JP2001139806A

JP2001139806A - 耐熱性感光性樹脂組成物

Info

Publication number: JP2001139806A
Application number: JP32515499A
Authority: JP
Inventors: Masao Tomikawa; 真佐夫富川; Yoji Fujita; 陽二藤田; Mitsufumi Suwa; 充史諏訪
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1999-11-16
Filing date: 1999-11-16
Publication date: 2001-05-22

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】低露光量でパターン加工でき、かつパターン加
工後の収縮率の小さい耐熱性感光性樹脂組成物を提供す
ること。【解決手段】（ａ）一般式（１）で表される構造単位を
有するポリマーと、（ｂ）感光剤と、（ｃ）溶媒から構
成される耐熱性感光性樹脂組成物。（Ｒ１は少なくとも２個以上の炭素原子を有する２価か
ら８価の有機基、Ｒ２は、少なくとも２個以上の炭素原
子を有する２価から８価の有機基、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、
Ｒ６は水素、または炭素数１から２０までの１価のアル
キル基、１つ〜３つまでの不飽和結合を有する１価の有
機基を示している。また、Ｒ５、Ｒ６はすべて水素であ
ることはない。ｎは３から１０００００までの整数、
ｐ、ｑは０から４までの整数を示す。ｒ、ｓは０から２
までの整数を示す。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子等の層
間絶縁膜、バッファーコート膜、α線遮蔽膜などに利用
できるパターンを形成できる耐熱性感光性樹脂組成物に
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体素子の表面保護膜、層間絶
縁膜としてポリイミドをはじめとする耐熱性樹脂が広く
利用されている。なかでもそれ自身がパターン加工可能
である感光性樹脂組成物は、パッシベーション膜のパタ
ーン形成に適応可能なパターン精度を有するため、まず
パターン形成前のパッシベーション膜上に感光性樹脂組
成物のパターン加工、キュアを実施し、つぎにこのパタ
ーンをマスクにして下地のパッシベーション膜のドライ
エッチングを行う方法が検討されている（一括開孔
法）。この方法によればパッシベーション膜のパターン
形成に要していたプロセスを省略することができ、コス
トダウンにつながる。

【０００３】一方、感光性樹脂組成物は、通常、溶液状
態で基板に塗布乾燥し、マスクを介して活性光線を照射
する。露光した部分が現像によって残るネガ型の感光性
樹脂組成物、および露光した部分がアルカリ水溶液によ
る現像により溶解するポジ型の感光性樹脂組成物があ
り、ネガ型としては、ポリアミド酸に化学線により２量
化又は重合可能な炭素−炭素二重結合およびアミノ基又
はその四級化塩を添加したもの（特公昭５９−５２８２
２号公報）、ポジ型としてはフェノール性水酸基を有す
るポリイミドにｏ−キノンジアジド化合物を混合したも
の（特開平３−１７７４５５号公報）などに代表される
組成物が知られている。

【０００４】しかし、これらの組成物は、溶媒として極
性が大きく、ポリマーとの相互作用力の大きなＮ−メチ
ル−２−ピロリドンなどを使用しており、実際にパター
ン化する場合、溶媒を除去するのが困難であり、８０℃
から１２０℃のプリベークでは溶媒が２０％以上残り、
そのために感度が悪くなる、その後の熱処理による収縮
が大きいなどの問題があった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、低露
光量でパターン加工できかつ、パターン加工後の収縮率
の小さい耐熱性感光性樹脂組成物を提供することであ
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、（ａ）一般式
（１）で表される構造単位を有するポリマーと、（ｂ）
感光剤と、（ｃ）溶媒から構成される耐熱性感光性樹脂
組成物であって、一般式（１）で表されるポリマーを濃
度２０重量％にした時の溶液の粘度が、溶媒Ｎ−メチル
−ピロリドンのみで一般式（１）で表されるポリマーを
同じ濃度にしたときの溶液の粘度に対して、１．３倍か
ら７倍であることを特徴とする耐熱性感光性樹脂組成物
であり、溶媒は１種でも２種以上のもののいずれでも用
いることを特徴とする耐熱性感光性樹脂組成物である。

【０００７】

【化２】

【０００８】（Ｒ¹は少なくとも２個以上の炭素原子を
有する２価から８価の有機基、Ｒ²は、少なくとも２個
以上の炭素原子を有する２価から８価の有機基、Ｒ³、
Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶は水素、または炭素数１から２０までの
１価のアルキル基、１つ〜３つまでの不飽和結合を有す
る１価の有機基を示している。また、Ｒ⁵、Ｒ⁶はすべて
水素であることはない。ｎは３から１０００００までの
整数、ｐ、ｑは０から４までの整数を示す。ｒ、ｓは０
から２までの整数を示す。）

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明において、一般式（１）で
表されるポリマーは、加熱あるいは適当な触媒により、
イミド環、オキサゾール環、その他の環状構造を有する
ポリマーとなり得るものである。環構造となることで、
耐熱性、耐溶剤性が飛躍的に向上する。

【００１０】上記一般式（１）で表される構造単位を主
成分とするポリマーは、水酸基を有することが好まし
い。このとき一般式（１）のｐ、ｑはｐ＋ｑ＞０という
条件である。この場合、この水酸基の存在のために、ア
ルカリ水溶液に対する溶解性が水酸基を有さないポリア
ミド酸よりも良好になる。特に、水酸基の中でもフェノ
ール性の水酸基がアルカリ水溶液に対する溶解性の観点
より好ましい。なお、現像に用いる溶液の種類によっ
て、水酸基の有無を考慮することが可能であるため、例
えばアルカリ現像によるネガ型として一般式（１）に表
されるポリマーを用いる場合は、ネガ型でも水酸基をも
っていてもよい。

