JP2001166459A - 感熱性平版印刷用原板 - Google Patents
感熱性平版印刷用原板Info
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- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
- B41C1/1016—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials characterised by structural details, e.g. protective layers, backcoat layers or several imaging layers
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 暗室使用という不便さを解消した明室取り扱
い可能なCTP用平版印刷原板を提供する。 【解決手段】 親水性表面を有する支持体上に、1)付
加重合性不飽和結合を側鎖に有するアルカリ水溶液可溶
性ポリマーおよび熱重合開始剤を含有する熱重合層と、
2)水溶性ポリマーおよび光熱変換剤を含有する水溶性
オーバーコート層とをこの順に有することを特徴とする
感熱性平版印刷用原板。
い可能なCTP用平版印刷原板を提供する。 【解決手段】 親水性表面を有する支持体上に、1)付
加重合性不飽和結合を側鎖に有するアルカリ水溶液可溶
性ポリマーおよび熱重合開始剤を含有する熱重合層と、
2)水溶性ポリマーおよび光熱変換剤を含有する水溶性
オーバーコート層とをこの順に有することを特徴とする
感熱性平版印刷用原板。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、コンピュータ・ツ
ウ・プレートシステム用の平版印刷用原板に関する。よ
り詳しくは、デジタル信号に基づいた赤外線レーザ走査
露光によって画像記録し、画像記録したものを現像処理
して平版印刷版を作製するための感熱性平版印刷用原板
に関する。
ウ・プレートシステム用の平版印刷用原板に関する。よ
り詳しくは、デジタル信号に基づいた赤外線レーザ走査
露光によって画像記録し、画像記録したものを現像処理
して平版印刷版を作製するための感熱性平版印刷用原板
に関する。
【0002】
【従来の技術】近年進展が目覚ましいコンピュータ・ツ
ウ・プレート(CTP)システム用刷版については多数
の研究がなされ、種々の方法が提案されている。その中
で実用化されている方法の一つに、レーザ照射エネルギ
ーによって照射部分を重合不溶化させて画像部とし、未
照射部分を現像で溶解除去することにより印刷版を得る
光重合型CTP用印刷版がある。
ウ・プレート(CTP)システム用刷版については多数
の研究がなされ、種々の方法が提案されている。その中
で実用化されている方法の一つに、レーザ照射エネルギ
ーによって照射部分を重合不溶化させて画像部とし、未
照射部分を現像で溶解除去することにより印刷版を得る
光重合型CTP用印刷版がある。
【0003】例えば、特開平4−221958号公報、
同5−281728号公報、同8−146605号公報
および同8−220758号公報には、1)親水性表面
を有する支持体、2)増感色素、光重合開始剤、重合性
不飽和モノマーおよびバインダーポリマーを含有する光
重合性組成物層、および3)酸素遮断性オーバーコート
層からなる光重合型のCTP用平版印刷原板が開示され
ている。
同5−281728号公報、同8−146605号公報
および同8−220758号公報には、1)親水性表面
を有する支持体、2)増感色素、光重合開始剤、重合性
不飽和モノマーおよびバインダーポリマーを含有する光
重合性組成物層、および3)酸素遮断性オーバーコート
層からなる光重合型のCTP用平版印刷原板が開示され
ている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】これらの公報のCTP
システム用平版印刷原板は、光重合を利用したものであ
り、光源として用いられるアルゴンイオンレーザ、FD
−YAGレーザなどの可視光レーザに対応した可視光域
に感光性をもつため、印刷用原板は、暗室中で取り扱わ
なければならない不便がある。
システム用平版印刷原板は、光重合を利用したものであ
り、光源として用いられるアルゴンイオンレーザ、FD
−YAGレーザなどの可視光レーザに対応した可視光域
に感光性をもつため、印刷用原板は、暗室中で取り扱わ
なければならない不便がある。
【0005】従って、本発明の目的は、上記暗室使用と
いう不便さを解消した明室取り扱い可能なCTP用平版
印刷原板を提供することにある。
いう不便さを解消した明室取り扱い可能なCTP用平版
印刷原板を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者は、赤外線レー
ザ露光による熱重合を利用した新たな画像形成法の平版
印刷用原板によって上記目的が達成されることを見出
し、本発明に至った。すなわち、本発明は、以下の通り
である。
ザ露光による熱重合を利用した新たな画像形成法の平版
印刷用原板によって上記目的が達成されることを見出
し、本発明に至った。すなわち、本発明は、以下の通り
である。
【0007】1.親水性表面を有する支持体上に、1)
付加重合性不飽和結合を側鎖に有するアルカリ水溶液可
溶性ポリマーおよび熱重合開始剤を含有する熱重合層
と、2)水溶性ポリマーおよび光熱変換剤を含有する水
溶性オーバーコート層とをこの順に有することを特徴と
する感熱性平版印刷用原板。
付加重合性不飽和結合を側鎖に有するアルカリ水溶液可
溶性ポリマーおよび熱重合開始剤を含有する熱重合層
と、2)水溶性ポリマーおよび光熱変換剤を含有する水
溶性オーバーコート層とをこの順に有することを特徴と
する感熱性平版印刷用原板。
【0008】2.付加重合性不飽和結合が、アリル基、
アクリル基およびメタクリル基から選ばれた少なくとも
一つの官能基であることを特徴とする請求項1記載の感
熱性平版印刷用原板。
アクリル基およびメタクリル基から選ばれた少なくとも
一つの官能基であることを特徴とする請求項1記載の感
熱性平版印刷用原板。
【0009】3.熱重合開始剤が過酸化物またはヘキサ
アリールビイミダゾール化合物であることを特徴とする
前記1又は2記載の感熱性平版印刷用原板。 4.水溶性ポリマーがビニルアルコール単位を少なくと
も65モル%有するポリマーであることを特徴とする前
記1〜3のいずれかに記載の感熱性平版印刷用原板。
アリールビイミダゾール化合物であることを特徴とする
前記1又は2記載の感熱性平版印刷用原板。 4.水溶性ポリマーがビニルアルコール単位を少なくと
も65モル%有するポリマーであることを特徴とする前
記1〜3のいずれかに記載の感熱性平版印刷用原板。
【0010】なお、EP889363号公報には、近赤
外線吸収染料、ヘキサアリールビイミダゾール化合物
(HABI)、光重合性物質および連鎖移動剤を含んだ
近赤外線感光性組成物が開示されいる。しかし、この公
報の感光性組成物を使用して作製された印刷版は、露光
を、ネガまたはポジ画像を有するフィルムを通して行う
と記載されており、フィルムを使用しないCTP方式の
レーザ走査露光では画像形成しないことが分かった。従
って、この公報は、本発明の如きCTPシステム用印刷
版について何ら開示も示唆もしていない。
外線吸収染料、ヘキサアリールビイミダゾール化合物
(HABI)、光重合性物質および連鎖移動剤を含んだ
近赤外線感光性組成物が開示されいる。しかし、この公
報の感光性組成物を使用して作製された印刷版は、露光
を、ネガまたはポジ画像を有するフィルムを通して行う
と記載されており、フィルムを使用しないCTP方式の
レーザ走査露光では画像形成しないことが分かった。従
って、この公報は、本発明の如きCTPシステム用印刷
版について何ら開示も示唆もしていない。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。
て詳細に説明する。
【0012】本発明に好適に使用される親水性表面を有
する支持体としては、アルミニウム板を挙げることがで
きる。該アルミニウム板は、純アルミニウム板およびア
ルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板で
あり、さらにはアルミニウムまたはアルミニウム合金の
薄膜にプラスチックがラミネートされているものであ
る。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、
鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビス
マス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の
含有量は高々10重量%以下である。しかし、本発明に
適用されるアルミニウム板は、従来より公知公用の素材
のアルミニウム板をも適宜に利用することができる。
する支持体としては、アルミニウム板を挙げることがで
きる。該アルミニウム板は、純アルミニウム板およびア
ルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板で
あり、さらにはアルミニウムまたはアルミニウム合金の
薄膜にプラスチックがラミネートされているものであ
る。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、
鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビス
マス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の
含有量は高々10重量%以下である。しかし、本発明に
適用されるアルミニウム板は、従来より公知公用の素材
のアルミニウム板をも適宜に利用することができる。
【0013】本発明で用いられる上記の基板の厚みはお
よそ0.05mm〜0.6mm、好ましくは0.1mm
〜0.4mm、特に好ましくは0.15mm〜0.3m
mである。
よそ0.05mm〜0.6mm、好ましくは0.1mm
〜0.4mm、特に好ましくは0.15mm〜0.3m
mである。
【0014】アルミニウム板を使用するに先立ち、表面
の粗面化、陽極酸化などの表面処理することが好まし
い。表面処理により、親水性および上に設けられる熱重
合層との接着性が容易に確保できる。
の粗面化、陽極酸化などの表面処理することが好まし
い。表面処理により、親水性および上に設けられる熱重
合層との接着性が容易に確保できる。
【0015】アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種
々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化す
る方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法および
化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラ
スト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いること
ができる。化学的方法としては、特開昭54−3118
7号公報に記載されているような鉱酸のアルミニウム塩
の飽和水溶液に浸漬する方法が適している。また、電気
化学的な粗面化法としては塩酸または硝酸などの酸を含
む電解液中で交流または直流により行う方法がある。ま
た、特開昭54−63902号に開示されているように
混合酸を用いた電解粗面化方法も利用することができ
る。
々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化す
る方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法および
化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラ
スト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いること
ができる。化学的方法としては、特開昭54−3118
7号公報に記載されているような鉱酸のアルミニウム塩
の飽和水溶液に浸漬する方法が適している。また、電気
化学的な粗面化法としては塩酸または硝酸などの酸を含
む電解液中で交流または直流により行う方法がある。ま
た、特開昭54−63902号に開示されているように
混合酸を用いた電解粗面化方法も利用することができ
る。
【0016】上記の如き方法による粗面化は、アルミニ
ウム板の表面の中心線表面粗さ(Ha)が0.3〜1.
