JP2001131812A - ゴム手袋 - Google Patents
ゴム手袋Info
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Abstract
ーを引き起こすことがなく、かつ安価なゴム手袋を提供
する。 【解決手段】 本発明のゴム手袋は、ガラス転移温度が
20℃以下であるスチレン−ブタジエンゴムのラテック
スを用いて浸漬法により形成されたものであって、次式
(1) で表される、100%伸長の引張応力を取り除いて
から6分経過後の応力緩和率が50〜70%であること
を特徴とする。 【数1】
Description
エンゴム(SBR)からなるゴム手袋に関する。
テックスが多く用いられている。これは、当該ラテック
スを用いて得られる天然ゴム製の手袋が、そのモジュラ
スが極めて低く、かつ従来の合成ゴムからなる手袋では
得ることのできない、良好な装着感等を有するからであ
る。しかしながら、近年、天然ゴムラテックス中に含ま
れる蛋白質に起因して、即時性アレルギー等を引き起こ
すおそれがあることが報告されており、皮膚に直接接触
させて用いられるゴム手袋、とりわけ手術用手袋等のゴ
ム製品の場合にはかかる問題が深刻となっている。
脂を原料とした手袋を用いることも行われている。塩化
ビニル樹脂製の手袋は、モジュラスがそれほど高くなく
適度であり、手へのフィット感は天然ゴム手袋より劣る
ものの、着脱時の装着性が非常に良好である。しかしな
がら、塩化ビニル樹脂は廃棄処理時等にダイオキシンを
発生するおそれがあるため、特に近年、その使用が制限
されつつある。
るゴム素材として、特表平9−505612号公報で
は、アクリロニトリルとブタジエンもしくはイソプレン
とのコポリマーと、スチレン−ブタジエンコポリマーと
の硬化混合物からなるラテックスフィルムを用いること
が検討されている。しかしながら、アクリロニトリル−
ブタジエンゴム(NBR)はNRの約3倍、イソプレン
ゴム(IR)はNRの約5倍ものコストがかかるため、
実用的でない。
用い、装着感が良好で、かつ蛋白質に起因するアレルギ
ーを引き起こすことのないゴム手袋を提供することであ
る。
者らは、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結
果、汎用のスチレン−ブタジエンゴム(SBR)のうち
ガラス転移温度が所定値以下のものを使用し、引張応力
に対する応力緩和率が所定の値よりも小さくなるように
調整したときは、前述のアレルギーの問題を生じること
がなく、安価で、かつ装着性の良好なゴム手袋を得るこ
とができるという新たな事実を見出し、本発明を完成す
るに至った。
移温度が20℃以下であるスチレン−ブタジエンゴムの
ラテックスを用いて浸漬法により形成されたものであっ
て、100%伸長の引張応力を取り除いてから6分経過
後の応力緩和率が50〜70%であることを特徴とす
る。上記本発明のゴム手袋によれば、ガラス転移温度が
上記範囲を満足するSBRで形成されることから、室温
で良好なゴム弾性を示し、適度なモジュラスが得られる
とともに、操作性等の使用感も良好なものとなる。ま
た、100%伸長の引張応力を取り除いてから6分経過
後の応力緩和率が50〜70%であることから、手への
フィット性が非常に良好なものとなる。加えて、SBR
は汎用の安価な合成ゴムであることから、ゴム手袋の製
造コストを低く抑えることもできる。
原料ゴムとしてのSBRは合成ゴムであって、天然ゴム
のように蛋白質を含有しないため、当該蛋白質に起因す