【００１１】一般式（１）中、Ｒ¹を構成する残基は酸
の構造成分を表しており、この酸成分は芳香族環を含有
し、かつ、水酸基を１個から４個有した、炭素数２〜６
０の３価から８価の基が好ましい。Ｒ¹が水酸基を含ま
ない場合、Ｒ²成分が水酸基を１個から４個含むことが
望ましい。さらに、水酸基はアミド結合と隣り合った位
置にあることが好ましい。このような例として、下記に
示すような構造のものがあげられるが、本発明はこれに
限定されない。

【００１２】

【化３】

【００１３】（Ｒは水素、または炭素数１から２０まで
の１価のアルキル基、１つ〜３つまでの不飽和結合を有
する１価の有機基を示す）。

【００１４】また、Ｒ¹を含む残基として、水酸基を有
していないテトラカルボン酸、トリカルボン酸、ジカル
ボン酸を使用することもできる。これらの例としては、
ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビ
フェニルテトラカルボン酸、ジフェニルエーテルテトラ
カルボン酸、ジフェニルスルホンテトラカルボン酸など
の芳香族テトラカルボン酸やそのカルボキシル基２個を
メチル基やエチル基にしたジエステル化合物、ブタンテ
トラカルボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸など
の脂肪族のテトラカルボン酸やそのカルボキシル基２個
をメチル基やエチル基にしたジエステル化合物、トリメ
リット酸、トリメシン酸、ナフタレントリカルボン酸な
どの芳香族トリカルボン酸などを挙げることができる。

【００１５】一般式（１）中、Ｒ²を構成する残基はジ
アミンの構造成分を表している。この中で、Ｒ²の好ま
しい例としては、得られるポリマーの耐熱性より芳香族
を有し、かつ、水酸基を１個から４個有するものが好ま
しい。Ｒ²が水酸基を含まない場合、Ｒ¹成分が水酸基を
１個から４個含むことが望ましい。さらに、水酸基はア
ミド結合と隣り合った位置にあることが好ましい。

【００１６】具体的な例としてはビス（アミノヒドロキ
シフェニル）ヘキサフルオロプロパン、ジアミノジヒド
ロキシピリミジン、ジアミノジヒドロキシピリジン、ヒ
ドロキシジアミノピリミジン、ジアミノフェノール、ジ
ヒドロキシベンゼンなどの化合物や下記に示すような構
造のものがあげられる。

【００１７】

【化４】

【００１８】（ｊ、ｋは０〜２までの整数、ｊ＋ｋ＞
０）。

【００１９】また、一般式（１）のＲ²を含む残基とし
て水酸基を含まないジアミンを使用することもできる。
このような例として、フェニレンジアミン、ジアミノジ
フェニルエーテル、アミノフェノキシベンゼン、ジアミ
ノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、ビ
ス（トリフルオロメチル）ベンチジン、ビス（アミノフ
ェノキシフェニル）プロパン、ビス（アミノフェノキシ
フェニル）スルホンあるいはこれらの芳香族環にアルキ
ル基やハロゲン原子で置換した化合物など、脂肪族のシ
クロヘキシルジアミン、メチレンビスシクロヘキシルア
ミンなどが挙げられる。これらのジアミン化合物は、単
独又は２種以上を組み合わせて使用される。これらは、
ジアミン成分の４０モル％以下の使用が好ましい。４０
モル％以上共重合すると得られるポリマーの耐熱性が低
下する。

【００２０】一般式（１）のＲ¹およびＲ²のいずれも水
酸基を持たない場合は、Ｒ¹としては、ピロメリット
酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフェニルテト
ラカルボン酸、ジフェニルエーテルテトラカルボン酸、
ジフェニルスルホンテトラカルボン酸などの芳香族テト
ラカルボン酸やそのカルボキシル基２個をメチル基やエ
チル基、炭素−炭素不飽和結合を少なくとも１つ以上有
する有機基によるジエステル化合物、ブタンテトラカル
ボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸などの脂肪族
のテトラカルボン酸やそのカルボキシル基２個をメチル
基やエチル基、炭素−炭素不飽和結合を少なくとも１つ
以上有する有機基によるジエステル化合物、トリメリッ
ト酸、トリメシン酸、ナフタレントリカルボン酸などの
芳香族トリカルボン酸、そのカルボキシル基１個をメチ
ル基やエチル基、炭素−炭素不飽和結合を少なくとも１
つ以上有する有機基によるエステル化合物などを挙げる
ことができる。Ｒ¹成分としてはこれらの化合物を１種
あるいは２種以上を混合することで使用される。

【００２１】Ｒ²成分としては、フェニレンジアミン、
ジアミノジフェニルエーテル、アミノフェノキシベンゼ
ン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルス
ルホン、ビス（トリフルオロメチル）ベンチジン、ビス
（アミノフェノキシフェニル）プロパン、ビス（アミノ
フェノキシフェニル）スルホンあるいはこれらの芳香族
環にアルキル基やハロゲン原子で置換した化合物など、
脂肪族のシクロヘキシルジアミン、メチレンビスシクロ
ヘキシルアミンなどが挙げられる。これらのジアミン化
合物は、単独又は２種以上を組み合わせて使用される。

【００２２】基板との接着性を向上させる目的で、耐熱
性を低下させない範囲でシロキサン構造を有するジアミ
ン化合物を使用することもできる。シロキサン構造を有
するジアミン化合物としては、例えば、ビス（３−アミ
ノプロピル）テトラメチルジシロキサン、ビス（３−ア
ミノプロピル）テトラフェニルジシロキサン、ビス（４
−アミノフェニル）テトラメチルジシロキサン等が使用
される。

