ペンタン （SKEWPHOS）などの3
級ホスフィンなどが挙げられる。該ホスフィンは、好ま
しくは光学活性ホスフィンであり、なかでも、BINAP、H
8 BINAP、Tol- BINAP、Xyl-BINAP、BICHEP、CHIRAPHO
S、CYCPHOS、DIPAMP、PROPHOS、SKEWPHOSなどの光学活
性ホスフィンが好ましい。とりわけ、BINAP、Xyl-BINAP
などが好ましい。
【００４６】さらに、一般式（IV）で表されるホスフィ
ンと同様にして、1-〔1’，2-ビス（ジフェニルホスフ
ィノ）フェロセニル〕エチルジアミン （BPPFA）、1-
置換-3，4-ビス（ジフェニルホスフィノ）ピロリジン
（DEGPHOS）、2，3-O-イソプロピリデン-2，3-ジヒドロ
キシ-1，4-ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン （DI
OP）、（置換-1，2-ビス（ホスホラノ）ベンゼン）
（DuPHOS）、5，6-ビス（ジフェニルホスフィノ）-2-ノ
ルボルネン （NORPHOS）、N，N’-ビス（ジフェニルホ
スフィノ）-N，N’-ビス（１−フェニルエチル）エチレ
ンジアミン （PNNP）などの光学活性ホスフィンを用い
ることもできる。
ンと同様にして、1-〔1’，2-ビス（ジフェニルホスフ
ィノ）フェロセニル〕エチルジアミン （BPPFA）、1-
置換-3，4-ビス（ジフェニルホスフィノ）ピロリジン
（DEGPHOS）、2，3-O-イソプロピリデン-2，3-ジヒドロ
キシ-1，4-ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン （DI
OP）、（置換-1，2-ビス（ホスホラノ）ベンゼン）
（DuPHOS）、5，6-ビス（ジフェニルホスフィノ）-2-ノ
ルボルネン （NORPHOS）、N，N’-ビス（ジフェニルホ
スフィノ）-N，N’-ビス（１−フェニルエチル）エチレ
ンジアミン （PNNP）などの光学活性ホスフィンを用い
ることもできる。
【００４７】一般式（Ｖ）で表されるアミンとしては、
例えばメチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、
ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、シク
ロペンチルアミン、シクロヘキシルアミン、ベンジルア
ミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルア
ミン、ジヘキシルアミン、ジシクロペンチルアミン、ジ
シクロヘキシルアミン、ジベンジルアミン、ジフェニル
アミン、フェニルエチルアミン、ピペリジン、ピペラジ
ン、フェニルエチルアミン、ナフチルエチルアミン、シ
クロヘキシルエチルアミン、シクロヘプチルエチルアミ
ンなどが挙げられる。該アミンは、好ましくは光学活性
アミンであり、なかでも、フェニルエチルアミン、ナフ
チルエチルアミン、シクロヘキシルエチルアミン、シク
ロヘプチルエチルアミンなどの光学活性アミンが好まし
い。
例えばメチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、
ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、シク
ロペンチルアミン、シクロヘキシルアミン、ベンジルア
ミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルア
ミン、ジヘキシルアミン、ジシクロペンチルアミン、ジ
シクロヘキシルアミン、ジベンジルアミン、ジフェニル
アミン、フェニルエチルアミン、ピペリジン、ピペラジ
ン、フェニルエチルアミン、ナフチルエチルアミン、シ
クロヘキシルエチルアミン、シクロヘプチルエチルアミ
ンなどが挙げられる。該アミンは、好ましくは光学活性
アミンであり、なかでも、フェニルエチルアミン、ナフ
チルエチルアミン、シクロヘキシルエチルアミン、シク
ロヘプチルエチルアミンなどの光学活性アミンが好まし
い。
【００４８】一般式（VI）で表されるアミンとしては、
例えばメチレンジアミン、エチレンジアミン、1，2-ジ
アミノプロパン、1，3-ジアミノプロパン、1，4-ジアミ
ノブタン、2，3-ジアミノブタン、1，2-シクロペンタン
ジアミン、1，2-シクロヘキサンジアミン、N-メチルエ
チレンジアミン、N，N’-ジメチルエチレンジアミン、o
-フェニレンジアミン、p-フェニレンジアミン、1，2-ジ
フェニルエチレンジアミン、1，2-シクロヘキサンジア
ミン、1，2-シクロヘプタンジアミン、2，3-ジメチルブ
タンジアミン、1-メチル−2，2-ジフェニルエチレンジ
アミン、1-イソブチル−2，2-ジフェニルエチレンジア
ミン、1-イソプロピル−2，2-ジフェニルエチレンジア
ミン、1-メチル-2，2-ビス（p-メトキシフェニル）エチ
レンジアミン、1-イソブチル-2，2-ビス（p-メトキシフ
ェニル）エチレンジアミン、1-イソプロピル-2，2-ビス
（p-メトキシフェニル）エチレンジアミン、1-ベンジル
-2，2-ビス（p-メトキシフェニル）エチレンジアミン、
1-メチル-2，2-ジナフチルエチレンジアミン、1-イソブ
チル-2，2-ジナフチルエチレンジアミン、1-イソプロピ
ル-2，2-ジナフチルエチレンジアミンなどが挙げられ
る。該アミンは、好ましくは光学活性アミンであり、な
かでも、1，2-ジフェニルエチレンジアミン、1，2-シク
ロヘキサンジアミン、1，2-シクロヘプタンジアミン、
2，3-ジメチルブタンジアミン、1-メチル−2，2-ジフェ
ニルエチレンジアミン、1-イソブチル−2，2-ジフェニ
ルエチレンジアミン、1-イソプロピル−2，2-ジフェニ
ルエチレンジアミン、1-メチル-2，2-ビス（p-メトキシ
フェニル）エチレンジアミン、1-イソブチル-2，2-ビス
（p-メトキシフェニル）エチレンジアミン、1-イソプロ
ピル-2，2-ビス（p-メトキシフェニル）エチレンジアミ
ン、1-ベンジル-2，2-ビス（p-メトキシフェニル）エチ
レンジアミン、1-メチル-2，2-ジナフチルエチレンジア
ミン、1-イソブチル-2，2-ジナフチルエチレンジアミ
ン、1-イソプロピル-2，2-ジナフチルエチレンジアミン
などの光学活性アミンが好ましい。とりわけ、1，2-ジ
フェニルエチレンジアミン、1-イソプロピル-2，2-ビス
（p-メトキシフェニル）エチレンジアミンなどが好まし
い。
例えばメチレンジアミン、エチレンジアミン、1，2-ジ
アミノプロパン、1，3-ジアミノプロパン、1，4-ジアミ
ノブタン、2，3-ジアミノブタン、1，2-シクロペンタン
ジアミン、1，2-シクロヘキサンジアミン、N-メチルエ
チレンジアミン、N，N’-ジメチルエチレンジアミン、o
-フェニレンジアミン、p-フェニレンジアミン、1，2-ジ
フェニルエチレンジアミン、1，2-シクロヘキサンジア
ミン、1，2-シクロヘプタンジアミン、2，3-ジメチルブ
タンジアミン、1-メチル−2，2-ジフェニルエチレンジ
アミン、1-イソブチル−2，2-ジフェニルエチレンジア
ミン、1-イソプロピル−2，2-ジフェニルエチレンジア
ミン、1-メチル-2，2-ビス（p-メトキシフェニル）エチ
レンジアミン、1-イソブチル-2，2-ビス（p-メトキシフ
ェニル）エチレンジアミン、1-イソプロピル-2，2-ビス
（p-メトキシフェニル）エチレンジアミン、1-ベンジル
-2，2-ビス（p-メトキシフェニル）エチレンジアミン、
1-メチル-2，2-ジナフチルエチレンジアミン、1-イソブ
チル-2，2-ジナフチルエチレンジアミン、1-イソプロピ
ル-2，2-ジナフチルエチレンジアミンなどが挙げられ
る。該アミンは、好ましくは光学活性アミンであり、な
かでも、1，2-ジフェニルエチレンジアミン、1，2-シク
ロヘキサンジアミン、1，2-シクロヘプタンジアミン、
2，3-ジメチルブタンジアミン、1-メチル−2，2-ジフェ
ニルエチレンジアミン、1-イソブチル−2，2-ジフェニ
ルエチレンジアミン、1-イソプロピル−2，2-ジフェニ
ルエチレンジアミン、1-メチル-2，2-ビス（p-メトキシ
フェニル）エチレンジアミン、1-イソブチル-2，2-ビス
（p-メトキシフェニル）エチレンジアミン、1-イソプロ
ピル-2，2-ビス（p-メトキシフェニル）エチレンジアミ
ン、1-ベンジル-2，2-ビス（p-メトキシフェニル）エチ
レンジアミン、1-メチル-2，2-ジナフチルエチレンジア
ミン、1-イソブチル-2，2-ジナフチルエチレンジアミ
ン、1-イソプロピル-2，2-ジナフチルエチレンジアミン
などの光学活性アミンが好ましい。とりわけ、1，2-ジ
フェニルエチレンジアミン、1-イソプロピル-2，2-ビス
（p-メトキシフェニル）エチレンジアミンなどが好まし
い。
【００４９】さらに、一般式（VI）で表されるアミンと
同様にして、プロパンジアミン誘導体、ブタンジアミン
誘導体、フェニレンジアミン誘導体、シクロヘキサンジ
アミン誘導体などの光学活性アミンを用いることもでき
る。
同様にして、プロパンジアミン誘導体、ブタンジアミン
誘導体、フェニレンジアミン誘導体、シクロヘキサンジ
アミン誘導体などの光学活性アミンを用いることもでき
る。
【００５０】ルテニウム錯体としては、例えば塩化ルテ
ニウム（ＩＩＩ）水和物、臭化ルテニウム（ＩＩＩ）水
和物、ヨウ化ルテニウム（ＩＩＩ）水和物などの無機ル
テニウム化合物；［２塩化ルテニウム（ノルボルナジエ
ン）多核体］、［２塩化ルテニウム（シクロオクタジエ
ン）多核体］、ビス（メチルアリル）ルテニウム（シク
ロオクタジエン）などのジエンが配位したルテニウム化
合物；［２塩化ルテニウム（ベンゼン）二核体］、［２
塩化ルテニウム（ｐ−シメン）二核体］、［２塩化ルテ
ニウム（トリメチルベンゼン）二核体］、［２塩化ルテ
ニウム（ヘキサメチルベンゼン）二核体］などの芳香族
化合物が配位したルテニウム錯体；ジクロロトリス（ト
リフェニルホスフィン）ルテニウムなどのホスフィンが
配位したルテニウム錯体などが挙げられる。
ニウム（ＩＩＩ）水和物、臭化ルテニウム（ＩＩＩ）水
和物、ヨウ化ルテニウム（ＩＩＩ）水和物などの無機ル
テニウム化合物；［２塩化ルテニウム（ノルボルナジエ
ン）多核体］、［２塩化ルテニウム（シクロオクタジエ
ン）多核体］、ビス（メチルアリル）ルテニウム（シク
ロオクタジエン）などのジエンが配位したルテニウム化
合物；［２塩化ルテニウム（ベンゼン）二核体］、［２
塩化ルテニウム（ｐ−シメン）二核体］、［２塩化ルテ
ニウム（トリメチルベンゼン）二核体］、［２塩化ルテ
ニウム（ヘキサメチルベンゼン）二核体］などの芳香族
化合物が配位したルテニウム錯体；ジクロロトリス（ト
リフェニルホスフィン）ルテニウムなどのホスフィンが
配位したルテニウム錯体などが挙げられる。
【００５１】本発明の製造法において用いられる光学活
性なルテニウム-ホスフィン-アミン錯体の好適な例とし
ては、以下のようなものが挙げられる。 （１）一般式（VII） ＲｕＸＹ（ＰＲ3Ｒ4Ｒ5）ｍ（ＮＨＲ8Ｒ9）ｎ ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表される錯体、 （２）一般式（VIII） ＲｕＸＹ（ＰＲ3Ｒ4Ｒ5）ｍ（Ｒ8ＨＮ−Ｚ−ＮＨＲ9）
ｎ ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表される錯体、 （３）一般式（IX） ＲｕＸＹ（Ｒ3Ｒ4Ｐ−Ｗ−ＰＲ6Ｒ7）ｍ（ＮＨＲ8Ｒ9）
ｎ ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表される錯体、
および （４）一般式（Ｘ） ＲｕＸＹ（Ｒ3Ｒ4Ｐ−Ｗ−ＰＲ6Ｒ7）ｍ（Ｒ8ＨＮ−Ｚ
−ＮＨＲ9）ｎ ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表される錯体。
前記一般式（VII）〜（Ｘ）において、ＸおよびＹは、
同一または異なって水素原子、ハロゲン原子（例、フッ
素、塩素、臭素、ヨウ素）またはカルボキシル基を示す
が、とりわけＸおよびＹが共にハロゲン原子（好ましく
は塩素）であることが好ましい。前記一般式（VII）〜
（Ｘ）において、ｍおよびｎは同一または異なって０な
いし４の整数を示すが、とりわけｍおよびｎが共に１で
あることが好ましい。上記した錯体のうち、一般式
（Ｘ）で表される錯体が好ましい。
性なルテニウム-ホスフィン-アミン錯体の好適な例とし
ては、以下のようなものが挙げられる。 （１）一般式（VII） ＲｕＸＹ（ＰＲ3Ｒ4Ｒ5）ｍ（ＮＨＲ8Ｒ9）ｎ ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表される錯体、 （２）一般式（VIII） ＲｕＸＹ（ＰＲ3Ｒ4Ｒ5）ｍ（Ｒ8ＨＮ−Ｚ−ＮＨＲ9）
ｎ ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表される錯体、 （３）一般式（IX） ＲｕＸＹ（Ｒ3Ｒ4Ｐ−Ｗ−ＰＲ6Ｒ7）ｍ（ＮＨＲ8Ｒ9）
ｎ ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表される錯体、
および （４）一般式（Ｘ） ＲｕＸＹ（Ｒ3Ｒ4Ｐ−Ｗ−ＰＲ6Ｒ7）ｍ（Ｒ8ＨＮ−Ｚ
−ＮＨＲ9）ｎ ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表される錯体。
前記一般式（VII）〜（Ｘ）において、ＸおよびＹは、
同一または異なって水素原子、ハロゲン原子（例、フッ
素、塩素、臭素、ヨウ素）またはカルボキシル基を示す
が、とりわけＸおよびＹが共にハロゲン原子（好ましく
は塩素）であることが好ましい。前記一般式（VII）〜
（Ｘ）において、ｍおよびｎは同一または異なって０な
いし４の整数を示すが、とりわけｍおよびｎが共に１で
あることが好ましい。上記した錯体のうち、一般式
（Ｘ）で表される錯体が好ましい。