0μmとなるような範囲で施されることが好ましい。粗
面化されたアルミニウム板は必要に応じて水酸化カリウ
ムや水酸化ナトリウムなどの水溶液を用いてアルカリエ
ッチング処理がされ、さらに中和処理された後、所望に
より耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。
アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質とし
ては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が
可能で、一般的には硫酸、塩酸、蓚酸、クロム酸あるい
はそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は
電解質の種類によって適宜決められる。陽極酸化の処理
条件は、用いる電解質により種々変わるので一概に特定
し得ないが、一般的には電解質の濃度が1〜80重量%
溶液、液温は5〜70℃、電流密度5〜60A/dm2、
電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲であれ
ば適当である。形成される酸化皮膜量は、1.0〜5.
0g/m2、特に1.5〜4.0g/m2であることが好
ましい。
ウム板の表面の中心線表面粗さ(Ha)が0.3〜1.
0μmとなるような範囲で施されることが好ましい。粗
面化されたアルミニウム板は必要に応じて水酸化カリウ
ムや水酸化ナトリウムなどの水溶液を用いてアルカリエ
ッチング処理がされ、さらに中和処理された後、所望に
より耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。
アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質とし
ては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が
可能で、一般的には硫酸、塩酸、蓚酸、クロム酸あるい
はそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は
電解質の種類によって適宜決められる。陽極酸化の処理
条件は、用いる電解質により種々変わるので一概に特定
し得ないが、一般的には電解質の濃度が1〜80重量%
溶液、液温は5〜70℃、電流密度5〜60A/dm2、
電圧1〜100V、電解時間10秒〜5分の範囲であれ
ば適当である。形成される酸化皮膜量は、1.0〜5.
0g/m2、特に1.5〜4.0g/m2であることが好
ましい。
【0017】本発明で用いられる親水性表面を有する基
板としては、上記のような表面処理をされ酸化皮膜を有
する基板そのままでも良いが、さらに親水性の向上ある
いは熱重合層との接着性向上のため、酸化皮膜を有する
基板をケイ酸ナトリウムなどのアルカリケイ酸塩水溶液
に浸す処理あるいは酸化皮膜を有する基板にポリビニル
ホスホン酸、ポリアクリル酸、スルホン酸基を側鎖に有
するポリマーまたはコポリマーなどの水溶液による下塗
り処理を行った基板も好適である。
板としては、上記のような表面処理をされ酸化皮膜を有
する基板そのままでも良いが、さらに親水性の向上ある
いは熱重合層との接着性向上のため、酸化皮膜を有する
基板をケイ酸ナトリウムなどのアルカリケイ酸塩水溶液
に浸す処理あるいは酸化皮膜を有する基板にポリビニル
ホスホン酸、ポリアクリル酸、スルホン酸基を側鎖に有
するポリマーまたはコポリマーなどの水溶液による下塗
り処理を行った基板も好適である。
【0018】また、本発明で用いられる親水性表面を有
する基板としては、特開平7−159983号公報、同
8−320551号公報に記載のラジカルによって付加
反応を起こしうる官能基を共有結合により結合させた表
面を有する支持体も好適である。
する基板としては、特開平7−159983号公報、同
8−320551号公報に記載のラジカルによって付加
反応を起こしうる官能基を共有結合により結合させた表
面を有する支持体も好適である。
【0019】本発明の付加重合性の不飽和結合を側鎖に
有するアルカリ水溶液可溶性ポリマーとしては、特開昭
59−53836号公報に記載されている〔アリル(メ
タ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/必要に応じて
その他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体、同59
−71048号公報に記載されている側鎖または末端に
カルボン酸または無水カルボン酸を有する重合体にアル
コール性水酸基を有するエチレン性不飽和化合物をエス
テル化した重合体、特開平10−260536号公報に
記載されている[(メタ)アクリレート/(メタ)アク
リル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマ
ー]共重合体をグリシジル(メタ)アクリレートによっ
て修飾した重合体を挙げることができる。特に好ましい
ものとして、〔アリル(メタ)アクリレート/(メタ)
アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモ
ノマー〕共重合体を挙げることができる。
有するアルカリ水溶液可溶性ポリマーとしては、特開昭
59−53836号公報に記載されている〔アリル(メ
タ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/必要に応じて
その他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体、同59
−71048号公報に記載されている側鎖または末端に
カルボン酸または無水カルボン酸を有する重合体にアル
コール性水酸基を有するエチレン性不飽和化合物をエス
テル化した重合体、特開平10−260536号公報に
記載されている[(メタ)アクリレート/(メタ)アク
リル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマ
ー]共重合体をグリシジル(メタ)アクリレートによっ
て修飾した重合体を挙げることができる。特に好ましい
ものとして、〔アリル(メタ)アクリレート/(メタ)
アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモ
ノマー〕共重合体を挙げることができる。
【0020】この付加重合性の不飽和結合を側鎖に有す
るアルカリ水溶液可溶性ポリマーの含有量は、熱重合層
全固形分の30〜98重量%である。好ましくは60〜
95重量%である。この範囲より少なすぎると良好な画
像が得られない。
るアルカリ水溶液可溶性ポリマーの含有量は、熱重合層
全固形分の30〜98重量%である。好ましくは60〜
95重量%である。この範囲より少なすぎると良好な画
像が得られない。
【0021】本発明の熱重合開始剤としては、アゾビス
イソブチロニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニ
トリル、1−フェニルアゾイソブチロニトリルなどのア
ゾ化合物、ベンゼンスルホン酸アジド、p−トルエンス
ルホン酸アジドなどのアジド化合物、特開平2−244
050号公報記載の過酸化物および特開昭48−384
03号公報記載のヘキサアリールビイミダゾール化合物
(HABI)を挙げることができる。特に好ましい熱重
合開始剤としては、過酸化物およびHABIを挙げるこ
とができる。
イソブチロニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニ
トリル、1−フェニルアゾイソブチロニトリルなどのア
ゾ化合物、ベンゼンスルホン酸アジド、p−トルエンス
ルホン酸アジドなどのアジド化合物、特開平2−244
050号公報記載の過酸化物および特開昭48−384
03号公報記載のヘキサアリールビイミダゾール化合物
(HABI)を挙げることができる。特に好ましい熱重
合開始剤としては、過酸化物およびHABIを挙げるこ
とができる。
【0022】過酸化物としては、例えば、メチルエチル
ケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイ
ド、3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンパーオキ
サイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセ
チルアセトンパーオキサイド、1,1−ビス(t−ブチ
ルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサ
ン、1,1,−ビス( t−ブチルパーオキシ)シクロ
ヘキサン、2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタ
ン、t−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイド
ロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパ
ーオキサイド、パラメタンハイドロパーオキサイド、
2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオ
キサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイド
ロパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t
−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイ
ド、ビス( t−ブチルパーオシイソプロピル)ベンゼ
ン、2,5−ジメチル−2,5−ジ( t−ブチルパー
オキシ)ヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t
−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3、アセチルパーオキ
サイド、イソブチリルパーオキサイド、オクタノイルパ
ーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイル
パーオキサイド、3,5,5−トリメチルヘキサノイル
パーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、
ケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイ
ド、3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンパーオキ
サイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセ
チルアセトンパーオキサイド、1,1−ビス(t−ブチ
ルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサ
ン、1,1,−ビス( t−ブチルパーオキシ)シクロ
ヘキサン、2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタ
ン、t−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイド
ロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパ
ーオキサイド、パラメタンハイドロパーオキサイド、
2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオ
キサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイド
ロパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t
−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイ
ド、ビス( t−ブチルパーオシイソプロピル)ベンゼ
ン、2,5−ジメチル−2,5−ジ( t−ブチルパー
オキシ)ヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t
−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3、アセチルパーオキ
サイド、イソブチリルパーオキサイド、オクタノイルパ
ーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイル
パーオキサイド、3,5,5−トリメチルヘキサノイル
パーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、
【0023】2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイ
ド、メタ−トルオイルパーオキサイド、ジイソプロピル
パーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパ
ーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルパー
オキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオ
キシカーボネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチ
ル)パーオキシジカーボネート、t−ブチルパーオキシ
アセテート、t−ブチルパーオキシピバレート、t−ブ
チルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオキ
シオクタノエート、t−ブチルパーオキシ−3,5,5
−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシラ
ウレート、 t−ブチルパーオキシベンゾエート、ビス
(t−ブチルパーオキシ)イソフタレート、2,5−ジ
メチル−2,5−ビス(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサ
ン、t−ブチル過酸化マレイン酸、 t−ブチルパーオ
キシイソプロピルカーボネート、3,3′,4,4′−
テトラキス(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾ
フェノン、3,3′,4,4′−テトラキス(t−アミ
ルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,
4,4′−テトラキス(t−ヘキシルパーオキシカルボ
ニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラキ
ス(t−オクチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノ
ン、3,3′,4,4′−テトラキス(クミルパーオキ
シカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−
テトラキス(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボ
ニル)ベンゾフェノン、カルボニルジ(t−ブチルパー
オキシ二水素二フタレート)、カルボニルジ(t−ヘキ
シルパーオキシ二水素二フタレート)等がある。
ド、メタ−トルオイルパーオキサイド、ジイソプロピル
パーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパ
ーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルパー
オキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオ
キシカーボネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチ
ル)パーオキシジカーボネート、t−ブチルパーオキシ
アセテート、t−ブチルパーオキシピバレート、t−ブ
チルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオキ
シオクタノエート、t−ブチルパーオキシ−3,5,5
−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシラ
ウレート、 t−ブチルパーオキシベンゾエート、ビス
(t−ブチルパーオキシ)イソフタレート、2,5−ジ
メチル−2,5−ビス(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサ
ン、t−ブチル過酸化マレイン酸、 t−ブチルパーオ
キシイソプロピルカーボネート、3,3′,4,4′−
テトラキス(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾ
フェノン、3,3′,4,4′−テトラキス(t−アミ
ルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,
4,4′−テトラキス(t−ヘキシルパーオキシカルボ
ニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラキ
ス(t−オクチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノ
ン、3,3′,4,4′−テトラキス(クミルパーオキ
シカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−
テトラキス(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボ
ニル)ベンゾフェノン、カルボニルジ(t−ブチルパー
オキシ二水素二フタレート)、カルボニルジ(t−ヘキ
シルパーオキシ二水素二フタレート)等がある。
【0024】これらの中で、3,3′,4,4′−テト
ラキス(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェ
ノン(BTTB)、3,3′,4,4′−テトラキス
(t−アミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、
3,3′,4,4′−テトラキス(t−ヘキシルパーオ
キシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′
−テトラキス(t−オクチルパーオキシカルボニル)ベ
ンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラキス(クミ
ルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,
4,4′−テトラキス(p−イソプロピルクミルパーオ
キシカルボニル)ベンゾフェノン、ビス(t−ブチルパ
ーオキシ)イソフタレートなどの過酸化エステル系が好
ましい。
ラキス(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェ
ノン(BTTB)、3,3′,4,4′−テトラキス
(t−アミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、
3,3′,4,4′−テトラキス(t−ヘキシルパーオ
キシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′
−テトラキス(t−オクチルパーオキシカルボニル)ベ
ンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラキス(クミ
ルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,
4,4′−テトラキス(p−イソプロピルクミルパーオ
キシカルボニル)ベンゾフェノン、ビス(t−ブチルパ
ーオキシ)イソフタレートなどの過酸化エステル系が好
ましい。
【0025】本発明に用いるHABIとしては、例え
ば、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニル
イミダゾリル二量体(o−Cl−HABI)、2−(o
−クロロフェニル)−4,5−ビス(m−メトキシフェ
ニル)イミダゾリル二量体、2−(o−メトキシフェニ
ル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体、2−
(o−フルオロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダ
ゾリル二量体などを挙げることができる。
ば、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニル
イミダゾリル二量体(o−Cl−HABI)、2−(o
−クロロフェニル)−4,5−ビス(m−メトキシフェ
ニル)イミダゾリル二量体、2−(o−メトキシフェニ
ル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体、2−
(o−フルオロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダ
ゾリル二量体などを挙げることができる。
【0026】熱重合開始剤の添加量は好ましくは熱重合
層全固形分の0.5〜15重量%、より好ましくは1〜
10重量%である。この範囲より少なすぎると感度が低
くなり、多すぎると熱重合層の皮膜性が劣化する。
層全固形分の0.5〜15重量%、より好ましくは1〜
10重量%である。この範囲より少なすぎると感度が低
くなり、多すぎると熱重合層の皮膜性が劣化する。
【0027】本発明の熱重合層には、以上の基本成分の
他に、付加重合性エチレン状不飽和結合を有するモノマ
ーまたはプレポリマー、アルカリ水溶液可溶性バインダ
ーポリマー、重合促進剤、製造中あるいは保存中の不要
な熱重合を阻止するための熱重合防止剤、着色剤、無機
充填剤や可塑剤等の公知の添加剤を必要に応じて加える
ことができる。
他に、付加重合性エチレン状不飽和結合を有するモノマ
ーまたはプレポリマー、アルカリ水溶液可溶性バインダ
ーポリマー、重合促進剤、製造中あるいは保存中の不要
な熱重合を阻止するための熱重合防止剤、着色剤、無機
充填剤や可塑剤等の公知の添加剤を必要に応じて加える
ことができる。
【0028】付加重合性エチレン状不飽和結合を有する
モノマーまたはプレポリマーとしては、不飽和カルボン
酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、
クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)と脂肪
族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン
酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド等を挙げること
ができる。
モノマーまたはプレポリマーとしては、不飽和カルボン
酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、
クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)と脂肪
族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン
酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド等を挙げること
ができる。
【0029】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、(メ
タ)アクリル酸エステルとして、トリエチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、テトラメチレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
((メタ)アクリロイルオキシプロピル)エーテル、ト
リメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、テトラ
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチ
レングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリス
リトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテ
トラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペ
ンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサ(メタ)アクリレート、ソルビトールテトラ(メ
タ)アクリレート、ソルビトールペンタ(メタ)アクリ
レート、ソルビトールヘキサ(メタ)アクリレート、ト
リス((メタ)アクリロイルオキシエチル)イソシアヌ
レート、ポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマー
などが挙げられる。
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、(メ
タ)アクリル酸エステルとして、トリエチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、テトラメチレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
((メタ)アクリロイルオキシプロピル)エーテル、ト
リメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、テトラ
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチ
レングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリス
リトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテ
トラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペ
ンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサ(メタ)アクリレート、ソルビトールテトラ(メ
タ)アクリレート、ソルビトールペンタ(メタ)アクリ
レート、ソルビトールヘキサ(メタ)アクリレート、ト
リス((メタ)アクリロイルオキシエチル)イソシアヌ
レート、ポリエステル(メタ)アクリレートオリゴマー
などが挙げられる。
【0030】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコール
ジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネ
ート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビト
ールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エ
ステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネー
ト、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビ
トールテトライソクロトネート等が挙げられる。
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコール
ジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネ
ート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビト
ールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エ
ステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネー
ト、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビ
トールテトライソクロトネート等が挙げられる。
【0031】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等が挙げられる。さらに、前述のエステル
モノマーの混合物も挙げることができる。また、脂肪族
多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノ
マーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミ
ド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサ
メチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレ
ンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリ
スアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キ
シリレンビスメタクリルアミド等が挙げられる。
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等が挙げられる。さらに、前述のエステル
モノマーの混合物も挙げることができる。また、脂肪族
多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノ
マーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミ
ド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサ
メチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレ
ンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリ
スアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キ
シリレンビスメタクリルアミド等が挙げられる。
【0032】その他の例としては、特公昭48−417
08号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソ
シアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下
記の一般式(A)で示される水酸基を含有するビニルモ
ノマーを付加せしめた1分子中に2個以上の重合性ビニ
ル基を含有するビニルウレタン化合物等があげられる。
08号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソ
シアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下
