JP2001196437A

JP2001196437A - 基板搬送システム及びこの基板搬送システムが設けられた基板処理装置

Info

Publication number: JP2001196437A
Application number: JP2000003850A
Authority: JP
Inventors: Yoshihiro Katsumata; 好弘勝俣; Kazuto Watanabe; 和人渡邊; Nobuyuki Takahashi; 信行高橋
Original assignee: Anelva Corp
Current assignee: Canon Anelva Corp
Priority date: 2000-01-12
Filing date: 2000-01-12
Publication date: 2001-07-19
Also published as: US20010007630A1

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】搬送ロボットを備えた基板搬送システムにお
いて、アームの回転により生ずる問題を効果的に解決す
る。【解決手段】搬送チャンバー３の周囲に複数の処理チ
ャンバー５とロードロックチャンバー４とがゲートバル
ブ６を介して気密に接続されており、搬送チャンバー３
内には、基板搬送システムが設けられている。基板搬送
システムは、先端に方形の基板９を支持する基板支持具
１１を備えたアーム１２を駆動部１３により伸縮、回転
及び上下運動を行わせて基板９を所定の位置に搬送する
搬送ロボット１と、基板９を角の部分で支持する四つの
基板支持板２１とから成る係留具より構成されている。
搬送ロボット１は、基板支持板２１に基板９を一時的に
係留して基板９を支持することなくアーム１２の回転運
動を行ってアーム１２の伸縮運動の方向を変える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本願の発明は、基板を搬送す
る基板搬送システム及び基板搬送システムが設けられた
基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】基板に対し所定の処理を施す装置は、ス
パッタリング装置や化学蒸着（ＣＶＤ）装置等の薄膜作
成装置、エッチング装置、表面酸化装置、表面窒化装置
等として知られている。このような基板処理装置は、Ｌ
ＳＩ（大規模集積回路）等の電子デバイスやＬＣＤ（液
晶ディスプレイ）等の表示デバイスの製作に盛んに使用
されている。

【０００３】このような基板処理装置は、所定の雰囲気
中で基板の処理を行うため、気密な処理チャンバーを備
えている。そして、処理チャンバーが直接大気に開放さ
れないようにして基板を処理チャンバーに搬入するた
め、処理チャンバーにはロードロックチャンバーが接続
されている。さらに、ロードロックチャンバーと処理チ
ャンバーとの間で基板を搬送する基板搬送システムが設
けられる。

【０００４】基板搬送システムは、比較的小さな占有ス
ペースであるにもかかわらず三次元の自由な位置に基板
を搬送できるところから、多関節アームを備えたロボッ
トが多く使用される。基板を搬送するロボット（以下、
単に搬送ロボットという）は、先端に基板を支持する基
板支持具を備えたアームを、伸縮運動、回転運動及び上
下運動させ、基板を搬送する。基板支持具は板状の部材
であり、上面に基板を載せて支持する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上述した基板搬送シス
テムにおいて、基板を支持したアームが回転運動を行う
ことに関して、一つの問題が発生している。即ち、基板
支持具が基板を支持しながらアームが回転運動を行う
と、慣性や遠心力の問題から、基板が基板支持具上でず
れてしまうことがある。基板が基板支持具上でずれる
と、処理チャンバー内等の正しい位置に基板が搬送され
ず、搬送エラーや処理の再現性低下等の問題を生ずる。
最悪の場合には、基板が基板支持体から落下してしま
い、使用不能になることがある。この場合、基板に対し
て既に多くの処理が施されていて付加価値が増している
ときには、大きな損失となり、歩留まりを大きく低下さ
せてしまう。

【０００６】上述した問題を解決する方法として、回転
運動の際の速度を低下させ、慣性や遠心力の影響を小さ
くする方法がある。しかしながら、回転運動の速度を低
下させることは、搬送時間が長くなることを意味し、生
産性の低下につながる。別な方法として、基板支持具の
表面に静電気を誘起して基板を基板支持具に静電吸着す
る方法がある。しかしながら、この方法によると、周囲
の塵埃等のパーティクルを引きつけてしまい、基板にパ
ーティクルが付着する可能性が高くなるという問題があ
る。尚、パーティクルとは、基板の汚損する微粒子の総
称である。また、基板を基板支持具に静電吸着すると、
基板の裏面が傷つけられて、傷によって放出された破片
がパーティクルになるという問題もある。尚、基板を真
空吸着によって基板支持体に吸着する方法もあるが、搬
送チャンバー内が真空である場合、即ち、基板搬送シス
テムが真空中で使用される場合、実現不可である。