【００２３】ポジ型として用いる場合、一般式（１）の
Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶は水素、あるいは炭素数１〜２０の
有機基であることが好ましい。Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶の各
炭素数が２０を越えるとアルカリ水溶液に溶解しなくな
る。得られる感光性樹脂溶液の安定性からはＲ³、Ｒ⁴、
Ｒ⁵、Ｒ⁶は有機基が好ましいが、アルカリ水溶液の溶解
性より見ると水素が好ましい。このＲ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶
の水素と有機基の量を制御することで、アルカリ水溶液
に対する溶解速度が変化するので、この調整により適度
な溶解速度を有した感光性樹脂組成物を得ることが出来
る。このことからポリマー中のカルボキシル基はポリマ
ー１ｇ中に０．０２ｍｍｏｌ以上２ｍｍｏｌ以下含まれ
ることが好ましい。より好ましくは０．０５ｍｍｏｌ以
上１．５ｍｍｏｌ以下である。０．０２ｍｍｏｌより小
さいと現像液に対する溶解性が小さくなりすぎ、２ｍｍ
ｏｌより大きいと露光部及び未露光部の溶解速度の差が
つきにくくなる。ｐ、ｑは０から４までの整数を示す。
ｐが５以上になると、得られる耐熱性樹脂膜の特性が低
下する。

【００２４】ネガ型の組成物を得る場合、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ
⁵、Ｒ⁶成分に不飽和結合を有する基を少なくとも１つ有
することが望ましい。また、エチレングリコールジメタ
クリレート、トリメタクリルグリセロイド、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート、その他ウレタンアクリ
レート化合物などの不飽和結合を有した化合物を添加す
ることもできる。

【００２５】また、カルボキシル基の一部をイミド化す
ることによって残存カルボキシル基の量を調節すること
も可能である。イミド化の方法としては、イミド化でき
れば公知の方法を用いても特に構わない。このときのイ
ミド化の割合は１％以上５０％以下が好ましい。イミド
化率が５０％を超えると露光に使用する化学線でのポリ
マーの吸収が大きくなり、感度が低下する。

【００２６】一般式（１）で表されるポリマーは露光す
る化学線に対してできるだけ透明であることが望まし
い。そのため、３６５ｎｍにおけるポリマーの吸光度は
１μｍあたり０．１以下であることが好ましい。より好
ましくは０．０８以下である。０．１を超えると３６５
ｎｍの化学線での露光に対する感度が低下する。

【００２７】本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、一般
式（１）で表される構造単位のみからなるものであって
も良いし、他の構造単位との共重合体あるいはブレンド
体であっても良い。その際、一般式（１）で表される構
造単位を９０モル％以上含有していることが好ましい。
共重合あるいはブレンドに用いられる構造単位の種類お
よび量は最終加熱処理膜によって得られるポリイミド系
ポリマーの耐熱性を損なわない範囲で選択することが好
ましい。

【００２８】本発明の一般式（１）で表される構造単位
を主成分とするポリマーは公知の方法により合成され
る。例えば、低温中でテトラカルボン酸二無水物とジア
ミン化合物を反応させる方法（Ｃ．Ｅ．Ｓｒｏｏｇら、
ＪｏｕｒｎａｌＰｏｌｙｍｅｒＳｃｉｅｎｃｅ誌、
ＰａｒｔＡ−３、１３７３（１９６５））などで合成す
ることができる。

【００２９】一般式（１）で表されるポリマーは上記方
法で得たポリマー中のカルボキシル基をアセタールまた
はケタール化合物、ビニルエーテル化合物、またはビニ
ルエーテル化合物と酸触媒によってエステル化処理する
ことでカルボキシル基濃度を調整することができる。

【００３０】このようなアセタール、ケタール、ビニル
エーテル化合物として具体的には、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミドジメチルアセタール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミドジエチルアセタール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミドジプロピルアセタール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミドジブチルアセタール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミドジベンジルアセタール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミドビス［２−（トリメチルシリル）エチル］アセター
ル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドジエチルアセター
ル、オルトギ酸トリメチル、オルトギ酸トリエチル、オ
ルト酢酸トリメチル、オルト酢酸トリエチル、オルト酪
酸トリメチル、オルト酪酸トリエチル、オルト安息香酸
トリメチル、オルト安息香酸トリエチル、１，３−ジメ
チルイミドゾリジノンジアルキルアセタール、炭酸エチ
レンジアルキルアセタール、炭酸プロピレンジアルキル
アセタール、γ−ブチロラクトンジアルキルアセター
ル、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｎ
−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテ
ル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエー
テル、tert−ブチルビニルエーテル、シクロヘキシルビ
ニルエーテルなどが挙げられるが、これらに限定されな
い。

【００３１】本発明で用いる感光剤としては、露光した
部分が残るネガ型の場合、ベンゾフェノン、ミヒラーケ
トン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、
フェナントレンキノン、ベンゾインエチルエーテル、ベ
ンゾインフェニルエーテル、ベンジルメチルケタール、
２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミ
ダゾール、４，４−ビス（ジエチルアミノ）カルコン、
２，６−ビス（４’−−ジエチルアミノベンジリデン）
シクロペンタノン、ベンズイミダゾール、メルカプトベ
ンゾチアゾール、などを挙げることができる。

【００３２】未露光部分が残るポジ型の場合、ナフトキ
ノンジアジドスルホン酸エステル、ジアゾニウム塩、ジ
アゾキノンスルホン酸アミド、ジアゾキノンスルホン酸
エステル、ジアゾキノンスルホン酸塩、ニトロベンジル
エステル、オニウム塩、ハロゲン化物、ハロゲン化イソ
シアネート、ハロゲン化トリアジン、ビスアリールスル
ホニルジアゾメタン、ジスルホン等の光照射により分解
し酸を発生する化合物を感光成分に使用することができ
る。特にｏ−キノンジアジド化合物は未露光部の水溶性
を抑制する効果を有するために望ましい。このような化
合物としては、１，２−ベンゾキノン−２−アジド−４
−スルホン酸エステル又はスルホン酸アミド、１，２−
ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸エステル
又はスルホン酸アミド、１，２−ナフトキノン−２−ジ
アジド−４−スルホン酸エステル又はスルホン酸アミド
等がある。これらは、例えば、１，２−ベンゾキノン−
２−アジド−４−スルホニルクロリド、１，２−ナフト
キノン−２−ジアジド−５−スルホニルクロリド、１，
２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホニルクロ
リド等のｏ−キノンジアジドスルホニルクロリド類とポ
リヒドロキシ化合物又はポリアミン化合物を脱塩酸触媒
の存在下で縮合反応することによって得ることができ
る。