記の一般式(A)で示される水酸基を含有するビニルモ
ノマーを付加せしめた1分子中に2個以上の重合性ビニ
ル基を含有するビニルウレタン化合物等があげられる。
【0033】CH2=C(R)COOCH2CH(R′)OH(A) (ただし、RおよびR′はHあるいはCH3 を示す。) また、特開昭51−37193号に記載されているよう
なウレタンアクリレート類、特開昭48−64183
号、特公昭49−43191号、特公昭52−3049
0号各公報に記載されているようなポリエステルアクリ
レート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応さ
せたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレート
やメタクリレートを挙げることができる。さらに日本接
着協会誌 vol. 20、No. 7、300〜308ページ
(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーと
して紹介されているものも使用することができる。
なウレタンアクリレート類、特開昭48−64183
号、特公昭49−43191号、特公昭52−3049
0号各公報に記載されているようなポリエステルアクリ
レート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応さ
せたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレート
やメタクリレートを挙げることができる。さらに日本接
着協会誌 vol. 20、No. 7、300〜308ページ
(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーと
して紹介されているものも使用することができる。
【0034】付加重合性エチレン状不飽和結合を有する
モノマーあるいはプレポリマーの添加量は、熱重合層全
固形分の20重量%以下が好ましい。これより多すぎる
と強固な画像が得にくくなる。
モノマーあるいはプレポリマーの添加量は、熱重合層全
固形分の20重量%以下が好ましい。これより多すぎる
と強固な画像が得にくくなる。
【0035】本発明の熱重合層には、必要に応じて添加
することができるアルカリ水溶液可溶性バインダーポリ
マーとしては、側鎖にカルボン酸基を有する付加重合
体、例えば、特公昭54−34327号公報、同58−
12577号公報、同54−25957号公報、特開昭
54−92723号公報に記載されているもの、すなわ
ち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタ
コン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重
合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等がある。ま
た同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘
導体がある。この外に水酸基を有する付加重合体に環状
酸無水物を付加させたものなどが有用である。
することができるアルカリ水溶液可溶性バインダーポリ
マーとしては、側鎖にカルボン酸基を有する付加重合
体、例えば、特公昭54−34327号公報、同58−
12577号公報、同54−25957号公報、特開昭
54−92723号公報に記載されているもの、すなわ
ち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタ
コン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重
合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等がある。ま
た同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘
導体がある。この外に水酸基を有する付加重合体に環状
酸無水物を付加させたものなどが有用である。
【0036】好適な具体例として、メチルメタクリレー
ト/メタクリル酸共重合体、メチルメタクリレート/エ
チルアクリレート/メタクリル酸共重合体、スチレン/
エチルアクリレート/メタクリル酸共重合体、スチレン
/メチルメタクリレート/エチルアクリレート/メタク
リル酸共重合体、メチルメタクリレート/ブチルアクリ
レート/アクリル酸/アクリロニトリル共重合体を挙げ
ることができる。アルカリ水溶液可溶性バインダーポリ
マーの添加量は、付加重合性不飽和基を側鎖に有するア
ルカリ可溶性ポリマーや付加重合性モノマーまたはプレ
ポリマーの添加量によって異なるが、一般的に30%以
下が好ましい。この範囲より多すぎると感度低下が顕著
となる。
ト/メタクリル酸共重合体、メチルメタクリレート/エ
チルアクリレート/メタクリル酸共重合体、スチレン/
エチルアクリレート/メタクリル酸共重合体、スチレン
/メチルメタクリレート/エチルアクリレート/メタク
リル酸共重合体、メチルメタクリレート/ブチルアクリ
レート/アクリル酸/アクリロニトリル共重合体を挙げ
ることができる。アルカリ水溶液可溶性バインダーポリ
マーの添加量は、付加重合性不飽和基を側鎖に有するア
ルカリ可溶性ポリマーや付加重合性モノマーまたはプレ
ポリマーの添加量によって異なるが、一般的に30%以
下が好ましい。この範囲より多すぎると感度低下が顕著
となる。
【0037】本発明に好適な重合促進剤として、アミン
やチオール、ジスルフィド等に代表される重合促進剤や
連鎖移動触媒等を挙げることができる。具体例として
は、例えば、N−フェニルグリシン、トリエタノールア
ミン、N,N−ジエチルアニリン等のアミン類、米国特
許4,414,312号公報や特開昭64−13144
号公報記載のチオール類、特開平2−29161号公報
記載のジスルフィド類、米国特許3,558,322号
公報や特開昭64−17048号公報記載のチオン類、
特開平2−291560号公報記載のo−アシルチオヒ
ドロキサメートやN−アルコキシピリジンチオン類が挙
げられる。重合促進剤の添加量は、好ましくは熱重合層
全固形分の0.1〜5重量%である。この範囲より少な
すぎると効果が期待できない。また多すぎると熱重合層
の膜質を劣化させやすくなる。
やチオール、ジスルフィド等に代表される重合促進剤や
連鎖移動触媒等を挙げることができる。具体例として
は、例えば、N−フェニルグリシン、トリエタノールア
ミン、N,N−ジエチルアニリン等のアミン類、米国特
許4,414,312号公報や特開昭64−13144
号公報記載のチオール類、特開平2−29161号公報
記載のジスルフィド類、米国特許3,558,322号
公報や特開昭64−17048号公報記載のチオン類、
特開平2−291560号公報記載のo−アシルチオヒ
ドロキサメートやN−アルコキシピリジンチオン類が挙
げられる。重合促進剤の添加量は、好ましくは熱重合層
全固形分の0.1〜5重量%である。この範囲より少な
すぎると効果が期待できない。また多すぎると熱重合層
の膜質を劣化させやすくなる。
【0038】本発明に好適な熱重合防止剤としては、ハ
ロイドキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチ
ル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコ
ール、ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル
−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビ
ス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニ
トロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩等が
挙げられる。熱重合防止剤の添加量は、熱重合層全固形
分の0.01〜2重量%が好ましい。この範囲より少なす
ぎると熱安定性が悪くなり、多すぎると感度低下が顕著
となる。
ロイドキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチ
ル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコ
ール、ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル
−6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビ
ス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニ
トロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩等が
挙げられる。熱重合防止剤の添加量は、熱重合層全固形
分の0.01〜2重量%が好ましい。この範囲より少なす
ぎると熱安定性が悪くなり、多すぎると感度低下が顕著
となる。
【0039】本発明の着色剤としては、例えばフタロシ
アニン系顔料、アゾ系顔料、酸化チタンなどの顔料、エ
チルバイオレット、クリスタルバイオレット、アゾ系染
料、アントラキノン系染料、シアニン系染料がある。染
料及び顔料の添加量は、好ましくは熱重合層全固形分の
0.5重量%〜10重量%である。この範囲より少なすぎ
ると着色剤としての効果が期待できなくなり、多すぎる
と熱重合層の膜質が劣化する傾向となる。
アニン系顔料、アゾ系顔料、酸化チタンなどの顔料、エ
チルバイオレット、クリスタルバイオレット、アゾ系染
料、アントラキノン系染料、シアニン系染料がある。染
料及び顔料の添加量は、好ましくは熱重合層全固形分の
0.5重量%〜10重量%である。この範囲より少なすぎ
ると着色剤としての効果が期待できなくなり、多すぎる
と熱重合層の膜質が劣化する傾向となる。
【0040】本発明に用いられる可塑剤としては、例え
ばジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリ
エチレングリコールカプリレート、ジメチルグリコール
フタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルア
ジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリ
ン等があり、熱重合層全固形分の10重量%以下添加す
ることができる。この範囲より多すぎると強固な画像が
得にくくなる。
ばジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリ
エチレングリコールカプリレート、ジメチルグリコール
フタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルア
ジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリ
ン等があり、熱重合層全固形分の10重量%以下添加す
ることができる。この範囲より多すぎると強固な画像が
得にくくなる。
【0041】本発明の熱重合層の組成物を支持体上に塗
布する際には種々の有機溶剤に溶かして使用に供され
る。ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチルエ
チルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジ
クロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレン
グリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモ
ノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテ
ル、1−メトキシー2−プロパノール、2−プロピレン
グリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シ
クロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコ
ールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモ
ノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチ
ルエーテルアセテート、3−メトキシー1−プロパノー
ル、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコー
ルモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、
ジエチレングリコールジエチルエーテル、1−メトキシ
−2−プロパノールモノエチルエーテルアセテート、3
−メトキシプロピルアセテート、N,N−ジメチルホル
ムアミド,ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクト
ン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがある。これらの溶媒
は、単独あるいは混合して使用することができる。そし
て、塗布溶液中の固形分の濃度は、2〜50重量%が適
当である。
布する際には種々の有機溶剤に溶かして使用に供され
る。ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチルエ
チルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジ
クロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレン
グリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモ
ノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテ
ル、1−メトキシー2−プロパノール、2−プロピレン
グリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シ
クロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコ
ールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモ
ノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチ
ルエーテルアセテート、3−メトキシー1−プロパノー
ル、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコー
ルモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、
ジエチレングリコールジエチルエーテル、1−メトキシ
−2−プロパノールモノエチルエーテルアセテート、3
−メトキシプロピルアセテート、N,N−ジメチルホル
ムアミド,ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクト
ン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがある。これらの溶媒
は、単独あるいは混合して使用することができる。そし
て、塗布溶液中の固形分の濃度は、2〜50重量%が適
当である。
【0042】熱重合層の塗布量は乾燥後の重量で約0.1
〜約10g/m2の範囲が適当である。より好ましくは0.