【０００７】上述した回転運動時の基板のずれの問題
は、最近顕著である基板の大型化の傾向との関連で深刻
である。即ち、ＬＳＩ等の製造においては、一つの基板
から産出されるデバイスの数を多くして生産性を向上さ
せるため、基板は大型化する傾向がある。また、ＬＣＤ
等の表示デバイスでは、表示面積を大きくする要請か
ら、基板は大型化する傾向がある。このように基板が大
型化すると、回転半径が大きくなって遠心力が大きくな
ったり、基板支持具と基板との接触面積が小さくなった
りすることから、基板のずれが生じやすい。

【０００８】また、上記基板を支持したアームの回転運
動において、装置全体の占有面積の関連から別の問題が
生じている。即ち、回転運動を行う場合、一般的に、回
転中心と、回転運動を行う物体の回転中心から最も遠い
箇所との距離を半径とするスペースが必要になる（以
下、この半径を必要最小半径と呼ぶ）。基板を支持した
アームを回転運動させる場合には、回転中心から最も遠
い側の基板の縁と回転中心との距離が必要最小半径とな
る。アームそのものの必要最小半径は比較的小さいのに
対し、基板を支持したアームを回転させる場合の必要最
小半径は大きく、より大きなスペースが必要になる。こ
のため、装置全体の省スペース化の要請に見合わない問
題がある。この問題は、上記基板の大型化の傾向から、
やはり深刻である。基板が大型化すればするほど必要最
小半径は大きくなり、搬送チャンバーの占有面積、ひい
ては装置全体の占有面積が増大してしまう。

【０００９】本願の発明は、かかる課題を解決するため
になされたものであり、搬送ロボットを備えた基板搬送
システムにおいて、アームの回転により生ずる問題を効
果的に解決するという技術的意義を有する。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本願の請求項１記載の発明は、基板を搬送する搬送
ロボットと、基板の搬送の際に一時的に基板を係留する
係留具とより成る基板搬送システムであって、前記搬送
ロボットは、先端に基板を支持する基板支持具が設けら
れたアームと、アームに伸縮運動、回転運動及び上下運
動を行わせて基板を所定の位置に搬送する駆動部とから
成るものであるとともに、前記搬送ロボットは、アーム
の伸縮方向を変更する場合には、前記係留具に基板を一
時的に係留し、基板を支持することなくアームの回転運
動を行ってアームの伸縮運動の方向を変えるものである
という構成を有する。また、上記課題を解決するため、
請求項２記載の発明は、前記請求項１の構成において、
前記基板は、方形であるという構成を有する。また、上
記課題を解決するため、請求項３記載の発明は、内部で
基板に対して所定の処理が行われる処理チャンバーと、
処理チャンバーに基板が搬入される際に基板が一時的に
滞留するチャンバーであるロードロックチャンバーと、
ロードロックチャンバーと処理チャンバーの間で又は処
理チャンバーが複数設けられている場合には各処理チャ
ンバーの間で基板を搬送する基板搬送システムとして請
求項１又は２記載のものが内部に設けられた搬送チャン
バーとから成るという構成を有する。また、上記課題を
解決するため、請求項４記載の発明は、前記請求項３の
構成において、前記係留具は、上面に基板を載せて支持
する支持板から成るものであり、この支持板は、搬送方
向ラインにアームの伸縮方向を一致させた状態で前記基
板支持具が一体に上昇しても、基板支持具が干渉しない
ものであるという構成を有する。また、上記課題を解決
するため、請求項５記載の発明は、前記請求項３の構成
において、前記係留具は、方形の角の位置に設けられた
四つの支持板から成るものであり、前記搬送チャンバー
は平面視が方形であって四つの支持板の配置位置の方形
の中心軸と同軸であり、また、前記搬送チャンバーの平
面視の方形と四つの支持板の配置のの方形とは各辺が互
いに平行であり、さらに、前記処理チャンバー及び前記
ロードロックチャンバーは、前記搬送チャンバーの方形
のいずれかの辺に気密に接続されているとともに、処理
チャンバー及びロードロックチャンバーの各中心軸と搬
送チャンバーの中心軸とを結ぶ線が、当該接続部分の辺
に対して垂直となっているという構成を有する。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本願発明の実施の形態につ
いて説明する。図１は、本願発明の実施形態の基板搬送
システムの構成を示す斜視概略図である。図１に示す基
板搬送システムは、基板９を搬送する搬送ロボット１
と、基板９の搬送の際に一時的に基板９を係留する係留
具２とより主に構成されている。