るアレルギーを引き起こすことがない。上記本発明に係
るゴム手袋は、その優れた使用感や装着性に加えて、蛋
白質に起因するアレルギーを引き起こすことがないこと
から、作業用手袋のみならず、手術用手袋等の幅広い分
野で使用することができる。
和率を上記範囲に設定するという観点から、前記スチレ
ン−ブタジエンゴムのラテックスにおけるゴム分100
重量部に対して、亜鉛華の配合量が0.1〜1.2重量
部の割合となるように調整されるのが好ましい。本発明
における「応力緩和率」は、以下の方法にて測定したも
のである。まず、JIS K 6251「加硫ゴムの引
張試験方法」に規定のダンベル状4号形に準じた試料片
を使用して、当該試料片の両端に500mm/分の速度
で伸張する引張応力を加える。次いで、前記試料片の平
行部分(長さ20mm)が40mmにまで伸長した時点
(100%伸長時)における引張応力M100(0)[MP
a]を測定し、さらに100%伸長時から6分経過した
時点における引張応力M100(6)[MPa]を測定する。
こうして測定されたM100(0)とM100(6)とから、式(1)
:
ころで、特開昭55−163202号公報には、SBR
ラテックスを用いて皮膜を形成した作業用手袋の製造方
法が開示されている。しかしながら、かかる公報に開示
の方法は布手袋表面にゴム被膜を形成したものであっ
て、上記本発明のようにSBRゴムの単一のゴム膜から
なる手袋とは構成が本質的に異なっている。また、当該
公報に開示の作業用手袋は、布手袋表面にゴム被膜を形
成したものであるゆえ、その製造工程が複雑で、製造コ
ストが高くなったり、手へのフィット性等の装着性が損
なわれるといった問題がある。
は、SBRゴムと抗菌剤とを含有する抗菌性ゴム成形物
が開示されており(実施例2参照)、当該成形物の一例
としてゴム手袋が開示されている。しかしながら、かか
る公報に開示のゴム成形物はゴムラテックスから浸漬法
によって成形したものではなく、原料ゴムに抗菌剤、亜
鉛華等の配合物を加え、素練り、圧延、成形等の工程を
経て得られるものである。従って、本発明のゴム手袋の
ように浸漬法によって得られるものとは本質的に異なっ
ており、そればかりか、前記公報のゴム成形物では、浸
漬法の特徴であるディッピングによる簡易な工程で均一
な厚みのゴム膜を形成できるという利点が得られない。
さらに、当該公報に開示の実施例では、SBRゴム10
0重量部に対して亜鉛華が5重量部配合されているが、
後述する本発明の実施例および比較例の結果より、かか
る場合にはゴム手袋の応力緩和率が低くなったり、モジ
ュラスが高くなったりして、装着感が良好なゴム手袋を
得ることができなくなるものと推測される。
スチレン−ブタジエンゴムラテックスを用いた医科用手
袋が開示されている。しかしながら、かかる手袋は、別
途滑剤を使用することなく着用できる手袋を提供するこ
とを目的としたものであって、澱粉粒子等の粒状物を分
散した、カルボキシル化されたスチレン−ブタジエンゴ
ムラテックスの層をエラストマー材料からなる内層の表
面に形成したものである。従って、本発明のゴム手袋と
はその構造が本質的に異なっており、そればかりか、か
かる公報の医科用手袋はその製造工程が複雑で、材料コ
ストが高いことから、製造コストも高くなるという問題
がある。
レン−ブタジエン−スチレン(SBS)ブロックまたは
グラフトコポリマーを用いた手袋が開示されている。し
かしながら、かかる公報では、SBSタイプのコポリマ
ーについてのガラス転移温度や応力緩和率についての考