5〜5g/m2である。
〜約10g/m2の範囲が適当である。より好ましくは0.
5〜5g/m2である。
【0043】本発明の水溶性オーバーコート層に用いら
れる水溶性ポリマーとしては、ポリビニルアルコール、
水溶性であるために必要とされるビニルアルコール単位
を含むポリビニルアルコールの部分エステル、エーテル
およびアセタール、加水分解率65%以上のポリ酢酸ビ
ニル、ゼラチン、アラビアゴム、メチルビニルエーテル
/無水マレイン酸コポリマー、ポリビニルピロリドン、
ビニルアルコール/ビニルピロリドン共重合体、10万
〜300万の平均分子量をもつ高分子量水溶性ポリエチ
レンオキシドを挙げることができる。また、目的に応じ
て、これらの樹脂を二種以上混合して用いることもでき
る。
れる水溶性ポリマーとしては、ポリビニルアルコール、
水溶性であるために必要とされるビニルアルコール単位
を含むポリビニルアルコールの部分エステル、エーテル
およびアセタール、加水分解率65%以上のポリ酢酸ビ
ニル、ゼラチン、アラビアゴム、メチルビニルエーテル
/無水マレイン酸コポリマー、ポリビニルピロリドン、
ビニルアルコール/ビニルピロリドン共重合体、10万
〜300万の平均分子量をもつ高分子量水溶性ポリエチ
レンオキシドを挙げることができる。また、目的に応じ
て、これらの樹脂を二種以上混合して用いることもでき
る。
【0044】上記水溶性ポリマーと共に用いられる光熱
変換剤としては、700nm以上の光を吸収する物質で
あればよく、種々の顔料や染料を用いる事ができる。顔
料としては、市販の顔料およびカラーインデックス
(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協
会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC
出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」(CMC出
版、1984年刊)に記載されている顔料が利用でき
る。
変換剤としては、700nm以上の光を吸収する物質で
あればよく、種々の顔料や染料を用いる事ができる。顔
料としては、市販の顔料およびカラーインデックス
(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協
会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC
出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」(CMC出
版、1984年刊)に記載されている顔料が利用でき
る。
【0045】顔料の種類としては、黒色顔料、褐色顔
料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔
料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられ
る。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮
合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔
料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系
顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオ
キサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロ
ン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔
料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カー
ボンブラック等が使用できる。
料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔
料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられ
る。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮
合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔
料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよびペリノン系
顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオ
キサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロ
ン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔
料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カー
ボンブラック等が使用できる。
【0046】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には親水性樹脂や親油性樹脂を表面コートする方法、
界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シ
リカゾル、アルミナゾル、シランカップリング剤やエポ
キシ化合物、イソシアネート化合物等)を顔料表面に結
合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、
「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技
術」(CMC出版、1984年刊)及び「最新顔料応用
技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されてい
る。これらの顔料中、赤外線、もしくは近赤外線を吸収
するものが、赤外線もしくは近赤外線を発光するレーザ
での利用に適する点で特に好ましい。
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には親水性樹脂や親油性樹脂を表面コートする方法、
界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シ
リカゾル、アルミナゾル、シランカップリング剤やエポ
キシ化合物、イソシアネート化合物等)を顔料表面に結
合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、
「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、「印刷インキ技
術」(CMC出版、1984年刊)及び「最新顔料応用
技術」(CMC出版、1986年刊)に記載されてい
る。これらの顔料中、赤外線、もしくは近赤外線を吸収
するものが、赤外線もしくは近赤外線を発光するレーザ
での利用に適する点で特に好ましい。
【0047】そのような赤外線又は近赤外線を吸収する
顔料としてはカーボンブラック、親水性樹脂でコートさ
れたカーボンブラックやシリカゾルで変性されたカーボ
ンブラックが好適に用いられる。これらの中でも特に水
溶性の樹脂と分散しやすく、かつ親水性を損わないもの
として、親水性樹脂やシリカゾルで表面がコートされた
カーボンブラックが有用である。
顔料としてはカーボンブラック、親水性樹脂でコートさ
れたカーボンブラックやシリカゾルで変性されたカーボ
ンブラックが好適に用いられる。これらの中でも特に水
溶性の樹脂と分散しやすく、かつ親水性を損わないもの
として、親水性樹脂やシリカゾルで表面がコートされた
カーボンブラックが有用である。
【0048】顔料の粒径は0.01μm〜1μmの範囲
にあることが好ましく、0.01μm〜0.5μmの範
囲にあることが更に好ましい。顔料を分散する方法とし
ては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分
散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、
サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミ
ル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミ
ル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加
圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技
術」(CMC出版、1986年刊)に記載がある。
にあることが好ましく、0.01μm〜0.5μmの範
囲にあることが更に好ましい。顔料を分散する方法とし
ては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分
散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、
サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミ
ル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、KDミ
ル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミル、加
圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技
術」(CMC出版、1986年刊)に記載がある。
【0049】染料としては、市販の染料および文献(例
えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年
刊)に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ
ニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン
染料などの染料が挙げられる。これらの染料中、赤外
線、もしくは近赤外線を吸収するものが、赤外線もしく
は近赤外線を発光するレーザでの利用に適する点で特に
好ましい。
えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和45年
刊)に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ
ニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン
染料などの染料が挙げられる。これらの染料中、赤外
線、もしくは近赤外線を吸収するものが、赤外線もしく
は近赤外線を発光するレーザでの利用に適する点で特に
好ましい。
【0050】赤外線又は近赤外線を吸収する染料として
は、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59
−84356号、特開昭60−78787号等に記載さ
れているシアニン染料、特開昭58−173696号、
特開昭58−181690号、特開昭58−19459
5号等に記載されているメチン染料、特開昭58−11
2793号、特開昭58−224793号、特開昭59
−48187号、特開昭59−73996号、特開昭6
0−52940号、特開昭60−63744号等に記載
されているナフトキノン染料、 特開昭58−1127
92号等に記載されているスクワリリウム染料、英国特
許434,875号記載のシアニン染料や米国特許第
4,756,993号記載の染料、米国特許第4,97
3,572号記載のシアニン染料、特開平10−268
512号記載の染料を挙げることができる。
は、例えば、特開昭58−125246号、特開昭59
−84356号、特開昭60−78787号等に記載さ
れているシアニン染料、特開昭58−173696号、
特開昭58−181690号、特開昭58−19459
5号等に記載されているメチン染料、特開昭58−11
2793号、特開昭58−224793号、特開昭59
−48187号、特開昭59−73996号、特開昭6
0−52940号、特開昭60−63744号等に記載
されているナフトキノン染料、 特開昭58−1127
92号等に記載されているスクワリリウム染料、英国特
許434,875号記載のシアニン染料や米国特許第
4,756,993号記載の染料、米国特許第4,97
3,572号記載のシアニン染料、特開平10−268
512号記載の染料を挙げることができる。
【0051】また、染料として米国特許第5,156,