【００１２】搬送ロボット１は、先端に基板９を支持す
る基板支持具１１が設けられたアーム１２と、アーム１
２に伸縮運動、回転運動及び上下運動を行わせて基板９
を所定の位置に搬送する駆動部１３とから主に構成され
ている。アーム１２は、複数のアームロッド１２１，１
２２を関節部１２３，１２４を介して連結した多関節ア
ームである。

【００１３】基板支持具１１は、図１に示すように、ほ
ぼ長方形の板状であり、Ｕ字状の切り欠きを有してい
る。Ｕ字状の切り欠きは、長方形の短辺の一つから長辺
の方向にＵの深さ方向が一致するようにして形成されて
いる。尚、基板支持具１１を中心を通り、長辺の方向に
沿って延びる仮想上の線を、説明の都合上、「支持具基
準線」と呼び、図１にＳで示す。

【００１４】本実施形態では、二つのアームロッド１２
１，１２２から成るアーム１２を備えた搬送ロボット１
が採用されている。二つのアームロッド１２１，１２２
を、第一アームロッド１２１及び第二アームロッド１２
２とすると、第一アームロッド１２１は第一関節部１２
３を介して先端に基板支持具１１を連結しており、第二
アームロッド１２２は第二関節部１２４を介して先端に
第一アームロッド１２１の後端を連結している。このよ
うな搬送ロボット１は、各社から種々のものが市販され
ているので、これらから適宜選択して使用することがで
きる。

【００１５】係留具２は、本実施形態では、四つの支持
板２１とから構成されている。各支持板２１は、直角三
角形状である。本実施形態では、方形の基板９を搬送す
ることが想定されており、四つの支持板２１は、方形の
基板９の各角の位置で基板９を支持するよう設けられて
いる。各支持板２１は、搬送ロボット１のアーム１２の
運動に干渉しないフレームによって固定されている。本
実施形態では、垂直に延びる固定棒２２がフレームとし
て採用されている。各固定棒２２は、図１に示すように
下端が内側に折れ曲がっており、その先端に支持板２１
の直角の角の部分を固定している。各固定棒２２は、上
方の不図示の固定物に上端が固定されている。

【００１６】図１に示すように、基板支持具１１と第一
アームロッド１２１とを連結した第一関節部１２３は、
垂直方向に長い部材である。基板支持具１１が基板９を
支持した状態で、後述するようにアーム１２が伸縮運動
する際、第一アームロッド１２１、第二関節部１２４及
び第三アームロッド１２２は、各支持板２１よりも下方
に位置し、各支持板２１よりも下方の水平面内で駆動さ
れる。

【００１７】次に、上記構成に係る基板搬送システムの
動作について説明する。図１において、四つの支持板２
１のうちの各二つを結ぶ線の垂直二等分線が属する垂直
な仮想面を垂直基準面と呼び、図１にＶＰで示す。図１
に示すように、垂直基準面は、二つの支持板２１の選び
方により二つになる。四つの支持板２１の上面はすべて
同一水平面上である。この水平面を水平基準面と呼び、
図１にＨＰで示す。

【００１８】図１において、駆動部１３は、アーム１２
の伸縮、回転、上下運動させて、任意の位置にある基板
９を受け取る。そして、駆動部１３は、基板支持具１１
を水平基準面ＨＰよりも高い位置にするとともに、支持
具基準線Ｓがいずれかの垂直基準面ＶＰに位置するよう
にする。この際、アーム１２及び基板支持具１１の回転
運動が必要になる場合、その回転運動の角度が最も小さ
くて済むように、いずれか一方の垂直基準面ＶＰを選択
する。また回転運動の速度は、所定の遅い速度とされ
る。

【００１９】駆動部１３は、基板支持具１１が水平基準
面ＨＰより高く、支持具基準線Ｓが垂直基準面ＶＰ上に
ある状態を保ちながら、アーム１２を縮め、基板支持具
１１を直線的に移動させて係留具２に接近させる。基板
支持具１１が係留具２より所定距離上方に達し、基板９
の中心が、四つの支持板２１の中心を通る鉛直線（以
下、係留中心軸）に一致する位置（以下、上限位置）に
達したら、駆動部１３は、基板支持具１１の移動を停止
させる。