【００５２】また、一般式（Ｘ）で表される錯体の好適
な例としては、例えば一般式（XI） ＲｕＸＹ（xylBINAP）（DAIPEN） ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表される錯体、
一般式（XII） ＲｕＸＹ（BINAP）（DPEN） ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表される錯体な
どが挙げられる。本発明の製造法において用いられる光
学活性なルテニウム-ホスフィン-アミン錯体の特に好適
な例としては、例えばＲｕＣｌ2［（Ｓ）−xylBINAP］
［（Ｓ）−DAIPEN］、ＲｕＣｌ2［（Ｒ）−xylBINAP］
［（Ｒ）−DAIPEN］、ＲｕＣｌ2［（Ｓ）−BINAP］
［（Ｓ）−DPEN］、ＲｕＣｌ2［（Ｒ）−BINAP］
［（Ｒ）−DPEN］などが挙げられる。
な例としては、例えば一般式（XI） ＲｕＸＹ（xylBINAP）（DAIPEN） ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表される錯体、
一般式（XII） ＲｕＸＹ（BINAP）（DPEN） ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表される錯体な
どが挙げられる。本発明の製造法において用いられる光
学活性なルテニウム-ホスフィン-アミン錯体の特に好適
な例としては、例えばＲｕＣｌ2［（Ｓ）−xylBINAP］
［（Ｓ）−DAIPEN］、ＲｕＣｌ2［（Ｒ）−xylBINAP］
［（Ｒ）−DAIPEN］、ＲｕＣｌ2［（Ｓ）−BINAP］
［（Ｓ）−DPEN］、ＲｕＣｌ2［（Ｒ）−BINAP］
［（Ｒ）−DPEN］などが挙げられる。
【００５３】本発明の製造法において、光学活性なルテ
ニウム-ホスフィン-アミン錯体の使用量は、反応容器、
反応の形式などによっても異なるが、反応基質である化
合物（Ｉ）１モルに対して、例えば1/10〜1／100,000モ
ル、好ましくは1/50〜1/10,000モルである。
ニウム-ホスフィン-アミン錯体の使用量は、反応容器、
反応の形式などによっても異なるが、反応基質である化
合物（Ｉ）１モルに対して、例えば1/10〜1／100,000モ
ル、好ましくは1/50〜1/10,000モルである。
【００５４】本発明の製造法で用いられる塩基として
は、例えば一般式（XIII） Ｍ（Ｙ1）ｑ ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表される化合物
が挙げられる。ここで、Ｍで示されるアルカリ金属とし
ては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、
セシウムが挙げられる。なかでも、ナトリウム、カリウ
ムが好ましく、特にカリウムが好ましい。Ｍで示される
アルカリ土類金属としては、マグネシウム、カルシウ
ム、ストロンチウム、バリウムが挙げられる。なかで
も、カルシウムが好ましい。Ｍは、好ましくはアルカリ
金属である。Ｙ1で示されるアルコキシ基としては、Ａ
環およびＢ環における置換基として例示したもののう
ち、炭素数１ないし４のアルコキシ基、例えばメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、 tert−ブトキシ等
が挙げられる。なかでも、メトキシ、イソプロポキシ、
tert-ブトキシが好ましい。Ｙ1で示されるアルキルチ
オ基としては、Ｒ3などで示される「置換基を有してい
てもよい炭化水素基」における置換基として例示したア
ルキルチオ基のうち、炭素数１ないし４のアルキルチオ
基、例えばメチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イ
ソプロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ、sec−
ブチルチオ、tert−ブチルチオが挙げられる。なかで
も、メチルチオが好ましい。ｑは、１または２を示す
が、好ましくは１である。
は、例えば一般式（XIII） Ｍ（Ｙ1）ｑ ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表される化合物
が挙げられる。ここで、Ｍで示されるアルカリ金属とし
ては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、
セシウムが挙げられる。なかでも、ナトリウム、カリウ
ムが好ましく、特にカリウムが好ましい。Ｍで示される
アルカリ土類金属としては、マグネシウム、カルシウ
ム、ストロンチウム、バリウムが挙げられる。なかで
も、カルシウムが好ましい。Ｍは、好ましくはアルカリ
金属である。Ｙ1で示されるアルコキシ基としては、Ａ
環およびＢ環における置換基として例示したもののう
ち、炭素数１ないし４のアルコキシ基、例えばメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、 tert−ブトキシ等
が挙げられる。なかでも、メトキシ、イソプロポキシ、
tert-ブトキシが好ましい。Ｙ1で示されるアルキルチ
オ基としては、Ｒ3などで示される「置換基を有してい
てもよい炭化水素基」における置換基として例示したア
ルキルチオ基のうち、炭素数１ないし４のアルキルチオ
基、例えばメチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イ
ソプロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ、sec−
ブチルチオ、tert−ブチルチオが挙げられる。なかで
も、メチルチオが好ましい。ｑは、１または２を示す
が、好ましくは１である。
【００５５】一般式（XIII）で表される塩基の具体例と
しては、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化セ
シウムなどの水酸化アルカリ金属；メトキシリチウム、
メトキシナトリウム、メトキシカリウム、エトキシリチ
ウム、エトキシナトリウム、エトキシカリウム、プロポ
キシリチウム、プロポキシナトリウム、プロポキシカリ
ウム、イソプロポキシリチウム、イソプロポキシナトリ
ウム、イソプロポキシカリウム、 tert-ブトキシカリウ
ムなどのアルコキシアルカリ金属；メチルチオナトリウ
ムなどのアルキルチオアルカリ金属などが挙げられる。
塩基は好ましくは、水酸化アルカリ金属およびアルコキ
シアルカリ金属であり、なかでも水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、イソプロポキシカリウム、 tert-ブトキ
シカリウムなどが好ましい。とりわけ水酸化カリウム及
びtert-ブトキシカリウムが好ましい。塩基の使用量
は、光学活性なルテニウム-ホスフィン-アミン錯体に対
して、例えば0.5ないし100当量、好ましくは2ないし40
当量である。
しては、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化セ
シウムなどの水酸化アルカリ金属；メトキシリチウム、
メトキシナトリウム、メトキシカリウム、エトキシリチ
ウム、エトキシナトリウム、エトキシカリウム、プロポ
キシリチウム、プロポキシナトリウム、プロポキシカリ
ウム、イソプロポキシリチウム、イソプロポキシナトリ
ウム、イソプロポキシカリウム、 tert-ブトキシカリウ
ムなどのアルコキシアルカリ金属；メチルチオナトリウ
ムなどのアルキルチオアルカリ金属などが挙げられる。
塩基は好ましくは、水酸化アルカリ金属およびアルコキ
シアルカリ金属であり、なかでも水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、イソプロポキシカリウム、 tert-ブトキ
シカリウムなどが好ましい。とりわけ水酸化カリウム及
びtert-ブトキシカリウムが好ましい。塩基の使用量
は、光学活性なルテニウム-ホスフィン-アミン錯体に対
して、例えば0.5ないし100当量、好ましくは2ないし40
当量である。
【００５６】なお、ルテニウム-ホスフィン-アミン錯体
として、一般式（VII）〜（XII）で表され、かつＸおよ
びＹの少なくとも一方が水素原子である錯体を用いる場
合、前記した塩基の代わりに、例えば、水素化ホウ素ナ
トリウム、水素化リチウムアルミニウム等の金属水素化
物；臭化メチルマグネシウム、臭化エチルマグネシウ
ム、臭化プロピルマグネシウム、メチルリチウム、エチ
ルリチウム、プロピルリチウム等の有機金属化合物も用
いることもできる。これら金属水素化物または有機金属
化合物の使用量は、前記した塩基の場合と同様である。
として、一般式（VII）〜（XII）で表され、かつＸおよ
びＹの少なくとも一方が水素原子である錯体を用いる場
合、前記した塩基の代わりに、例えば、水素化ホウ素ナ
トリウム、水素化リチウムアルミニウム等の金属水素化
物；臭化メチルマグネシウム、臭化エチルマグネシウ
ム、臭化プロピルマグネシウム、メチルリチウム、エチ
ルリチウム、プロピルリチウム等の有機金属化合物も用
いることもできる。これら金属水素化物または有機金属
化合物の使用量は、前記した塩基の場合と同様である。
【００５７】本発明の製造法において、一般式（Ｉ）で
表される化合物またはその塩（以下、化合物（Ｉ）と略
記することがある）の水素化は、通常適宜の溶媒中で行
われる。このような溶媒は、反応に悪影響を及ぼさず、
原料化合物および触媒を可溶化するものであれば特に制
限されず、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素；ヘプタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素；塩化メチ
レン等のハロゲン化炭化水素；ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン等のエーテル；メタノール、エタノー
ル、2-プロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール
等のアルコール；アセトニトリルなどのニトリル；DMF
（ジメチルホルムアミド）、DMSO（ジメチルスルホキシ
ド）などが用いられる。これらの溶媒は、適宜の割合で
混合して用いてもよい。溶媒は、好ましくはアルコール
であり、とりわけ2-プロパノールが好ましい。上記した
溶媒は、乾燥、脱気した後、反応に用いることが好まし
い。溶媒の使用量は、化合物（Ｉ）の溶解度などにより
適宜決定される。例えば溶媒としてアルコール（好まし
くは2-プロパノール）を用いる場合、無溶媒に近い状態
から、化合物（Ｉ）の１００重量倍以上の溶媒中で反応
を行うことができるが、通常化合物（Ｉ）に対して2な
いし50重量倍用いることが好ましい。水素化は、バッチ
式又は連続式のいずれの反応によっても実施することが
できる。また、該水素化は、水素の存在下で行われ、水
素圧は、例えば1ないし200気圧、好ましくは1ないし10
気圧である。反応温度は、好ましくは-30℃ないし100
℃、さらに好ましくは10ないし50℃、特に好ましくは20
ないし50℃である。反応時間は、好ましくは0.5ないし4
8時間、さらに好ましくは2ないし24時間である。
表される化合物またはその塩（以下、化合物（Ｉ）と略
記することがある）の水素化は、通常適宜の溶媒中で行
われる。このような溶媒は、反応に悪影響を及ぼさず、
原料化合物および触媒を可溶化するものであれば特に制
限されず、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素；ヘプタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素；塩化メチ
レン等のハロゲン化炭化水素；ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン等のエーテル；メタノール、エタノー
ル、2-プロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール
等のアルコール；アセトニトリルなどのニトリル；DMF
（ジメチルホルムアミド）、DMSO（ジメチルスルホキシ
ド）などが用いられる。これらの溶媒は、適宜の割合で
混合して用いてもよい。溶媒は、好ましくはアルコール
であり、とりわけ2-プロパノールが好ましい。上記した
溶媒は、乾燥、脱気した後、反応に用いることが好まし
い。溶媒の使用量は、化合物（Ｉ）の溶解度などにより
適宜決定される。例えば溶媒としてアルコール（好まし
くは2-プロパノール）を用いる場合、無溶媒に近い状態
から、化合物（Ｉ）の１００重量倍以上の溶媒中で反応
を行うことができるが、通常化合物（Ｉ）に対して2な
いし50重量倍用いることが好ましい。水素化は、バッチ
式又は連続式のいずれの反応によっても実施することが
できる。また、該水素化は、水素の存在下で行われ、水
素圧は、例えば1ないし200気圧、好ましくは1ないし10
気圧である。反応温度は、好ましくは-30℃ないし100
℃、さらに好ましくは10ないし50℃、特に好ましくは20
ないし50℃である。反応時間は、好ましくは0.5ないし4
8時間、さらに好ましくは2ないし24時間である。
【００５８】本発明の製造法により得られる「一般式
（II）で表される化合物またはその塩の光学活性体」
は、公知の手段、例えば濃縮、溶媒抽出、分留、結晶
化、再結晶、クロマトグラフィー等によって単離、精製
することができる。一般式（II）および（III）〜（V
I）で表される化合物の塩としては、一般式（Ｉ）で表
される化合物の塩として例示したものが挙げられる。
（II）で表される化合物またはその塩の光学活性体」
は、公知の手段、例えば濃縮、溶媒抽出、分留、結晶
化、再結晶、クロマトグラフィー等によって単離、精製