938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第3,881,924号記載の置換された
アリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−1
42645号(米国特許第4,327,169号)記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−1810
51号、同58−220143号、同59−41363
号、同59−84248号、同59−84249号、同
59−146063号、同59−146061号に記載
されているピリリウム系化合物、特開昭59−2161
46号記載のシアニン染料、米国特許第4,283,4
75号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公
平5−13514号、同5−19702号公報に開示さ
れているピリリウム化合物、エポリン社製Epolig
htIII−178、EpolightIII−130、Ep
olightIII−125等も好ましく用いられる。こ
れらの染料の中で、特に好ましい具体例を以下に構造式
で列挙する。
938号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第3,881,924号記載の置換された
アリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−1
42645号(米国特許第4,327,169号)記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−1810
51号、同58−220143号、同59−41363
号、同59−84248号、同59−84249号、同
59−146063号、同59−146061号に記載
されているピリリウム系化合物、特開昭59−2161
46号記載のシアニン染料、米国特許第4,283,4
75号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公
平5−13514号、同5−19702号公報に開示さ
れているピリリウム化合物、エポリン社製Epolig
htIII−178、EpolightIII−130、Ep
olightIII−125等も好ましく用いられる。こ
れらの染料の中で、特に好ましい具体例を以下に構造式
で列挙する。
【0052】
【化1】
【0053】
【化2】
【0054】顔料又は染料は、オーバーコート層全固形
分中の1〜70重量%、好ましくは2〜50重量%、染
料の場合、特に好ましくは2〜30重量%、顔料の場
合、特に好ましくは20〜50重量%の割合である。顔
料又は染料の添加量が上記範囲より少なすぎると感度が
低くなり、また上記範囲より多すぎると層の均一性が失
われたり、酸素を遮断する能力が低下し感度が低くな
る。
分中の1〜70重量%、好ましくは2〜50重量%、染
料の場合、特に好ましくは2〜30重量%、顔料の場
合、特に好ましくは20〜50重量%の割合である。顔
料又は染料の添加量が上記範囲より少なすぎると感度が
低くなり、また上記範囲より多すぎると層の均一性が失
われたり、酸素を遮断する能力が低下し感度が低くな
る。
【0055】その他、オーバーコート層には塗布の均一
性を確保する目的で、水溶液塗布の場合には主に非イオ
ン系界面活性剤を添加することができる。この様な非イ
オン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステ
アレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタント
リオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシ
エチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン
ドデシルエーテル等を挙げることが出来る。上記非イオ
ン界面活性剤のオーバーコート層の全固形物中に占める
割合は、0.05〜5重量%が好ましく、より好ましく
は1〜3重量%である。
性を確保する目的で、水溶液塗布の場合には主に非イオ
ン系界面活性剤を添加することができる。この様な非イ
オン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステ
アレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタント
リオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシ
エチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン
ドデシルエーテル等を挙げることが出来る。上記非イオ
ン界面活性剤のオーバーコート層の全固形物中に占める
割合は、0.05〜5重量%が好ましく、より好ましく
は1〜3重量%である。
【0056】本発明に用いるオーバーコート層の厚みは
0.1μmから5.0μmが好ましく、更に好ましい範
囲は0.5μmから3.0μmである。厚すぎると、除
去するための現像液負荷が大きくなり、また薄すぎると
酸素遮断性が不十分になる。
0.1μmから5.0μmが好ましく、更に好ましい範
囲は0.5μmから3.0μmである。厚すぎると、除
去するための現像液負荷が大きくなり、また薄すぎると
酸素遮断性が不十分になる。
【0057】本発明の感熱性平版印刷用原板は熱により
画像形成される。具体的には、熱記録ヘッド等による直
接画像様記録、赤外線レーザによる走査露光、キセノン
放電灯などの高照度フラッシュ露光や赤外線ランプ露光
などが用いられるが、波長700〜1200nmの赤外
線を放射する半導体レーザ、YAGレーザ等の固体高出
力赤外線レーザによる走査露光が好適である。
画像形成される。具体的には、熱記録ヘッド等による直
接画像様記録、赤外線レーザによる走査露光、キセノン
放電灯などの高照度フラッシュ露光や赤外線ランプ露光
などが用いられるが、波長700〜1200nmの赤外
線を放射する半導体レーザ、YAGレーザ等の固体高出
力赤外線レーザによる走査露光が好適である。
【0058】画像露光された印刷用原板は現像液でオー
バーコート層および熱重合性ポリマー層の未露光部を除
去し、印刷版を作製する。本発明の平版印刷用原板に用
いられる現像液としては、アルカリ性水溶液が好適であ
る。好適なアルカリ剤としては、例えば、ケイ酸ナトリ
ウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第二リ
ン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第二リン酸
アンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、アンモニア、モノエタノールアミン、ジエタノール
アミン、トリエタノールアミン、ジプロパノールアミ
ン、トリプロパノールアミンなどを挙げることができ
る。該アルカリ水溶液の濃度が0.1〜10重量%、好ま
しくは0.5〜5重量%になるように添加される。
バーコート層および熱重合性ポリマー層の未露光部を除
去し、印刷版を作製する。本発明の平版印刷用原板に用
いられる現像液としては、アルカリ性水溶液が好適であ
る。好適なアルカリ剤としては、例えば、ケイ酸ナトリ
ウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第二リ
ン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第二リン酸
アンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、アンモニア、モノエタノールアミン、ジエタノール
アミン、トリエタノールアミン、ジプロパノールアミ
ン、トリプロパノールアミンなどを挙げることができ
る。該アルカリ水溶液の濃度が0.1〜10重量%、好ま
しくは0.5〜5重量%になるように添加される。
【0059】また、本発明に用いる現像液には、必要に
応じて、有機溶剤、例えば、ベンジルアルコール、2−
フェノキシエタノール、2−ブトキシエタノールなどを
加えることができる。また、本発明に用いる現像液に
は、界面活性剤として、アニオン界面活性剤、ノニオン
界面活性剤、両性界面活性剤を加えることができる。
応じて、有機溶剤、例えば、ベンジルアルコール、2−
フェノキシエタノール、2−ブトキシエタノールなどを
加えることができる。また、本発明に用いる現像液に
は、界面活性剤として、アニオン界面活性剤、ノニオン
界面活性剤、両性界面活性剤を加えることができる。
【0060】さらに、本発明に用いる現像液には、必要
に応じて、亜硫酸ナトリウムなどの保存安定剤、EDT
Aなどのキレート剤、着色剤、消泡剤など公知の添加物
を加えることができる。
に応じて、亜硫酸ナトリウムなどの保存安定剤、EDT
Aなどのキレート剤、着色剤、消泡剤など公知の添加物
を加えることができる。
【0061】
【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0062】実施例1 (アルミニウム基板の作製)厚み0.24mmのアルミ
ニウム板(材質1050)を、ナイロンブラシと400
メッシュのパミストン水懸濁液を用いてその表面を砂目
立てし、水でよく洗浄した。この板を15重量%水酸化
ナトリウム水溶液に浸してエッチングをした後、水洗し
た。さらに1重量%硝酸で中和し、次に0.7重量%硝
酸水溶液中で矩形波交番波形電流を用い、160クーロ
ン/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。
水洗後、10重量%水酸化ナトリウム水溶液中に浸して
エッチングした後、水洗した。次に30重量%硫酸水溶
液中に浸してデスマットした後、水洗した。さらに、2
0重量%硫酸水溶液中で直流電流を用いて陽極酸化処理
を行い、酸化皮膜量2.7g/m2とし、次いで水洗、
乾燥した。
ニウム板(材質1050)を、ナイロンブラシと400
メッシュのパミストン水懸濁液を用いてその表面を砂目
立てし、水でよく洗浄した。この板を15重量%水酸化
ナトリウム水溶液に浸してエッチングをした後、水洗し
た。さらに1重量%硝酸で中和し、次に0.7重量%硝
酸水溶液中で矩形波交番波形電流を用い、160クーロ
ン/dm2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。
水洗後、10重量%水酸化ナトリウム水溶液中に浸して
エッチングした後、水洗した。次に30重量%硫酸水溶
液中に浸してデスマットした後、水洗した。さらに、2
0重量%硫酸水溶液中で直流電流を用いて陽極酸化処理
を行い、酸化皮膜量2.7g/m2とし、次いで水洗、
乾燥した。
【0063】次に、下記の手順によりゾル・ゲル法の液
状組成物(ゾル液)(1)を調製した。100mlフラス
コにオルトケイ酸テトラエチル18.7g、3−メタク
リロキシプロピルトリメトキシシラン1.3g、メタノ
ール50g、イオン交換水7.2g、リン酸6.1gを
この順に加え、直ちに23℃の水浴中に浸し、フラスコ
の内容物をマグネチックスターラーで攪拌した。フラス
コを23℃の水浴に浸した状態のままでフラスコの口に
還流冷却器を取付けた。そのままの状態で60分間攪拌
を続けた。60分間の反応終了後、フラスコの内容物を
ポリ容器に移し、直ちに10倍量(重量基準)のメタノ
ールを加えることによりゾル液(1)を得た。
状組成物(ゾル液)(1)を調製した。100mlフラス
コにオルトケイ酸テトラエチル18.7g、3−メタク
リロキシプロピルトリメトキシシラン1.3g、メタノ
ール50g、イオン交換水7.2g、リン酸6.1gを
この順に加え、直ちに23℃の水浴中に浸し、フラスコ
の内容物をマグネチックスターラーで攪拌した。フラス
コを23℃の水浴に浸した状態のままでフラスコの口に
還流冷却器を取付けた。そのままの状態で60分間攪拌
を続けた。60分間の反応終了後、フラスコの内容物を
ポリ容器に移し、直ちに10倍量(重量基準)のメタノ
ールを加えることによりゾル液(1)を得た。
【0064】次に、ゾル液(1)をメタノール/エチレ
ングリコール混合液(重量比9/1)で希釈して陽極酸
化した基板上にケイ素の量が3mg/m2となるようにホイ
ラーで塗布し、100℃で1分間乾燥した。
ングリコール混合液(重量比9/1)で希釈して陽極酸
化した基板上にケイ素の量が3mg/m2となるようにホイ
ラーで塗布し、100℃で1分間乾燥した。
【0065】(熱重合ポリマー層の塗布)上記の表面処
理済みのアルミニウム板に、下記組成の塗布液Aを塗布
し、100℃で3分間乾燥した。乾燥後の塗布量は1.