慮がなされていない。また、通常、SBSタイプのコポ
リマーは柔軟性に乏しいものであることから、本発明に
係るSBR製ゴム手袋のように肌触り等の使用感が良好
で、かつ手へのフィット性や着脱感が良好な手袋を得る
ことができない。さらに、当該公報にはSBSタイプの
コポリマー単独での手袋は開示されておらず、SBSタ
イプのコポリマーについては、わずかにスチレン−イソ
プレン−スチレン(SIS)コポリマーとの積層体から
なる手袋(実施例3参照)に用いた例が開示されている
だけであって、かかる実施例の手袋は、本発明に係るゴ
ム手袋とはその構造が本質的に異なる。そればかりか、
かかる実施例で得られる手袋は積層構造であることか
ら、本発明に比べて製造工程が複雑で、製造コストが高
いという問題もある。なお、当該公報では硫黄、酸化亜
鉛(亜鉛華)等を混合せずに、加硫を必要としないゴム
手袋を得ることをも目的としているが、これは、亜鉛華
の配合量等を調節することで応力緩和率を調整し、ひい
てはゴム手袋の装着性等の物性を調整する本発明のゴム
手袋とは本質的に異なるものである。
詳細に説明する。本発明のゴム手袋は、前述のように、
スチレン−ブタジエンゴムラテックスから浸漬法によっ
て形成されたものであって、当該ゴム手袋を構成するS
BRゴムのガラス転移温度が20℃以下であり、かつ1
00%伸長の引張応力を取り除いてから6分経過後の応
力緩和率が50〜70%であることを特徴とする。
SBRラテックスとしては、当該ラテックス中のSBR
におけるガラス転移温度が20℃以下のものであればよ
く、かかる条件を満たすほかは、従来公知の種々のSB
Rラテックスを用いることができる。SBRのガラス転
移温度の上限は、上記範囲の中でも特に15℃以下であ
るのが好ましく、0℃以下であるのがより好ましい。一
方、ガラス転移温度の下限は特に限定されるものではな
いが、通常−20℃程度である。
ムのラテックスを用いてゴム手袋を形成した場合、実際
の手袋の使用時においてゴム膜が樹脂状の硬いものとな
り、柔軟性が失なわれることから、手へのフィット性等
の装着性が良好なゴム手袋を得ることができなくなる。
また、加工性(成膜性)も低いため、均一でかつ十分な
膜厚を有するゴム手袋を得ることができなくなる。 (応力緩和率)本発明に係るゴム手袋の応力緩和率は、
前記式(1) によって求めたものであって、本発明におい
ては当該応力緩和率が50%以上、70%以下であるこ
とが求められる。
を下回ると、手へのフィット性が低下したりするなど、
優れた装着性を有するゴム手袋を得ることができなくな
る。一方、前記式(1) で表される応力緩和率が70%を
超えると、手袋の使用中に変形が起こってしまい、実際
の使用に耐えられなくなる。上記応力緩和率は、上記範
囲の中でも特に50〜60%であるのがより好ましい。
華、イオウ、加硫促進剤等の配合量を変化させることに
よって適宜調節することができる。前記式(1) で表され
る応力緩和率を上記範囲に設定するには、通常、SBR
ラテックスのゴム分100重量部に対して、亜鉛華を
0.1〜1.2重量部、好ましくは0.3〜1.0重量
部の範囲で配合すればよい。亜鉛華の配合量が上記範囲
を下回ると、応力緩和が大きくなりすぎたり、手袋に十
分な強度を付与できなくなるおそれがある。逆に、亜鉛
華の配合量が上記範囲を超えると、応力緩和が小さくな
りすぎたり、手袋が硬くなって装着感が低下してしまう
おそれがある。
て、他の金属酸化物を用いて行う場合には、その配合量
をSBRラテックスのゴム分100重量部に対して0.