することができる。一般式（II）および（III）〜（V
I）で表される化合物の塩としては、一般式（Ｉ）で表
される化合物の塩として例示したものが挙げられる。
【００５９】一般式（II）で表される化合物の塩の光学
活性体、すなわち光学活性ベンズヒドロール類は、医薬
（例えばスクアレン合成酵素阻害剤、トリグリセリド低
下剤など）の合成原料などとして有用である。
活性体、すなわち光学活性ベンズヒドロール類は、医薬
（例えばスクアレン合成酵素阻害剤、トリグリセリド低
下剤など）の合成原料などとして有用である。
【００６０】本発明において製造される光学活性な（2
−アミノ−5−クロロフェニル）（2，3−ジメトキシフ
ェニル）メタノールを用いて特開平9−136880号公報記
載の方法により、スクアレン合成酵素阻害作用を有する
Ｎ−[（3Ｒ，5Ｓ）-1-(3-アセトキシ−2，2−ジメチル
プロピル)-7-クロロ‐5−(2，3‐ジメトキシフェニル)
−2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒドロ−4，1−ベン
ゾオキサゼピン−3−アセチル]ピペリジン−4−酢酸を
製造できる。
−アミノ−5−クロロフェニル）（2，3−ジメトキシフ
ェニル）メタノールを用いて特開平9−136880号公報記
載の方法により、スクアレン合成酵素阻害作用を有する
Ｎ−[（3Ｒ，5Ｓ）-1-(3-アセトキシ−2，2−ジメチル
プロピル)-7-クロロ‐5−(2，3‐ジメトキシフェニル)
−2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒドロ−4，1−ベン
ゾオキサゼピン−3−アセチル]ピペリジン−4−酢酸を
製造できる。
【００６１】
【発明の実施の形態】以下に、実施例を挙げて本発明を
さらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定される
ものではなく、また本発明の範囲を逸脱しない範囲で変
化させてもよい。実施例で使用した光学活性なルテニウ
ム-ホスフィン-アミン錯体は、J. Am. Chem. Soc.,120,
13529 (1998)、Angew. Chem. Int. Ed., 37, 1703 (19
98)、特開平11-189600号公報に記載の方法またはそれに
準じる方法により合成した。また、反応はすべてアルゴ
ンガスまたは窒素ガス等の不活性ガス存在下で行い、溶
媒は乾燥、脱気したものを使用した。化学収率は、単離
収率または高速液体クロマトグラフィーで得られた収率
である。光学活性体の光学純度（不斉収率）は、鏡像体
過剰率(%e.e.)で評価した。該鏡像体過剰率は、次式に
より求めた。 鏡像体過剰率(%e.e.)=100 × [(R)-(S)]/[(R)+(S)] ま
たは100 × [(S)-(R)]/[(R)+(S)] （式中、(R)および(S)は鏡像体の絶対配置および各鏡像
体の高速液体クロマトグラフィーにおける面積を示
す。） 実施例におけるスペクトルの測定には次の機器を用い
た。 1H核磁気共鳴スペクトル(1H-NMR):JNM-AL400型(JEOL社
製) 内部標準物質；テトラメチルシラン 溶媒；CDCl3, DMSO-d6 実施例中、高速液体クロマトグラフィー条件の「保持時
間」において（）内の数値は、「光学異性体の混合物に
おける各光学異性体の生成比」を示す。また、実施例
中、室温とは１５ないし２５℃を意味する。
さらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定される
ものではなく、また本発明の範囲を逸脱しない範囲で変
化させてもよい。実施例で使用した光学活性なルテニウ
ム-ホスフィン-アミン錯体は、J. Am. Chem. Soc.,120,
13529 (1998)、Angew. Chem. Int. Ed., 37, 1703 (19
98)、特開平11-189600号公報に記載の方法またはそれに
準じる方法により合成した。また、反応はすべてアルゴ
ンガスまたは窒素ガス等の不活性ガス存在下で行い、溶
媒は乾燥、脱気したものを使用した。化学収率は、単離
収率または高速液体クロマトグラフィーで得られた収率
である。光学活性体の光学純度（不斉収率）は、鏡像体
過剰率(%e.e.)で評価した。該鏡像体過剰率は、次式に
より求めた。 鏡像体過剰率(%e.e.)=100 × [(R)-(S)]/[(R)+(S)] ま
たは100 × [(S)-(R)]/[(R)+(S)] （式中、(R)および(S)は鏡像体の絶対配置および各鏡像
体の高速液体クロマトグラフィーにおける面積を示
す。） 実施例におけるスペクトルの測定には次の機器を用い
た。 1H核磁気共鳴スペクトル(1H-NMR):JNM-AL400型(JEOL社
製) 内部標準物質；テトラメチルシラン 溶媒；CDCl3, DMSO-d6 実施例中、高速液体クロマトグラフィー条件の「保持時
間」において（）内の数値は、「光学異性体の混合物に
おける各光学異性体の生成比」を示す。また、実施例
中、室温とは１５ないし２５℃を意味する。
【００６２】
【実施例】実施例１ 光学活性なN-[4-クロロ-2-[ヒドロキシ(2-メトキシフェ
ニル)メチル]フェニル]-2,2-ジメチルプロパンアミドの
製造 100 mlのガラスオートクレーブに、 N-[4-クロロ-2-(2-
メトキシベンゾイル)]フェニル]-2,2-ジメチルプロパン
アミド173 mg (0.5 mmol)と[RuCl2[(S)-xylBINAP]][(S)
-DAIPEN] 1.2 mgを加え、アルゴンガスをオートクレー
ブに充満させた。一方、tert-ブトキシカリウム 0.01 m
l (1.0 Mのtert-ブタノール溶液として使用)の2-プロパ
ノール (5 ml) 溶液にアルゴンガスを吹きこんだ。得ら
れる溶液を上記したガラスオートクレーブに加え、さら
にアルゴンガスを吹きこんだ。得られる混合溶液を、水
素圧７気圧、室温で5時間撹拌した。反応液をHPLCで定
量したところ、鏡像体過剰率は99.3%e.e.で収率は93.6%
であった。 （高速液体クロマトグラフィー条件） カラム：CHIRALCEL OD（ダイセル化学工業株式会社製） 移動層：n-ヘキサン/エタノール (容積比：95/5) 流速：1.0 ml / min 検出：UV (254 nm) 温度：室温 保持時間：10 min (0.4%), 18 min (99.6%) 反応液を濃縮乾固して、得られた残さをシリカゲルクロ
マトグラフィー（n-ヘキサン/酢酸エチル=3/1（容積
比））で精製し、得られた結晶をn-ヘキサンで洗浄し
て、表題化合物を無色アモルファスとして得た。1 H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ: 1.11 (9H, s), 3.93 (3
H, s), 4.13 (1H, d, J =4 Hz), 6.00 (1H, d, J = 4 H
z), 6.84-7.00 (4H, m), 7.26-7.35 (2H, m), 8.20 (1
H, d, J = 8 Hz), 9.21 (1H, br s).
ニル)メチル]フェニル]-2,2-ジメチルプロパンアミドの
製造 100 mlのガラスオートクレーブに、 N-[4-クロロ-2-(2-
メトキシベンゾイル)]フェニル]-2,2-ジメチルプロパン
アミド173 mg (0.5 mmol)と[RuCl2[(S)-xylBINAP]][(S)
-DAIPEN] 1.2 mgを加え、アルゴンガスをオートクレー
ブに充満させた。一方、tert-ブトキシカリウム 0.01 m
l (1.0 Mのtert-ブタノール溶液として使用)の2-プロパ
ノール (5 ml) 溶液にアルゴンガスを吹きこんだ。得ら
れる溶液を上記したガラスオートクレーブに加え、さら
にアルゴンガスを吹きこんだ。得られる混合溶液を、水
素圧７気圧、室温で5時間撹拌した。反応液をHPLCで定
量したところ、鏡像体過剰率は99.3%e.e.で収率は93.6%
であった。 （高速液体クロマトグラフィー条件） カラム：CHIRALCEL OD（ダイセル化学工業株式会社製） 移動層：n-ヘキサン/エタノール (容積比：95/5) 流速：1.0 ml / min 検出：UV (254 nm) 温度：室温 保持時間：10 min (0.4%), 18 min (99.6%) 反応液を濃縮乾固して、得られた残さをシリカゲルクロ
マトグラフィー（n-ヘキサン/酢酸エチル=3/1（容積
比））で精製し、得られた結晶をn-ヘキサンで洗浄し
て、表題化合物を無色アモルファスとして得た。1 H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ: 1.11 (9H, s), 3.93 (3
H, s), 4.13 (1H, d, J =4 Hz), 6.00 (1H, d, J = 4 H
z), 6.84-7.00 (4H, m), 7.26-7.35 (2H, m), 8.20 (1
H, d, J = 8 Hz), 9.21 (1H, br s).
【００６３】実施例２ 光学活性なN-[4-クロロ-2-[(2,3-ジメトキシフェニル)
(ヒドロキシ)メチル]フェニル]-2,2-ジメチルプロパン
アミドの製造 100 mlのガラスオートクレーブに、 N-[4-クロロ-2-
[(2,3-ジメトキシベンゾイル)フェニル]-2,2-ジメチル
プロパンアミド940 mg (2.5 mmol)と[RuCl2[(S)-xylBIN
AP]][(S)-DAIPEN] 3.0 mgを加え、アルゴンガスをオー
トクレーブに充満させた。一方、tert-ブトキシカリウ
ム 0.01 ml (1.0 Mのtert-ブタノール溶液として使用)
の2-プロパノール (15 ml) 溶液にアルゴンガスを吹き
こんだ。得られる溶液を上記したガラスオートクレーブ
に加え、さらにアルゴンガスを吹きこんだ。得られる混
合溶液を、水素圧７気圧、室温で5時間撹拌した。反応
液をHPLCで定量したところ、鏡像体過剰率は99.6%e.e.
で収率は95.8%であった。 （高速液体クロマトグラフィー条件） カラム：CHIRALCEL OD（ダイセル化学工業株式会社製） 移動層：n-ヘキサン/エタノール (容積比：9/1) 流速：0.75 ml / min 検出：UV (254 nm) 温度：室温 保持時間：9 min (0.2%), 11 min (99.8%) 反応液を濃縮乾固して、得られた残さをシリカゲルクロ
マトグラフィー（n-ヘキサン/酢酸エチル=3/1（容積
比））で精製し、得られた結晶をn-ヘキサンで洗浄し
て、表題化合物を無色アモルファスとして得た。1 H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ: 1.13 (9H, s), 3.89 (3
H, s), 3.90 (3H, s), 4.28 (1H, d, J = 4 Hz), 5.99
(1H, d, J = 4 Hz), 6.52 (1H, d, J = 8 Hz),6.92-7.0
1 (3H, m), 7.31 (1H, dd, J = 8 and 2 Hz), 8.17 (1
H, d, J = 8 Hz), 9.21 (1H, br s).
(ヒドロキシ)メチル]フェニル]-2,2-ジメチルプロパン
アミドの製造 100 mlのガラスオートクレーブに、 N-[4-クロロ-2-
[(2,3-ジメトキシベンゾイル)フェニル]-2,2-ジメチル
プロパンアミド940 mg (2.5 mmol)と[RuCl2[(S)-xylBIN
AP]][(S)-DAIPEN] 3.0 mgを加え、アルゴンガスをオー
トクレーブに充満させた。一方、tert-ブトキシカリウ
ム 0.01 ml (1.0 Mのtert-ブタノール溶液として使用)
の2-プロパノール (15 ml) 溶液にアルゴンガスを吹き
こんだ。得られる溶液を上記したガラスオートクレーブ
に加え、さらにアルゴンガスを吹きこんだ。得られる混
合溶液を、水素圧７気圧、室温で5時間撹拌した。反応
液をHPLCで定量したところ、鏡像体過剰率は99.6%e.e.
で収率は95.8%であった。 （高速液体クロマトグラフィー条件） カラム：CHIRALCEL OD（ダイセル化学工業株式会社製） 移動層：n-ヘキサン/エタノール (容積比：9/1) 流速：0.75 ml / min 検出：UV (254 nm) 温度：室温 保持時間：9 min (0.2%), 11 min (99.8%) 反応液を濃縮乾固して、得られた残さをシリカゲルクロ
マトグラフィー（n-ヘキサン/酢酸エチル=3/1（容積
比））で精製し、得られた結晶をn-ヘキサンで洗浄し
て、表題化合物を無色アモルファスとして得た。1 H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ: 1.13 (9H, s), 3.89 (3
H, s), 3.90 (3H, s), 4.28 (1H, d, J = 4 Hz), 5.99
(1H, d, J = 4 Hz), 6.52 (1H, d, J = 8 Hz),6.92-7.0
1 (3H, m), 7.31 (1H, dd, J = 8 and 2 Hz), 8.17 (1
H, d, J = 8 Hz), 9.21 (1H, br s).
【００６４】実施例３ 光学活性なN-[4-クロロ-2-[(2,4-ジメトキシフェニル)
(ヒドロキシ)メチル]フェニル]-2,2-ジメチルプロパン
アミドの製造 100 mlのガラスオートクレーブに、 N-[4-クロロ-2-(2,
4-ジメトキシベンゾイル)フェニル]-2,2-ジメチルプロ
パンアミド188 mg (0.5 mmol)と[RuCl2[(S)-xylBINAP]]
[(S)-DAIPEN] 1.2 mg を加え、アルゴンガスをオートク
レーブに充満させた。一方、tert-ブトキシカリウム 0.