【００２０】この状態で、駆動部１３は、アーム１２及
び基板支持具１１を全体に下降させる。駆動部１３は、
基板支持具１１上面が水平基準面ＨＰよりも所定距離下
方の位置（以下、下限位置）したら下降を停止させる。
この下降の過程で、基板９は四つの支持板２１よりなる
係留具２の上に載り、係留が完了する。

【００２１】次に、駆動部１３は、基板９を別の方向に
ある所定の位置（以下、搬送先位置）に搬送する。ま
ず、基板支持具１１の上面が下限位置にある状態で、ア
ーム１２及び基板支持具１１を一体に９０度、−９０
度、１８０又は−１８０度（以下、±９０度又は±１８
０度）回転させる。回転の角度は、回転後の支持具基準
線Ｓの方向が、搬送先位置が位置する方向に最も近くな
るよう選択される。尚、下限位置は、基板支持具１１の
上面が各支持板２１の下面よりも低い位置になるよう設
定されており、回転運動の際に基板支持具１１が支持板
２１に干渉することはない。

【００２２】上記±９０度又は±１８０度の回転の後、
駆動部１３は、アーム１２及び基板支持具１１を一体に
上昇させる。駆動部１３は、基板支持具１１上面が上限
位置に達したら上昇を停止させる。この上昇の過程で、
基板９は基板支持具１１の上に載り、係留が解消され
る。

【００２３】次に、駆動部１３は、搬送先位置の方向に
支持具基準線Ｓが向くよう、必要最小限の回転運動を行
う。この際の速度は、前述したのと同様に所定の遅い速
度とされる。支持具基準線Ｓが搬送先位置の方向に向い
たら、駆動部１３はアーム１２を伸ばして基板支持具１
１を前進させ、基板９を搬送先位置まで搬送する。

【００２４】上述した構成及び動作に係る本実施形態の
基板搬送システムでは、基板９を一時的に係留具２に係
留し、基板９を支持しない状態でアーム１２及び基板支
持具１１を一体に回転運動させてアーム１２の伸縮方向
を変更することで、基板９を支持した状態での回転運動
を極力少なくしている。そして、この回転運動は遅い速
度であり、従って、慣性や遠心力による基板９のずれや
落下の可能性が低くなっている。

【００２５】回転運動の角度が小さいため、遅い速度で
も、搬送効率が大きく低下することはない。基板９を支
持しない状態でも回転運動をかなり速くすることができ
るため、基板９を支持した状態での回転運動の遅さを補
って余りがあるようにすることができる。従って、全体
として搬送効率を高くすることも可能である。

【００２６】上述した説明では、基板９を支持しない状
態での回転運動は、±９０度又は±１８０度であった
が、これ以外の角度も可能である。要は、上昇した際
に、基板支持具１１が係留具２に干渉しなければ良い。
干渉しない範囲で、任意の角度を選択できる。また、係
留具２の構成を変えることによっても、回転角度の選択
の幅は広がる。例えば、係留具２として三つの支持板２
１を採用し、１２０度ずつ離れた位置に配置する構成が
挙げられる。この構成によると、前述した実施形態より
も回転角度の選択の幅は広がる。

【００２７】次に、基板処理装置の発明の実施形態につ
いて説明する。図２は、実施形態の基板処理装置の概略
構成を示す平面図である。図２に示す装置は、クラスタ
ーツール型のチャンバーレイアウトを採用した装置とな
っている。即ち、中央に基板搬送システムを備えた搬送
チャンバー３があり、その周囲にロードロックチャンバ
ー４及び複数の処理チャンバー５が設けられている。図
１に示すように、搬送チャンバー３は平面視が方形の形
状であり、その三辺にそれぞれ処理チャンバー５が接続
されている。残りの一辺に、ロードロックチャンバー４
が接続されている。各処理チャンバー５及びロードロッ
クチャンバー４も、平面視が方形である。各接続箇所に
は、ゲートバルブ６が設けられている。各チャンバー
３，４，５は気密な真空容器であり、内部を排気する不
図示の排気系が設けられている。