1〜2重量部の範囲で設定すればよい。他の金属酸化物
の配合量が上記範囲を下回ったり、超えた場合に生じ得
る問題は、前述の亜鉛華の場合と同様である。 (配合剤)本発明に係るゴム手袋の製造において、SB
Rラテックスには、例えば加硫剤、加硫促進剤等が添加
されるほか、必要に応じて老化防止剤、充填剤、分散
剤、補強剤等の、従来公知の種々の配合剤等が添加され
る。
硫黄化合物等が挙げられる。かかる加硫剤の配合量は、
SBRラテックスのゴム分100重量部に対して0.1
〜2重量部、好ましくは0.3〜1重量部の範囲で調整
するのが適当である。上記加硫促進剤としては、例えば
N−エチル−N−フェニルジチオカルバミン酸亜鉛(P
X)、ジメチルジチオカルバミン酸亜鉛(PZ)、ジエ
チルジチオカルバミン酸亜鉛(EZ)、ジブチルジチオ
カルバミン酸亜鉛(BZ)、2−メルカプトベンゾチア
ゾールの亜鉛塩(MZ)、テトラメチルチウラムジスル
フィド(TT)等があげられる。これらは単独でまたは
2種以上を混合して用いることができる。その配合量
は、SBRラテックスのゴム分100重量部に対して
0.5〜3重量部程度であるのが好ましい。
フェノール類が好適に用いられるが、アミン類を使用し
てもよい。老化防止剤の配合量は、SBRラテックスの
ゴム分100重量部に対して0.5〜3重量部程度であ
るのが好ましい。充填剤としては、例えばカオリンクレ
ー、ハードクレー、炭酸カルシウム等があげられる。そ
の配合量は、SBRラテックスのゴム分100重量部に
対して20重量部以下であるのが好ましい。
の分散を良好にするために分散剤を配合してもよい。か
かる分散剤としては、例えば各種陰イオン系界面活性剤
等があげられる。分散剤の配合量は、分散対象である成
分における重量の0.3〜1.0重量%程度であるのが
好ましい。 (ゴム手袋の製造方法)本発明に係るゴム手袋は、上記
配合剤を添加したSBRラテックスを用いて、従来公知
の浸漬法の手法に準ずることによって製造される。
応じて予熱した手袋の型を浸漬し、次いで型を引き上
げ、型表面に形成したゴム膜を乾燥、加硫することによ
って本発明のゴム手袋が得られる。上記浸漬法によるゴ
ム手袋の製造に際しては、配合ラテックス中に感熱化剤
やアノード凝着剤を配合してもよい。前記感熱化剤とし
ては、例えば硝酸アンモニウム、酢酸アンモニウム、亜
鉛アンモニウム錯塩等の無機または有機のアンモニウム
塩、あるいは例えばポリビニルメチルエーテル、ポリア
ルキレングリコール、ポリエーテルポリホルマール、官
能性ポリシロキサン等の、曇点が常温以上、100℃以
下の水溶性高分子が挙げられる。
カルシウム、塩化カルシウム等の2価以上の金属塩、あ
るいはテトラメチルアンモニウム塩酸塩等の有機アルキ
ルアミン塩等が挙げられる。上記感熱化剤やアノード凝
着剤の配合量は常法に従って設定すればよく、通常、S
BRラテックスのゴム分100重量部に対して0.5〜
5重量部、特に0.5〜2.0重量部の範囲で設定すれ
ばよい。
名「Lx2570X5」(ガラス転移温度Tg=−19
℃)を用いた。
重量部に対して、亜鉛華0.1重量部、硫黄(加硫剤)
1重量部およびジブチルジチオカルバミン酸亜鉛(加硫
促進剤BZ)1重量部を配合した。次いで、こうして得
られた配合ラテックスに手袋の型を浸漬し、型表面に形
成したゴム膜を乾燥し、さらに110℃で30分間程度
加硫して脱型することにより、ゴム手袋を得た。
ゴム手袋を得た。 〔物性の評価〕 (引張応力の測定および応力緩和率・応力保持率の算
出)上記実施例および比較例で得られたゴム手袋を打ち
抜き、JIS K 6251「加硫ゴムの引張試験方
法」に規定のダンベル状4号形に準じた試料片を作製し
た。
分の速度で伸張する引張応力を加え、前記試料片の平行
部分(長さ20mm)が40mmにまで伸長した時点
(100%伸長時)における引張応力M100(0)[MP
a]を測定した。さらに、100%伸長時から6分経過
した時点における引張応力M100(6)[MPa]を測定し
た。こうして測定されたM100(0)とM100(6)とから、前
記式(1) によって応力緩和率(%)を算出した。
率についても算出した。
れる応力緩和率は50〜70%の範囲となるように、上
記式(2) で表される応力保持率は30〜50%となるよ
うに、それぞれ調整される。 (装着性の評価)上記実施例および比較例で得られた手
袋について、装着時および脱着時の操作性(着脱性)を
以下の基準にて評価した。 ◎:装着し易さおよび脱ぎ易さが極めて良好であった。 ○:装着し易さおよび脱ぎ易さが良好であった。 ×:装着しにくく、かつ脱ぎにくかった。
で得られた手袋について、使用時の肌触りや手へのフィ