01 ml (1.0 Mのtert-ブタノール溶液として使用)の2-プ
ロパノール(5 ml)−トルエン (2 ml) 溶液にアルゴンガ
スを吹き込んだ。得られる溶液を上記したガラスオート
クレーブに加え、さらにアルゴンガスを吹き込んだ。得
られる混合溶液を、水素圧 ７気圧、室温で5時間撹拌し
た。反応液をHPLCで定量したところ、鏡像体過剰率は9
9.0%e.e.で収率は80.7%であった。 （高速液体クロマトグラフィー条件） カラム：CHIRALCEL OD（ダイセル化学工業株式会社製） 移動層：n-ヘキサン/エタノール (容積比：95/5) 流速：1.0 ml / min 検出：UV (254 nm) 温度：室温 保持時間：15 min (99.5%), 19 min (0.5%) 反応液を濃縮乾固して、得られた残さをシリカゲルクロ
マトグラフィー（n-ヘキサン/酢酸エチル=3/1（容積
比））で精製し、得られた結晶をn-ヘキサンで洗浄し
て、表題化合物を淡黄色アモルファスとして得た。1 H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ: 1.13 (9H, s), 3.80 (3
H, s), 3.90 (3H, s), 3.94 (1H, d, J = 4 Hz), 5.95
(1H, d, J = 4 Hz), 6.39 (1H, dd, J = 8 and 2Hz),,
6.55 (1H, d, J = 2 Hz), 6.73 (1H, d, J = 8 Hz), 6.
99 (1H, d, J = 2Hz), 7.30 (1H, dd, J = 8 and 2 H
z), 8.20 (1H, d, J = 8 Hz), 9.22 (1H, br s).
(ヒドロキシ)メチル]フェニル]-2,2-ジメチルプロパン
アミドの製造 100 mlのガラスオートクレーブに、 N-[4-クロロ-2-(2,
4-ジメトキシベンゾイル)フェニル]-2,2-ジメチルプロ
パンアミド188 mg (0.5 mmol)と[RuCl2[(S)-xylBINAP]]
[(S)-DAIPEN] 1.2 mg を加え、アルゴンガスをオートク
レーブに充満させた。一方、tert-ブトキシカリウム 0.
01 ml (1.0 Mのtert-ブタノール溶液として使用)の2-プ
ロパノール(5 ml)−トルエン (2 ml) 溶液にアルゴンガ
スを吹き込んだ。得られる溶液を上記したガラスオート
クレーブに加え、さらにアルゴンガスを吹き込んだ。得
られる混合溶液を、水素圧 ７気圧、室温で5時間撹拌し
た。反応液をHPLCで定量したところ、鏡像体過剰率は9
9.0%e.e.で収率は80.7%であった。 （高速液体クロマトグラフィー条件） カラム：CHIRALCEL OD（ダイセル化学工業株式会社製） 移動層：n-ヘキサン/エタノール (容積比：95/5) 流速：1.0 ml / min 検出：UV (254 nm) 温度：室温 保持時間：15 min (99.5%), 19 min (0.5%) 反応液を濃縮乾固して、得られた残さをシリカゲルクロ
マトグラフィー（n-ヘキサン/酢酸エチル=3/1（容積
比））で精製し、得られた結晶をn-ヘキサンで洗浄し
て、表題化合物を淡黄色アモルファスとして得た。1 H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ: 1.13 (9H, s), 3.80 (3
H, s), 3.90 (3H, s), 3.94 (1H, d, J = 4 Hz), 5.95
(1H, d, J = 4 Hz), 6.39 (1H, dd, J = 8 and 2Hz),,
6.55 (1H, d, J = 2 Hz), 6.73 (1H, d, J = 8 Hz), 6.
99 (1H, d, J = 2Hz), 7.30 (1H, dd, J = 8 and 2 H
z), 8.20 (1H, d, J = 8 Hz), 9.22 (1H, br s).
【００６５】実施例４ 光学活性なN-[4-クロロ-2-[(2-クロロフェニル)(ヒドロ
キシ)メチル]フェニル]アセタミドの製造 1000 mlのステンレスオートクレーブに、 N-[4-クロロ-
2- (2-クロロベンゾイル)フェニル]-アセタミド27.8g
(90.2 mmol)と[RuCl2[(S)-xylBINAP]][(S)-DAIPEN] 110
mg を加え、アルゴンガスをオートクレーブに充満させ
た。一方、tert-ブトキシカリウム1.9 ml (1.0 Mのtert
-ブタノール溶液として使用)の2-プロパノール(600 ml)
溶液にアルゴンガスを吹き込んだ。得られる溶液を上記
したステンレスオートクレーブに加え、さらにアルゴン
ガスを吹き込んだ。得られる混合溶液を、水素圧 ７気
圧、室温で24時間撹拌した。反応液をHPLCで定量したと
ころ、鏡像体過剰率は99.6%e.e.で収率は95.5%であっ
た。 （高速液体クロマトグラフィー条件） カラム：CHIRALPAK AS（ダイセル化学工業株式会社製） 移動層：n-ヘキサン/エタノール (容積比：9/1) 流速：0.5 ml / min 検出：UV (254 nm) 温度：室温 保持時間：18 min (99.8%), 26 min (0.2%) 反応液を濃縮乾固して、得られた残さをシリカゲルクロ
マトグラフィー（n-ヘキサン/酢酸エチル=1/1（容積
比））で精製し、得られた結晶をn-ヘキサンで洗浄し
て、表題化合物を灰色アモルファスとして得た。1 H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ: 2.15 (3H, s), 3.66 (1
H, br s), 6.14 (1H, s),7.01 (1H, d, J = 2 Hz), 7.2
6-7.40 (4H, m), 7.51 (1H, d, J = 8 Hz) , 7.75 (1H,
d, J = 8 Hz), 8.21 (1H, br s).
キシ)メチル]フェニル]アセタミドの製造 1000 mlのステンレスオートクレーブに、 N-[4-クロロ-
2- (2-クロロベンゾイル)フェニル]-アセタミド27.8g
(90.2 mmol)と[RuCl2[(S)-xylBINAP]][(S)-DAIPEN] 110
mg を加え、アルゴンガスをオートクレーブに充満させ
た。一方、tert-ブトキシカリウム1.9 ml (1.0 Mのtert
-ブタノール溶液として使用)の2-プロパノール(600 ml)
溶液にアルゴンガスを吹き込んだ。得られる溶液を上記
したステンレスオートクレーブに加え、さらにアルゴン
ガスを吹き込んだ。得られる混合溶液を、水素圧 ７気
圧、室温で24時間撹拌した。反応液をHPLCで定量したと
ころ、鏡像体過剰率は99.6%e.e.で収率は95.5%であっ
た。 （高速液体クロマトグラフィー条件） カラム：CHIRALPAK AS（ダイセル化学工業株式会社製） 移動層：n-ヘキサン/エタノール (容積比：9/1) 流速：0.5 ml / min 検出：UV (254 nm) 温度：室温 保持時間：18 min (99.8%), 26 min (0.2%) 反応液を濃縮乾固して、得られた残さをシリカゲルクロ
マトグラフィー（n-ヘキサン/酢酸エチル=1/1（容積
比））で精製し、得られた結晶をn-ヘキサンで洗浄し
て、表題化合物を灰色アモルファスとして得た。1 H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ: 2.15 (3H, s), 3.66 (1
H, br s), 6.14 (1H, s),7.01 (1H, d, J = 2 Hz), 7.2
6-7.40 (4H, m), 7.51 (1H, d, J = 8 Hz) , 7.75 (1H,
d, J = 8 Hz), 8.21 (1H, br s).
【００６６】実施例５ 光学活性なN-[4-クロロ-2-[ヒドロキシ(2-メトキシフェ
ニル) メチル]フェニル]アセタミドの製造 1000 mlのステンレスオートクレーブに、 N-[4-クロロ-
2-(2-メトキシベンゾイル)フェニル]アセタミド43 g (1
41.6 mmol)と[RuCl2[(S)-xylBINAP]][(S)-DAIPEN] 173
mg を加え、アルゴンガスをオートクレーブに充満させ
た。一方、tert-ブトキシカリウム2.8 ml (1.0 Mのtert
-ブタノール溶液として使用)の2-プロパノール(450 ml)
−トルエン(150 ml)溶液にアルゴンガスを吹き込んだ。
得られる溶液を上記したステンレスオートクレーブに加
え、さらにアルゴンガスを吹き込んだ。得られる混合溶
液を、水素圧 ７気圧、室温で24時間撹拌した。反応液
をHPLCで定量したところ、鏡像体過剰率は98.8%e.e.で
収率は定量的であった。 （高速液体クロマトグラフィー条件） カラム：CHIRALPAK AS（ダイセル化学工業株式会社製） 移動層：n-ヘキサン/エタノール (容積比：9/1) 流速：0.75 ml / min 検出：UV (254 nm) 温度：室温 保持時間：15 min (99.4%), 19 min (0.6%) 反応液を濃縮乾固して、得られた残さに少量のトルエン
を加えたのちジイソプロピルエーテルを加えて析出した
結晶をろ取して、表題化合物を灰色アモルファスとして
得た。1 H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ: 2.08 (3H, s), 3.80 (1
H, d, J = 5 Hz), 3.90 (3H, s), 6.04 (1H, d, J = 5
Hz), 6.95-7.36 (6H, m), 8.11 (1H, d, J = 8 Hz), 8.
93 (1H, br s).
ニル) メチル]フェニル]アセタミドの製造 1000 mlのステンレスオートクレーブに、 N-[4-クロロ-
2-(2-メトキシベンゾイル)フェニル]アセタミド43 g (1
41.6 mmol)と[RuCl2[(S)-xylBINAP]][(S)-DAIPEN] 173
mg を加え、アルゴンガスをオートクレーブに充満させ
た。一方、tert-ブトキシカリウム2.8 ml (1.0 Mのtert
-ブタノール溶液として使用)の2-プロパノール(450 ml)
−トルエン(150 ml)溶液にアルゴンガスを吹き込んだ。
得られる溶液を上記したステンレスオートクレーブに加
え、さらにアルゴンガスを吹き込んだ。得られる混合溶
液を、水素圧 ７気圧、室温で24時間撹拌した。反応液
をHPLCで定量したところ、鏡像体過剰率は98.8%e.e.で
収率は定量的であった。 （高速液体クロマトグラフィー条件） カラム：CHIRALPAK AS（ダイセル化学工業株式会社製） 移動層：n-ヘキサン/エタノール (容積比：9/1) 流速：0.75 ml / min 検出：UV (254 nm) 温度：室温 保持時間：15 min (99.4%), 19 min (0.6%) 反応液を濃縮乾固して、得られた残さに少量のトルエン
を加えたのちジイソプロピルエーテルを加えて析出した
結晶をろ取して、表題化合物を灰色アモルファスとして
得た。1 H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ: 2.08 (3H, s), 3.80 (1
H, d, J = 5 Hz), 3.90 (3H, s), 6.04 (1H, d, J = 5
Hz), 6.95-7.36 (6H, m), 8.11 (1H, d, J = 8 Hz), 8.
93 (1H, br s).
【００６７】実施例６ 光学活性なN-[4-クロロ-2-[(2,3-ジメトキシフェニル)
(ヒドロキシ)メチル]フェニル] アセタミドの製造 1000 mlのステンレスオートクレーブに、 N-[4-クロロ-
2-(2,3-ジメトキシベンゾイル)フェニル] アセタミド3
3.6 g (100 mmol)と[RuCl2[(R)-xylBINAP]][(R)-DAIPE
N] 123 mg を加え、アルゴンガスをオートクレーブに充
満させた。tert-ブトキシカリウム2.0 ml (1.0 Mのtert
-ブタノール溶液として使用)の2-プロパノール(450 ml)
−トルエン(150 ml)溶液にアルゴンガスを吹き込んだ。
得られる溶液を上記したステンレスオートクレーブに加
え、さらにアルゴンガスを吹き込んだ。得られる混合溶
液を、水素圧 ７気圧、室温で24時間撹拌した。反応液
をHPLCで定量したところ、鏡像体過剰率は99.5%e.e.で
収率は81.3%であった。 （高速液体クロマトグラフィー条件） カラム：CHIRALPAK AS（ダイセル化学工業株式会社製） 移動層：n-ヘキサン/エタノール (容積比：9/1) 流速：0.5 ml / min 検出：UV (254 nm) 温度：室温 保持時間：24 min (0.2%), 28 min (99.8%) 反応液を濃縮乾固して、得られた残さをシリカゲルクロ
マトグラフィー（n-ヘキサン/酢酸エチル=1/1（容積
比））で精製し、得られた結晶をn-ヘキサンで洗浄し
て、表題化合物を無色アモルファスとして得た。1 H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ: 2.10 (3H, s), 3.70 (1
H, br s), 3.84 (3H, s),3.89 (3H, s), 6.04 (1H, br
s), 6.81 (1H, d, J = 8 Hz), 6.91 (1H, d, J =8 Hz),
7.05-7.26 (4H, m), 8.03 (1H, d, J = 8 Hz), 8.83
(1H, br s).