【００２８】基板搬送システムは、前述した実施形態の
ものをそのまま使用することができる。尚、図２に示す
ように、係留中心軸は、搬送チャンバー３の中心軸に一
致している。また、各支持板２１が成す方形は、搬送チ
ャンバー３の平面視の輪郭の方形に対して各辺がそれぞ
れ平行になっている。そして、各処理チャンバー５及び
ロードロックチャンバー４は、その中心軸と搬送チャン
バー３の中心軸とを結ぶ線が、搬送チャンバー３との接
続部分の辺に対して垂直になっている。尚、係留具２の
各支持板２１を保持した固定棒（図２中不図示）は、搬
送チャンバー３の上壁部に先端が固定されている。

【００２９】ロードロックチャンバー４は、大気側と搬
送チャンバー３との間で搬送される際に基板９が内部に
一時的に滞留するチャンバーである。ロードロックチャ
ンバー４内には、基板９を一時的に収容するカセット４
１が設けられている。

【００３０】処理チャンバー５は、上面に基板９を載置
して保持する基板ホルダー５１を有している。基板ホル
ダー５１は、基板搬送システムの搬送ロボット１との間
で基板９の受け渡しを行うための昇降ピンのような昇降
機構を有している。

【００３１】処理チャンバー５の構成は、特に限定され
ず、処理の内容に応じて適宜選択し得る。例えば、スパ
ッタリング処理を行う場合、処理チャンバー５内には、
基板ホルダー５１と対向するようにして配置されたター
ゲットが設けられる。そして、処理チャンバー５内を排
気する排気系と、処理チャンバー５内にプロセスガスを
導入するガス導入系が備えられる。ターゲットの背後に
は、マグネトロン放電を達成する磁石ユニットが配置さ
れる。アルゴン等のプロセスガスを導入して、ターゲッ
トに負の高電圧又は直流電圧を印加してスパッタ放電を
生じさせる。スパッタによってターゲットから放出され
た材料が基板９に達して、基板９の表面に所定の薄膜が
作成される。

【００３２】また、プラズマ化学蒸着（ＣＶＤ）により
薄膜作成を行う場合、処理チャンバー５内には、プラズ
マを形成するための電極が設けられる。処理チャンバー
５内を排気する排気系と、処理チャンバー５内に原料ガ
スを導入するガス導入系と、電極に高周波電圧を印加し
て高周波放電を生じさせる高周波電源とが備えられる。
高周波放電により生じたプラズマ中で原料ガスに気相反
応が生じ、基板９の表面に薄膜が作成される。

【００３３】さらには、プラズマエッチングを行う場
合、プラズマ化学蒸着とほぼ同様の構成であるが、処理
チャンバー５内にフッ素系ガス等のエッチング作用のあ
るガスを導入するよう構成される。プラズマ中で生成さ
れたフッ素活性種等の作用を利用して、基板９の表面の
エッチングが行われる。

【００３４】次に、上記構成に係る実施形態の基板処理
装置の動作について図３を使用して説明する。図３は、
図２に示す装置の動作を説明する側断面概略図である。
図２は、（１）〜（４）の順で動作が進行することを示
している。

【００３５】未処理の基板９は、大気側に置かれた不図
示の外部カセットに収容されている。この外部カセット
とロードロックチャンバー４との間で基板９を搬送する
不図示のオートローダが設けられており、未処理の基板
９はオートローダにより外部カセットからロードロック
チャンバー４に搬送され、カセット４１に一時的に収容
される。

【００３６】次に、基板搬送システムの搬送ロボット１
は、アーム１２をロードロックチャンバー４に伸ばし
て、カセット４１から基板９を受け取り、基板支持具１
１の上に載せる。そして、搬送ロボット１は、アーム１
２を縮め、基板９を支持した基板支持具１１を後退させ
て、図３（１）に示すように、上限位置に位置させる。
尚、ロードロックチャンバー４から搬送チャンバー３へ
の基板９の搬送の際に基板９の中心が通るべきライン
（以下、基板搬送ライン）は、ロードロックチャンバー
４の中心軸と搬送チャンバー３の中心軸とを結ぶ線であ
る。図１及び図２から解るように、この基板搬送ライン
は、基板搬送システムにおける一方の垂直基準面ＶＰに
一致している。上記搬送の際、支持具基準線Ｓがこの垂
直基準面上の基板搬送ラインに沿って移動するよう、搬
送ロボット１は基板支持具１１を移動させる。