【００３３】ポリヒドロキシ化合物としては、ヒドロキ
ノン、レゾルシノール、ピロガロール、ビスフェノール
Ａ、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパ
ン、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，
３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，
２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、ト
リス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１，１−
トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１−［１−
（４−ヒドロキシフェニル）イソプロピル］−４−
［１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチル］ベ
ンゼン、没食子酸メチル、没食子酸エチル等が挙げられ
る。

【００３４】ポリアミン化合物としては、１，４−フェ
ニレンジアミン、１，３−フェニレンジアミン、４，
４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミ
ノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルス
ルホン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド等が
挙げられる。

【００３５】また、ポリヒドロキシポリアミン化合物と
しては、２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフ
ェニル）ヘキサフルオロプロパン、３，３’−ジヒドロ
キシベンジジン等が挙げられる。

【００３６】ｏ−キノンジアジド化合物は、一般式
（１）で表されるポリマー１００重量部に対して好まし
くは５から１００重量部、より好ましくは１０から４０
重量部の範囲で配合される。配合量が５重量部未満では
十分な感度が得られず、また、１００重量部を超えると
樹脂組成物の耐熱性が低下する可能性がある。

【００３７】本発明において用いられる溶媒とは、一般
式（１）で表されるポリマーをＮ−メチル−２−ピロリ
ドン（ＮＭＰ）中で固形分２０ｗｔ％の溶液にした時の
粘度をＡとすると、本発明で使用される溶媒を使用した
時の同じ一般式（１）で表されるポリマー２０ｗｔ％の
粘度は１．３Ａ以上７Ａ以下となる。さらに好ましくは
１．５Ａ以上５Ａ以下である。このようにＮＭＰで測定
される粘度より大きくなることが重要である。一般にポ
リマーの粘度は、ポリマーと溶媒との相互作用により決
定される。ポリマーとの相互作用力の小さな溶媒はポリ
マー同志の相互作用力が高まり、ポリマー同志の絡み合
いが大きくなり粘度が上昇する傾向にある。このような
相互作用力の小さい溶媒を使用すると、ポリマーと溶媒
との相互作用が弱まり、上記したポリマー同志の相互作
用のみならず、感光剤とポリマーとの相互作用が強くな
り感度が向上する。また、ポリマー溶液を基板に塗布
後、ホットプレートなどで熱を加えて溶媒を除去する工
程（プリベーク工程）で、溶媒とポリマーの相互作用が
小さいと乾きが早くなる。このため、プリベーク工程
後、現像し、その後の熱処理で耐熱性樹脂膜を得るとこ
ろでは、溶媒は既にほとんど蒸発しているので、この工
程での収縮が小さくなる。この収縮が小さくなること
で、この間に発生するパターンのゆがみなどを極力抑え
る事が出来る。

【００３８】このような溶媒としては、乳酸エチル、プ
ロピレングリコール、シクロペンタノン、メトキシメチ
ルブタノール、プロピオン酸メチルなどがあるが、これ
ら以外の溶媒でも一般式（１）で表されるポリマーを溶
解し、ＮＭＰ溶液の粘度に対して１．３から７倍になる
ようなものであれば使用することができる。また、溶媒
を単独で使用したときに、ポリマーの溶解性が低下し、
層分離を起こすなどの問題が発生した場合は、ガンマブ
チロラクトン、ＮＭＰ、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミドを全体の１割から５割混合することで、
溶解性を改良することもできる。

【００３９】さらに、必要に応じて上記、感光性前駆体
組成物と基板との塗布性を向上させる目的で界面活性
剤、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類
を混合しても良い。また、２酸化ケイ素、２酸化チタン
などの無機粒子、あるいはポリイミドの粉末などを添加
することもできる。

【００４０】さらにシリコンウエハーなどの下地基板と
の接着性を高めるために、シランカップリング剤、チタ
ンキレート剤などを感光性樹脂組成物のワニスに０．５
から１０重量部添加したり、下地基板をこのような薬液
で前処理したりすることもできる。

【００４１】ワニスに添加する場合、メチルメタクリロ
キシジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキ
シシランなどのシランカップリング剤、チタンキレート
剤、アルミキレート剤をワニス中のポリマーに対して
０．５から１０重量部添加する。

【００４２】基板を処理する場合、上記で述べたカップ
リング剤をイソプロパノール、エタノール、メタノー
ル、水、テトラヒドロフラン、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、乳酸エチル、アジピン酸ジエチルな
どの溶媒に０．５から２０重量部溶解させた溶液をスピ
ンコート、浸漬、スプレー塗布、蒸気処理などで表面処
理をする。場合によっては、その後５０℃から３００℃
までの温度をかけることで、基板と上記カップリング剤
との反応を進行させる。

【００４３】次に、本発明の耐熱性感光性樹脂組成物を
用いて耐熱性樹脂パターンを形成する方法について説明
する。

【００４４】本発明の耐熱性感光性樹脂組成物を基板上
に塗布する。基板としてはシリコンウエハー、セラミッ
クス類、ガリウムヒ素などが用いられるが、これらに限
定されない。塗布方法としてはスピンナを用いた回転塗
布、スプレー塗布、ロールコーティングなどの方法があ
る。また、塗布膜厚は、塗布手法、組成物の固形分濃
度、粘度などによって異なるが通常、乾燥後の膜厚が、
０．１から１５０μｍになるように塗布される。

【００４５】次に耐熱性感光性樹脂組成物を塗布した基
板を乾燥して、耐熱性感光性樹脂組成物皮膜を得る。乾
燥はオーブン、ホットプレート、赤外線などを使用し、
５０℃から１５０℃の範囲で１分から数時間行うのが好
ましい。