5g/m2であった。 (塗布液A) ポリ(アリルメタクリレート−コ−メタクリル酸) (共重合モル比8/2、重量平均分子量10万) 3.3g ペンタエリスリトールテトラアクリレート(新中村化学製) 0.4g 3,3′,4,4′−テトラキス(t−ブチルパーオキシカルボニル) ベンゾフェノン(日本油脂製BTTB) 0.2g p−メトキシフェノール 0.01g 銅フタロシアニン顔料(御国色素製) 0.2g 界面活性剤(大日本インキ製メガファックF−177) 0.02g メチルエチルケトン 30g 1−メトキシ−2−プロパノール 23g
理済みのアルミニウム板に、下記組成の塗布液Aを塗布
し、100℃で3分間乾燥した。乾燥後の塗布量は1.
5g/m2であった。 (塗布液A) ポリ(アリルメタクリレート−コ−メタクリル酸) (共重合モル比8/2、重量平均分子量10万) 3.3g ペンタエリスリトールテトラアクリレート(新中村化学製) 0.4g 3,3′,4,4′−テトラキス(t−ブチルパーオキシカルボニル) ベンゾフェノン(日本油脂製BTTB) 0.2g p−メトキシフェノール 0.01g 銅フタロシアニン顔料(御国色素製) 0.2g 界面活性剤(大日本インキ製メガファックF−177) 0.02g メチルエチルケトン 30g 1−メトキシ−2−プロパノール 23g
【0066】(オーバーコート層の塗布)次いで、熱重
合性ポリマー層上に、下記組成のオーバーコート層塗布
液(OC−1)を塗布し、100℃で2分間乾燥して、
乾燥塗布重量約2.0g/m2のオーバーコート層を有
する感熱性平版印刷用原板を作製した。 (オーバーコート層塗布液OC−1) ポリビニルアルコール(クラレ製PVA−217) 2.2g 本明細書記載の水溶性染料(IR−11) 0.4g ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテール 0.04g 水 42g
合性ポリマー層上に、下記組成のオーバーコート層塗布
液(OC−1)を塗布し、100℃で2分間乾燥して、
乾燥塗布重量約2.0g/m2のオーバーコート層を有
する感熱性平版印刷用原板を作製した。 (オーバーコート層塗布液OC−1) ポリビニルアルコール(クラレ製PVA−217) 2.2g 本明細書記載の水溶性染料(IR−11) 0.4g ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテール 0.04g 水 42g
【0067】得られた平版印刷用原版を、カナダ・クレ
オ社製のトレンドセッター(40Wの830nm半導体
レーザー搭載プレートセッター)に取付け、800mJ
/cm2のエネルギーで露光した。露光した版を、富士
フイルム製プロセサー・スタブロン900NP、富士フ
イルム製現像液LP−D(ケイ酸カリウム含有アルカリ
水溶液)の1:9希釈液、富士フイルム製フィニッシャ
ーFP−2Wの1:1希釈液を用いて現像処理した。こ
の露光、現像作業は全て室内の通常の白色蛍光灯下で行
った。処理した印刷版をハリスオーレリア印刷機に取付
け、エッチ液含有10容量%イソプロピルアルコール水
溶液からなる湿し水とインキを用いて印刷した。その結
果、汚れのない良好な印刷物が5万枚が得られた。
オ社製のトレンドセッター(40Wの830nm半導体
レーザー搭載プレートセッター)に取付け、800mJ
/cm2のエネルギーで露光した。露光した版を、富士
フイルム製プロセサー・スタブロン900NP、富士フ
イルム製現像液LP−D(ケイ酸カリウム含有アルカリ
水溶液)の1:9希釈液、富士フイルム製フィニッシャ
ーFP−2Wの1:1希釈液を用いて現像処理した。こ
の露光、現像作業は全て室内の通常の白色蛍光灯下で行
った。処理した印刷版をハリスオーレリア印刷機に取付
け、エッチ液含有10容量%イソプロピルアルコール水
溶液からなる湿し水とインキを用いて印刷した。その結
果、汚れのない良好な印刷物が5万枚が得られた。
【0068】実施例2〜4 実施例1で用いたオーバーコート層の水溶性染料とし
て、実施例2では(IR−1)を、実施例3では(IR
−9)を、実施例4では(IR−10)用いた。それ以
外は実施例1と同様にして感熱性平版印刷用原板を作製
した。次いで、これらの印刷用原板を実施例1と同様に
露光、現像、印刷した結果、どの印刷版でも汚れのない
良好な印刷物が得られた。
て、実施例2では(IR−1)を、実施例3では(IR
−9)を、実施例4では(IR−10)用いた。それ以
外は実施例1と同様にして感熱性平版印刷用原板を作製
した。次いで、これらの印刷用原板を実施例1と同様に
露光、現像、印刷した結果、どの印刷版でも汚れのない
良好な印刷物が得られた。
【0069】実施例5 実施例1で用いたオーバーコート層塗布液OC−1の代
わりに下記の塗布液OC−2を用いた。それ以外は全て
実施例1と同様にして感熱性平版印刷用原板を作製し
た。次いで、実施例1と同様に露光、現像、印刷した結
果、汚れのない良好な印刷物が得られた。
わりに下記の塗布液OC−2を用いた。それ以外は全て
実施例1と同様にして感熱性平版印刷用原板を作製し
た。次いで、実施例1と同様に露光、現像、印刷した結
果、汚れのない良好な印刷物が得られた。
【0070】 (オーバーコート層塗布液OC−2) ポリビニルアルコール(クラレ製PVA−105) 2.15g ポリビニルピロリドン(GAF製K30) 0.15g 本明細書記載の水溶性染料(IR−11) 0.4g ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテール 0.04g 水 42g
【0071】実施例6 実施例1で用いた熱重合層用塗布液Aおよびオーバーコ
ート層の塗布液OC−1を、それぞれ、下記の塗布液B
および塗布液OC−3に代えた。それ以外は実施例1と
同様にして感熱性平版印刷用原板を作製した。
ート層の塗布液OC−1を、それぞれ、下記の塗布液B
および塗布液OC−3に代えた。それ以外は実施例1と
同様にして感熱性平版印刷用原板を作製した。
【0072】 (塗布液B) ポリ(アリルメタクリレート−コ−メタクリル酸) (共重合モル比8/2、重量平均分子量10万) 3.9g ビス(t−ブチルパーオキシ)イソフタレート 0.2g N−フェニルグリシン 0.03g p−メトキシフェノール 0.01g 銅フタロシアニン顔料(御国色素製) 0.2g 界面活性剤(大日本インキ製メガファックF−177) 0.02g メチルエチルケトン 30g 1−メトキシ−2−プロパノール 23g
【0073】 (オーバーコート層塗布液OC−3) ポリビニルアルコール(クラレ製PVA−105) 2.2g 本明細書記載の水溶性染料(IR−10) 0.4g ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテール 0.04g 水 42g
【0074】このようにして得た平版印刷用原板を実施
例1と同じプレートセッターを用いて800mJ/m2
で露光し、次いで現像、印刷した結果、汚れのない良好
な印刷物が得られた。
例1と同じプレートセッターを用いて800mJ/m2
で露光し、次いで現像、印刷した結果、汚れのない良好
な印刷物が得られた。
【0075】実施例7 実施例6の塗布液Bで用いたビス(t−ブチルパーオキ
シ)イソフタレートの代わりにo−Cl−HABIを用
いた。それ以外は実施例6と同様にして感熱性平版印刷
用原板を作製した。次いで実施例1と同じプレートセッ
ターを用いて800mJ/m2で露光し、現像、印刷し
た結果、汚れのない良好な印刷物が得られた。
シ)イソフタレートの代わりにo−Cl−HABIを用
いた。それ以外は実施例6と同様にして感熱性平版印刷
用原板を作製した。次いで実施例1と同じプレートセッ
ターを用いて800mJ/m2で露光し、現像、印刷し
た結果、汚れのない良好な印刷物が得られた。
【0076】実施例8 実施例1で用いた熱重合層塗布液Aのポリ(アリルメタ
クリレート−コ−メタクリル酸)に代えて、特開平10
−260536号公報記載の方法で合成したポリ(メタ
アクリル酸メチル−コ−メタアクリル酸エチル−コ−メ
タアクリル酸−コ−アクリロニトリル)(共重合モル比
65/8/13/14、重量平均分子量12万)のメタ
クリル酸5モル%をグリシジルメタクリレートで修飾し
たポリマーを用いた以外は全て実施例1と同様にして感
熱性平版印刷用原板を作製した。このようにして得た平
版印刷用原板を実施例1と同様にして露光、現像、印刷
した結果、汚れのない良好な印刷物が得られた。
クリレート−コ−メタクリル酸)に代えて、特開平10
−260536号公報記載の方法で合成したポリ(メタ
アクリル酸メチル−コ−メタアクリル酸エチル−コ−メ
タアクリル酸−コ−アクリロニトリル)(共重合モル比
65/8/13/14、重量平均分子量12万)のメタ
クリル酸5モル%をグリシジルメタクリレートで修飾し
たポリマーを用いた以外は全て実施例1と同様にして感
熱性平版印刷用原板を作製した。このようにして得た平
版印刷用原板を実施例1と同様にして露光、現像、印刷
した結果、汚れのない良好な印刷物が得られた。
【0077】
【発明の効果】本発明によれば、明室での取り扱いが可
能なCTP用平版印刷用原板が得られる。
能なCTP用平版印刷用原板が得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AB03 AC08 AD01 BC13 BC19 BC53 BC84 CA18 CA28 CC11 DA04 FA10 2H096 AA06 BA05 BA20 EA04 EA23 2H114 AA04 AA24 AA30 BA01 BA10 DA03 DA32 DA34 DA44 DA46 DA50 DA51 DA52 DA53 DA55 EA01 EA06
Claims (4)
- 【請求項1】 親水性表面を有する支持体上に、1)付
加重合性不飽和結合を側鎖に有するアルカリ水溶液可溶
性ポリマーおよび熱重合開始剤を含有する熱重合層と、
2)水溶性ポリマーおよび光熱変換剤を含有する水溶性
オーバーコート層とをこの順に有することを特徴とする
感熱性平版印刷用原板。 - 【請求項2】 付加重合性不飽和結合が、アリル基、ア
クリル基およびメタクリル基から選ばれた少なくとも一
つの官能基であることを特徴とする請求項1記載の感熱
性平版印刷用原板。 - 【請求項3】 熱重合開始剤が過酸化物またはヘキサア
リールビイミダゾール化合物であることを特徴とする請
求項1又は2記載の感熱性平版印刷用原板。 - 【請求項4】 水溶性ポリマーがビニルアルコール単位
を少なくとも65モル%有するポリマーであることを特
徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の感熱性平版印
刷用原板。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34631799A JP2001166459A (ja) | 1999-12-06 | 1999-12-06 | 感熱性平版印刷用原板 |
US09/729,350 US6576397B2 (en) | 1999-12-06 | 2000-12-05 | Heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34631799A JP2001166459A (ja) | 1999-12-06 | 1999-12-06 | 感熱性平版印刷用原板 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
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Family
ID=18382596