【００３７】図３（１）に示す状態から、搬送ロボット
１は、アーム１２及び基板支持具１１を一体に下降さ
せ、図３（２）に示すように、基板９を係留具２に係留
する。次に、搬送ロボット１は、基板支持具１１及びア
ーム１２を一体に±９０度又は±１８０度回転させる。
回転の角度は、図２に示す三つの処理チャンバー５のう
ちのどれに基板９を搬送させるかによる。図３に示す例
では、ロードロックチャンバー４に向かい合った処理チ
ャンバー５に搬送するため、＋１８０度又は−１８０度
回転させている（図３（３））。

【００３８】回転運動が終了したら、図３（４）に示す
ように、基板支持具１１及びアーム１２を一体に上限位
置まで上昇させて基板９を基板支持具１１の上に載せ
る。そして、そのままアーム１２を伸ばして基板９を処
理チャンバー５に搬送する。処理チャンバー５内では、
不図示の受け渡し機構を介して基板支持具１１から基板
ホルダー５１に基板９が渡される。

【００３９】処理が終了したら、搬送ロボット１は、ロ
ードロックチャンバー４内からの搬送の場合と同様に、
基板９を受け取ってアーム１２を縮め、アーム１２及び
基板支持具１１を上限位置から下限位置に一体に下降さ
せて係留具２に係留する。そして、次に搬送する処理チ
ャンバー５の位置に合わせてアーム１２及び基板支持具
１１を±９０度又は±１８０度回転させる。搬送ロボッ
ト１は、同様の動作を繰り返して、順次処理チャンバー
５に基板９を搬送し、最後の処理が終了したら、基板９
をロードロックチャンバー４に戻す。そして、基板９
は、不図示のオートローダによりロードロックチャンバ
ー４から大気側に取り出される。

【００４０】上記説明から解るように、本実施形態の装
置では、基板９を支持した状態でのアーム１２及び基板
支持具１１の回転運動は皆無となっている。つまり、基
板９を支持しない状態の回転運動のみで、アーム１２の
伸縮方向を変えている。従って、基板支持具１１が基板
９を支持しながら回転することによる基板９のずれや落
下は、本実施形態では全く起きることがない。また、基
板９を支持した状態で基板支持具１１が回転することが
ないから、基板９を静電吸着によって基板支持具１１に
吸着させるようなことも不要である。

【００４１】上記構成では、方形の搬送チャンバー３の
周囲に一つのロードロックチャンバー４と三つの処理チ
ャンバー５が接続されたが、これは何ら限定的ではな
い。五角形以上の搬送チャンバー３を使用してさらに多
くの処理チャンバー５又はロードロックチャンバー４を
接続してもよい。この場合、各チャンバーへの搬送の際
のアーム１２の伸縮方向の変更動作が、基板９を支持し
た状態でのアーム１２及び基板支持具１１の回転動作を
含まないよう、係留具２の構成を適宜変更する。即ち、
支持具基準線Ｓを搬送方向に合わせた状態で基板支持具
１１が上昇しても、基板支持具１１が係留具２に干渉す
ることがないようにする。尚、どうしても干渉があり、
基板支持具１１が係留具２を避けて上昇する場合でも、
上昇後の方向合わせのための回転運動の角度は、なるべ
く小さくすることが好ましい。

【００４２】係留具２の構成としては、前述した四つの
支持板２１から成る構成の他、五つ又はそれ以上の支持
板２１から成るものでも良い。また、支持板２１以外の
構成、例えば複数のフック状の部材で基板の縁を係止す
る構成、基板９の両端を挟んで保持する構成、中央に設
けられた小さなステージ状の部材の上に基板９を載せる
ような構成等でも良い。

【００４３】また、搬送ロボット１としては、前述した
構成のものには限られない。例えば、特表平８−５０６
７７１号公報に開示されているような線対称の動きをす
る複数のアームロッドを組み合わせた搬送ロボットを採
用することも可能である。

【００４４】尚、上述した各実施形態で想定されている
方形の基板９は、液晶ディスプレイ用のガラス基板であ
る。この他、方形の基板９としては、プラズマディスプ
レイ等の他の表示デバイス用の基板、太陽電池製造用の
基板、又は、プリント基盤用の基板等が挙げられる。ま
た、方形の基板９以外でも本願発明は適用が可能であ
り、半導体ウェーハ等の円形の基板、情報記録ディスク
用基板等のドーナツ状の基板に対しても適用が可能であ
る。