【００４６】次に、この皮膜上に所望のパターンを有す
るマスクを通して化学線を照射し、露光する。露光に用
いられる化学線としては紫外線、可視光線、電子線、Ｘ
線などがあるが、本発明では水銀灯のｉ線（３６５ｎ
ｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｇ線（４３６ｎｍ）を用い
るのが好ましい。

【００４７】耐熱性樹脂のパターンを形成するには、露
光後、現像液を用いて、ポジ型の場合は露光部を除去す
ることによって、ネガ型の場合は未露光部を除去するこ
とによって達成される。現像液としては、テトラメチル
アンモニウムの水溶液、ジエタノールアミン、ジエチル
アミノエタノール、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、トリエチルアミ
ン、ジエチルアミン、メチルアミン、ジメチルアミン、
酢酸ジメチルアミノエチル、ジメチルアミノエタノー
ル、ジメチルアミノエチルメタクリレート、シクロヘキ
シルアミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミ
ンなどのアルカリ性を示す化合物の水溶液、あるいはＮ
−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホ
キシド、γ−ブチロラクロン、ジメチルアクリルアミド
などの極性溶媒にメタノール、エタノール、イソプロパ
ノールなどのアルコール類、乳酸エチル、プロピレング
リコールモノメチルエーテルアセテートなどのエステル
類、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、イソブチル
ケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類などを
単独あるいは数種を組み合わせたものを添加してもよ
い。上記に挙げたアルカリ現像液、有機溶媒による現像
液は、ポジ型、ネガ型の両方に使用することは可能であ
るが、好ましくはポジ型にはアルカリ現像液を用いるの
がよい。現像後は水、イソプロピルアルコール、エタノ
ール、ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテートなどにてリンス処理をする。

【００４８】現像後、２００℃から５００℃の温度を加
えて耐熱性樹脂皮膜に変換する。この加熱処理は温度を
選び、段階的に昇温するか、ある温度範囲を選び連続的
に昇温しながら５分から５時間実施する。一例として
は、１３０℃、２００℃、３５０℃で各３０分づつ熱処
理する。あるいは室温より４００℃まで２時間かけて直
線的に昇温するなどの方法が挙げられる。

【００４９】本発明による耐熱性感光性樹脂組成物によ
り形成した耐熱性樹脂皮膜は、半導体のパッシベーショ
ン膜、半導体素子の保護膜、高密度実装用多層配線の層
間絶縁膜などの用途に用いられる。

【００５０】

【実施例】以下発明をより詳細に説明するために、実施
例で説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されな
い。特性の測定方法膜厚の測定大日本スクリーン製造社製ラムダエースＳＴＭ−６０２
を使用し、プリベーク膜については屈折率１．６４、キ
ュア膜については屈折率１．７５で測定を行った。測定
点は、ウエハー上の直径方向に１０点を測定をし、平均
値を出した。

【００５１】粘度の測定ポリマーの粉体２．０ｇをはかり取る。ここに使用する
溶媒を全体の重量が１０ｇになるように加える。このも
のをミクロスパーテルを用いて攪拌し、その後振倒機に
入れ１００ｒｐｍで２時間振倒し、溶解を進めた。この
溶液を４８時間放置した後、トキメック社製Ｅ型粘度計
ＥＬＨ−Ｄを用いて、溶液１ｍｌを計量し、２５℃で粘
度を測定した。この時、溶媒にＮＭＰを使用した時の粘
度と比較を行った。

【００５２】キュアによる収縮シリコンウエハー上に所定の条件で形成したプリベーク
膜を光洋リンドバーグ社製イナートオーブンＣＬＨ−２
１ＣＤを用いて、窒素雰囲気下（酸素濃度１０ｐｐｍ以
下）、２００℃で３０分、その後３５０℃まで１時間か
けて昇温し３５０℃で１時間熱処理をし、その後冷却
し、オーブン内の温度が２００℃以下になったところで
取り出した。熱処理（キュア）前の膜厚（Ｔａ）とキュ
ア後の膜厚（Ｔｂ）を測定し、Ｔｂ／Ｔａ×１００
（％）により、キュアによる収縮率を求めた。この数字
は７０％以上となることでキュア中の収縮によるパター
ンのゆがみなどが小さくなり、収縮による応力が低減し
好ましい。

【００５３】合成例１ヒドロキシル基含有ジアミン化
合物の合成２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）
ヘキサフルオロプロパン（ＢＡＨＦ）１８．３ｇ（０．
０５ｍｏｌ）をアセトン１００ｍｌ、プロピレンオキシ
ド１７．４ｇ（０．３ｍｏｌ）に溶解させ、−１５℃に
冷却した。ここに３−ニトロベンゾイルクロリド２０．
４ｇ（０．１１ｍｏｌ）をアセトン１００ｍｌに溶解さ
せた溶液を滴下した。滴下終了後、−１５℃で４時間反
応させ、その後室温に戻した。溶液をロータリーエバポ
レーターで濃縮し、得られた固体をテトラヒドロフラン
とエタノールの溶液で再結晶した。

【００５４】再結晶して集めた固体をエタノール１００
ｍｌとテトラヒドロフラン３００ｍｌに溶解させて、５
％パラジウム−炭素を２ｇ加えて、激しく攪拌させた。
ここに水素を風船で導入して、還元反応を室温で行っ
た。約２時間後、風船がこれ以上しぼまないことを確認
して反応を終了させた。反応終了後、ろ過して触媒であ
るパラジウム化合物を除き、ロータリーエバポレーター
で濃縮し、ジアミン化合物を得た。これを下記に示す。
得られた固体をそのまま反応に使用した。