(ヒドロキシ)メチル]フェニル] アセタミドの製造 1000 mlのステンレスオートクレーブに、 N-[4-クロロ-
2-(2,3-ジメトキシベンゾイル)フェニル] アセタミド3
3.6 g (100 mmol)と[RuCl2[(R)-xylBINAP]][(R)-DAIPE
N] 123 mg を加え、アルゴンガスをオートクレーブに充
満させた。tert-ブトキシカリウム2.0 ml (1.0 Mのtert
-ブタノール溶液として使用)の2-プロパノール(450 ml)
−トルエン(150 ml)溶液にアルゴンガスを吹き込んだ。
得られる溶液を上記したステンレスオートクレーブに加
え、さらにアルゴンガスを吹き込んだ。得られる混合溶
液を、水素圧 ７気圧、室温で24時間撹拌した。反応液
をHPLCで定量したところ、鏡像体過剰率は99.5%e.e.で
収率は81.3%であった。 （高速液体クロマトグラフィー条件） カラム：CHIRALPAK AS（ダイセル化学工業株式会社製） 移動層：n-ヘキサン/エタノール (容積比：9/1) 流速：0.5 ml / min 検出：UV (254 nm) 温度：室温 保持時間：24 min (0.2%), 28 min (99.8%) 反応液を濃縮乾固して、得られた残さをシリカゲルクロ
マトグラフィー（n-ヘキサン/酢酸エチル=1/1（容積
比））で精製し、得られた結晶をn-ヘキサンで洗浄し
て、表題化合物を無色アモルファスとして得た。1 H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ: 2.10 (3H, s), 3.70 (1
H, br s), 3.84 (3H, s),3.89 (3H, s), 6.04 (1H, br
s), 6.81 (1H, d, J = 8 Hz), 6.91 (1H, d, J =8 Hz),
7.05-7.26 (4H, m), 8.03 (1H, d, J = 8 Hz), 8.83
(1H, br s).
【００６８】実施例７ 光学活性なN-[4-クロロ-2-[(2,4-ジメトキシフェニル)
(ヒドロキシ)メチル]フェニル] アセタミドの製造 100 mlのガラスオートクレーブに、 N-[4-クロロ-2-(2,
4-ジメトキシベンゾイル)フェニル] アセタミド167 mg
(0.5 mmol)と[RuCl2[(S)-xylBINAP]][(S)-DAIPEN] 1.2
mgを加え、アルゴンガスをオートクレーブに充満させ
た。tert-ブトキシカリウム 0.01 ml (1.0 Mのtert-ブ
タノール溶液として使用)の2-プロパノール (5 ml)−ト
ルエン(2 ml)溶液にアルゴンガスを吹き込んだ。得られ
る溶液を上記したガラスオートクレーブに加え、さらに
アルゴンガスを吹き込んだ。混合溶液を水素圧 ７気
圧、室温で5時間撹拌した。反応液をHPLCで定量したと
ころ、鏡像体過剰率は99.2%e.e.で収率は84.9%であっ
た。 （高速液体クロマトグラフィー条件） カラム：CHIRALPAK AS（ダイセル化学工業株式会社製） 移動層：n-ヘキサン/エタノール (容積比：9/1) 流速：0.75 ml / min 検出：UV (254 nm) 温度：室温 保持時間：9 min (0.4%), 11 min (99.6%) 反応液を濃縮乾固して、得られた残さをシリカゲルクロ
マトグラフィー（n-ヘキサン/酢酸エチル=3/2（容積
比））で精製し、得られた結晶をn-ヘキサンで洗浄し
て、表題化合物を無色アモルファスとして得た。1 H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ: 2.08 (3H, s) , 3.66 (1
H, d, J = 5 Hz), 3.82(3H, s), 3.88 (3H, s), 5.97
(1H, d, J = 5 Hz) , 6.46 (1H, dd, J = 8 and2 Hz),
6.55 (1H, d, J = 2 Hz), 6.90 (1H, d, J = 8 Hz), 6.
99 (1H, s), 7.29 (1H, d, J = 2 Hz), 8.14 (1H, d, J
= 2 Hz), 8.95 (1H, br s).
(ヒドロキシ)メチル]フェニル] アセタミドの製造 100 mlのガラスオートクレーブに、 N-[4-クロロ-2-(2,
4-ジメトキシベンゾイル)フェニル] アセタミド167 mg
(0.5 mmol)と[RuCl2[(S)-xylBINAP]][(S)-DAIPEN] 1.2
mgを加え、アルゴンガスをオートクレーブに充満させ
た。tert-ブトキシカリウム 0.01 ml (1.0 Mのtert-ブ
タノール溶液として使用)の2-プロパノール (5 ml)−ト
ルエン(2 ml)溶液にアルゴンガスを吹き込んだ。得られ
る溶液を上記したガラスオートクレーブに加え、さらに
アルゴンガスを吹き込んだ。混合溶液を水素圧 ７気
圧、室温で5時間撹拌した。反応液をHPLCで定量したと
ころ、鏡像体過剰率は99.2%e.e.で収率は84.9%であっ
た。 （高速液体クロマトグラフィー条件） カラム：CHIRALPAK AS（ダイセル化学工業株式会社製） 移動層：n-ヘキサン/エタノール (容積比：9/1) 流速：0.75 ml / min 検出：UV (254 nm) 温度：室温 保持時間：9 min (0.4%), 11 min (99.6%) 反応液を濃縮乾固して、得られた残さをシリカゲルクロ
マトグラフィー（n-ヘキサン/酢酸エチル=3/2（容積
比））で精製し、得られた結晶をn-ヘキサンで洗浄し
て、表題化合物を無色アモルファスとして得た。1 H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ: 2.08 (3H, s) , 3.66 (1
H, d, J = 5 Hz), 3.82(3H, s), 3.88 (3H, s), 5.97
(1H, d, J = 5 Hz) , 6.46 (1H, dd, J = 8 and2 Hz),
6.55 (1H, d, J = 2 Hz), 6.90 (1H, d, J = 8 Hz), 6.
99 (1H, s), 7.29 (1H, d, J = 2 Hz), 8.14 (1H, d, J
= 2 Hz), 8.95 (1H, br s).
【００６９】実施例８ 光学活性なtert-ブチル3-[(2-アミノ-5-クロロフェニ
ル)(ヒドロキシ)メチル]フェニルカルバメートの製造 100 mlのガラスオートクレーブに、 tert-ブチル3-(2-
アミノ-5-クロロベンゾイル)フェニルカルバメート180
mg (0.5 mmol)と[RuCl2[(S)-BINAP]][(S)-DPEN]10 mg
を加え、アルゴンガスをオートクレーブに充満させた。
tert-ブトキシカリウム 0.02 ml (1.0 Mのtert-ブタノ
ール溶液として使用)の2-プロパノール (4ml)−トルエ
ン(1 ml)溶液にアルゴンガスを吹き込んだ。得られる溶
液を上記したガラスオートクレーブに加え、さらにアル
ゴンガスを吹き込んだ。得られる混合溶液を、水素圧
７気圧、室温で24 時間撹拌した。反応液をHPLCで定量
したところ、鏡像体過剰率は85.4%e.e.で収率は97.9%で
あった。 （高速液体クロマトグラフィー条件） カラム：CHIRALPAK AD（ダイセル化学工業株式会社製） 移動層：n-ヘキサン/2-プロパノール (容積比：8/2) 流速：0.5 ml / min 検出：UV (254 nm) 温度：室温 保持時間：25 min (92.7%), 33 min (7.3%) 反応液を濃縮乾固して、得られた残さをシリカゲルクロ
マトグラフィー（n-ヘキサン/酢酸エチル=3/2（容積
比））で精製し、得られた結晶をジイソプロピルエーテ
ルで洗浄して、表題化合物を灰色アモルファスとして得
た。1 H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ: 1.26-1.60 (11H, m), 3.
93 (1H, br s), 4.30 (2H, d, J = 5 Hz), 4.88 (1H, b
r s) , 5.77 (1H, s), 6.59 (1H, d, J = 8 Hz),7.00-
7.37 (6H, m).
ル)(ヒドロキシ)メチル]フェニルカルバメートの製造 100 mlのガラスオートクレーブに、 tert-ブチル3-(2-
アミノ-5-クロロベンゾイル)フェニルカルバメート180
mg (0.5 mmol)と[RuCl2[(S)-BINAP]][(S)-DPEN]10 mg
を加え、アルゴンガスをオートクレーブに充満させた。
tert-ブトキシカリウム 0.02 ml (1.0 Mのtert-ブタノ
ール溶液として使用)の2-プロパノール (4ml)−トルエ
ン(1 ml)溶液にアルゴンガスを吹き込んだ。得られる溶
液を上記したガラスオートクレーブに加え、さらにアル
ゴンガスを吹き込んだ。得られる混合溶液を、水素圧
７気圧、室温で24 時間撹拌した。反応液をHPLCで定量
したところ、鏡像体過剰率は85.4%e.e.で収率は97.9%で
あった。 （高速液体クロマトグラフィー条件） カラム：CHIRALPAK AD（ダイセル化学工業株式会社製） 移動層：n-ヘキサン/2-プロパノール (容積比：8/2) 流速：0.5 ml / min 検出：UV (254 nm) 温度：室温 保持時間：25 min (92.7%), 33 min (7.3%) 反応液を濃縮乾固して、得られた残さをシリカゲルクロ
マトグラフィー（n-ヘキサン/酢酸エチル=3/2（容積
比））で精製し、得られた結晶をジイソプロピルエーテ
ルで洗浄して、表題化合物を灰色アモルファスとして得
た。1 H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ: 1.26-1.60 (11H, m), 3.
93 (1H, br s), 4.30 (2H, d, J = 5 Hz), 4.88 (1H, b
r s) , 5.77 (1H, s), 6.59 (1H, d, J = 8 Hz),7.00-
7.37 (6H, m).
【００７０】実施例９ 光学活性なtert-ブチル3-[2-アミノ-5-[[tert-ブチル
(ジメチル)シリル]オキシ]フェニル](ヒドロキシ)メチ
ル]フェニルカルバメートの製造 100 mlのガラスオートクレーブに、 tert-ブチル3-[2-
アミノ-5-[[tert-ブチル(ジメチル)シリル]オキシ]ベン
ゾイル]フェニルカルバメート7.2 g (15.8 mmol)と[RuC
l2[(S)-xylBINAP]][(S)-DAIPEN] 385 mg を加え、アル
ゴンガスをオートクレーブに充満させた。一方、tert-
ブトキシカリウム 0.63 ml (1.0 Mのtert-ブタノール溶
液として使用)の2-プロパノール (40 ml) 溶液にアルゴ
ンガスを吹き込んだ。得られる溶液を上記したガラスオ
ートクレーブに加え、さらにアルゴンガスを吹き込ん
だ。得られる混合溶液を、水素圧７気圧、室温で7 時間
撹拌した。反応液をHPLCで定量したところ、鏡像体過剰
率は93.4%e.e.で収率は定量的であった。 （高速液体クロマトグラフィー条件） カラム：CHIRALPAK AD（ダイセル化学工業株式会社製） 移動層：n-ヘキサン/2-プロパノール (容積比：9/1) 流速：1.0 ml / min 検出：UV (254 nm) 温度：室温 保持時間：17 min (3.3%), 19 min (96.7%) 反応液を濃縮乾固して、得られた残さをシリカゲルクロ
マトグラフィー（n-ヘキサン/酢酸エチル=2/1（容積
比））で精製して、表題化合物を黒色アモルファスとし
て得た。1 H-NMR (400 MHz, DMSO-d6) δ: 0.06 (3H, s), 0.06
(3H, s), 0.89 (9H, s),1.37 (9H, s), 4.07 (2H, d, J
= 6 Hz), 4.49 (2H, s), 5.61 (1H, s), 5.76 (1H, d,
J = 3 Hz), 6.46-6.56 (3H, m), 7.06-7.32 (4H, m).
(ジメチル)シリル]オキシ]フェニル](ヒドロキシ)メチ
ル]フェニルカルバメートの製造 100 mlのガラスオートクレーブに、 tert-ブチル3-[2-
アミノ-5-[[tert-ブチル(ジメチル)シリル]オキシ]ベン
ゾイル]フェニルカルバメート7.2 g (15.8 mmol)と[RuC
l2[(S)-xylBINAP]][(S)-DAIPEN] 385 mg を加え、アル
ゴンガスをオートクレーブに充満させた。一方、tert-
ブトキシカリウム 0.63 ml (1.0 Mのtert-ブタノール溶
液として使用)の2-プロパノール (40 ml) 溶液にアルゴ
ンガスを吹き込んだ。得られる溶液を上記したガラスオ
ートクレーブに加え、さらにアルゴンガスを吹き込ん
だ。得られる混合溶液を、水素圧７気圧、室温で7 時間
撹拌した。反応液をHPLCで定量したところ、鏡像体過剰
率は93.4%e.e.で収率は定量的であった。 （高速液体クロマトグラフィー条件） カラム：CHIRALPAK AD（ダイセル化学工業株式会社製） 移動層：n-ヘキサン/2-プロパノール (容積比：9/1) 流速：1.0 ml / min 検出：UV (254 nm) 温度：室温 保持時間：17 min (3.3%), 19 min (96.7%) 反応液を濃縮乾固して、得られた残さをシリカゲルクロ
マトグラフィー（n-ヘキサン/酢酸エチル=2/1（容積
比））で精製して、表題化合物を黒色アモルファスとし
て得た。1 H-NMR (400 MHz, DMSO-d6) δ: 0.06 (3H, s), 0.06
(3H, s), 0.89 (9H, s),1.37 (9H, s), 4.07 (2H, d, J
= 6 Hz), 4.49 (2H, s), 5.61 (1H, s), 5.76 (1H, d,
J = 3 Hz), 6.46-6.56 (3H, m), 7.06-7.32 (4H, m).