【００４５】また、方形の基板９を回転させる必要が無
いということは、方形の搬送チャンバー３の採用との関
係で、重要な意義を有する。即ち、方形の基板９を回転
させなければいけない場合、たとえ搬送チャンバー３の
中心軸と同軸の回転であっても、対角線の１／２の距離
を必要最小半径とする円形のスペースが少なくとも必要
である（実際には、これに搬送チャンバー３と基板９と
の間の所要のクリアランスが加わる）。しかし、基板９
を回転させないのであれば、搬送チャンバー３は、基板
９の輪郭にクリアランスを加えた分の大きさで足り、よ
り小型化できる。

【００４６】

【発明の効果】以上説明した通り、本願の請求項１記載
の基板搬送システムによれば、アームの伸縮方向を変え
るための回転運動を、基板を係留具に係留した状態で行
うので、基板支持具が基板を支持した状態での回転動作
を極力少なくするか又は皆無にすることができる。従っ
て、基板支持具上で基板がずれたり、基板が基板支持具
から落下したりする事故を抑制することができる。ま
た、請求項２記載の発明によれば、回転の際のずれや落
下の恐れの高い方形の基板に対して上記効果を得ながら
搬送を行うことができる。また、請求項３記載の発明に
よれば、上記効果に得ながら、基板に対して処理チャン
バーで所定の処理を行うことができる。また、請求項４
又は５記載の発明によれば、基板を支持した状態での回
転運動が皆無となるので、上記効果がさらに高く得られ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本願発明の実施形態の基板搬送システムの構成
を示す斜視概略図である。

【図２】実施形態の基板処理装置の概略構成を示す平面
図である。

【図３】図２に示す装置の動作を説明する側断面概略図
である。

【符号の説明】

１搬送ロボット１１基板支持具１２アーム１３駆動部２係留具２１支持板２２固定棒３搬送チャンバー４ロードロックチャンバー５処理チャンバー６ゲートバルブ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者高橋信行東京都府中市四谷５丁目８番１号アネルバ株式会社内Ｆターム(参考） 3F060 AA01 DA10 EB12 EC12 GB06 5F004 AA14 AA16 BB18 BC06 DA00 DB00 5F031 CA05 FA02 FA14 GA10 GA35 GA43 GA47 GA48 GA49 MA04

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板を搬送する搬送ロボットと、基板の
搬送の際に一時的に基板を係留する係留具とより成る基
板搬送システムであって、前記搬送ロボットは、先端に基板を支持する基板支持具
が設けられたアームと、アームに伸縮運動、回転運動及
び上下運動を行わせて基板を所定の位置に搬送する駆動
部とから成るものであるとともに、前記搬送ロボットは、アームの伸縮方向を変更する場合
には、前記係留具に基板を一時的に係留し、基板を支持
することなくアームの回転運動を行ってアームの伸縮運
動の方向を変えるものであることを特徴とする基板搬送
システム。
【請求項２】前記基板は、方形であることを特徴とす
る請求項１記載の基板搬送システム。
【請求項３】内部で基板に対して所定の処理が行われ
る処理チャンバーと、処理チャンバーに基板が搬入され
る際に基板が一時的に滞留するチャンバーであるロード
ロックチャンバーと、ロードロックチャンバーと処理チ
ャンバーの間で又は処理チャンバーが複数設けられてい
る場合には各処理チャンバーの間で基板を搬送する基板
搬送システムとして請求項１又は２記載のものが内部に
設けられた搬送チャンバーとから成ることを特徴とする
基板処理装置。
【請求項４】前記係留具は、上面に基板を載せて支持
する支持板から成るものであり、この支持板は、搬送方
向ラインにアームの伸縮方向を一致させた状態で前記基
板支持具が一体に上昇しても、基板支持具が干渉しない
ものであることを特徴とする請求項３記載の基板処理装
置。
【請求項５】前記係留具は、方形の角の位置に設けら
れた四つの支持板から成るものであり、前記搬送チャン
バーは平面視が方形であって四つの支持板の配置位置の
方形の中心軸と同軸であり、また、前記搬送チャンバー
の平面視の方形と四つの支持板の配置のの方形とは各辺
が互いに平行であり、さらに、前記処理チャンバー及び
前記ロードロックチャンバーは、前記搬送チャンバーの
方形のいずれかの辺に気密に接続されているとともに、
処理チャンバー及びロードロックチャンバーの各中心軸
と搬送チャンバーの中心軸とを結ぶ線が、当該接続部分
の辺に対して垂直となっていることを特徴とする請求項
３記載の基板処理装置。