ット性(装着感)を以下の基準にて評価した。 ◎:肌触りや手へのフィット性が極めて良好であった。 ○:肌触りや手へのフィット性が良好であった。 ×:肌触りが悪く、フィット感も十分ではなかった。
保持率の算出結果、および装着性と装着感の評価結果
を、配合ラテックスの組成とともに表1に示す。
が20℃以下のSBRゴムを使用し、その応力緩和率が
50〜70%となるように調整された実施例1〜6のゴ
ム手袋では、いずれも肌触り(使用感・装着感)や、手
へのフィット性、着脱時の操作性(装着性)が非常に良
好であった。これに対し、比較例1〜3では、応力緩和
率が50%以下であるため、肌触り(使用感・装着感)
や、手へのフィット性、着脱時の操作性(装着性)が実
用上不十分であった。
ない場合には、手袋の強度が低くなりすぎ、また、応力
緩和率が大きくなりすぎるため、実用に適さなかった。
以上詳述したように、本発明のゴム手袋によれば、アレ
ルギーを引き起こすことがなく、かつ手へのフィット性
や着脱時の操作性等の装着性が非常に良好なゴム手袋を
得ることができる。かかるゴム手袋は、作業用手袋のみ
ならず、手術用手袋等の幅広い分野で好適に用いられ
る。
Claims (2)
- 【請求項1】ガラス転移温度が20℃以下であるスチレ
ン−ブタジエンゴムのラテックスを用いて浸漬法により
形成された、100%伸長の引張応力を取り除いてから
6分経過後の応力緩和率が50〜70%であることを特
徴とするゴム手袋。 - 【請求項2】前記ラテックスが、当該ラテックス中のゴ
ム分100重量部に対して亜鉛華を0.1〜1.2重量
部の割合で配合する請求項1記載のゴム手袋。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30421999A JP2001131812A (ja) | 1999-10-26 | 1999-10-26 | ゴム手袋 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30421999A JP2001131812A (ja) | 1999-10-26 | 1999-10-26 | ゴム手袋 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001131812A true JP2001131812A (ja) | 2001-05-15 |
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ID=17930451
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30421999A Pending JP2001131812A (ja) | 1999-10-26 | 1999-10-26 | ゴム手袋 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001131812A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005095508A1 (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-13 | Zeon Corporation | ディップ成形用組成物およびディップ成形品 |
WO2022102613A1 (ja) | 2020-11-10 | 2022-05-19 | 昭和電工株式会社 | クロロプレン共重合体ラテックス及びその製造方法 |
-
1999
- 1999-10-26 JP JP30421999A patent/JP2001131812A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005095508A1 (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-13 | Zeon Corporation | ディップ成形用組成物およびディップ成形品 |
US7662890B2 (en) | 2004-03-31 | 2010-02-16 | Zeon Corporation | Composition for dip forming and molding obtained by dip forming |
WO2022102613A1 (ja) | 2020-11-10 | 2022-05-19 | 昭和電工株式会社 | クロロプレン共重合体ラテックス及びその製造方法 |
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