【００７１】実施例１０ 光学活性な（2-アミノ-5-クロロフェニル）(2,3-ジメト
キシフェニル)メタノールの製造 100 mlのガラスオートクレーブに、（2-アミノ-5-クロ
ロフェニル）(2,3-ジメトキシフェニル)メタノン292 mg
(1 mmol)と[RuCl2[(R)-xylBINAP]][(R)-DAIPEN] 24 mg
を加え、アルゴンガスをオートクレーブに充満させ
た。一方、tert-ブトキシカリウム 0.03 ml (1.0 Mのte
rt-ブタノール溶液として使用)の2-プロパノール (5 m
l)、トルエン (2 ml)溶液にアルゴンガスを吹き込ん
だ。得られる溶液を上記したガラスオートクレーブに加
え、さらにアルゴンガスを吹き込んだ。得られる混合溶
液を、水素圧７気圧、室温で5 時間撹拌した。反応液を
HPLCで定量したところ、鏡像体過剰率は98.7%e.e.で収
率は97.1%であった。 （高速液体クロマトグラフィー条件） カラム：CHIRALCEL OD（ダイセル化学工業株式会社製） 移動層：n-ヘキサン/エタノール (容積比：80/20) 流速：1.0 ml / min 検出：UV (254 nm) 温度：室温 保持時間：12 min (0.6%), 18 min (99.4%) 反応液を濃縮乾固して、得られた残さをシリカゲルクロ
マトグラフィー（n-ヘキサン/酢酸エチル=2/1（容積
比））で精製して、得られた固体をジイソプロピルエー
テルで洗浄して、表題化合物を無色結晶として得た。93
mg1 H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ: 3.10 (1H, d, J = 4.9 H
z), 3.84 (3H, s), 3.89(3H, s), 4.20 (2H, s), 6.03
(1H, d, J = 4.9 Hz), 6.57 (1H, d, J = 8.5 Hz), 6.8
6-7.07 (5H, m).
キシフェニル)メタノールの製造 100 mlのガラスオートクレーブに、（2-アミノ-5-クロ
ロフェニル）(2,3-ジメトキシフェニル)メタノン292 mg
(1 mmol)と[RuCl2[(R)-xylBINAP]][(R)-DAIPEN] 24 mg
を加え、アルゴンガスをオートクレーブに充満させ
た。一方、tert-ブトキシカリウム 0.03 ml (1.0 Mのte
rt-ブタノール溶液として使用)の2-プロパノール (5 m
l)、トルエン (2 ml)溶液にアルゴンガスを吹き込ん
だ。得られる溶液を上記したガラスオートクレーブに加
え、さらにアルゴンガスを吹き込んだ。得られる混合溶
液を、水素圧７気圧、室温で5 時間撹拌した。反応液を
HPLCで定量したところ、鏡像体過剰率は98.7%e.e.で収
率は97.1%であった。 （高速液体クロマトグラフィー条件） カラム：CHIRALCEL OD（ダイセル化学工業株式会社製） 移動層：n-ヘキサン/エタノール (容積比：80/20) 流速：1.0 ml / min 検出：UV (254 nm) 温度：室温 保持時間：12 min (0.6%), 18 min (99.4%) 反応液を濃縮乾固して、得られた残さをシリカゲルクロ
マトグラフィー（n-ヘキサン/酢酸エチル=2/1（容積
比））で精製して、得られた固体をジイソプロピルエー
テルで洗浄して、表題化合物を無色結晶として得た。93
mg1 H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ: 3.10 (1H, d, J = 4.9 H
z), 3.84 (3H, s), 3.89(3H, s), 4.20 (2H, s), 6.03
(1H, d, J = 4.9 Hz), 6.57 (1H, d, J = 8.5 Hz), 6.8
6-7.07 (5H, m).
【００７２】実施例１１ 光学活性な（2-アミノ-5-クロロフェニル）(2,4-ジメト
キシフェニル)メタノールの製造 100 mlのガラスオートクレーブに、（2-アミノ-5-クロ
ロフェニル）(2,4-ジメトキシフェニル)メタノン292 mg
(1 mmol)と[RuCl2[(R)-xylBINAP]][(R)-DAIPEN] 24 mg
を加え、アルゴンガスをオートクレーブに充満させ
た。一方、tert-ブトキシカリウム 0.03 ml (1.0 Mのte
rt-ブタノール溶液として使用)の2-プロパノール (5 m
l)、トルエン (2 ml)溶液にアルゴンガスを吹き込ん
だ。得られる溶液を上記したガラスオートクレーブに加
え、さらにアルゴンガスを吹き込んだ。得られる混合溶
液を、水素圧７気圧、室温で5 時間撹拌した。反応液を
HPLCで定量したところ、鏡像体過剰率は86.7%e.e.で収
率は93.1%であった。 （高速液体クロマトグラフィー条件） カラム：CHIRALCEL OD（ダイセル化学工業株式会社製） 移動層：n-ヘキサン/エタノール (容積比：80/20) 流速：0.75 ml / min 検出：UV (254 nm) 温度：室温 保持時間：11 min (6.6%), 18 min (93.4%) 反応液を濃縮乾固して、得られた残さをシリカゲルクロ
マトグラフィー（n-ヘキサン/酢酸エチル=2/1（容積
比））で精製して、得られた固体をジイソプロピルエー
テルで洗浄して表題化合物を無色結晶として得た。134
mg1 H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ: 3.15 (1H, d, J = 5.4 H
z), 3.81 (3H, s), 3.86(3H, s), 4.16 (2H, s), 5.95
(1H, d, J = 5.4 Hz), 6.45-7.05 (6H, m).
キシフェニル)メタノールの製造 100 mlのガラスオートクレーブに、（2-アミノ-5-クロ
ロフェニル）(2,4-ジメトキシフェニル)メタノン292 mg
(1 mmol)と[RuCl2[(R)-xylBINAP]][(R)-DAIPEN] 24 mg
を加え、アルゴンガスをオートクレーブに充満させ
た。一方、tert-ブトキシカリウム 0.03 ml (1.0 Mのte
rt-ブタノール溶液として使用)の2-プロパノール (5 m
l)、トルエン (2 ml)溶液にアルゴンガスを吹き込ん
だ。得られる溶液を上記したガラスオートクレーブに加
え、さらにアルゴンガスを吹き込んだ。得られる混合溶
液を、水素圧７気圧、室温で5 時間撹拌した。反応液を
HPLCで定量したところ、鏡像体過剰率は86.7%e.e.で収
率は93.1%であった。 （高速液体クロマトグラフィー条件） カラム：CHIRALCEL OD（ダイセル化学工業株式会社製） 移動層：n-ヘキサン/エタノール (容積比：80/20) 流速：0.75 ml / min 検出：UV (254 nm) 温度：室温 保持時間：11 min (6.6%), 18 min (93.4%) 反応液を濃縮乾固して、得られた残さをシリカゲルクロ
マトグラフィー（n-ヘキサン/酢酸エチル=2/1（容積
比））で精製して、得られた固体をジイソプロピルエー
テルで洗浄して表題化合物を無色結晶として得た。134
mg1 H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ: 3.15 (1H, d, J = 5.4 H
z), 3.81 (3H, s), 3.86(3H, s), 4.16 (2H, s), 5.95
(1H, d, J = 5.4 Hz), 6.45-7.05 (6H, m).
【００７３】実施例１２ 光学活性な（2-アミノ-5-クロロフェニル）(2-メトキシ
フェニル)メタノールの製造 100 mlのガラスオートクレーブに、（2-アミノ-5-クロ
ロフェニル）(2-メトキシフェニル)メタノン262 mg (1
mmol)と[RuCl2[(R)-xylBINAP]][(R)-DAIPEN] 24mg を加
え、アルゴンガスをオートクレーブに充満させた。一
方、tert-ブトキシカリウム 0.03 ml (1.0 Mのtert-ブ
タノール溶液として使用)の2-プロパノール (5 ml)、ト
ルエン (2 ml)溶液にアルゴンガスを吹き込んだ。得ら
れる溶液を上記したガラスオートクレーブに加え、さら
にアルゴンガスを吹き込んだ。得られる混合溶液を、水
素圧７気圧、室温で5 時間撹拌した。反応液をHPLCで定
量したところ、鏡像体過剰率は94.9%e.e.で収率は88.7%
であった。 （高速液体クロマトグラフィー条件） カラム：CHIRALCEL OD（ダイセル化学工業株式会社製） 移動層：n-ヘキサン/エタノール (容積比：80/20) 流速：0.75 ml / min 検出：UV (254 nm) 温度：室温 保持時間：11 min (2.6%), 17 min (97.4%) 反応液を濃縮乾固して、得られた残さをシリカゲルクロ
マトグラフィー（n-ヘキサン/酢酸エチル=2/1（容積
比））で精製して、得られた固体をジイソプロピルエー
テルで洗浄して、表題化合物を無色結晶として得た。79
mg1 H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ: 3.29 (1H, d, J = 5.4 H
z), 3.89 (3H, s), 4.21(2H, s), 6.01 (1H, d, J = 5.
4 Hz), 6.61 (1H, d, J = 8.3 Hz), 6.96-7.34(6H, m).
フェニル)メタノールの製造 100 mlのガラスオートクレーブに、（2-アミノ-5-クロ
ロフェニル）(2-メトキシフェニル)メタノン262 mg (1
mmol)と[RuCl2[(R)-xylBINAP]][(R)-DAIPEN] 24mg を加
え、アルゴンガスをオートクレーブに充満させた。一
方、tert-ブトキシカリウム 0.03 ml (1.0 Mのtert-ブ
タノール溶液として使用)の2-プロパノール (5 ml)、ト
ルエン (2 ml)溶液にアルゴンガスを吹き込んだ。得ら
れる溶液を上記したガラスオートクレーブに加え、さら
にアルゴンガスを吹き込んだ。得られる混合溶液を、水
素圧７気圧、室温で5 時間撹拌した。反応液をHPLCで定
量したところ、鏡像体過剰率は94.9%e.e.で収率は88.7%
であった。 （高速液体クロマトグラフィー条件） カラム：CHIRALCEL OD（ダイセル化学工業株式会社製） 移動層：n-ヘキサン/エタノール (容積比：80/20) 流速：0.75 ml / min 検出：UV (254 nm) 温度：室温 保持時間：11 min (2.6%), 17 min (97.4%) 反応液を濃縮乾固して、得られた残さをシリカゲルクロ
マトグラフィー（n-ヘキサン/酢酸エチル=2/1（容積
比））で精製して、得られた固体をジイソプロピルエー
テルで洗浄して、表題化合物を無色結晶として得た。79
mg1 H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ: 3.29 (1H, d, J = 5.4 H
z), 3.89 (3H, s), 4.21(2H, s), 6.01 (1H, d, J = 5.
4 Hz), 6.61 (1H, d, J = 8.3 Hz), 6.96-7.34(6H, m).
【００７４】参考例１ Ｎ−[（3Ｒ，5Ｓ）-1-(3-アセトキシ−2，2−ジメチル
プロピル)-7-クロロ‐5−(2，3‐ジメトキシフェニル)
−2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒドロ−4，1−ベン
ゾオキサゼピン−3−アセチル]ピペリジン−4−酢酸の
製造法 １）（Ｓ）-2-[Ｎ-（2，3-ジメトキシ−α−ヒドロキシ
ベンジル）−4−クロロフェニル]カルバモイル−2，2-
ジメチル酢酸エチルの製造法 実施例１０で得られる化合物(2.0 g)、炭酸水素ナトリ
ウム（0.86 g）の酢酸エチル（20 ml）溶液に塩化ジメ
チルマロン酸モノエチルエステル（1.3 g）の酢酸エチ
ル（20 ml）溶液を滴下し、氷冷下３時間攪拌した。溶
液に水（30 ml）を加え水洗し、有機層に無水硫酸ナト
リウムを加えて乾燥し、溶媒を留去した。残留物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製し、無色油
状化合物である（Ｓ）-2-[Ｎ-（2，3-ジメトキシ−α−
ヒドロキシベンジル）−4−クロロフェニル]カルバモイ
ル−2，2-ジメチル酢酸エチル（2.92 g）を得た。1 H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ: 1.22 (3H, t, J = 7.4 H
z), 1.37 (3H, s), 1.42(3H, s), 3.84 (3H, s), 3.89
(3H, s), 4.05-4.19 (3H, m), 6.01 (1H, s), 6.61 (1
H, dd, J = 1.8 and 7.4 Hz), 6.90-7.05 (3H, m), 7.2
8 (1H, dd, J = 3.0 and 8.8 Hz), 8.07 (1H, d, J =
8.4 Hz), 9.49 (1H, br).
プロピル)-7-クロロ‐5−(2，3‐ジメトキシフェニル)
−2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒドロ−4，1−ベン
ゾオキサゼピン−3−アセチル]ピペリジン−4−酢酸の
製造法 １）（Ｓ）-2-[Ｎ-（2，3-ジメトキシ−α−ヒドロキシ
ベンジル）−4−クロロフェニル]カルバモイル−2，2-
ジメチル酢酸エチルの製造法 実施例１０で得られる化合物(2.0 g)、炭酸水素ナトリ
ウム（0.86 g）の酢酸エチル（20 ml）溶液に塩化ジメ
チルマロン酸モノエチルエステル（1.3 g）の酢酸エチ
ル（20 ml）溶液を滴下し、氷冷下３時間攪拌した。溶
液に水（30 ml）を加え水洗し、有機層に無水硫酸ナト
リウムを加えて乾燥し、溶媒を留去した。残留物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製し、無色油
状化合物である（Ｓ）-2-[Ｎ-（2，3-ジメトキシ−α−
ヒドロキシベンジル）−4−クロロフェニル]カルバモイ
ル−2，2-ジメチル酢酸エチル（2.92 g）を得た。1 H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ: 1.22 (3H, t, J = 7.4 H