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP34631799A Pending JP2001166459A (ja) | 1999-12-06 | 1999-12-06 | 感熱性平版印刷用原板 |
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Country | Link |
---|---|
US (1) | US6576397B2 (ja) |
JP (1) | JP2001166459A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007148164A (ja) * | 2005-11-29 | 2007-06-14 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | ネガ型平版印刷版 |
CN107538947A (zh) * | 2016-06-28 | 2018-01-05 | 北京中科纳新印刷技术有限公司 | 一种喷墨打印直接制版的免冲洗铝版材及其制备方法 |
KR20200003252A (ko) * | 2017-05-26 | 2020-01-08 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 하이브리드 레이저 스크라이빙 및 플라즈마 식각 웨이퍼 싱귤레이션 프로세스를 위한 광흡수 마스크 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7129021B2 (en) * | 1999-12-17 | 2006-10-31 | Creo Srl | Polymer system with switchable physical properties and its use in direct exposure printing plates |
JP2001183816A (ja) * | 1999-12-27 | 2001-07-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型感熱性平版印刷用原板 |
JP2005059446A (ja) * | 2003-08-15 | 2005-03-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版及び平版印刷方法 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5246815A (en) * | 1984-07-04 | 1993-09-21 | Gen. Director Of The Agency Of Industrial Science & Technology | Photosensitive material for screen processing |
US5609993A (en) * | 1991-04-17 | 1997-03-11 | Nippon Paint Co., Ltd. | Process for producing lithographic printing plate, photosensitive plate and aqueous ink composition therefor |
EP0816070B1 (en) | 1996-06-24 | 2000-10-18 | Agfa-Gevaert N.V. | A heat sensitive imaging element and a method for producing lithographic plates therewith |
EP0832739B1 (en) | 1996-09-25 | 2001-06-20 | Agfa-Gevaert N.V. | Method for making a lithographic printing plate involving the use of a heat-sensitive imaging element |
CN1102110C (zh) * | 1996-12-26 | 2003-02-26 | 旭化成株式会社 | 直接热平印印版及其制造方法 |
GB9709404D0 (en) | 1997-05-10 | 1997-07-02 | Du Pont Uk | Improvements in or relating to the formation of images |
US5840463A (en) * | 1997-07-14 | 1998-11-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive donor element assemblages and associated process for laser-induced thermal transfer |
US5998095A (en) * | 1997-08-12 | 1999-12-07 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Negative-working photosensitive material |
EP0931647B1 (en) | 1998-01-23 | 2003-04-02 | Agfa-Gevaert | A heat sensitive element and a method for producing lithographic plates therewith |
JP3843584B2 (ja) * | 1998-03-20 | 2006-11-08 | 大日本インキ化学工業株式会社 | 感熱性組成物およびそれを用いた平版印刷版原版および印刷刷版作製方法 |
DE69908543T2 (de) | 1999-02-01 | 2004-04-29 | Agfa-Gevaert | Wärmeempfindfiches Material, Verfahren zur Herstellung von lithographischen Druckplatten und Druckverfahren, die diese verwenden |
US6300032B1 (en) * | 1999-02-01 | 2001-10-09 | Agfa-Gevaert | Heat-sensitive material with improved sensitivity |
US6358668B1 (en) * | 1999-07-13 | 2002-03-19 | Agfa-Gevaert | Flexographic printing plate precursor comprising an ink-jet receiving layer |
US6159657A (en) * | 1999-08-31 | 2000-12-12 | Eastman Kodak Company | Thermal imaging composition and member containing sulfonated ir dye and methods of imaging and printing |
US6686125B2 (en) * | 2000-01-14 | 2004-02-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor |
US6242156B1 (en) * | 2000-06-28 | 2001-06-05 | Gary Ganghui Teng | Lithographic plate having a conformal radiation-sensitive layer on a rough substrate |
US6777155B2 (en) * | 2000-10-03 | 2004-08-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive lithographic printing plate |
-
1999
- 1999-12-06 JP JP34631799A patent/JP2001166459A/ja active Pending
-
2000
- 2000-12-05 US US09/729,350 patent/US6576397B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007148164A (ja) * | 2005-11-29 | 2007-06-14 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | ネガ型平版印刷版 |
JP4695499B2 (ja) * | 2005-11-29 | 2011-06-08 | 三菱製紙株式会社 | ネガ型平版印刷版 |
CN107538947A (zh) * | 2016-06-28 | 2018-01-05 | 北京中科纳新印刷技术有限公司 | 一种喷墨打印直接制版的免冲洗铝版材及其制备方法 |
CN107538947B (zh) * | 2016-06-28 | 2019-07-12 | 北京中科纳新印刷技术有限公司 | 一种喷墨打印直接制版的免冲洗铝版材及其制备方法 |
KR20200003252A (ko) * | 2017-05-26 | 2020-01-08 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 하이브리드 레이저 스크라이빙 및 플라즈마 식각 웨이퍼 싱귤레이션 프로세스를 위한 광흡수 마스크 |
CN110800097A (zh) * | 2017-05-26 | 2020-02-14 | 应用材料公司 | 用于混合激光划刻和等离子体蚀刻晶片切割工艺的光吸收掩模 |
JP2020522137A (ja) * | 2017-05-26 | 2020-07-27 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | ハイブリッドレーザスクライビングおよびプラズマエッチングウエハ個片化プロセスのための光吸収マスク |
JP7181899B2 (ja) | 2017-05-26 | 2022-12-01 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | ハイブリッドレーザスクライビングおよびプラズマエッチングウエハ個片化プロセスのための光吸収マスク |
JP7181899B6 (ja) | 2017-05-26 | 2022-12-16 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | ハイブリッドレーザスクライビングおよびプラズマエッチングウエハ個片化プロセスのための光吸収マスク |
KR102566322B1 (ko) * | 2017-05-26 | 2023-08-14 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 하이브리드 레이저 스크라이빙 및 플라즈마 식각 웨이퍼 싱귤레이션 프로세스를 위한 광흡수 마스크 |
CN110800097B (zh) * | 2017-05-26 | 2023-08-15 | 应用材料公司 | 用于混合激光划刻和等离子体蚀刻晶片切割工艺的光吸收掩模 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20010003643A1 (en) | 2001-06-14 |
US6576397B2 (en) | 2003-06-10 |
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