【００５５】

【化５】

【００５６】合成例２ヒドロキシル基含有酸無水物の
合成乾燥窒素気流下、ＢＡＨＦ１８．３ｇ（０．０５ｍｏ
ｌ）とアリルグリシジルエーテル３４．２ｇ（０．３ｍ
ｏｌ）をガンマブチロラクトン（ＧＢＬ）１００ｇに溶
解させ、−１５℃に冷却した。ここにＧＢＬ５０ｇに溶
解させた無水トリメリット酸クロリド２２．１ｇ（０．
１１ｍｏｌ）を反応液の温度が０℃を越えないように滴
下した。滴下終了後、０℃で４時間反応させた。

【００５７】この溶液をロータリーエバポレーターで濃
縮して、トルエン１ｌに投入して酸無水物を得た。これ
を下記に示す。得られた物質は３５０℃までに明確な融
点が見られなかった。

【００５８】

【化６】

【００５９】合成例３ナフトキノンジアジド化合物の
合成乾燥窒素気流下、４，４’−［１−［４−［１−（４−
ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル］フェニル］
エチリデン］ビスフェノール（本州化学工業製Ｔｒｉｓ
−ＰＡ）２１．２ｇ（０．０５ｍｏｌ）と５−ナフトキ
ノンジアジドスルホニル酸クロリド３７．６ｇ（０．１
４ｍｏｌ）を１，４−ジオキサン４００ｇに溶解させ、
４０℃に加熱した。ここに、１，４−ジオキサン４０ｇ
と混合させたトリエチルアミン１４．２ｇ（０．１４ｍ
ｏｌ）を系内の温度が４５℃以上にならないように滴下
した。滴下後４０℃で２時間攪拌した。副生したトリエ
チルアミンの塩酸塩を濾過し、ろ液を１％塩酸３ｌに投
入した。その後、析出した沈殿をろ過で集めた。水１０
ｌでこの沈殿を２回洗浄を繰り返し、５０℃の真空乾燥
機で２０時間乾燥させ、ナフトキノンジアジド化合物を
得た。得られた化合物の構造を下記に示す。

【００６０】

【化７】

【００６１】Ｑのうち、６．７％が水素。残りは５−ナ
フトキノンジアジドスルホニル基。

【００６２】実施例１〜４、比較例１〜２乾燥窒素気流下、１ｌの４つ口フラスコに合成例１で合
成したヒドロキシル基含有ジアミン化合物３０．２ｇ
（５０ｍｍｏｌ）をＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭ
Ｐ）１５０ｇに溶解させ、３，３’，４，４’−ビフェ
ニルテトラカルボン酸二無水物１３．２ｇ（４５ｍｍｏ
ｌ）を加えて５０℃で３時間撹拌した。さらにＮ，Ｎ−
ジメチルホルムアミドジエチルアセタール９．５ｇ（８
０ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で２時間撹拌し、部分エス
テル化したポリマー溶液を得た。このポリマー溶液を２
ｌの水に投入して、ポリマーの沈殿を得た。このポリマ
ー沈殿をろ過で集め、再度水２ｌで洗浄した後、ろ過で
集めた。このポリマーを８０℃の真空乾燥機で４８時間
乾燥させた。

【００６３】粘度測定用に、得られたポリマーを表１の
実施例１〜４、比較例１、２に示した所定の溶媒中に固
形分濃度が２０重量％になるように調整し、粘度を測定
した。測定結果を表１に示す。同じように得られたポリ
マーをＮＭＰに固形分濃度が２０重量％になるように調
整し、粘度を測定した。

【００６４】また得られたポリマー５ｇ、合成例３で合
成した感光剤１ｇ、メチレンビスフェノール０．５ｇを
表１の実施例１〜４、比較例１、２に示した所定の溶媒
１５ｇに溶解させた。

【００６５】６インチシリコンウエハー上に、上記溶液
をプリベーク後の膜厚が７μｍとなるように塗布し、つ
いでホットプレート（大日本スクリーン社製ＳＫＷ−６
３６）を用いて、１１０℃で３分プリベークすることに
より、感光性樹脂前駆体膜を得た。ついで、露光機（ニ
コン社製ｉ線ステッパーＮＳＲ−１７５５−ｉ７Ａ）
に、パターンの切られたレチクルをセットし、露光量を
１００ｍＪ／ｃｍ²から８００ｍＪ／ｃｍ²まで５０ｍＪ
／ｃｍ²きざみでｉ線露光を行った。その後、ＮＭＤ−
３（テトラメチルアンモニウムヒドロキシド２．３８％
水溶液：東京応化工業（株）製）に６０秒間浸漬し、さ
らに２０秒間水洗することによってパターンを形成し
た。

【００６６】結果を表１に示した。現像後の未露光部の
膜厚（Ｔ２）に対する現像前の膜厚（Ｔ１）の比率（残
膜率Ｔ２／Ｔ１×１００（％））、現像時間中に、完
全に溶解する最低光照射量を表１にまとめた。このもの
を光洋リンドバーグ社製イナートオーブンＩＮＨ−２１
ＣＤを用いて２００℃で３０分、３５０℃で６０分熱処
理をしてポリイミドに変換させた。熱処理時の膜厚の保
持率（現像後の膜厚Ｔ２、熱処理後の膜厚Ｔ３とする
と、Ｔ２／Ｔ３×１００（％））も表１にまとめた。

【００６７】実施例５〜６、比較例３〜４４，４’−ジアミノジフェニルエーテル（０．０９モ
ル）、１，３−ビス−（３−アミノプロピル）テトラメ
チルジシロキサン（０．００５モル）をＮ−メチル−２
−ピロリドンｇに３０℃で溶解させた。ここに合成例２
で合成した酸無水物６１．４ｇ（０．１モル）を加え
て、３０℃で１時間、その後５０℃で３時間攪拌して反
応させた。その後、水で洗浄して、硫酸ナトリウムで乾
燥させたイソブチルビニルエーテル１５．０ｇ（０．１
５モル）を加えて５０℃で４時間攪拌を続けた。