z), 1.37 (3H, s), 1.42(3H, s), 3.84 (3H, s), 3.89
(3H, s), 4.05-4.19 (3H, m), 6.01 (1H, s), 6.61 (1
H, dd, J = 1.8 and 7.4 Hz), 6.90-7.05 (3H, m), 7.2
8 (1H, dd, J = 3.0 and 8.8 Hz), 8.07 (1H, d, J =
8.4 Hz), 9.49 (1H, br).
【００７５】２）（Ｓ）-[5-クロロ−2−（3-ヒドロキ
シ−2，2−ジメチルプロピル）アミノフェニル]（2，3-
ジメトキシフェニル）メタノールの製造法 １）で得た化合物(2.83 g)のテトラヒドロフラン(30 m
l)溶液に、水素化リチウムアルミニウム(0.5 g)を氷冷
下加え、３時間室温で攪拌した。反応溶液に１規定水酸
化ナトリウム(13 ml)と水(50 ml)を加え、不溶物を濾去
した。濾液を酢酸エチルで抽出し、水洗後乾燥し、溶媒
を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで分離精製し、無色油状化合物である（Ｓ）-[5-ク
ロロ−2−（3-ヒドロキシ−2，2−ジメチルプロピル）
アミノフェニル]（2，3-ジメトキシフェニル）メタノー
ル(0.88 g)を得た。1 H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ: 0.91 (3H, s), 0.93 (3
H, s), 2.95 (2H, s), 3.37 (2H, s), 3.83 (3H, s),
3.88 (3H, s), 5.99 (1H, s), 6.63 (1H, d, J = 8.8 H
z), 6.77 (1H, dd, J = 1.6 and 7.6 Hz), 6.90 (1H, d
d, J = 1.6 and 7.6Hz), 7.03 (1H, d, J = 2.6 Hz),
7.03 (1H, t, J = 7.6 Hz), 7.13 (1H, dd,J = 2.6 and
8.8 Hz).
シ−2，2−ジメチルプロピル）アミノフェニル]（2，3-
ジメトキシフェニル）メタノールの製造法 １）で得た化合物(2.83 g)のテトラヒドロフラン(30 m
l)溶液に、水素化リチウムアルミニウム(0.5 g)を氷冷
下加え、３時間室温で攪拌した。反応溶液に１規定水酸
化ナトリウム(13 ml)と水(50 ml)を加え、不溶物を濾去
した。濾液を酢酸エチルで抽出し、水洗後乾燥し、溶媒
を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで分離精製し、無色油状化合物である（Ｓ）-[5-ク
ロロ−2−（3-ヒドロキシ−2，2−ジメチルプロピル）
アミノフェニル]（2，3-ジメトキシフェニル）メタノー
ル(0.88 g)を得た。1 H-NMR (400 MHz, CDCl3) δ: 0.91 (3H, s), 0.93 (3
H, s), 2.95 (2H, s), 3.37 (2H, s), 3.83 (3H, s),
3.88 (3H, s), 5.99 (1H, s), 6.63 (1H, d, J = 8.8 H
z), 6.77 (1H, dd, J = 1.6 and 7.6 Hz), 6.90 (1H, d
d, J = 1.6 and 7.6Hz), 7.03 (1H, d, J = 2.6 Hz),
7.03 (1H, t, J = 7.6 Hz), 7.13 (1H, dd,J = 2.6 and
8.8 Hz).
【００７６】３）（3Ｒ，5Ｓ）-7-クロロ‐5−(2，3‐
ジメトキシフェニル)−1-(3-ヒドロキシ−2，2−ジメチ
ルプロピル)-2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒドロ−
4，1−ベンゾオキサゼピン−3−酢酸エチルの製造法 ２）で得た化合物（0.88 g）の酢酸エチル（10 ml）溶
液に、炭酸水素ナトリウム（0.39 g）を加え、それに塩
化フマル酸モノエチルエステル（0.45 g）の酢酸エチル
（10 ml）溶液を加え、室温で３０分間撹拌した。反応
溶液を水洗後、乾燥し、溶媒を留去した。残留物をエタ
ノール（10 ml）に溶解し、それに炭酸カリウム（0.70
g）を加え、室温で終夜撹拌した。反応溶液に酢酸エチ
ル（50 ml）を加え、水洗後乾燥し、溶媒を留去した。
残渣を酢酸エチル−ヘキサンより再結晶し、融点１８８
−１９０℃の無色結晶として、（3Ｒ，5Ｓ）-7-クロロ
‐5−(2，3‐ジメトキシフェニル)−1-(3-ヒドロキシ−
2，2−ジメチルプロピル)-2−オキソ−1，2，3，5−テ
トラヒドロ−4，1−ベンゾオキサゼピン−3−酢酸エチ
ル（0.57 g）を得た。
ジメトキシフェニル)−1-(3-ヒドロキシ−2，2−ジメチ
ルプロピル)-2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒドロ−
4，1−ベンゾオキサゼピン−3−酢酸エチルの製造法 ２）で得た化合物（0.88 g）の酢酸エチル（10 ml）溶
液に、炭酸水素ナトリウム（0.39 g）を加え、それに塩
化フマル酸モノエチルエステル（0.45 g）の酢酸エチル
（10 ml）溶液を加え、室温で３０分間撹拌した。反応
溶液を水洗後、乾燥し、溶媒を留去した。残留物をエタ
ノール（10 ml）に溶解し、それに炭酸カリウム（0.70
g）を加え、室温で終夜撹拌した。反応溶液に酢酸エチ
ル（50 ml）を加え、水洗後乾燥し、溶媒を留去した。
残渣を酢酸エチル−ヘキサンより再結晶し、融点１８８
−１９０℃の無色結晶として、（3Ｒ，5Ｓ）-7-クロロ
‐5−(2，3‐ジメトキシフェニル)−1-(3-ヒドロキシ−
2，2−ジメチルプロピル)-2−オキソ−1，2，3，5−テ
トラヒドロ−4，1−ベンゾオキサゼピン−3−酢酸エチ
ル（0.57 g）を得た。
【００７７】４）（3Ｒ，5Ｓ）-7-クロロ‐5−(2，3‐
ジメトキシフェニル)−1-(3-ヒドロキシ−2，2−ジメチ
ルプロピル)-2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒドロ−
4，1−ベンゾオキサゼピン−3−酢酸の製造法 ３）で得た化合物（0.5 g）をテトラヒドロフラン（5 m
l）とエタノール（3 ml）の混合溶媒に溶かし、１規定
水酸化ナトリウム水溶液（1 ml）を加え６０℃で２０分
間加熱撹拌した。水（50 ml）を加え、酢酸エチルで抽
出後、乾燥し、溶媒を留去し、残渣を酢酸エチル−ヘキ
サンより再結晶し、融点１９９−２０２℃の無色結晶と
して、（3Ｒ，5Ｓ）-7-クロロ‐5−(2，3‐ジメトキシ
フェニル)−1-(3-ヒドロキシ−2，2−ジメチルプロピ
ル)-2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒドロ−4，1−ベ
ンゾオキサゼピン−3−酢酸（0.33 g）を得た。
ジメトキシフェニル)−1-(3-ヒドロキシ−2，2−ジメチ
ルプロピル)-2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒドロ−
4，1−ベンゾオキサゼピン−3−酢酸の製造法 ３）で得た化合物（0.5 g）をテトラヒドロフラン（5 m
l）とエタノール（3 ml）の混合溶媒に溶かし、１規定
水酸化ナトリウム水溶液（1 ml）を加え６０℃で２０分
間加熱撹拌した。水（50 ml）を加え、酢酸エチルで抽
出後、乾燥し、溶媒を留去し、残渣を酢酸エチル−ヘキ
サンより再結晶し、融点１９９−２０２℃の無色結晶と
して、（3Ｒ，5Ｓ）-7-クロロ‐5−(2，3‐ジメトキシ
フェニル)−1-(3-ヒドロキシ−2，2−ジメチルプロピ
ル)-2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒドロ−4，1−ベ
ンゾオキサゼピン−3−酢酸（0.33 g）を得た。
【００７８】５）Ｎ−[（3Ｒ，5Ｓ）-1-(2，2−ジメチ
ルプロピル−3-ヒドロキシ)-7-クロロ‐5−(2，3‐ジメ
トキシフェニル)−2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒド
ロ−4，1−ベンゾオキサゼピン−3−アセチル]ピペリジ
ン−4−酢酸エチルの製造法 ４）で得た化合物とピペリジン−４−カルボン酸エチル
塩酸塩のジメチルホルムアミド溶液に、室温でシアノり
ん酸ジエチルエステルとトリエチルアミンを加え１時間
撹拌した。水と酢酸エチルを加え、有機層を１規定塩
酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸
マグネシウムを加えて乾燥した。溶媒を留去し、残留物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製し、
非晶体固体としてＮ−[（3Ｒ，5Ｓ）-1-(2，2−ジメチ
ルプロピル−3-ヒドロキシ)-7-クロロ‐5−(2，3‐ジメ
トキシフェニル)−2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒド
ロ−4，1−ベンゾオキサゼピン−3−アセチル]ピペリジ
ン−4−酢酸エチルを得た。
ルプロピル−3-ヒドロキシ)-7-クロロ‐5−(2，3‐ジメ
トキシフェニル)−2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒド
ロ−4，1−ベンゾオキサゼピン−3−アセチル]ピペリジ
ン−4−酢酸エチルの製造法 ４）で得た化合物とピペリジン−４−カルボン酸エチル
塩酸塩のジメチルホルムアミド溶液に、室温でシアノり
ん酸ジエチルエステルとトリエチルアミンを加え１時間
撹拌した。水と酢酸エチルを加え、有機層を１規定塩
酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸
マグネシウムを加えて乾燥した。溶媒を留去し、残留物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製し、
非晶体固体としてＮ−[（3Ｒ，5Ｓ）-1-(2，2−ジメチ
ルプロピル−3-ヒドロキシ)-7-クロロ‐5−(2，3‐ジメ
トキシフェニル)−2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒド
ロ−4，1−ベンゾオキサゼピン−3−アセチル]ピペリジ
ン−4−酢酸エチルを得た。
【００７９】６）Ｎ−[（3Ｒ，5Ｓ）-1-(2，2−ジメチ
ルプロピル−3-ヒドロキシ)-7-クロロ‐5−(2，3‐ジメ
トキシフェニル)−2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒド
ロ−4，1−ベンゾオキサゼピン−3−アセチル]ピペリジ
ン−4−酢酸の製造法 ５）で得た化合物を１規定水酸化ナトリウム水溶液、メ
タノール、テトラヒドロフランの混合溶液に溶解し、室
温で１時間撹拌した。１規定塩酸と酢酸エチルを加え、
有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥し
た。溶媒を除き、残渣をヘキサン−ジエチルエーテルよ
り再結晶し、融点１３５−１４０℃の無色結晶としてＮ
−[（3Ｒ，5Ｓ）-1-(2，2−ジメチルプロピル−3-ヒド
ロキシ)-7-クロロ‐5−(2，3‐ジメトキシフェニル)−2
−オキソ−1，2，3，5−テトラヒドロ−4，1−ベンゾオ
キサゼピン−3−アセチル]ピペリジン−4−酢酸を得
た。
ルプロピル−3-ヒドロキシ)-7-クロロ‐5−(2，3‐ジメ
トキシフェニル)−2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒド
ロ−4，1−ベンゾオキサゼピン−3−アセチル]ピペリジ
ン−4−酢酸の製造法 ５）で得た化合物を１規定水酸化ナトリウム水溶液、メ
タノール、テトラヒドロフランの混合溶液に溶解し、室
温で１時間撹拌した。１規定塩酸と酢酸エチルを加え、
有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥し
た。溶媒を除き、残渣をヘキサン−ジエチルエーテルよ
り再結晶し、融点１３５−１４０℃の無色結晶としてＮ
−[（3Ｒ，5Ｓ）-1-(2，2−ジメチルプロピル−3-ヒド
ロキシ)-7-クロロ‐5−(2，3‐ジメトキシフェニル)−2
−オキソ−1，2，3，5−テトラヒドロ−4，1−ベンゾオ
キサゼピン−3−アセチル]ピペリジン−4−酢酸を得
た。
【００８０】７）Ｎ−[（3Ｒ，5Ｓ）-1-(3-アセトキシ
−2，2−ジメチルプロピル)-7-クロロ‐5−(2，3‐ジメ
トキシフェニル)−2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒド
ロ−4，1−ベンゾオキサゼピン−3−アセチル]ピペリジ
ン−4−酢酸の製造法 ６）で得た化合物のピリジン溶液に、無水酢酸とジメチ
ルアミノピリジンを加え、室温で３０分間撹拌した。反
応液に酢酸エチルを加え、１規定塩酸、水で洗った後乾
燥し、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで分離精製し、融点１９４−１９６℃の
無色結晶としてＮ−[（3Ｒ，5Ｓ）-1-(3-アセトキシ−
2，2−ジメチルプロピル)-7-クロロ‐5−(2，3‐ジメト
キシフェニル)−2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒドロ
−4，1−ベンゾオキサゼピン−3−アセチル]ピペリジン
−4−酢酸を得た。 元素分析値 Ｃ33Ｈ41ＣｌＮ2Ｏ9として 理論値：Ｃ ６１.４４ Ｈ ６.４１ Ｎ ４.３４ 実測値：Ｃ ６１.２３ Ｈ ６.１８ Ｎ ４.３９
−2，2−ジメチルプロピル)-7-クロロ‐5−(2，3‐ジメ
トキシフェニル)−2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒド
ロ−4，1−ベンゾオキサゼピン−3−アセチル]ピペリジ
ン−4−酢酸の製造法 ６）で得た化合物のピリジン溶液に、無水酢酸とジメチ
ルアミノピリジンを加え、室温で３０分間撹拌した。反
応液に酢酸エチルを加え、１規定塩酸、水で洗った後乾