【００６８】このようにして得られたポリマー溶液を水
３ｌ中に投入して、ポリマーを沈殿させた。この沈殿を
ろ過で集めて、再度水３ｌで洗浄して、ろ過で沈殿を集
め、この沈殿を８０℃の熱風オーブンで４８時間乾燥し
た。

【００６９】粘度測定用に、得られたポリマーを表１の
実施例５〜６、比較例３、４に示した所定の溶媒中に固
形分濃度が２０重量％になるように調整し、粘度を測定
した。測定結果を表１に示す。同じよう得られたポリマ
ーをＮＭＰに固形分濃度が２０重量％になるように調整
し、粘度を測定した。

【００７０】また得られたポリマー５ｇ、感光剤として
２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンの
フェノール性水酸基４個のうち平均３個がナフトキノン
ジアジドスルホン酸エステルとなった化合物（４ＮＴ−
３００、東洋合成製）１ｇ、ビスフェノールＺ０．５ｇ
を表１の実施例５〜６、比較例３、４に示した所定の溶
媒１５ｇに溶解させた。

【００７１】露光、現像によるパターン形成について
は、露光機（ニコン社製ｇ線ステッパーＮＳＲ−１７０
５−ｇ６Ｅ）を用い、ｇ線露光を行ったほかは、実施例
１〜４と同様に行った。またパターン形成後、残膜率、
最低光照射量、膜厚保持率は、実施例１〜４と同様に評
価し、これらの値を表１に示した。

【００７２】実施例７〜９、比較例５〜７乾燥窒素気流下、５００ｍｌの４つ口フラスコに、ビス
（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオ
ロプロパン３６．６ｇ（０．１モル）をジメチルアセト
アミド２００ｍｌに溶解させ、−１５℃に冷却した。こ
こにピリジン７．９ｇ（０．１２モル）を加えた。ここ
にシクロヘキサノン５０ｍｌに溶解させた４，４’−ジ
フェニルエーテルジカルボン酸クロリド２６．６ｇ
（０．０９モル）を溶液の温度が０℃を越えないように
滴下した。

【００７３】滴下終了後、２時間−１５℃で攪拌し、そ
の後１５℃にまで温度を上昇させて１時間攪拌させた。
その後、３０℃に温度を上げて２時間攪拌した。

【００７４】この後、５−ノルボルネン−２，３−ジカ
ルボン酸無水物３．２８ｇ（０．０２モル）を加えて、
１５℃で１時間、その後２５℃で２時間攪拌した。この
後、溶液にジメチルアセトアミドを１００ｍｌ加え、ろ
過により生成した塩を除去した。ろ液を水１０ｌに投入
して３０分攪拌し、そのまま１０時間放置した。この中
に生成していたポリマーの沈殿をろ過で集めた。このポ
リマーを８０℃の真空乾燥機で４８時間乾燥させた。

【００７５】粘度測定用に、得られたポリマーを表１の
実施例７〜９、比較例５〜７に示した所定の溶媒中に固
形分濃度が２０％になるように調整し、粘度を測定し
た。測定結果を表１に示す。同じよう得られたポリマー
をＮＭＰに固形分濃度が２０重量％になるように調整
し、粘度を測定した。

【００７６】得られたポリマー５ｇ、合成例３で合成し
た感光剤１ｇ、メチレンビスフェノール０．５ｇを表１
の実施例７〜９、比較例５〜７に示した所定の溶媒１５
ｇに溶解させた。

【００７７】露光、現像によるパターン形成について
は、実施例１〜４と同様に行った。またパターン形成
後、残膜率、最低光照射量、膜厚保持率は、実施例１〜
４と同様に評価し、これらの値を表１に示した。

【００７８】実施例１０〜１１、比較例８〜９３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボ
ン酸二無水物３１．０ｇ（０．１モル）をガンマブチロ
ラクトン１００ｇ、ピリジン１５ｇに溶解させた。ここ
に２−ヒドロキシエチルメタクリレート２７．６ｇ
（０．２モル）を加えて３０℃で１２時間攪拌した。

【００７９】この溶液を−１０℃に冷却して、４０℃に
加温したガンマブチロラクトン５０ｇに溶解させたジシ
クロヘキシルカルボジイミド４０．６ｇ（０．２モル）
溶液を内温が０℃を越えないように加えた。１０分後に
ビス（４−アミノフェノキシ４−フェニル）スルホン４
３．２ｇ（０．１モル）をガンマブチロラクトン１００
ｇに溶解させた溶液を内温が０℃を越えないように溶液
を滴下した。滴下後、−１０℃で２時間、その後３０℃
で４時間攪拌した。

【００８０】この溶液をろ過して発生した沈殿物を除去
し、ろ液を水３ｌに投入してポリマーを沈殿させた。こ
の沈殿をろ過で集めて、沈殿を水３ｌで洗浄した後、ろ
過で集めて、８０℃の熱風オーブンで４８時間乾燥させ
た。

【００８１】粘度測定用に、得られたポリマーを表１の
実施例１０〜１１、比較例８〜９に示した所定の溶媒中
に固形分濃度が２０％になるように調整し、粘度を測定
した。測定結果を表１に示す。同じよう得られたポリマ
ーをＮＭＰに固形分濃度が２０重量％になるように調整
し、粘度を測定した。

【００８２】得られたポリマー５ｇ、エチレングリコー
ルジメタクリレート０．５ｇ、トリメチロールプロパン
トリメタクリレート０．１ｇ、Ｎ−フェニルジエタノー
ルアミン０．１ｇ、ミヒラーケトン０．０５ｇ、メルカ
プトベンゾチアゾール０．０５ｇ、３−アミノプロピル
トリエトキシシラン０．０８ｇを表１の実施例１０〜１
１、比較例８〜９に示した所定の溶媒１５ｇに溶解させ
た。

【００８３】露光、現像によるパターン形成に関して、
露光は１００℃で３分プリベークすること以外は実施例
１〜４と同様に行った。露光後、シクロペンタノンを現
像液として、ＳＫＷ−６３６の現像装置を用いて、２０
００回転で３０秒スプレー噴霧をして未露光部を溶解さ
せ、その後５秒間２０００回転のまま、シクロペンタノ
ンとイソプロピルアルコールを同時に噴霧し、さらに１
０秒間２０００回転でイソプロピルアルコールを噴霧し
た後、３０００回転で１５秒振り切り乾燥を行った。

【００８４】パターン形成後、残膜率、最低光照射量、
膜厚保持率は、実施例１〜４と同様に評価し、これらの
値を表１に示した。

【００８５】実施例１２〜１３、比較例１０〜１１３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボ
ン酸二無水物３１．０ｇ（０．１モル）をガンマブチロ
ラクトン１００ｇ、ピリジン１５ｇに溶解させた。ここ
に２−ヒドロキシエチルメタクリレート２７．６ｇ
（０．２モル）を加えて３０℃で１２時間攪拌した。

【００８６】この溶液を−１０℃に冷却して、４０℃に
加温したガンマブチロラクトン５０ｇに溶解させたジシ
クロヘキシルカルボジイミド４０．６ｇ（０．２モル）
溶液を内温が０℃を越えないように加えた。１０分後に
３，５−ジアミノ安息香酸７．６１ｇ（０．０５モ
ル）、４、４’−ジアミノジフェニルエーテル１０．０
１ｇ（０．０５モル）を４０℃に加温したガンマブチロ
ラクトン７０ｇに溶解させた溶液を内温が０℃を越えな
いように溶液を滴下した。滴下後、−１０℃で２時間、
その後３０℃で４時間攪拌した。

【００８７】この溶液をろ過して発生した沈殿物を除去
し、ろ液を水３ｌに投入してポリマーを沈殿させた。こ
の沈殿をろ過で集めて、沈殿を水３ｌで洗浄した後、ろ
過で集めて、８０℃の熱風オーブンで４８時間乾燥させ
た。

【００８８】粘度測定用に、得られたポリマーを表１の
実施例１２〜１３、比較例１０〜１１に示した所定の溶
媒中に固形分濃度が２０％になるように調整し、粘度を
測定した。測定結果を表１に示す。同じよう得られたポ
リマーをＮＭＰに固形分濃度が２０重量％になるように
調整し、粘度を測定した。

【００８９】得られたポリマー５ｇ、２−ヒドロキシ−
１−アルリロキシ−３−メタクリロキシプロパン（７０
１Ａ新中村化学製）０．５ｇ、トリメチロールプロパ
ントリメタクリレート０．１ｇ、Ｎ−フェニルジエタノ
ールアミン０．１ｇ、イルガキュア７８４（チバスペシ
ャリティーケミカル製）０．１ｇ、ビニルトリエトキ
シシラン０．０５ｇ、３−アミノプロピルトリエトキシ
シラン０．０５ｇを表１の実施例１２〜１３、比較例１
０〜１１に示した所定の溶媒１５ｇに溶解させた。

【００９０】露光、現像によるパターン形成に関して、
露光は実施例１〜４と同様に行った。露光後、テトラメ
チルアンモニウムヒドロキシド１．１９％水溶液に６０
秒間浸漬し、さらに２０秒間水洗することによってパタ
ーンを形成した。

【００９１】パターン形成後、残膜率、最低光照射量、
膜厚保持率は、実施例１〜４と同様に評価し、これらの
値を表１に示した。

【００９２】

【表１】

【００９３】表１に用いている略号は下記のとおりであ
る。ＡＣＯ：アセトンＣＨＯ：シクロヘキサノンＤＡＡ：ジアセトンアルコールＥＬ：乳酸エチルＤＭＩ：ジメチルイミダゾリンＧＢＬ：ガンマブチロラクトンＭＭＢ：３−メトキシ−３−メチルブタノールＮＭＰ：Ｎ−メチル−２−ピロリドンＰＧＭ：プロピレングリコールモノメチルエーテル

【００９４】

【発明の効果】本発明によれば、低露光量でパターン加
工ができ、パターン形成後の膜の収縮率が小さい、高感
度の感光性樹脂組成物を得ることができた。

フロントページの続きＦターム(参考） 2H025 AA01 AA10 AA20 AB16 AC01 AD01 AD03 BC13 BC69 BC70 BC86 BE01 BJ06 CB25 CB26 CB45 CC03 FA17 4J002 CM031 CM041 EC047 EE036 EE037 EE056 EH037 EN076 EQ016 ER006 ES006 EU116 EU186 EV216 EV326 FD206 FD207 GP03

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（ａ）一般式（１）で表される構造単位を
有するポリマーと、（ｂ）感光剤と、（ｃ）溶媒から構
成される耐熱性感光性樹脂組成物であって、一般式
（１）で表されるポリマーを濃度２０重量％にした時の
溶液の粘度が、溶媒Ｎ−メチル−２−ピロリドンのみで
一般式（１）で表されるポリマーを同じ濃度にしたとき
の溶液の粘度に対して、１．３倍から７倍であることを
特徴とする耐熱性感光性樹脂組成物。【化１】（Ｒ¹は少なくとも２個以上の炭素原子を有する２価か
ら８価の有機基、Ｒ²は、少なくとも２個以上の炭素原
子を有する２価から８価の有機基、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶
は水素、または炭素数１から２０までの１価のアルキル
基、１つ〜３つまでの不飽和結合を有する１価の有機基
を示している。また、Ｒ⁵、Ｒ⁶はすべて水素であること
はない。ｎは３から１０００００までの整数、ｐ、ｑは
０から４までの整数を示す。ｒ、ｓは０から２までの整
数を示す。）
【請求項２】上記溶媒が、２種以上の混合溶媒であるこ
とを特徴とする請求項１記載の耐熱性感光性樹脂組成物