燥し、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで分離精製し、融点１９４−１９６℃の
無色結晶としてＮ−[（3Ｒ，5Ｓ）-1-(3-アセトキシ−
2，2−ジメチルプロピル)-7-クロロ‐5−(2，3‐ジメト
キシフェニル)−2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒドロ
−4，1−ベンゾオキサゼピン−3−アセチル]ピペリジン
−4−酢酸を得た。 元素分析値 Ｃ33Ｈ41ＣｌＮ2Ｏ9として 理論値：Ｃ ６１.４４ Ｈ ６.４１ Ｎ ４.３４ 実測値：Ｃ ６１.２３ Ｈ ６.１８ Ｎ ４.３９
【００８１】
【発明の効果】本発明の製造法により得られる光学活性
ベンズヒドロール類は、医薬（例えばスクアレン合成酵
素阻害剤、トリグリセリド低下剤など）の合成原料など
として有用である。また、本発明の製造法によれば、予
め単離された光学活性なルテニウム−ホスフィン−アミ
ン錯体を用いることによって、従来の製造法と比較し
て、緩和な反応条件（水素圧、反応温度など）下で、効
率的に、かつ高選択率で光学活性ベンズヒドロール類を
得ることができる。
ベンズヒドロール類は、医薬（例えばスクアレン合成酵
素阻害剤、トリグリセリド低下剤など）の合成原料など
として有用である。また、本発明の製造法によれば、予
め単離された光学活性なルテニウム−ホスフィン−アミ
ン錯体を用いることによって、従来の製造法と比較し
て、緩和な反応条件（水素圧、反応温度など）下で、効
率的に、かつ高選択率で光学活性ベンズヒドロール類を
得ることができる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｍ 7:00 Ｃ０７Ｍ 7:00
Claims (14)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） 【化１】 〔式中、Ｒ1およびＲ2は、同一または異なって、水素原
子、置換基を有していてもよい炭化水素基または置換基
を有していてもよいアシル基を、Ａ環およびＢ環はさら
に置換基を有していてもよいベンゼン環を示す〕で表さ
れる化合物またはその塩を、一般式（III） ＰＲ3Ｒ4Ｒ5 〔式中、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は、同一または異なって、
置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、Ｒ3とＲ4
とは互いに結合して置換基を有していてもよい環状炭化
水素を形成していてもよい〕または一般式（IV） Ｒ3Ｒ4Ｐ−Ｗ−ＰＲ6Ｒ7 〔式中、Ｗは２価の炭化水素基を、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ6およ
びＲ7は、同一または異なって、置換基を有していても
よい炭化水素基を示し、Ｒ3とＲ4とは互いに結合して置
換基を有していてもよい環状炭化水素を形成していても
よく、Ｒ6とＲ7とは互いに結合して置換基を有していて
もよい環状炭化水素を形成していてもよい〕で表される
ホスフィンまたはその塩、一般式（Ｖ） ＮＨＲ8Ｒ9 〔式中、Ｒ8およびＲ9は、同一または異なって、水素原
子または置換基を有していてもよい炭化水素基を示す〕
または一般式（VI） Ｒ8ＨＮ−Ｚ−ＮＨＲ9 〔式中、Ｚは２価の炭化水素基を、Ｒ8およびＲ9は、同
一または異なって、水素原子または置換基を有していて
もよい炭化水素基を示す〕で表されるアミンまたはその
塩、およびルテニウム錯体から製造され、単離された光
学活性なルテニウム−ホスフィン−アミン錯体および塩
基の存在下に水素化することを特徴とする、一般式（I
I） 【化２】 〔式中、＊は不斉炭素の位置を、その他の記号は前記と
同意義を示す〕で表される化合物またはその塩の光学活
性体の製造法。 - 【請求項２】Ａ環およびＢ環がさらに有していてもよい
置換基が、ハロゲン原子、置換されていてもよいヒドロ
キシ基、置換されていてもよいアルキル基、置換されて
いてもよいアミノ基、置換基を有していてもよいアシル
基およびエステル化されていてもよいカルボキシル基か
ら選ばれる１ないし４個である請求項１記載の製造法。 - 【請求項３】ホスフィンが光学活性ホスフィンである請
求項１記載の製造法。 - 【請求項４】アミンが光学活性アミンである請求項１記
載の製造法。 - 【請求項５】ホスフィンが光学活性ホスフィンであり、
アミンが光学活性アミンである請求項１記載の製造法。 - 【請求項６】ルテニウム-ホスフィン-アミン錯体が一般
式（VII） ＲｕＸＹ（ＰＲ3Ｒ4Ｒ5）ｍ（ＮＨＲ8Ｒ9）ｎ ［式中、ＸおよびＹは同一または異なって水素原子、ハ
ロゲン原子またはカルボキシル基を、ｍおよびｎは同一
または異なって０ないし４の整数を、その他の記号は請
求項１記載と同意義を示す］で表される錯体である請求
項１記載の製造法。 - 【請求項７】ルテニウム-ホスフィン-アミン錯体が一般
式（VIII） ＲｕＸＹ（ＰＲ3Ｒ4Ｒ5）ｍ（Ｒ8ＨＮ−Ｚ−ＮＨＲ9）
ｎ ［式中、ＸおよびＹは同一または異なって水素原子、ハ
ロゲン原子またはカルボキシル基を、ｍおよびｎは同一
または異なって０ないし４の整数を、その他の記号は請
求項１記載と同意義を示す］で表される錯体である請求
項１記載の製造法。 - 【請求項８】ルテニウム-ホスフィン-アミン錯体が一般
式（IX） ＲｕＸＹ（Ｒ3Ｒ4Ｐ−Ｗ−ＰＲ6Ｒ7）ｍ（ＮＨＲ8Ｒ9）
ｎ ［式中、ＸおよびＹは同一または異なって水素原子、ハ
ロゲン原子またはカルボキシル基を、ｍおよびｎは同一
または異なって０ないし４の整数を、その他の記号は請
求項１記載と同意義を示す］で表される錯体である請求
項１記載の製造法。 - 【請求項９】ルテニウム-ホスフィン-アミン錯体が一般
式（Ｘ） ＲｕＸＹ（Ｒ3Ｒ4Ｐ−Ｗ−ＰＲ6Ｒ7）ｍ（Ｒ8ＨＮ−Ｚ
−ＮＨＲ9）ｎ ［式中、ＸおよびＹは同一または異なって水素原子、ハ
ロゲン原子またはカルボキシル基を、ｍおよびｎは同一
または異なって０ないし４の整数を、その他の記号は請
求項１記載と同意義を示す］で表される錯体である請求
項１記載の製造法。 - 【請求項１０】ルテニウム-ホスフィン-アミン錯体が一
般式（XI） ＲｕＸＹ（xylBINAP）（DAIPEN） ［式中、ＸおよびＹは同一または異なって水素原子、ハ
ロゲン原子またはカルボキシル基を、xylBINAPは2，2’
-ビス〔ビス（3，5-ジメチルフェニル）ホスフィノ〕-
1，1’-ビナフチルを、DAIPENは1-イソプロピル-2，2-
ビス（p-メトキシフェニル）エチレンジアミンを示し、
xylBINAPおよびDAIPENの少なくとも一方は光学活性基を
示す］で表される錯体である請求項９記載の製造法。 - 【請求項１１】ルテニウム-ホスフィン-アミン錯体が一
般式（XII） ＲｕＸＹ（BINAP）（DPEN） ［式中、ＸおよびＹは同一または異なって水素原子、ハ
ロゲン原子またはカルボキシル基を、BINAPは2，2’-ビ
ス（ジフェニルホスフィノ）-1，1’-ビナフチルを、DP
ENは1，2-ジフェニルエチレンジアミンを示し、BINAPお
よびDPENの少なくとも一方は光学活性基を示す］で表さ
れる錯体である請求項９記載の製造法。 - 【請求項１２】塩基が一般式（XIII） Ｍ（Ｙ1）ｑ ［式中、Ｍはアルカリ金属またはアルカリ土類金属を、
Ｙ1はヒドロキシ基、アルコキシ基またはアルキルチオ
基を、ｑは１または２を示す］で表される化合物である
請求項１記載の製造法。 - 【請求項１３】（2-アミノ-5-クロロフェニル）(2,3-ジ
メトキシフェニル)メタノンまたはその塩を、xylBINAP
またはその塩、DAIPENまたはその塩、およびルテニウム
錯体から製造され、単離された光学活性なルテニウム−
ホスフィン−アミン錯体［式中、xylBINAPは2，2’-ビ
ス〔ビス（3，5-ジメチルフェニル）ホスフィノ〕-1，
1’-ビナフチルを、DAIPENは1-イソプロピル-2，2-ビス
（p-メトキシフェニル）エチレンジアミンを示し、xylB
INAPおよびDAIPENの少なくとも一方は光学活性体を示
す］および塩基の存在下に水素化することを特徴とす
る、（2−アミノ−5−クロロフェニル）（2，3−ジメト
キシフェニル）メタノールまたはその塩の光学活性体の
製造法。 - 【請求項１４】請求項１３記載の方法で得られる（2−
アミノ−5−クロロフェニル）（2，3−ジメトキシフェ
ニル）メタノールまたはその塩の光学活性体を、 １）Ｎ−アシル化して2-[Ｎ-（2，3-ジメトキシ−α−
ヒドロキシベンジル）−4−クロロフェニル]カルバモイ
ル−2，2-ジメチル酢酸エチルの光学活性体を製造し、 ２）次いで還元して[5-クロロ−2−（3-ヒドロキシ−
2，2−ジメチルプロピル）アミノフェニル]（2，3-ジメ
トキシフェニル）メタノールまたはその塩の光学活性体
を製造し、 ３）次いで環化反応に付して7-クロロ‐5−(2，3‐ジメ
トキシフェニル)−1-(3-ヒドロキシ−2，2−ジメチルプ
ロピル)-2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒドロ−4，1
−ベンゾオキサゼピン−3−酢酸エチルの光学活性体を
製造し、 ４）次いで加水分解して7-クロロ‐5−(2，3‐ジメトキ
シフェニル)−1-(3-ヒドロキシ−2，2−ジメチルプロピ
ル)-2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒドロ−4，1−ベ
ンゾオキサゼピン−3−酢酸またはその塩の光学活性体
を製造し、 ５）次いでアミド化してＮ−[1-(2，2−ジメチルプロピ
ル−3-ヒドロキシ)-7-クロロ‐5−(2，3‐ジメトキシフ
ェニル)−2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒドロ−4，1
−ベンゾオキサゼピン−3−アセチル]ピペリジン−4−
酢酸エチルの光学活性体を製造し、 ６）次いで加水分解してＮ−[1-(2，2−ジメチルプロピ
ル−3-ヒドロキシ)-7-クロロ‐5−(2，3‐ジメトキシフ
ェニル)−2−オキソ−1，2，3，5−テトラヒドロ−4，1
−ベンゾオキサゼピン−3−アセチル]ピペリジン−4−
酢酸またはその塩の光学活性体を製造し、 ７）次いでアセチル化することを特徴とするＮ−[1-(3-
アセトキシ−2，2−ジメチルプロピル)-7-クロロ‐5−
(2，3‐ジメトキシフェニル)−2−オキソ−1，2，3，5
−テトラヒドロ−4，1−ベンゾオキサゼピン−3−アセ
チル]ピペリジン−4−酢酸またはその塩の光学活性体の
製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000362780A JP2001220371A (ja) | 1999-11-30 | 2000-11-29 | 光学活性ベンズヒドロール類の製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11-341015 | 1999-11-30 | ||
| JP34101599 | 1999-11-30 | ||
| JP2000362780A JP2001220371A (ja) | 1999-11-30 | 2000-11-29 | 光学活性ベンズヒドロール類の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001220371A true JP2001220371A (ja) | 2001-08-14 |
Family
ID=26576853
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000362780A Pending JP2001220371A (ja) | 1999-11-30 | 2000-11-29 | 光学活性ベンズヒドロール類の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001220371A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003101930A1 (fr) * | 2002-05-30 | 2003-12-11 | Konica Minolta Chemical Co., Ltd. | Procede de production de 2-benzylaniline |
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| JPH029849A (ja) * | 1988-03-23 | 1990-01-12 | Sankyo Co Ltd | ４―アミノ―３―ヒドロキシカルボン酸類の立体選択的合成法 |
| JPH0322992A (ja) * | 1989-03-31 | 1991-01-31 | Rikagaku Kenkyusho | 微生物を利用した光学活性ベンゾヒドロール誘導体の製造法 |
| JPH09136880A (ja) * | 1995-09-13 | 1997-05-27 | Takeda Chem Ind Ltd | ベンゾオキサゼピン化合物 |
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| JPH11189600A (ja) * | 1997-12-26 | 1999-07-13 | Japan Science & Technology Corp | ルテニウム錯体とこれを触媒とするアルコール化合物 の製造方法 |
-
2000
- 2000-11-29 JP JP2000362780A patent/JP2001220371A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20071015 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20071015 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101116 |
|
| A02 | Decision of refusal |
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